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WO2024219145A1 - 積層圧電体及びその製造方法 - Google Patents

積層圧電体及びその製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2024219145A1
WO2024219145A1 PCT/JP2024/010933 JP2024010933W WO2024219145A1 WO 2024219145 A1 WO2024219145 A1 WO 2024219145A1 JP 2024010933 W JP2024010933 W JP 2024010933W WO 2024219145 A1 WO2024219145 A1 WO 2024219145A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film
coating layer
refractive index
less
thickness
Prior art date
Application number
PCT/JP2024/010933
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
誠 今治
Original Assignee
株式会社クレハ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社クレハ filed Critical 株式会社クレハ
Publication of WO2024219145A1 publication Critical patent/WO2024219145A1/ja

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Definitions

  • the present invention relates to a laminated piezoelectric body and a method for manufacturing the same.
  • Touch panels are attached to the displays of electronic devices and are used to operate the devices.
  • touch panels There are various types of touch panels, but the capacitive type is commonly used because it has a simple structure, is inexpensive to make, and can be made relatively large.
  • Touch panels detect the two-dimensional position on the surface of the touch panel when the surface is touched with a finger, pen, or the like.
  • Touch panels detect the two-dimensional position on the surface of the touch panel when the surface is touched with a finger, pen, or the like.
  • Patent Document 1 discloses a touch sensor having a capacitance sensor that detects the touch position and a piezoelectric sensor that detects pressure, arranged on the back side of the capacitance sensor.
  • the capacitance sensor uses a transparent conductive film as the transparent electrode, which has high transparency and suppressed color by forming a conductive film of indium-tin oxide (ITO) on a polymer film and then heating it at around 150°C to increase the crystallinity of the ITO.
  • ITO indium-tin oxide
  • piezoelectric sensors are required to have high transparency and suppressed color in order to ensure high visibility of display images.
  • piezoelectric films containing polymeric materials such as polylactic acid and fluororesin are known to be used in piezoelectric sensors, and piezoelectric films containing fluororesin in particular are known to have a high piezoelectric constant.
  • piezoelectric films containing fluororesin have low heat resistance, so when a conductive film such as ITO is formed and then a heat treatment is performed to crystallize the conductive film in order to form a transparent electrode on the piezoelectric film, the transparency of the piezoelectric film is likely to be impaired.
  • Patent Document 2 discloses a laminated piezoelectric body having a piezoelectric film, a first coating layer, a second coating layer, and a transparent conductive layer in this order. It also discloses that by optimizing the refractive index of each layer, a laminated piezoelectric body with high transparency and suppressed color can be obtained.
  • JP 2017-215960 A International Publication No. 2022/196198
  • the present invention was made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a laminated piezoelectric body that is highly transparent and can suppress interference fringes when viewed under a three-wavelength light source, and a method for manufacturing the same.
  • a laminated piezoelectric body having a total light transmittance of 80% or more comprising a piezoelectric film containing a fluorine-based resin as a main component, a transparent conductive layer having a surface resistivity of 1.0 ⁇ 10 4 ⁇ /sq. or less, and one or more coating layers having a thickness of 0.05 ⁇ m or more arranged between the piezoelectric film and the transparent conductive layer, each of the one or more coating layers having a refractive index higher than that of the piezoelectric film and lower than that of the transparent conductive layer, and at least one of the one or more coating layers having a thickness variation coefficient of 0.05 or less.
  • the one or more coating layers include a coating layer A having a refractive index of 1.40 or more and less than 1.60, and the coating layer A has a thickness variation coefficient of 0.05 or less.
  • the one or more coating layers further include a coating layer B disposed between the coating layer A and the transparent conductive layer, wherein the coating layer B has a refractive index of 1.60 or more and less than 1.80, and the coating layer B has a coefficient of variation of a thickness of 0.05 or less.
  • the fluororesin is a polymer containing, as a main component, a structural unit derived from vinylidene fluoride.
  • the present invention provides a laminated piezoelectric material that is highly transparent and can suppress interference fringes when viewed under a three-wavelength light source, as well as a method for manufacturing the same.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a laminated piezoelectric body according to the present embodiment.
  • 2A to 2F are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing a laminated piezoelectric body according to this embodiment.
  • 3A to 3D are schematic cross-sectional views showing laminated piezoelectric elements according to modified examples.
  • a three-wavelength light source is a light source that emits light in which the three wavelength ranges of the three primary colors of light (blue, green, and red) are emphasized.
  • a well-known example is a three-wavelength type daylight white fluorescent lamp. Under such a three-wavelength light source, the image appears brighter and colors more vivid than under a normal light source. Therefore, if there is unevenness in the interference of light, the unevenness is easily emphasized and is easily recognized as interference fringes.
  • the above interference fringes observed under a three-wavelength light source are likely to occur when there is a difference in refractive index between the piezoelectric film and the coating layer, or between the coating layer and the transparent conductive layer, and the thickness of the coating layer varies greatly.
  • the variation in thickness of the coating layer is likely to occur due to low flatness of the piezoelectric film.
  • the low flatness of the piezoelectric film is due to wrinkles formed during the process of performing a stretching process or a polarization process on a film containing a fluororesin as a main component in order to develop a high piezoelectric effect.
  • the higher the piezoelectric effect (piezoelectric constant d 33 ) the lower the surface flatness of the piezoelectric film.
  • one side of the piezoelectric film is supported by a carrier film to enhance flatness, and then a coating layer is formed on the other side of the piezoelectric film, thereby controlling the variation in the thickness of the coating layer to a certain level or less. This makes it possible to suppress the occurrence of interference fringes when viewed under a three-wavelength light source.
  • a laminated piezoelectric body according to one embodiment of the present invention has a piezoelectric film, a transparent conductive layer, and one or more coating layers having a thickness of 0.05 ⁇ m or more disposed therebetween.
  • Each of the one or more coating layers has a refractive index higher than that of the piezoelectric film and lower than that of the transparent conductive layer.
  • These coating layers are preferably formed by a wet process.
  • the coefficient of variation of the thickness of at least one of the one or more coating layers, and preferably all of them, is adjusted to 0.050 or less.
  • the coefficient of variation CV of the thickness of the coating layer can be calculated by dividing the standard deviation SD of the thickness by the arithmetic mean AV. Specifically, the thickness of the coating layer is measured using a spectroscopic interference film thickness meter, and the arithmetic mean value Xave of the thickness is calculated from the following formula (1), and the standard deviation SD of the thickness is calculated from the following formula (2). These are then substituted into formula (3) to calculate the coefficient of variation CV of the thickness.
  • n is the number of measurement points
  • xi is the i-th thickness.
  • the transparent conductive layer may be disposed on only one surface of the piezoelectric film, or may be disposed on both one surface and the other surface. Furthermore, when the transparent conductive layer is disposed on only one surface of the piezoelectric film, another coating layer may be further disposed on the other surface of the piezoelectric film.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a laminated piezoelectric body 10 according to one embodiment of the present invention.
  • the laminated piezoelectric body 10 includes a piezoelectric film 11, a coating layer A 12, a coating layer B 13, and a transparent conductive layer 14.
  • the coating layer A12 is, for example, a hard coat layer
  • the coating layer B13 is, for example, an optical adjustment layer, each having a thickness of 0.05 ⁇ m or more.
  • the refractive index of the coating layer A12 is higher than the refractive index of the piezoelectric film 11 and lower than the refractive index of the transparent conductive layer 14.
  • the refractive index of the coating layer B13 is higher than the refractive index of the coating layer A12 and lower than the refractive index of the transparent conductive layer 14.
  • the refractive index of the coating layer A12 is preferably 1.40 or more and less than 1.60
  • the refractive index of the coating layer B13 is preferably 1.60 or more and less than 1.80.
  • the refractive index refers to the refractive index at a wavelength of 589 nm.
  • the refractive index of the piezoelectric film can be measured in accordance with JIS K7142:2014 (ISO489:1999) except that the measurement temperature is set to 25.0 ⁇ 1.0° C.
  • an Abbe refractometer is used to measure the refractive index of the piezoelectric film three times by irradiating the film with sodium D line (wavelength 589 nm), and the average of the measured values is defined as the refractive index.
  • the refractive index of each layer other than the piezoelectric film can be determined by measuring psi ( ⁇ ) and delta ( ⁇ ) using a multi-angle high-speed spectroscopic ellipsometer (M-2000 manufactured by JA Woollam Co.) and calculating the refractive index at a wavelength of 589 nm therefrom.
  • M-2000 manufactured by JA Woollam Co.
  • coating layer A12 and coating layer B13 are adjusted to have a thickness variation coefficient of 0.05 or less.
  • thickness variation coefficient 0.05 or less.
  • the piezoelectric film contains a fluororesin as a main component. "Containing a fluororesin as a main component” means that the content of the fluororesin in the piezoelectric film is 50% by mass or more.
  • the content of the fluororesin is preferably 60% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more. There is no particular restriction on the upper limit of the content, and it may be 100% by mass or 90% by mass or less.
  • the fluororesin is a polymer containing a structural unit derived from vinylidene fluoride as a main component.
  • Containing structural units derived from vinylidene fluoride as a main component means that the content of structural units derived from vinylidene fluoride in the polymer is 50% by mass or more relative to the total amount of structural units of the polymer.
  • the content of structural units derived from vinylidene fluoride in the polymer is more preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more relative to the total amount of structural units of the polymer.
  • the higher the content of structural units derived from vinylidene fluoride the more likely it is that a higher piezoelectric effect will be obtained. There is no particular limit to the upper limit of the content, and it may be 100% by mass or 90% by mass or less.
  • the above polymer may further contain a structural unit derived from a monomer copolymerizable with vinylidene fluoride, to the extent that the effect of the present invention is not impaired.
  • monomers copolymerizable with vinylidene fluoride include fluorine-containing monomers such as trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, trifluorochloroethylene, and vinyl fluoride. Two or more of these monomers may be contained.
  • the fluororesin is preferably a homopolymer of vinylidene fluoride.
  • the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film is preferably 7 pC/N or more and 40 pC/N or less.
  • the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film is 7 pC/N or more, the amount of charge generated by the piezoelectric effect is larger, so that the pressure sensitivity can be further increased.
  • the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film is 40 pC/N or less, for example, the decrease in the flatness of the surface of the piezoelectric film caused by the polarization treatment can be further reduced, so that the interference fringes can be further reduced.
  • the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film is more preferably 10 pC/N or more and 40 pC/N or less, more preferably 13 pC/N or more and 35 pC/N or less, and particularly preferably 15 pC/N or more and 30 pC/N or less.
  • the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film can be calculated by measuring the amount of charge generated when stress is applied to the thickness direction of the piezoelectric film at a constant speed, and the piezoelectric constant d 33 can be measured in accordance with ISO 19622:2018, a test method for the piezoelectric constant d 33 of piezoelectric ceramics using a direct quasi-static method (d 33 meter method, Berlincourt method).
  • a piezoelectric constant measuring device e.g., Piezometer System PM300, manufactured by PIEZOTEST
  • the generated charge is read when a force of 0.15 N and 110 Hz is applied.
  • the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film can be adjusted mainly by the type of resin contained in the piezoelectric film and the manufacturing conditions (conditions of polarization treatment and stretching treatment). For example, among fluororesins, the more structural units derived from vinylidene fluoride a resin contains, the larger the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film tends to be. In addition, the stronger the polarization treatment and stretching treatment, the larger the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film tends to be.
  • the refractive index of the piezoelectric film is not particularly limited, but is preferably 1.30 or more and 1.50 or less, more preferably 1.35 or more and 1.47 or less, and even more preferably 1.38 or more and 1.45 or less.
  • the thickness of the piezoelectric film is preferably, for example, 25 ⁇ m or more and 120 ⁇ m or less. If the thickness of the piezoelectric film is 25 ⁇ m or more, a larger amount of charge is generated due to the piezoelectric effect, making it easier to obtain higher piezoelectricity.
  • the thickness of the piezoelectric film is more preferably 30 ⁇ m or more, and even more preferably 35 ⁇ m or more. If the thickness of the piezoelectric film is 120 ⁇ m or less, the transparency of the piezoelectric film is less likely to be impaired, and 100 ⁇ m or less is more preferable, and 80 ⁇ m or less is even more preferable. From the same perspective, the thickness of the piezoelectric film is more preferably 35 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less.
  • the coating layer A is disposed between the piezoelectric film and the transparent conductive layer. In this embodiment, the coating layer A is disposed adjacent to the piezoelectric film (see FIG. 1).
  • the coating layer A fills in scratches on the surface of the piezoelectric film to make it smooth, and also makes the surface of the piezoelectric film less susceptible to scratches during the manufacturing process of the laminated piezoelectric body. This makes it possible to further reduce the haze of the laminated piezoelectric body.
  • the thickness of coating layer A is not particularly limited, but is at least 0.05 ⁇ m, preferably at least 0.3 ⁇ m and at most 3.0 ⁇ m, more preferably at least 0.5 ⁇ m and at most 2.0 ⁇ m, and even more preferably at least 0.5 ⁇ m and at most 1.5 ⁇ m.
  • the coefficient of variation of the thickness of the coating layer A is adjusted to 0.050 or less, as described above.
  • the coefficient of variation of the thickness is 0.050 or less, the unevenness in the thickness of the coating layer A is small, so that the occurrence of interference fringes in the laminated piezoelectric body can be suppressed.
  • the coefficient of variation of the thickness of the coating layer A is preferably 0.040 or less, and more preferably 0.030 or less.
  • the lower limit of the coefficient of variation of the thickness of the coating layer A is preferably 0, but may be 0.001 or more.
  • the coefficient of variation of the thickness of coating layer A can be adjusted by the flatness of the piezoelectric film. For example, as described below, the coefficient of variation of the thickness of coating layer A can be reduced by increasing the flatness of the piezoelectric film when forming coating layer A.
  • the refractive index of the coating layer A is preferably higher than that of the piezoelectric film and lower than that of the transparent conductive layer.
  • the refractive index of the coating layer A is preferably 1.40 or more and less than 1.60, more preferably 1.47 or more and 1.57 or less, and even more preferably 1.49 or more and 1.55 or less.
  • the refractive index of the coating layer A is within the above range, it is possible to further suppress interference fringes while further increasing the transmittance.
  • the difference in refractive index between the coating layer A and the piezoelectric film is preferably 0.01 or more and 0.20 or less. If the difference in refractive index is 0.01 or more, the transmittance can be further increased, and if it is 0.20 or less, interference fringes can be further suppressed.
  • the coating layer A may be made of any material that satisfies the above refractive index, and is usually a resin layer.
  • the resin layer may be a coating liquid that contains a resin and is then dried, or a curable composition that contains a polymerizable compound and is then dried and cured.
  • the coating layer A may be, for example, a hard coat layer.
  • the coating layer A preferably contains a cured product of a curable composition that contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound may be any one of a monomer, an oligomer, and a polymer.
  • the polymerizable compound may be a thermosetting compound or an ionizing radiation compound, and is preferably an ionizing radiation compound.
  • the ionizing radiation may usually be ultraviolet light (UV) or an electron beam (EB).
  • the ionizing radiation-curable compound is a compound having an ionizing radiation-curable functional group.
  • the ionizing radiation-curable functional group include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and allyl groups, and ring-opening polymerizable groups such as epoxy groups and oxetanyl groups.
  • compounds having an ethylenically unsaturated bond group are preferred, compounds having two or more ethylenically unsaturated bond groups are more preferred, and polyfunctional (meth)acrylate compounds are even more preferred.
  • (Meth)acrylate means one or both of acrylate and methacrylate.
  • examples of bifunctional (meth)acrylate monomers include ethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A tetraethoxy diacrylate, bisphenol A tetrapropoxy diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, etc.
  • trifunctional or higher (meth)acrylate monomers examples include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate, etc.
  • the above (meth)acrylate monomers may have a part of the molecular skeleton modified, and those modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, etc. may also be used.
  • polyfunctional (meth)acrylate oligomers include acrylate polymers such as urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and polyether (meth)acrylate.
  • Urethane (meth)acrylate can be obtained, for example, by reacting a polyhydric alcohol and an organic diisocyanate with a hydroxy (meth)acrylate.
  • the curable composition preferably contains a photopolymerization initiator, such as one or more selected from acetophenone, benzophenone, ⁇ -hydroxyalkylphenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl methyl ketal, benzoyl benzoate, ⁇ -acyloxime ester, thioxanthones, etc.
  • a photopolymerization initiator such as one or more selected from acetophenone, benzophenone, ⁇ -hydroxyalkylphenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl methyl ketal, benzoyl benzoate, ⁇ -acyloxime ester, thioxanthones, etc.
  • the curable composition may further contain other components other than those described above as necessary.
  • the curable composition may further contain particles.
  • the particles may be inorganic particles or organic particles.
  • inorganic particles include particles of silica (silicon oxide), titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, and tin oxide, diamond powder, sapphire particles, boron carbide particles, silicon carbide particles, antimony pentoxide particles, etc.
  • organic particles include resin particles such as acrylic resin, acrylic-styrene copolymer, and silicone resin. Among these, inorganic particles are preferred, and silica particles are more preferred, in that the transparency of the hard coat layer is less likely to be impaired.
  • the surfaces of the inorganic particles may be treated with a surface modifier such as a silane coupling agent.
  • Coating layer B The coating layer B is disposed between the coating layer A and the transparent conductive layer.
  • the coating layer B can further reduce the color of the laminated piezoelectric body by appropriately adjusting the refractive index and thickness.
  • the refractive index of coating layer B is higher than that of coating layer A and lower than that of the transparent conductive layer.
  • a laminated piezoelectric body including such a coating layer B can further reduce color due to interference between light that is incident on and reflected from coating layer A and light that is reflected at the interface between coating layer B and coating layer A.
  • the refractive index of coating layer B is preferably 1.60 or more and less than 1.80, more preferably 1.63 or more and less than 1.78, and even more preferably 1.65 or more and 1.75 or less.
  • the difference in refractive index between coating layer B and coating layer A is preferably 0.05 or more. If the difference in refractive index is 0.05 or more, the transmittance can be further increased.
  • the thickness of coating layer B is not particularly limited, but may be 0.05 ⁇ m or more.
  • the thickness of coating layer B may be 0.05 ⁇ m or more and 0.5 ⁇ m or less, or 0.09 ⁇ m or more and 0.18 ⁇ m or less.
  • the coefficient of variation of the thickness of coating layer B is adjusted to 0.050 or less.
  • the coefficient of variation of the thickness is 0.050 or less, the unevenness of the thickness of coating layer B is reduced, and the occurrence of interference fringes in the laminated piezoelectric body can be further suppressed.
  • the coefficient of variation of the thickness of coating layer B is more preferably 0.040 or less, and even more preferably 0.030 or less.
  • the lower limit of the coefficient of variation of the thickness of coating layer B is preferably 0, but may be 0.001 or more.
  • the coefficient of variation of the thickness of coating layer B can be adjusted by the flatness of the piezoelectric film and the coefficient of variation of the thickness of coating layer A. For example, by increasing the flatness of the piezoelectric film and decreasing the coefficient of variation of the thickness of coating layer A, the coefficient of variation of the thickness of coating layer B can also be decreased.
  • the material of coating layer B may be any material that satisfies this refractive index.
  • the refractive index may be adjusted by adding metal oxide particles to the curable composition exemplified as the material of coating layer A.
  • the metal oxide particles are preferably made of a material having a refractive index of 1.50 or more.
  • Examples of such metal oxide particles include aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and tin oxide, with titanium oxide and zirconium oxide being preferred.
  • the transparent conductive layer is disposed on one or more coating layers. In this embodiment, the transparent conductive layer is disposed on coating layer B.
  • the material constituting the transparent conductive layer is not limited, and a metal oxide of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, and W is preferably used.
  • the metal oxide may further contain a metal atom shown in the above group as necessary.
  • ITO, antimony-tin oxide (ATO), etc. are preferably used, and ITO is particularly preferably used.
  • the thickness of the transparent conductive layer is not limited, but is preferably 10 nm or more and less than 55 nm. If the thickness of the transparent conductive layer is 10 nm or more, the surface resistivity can be made lower, and if it is less than 55 nm, transparency is less likely to be impaired. From the same viewpoint, the thickness of the transparent conductive layer is more preferably 15 nm or more and less than 45 nm, and more preferably 20 nm or more and less than 40 nm.
  • the refractive index of the transparent conductive layer is preferably 1.80 or more and 2.20 or less, more preferably 1.83 or more and 2.00 or less, and even more preferably 1.85 or more and 1.95 or less.
  • the laminated piezoelectric body according to this embodiment may further include other layers in addition to those described above, as necessary.
  • the laminated piezoelectric body may further include a coating layer C having a thickness of less than 0.05 ⁇ m between the coating layer B and the transparent conductive layer.
  • the laminated piezoelectric body may further include a coating layer D arranged on the surface of the piezoelectric film opposite to the surface on which the one or more coating layers are arranged.
  • Coating layer C The coating layer C has a thickness of less than 0.05 ⁇ m.
  • the refractive index of the coating layer C may be higher than the refractive index of the piezoelectric film and lower than the refractive index of the transparent conductive layer, and may be lower than the refractive index of the coating layer A and the coating layer B.
  • Such a coating layer C may be a thin film of a metal oxide (e.g., a silica thin film) formed, for example, by a dry process.
  • the coating layer C can, for example, further increase the transmittance of the laminated piezoelectric body.
  • the transmittance of the laminated piezoelectric body can be increased by utilizing the interference phenomenon caused by thin films with different refractive indices.
  • Coating layer D The material and physical properties (thickness, refractive index) of the coating layer D may be the same as those of the coating layer A described above.
  • the coating layer D can further reduce the haze of the laminated piezoelectric body. From the viewpoint of making it more difficult for interference fringes to occur in the laminated piezoelectric body, it is preferable that the difference in refractive index between the coating layer D and the piezoelectric film is small, for example, 0.15 or less.
  • the thickness of the coating layer D can be, for example, 0.3 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less. In addition, it is preferable that the coefficient of variation of the thickness of the coating layer D is adjusted to 0.050 or less.
  • the laminated piezoelectric body according to the present embodiment preferably has high transparency from the viewpoint of application to a touch panel mounted on an image display device, for example.
  • the total light transmittance of the laminated piezoelectric body is It is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.
  • the total light transmittance of the laminated piezoelectric body can be measured using a haze meter (e.g., NDH7000SP II, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) based on the method described in JIS K 7361-1.
  • a haze meter e.g., NDH7000SP II, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
  • the total light transmittance of the laminated piezoelectric body can be adjusted by the layer structure (including coating layer B and coating layer C) and the refractive index and thickness of each layer. For example, by providing coating layer B and coating layer C, the total light transmittance can be increased.
  • the piezoelectric constant d 33 of the laminated piezoelectric body is preferably, for example, 7 pC/N or more and 40 pC/N or less.
  • the piezoelectric constant d 33 of the laminated piezoelectric body is 7 pC/N or more, higher pressure sensitivity is likely to be obtained.
  • the piezoelectric constant d 33 of the laminated piezoelectric body is 40 pC/N or less, the above-mentioned interference fringes can be further reduced.
  • the piezoelectric constant d 33 of the laminated piezoelectric body is more preferably 10 pC/N or more and 40 pC/N or less, further preferably 13 pC/N or more and 35 pC/N or less, and particularly preferably 15 pC/N or more and 30 pC/N or less.
  • the piezoelectric constant d 33 of the laminated piezoelectric body can be adjusted mainly by the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film. If the piezoelectric constant d 33 of the piezoelectric film is high, the piezoelectric constant d 33 of the laminated piezoelectric body tends to be high as well.
  • the surface resistivity of the transparent conductive layer of the laminated piezoelectric body is preferably low in terms of obtaining better conductivity in the use of devices such as touch panels.
  • the surface resistivity of the transparent conductive layer is, for example, preferably 1 ⁇ 10 4 ⁇ /sq. or less, more preferably 1 ⁇ 10 3 ⁇ /sq. or less, and more preferably 400 ⁇ /sq. or less.
  • the lower limit of the surface resistivity of the transparent conductive layer is not particularly limited, but may be, for example, 10 ⁇ /sq. or more, preferably 40 ⁇ /sq. or more.
  • the surface resistivity of the transparent conductive layer can be measured, for example, using a resistivity meter based on a known method described in JIS K 7194.
  • the thickness of each layer constituting the laminated piezoelectric body can be measured using a spectroscopic interference film thickness meter (for example, "Optical NanoGauge C13027-11" manufactured by Hamamatsu Photonics KK).
  • the refractive index of each layer can be measured by the method described in JIS K7142, and the refractive index of each layer may be set to the value measured by the above-mentioned method. Then, the thickness of each layer in a range including the center of the surface of the laminated piezoelectric body is measured at three or more points at 5 mm intervals, and the arithmetic mean value of the measurements can be used as the thickness of each layer.
  • the laminated piezoelectric element according to the present embodiment can be used for various applications.
  • the laminated piezoelectric element according to the present embodiment has high transparency and visibility while exhibiting high piezoelectricity, it can be preferably used as a piezoelectric sensor for a touch panel mounted on various electronic devices.
  • FIGS. 2A to 2F are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing a laminated piezoelectric body according to this embodiment.
  • the method for manufacturing the laminated piezoelectric body includes the steps of 1) preparing a piezoelectric film 11 containing a fluororesin as a main component (see FIG. 2A), 2) bonding a carrier film 20 to one side of the piezoelectric film 11 (see FIG. 2B), 3) applying a coating liquid to the other side of the piezoelectric film 11 to which the carrier film 20 is bonded, and then curing the liquid to form coating layer A12 and coating layer B13 (see FIGS. 2C and 2D), and 4) forming a transparent conductive layer 14 containing a metal oxide on coating layer B13 (see FIG. 2E).
  • the method for manufacturing the laminated piezoelectric body may further include the step of peeling off the carrier film 20 (see FIG. 2F).
  • the piezoelectric film containing a fluorine-based resin as a main component may be a commercially available product or may be manufactured (see FIG. 2A).
  • the piezoelectric film When manufacturing a piezoelectric film containing a fluororesin as a main component, the piezoelectric film can be obtained through a process of polarizing a film containing a fluororesin as a main component.
  • the film containing a fluororesin as a main component may be a stretched film or an unstretched film.
  • Films containing fluororesin as a main component can be manufactured by any method, such as melt extrusion, heat pressing, or solution casting. Among these, from the viewpoint of easily obtaining a piezoelectric film of a specified thickness or more, it is preferable to manufacture films containing fluororesin as a main component by melt extrusion.
  • melt extrusion method the fluororesin and any additives are heated and melted in the cylinder of an extruder, and then extruded from a die to obtain a film.
  • the obtained film has a structure that is a mixture of ⁇ -type crystals (main chain has a helical structure) and ⁇ -type crystals (main chain has a planar zigzag structure).
  • ⁇ -type crystals have a large polarization structure.
  • the stretching direction may be either the TD direction or the MD direction, and is more preferably the MD direction.
  • the stretching method is not particularly limited, and can be performed by known stretching methods such as the tenter method and drum method.
  • the stretching ratio is, for example, 3.0 times or more and 6.0 times or less.
  • the stretching ratio is 3.0 times or more, it is easier to adjust the thickness and polarity of the film to a more appropriate range.
  • the stretching ratio is 3.0 times or more, the rearrangement reaction of the ⁇ -type crystals proceeds more sufficiently, making it easier to achieve higher piezoelectricity and also to increase transparency.
  • the stretching ratio is 6.0 times or less, breakage due to stretching can be further suppressed.
  • the obtained stretched film is polarized.
  • the polarization process can be performed, for example, by applying a DC voltage between a ground electrode and a needle-shaped electrode.
  • the voltage can be adjusted according to the thickness of the stretched film, and can be, for example, 1 kV or more and 50 kV or less.
  • a piezoelectric film can be obtained by polarizing the stretched film.
  • the carrier film can be attached to one side of the piezoelectric film by attaching the carrier film via an adhesive layer.
  • the release film can be peeled off from a laminate film of release film/adhesive layer/carrier film, and the exposed adhesive layer can be pressed against one side of the piezoelectric film to attach the carrier film.
  • the carrier film has a high Young's modulus.
  • the Young's modulus of the carrier film at 25°C is preferably 1.0 GPa or more, more preferably 1.5 GPa to 6.0 GPa, even more preferably 2.0 GPa to 5.0 GPa, and most preferably 2.5 GPa to 4.5 GPa.
  • the Young's modulus of the carrier film can be measured by the following procedure.
  • the carrier film is cut into a rectangle with a total length of 100 mm and a width of 10 mm to prepare a test piece.
  • the test piece is set in a tensile tester with a chuck distance of 50 mm, and a tensile test is performed at a tensile speed of 50 mm/min in a measurement atmosphere of 25°C. From the obtained stress-strain curve, two points in the small deformation region (within 5% strain) are selected in accordance with JIS K 7161-1, and the Young's modulus is calculated from the slope obtained from a linear approximation equation.
  • the type of carrier film is not particularly limited as long as the Young's modulus satisfies the above range, and is usually a resin film.
  • resins constituting the carrier film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polybutylene terephthalate; polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP); halogen-containing polymers such as polyvinyl chloride (PVC) and polyvinylidene fluoride (PVDF); acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; and styrene polymers such as polystyrene and styrene-methyl methacrylate copolymer.
  • PET and PP are preferred, and PET is more preferred from the viewpoint of its higher Young's modulus.
  • these films may be unstretched films or biaxially stretched films.
  • the thickness of the carrier film should be sufficient to make the surface of the piezoelectric film flat, and is preferably, for example, 35 ⁇ m to 200 ⁇ m, more preferably 50 ⁇ m to 175 ⁇ m, and even more preferably 70 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • An adhesive layer may be disposed on the carrier film. It is desirable that the adhesive layer has an adhesive force for attaching the carrier film to the piezoelectric film, while being peelable as necessary. Therefore, it is preferable that the adhesive is a material that can not only attach the protective film to the piezoelectric film, but also peel off the protective film without leaving any adhesive on the piezoelectric film.
  • adhesives examples include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, polyurethane adhesives, polyamide adhesives, epoxy adhesives, vinyl alkyl ether adhesives, and fluorine adhesives.
  • acrylic adhesives are preferred from the viewpoints of adhesion and releasability.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably, for example, 3 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the material of the release film is not particularly limited, but may be, for example, PET.
  • Step of forming one or more coating layers A coating liquid is applied to the other surface of the piezoelectric film having a carrier film bonded to one surface thereof to form one or more coating layers (see Figs. 2C and 2D).
  • a coating liquid containing the curable composition is applied to the other surface of the piezoelectric film, and then dried and cured to form a coating layer A.
  • the coating liquid may further contain a dilution solvent as necessary.
  • the dilution solvent is preferably one that has a polarity similar to that of the particles.
  • Examples of dilution solvents include organic solvents such as alcohol-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, carbonate-based solvents, and aromatic solvents.
  • the coating liquid can be applied by a known wet process method.
  • Representative wet process methods include, for example, dip coating, spray coating, spin coating, gravure coating, die coating, roll coating, flow coating, curtain coating, etc. Among them, methods that can form layers continuously, such as roll coating and gravure coating, are preferred from the viewpoint of productivity.
  • the coating liquid can be dried by heating the coating liquid.
  • the heating temperature may be within a range in which the solvent can be volatilized and removed, and is equal to or lower than the thermal deformation temperature of the fluororesin that constitutes the piezoelectric film, and can be, for example, 40°C or higher and 100°C or lower.
  • the thermal deformation temperature can be measured, for example, in accordance with JIS K 7191-2:2015.
  • the curing may be performed by heat or ionizing radiation. Curing by ionizing radiation may be performed by irradiating with ultraviolet light or electron beams. In addition, curing by heat and curing by ionizing radiation may be used in combination.
  • a coating liquid containing the above-mentioned curable composition for obtaining coating layer B is applied onto the obtained coating layer A, and then dried and cured to form coating layer B.
  • the transparent conductive layer is formed (see FIG. 2E) on the obtained coating layer B.
  • the transparent conductive layer can be formed by a known dry process method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, or an ion plating method.
  • the target material can be the inorganic material contained in the transparent conductive layer, preferably ITO.
  • the sputtering gas may be, for example, an inert gas such as Ar. If necessary, a reactive gas such as oxygen gas may also be used in combination.
  • the method for producing a laminated piezoelectric body according to the present embodiment may further include other steps in addition to those described above, as necessary.
  • a step of peeling off the carrier film together with the adhesive layer may be further performed (see FIG. 2F).
  • FIGS. 3A to 3D are schematic cross-sectional views showing laminated piezoelectric body 10 according to modified examples.
  • the laminated piezoelectric body 10 may not include the coating layer B13 (see FIG. 3A).
  • the laminated piezoelectric body 10 may further include a coating layer D15 on the other surface of the piezoelectric film 11 (see FIG. 3B).
  • the laminated piezoelectric body 10 may further include a coating layer C16 between the coating layer B13 and the transparent conductive layer 14 (see FIG. 3C).
  • the laminated piezoelectric body 10 may not include the coating layer A12 (see FIG. 3D). That is, the coating layer B13 may be adjacent to the piezoelectric film 11. In that case, the thickness of the coating layer B13 is not particularly limited, but may be in the same range as the coating layer A12.
  • the refractive index of the piezoelectric film was measured in accordance with JIS K7142:2014 (ISO489:1999) except that the measurement temperature was set to 25.0 ⁇ 1.0° C. Specifically, the refractive index of the piezoelectric film was measured three times using an Abbe refractometer by irradiating the piezoelectric film with sodium D line (wavelength 589 nm), and the average of the measured values was taken as the refractive index.
  • the refractive index of each layer other than the piezoelectric film was determined by measuring psi ( ⁇ ) and delta ( ⁇ ) using a multi-angle high-speed spectroscopic ellipsometer (JA Woollam Co., Ltd.: M-2000) and calculating the refractive index at a wavelength of 589 nm therefrom.
  • the thickness of each layer was measured using a spectroscopic interference thickness meter ("Optical NanoGauge C13027-11" manufactured by Hamamatsu Photonics KK). Specifically, the thickness of each layer in the range including the center of the surface of the laminated piezoelectric body was measured at 50 points at 5 mm intervals in the TD direction, and the arithmetic mean value was taken as the thickness of each layer.
  • the refractive index of each layer was set to the value shown in Table 1.
  • the coefficient of variation CV of the thickness of the coating layer was calculated by dividing the standard deviation SD of the thickness by the arithmetic mean AV. Specifically, the thickness of the coating layer was measured at 50 points, and the arithmetic mean value Xave of the thickness was calculated from the following formula (1) and the standard deviation SD of the thickness was calculated from the following formula (2). These were then substituted into formula (3) to calculate the coefficient of variation CV of the thickness.
  • n is the number of measurement points
  • xi is the i-th thickness.
  • the Young's modulus of the carrier film was measured by the following procedure.
  • the carrier film was cut into a rectangle with a total length of 100 mm and a width of 10 mm to prepare a test piece.
  • the test piece was set in a tensile tester with a chuck distance of 50 mm, and a tensile test was performed at a tensile speed of 50 mm/min in a measurement atmosphere of 25°C. From the obtained stress-strain curve, two points in the small deformation region (within 5% strain) were selected in accordance with JIS K 7161-1, and the Young's modulus was calculated from the slope obtained from a linear approximation equation.
  • Example 1 Preparation and evaluation of laminated piezoelectric body [Example 1]
  • a resin film (thickness 120 ⁇ m) made of polyvinylidene fluoride (Kureha Corporation, vinylidene fluoride homopolymer) was stretched in the MD direction to a stretch ratio of 4.2 times.
  • a DC voltage was applied between the ground electrode and the needle electrode while increasing from 0 kV to 13.0 kV to the stretched film, and a polarization treatment was performed.
  • the film after the polarization treatment was further heat-treated at 130° C. for 1 minute to obtain a piezoelectric film with a refractive index of 1.42 and a thickness of 40 ⁇ m.
  • a carrier film polyethylene terephthalate, Young's modulus at 25° C.: 4.0 GPa
  • the laminator was set to a line speed of 5 m/min and a contact pressure of the lamination roll of about 0.3 N.
  • a UV-curable composition containing an acrylic compound and amorphous silica was applied to the X-face of the piezoelectric film of the resulting laminate, dried at 80°C, and then irradiated with UV light to form coating layer A (thickness 728 nm, refractive index 1.50).
  • ITO indium tin oxide
  • Example 2 (1) Preparation of Piezoelectric Film A piezoelectric film (thickness: 40 ⁇ m, refractive index: 1.42) was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a carrier film polyethylene terephthalate having a thickness of 125 ⁇ m was laminated on the obtained coating layer D. Thereafter, the carrier film was peeled off from the X surface of the laminate, and a coating layer A (thickness 728 nm, refractive index 1.50) was formed on the exposed X surface of the piezoelectric film in the same manner as in Example 1.
  • a transparent conductive layer (thickness: 30 nm, refractive index: 1.92) was formed on the coating layer B in the same manner as in Example 1 to obtain a laminated piezoelectric body.
  • Example 3 (1) Preparation of Piezoelectric Film and Formation of Coating Layer A
  • a coating layer A (thickness: 1023 nm, refractive index: 1.50) was formed on the X-face of a piezoelectric film (refractive index: 1.42, thickness: 40 ⁇ m) in the same manner as in Example 1.
  • a coating layer B (thickness: 102 nm, refractive index: 1.65) was formed in the same manner as in Example 2.
  • a coating layer C (thickness 25 nm, refractive index 1.46) which is a SiO2 film was formed by a sputtering method using Si as a target material.
  • a transparent conductive layer (film thickness 30 nm, refractive index 1.92) was formed on the upper surface of the coating layer C in the same manner as in Example 1, to obtain a laminated piezoelectric body.
  • Example 4 A piezoelectric film was produced in the same manner as in Example 1, except that the DC voltage was increased up to 14.0 kV.
  • a laminated piezoelectric body was obtained in the same manner as in Example 3, except that the coating layer A was not formed, and the coating layer B, the coating layer C and the transparent conductive layer were successively formed on the X surface of the piezoelectric film.
  • Example 1 A laminated piezoelectric body was obtained in the same manner as in Example 1, except that a coating layer A (thickness: 1007 nm, refractive index: 1.50) was formed on the X surface of the piezoelectric film without bonding a carrier film.
  • a coating layer A thickness: 1007 nm, refractive index: 1.50
  • Comparative Example 2 A laminated piezoelectric body was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that a coating layer B (thickness: 87 nm, refractive index: 1.70) was formed between the coating layer A and the transparent conductive layer in the same manner as in Example 2.
  • a coating layer B thickness: 87 nm, refractive index: 1.70
  • Interference fringes The laminated piezoelectric body was visually observed for the presence or absence of interference fringes when observed in a dark room under a three-wavelength fluorescent lamp ("LK-H766" manufactured by Twinbird Corporation). Those in which interference fringes were clearly visible were marked with an X, those in which slight unevenness was visible but not bothersome when observed carefully and no interference fringes were clearly observed were marked with an O, and those in which unevenness was not noticeable even when observed carefully and no interference fringes were observed at all were marked with an ⁇ .
  • LK-H766 three-wavelength fluorescent lamp
  • the surface resistivity of the transparent conductive layer of the laminated piezoelectric body was measured using a resistivity meter ("LorestaGP MCP-T610", manufactured by Nitto Seiko Analytech Co., Ltd.) in accordance with JIS K 7194. The resistivity was measured three times, and the average value of the three measurements was used as the representative value.
  • Piezoelectric constant d 33 The piezoelectric constant d 33 was measured in accordance with ISO 19622:2018, a test method for the piezoelectric constant d 33 of piezoelectric ceramics using a direct quasi-static method (d 33 meter method, Berlin Court method). Specifically, the piezoelectric constant d 33 was measured using a piezoelectric constant measuring device ("Piezometer System PM300", manufactured by PIEZOTEST Co., Ltd.) by clipping the sample with 1.0 N and reading the generated charge when a force of 0.15 N and 110 Hz was applied. The measured value of the piezoelectric constant d 33 is a positive value or a negative value depending on the front and back of the film being measured, but the absolute value is described in this specification.
  • the total light transmittance of the laminated piezoelectric body was measured using a haze meter ("NDH7000SP II", manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) based on the method described in JIS K 7361-1.
  • Haze Value The haze value of the laminated piezoelectric body was measured using a haze meter ("NDH7000SP II", manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) based on the method described in JIS K7136.
  • the b * value of the laminated piezoelectric body was measured using a spectrophotometer ("SD7000", manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) according to a method in accordance with JIS Z8722.
  • the layer structures and physical properties of the laminated piezoelectric bodies of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1, and the evaluation results of the laminated piezoelectric bodies are shown in Table 2.
  • the laminated piezoelectric bodies of Examples 1 to 4 in which the coefficient of variation in the thickness of coating layers A and B is 0.050 or less, all suppress interference fringes. It can also be seen that the transparency is high and the color is suppressed.
  • the laminated piezoelectric material of the present invention can provide a laminated piezoelectric material that is highly transparent and can suppress interference fringes when viewed under a three-wavelength light source, and a method for manufacturing the same. Therefore, the laminated piezoelectric material can be suitably used as a piezoelectric sensor for a touch panel.

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Abstract

全光線透過率が８０％以上の積層圧電体であって、フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムと、表面抵抗率が１．０×１０４Ω／ｓｑ．以下である透明導電層と、前記圧電フィルムと前記透明導電層との間に配置された、１層以上の厚みが０．０５μｍ以上のコーティング層と、を有する。前記１層以上のコーティング層のそれぞれは、前記圧電フィルムの屈折率よりも高く、且つ前記透明導電層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記１層以上のコーティング層のうち少なくとも１つの厚みの変動係数が０．０５以下である。

Description

積層圧電体及びその製造方法
　本発明は、積層圧電体及びその製造方法に関する。
　タッチパネルは、電子機器のディスプレイに取付けられており、電子機器の操作に使用されている。タッチパネルには様々な方式があるが、構造が単純で安価に作れ、比較的大型化しやすいことから、静電容量方式が採用されている。
　タッチパネルは、指やペンなどでタッチパネルの表面をタッチすることで、タッチパネル表面の２次元位置を検出する。タッチパネルの入力において、入力を誤認しないためには、選択と実行が分離されていることが望ましい。具体的には、タッチ面の２次元位置を選択し、タッチ面に圧力を加えることにより、選択が実行されることが望ましい。そのため、タッチ面の圧力を検出する感圧センサをタッチパネルに適用することが検討されている。
　例えば、特許文献１には、タッチ位置を検出する静電容量センサと、その裏面に配置された、押圧を検出する圧電センサとを有するタッチセンサが開示されている。静電容量センサには透明電極としては、高分子フィルムに導電膜であるインジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）を製膜した後、１５０℃前後で加熱処理してＩＴＯの結晶性を高めることにより、高い透明性を有し、色味が抑えられた透明導電性フィルムが使用されている。これと同様に、圧電センサにも、ディスプレイ画像の高い視認性を確保する観点から、高い透明性を有し、色味が抑えられていることが求められる。
　圧電センサに使用される圧電フィルムとしては、ポリ乳酸やフッ素系樹脂等の高分子材料を含む圧電フィルムが知られており、特にフッ素系樹脂を含む圧電フィルムは、高い圧電定数を有することが知られている。しかしながら、フッ素系樹脂を含む圧電フィルムは耐熱性が低いため、当該圧電フィルム上に透明電極を形成するため、ＩＴＯ等の導電膜を形成した後、当該導電膜を結晶化させるための加熱処理を行うと、圧電フィルムの透明性が損なわれやすい。一方、フッ素系樹脂を含む圧電フィルム上に導電膜を形成しただけで、結晶化のための加熱処理を行わないと、導電膜由来の黄色味が生じやすい。そのため、圧電フィルムを有する積層圧電フィルムをタッチパネルで使用することが困難であった。
　これに対し、特許文献２には、圧電フィルムと、第一コーティング層と、第二コーティング層と、透明導電層とをこの順に有する積層圧電体が開示されている。そして、各層の屈折率を最適化することにより、透明性が高く、色味が抑えられた積層圧電体が得られることが開示されている。
特開２０１７－２１５９６０号公報 国際公開第２０２２／１９６１９８号
　しかしながら、本発明者らの検討によれば、上記特許文献２に示されるように、フッ素系樹脂を含む圧電フィルム上に、屈折率の異なる複数のコーティング層が積層された積層圧電体は、三波長光源下で見た場合に干渉縞が生じるという問題があることが明らかとなった。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、透明性が高く、且つ三波長光源下で見た時の干渉縞を抑制できる積層圧電体及びその製造方法を提供することを目的とする。
　［１］全光線透過率が８０％以上の積層圧電体であって、フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムと、表面抵抗率が１．０×１０４Ω／ｓｑ．以下である透明導電層と、前記圧電フィルムと前記透明導電層との間に配置された、１層以上の厚みが０．０５μｍ以上のコーティング層と、を有し、前記１層以上のコーティング層のそれぞれは、前記圧電フィルムの屈折率よりも高く、且つ前記透明導電層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記１層以上のコーティング層のうち少なくとも１つの厚みの変動係数が０．０５以下である、積層圧電体。
　［２］前記圧電フィルムの屈折率が１．３０以上１．５０以下であり、前記透明導電層の屈折率が１．８０以上２．２０以下である、［１］に記載の積層圧電体。
　［３］前記１層以上のコーティング層は、屈折率が１．４０以上１．６０未満であるコーティング層Ａを含み、前記コーティング層Ａの厚みの変動係数が０．０５以下である、［１］又は［２］に記載の積層圧電体。
　［４］前記１層以上のコーティング層は、前記コーティング層Ａと前記透明導電層との間に配置されたコーティング層Ｂをさらに含み、前記コーティング層Ｂの屈折率が１．６０以上１．８０未満であり、前記コーティング層Ｂの厚みの変動係数が０．０５以下である、［３］に記載の積層圧電体。
　［５］前記圧電フィルムの、前記１層以上のコーティング層が配置された面とは反対側の面上に配置されたコーティング層Ｄをさらに含み、前記コーティング層Ｄの屈折率は、１．４０以上１．６０未満である、［１］～［４］のいずれかに記載の積層圧電体。
　［６］　前記圧電フィルムの、前記１層以上のコーティング層が配置された面とは反対側の面上に配置されたキャリアフィルムをさらに含む、［１］～［５］のいずれかに記載の積層圧電体。
　［７］前記フッ素系樹脂は、フッ化ビニリデンに由来する構成単位を主成分として含む重合体である、［１］～［６］のいずれかに記載の積層圧電体。
　［８］［１］～［７］のいずれかに記載の積層圧電体の製造方法であって、フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムを準備する工程と、前記圧電フィルムの一方の面に、キャリアフィルムを貼り合せる工程と、前記キャリアフィルムが貼り合わされた前記圧電フィルムの他方の面上に、コーティング液を塗布した後、乾燥させて、１層以上のコーティング層を形成する工程と、前記１層以上のコーティング層上に、金属酸化物を含有する透明導電層を形成する工程とを含む、積層圧電体の製造方法。
　［９］前記キャリアフィルムの２５℃におけるヤング率が１．０ＧＰａ以上である、［８］に記載の積層圧電体の製造方法。
　［１０］前記圧電フィルムを準備する工程は、フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムを延伸した後、分極処理する工程を含む、［８］又は［９］に記載の積層圧電体の製造方法。
　本発明によれば、透明性が高く、且つ三波長光源下で見た時の干渉縞を抑制できる積層圧電体及びその製造方法を提供できる。
図１は、本実施形態に係る積層圧電体を示す模式的な断面図である 図２Ａ～２Ｆは、本実施形態に係る積層圧電体の製造方法を示す模式的な断面図である。 図３Ａ～Ｄは、変形例に係る積層圧電体を示す模式的な断面図である。
　上記の通り、積層圧電体を三波長光源下で見た時に、干渉縞が生じることがあった。三波長光源とは、光の三原色（青・緑・赤）の三波長域が強調された光を発する光源であり、例えば三波長域発光形の昼白色蛍光ランプ等が知られている。このような三波長光源下では、通常の光源下よりも明るく、色が鮮明に見える。そのため、光の干渉にムラがあると干渉ムラが強調され易く、干渉縞となって認識されやすい。
　本発明者らの検討によれば、三波長光源下で観察される上記干渉縞は、圧電フィルムとコーティング層との間、又は、コーティング層と透明導電層との間で屈折率に差があり、且つコーティング層の厚みの変動が大きい場合に生じやすいことが明らかとなった。特に、コーティング層の厚みの変動は、圧電フィルムの平坦性が低いことによって生じやすい。圧電フィルムの平坦性の低さは、高い圧電効果を発現させるために、フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムの延伸処理や分極処理を行う過程で形成される皺によるものと考えられる。つまり、フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムの中でも、圧電効果（圧電定数ｄ３３）が高い圧電フィルムほど、表面の平坦性が低くなりやすい。
　これに対して本発明の一実施形態では、例えば圧電フィルムの一方の面をキャリアフィルムで支持する等して平坦性を高めた状態で、当該圧電フィルムの他方の面上にコーティング層を形成することにより、コーティング層の厚みの変動を一定以下に調整することができる。それにより、三波長光源下で見た時の干渉縞の発生を抑制することができる。
　以下、本発明の一実施形態に係る積層圧電体とその製造方法について、具体的に説明する。
　１．積層圧電体
　本発明の一実施形態に係る積層圧電体は、圧電フィルムと、透明導電層と、それらの間に配置された、１層以上の、厚みが０．０５μｍ以上のコーティング層と、を有する。
　上記１層以上のコーティング層のそれぞれは、圧電フィルムの屈折率よりも高く、且つ透明導電層の屈折率よりも低い屈折率を有する。これらのコーティング層は、好ましくはウェットプロセスで形成されたものである。そして、上記１層以上のコーティング層の少なくとも１つ、好ましくは全ての厚みの変動係数は、０．０５０以下に調整されている。
　コーティング層の厚みの変動係数ＣＶは、厚みの標準偏差ＳＤを算術平均ＡＶで割った値として求めることができる。具体的には、コーティング層の厚みを、分光干渉式膜厚計を用いて測定し、下記式（１）から厚みの算術平均値Ｘａｖｅ、式（２）から厚みの標準偏差ＳＤを算出する。そして、これらを式（３）に当てはめて、厚みの変動係数ＣＶを求める。ここで、ｎは測定点数、ｘｉはｉ番目の厚みである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
　なお、透明導電層は、圧電フィルムの一方の面上のみに配置されてもよいし、一方の面上と他方の面上のそれぞれに配置されてもよい。また、透明導電層が、圧電フィルムの一方の面上のみに配置される場合、圧電フィルムの他方の面上には、他のコーティング層がさらに配置されてもよい。
　図１は、本発明の一実施形態に係る積層圧電体１０の構成を示す模式的な断面図である。例えば、図１では、積層圧電体１０は、圧電フィルム１１と、コーティング層Ａ１２と、コーティング層Ｂ１３と、透明導電層１４とを含む。
　コーティング層Ａ１２は、例えばハードコート層であり、コーティング層Ｂ１３は、例えば光学調整層であり、それぞれの厚みは０．０５μｍ以上である。コーティング層Ａ１２の屈折率は、圧電フィルム１１の屈折率よりも高く、透明導電層１４の屈折率よりも低い。コーティング層Ｂ１３の屈折率は、コーティング層Ａ１２の屈折率よりも高く、透明導電層１４の屈折率よりも低い。具体的には、コーティング層Ａ１２の屈折率は１．４０以上１．６０未満であることが好ましく、コーティング層Ｂ１３の屈折率は１．６０以上１．８０未満であることが好ましい。
　本願明細書において、屈折率は、波長５８９ｎｍにおける屈折率を意味する。
　圧電フィルムの屈折率は、測定温度を２５．０±１．０℃とした以外はＪＩＳ　Ｋ７１４２：２０１４（ＩＳＯ４８９：１９９９）に準拠して測定することができる。具体的には、圧電フィルムに対して、アッベ屈折率計を用い、ナトリウムのＤ線（波長５８９ｎｍ）を入射させて屈折率を３回測定し、各測定値の平均を屈折率とする。
　圧電フィルム以外の各層の屈折率は、多入射角高速分光エリプソメータ（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製：Ｍ－２０００）によって、プサイ（Ψ）及びデルタ（Δ）を測定し、そこから波長５８９ｎｍにおける屈折率を算出して求めることができる。
　そして、コーティング層Ａ１２及びコーティング層Ｂ１３の少なくとも一つ、好ましくは両方が、厚みの変動係数が０．０５以下に調整されている。以下、各層について、具体的に説明する。
　１－１．圧電フィルム
　圧電フィルムは、フッ素系樹脂を主成分として含む。フッ素系樹脂を主成分として含むとは、圧電フィルム中に含まれるフッ素系樹脂の含有率が５０質量％以上であることを意味する。フッ素系樹脂の含有率は、好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは８０％以上である。上記含有率の上限値は、特に制限されず、１００質量％であってもよいし、９０質量％以下であってもよい。
　フッ素系樹脂の中でも高い圧電効果が得られやすい観点から、フッ素系樹脂は、フッ化ビニリデンに由来する構成単位を主成分として含む重合体であることが好ましい。
　フッ化ビニリデンに由来する構成単位を主成分として含むとは、上記重合体におけるフッ化ビニリデンに由来する構成単位の含有量が上記重合体の構成単位の総量に対して５０質量％以上であることを意味する。上記重合体におけるフッ化ビニリデンに由来する構成単位の含有量は、上記重合体の構成単位の総量に対して、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましい。フッ化ビニリデンに由来する構成単位の上記含有量が多いほど、より高い圧電効果が得られやすい。上記含有量の上限値は、特に制限されず、１００質量％であっても良いし、９０質量％以下であっても良い。
　上記重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、フッ化ビニリデンと共重合可能なモノマーに由来する構成単位をさらに含んでもよい。フッ化ビニリデンと共重合可能なモノマーの例には、三フッ化エチレン、四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、三フッ化塩化エチレン及びフッ化ビニル等の含フッ素モノマーを挙げることができる。なお、これらのモノマーは、二種以上含まれていてもよい。
　中でも、圧電フィルムの圧電定数ｄ３３を大きくしやすく、当該圧電フィルムを適用した感圧センサの感度を高くする観点では、フッ素系樹脂は、フッ化ビニリデンの単独重合体であることが好ましい。
　圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は、７ｐＣ／Ｎ以上４０ｐＣ／Ｎ以下であることが好ましい。圧電フィルムの圧電定数ｄ３３が７ｐＣ／Ｎ以上であると、圧電効果により発生する電荷量がより多いため、感圧性をより高めることができる。圧電フィルムの圧電定数ｄ３３が４０ｐＣ／Ｎ以下であると、例えば分極処理に起因する圧電フィルムの表面の平坦性の低下をより低減できるため、干渉縞をより低減することができる。同様の観点から、圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は、１０ｐＣ／Ｎ以上４０ｐＣ／Ｎ以下であることがより好ましく、１３ｐＣ／Ｎ以上３５ｐＣ／Ｎ以下であることがさらに好ましく、１５ｐＣ／Ｎ以上３０ｐＣ／Ｎ以下であることが特に好ましい。
　圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は、一定の速度で圧電フィルムの厚み方向に応力を加えた時に発生する電荷量を測定することによって算出することができ、直接準静的法（ｄ３３メータ法，ベルリンコート法）による圧電セラミックの圧電定数ｄ３３の試験方法ＩＳＯ　１９６２２：２０１８に準拠し圧電定数ｄ３３を測定することができる。具体的には、圧電定数測定装置（例えばＰＩＥＺＯＴＥＳＴ社製、ピエゾメーターシステムＰＭ３００）を用いて、１．０Ｎで圧電フィルムのサンプルをクリップし、０．１５Ｎ、１１０Ｈｚの力を加えた際の発生電荷を読み取る。
　圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は、主に、圧電フィルムに含まれる樹脂の種類や製造条件（分極処理や延伸処理の条件）によって調整することができる。例えば、フッ素系樹脂の中でも、フッ化ビニリデンに由来する構成単位を多く含む樹脂ほど、圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は大きくなりやすい。また、分極処理や延伸処理を強くすることで、圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は大きくなりやすい。
　圧電フィルムの屈折率は、特に制限されないが、例えば１．３０以上１．５０以下であることが好ましく、１．３５以上１．４７以下であることがより好ましく、１．３８以上１．４５以下であることがさらに好ましい。
　圧電フィルムの厚みは、例えば２５μｍ以上１２０μｍ以下であることが好ましい。圧電フィルムの厚みが２５μｍ以上であると、圧電効果により発生する電荷量がより多くなり、より高い圧電性が得られやすい。圧電フィルムの厚みは３０μｍ以上がより好ましく、３５μｍ以上がさらに好ましい。圧電フィルムの厚みが１２０μｍ以下であると、圧電フィルムの透明性がより損なわれにくく、１００μｍ以下がより好ましく、８０μｍ以下がさらに好ましい。同様の観点から、圧電フィルムの厚みは、３５μｍ以上８０μｍ以下であることがより好ましい。
　１－２．コーティング層Ａ
　コーティング層Ａは、圧電フィルムと透明導電層との間に配置されている。本実施形態では、コーティング層Ａは、圧電フィルムと隣接して配置されている（図１参照）。コーティング層Ａは、圧電フィルムの表面の傷を埋めて平滑にすると共に、積層圧電体の製造工程で圧電フィルムの表面に傷を付きにくくする。それにより、積層圧電体のヘイズをより低減することができる。
　コーティング層Ａの厚みは、特に限定されないが、０．０５μｍ以上であり、０．３μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上２．０μｍ以下であることがより好ましく、０．５μｍ以上１．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
　コーティング層Ａの厚みの変動係数は、上記の通り、０．０５０以下に調整されている。厚みの変動係数が０．０５０以下であると、コーティング層Ａの厚みのムラが少ないため、積層圧電体における干渉縞の発生を抑制することができる。同様の観点から、コーティング層Ａの厚みの変動係数は、０．０４０以下であることが好ましく、０．０３０以下であることがより好ましい。なお、コーティング層Ａの厚みの変動係数の下限値は、０であることが好ましいが、０．００１以上であってもよい。
　コーティング層Ａの厚みの変動係数は、圧電フィルムの平坦性によって調整することができる。例えば、後述するように、コーティング層Ａを形成する時の圧電フィルムの平坦性を高めることによって、コーティング層Ａの厚みの変動係数を小さくすることができる。
　コーティング層Ａの屈折率は、上記の通り、圧電フィルムの屈折率よりも高く、透明導電層の屈折率よりも低いことが好ましい。具体的には、コーティング層Ａの屈折率は、１．４０以上１．６０未満であることが好ましく、１．４７以上１．５７以下であることがより好ましく、１．４９以上１．５５以下であることがさらに好ましい。コーティング層Ａの屈折率が上記範囲内であると、透過率をより高めつつ、干渉縞をより抑制することができる。
　コーティング層Ａと圧電フィルムの屈折率の差は、０．０１以上０．２０以下であることが好ましい。上記屈折率の差が０．０１以上であると、より透過率を高めることができ、０．２０以下であると、より干渉縞を抑制することができる。
　コーティング層Ａは、上記屈折率を満たす材料で構成されていればよく、通常、樹脂層である。樹脂層は、コーティング液として、樹脂を含む塗布液を塗布した後、乾燥させたものであってもよいし、重合性化合物を含む硬化性組成物を塗布した後、乾燥及び硬化させたものであってもよい。本実施形態では、コーティング層Ａは、例えばハードコート層であってもよい。その場合、コーティング層Ａは、重合性化合物を含む硬化性組成物の硬化物を含むことが好ましい。
　（重合性化合物）
　重合性化合物は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよい。重合性化合物は、熱硬化性化合物であってもよいし、電離放射線性化合物であってもよいが、好ましくは電離放射線性化合物である。電離放射線は、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）であってもよい。
　電離放射線性化合物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基が挙げられる。中でも、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、多官能性（メタ）アクリレート系化合物がさらに好ましい。（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの一方又は両方を意味する。
　多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーの例には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が含まれる。３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーの例には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が含まれる。また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部が変性されたものであってもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により変性されたものも使用することができる。
　また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーの例には、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体が含まれる。ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
　（重合開始剤）
　電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合、硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
　（他の成分）
　硬化性組成物は、必要に応じて上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。例えば、製造工程におけるコーティング層Ａのブロッキングを抑制したり、屈折率を調整したりする観点から、硬化性組成物は、粒子をさらに含んでもよい。粒子は、無機粒子であってもよいし、有機粒子であっても良い。
　無機粒子の例には、シリカ（酸化ケイ素）、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛及び酸化スズ等の粒子、ダイヤモンドパウダー、サファイア粒子、炭化ホウ素粒子、炭化ケイ素粒子、五酸化アンチモン粒子等が含まれる。有機粒子の例には、アクリル樹脂、アクリル－スチレン共重合体、シリコーン樹脂等の樹脂粒子が含まれる。中でも、ハードコート層の透明性が損なわれにくい点から、無機粒子が好ましく、シリカ粒子がより好ましい。無機粒子の表面は、シランカップリング剤等の表面修飾剤で処理されていても良い。
　１－３．コーティング層Ｂ
　コーティング層Ｂは、コーティング層Ａと透明導電層との間に配置されている。コーティング層Ｂは、屈折率及び厚みが適切に調整されることで、積層圧電体の色味をより低減することができる。
　具体的には、コーティング層Ｂの屈折率は、上記の通り、コーティング層Ａの屈折率よりも高く、透明導電層の屈折率よりも低い。そのようなコーティング層Ｂを含む積層圧電体は、コーティング層Ａに入射し、反射される光と、コーティング層Ｂのコーティング層Ａとの界面で反射される光との干渉作用等により、色味をより低減することができる。
　コーティング層Ｂの屈折率は、上記観点から、１．６０以上１．８０未満であることが好ましく、１．６３以上１．７８未満であることがより好ましく、１．６５以上１．７５以下であることがさらに好ましい。
　コーティング層Ｂとコーティング層Ａの屈折率の差は、０．０５以上であることが好ましい。上記屈折率の差が０．０５以上であると、透過率をより高めることができる。
　コーティング層Ｂの厚みは、特に限定されないが、０．０５μｍ以上であればよい。例えば、コーティング層Ｂの厚みは、０．０５μｍ以上０．５μｍ以下であってもよいし、０．０９μｍ以上０．１８μｍ以下であってもよい。コーティング層Ｂの厚みが上記範囲内であることにより、積層圧電体の色味をより低減することができる。
　コーティング層Ｂの厚みの変動係数は、０．０５０以下に調整されている。厚みの変動係数が０．０５０以下であると、コーティング層Ｂの厚みのムラが低減されるため、積層圧電体における干渉縞の発生をより抑制することができる。コーティング層Ｂの厚みの変動係数は、０．０４０以下であることがより好ましく、０．０３０以下であることが更に好ましい。なお、コーティング層Ｂの厚みの変動係数の下限値は０であることが好ましいが、０．００１以上であってもよい。
　コーティング層Ｂの厚みの変動係数も、上記と同様に、圧電フィルムの平坦性やコーティング層Ａの厚みの変動係数によって調整することができる。例えば、圧電フィルムの平坦性を高めたり、コーティング層Ａの厚みの変動係数を小さくしたりすることで、コーティング層Ｂの厚みの変動係数も小さくすることができる。
　コーティング層Ｂの材料は、このような屈折率を満たす材料であればよい。例えば、コーティング層Ａの材料として例示した硬化性組成物に、金属酸化物粒子を加えて、屈折率を調整したものであってもよい。
　金属酸化物粒子は、屈折率が１．５０以上の屈折率材であることが好ましい。そのような金属酸化物粒子としては、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛及び酸化スズが挙げられ、中でも、酸化チタン、及び酸化ジルコニウムが好ましい。
　１－４．透明導電層
　透明導電層は、１以上のコーティング層上に配置されている。本実施形態では、透明導電層は、コーティング層Ｂ上に配置されている。
　透明導電層を構成する材料は限定されず、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも一種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、上記群に示された金属原子をさらに含んでいてもよい。当該金属酸化物には、ＩＴＯ、アンチモン－スズ複合酸化物（ＡＴＯ）等が好ましく用いられ、ＩＴＯが特に好ましく用いられる。
　透明導電層の厚みは、制限されないが、１０ｎｍ以上５５ｎｍ未満であることが好ましい。透明導電層の厚みが１０ｎｍ以上であると、表面抵抗率をより低くすることができ、５５ｎｍ未満であると、透明性が一層損なわれにくい。同様の観点から、透明導電層の厚みは、１５ｎｍ以上４５ｎｍ未満であることがより好ましく、２０ｎｍ以上４０ｎｍ未満であることがより好ましい。
　透明導電層の屈折率は、１．８０以上２．２０以下であることが好ましく、１．８３以上２．００以下であることがより好ましく、１．８５以上１．９５以下であることがさらに好ましい。
　１－５．他の層
　本実施形態に係る積層圧電体は、必要に応じて上記以外の他の層をさらに有してもよい。例えば、上記積層圧電体は、コーティング層Ｂと透明導電層との間に、厚みが０．０５μｍよりも薄いコーティング層Ｃをさらに含んでもよい。また、上記積層圧電体は、圧電フィルムの、上記１以上のコーティング層が配置された面とは反対側の面に配置されたコーティング層Ｄをさらに含んでもよい。
　１－５－１．コーティング層Ｃ
　コーティング層Ｃは、厚みが０．０５μｍよりも薄いコーティング層である。コーティング層Ｃの屈折率は、圧電フィルムの屈折率よりも高く、透明導電層の屈折率よりも低ければよく、コーティング層Ａやコーティング層Ｂの屈折率よりも低くてもよい。
　そのようなコーティング層Ｃは、例えばドライプロセスで形成された、金属酸化物の薄膜（例えばシリカ薄膜）であってもよい。コーティング層Ｃは、例えば積層圧電体の透過率をより高めることができる。即ち、屈折率の異なる薄膜による干渉現象を利用して、積層圧電体の透過率を高めることができる。
　１－５－２．コーティング層Ｄ
　コーティング層Ｄの材料や物性（厚み、屈折率）は、上記したコーティング層Ａの材料や物性と同様であってもよい。コーティング層Ｄは、積層圧電体のヘイズをより低減することができる。積層圧電体の干渉縞をより生じにくくする観点では、コーティング層Ｄと圧電フィルムの屈折率の差は小さいことが好ましく、例えば０．１５以下であることが好ましい。コーティング層Ｄの厚みは、例えば０．３μｍ以上２．０μｍ以下とすることができる。また、コーティング層Ｄの厚みの変動係数も、０．０５０以下に調整されていることが好ましい。
　１－６．物性
　（全光線透過率）
　本実施形態に係る積層圧電体は、例えば画像表示装置に搭載されるタッチパネルに適用する観点等から、高い透明性を有することが好ましい。具体的には、積層圧電体の全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。
　積層圧電体の全光線透過率は、ヘイズメータ（例えば日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ７０００ＳＰ　ＩＩ）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７３６１－１に記載の方法に基づいて測定することができる。
　積層圧電体の全光線透過率は、層構成（コーティング層Ｂやコーティング層Ｃを含むこと）や各層の屈折率や厚みによって調整することができる。例えば、コーティング層Ｂやコーティング層Ｃを設けることで、全光線透過率をより高くすることができる。
　（圧電定数）
　積層圧電体の圧電定数ｄ３３は、例えば７ｐＣ／Ｎ以上４０ｐＣ／Ｎ以下であることが好ましい。積層圧電体の圧電定数ｄ３３が７ｐＣ／Ｎ以上であると、より高い感圧性が得られやすい。積層圧電体の圧電定数ｄ３３が４０ｐＣ／Ｎ以下であると、上記したような干渉縞をより低減することができる。同様の観点から、積層圧電体の圧電定数ｄ３３は、１０ｐＣ／Ｎ以上４０ｐＣ／Ｎ以下であることがより好ましく、１３ｐＣ／Ｎ以上３５ｐＣ／Ｎ以下であることがさらに好ましく、１５ｐＣ／Ｎ以上３０ｐＣ／Ｎ以下であることが特に好ましい。
　積層圧電体の圧電定数ｄ３３は、主に、圧電フィルムの圧電定数ｄ３３によって調整することができる。圧電フィルムの圧電定数ｄ３３が高いと、積層圧電体の圧電定数ｄ３３も高くなりやすい。
　（表面抵抗率）
　積層圧電体の透明導電層の表面抵抗率は、タッチパネル等のデバイスの用途においてより良好な導電性を得る観点では、低いことが好ましい。上記透明導電層の表面抵抗率は、例えば１×１０４Ω／ｓｑ．以下が好ましく、１×１０３Ω／ｓｑ．以下がより好ましく、４００Ω／ｓｑ．以下がより好ましい。上記透明導電層の表面抵抗率の下限値は、特に限定されないが、例えば１０Ω／ｓｑ．以上、好ましくは４０Ω／ｓｑ．以上であってよい。上記透明導電層の表面抵抗率は、例えば抵抗率計を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７１９４に記載の公知の方法に基づいて測定することが可能である。
　（各層の厚み）
　積層圧電体を構成する各層の厚みは、分光干渉式膜厚計（例えば浜松ホトニクス社製「Ｏｐｔｉｃａｌ ＮａｎｏＧａｕｇｅ Ｃ１３０２７－１１」）を用いて測定することができる。各層の屈折率はＪＩＳ　Ｋ７１４２に記載の方法で測定することができ、各層の屈折率は、上記した方法で測定した値を設定すればよい。そして、積層圧電体の面の中央を含む範囲における各層の厚みを５ｍｍ間隔で３点以上測定し、その相加平均値を各層の厚みとすることができる。
　（用途）
　本実施形態に係る積層圧電体は、種々の用途に用いることができる。特に、本実施形態に係る積層圧電体は、高い透明性及び視認性を有しつつ、高い圧電性を示すことから、各種電子機器に搭載されるタッチパネルの圧電センサとして好ましく用いることができる。
　２．積層圧電体の製造方法
　図２Ａ～２Ｆは、本実施形態に係る積層圧電体の製造方法を示す模式的な断面図である。
　本実施形態に係る積層圧電体の製造方法は、１）フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルム１１を準備する工程と（図２Ａ参照）、２）圧電フィルム１１の一方の面に、キャリアフィルム２０を貼り合せる工程と（図２Ｂ参照）、３）キャリアフィルム２０が貼り合わされた圧電フィルム１１の他方の面上に、コーティング液を塗布した後、硬化させて、コーティング層Ａ１２及びコーティング層Ｂ１３を形成する工程と（図２Ｃ及び２Ｄ参照）、４）コーティング層Ｂ１３上に、金属酸化物を含有する透明導電層１４を形成する工程と（図２Ｅ参照）、を含む。また、上記積層圧電体の製造方法は、キャリアフィルム２０を剥がし取る工程をさらに含んでもよい（図２Ｆ参照）。
　（１）圧電フィルムを準備する工程
　フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムは、市販品であってもよいし、製造してもよい（図２Ａ参照）。
　フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムを製造する場合、当該圧電フィルムは、フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムを分極処理する工程を経て得ることができる。フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムは、延伸フィルムであってもよいし、未延伸フィルムであってもよい。本実施形態では、高い圧電効果を発現させる観点から、フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムを延伸した後、分極処理することが好ましい。
　フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムは、溶融押出法や熱プレス法、溶液キャスティング法等の任意の方法で製造することができる。中でも、所定以上の厚みの圧電フィルムを得やすい観点等から、フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムは、溶融押出法で製造されることが好ましい。溶融押出法では、フッ素系樹脂及び任意の添加剤を、押出機のシリンダー内で加熱溶融させた後、ダイから押し出して、フィルムを得ることができる。
　得られたフィルムは、α型結晶（主鎖は螺旋型構造）とβ型結晶（主鎖は平面ジグザグ構造）等が混在した構造を有している。β型結晶は大きな分極構造をしている。フィルムを延伸することにより、α型結晶をβ型結晶とすることができ、延伸工程はフッ素系樹脂をβ型結晶とするために必要に応じて延伸されることが好ましい。延伸方向は、ＴＤ方向であってもよいし、ＭＤ方向であってもよく、ＭＤ方向であることがより好ましい。
　延伸方法は、特に限定されず、テンター法、ドラム法等の公知の延伸方法で行うことができる。
　延伸倍率は、例えば３．０倍以上６．０倍以下である。延伸倍率が３．０倍以上では、フィルムの厚みや分極性をより適度な範囲に調整しやすい。延伸倍率が３．０倍以上であると、β型結晶の転位反応がより十分に進行し、より高い圧電性が発現しやすいだけでなく、透明性もより高めうる。延伸倍率が６．０倍以下であると、延伸による破断を一層抑制することができる。
　得られた延伸フィルムを分極処理する。分極処理は、例えばグランド電極と針状電極の間に直流電圧を印加することによって行うことができる。電圧は、延伸フィルムの厚みに応じて調整すればよいが、例えば１ｋＶ以上５０ｋＶ以下とすることができる。
　このように、本実施形態においては、延伸フィルムを分極処理することによって圧電フィルムを得ることができる。
　（２）キャリアフィルムを貼り合わせる工程
　次いで、圧電フィルムの一方の面に、キャリアフィルムを貼り合せる（図２Ｂ参照）。
　キャリアフィルムの貼り合わせは、圧電フィルムの一方の面に、粘着層を介してキャリアフィルムを貼り合わせることによって行うことができる。例えば、剥離フィルム／粘着層／キャリアフィルムの積層フィルムから剥離フィルムを剥がし、露出した粘着層を、圧電フィルムの一方の面に押し当てて、キャリアフィルムを貼り合わせることができる。
　キャリアフィルムは、圧電フィルムの表面の平坦性を高める観点から、ヤング率が高いフィルムであることが好ましい。具体的には、キャリアフィルムの２５℃におけるヤング率が１．０ＧＰａ以上であることが好ましく、１．５ＧＰａ以上６．０ＧＰａ以下であることがより好ましく、２．０ＧＰａ以上５．０ＧＰａ以下であることが更に好ましく、２．５ＧＰａ以上４．５ＧＰａ以下であることが最も好ましい。ヤング率が上記範囲を満たすキャリアフィルムを貼り合わせることで、圧電フィルムの表面を好適に平坦化することができる。それにより、圧電フィルムの他方の面上に、ウェットコート法にてコーティング層Ａを形成することで、厚みの変動が小さいコーティング層Ａを形成することができる。
　キャリアフィルムのヤング率は、以下の手順で測定することができる。
　キャリアフィルムを全長１００ｍｍ、幅１０ｍｍの矩形にカットして、試験片とする。この試験片を、チャック間距離５０ｍｍで引張試験機にセットし、２５℃の測定雰囲気下で、５０ｍｍ／分の引張速度で引張試験を行う。得られた応力－ひずみ曲線から、ＪＩＳ　Ｋ　７１６１－１に準拠して、微小変形領域（歪５％以内）の２点を選定し、線形近似式より求められる傾きからヤング率を求める。
　キャリアフィルムの種類は、ヤング率が上記範囲を満たすものであれば特に制限されず、通常、樹脂フィルムである。キャリアフィルムを構成する樹脂の例には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等の含ハロゲン系重合体；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン－メタクリル酸メチル共重合体等のスチレン系重合体を挙げることができる。中でも、ＰＥＴ及びＰＰが好ましく、ヤング率がより高い観点から、ＰＥＴがより好ましい。また、これらのフィルムは、未延伸フィルムであってもよいし、二軸延伸フィルムであってもよい。
　キャリアフィルムの厚みは、圧電フィルムの表面を平坦にすることができる程度であればよく、例えば３５μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以上１７５μｍ以下であることがより好ましく、７０μｍ以上１５０μｍ以下であることが更に好ましい。
　（粘着層）
　キャリアフィルム上には粘着層が配置されていてもよい。粘着層は、キャリアフィルムを圧電フィルムに貼り付けるための粘着力を有す一方、必要に応じて剥がせることが望まれる。そのため、粘着剤は、保護フィルムを圧電フィルムに貼り付けられるだけでなく、圧電フィルムへ糊が残ることなく保護フィルムを剥離できる材料であることが好ましい。
　このような観点から、粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、及びフッ素系粘着剤等が挙げられる。中でも、粘着性や剥離性の観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。
　粘着層の厚みは、例えば３μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
　（剥離フィルム）
　剥離フィルムの材料は、特に限られないが、例えばＰＥＴでありうる。
　（３）１以上のコーティング層を形成する工程
　一方の面にキャリアフィルムが貼り合わされた圧電フィルムの他方の面上に、コーティング液を塗布して、１以上のコーティング層を形成する（図２Ｃ、２Ｄ参照）。本実施形態では、圧電フィルムの他方の面上に、上記硬化性組成物を含むコーティング液を塗布した後、乾燥及び硬化させて、コーティング層Ａを形成する。
　上記コーティング液は、必要に応じて希釈溶剤をさらに含有していてもよい。希釈溶剤としては、粒子と極性が近いものが好ましい。希釈溶剤の例には、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、カーボネート系溶剤、芳香族系溶剤等の有機溶剤が含まれる。
　上記コーティング液の塗布は、公知のウェットプロセス法で行うことができる。ウェットプロセス法としては、例えばディップコート、スプレーコート、スピンコート、グラビアコート、ダイコート、ロールコート、フローコート、カーテンコート等が代表的な方法として挙げられる。中でも、ロールコート法、グラビアコート法等、連続的に層を形成できる方法が生産性の点より好ましい。
　上記コーティング液の乾燥は、上記塗布液を加熱して行うことができる。加熱温度は、溶剤を揮発除去できる範囲で、圧電フィルムを構成するフッ素系樹脂の熱変形温度以下の温度であればよく、例えば４０℃以上１００℃以下とすることができる。熱変形温度は、例えばＪＩＳ　Ｋ　７１９１－２：２０１５に準拠して測定することができる。
　上記硬化は、熱による硬化であってもよいし、電離放射線による硬化であってもよい。電離放射線による硬化は、紫外線又は電子線を照射して行うことができる。また、熱による硬化と、電離放射線による硬化とを併用してもよい。
　これと同様に、得られたコーティング層Ａ上に、コーティング層Ｂを得るための上記硬化性組成物を含む塗布液を塗布した後、乾燥及び硬化させて、コーティング層Ｂを形成する。
　（４）透明導電層を形成する工程
　得られたコーティング層Ｂ上に、透明導電層を形成する（図２Ｅ参照）。透明導電層は、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の公知のドライプロセス法によって形成することができる。
　スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、透明導電層に含まれる上述の無機物、好ましくはＩＴＯを用いることができる。
　スパッタガスとしては、例えばＡｒ等の不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガス等の反応性ガスを併用することができる。
　（５）他の工程
　本実施形態に係る積層圧電体の製造方法は、必要に応じて上記以外の他の工程をさらに含んでもよい。例えば、上記（４）の工程の後に、キャリアフィルムを粘着層ごと剥離する工程をさらに行ってもよい（図２Ｆ参照）。
　３．変形例
　なお、上記実施形態では、図１に示される層構成を有する積層圧電体とその製造方法について説明したが、これに限定されない。
　図３Ａ～Ｄは、変形例に係る積層圧電体１０を示す模式的な断面図である。
　例えば、積層圧電体１０は、コーティング層Ｂ１３を含まなくてもよい（図３Ａ参照）。また、積層圧電体１０は、圧電フィルム１１の他方の面にコーティング層Ｄ１５をさらに含んでもよい（図３Ｂ参照）。また、積層圧電体１０は、コーティング層Ｂ１３と透明導電層１４との間に、コーティング層Ｃ１６をさらに含んでもよい（図３Ｃ参照）。
　また、積層圧電体１０は、コーティング層Ａ１２を含まなくてもよい（図３Ｄ参照）。即ち、コーティング層Ｂ１３が、圧電フィルム１１と隣接していてもよい。その場合、コーティング層Ｂ１３の厚みは、特に限定されないが、コーティング層Ａ１２と同様の範囲であってもよい。
　以下、実施例及び比較例を参照してさらに本発明を説明する。本発明の技術的範囲は、これらによって限定されるものではない。
　１．物性の評価
　［屈折率］
　圧電フィルムの屈折率は、測定温度を２５．０±１．０℃とした以外はＪＩＳ　Ｋ７１４２：２０１４（ＩＳＯ４８９：１９９９）に準拠して測定した。具体的には、圧電フィルムに対して、アッベ屈折率計を用い、ナトリウムのＤ線（波長５８９ｎｍ）を圧電フィルムに入射させて屈折率を３回測定し、各測定値の平均を屈折率とした。
　圧電フィルム以外の各層の屈折率は、多入射角高速分光エリプソメータ（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製：Ｍ－２０００）によって、プサイ（Ψ）及びデルタ（Δ）を測定し、そこから波長５８９ｎｍにおける屈折率を算出して求めた。
　［厚み］
　各層の厚みは、分光干渉式膜厚計（浜松ホトニクス社製「Ｏｐｔｉｃａｌ　ＮａｎｏＧａｕｇｅ　Ｃ１３０２７－１１」）を用いて測定した。具体的には、積層圧電体の面内の中心を含む範囲における各層の厚みをＴＤ方向に５ｍｍ間隔で５０点測定し、その相加平均値を各層の厚みとした。なお、各層の屈折率は、表１に記載の値を設定した。
　［厚みの変動係数］
　コーティング層の厚みの変動係数ＣＶは、厚みの標準偏差ＳＤを算術平均ＡＶで割った値として求めた。具体的には、コーティング層の厚みを５０点測定し、下記式（１）から厚みの算術平均値Ｘａｖｅ、式（２）から厚みの標準偏差ＳＤを算出し、これらを式（３）に当てはめて、厚みの変動係数ＣＶを求めた。ここで、ｎは測定点数、ｘｉはｉ番目の厚みである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
　［ヤング率］
　キャリアフィルムのヤング率は、以下の手順で測定した。
　キャリアフィルムを全長１００ｍｍ、幅１０ｍｍの矩形にカットして、試験片とした。この試験片を、チャック間距離５０ｍｍで引張試験機にセットし、２５℃の測定雰囲気下で、５０ｍｍ／分の引張速度で引張試験を行った。得られた応力－ひずみ曲線から、ＪＩＳ　Ｋ　７１６１－１に準拠して、微小変形領域（歪５％以内）の２点を選定し、線形近似式より求められる傾きからヤング率を求めた。
　２．積層圧電体の作製と評価
　［実施例１］
　（１）圧電フィルムの作製
　ポリフッ化ビニリデン（株式会社クレハ製、フッ化ビニリデン単独重合体）を成形した樹脂フィルム（厚み１２０μｍ）を、ＭＤ方向に延伸倍率が４．２倍になるように延伸した。延伸後のフィルムに、グランド電極と針状電極の間に直流電圧を０ｋＶから１３．０ｋＶへと増加させながら印加して、分極処理を行った。分極処理後のフィルムをさらに１３０℃で１分間熱処理して、屈折率１．４２、厚み４０μｍの圧電フィルムを得た。
　（２）コーティング層Ａの形成
　次に、得られた圧電フィルムのＹ面に、厚み１２５μｍのキャリアフィルム（ポリエチレンテレフタレート、２５℃でのヤング率４．０ＧＰａ）を、常温（２５℃）でラミネーターを用いて貼り合わせた後、ロール状に巻き取った。ラミネーターは、ライン速度５ｍ／ｍｉｎ、ラミネートロール接圧を約０．３Ｎに設定した。
　得られた積層物の圧電フィルムのＸ面上に、アクリル系化合物と、非晶質シリカとを含有する紫外線硬化性組成物を塗布し、８０℃で乾燥後、紫外線を照射して、コーティング層Ａ（厚み７２８ｎｍ、屈折率１．５０）を形成した。
　（３）透明導電層の形成
　次に、得られたコーティング層Ａ上に、反応性スパッタリング法により酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜を成膜し、屈折率１．９２、厚み２３ｎｍの透明導電層を形成した。ターゲットとしては、９７質量％の酸化インジウム及び３質量％の酸化スズを含有する焼結体材料を用いた。これにより、積層圧電体を得た。
　［実施例２］
　（１）圧電フィルムの作製
　実施例１と同様の方法で、圧電フィルム（厚み４０μｍ、屈折率１．４２）を作製した。
　（２）コーティング層Ｄの形成
　次に、得られた圧電フィルムのＸ面に、厚み１２５μｍのキャリアフィルム（ポリエチレンテレフタレート）を、実施例１と同様にして貼り合わせた。得られた積層物の圧電フィルムのＹ面上に、実施例１のコーティング層Ａと同様の方法でコーティング層Ｄ（厚み７００ｎｍ、屈折率１．５０）を形成した。
　（３）コーティング層Ａの形成
　次に、得られたコーティング層Ｄの上に、厚み１２５μｍのキャリアフィルム（ポリエチレンテレフタレート）を貼り合わせた。その後、積層物のＸ面からキャリアフィルムを剥離し、露出した圧電フィルムのＸ面上に、実施例１と同様の方法でコーティング層Ａ（厚み７２８ｎｍ、屈折率１．５０）を形成した。
　（４）コーティング層Ｂの形成
　次に、得られたコーティング層Ａ上に、酸化ジルコニウム粒子を含有する紫外線硬化性組成物を塗布し、８０℃で乾燥後、紫外線を照射して、コーティング層Ｂ（厚み１０２ｎｍ、屈折率１．７０）を形成した。
　（５）透明導電層の形成
　その後、コーティング層Ｂ上に、実施例１と同様にして透明導電層（厚み３０ｎｍ、屈折率１．９２）を形成し、積層圧電体を得た。
　［実施例３］
　（１）圧電フィルムの作製、コーティング層Ａの形成
　実施例１と同様の方法で、圧電フィルム（屈折率１．４２、厚みが４０μｍ）のＸ面上に、実施例１と同様の方法でコーティング層Ａ（厚み１０２３ｎｍ、屈折率１．５０）を形成した。
　（２）コーティング層Ｂの形成
　次に、コーティング層Ａ上に、実施例２と同様の方法でコーティング層Ｂ（厚み１０２ｎｍ、屈折率１．６５）を形成した。
　（３）コーティング層Ｃの形成
　次に、コーティング層Ｂの上面にＳｉをターゲット材として用いたスパッタリング法により、ＳｉＯ２膜であるコーティング層Ｃ（厚み２５ｎｍ、屈折率１．４６）を形成した。
　（４）透明導電層の形成
　その後、コーティング層Ｃの上面に実施例１と同様にして透明導電層（膜厚３０ｎｍ、屈折率１．９２）を形成し、積層圧電体を得た。
　［実施例４］
　直流電圧を１４．０ｋＶまで増加させながら印加した以外は実施例１と同様の方法で圧電フィルムを作製した。
　そして、コーティング層Ａを形成せずに、圧電フィルムのＸ面上にコーティング層Ｂ、コーティング層Ｃ及び透明導電層を順次形成した以外は実施例３と同様にして積層圧電体を得た。
　［比較例１］
　キャリアフィルムを貼り合わせることなく、圧電フィルムのＸ面上にコーティング層Ａ（厚み１００７ｎｍ、屈折率１．５０）を形成した以外は実施例１と同様にして積層圧電体を得た。
　［比較例２］
　コーティング層Ａと透明導電層との間に、実施例２と同様の方法でコーティング層Ｂ（厚み８７ｎｍ、屈折率１．７０）を形成した以外は比較例１と同様にして積層圧電体を得た。
　［評価］
　得られた積層圧電体の表面抵抗率、圧電定数ｄ３３、全光線透過率、ヘイズ及びｂ＊値を、以下の方法で評価した。
　（１）干渉縞
　暗室中において、三波長蛍光灯（ツインバード工業（株）製「ＬＫ－Ｈ７６６」）下において、積層圧電体を観察した時の干渉縞の有無を目視観察した。そして、干渉縞が明確に視認されたものを×、注意深く見るとわずかにムラが視認されるが気にならないレベルであり、干渉縞が明確には確認されないものを○、注意深く見てもムラがあることがわからないレベルであり、干渉縞が全く確認されないものを◎とした。
　（２）表面抵抗率
　積層圧電体の透明導電層の表面抵抗率を、抵抗率計（「ＬｏｒｅｓｔａＧＰ　ＭＣＰ－Ｔ６１０」、日東精工アナリテック社製）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７１９４に準拠して行った。抵抗率の測定は３回行い、３回の平均値を代表値とした。
　（３）圧電定数ｄ３３
　直接準静的法（ｄ３３メータ法，ベルリンコート法）による圧電セラミックの圧電定数ｄ３３の試験方法ＩＳＯ　１９６２２：２０１８に準拠し、圧電定数ｄ３３を測定した。具体的には、圧電定数ｄ３３を、圧電定数測定装置（「ピエゾメーターシステムＰＭ３００」、ＰＩＥＺＯＴＥＳＴ社製）を用いて、１．０Ｎでサンプルをクリップし、０．１５Ｎ、１１０Ｈｚの力を加えた際の発生電荷を読み取った。圧電定数ｄ３３の実測値は、測定されるフィルムの表裏によって、プラスの値、又はマイナスの値となるが、本明細書中においては絶対値を記載した。
　（４）全光線透過率
　積層圧電体の全光線透過率を、ヘイズメータ（「ＮＤＨ７０００ＳＰ　ＩＩ」、日本電色工業株式会社製）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７３６１－１に記載の方法に基づいて測定した。
　（５）ヘイズ値
　積層圧電体のヘイズ値を、ヘイズメータ（「ＮＤＨ７０００ＳＰ　ＩＩ」、日本電色工業株式会社製）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７１３６に記載の方法に基づいて測定した。
　（６）ｂ＊値
　積層圧電体のｂ＊値を、分光色彩計（「ＳＤ７０００」、日本電色工業株式会社製）を用いて、ＪＩＳ　Ｚ８７２２に準拠する方法により測定した。
　実施例１～４及び比較例１～２の積層圧電体の層構成及び物性を表１に示し、積層圧電体の評価結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　表２に示すように、コーティング層ＡやＢの厚みの変動係数が０．０５０を超える比較例１及び２の積層圧電体は、いずれも干渉縞が生じることが示される。
　これに対し、コーティング層ＡやＢの厚みの変動係数が０．０５０以下である実施例１～４の積層圧電体は、いずれも干渉縞が抑制することがわかる。また、透明性も高く、色味も抑制されていることがわかる。
　これらのことから、コーティング層ＡやＢの厚みの変動係数を０．０５０以下とすることで、高い透明性と、色味を抑制しつつ、干渉縞も抑制できることがわかる。
　本出願は、２０２３年４月１９日出願の特願２０２３－６８４８３に基づく優先権を主張する。当該出願明細書及び図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
　本発明の積層圧電体によれば、透明性が高く、且つ三波長光源下で見た時の干渉縞を抑制できる積層圧電体及びその製造方法を提供することができる。そのため、当該積層圧電体は、タッチパネルの圧電センサとして好適に用いることができる。
　１０　積層圧電体
　１１　圧電フィルム、
　１２　コーティング層Ａ
　１３　コーティング層Ｂ
　１４　透明導電層
　１５　コーティング層Ｄ
　１６　コーティング層Ｃ
　２０　キャリアフィルム
 

 
 

Claims (10)

  1. 　全光線透過率が８０％以上の積層圧電体であって、
    　フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムと、
    　表面抵抗率が１．０×１０４Ω／ｓｑ．以下である透明導電層と、
    　前記圧電フィルムと前記透明導電層との間に配置された、１層以上の厚みが０．０５μｍ以上のコーティング層と、を有し、
    　前記１層以上のコーティング層のそれぞれは、前記圧電フィルムの屈折率よりも高く、且つ前記透明導電層の屈折率よりも低い屈折率を有し、
    　前記１層以上のコーティング層のうち少なくとも１つの厚みの変動係数が０．０５以下である、
    　積層圧電体。
  2. 　前記圧電フィルムの屈折率が１．３０以上１．５０以下であり、
    　前記透明導電層の屈折率が１．８０以上２．２０以下である、
    　請求項１に記載の積層圧電体。
  3. 　前記１層以上のコーティング層は、屈折率が１．４０以上１．６０未満であるコーティング層Ａを含み、
    　前記コーティング層Ａの厚みの変動係数が０．０５以下である、
    　請求項１に記載の積層圧電体。
  4. 　前記１層以上のコーティング層は、前記コーティング層Ａと前記透明導電層との間に配置されたコーティング層Ｂをさらに含み、
    　前記コーティング層Ｂの屈折率が１．６０以上１．８０未満であり、
    　前記コーティング層Ｂの厚みの変動係数が０．０５以下である、
    　請求項３に記載の積層圧電体。
  5. 　前記圧電フィルムの、前記１層以上のコーティング層が配置された面とは反対側の面上に配置されたコーティング層Ｄをさらに含み、
    　前記コーティング層Ｄの屈折率は、１．４０以上１．６０未満である、
    　請求項１に記載の積層圧電体。
  6. 　前記圧電フィルムの、前記１層以上のコーティング層が配置された面とは反対側の面上に配置されたキャリアフィルムをさらに含む、
    　請求項１に記載の積層圧電体。
  7. 　前記フッ素系樹脂は、フッ化ビニリデンに由来する構成単位を主成分として含む重合体である、
    　請求項１に記載の積層圧電体。
  8. 　請求項１に記載の積層圧電体の製造方法であって、
    　フッ素系樹脂を主成分として含む圧電フィルムを準備する工程と、
    　前記圧電フィルムの一方の面に、キャリアフィルムを貼り合せる工程と、
    　前記キャリアフィルムが貼り合わされた前記圧電フィルムの他方の面上に、コーティング液を塗布した後、乾燥させて、１層以上のコーティング層を形成する工程と、
    　前記１層以上のコーティング層上に、金属酸化物を含有する透明導電層を形成する工程とを含む、
    　積層圧電体の製造方法。
  9. 　前記キャリアフィルムの２５℃におけるヤング率が１．０ＧＰａ以上である、
    　請求項８に記載の積層圧電体の製造方法。
  10. 　前記圧電フィルムを準備する工程は、
    　フッ素系樹脂を主成分として含むフィルムを延伸した後、分極処理する工程を含む、
    　請求項８に記載の積層圧電体の製造方法。
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