WO2018168682A1

WO2018168682A1 - 位置入力機能付き表示装置

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Publication number: WO2018168682A1
Application number: PCT/JP2018/009182
Authority: WO
Inventors: 冨永　真克; 吉田　昌弘
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2017-03-17
Filing date: 2018-03-09
Publication date: 2018-09-20
Also published as: US11042255B2; US12008203B2; US20220350442A1; US11740745B2; US20210124461A1; US11402956B2; US20210294458A1; US20240281098A1; US20210294459A1; US11397496B2; US20230341978A1

Abstract

液晶表示装置１０は、間隔を空けて並ぶ複数の画素電極１１ｇと、位置入力を行う位置入力体である指との間で静電容量を形成し、位置入力体である指による入力位置を検出するタッチ電極１４と、隣り合う画素電極１１ｇの間に挟み込まれる形で配されてタッチ電極１４に接続されるタッチ配線１５と、タッチ配線１５に並行する形で延在して画素電極１１ｇに供給される画像信号を伝送するソース配線１１ｊであって、タッチ配線１５を挟み込む２つの画素電極１１ｇをタッチ配線１５との間でそれぞれ挟み込む形で配される少なくとも２つのソース配線１１ｊと、を備える。

Description

位置入力機能付き表示装置

　本発明は、位置入力機能付き表示装置に関する。

　従来、タッチスクリーンパネルがインセル型でディスプレイパネルに内蔵されたタッチスクリーンパネル一体型表示装置の一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載されたタッチスクリーンパネル一体型表示装置は、複数のデータラインが第１方向に沿って形成され、複数のゲートラインが第２方向に沿って形成され、複数の電極群にグループ化される複数の電極が形成されたパネルと、駆動モードがタッチ駆動モードである場合に、複数の電極の全体又は一部にタッチ駆動信号を印加するタッチ集積回路と、駆動モードがディスプレイ駆動モードである場合に、複数のデータラインにデータ電圧を供給するデータ駆動部と、駆動モードがディスプレイ駆動モードである場合に、複数のゲートラインにスキャン信号を順次に供給するゲート駆動部と、を有し、駆動モードがタッチ駆動モードである場合に、タッチ駆動信号又はタッチ駆動信号に対応する信号を複数のゲートラインの全体又は一部に印加する。

特開２０１５－１２２０５７号公報

（発明が解決しようとする課題）
　上記した特許文献１に記載されたタッチスクリーンパネル一体型表示装置では、画像表示に係るデータ電圧が供給されるデータラインと、タッチ検出に係るタッチ駆動信号が供給される信号ラインと、が第１保護層を介して重畳する形で配されている。このため、データラインと信号ラインとの間に寄生容量が生じ易くなっており、タッチ検出に係る感度が悪化したり、例えば中間階調を表示する際などの表示品位が悪化したりするおそれがあった。

　本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、位置検出に係る感度及び表示品位を改善することを目的とする。

（課題を解決するための手段）
　本発明の位置入力機能付き表示装置は、間隔を空けて並ぶ複数の画素電極と、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、前記位置入力体による入力位置を検出する位置検出電極と、隣り合う前記画素電極の間に挟み込まれる形で配されて前記位置検出電極に接続される位置検出配線と、前記位置検出配線に並行する形で延在して前記画素電極に供給される画像信号を伝送する信号配線であって、前記位置検出配線を挟み込む２つの前記画素電極を前記位置検出配線との間でそれぞれ挟み込む形で配される少なくとも２つの信号配線と、を備える。

　このようにすれば、画素電極には、信号配線によって供給される画像信号に基づいた電位が充電され、それにより表示がなされる。一方、位置検出電極は、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、位置検出配線によって供給される信号を利用して位置入力体による入力位置を検出することができる。

　信号配線は、位置検出配線を挟み込む２つの画素電極を位置検出配線との間でそれぞれ挟み込む形で少なくとも２つが配されているので、位置検出配線とは非重畳の配置となっている。従って、位置検出配線と信号配線との間に寄生容量が生じる事態を好適に避けることができ、もって位置検出に係る感度及び表示品位が良好なものとなる。しかも、位置検出配線を挟み込む２つの画素電極の間には、信号配線が挟み込まれることがない構成となっているので、仮に各画素電極に対して個別に信号配線が隣り合う配置とした場合に比べると、信号配線の数及び配置スペースが削減される。これにより、高精細化、狭額縁化及び高開口率化などが図られる。

　本発明の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記位置検出配線及び前記信号配線の少なくとも一部ずつを構成する導電膜を備える。このようにすれば、共通の導電膜をパターニングすることで、位置検出配線及び信号配線の少なくとも一部ずつを設けることができる。仮に位置検出配線と信号配線とが異なる導電膜をパターニングしてそれぞれ設けられる場合に比べると、パターニングに要するフォトマスクなどを削減することができるので、製造コストを低下させることができる。

（２）前記画素電極を構成する透明電極膜を備えており、前記導電膜には、少なくとも前記透明電極膜が含まれる。このようにすれば、導電膜に含まれる共通の透明電極膜をパターニングすることで、位置検出配線及び信号配線に加えて画素電極を設けることができる。これにより、パターニングに要するフォトマスクなどをさらに削減することができるので、製造コストをさらに低下させることができる。

（３）前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの一方側を構成する第１透明電極膜と、前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの他方側を構成して前記第１透明電極膜との間に透明電極膜間絶縁膜が介在する第２透明電極膜と、前記第１透明電極膜に対して前記第２透明電極膜側とは反対側に配されて前記第１透明電極膜との間に層間絶縁膜が介在する金属膜と、を備えており、前記導電膜には、少なくとも前記金属膜が含まれる。このようにすれば、仮に導電膜が第１透明電極膜を含む構成とした場合に比べると、層間絶縁膜の分だけ位置検出配線及び信号配線と位置検出電極との間の距離が大きなものとなる。これにより、位置検出配線及び信号配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

（４）前記画素電極に対して前記透明電極膜間絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成する共通電極を備えており、前記透明電極膜間絶縁膜は、前記層間絶縁膜よりも膜厚が小さい。このようにすれば、画素電極と共通電極との間の間隔が小さくなるから、両電極の間に生じる電界（特に横電界モードの液晶表示装置における基板に対して水平な方向の電界）がより強いものとなるので、表示品位がより良好なものとなる。一方、層間絶縁膜は、透明電極膜間絶縁膜よりも膜厚が大きくされることで、位置検出配線及び信号配線と位置検出電極との間の間隔がより大きくなるので、それにより位置検出配線及び信号配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量がさらに軽減される。もって、位置検出に係る感度及び表示品位がさらに良好なものとなる。

（５）前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの一方側を構成する第１透明電極膜と、前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの他方側を構成して前記第１透明電極膜との間に透明電極膜間絶縁膜が介在する第２透明電極膜と、前記第１透明電極膜に対して前記第２透明電極膜側とは反対側に配されて前記第１透明電極膜との間に層間絶縁膜が介在する金属膜と、を備えており、前記第１透明電極膜は、前記位置検出配線の少なくとも一部を構成するのに対し、前記金属膜は、前記信号配線の少なくとも一部を構成する。このようにすれば、仮に第１透明電極膜が位置検出配線に加えて信号配線の少なくとも一部を構成する場合に比べると、層間絶縁膜の分だけ信号配線と位置検出電極との間の間隔が大きくなる。これにより、信号配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

（６）前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの一方側を構成する第１透明電極膜と、前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの他方側を構成して前記第１透明電極膜との間に透明電極膜間絶縁膜が介在する第２透明電極膜と、前記第１透明電極膜に対して前記第２透明電極膜側とは反対側に配されて前記第１透明電極膜との間に層間絶縁膜が介在する金属膜と、を備えており、前記金属膜は、前記信号配線の少なくとも一部と、前記位置検出配線の一部である第１位置検出配線と、を構成するのに対し、前記第１透明電極膜は、前記位置検出配線の一部であって前記第１位置検出配線と重畳する形で配され且つ前記層間絶縁膜に開口形成されたコンタクトホールを通して前記第１位置検出配線に接続される第２位置検出配線を構成する。このようにすれば、第１位置検出配線と第２位置検出配線とのうちのいずれか一方側に断線などが生じた場合でも、他方側に断線などが生じていなければ、位置検出配線の電気的な機能を発揮させることができ、冗長性の担保を図る上で好適となる。しかも、金属膜からなる第１位置検出配線と第１透明電極膜からなる第２位置検出配線とが互いに重畳するとともに層間絶縁膜に開口形成されたコンタクトホールを通して接続されているので、位置検出配線の配線抵抗を低下させることができ、もって位置検出に係る感度を向上させることができる。また、第２金属膜が信号配線の少なくとも一部を構成しているので、仮に第１透明電極膜が信号配線の少なくとも一部を構成する場合に比べると、層間絶縁膜の分だけ信号配線と位置検出電極との間の距離が大きなものとなる。これにより、信号配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

（７）前記信号配線及び前記位置検出配線と交差する形で延在して走査信号が伝送される走査配線と、前記画素電極、前記信号配線及び前記走査配線に接続されて前記走査信号に基づいて駆動されて前記画像信号に基づく電位を前記画素電極に充電可能なスイッチング素子と、を備えており、前記走査配線は、隣り合う前記画素電極の間に挟み込まれていて一対が間隔を空けて互いに並行する形で配されるのに対し、前記スイッチング素子は、一対の前記走査配線と、前記信号配線と、その信号配線を挟み込む形で配される少なくとも２つの前記画素電極と、にそれぞれ接続される形で少なくとも２つが配される。このようにすれば、一対の走査配線に対する走査信号の入力タイミングを異ならせるとともに、その入力タイミングに同期する形で信号配線に対して画像信号を入力すると、少なくとも２つのスイッチング素子は、異なるタイミングで駆動されるとともに、異なるタイミングで信号配線に入力された画像信号に基づく電位を、信号配線を挟み込む少なくとも２つの画素電極にそれぞれ充電することが可能となる。

（８）前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成していて隣り合う前記位置検出電極の間を仕切る仕切開口部を有する共通電極を備えており、前記共通電極は、前記仕切開口部の少なくとも一部が、一対の前記走査配線の間に位置する形で配されている。このようにすれば、一対の走査配線の間に空けられた間隔を有効に利用して仕切開口部を配しているので、仮に仕切開口部が画素電極と重畳する配置とされる場合に比べると、開口率を高く保つことができる。また、仮に仕切開口部がいずれか一方の走査配線と重畳し、他方の走査配線とは非重畳となる配置とされる場合に比べると、一対の走査配線と共通電極との間に生じる寄生容量を均等化する上で好適となる。さらに、走査配線と共通電極との間に生じる電界を、共通電極自体でシールドすることができるため、画素電極と共通電極との間に生じる電界によって液晶分子の配向を制御する場合には、液晶分子の配向乱れが生じ難くなる。

（９）前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成する共通電極を備えており、前記位置検出配線は、前記絶縁膜のうち一対の前記走査配線の間に位置して開口形成されたコンタクトホールを通して前記位置検出電極に接続される。共通電極を分割してなる複数の位置検出電極のうちのいずれかと位置検出配線とを接続するコンタクトホールは、共通電極と画素電極との間に介在する絶縁膜に開口形成されているため、画素電極と共通電極との間に生じる電界によって液晶分子の配向を制御する場合には、コンタクトホール付近には液晶分子の配向乱れが生じ易くなり、それに起因して表示不良が生じるおそれがある。その点、上記のようにコンタクトホールが一対の走査配線の間に配されていて、表示に寄与する画素電極からは離間した配置となっているので、コンタクトホールに起因する表示不良が生じ難くなっており、もって開口率を高く保つことができる。

（１０）前記位置検出電極は、前記信号配線の少なくとも一部と重畳する形で配される信号配線重畳開口部を有する。このようにすれば、位置検出電極は、信号配線の少なくとも一部と重畳する形で配される信号配線重畳開口部を有しているので、信号配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

（１１）前記位置検出電極は、前記位置検出配線の少なくとも一部と重畳する形で配される位置検出配線重畳開口部を有する。このようにすれば、位置検出電極は、位置検出配線の少なくとも一部と重畳する形で配される位置検出配線重畳開口部を有しているので、位置検出配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度が良好なものとなる。

（１２）前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成していて隣り合う前記位置検出電極の間を仕切る仕切開口部を有する共通電極を備えており、前記共通電極は、前記仕切開口部が前記信号配線及び前記位置検出配線の少なくともいずれか一方における少なくとも一部と重畳する形で配される。このようにすれば、隣り合う位置検出電極の間を仕切る仕切開口部は、信号配線及び位置検出配線の少なくともいずれか一方における少なくとも一部と重畳する形で配されることで、信号配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量や位置検出配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量を軽減することが可能となる。このように既存構造である仕切開口部を利用して寄生容量の軽減を図ることができる。仮に仕切開口部が信号配線や位置検出配線とは非重畳となって画素電極と重畳する配置とされる場合に比べると、開口率を高く保つことができる。

（１３）前記共通電極は、前記仕切開口部が前記位置検出配線における少なくとも一部と選択的に重畳する形で配される。仮に仕切開口部を信号配線における少なくとも一部と重畳する形で配する場合、仕切開口部は少なくとも２つの信号配線の全てと重畳配置されることはないため、少なくとも２つの信号配線には仕切開口部とは非重畳となるものが生じ、結果として各信号配線の負荷が不均一になるおそれがある。その点、上記のように仕切開口部が位置検出配線における少なくとも一部と選択的に重畳する形で配されているので、少なくとも２つの信号配線の負荷を均一に保つことができ、それにより輝度ムラなどの表示不良を抑制することができるとともに、位置検出配線と位置検出電極との間に生じ得る寄生容量を軽減することが可能となる。

（１４）前記画素電極、前記位置検出電極、前記位置検出配線及び前記信号配線が少なくとも配されて画像が表示される表示領域と、前記表示領域を取り囲む非表示領域と、前記非表示領域に実装される駆動回路部と、前記非表示領域に配されて一端側が前記信号配線に、他端側が前記駆動回路部にそれぞれ接続される信号引き出し配線と、前記非表示領域に配されて一端側が前記位置検出配線に、他端側が前記駆動回路部にそれぞれ接続される位置検出引き出し配線と、を備えており、前記信号引き出し配線及び前記位置検出引き出し配線は、互いに並行する形で延在する。このようにすれば、駆動回路部から出力された各信号は、信号引き出し配線を介して信号配線へ、位置検出引き出し配線を介して位置検出配線へ、とそれぞれ伝送される。信号引き出し配線及び位置検出引き出し配線が互いに並行する形で延在していて途中で交差することが避けられているので、信号引き出し配線と位置検出引き出し配線との間に寄生容量が生じ難くなっている。従って、位置検出に係る感度及び表示品位が良好なものとなる。

（発明の効果）
　本発明によれば、位置検出に係る感度及び表示品位を改善することができる。

本発明の実施形態１に係る液晶表示装置に備わる液晶パネルのタッチ電極、タッチ配線及びソース配線などの平面配置を示す平面図液晶パネルを構成するアレイ基板の画素配列を示す平面図図２のＡ－Ａ線断面図図２のＢ－Ｂ線断面図図２のＣ－Ｃ線断面図図２のＤ－Ｄ線断面図本発明の実施形態２に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の画素配列を示す平面図図７のＡ－Ａ線断面図図７のＢ－Ｂ線断面図図７のＣ－Ｃ線断面図本発明の実施形態３に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図タッチ電極とタッチ配線との接続箇所の断面図本発明の実施形態４に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図タッチ電極とタッチ配線との接続箇所の断面図本発明の実施形態５に係る液晶表示装置に備わる液晶パネルのタッチ電極、タッチ配線及びソース配線などの平面配置を示す平面図本発明の他の実施形態（１）に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図本発明の他の実施形態（２）に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図本発明の他の実施形態（３）に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図本発明の他の実施形態（４）に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図本発明の他の実施形態（５）に係る液晶パネルにおける画素部の中央付近を切断した断面図

　＜実施形態１＞
　本発明の実施形態１を図１から図６によって説明する。本実施形態では、タッチパネル機能（位置入力機能）を備えた液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図３から図６などの上側を表側とし、同図下側を裏側とする。

　液晶表示装置１０は、図１に示すように、画像を表示可能な液晶パネル（表示パネル）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用するための光を照射する外部光源であるバックライト装置（照明装置）と、を少なくとも備える。バックライト装置は、液晶パネル１１に対して裏側（背面側）に配置され、白色の光（白色光）を発する光源（例えばＬＥＤなど）や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材などを有する。なお、バックライト装置に関しては図示を省略している。

　液晶パネル１１は、図１に示すように、画面の中央側部分が、画像が表示される表示領域（図１において一点鎖線により囲った範囲）ＡＡとされるのに対し、画面における表示領域ＡＡを取り囲む額縁状の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域ＮＡＡとされている。液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡには、表示機能やタッチパネル機能に係る各種信号を供給するための部品としてドライバ（駆動回路部）１２及びフレキシブル基板（信号伝送部）１３が実装されている。ドライバ１２は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなり、液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されており、フレキシブル基板１３によって伝送される各種信号を処理するためのものである。フレキシブル基板１３は、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材上に多数本の配線パターン（図示せず）を形成した構成とされ、その一端側が液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに、他端側が図示しないコントロール基板（信号供給源）に、それぞれ接続されている。コントロール基板から供給される各種信号は、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１に伝送され、非表示領域ＮＡＡにおいてドライバ１２による処理を経て表示領域ＡＡへ向けて出力される。

　液晶パネル１１について詳しく説明する。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間の内部空間に配されて電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（媒質層）１１ｃと、を有しており、液晶層１１ｃが両基板１１ａ，１１ｂ間に介在する図示しないシール部によって取り囲まれて封止が図られている。一対の基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（アクティブマトリクス基板、素子基板）１１ｂとされる。ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂは、いずれもガラス製のガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなるものとされる。液晶層１１ｃに用いられる液晶材料としては、ネガ型液晶が用いられている。なお、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ図示しない偏光板が貼り付けられている。

　アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡにおける内面側（液晶層１１ｃ側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）には、図２に示すように、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ、スイッチング素子）１１ｆ及び画素電極１１ｇが多数個ずつＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って並んでマトリクス状（行列状）に設けられている。これらＴＦＴ１１ｆ及び画素電極１１ｇの周りには、互いに直交（交差）するゲート配線（走査配線）１１ｉ及びソース配線（信号配線、データ配線）１１ｊが配設されている。ゲート配線１１ｉは、Ｘ軸方向に沿ってほぼ真っ直ぐに延在するのに対し、ソース配線１１ｊは、Ｙ軸方向に沿ってほぼ真っ直ぐに延在している。ゲート配線１１ｉとソース配線１１ｊとがそれぞれＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１とソース電極１１ｆ２とに接続され、画素電極１１ｇがＴＦＴ１１ｆのドレイン電極１１ｆ３に接続されている。そして、ＴＦＴ１１ｆは、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊにそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極１１ｇへの電位の供給が制御されるようになっている。画素電極１１ｇは、平面形状が縦長の略方形とされており、その短辺方向がゲート配線１１ｉの延在方向と、長辺方向がソース配線１１ｊの延在方向と、それぞれ一致している。なお、ＴＦＴ１１ｆ、画素電極１１ｇ、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊの配置などに関しては後に改めて説明する。また、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡには、図１に示すように、ゲート配線１１ｉに走査信号を供給するためのゲート回路部ＧＤＭが設けられている。

　アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡにおける内面側には、図２及び図４に示すように、全ての画素電極１１ｇと重畳する形で共通電極１１ｈが画素電極１１ｇよりも上層側（液晶層１１ｃに近い側）に形成されている。共通電極１１ｈは、常にほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって延在しており、各画素電極１１ｇ（詳細には後述する画素電極本体１１ｇ１）と重畳する部分には、各画素電極１１ｇの長辺方向に沿って延在する画素重畳開口部（画素重畳スリット、配向制御スリット）１１ｈ１が複数（図２では３本）ずつ開口形成されている。互いに重畳する画素電極１１ｇと共通電極１１ｈとの間に、画素電極１１ｇが充電されるのに伴って電位差が生じると、画素重畳開口部１１ｈ１の開口縁と画素電極１１ｇとの間には、アレイ基板１１ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じるので、そのフリンジ電界を利用して液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。なお、本実施形態では、画素重畳開口部１１ｈ１が３本の場合を例示したが、少なくとも画素重畳開口部１１ｈ１が１本あれば、配向制御機能並びに表示機能を発揮させることができる。また、画素重畳開口部１１ｈ１の延在方向は１方向には限られず、１つの画素部ＰＸ内において「く」の字状に曲げられていてもよいし、またＹ軸方向について隣り合う画素部ＰＸにおいて画素重畳開口部１１ｈ１が互いに異なる方向に延在していてもよい。

　ＣＦ基板１１ａの内面側における表示領域ＡＡには、図４に示すように、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）及び赤色（Ｒ）を呈する３色のカラーフィルタ１１ｋが設けられている。カラーフィルタ１１ｋは、互いに異なる色を呈するものがゲート配線１１ｉ（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し多数並ぶとともに、それらがソース配線１１ｊ（概ねＹ軸方向）に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。これらのカラーフィルタ１１ｋは、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極１１ｇと平面に視て重畳する配置とされている。Ｘ軸方向について隣り合って互いに異なる色を呈するカラーフィルタ１１ｋは、その境界（色境界）がソース配線１１ｊ及び次述する遮光部１１ｌと重畳する配置とされる。この液晶パネル１１においては、Ｘ軸方向に沿って並ぶＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ１１ｋと、各カラーフィルタ１１ｋと対向する３つの画素電極１１ｇと、が３色の画素部ＰＸをそれぞれ構成している。そして、この液晶パネル１１においては、Ｘ軸方向に沿って隣り合うＲ，Ｇ，Ｂの３色の画素部ＰＸによって所定の階調のカラー表示を可能な表示画素が構成されている。画素部ＰＸにおけるＸ軸方向についての配列ピッチは、例えば１０μｍ～３０μｍ程度とされる。

　ＣＦ基板１１ａの内面側における表示領域ＡＡには、図２及び図４に示すように、光を遮る遮光部（画素間遮光部、ブラックマトリクス）１１ｌが形成されている。遮光部１１ｌは、隣り合う画素部ＰＸ（画素電極１１ｇ）の間を仕切るよう平面形状が略格子状をなしており、平面に視てアレイ基板１１ｂ側の画素電極１１ｇの大部分と重畳する位置に画素開口部１１ｌ１を有している。画素開口部１１ｌ１は、ＣＦ基板１１ａの板面内においてＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って多数個ずつマトリクス状に並んで配されている。画素開口部１１ｌ１は、平面形状が画素電極１１ｇの外形に倣って縦長の略方形状とされており、その短辺寸法が画素電極１１ｇの短辺寸法よりも大きいのに対し、長辺寸法が画素電極１１ｇの長辺寸法よりも僅かに小さい。画素開口部１１ｌ１は、光を透過することが可能とされており、それにより画素部ＰＸでの表示が可能となっている。遮光部１１ｌは、隣り合う画素部ＰＸの間を光が行き交うのを防いで各画素部ＰＸの階調の独立性を担保するのに機能しており、特にソース配線１１ｊに沿って延在する部分は、異なる色を呈する画素部ＰＸ間の混色を防いでいる。遮光部１１ｌは、アレイ基板１１ｂ側の少なくともゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊ（後述するタッチ配線１５も含む）と平面に視て重畳する配置とされる。カラーフィルタ１１ｋの上層側（液晶層１１ｃ側）には、ＣＦ基板１１ａのほぼ全域にわたってベタ状に配される平坦化膜１１ｍが設けられている。なお、両基板１１ａ，１１ｂのうち液晶層１１ｃに接する最内面には、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜（図示せず）がそれぞれ形成されている。

　本実施形態に係る液晶パネル１１は、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出するタッチパネル機能（位置入力機能）と、を併有しており、このうちのタッチパネル機能を発揮するためのタッチパネルパターンを一体化（インセル化）している。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされる。タッチパネルパターンは、図１に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂ側に設けられており、アレイ基板１１ｂの板面内にマトリクス状に並んで配される複数のタッチ電極（位置検出電極）１４から構成されている。タッチ電極１４は、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域（位置入力領域）とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域（非位置入力領域）とほぼ一致していることになる。そして、使用者が視認する液晶パネル１１の表示領域ＡＡの画像に基づいて位置入力をしようとして液晶パネル１１の表面（表示面）に導電体である図示しない指（位置入力体）を近づけると、その指とタッチ電極１４との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにあるタッチ電極１４にて検出される静電容量には指が近づくのに伴って変化が生じ、指から遠くにあるタッチ電極１４とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。

　そして、このタッチ電極１４は、図１に示すように、アレイ基板１１ｂに設けられた共通電極１１ｈにより構成されている。共通電極１１ｈは、既述した画素重畳開口部１１ｈ１に加えて、隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部（仕切スリット）１１ｈ２を有する。仕切開口部１１ｈ２は、Ｘ軸方向に沿って共通電極１１ｈの全長にわたって横断する部分と、Ｙ軸方向に沿って共通電極１１ｈの全長にわたって縦断する部分と、からなり、全体としては平面に視て略格子状をなしている。共通電極１１ｈは、仕切開口部１１ｈ２によって平面に視て碁盤目状に分割されて相互が電気的に独立した複数のタッチ電極１４からなる。共通電極１１ｈを仕切開口部１１ｈ２によって仕切られてなるタッチ電極１４は、表示領域ＡＡにおいてＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って複数ずつがマトリクス状に並んで配されている。タッチ電極１４は、平面に視て略方形状をなしており、一辺の寸法が数ｍｍ（例えば約２～４ｍｍ）程度とされている。従って、タッチ電極１４は、平面に視た大きさが画素部ＰＸ（画素電極１１ｇ）よりも遙かに大きくなっており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向について複数（例えば数十または数百程度）ずつの画素部ＰＸに跨る範囲に配置されている。複数のタッチ電極１４には、アレイ基板１１ｂに設けられた複数のタッチ配線（位置検出配線）１５が選択的に接続されている。タッチ配線１５は、アレイ基板１１ｂにおいてゲート配線１１ｉと直交（交差）し、ソース配線１１ｊに並行する形でＹ軸方向に沿って延在しており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のタッチ電極１４のうちの特定のタッチ電極１４に対して選択的に接続されている。さらにタッチ配線１５は、図示しない検出回路と接続されている。検出回路は、ドライバ１２に備えられていても構わないが、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１の外部に備えられていても構わない。タッチ配線１５は、表示機能に係る基準電位信号と、タッチ機能に係るタッチ信号（位置検出信号）と、を異なるタイミングでもってタッチ電極１４に供給する。このうちの基準電位信号は、同じタイミングで全てのタッチ配線１５に伝送されることで、全てのタッチ電極１４が基準電位となって共通電極１１ｈとして機能する。また、タッチ配線１５は、その線幅がソース配線１１ｊの線幅と同等とされる。なお、図１は、タッチ電極１４の配列を模式的に表したものであり、タッチ電極１４の具体的な設置数や配置については図示以外にも適宜に変更可能である。

　タッチ電極１４とタッチ配線１５との接続構造について説明する。タッチ配線１５は、図５に示すように、接続対象となるタッチ電極１４に対しては、透明電極膜間絶縁膜２１に開口形成されたコンタクトホール２３を通して接続されている。タッチ配線１５は、全てのタッチ電極１４を横切る形で概ねＹ軸方向に沿って延在しているものの、コンタクトホール２３の平面配置によって特定のタッチ電極１４に対してのみ選択的に接続されている。従って、タッチ電極１４には、接続対象となるタッチ配線１５と、接続非対象となるタッチ配線１５と、が透明電極膜間絶縁膜２１を介してそれぞれ重畳配置されている。

　ここで、アレイ基板１１ｂの内面側に積層形成された各種の膜について説明する。アレイ基板１１ｂには、図３に示すように、下層側（ガラス基板側）から順に第１金属膜１６、ゲート絶縁膜１７、半導体膜１８、第１透明電極膜（導電膜、透明電極膜）１９、第２金属膜（導電膜、金属膜）２０、透明電極膜間絶縁膜（絶縁膜）２１、第２透明電極膜２２が積層形成されている。第１金属膜１６及び第２金属膜２０は、それぞれ銅、チタン、アルミニウムなどの中から選択される１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有している。第１金属膜１６は、ゲート配線１１ｉやＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１などを構成する。第２金属膜２０は、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の一部やＴＦＴ１１ｆのソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３の一部などを構成する。ゲート絶縁膜１７及び透明電極膜間絶縁膜２１は、それぞれ窒化ケイ素（ＳｉＮ_ｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）等の無機材料からなる。ゲート絶縁膜１７は、下層側の第１金属膜１６と、上層側の半導体膜１８、第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０と、を絶縁状態に保つ。透明電極膜間絶縁膜２１は、下層側の半導体膜１８、第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０と、上層側の第２透明電極膜２２と、を絶縁状態に保つ。半導体膜１８は、材料として例えば酸化物半導体、アモルファスシリコン等を用いた薄膜からなり、ＴＦＴ１１ｆにおいてソース電極１１ｆ２とドレイン電極１１ｆ３とに接続されるチャネル部（半導体部）１１ｆ４などを構成する。第１透明電極膜１９及び第２透明電極膜２２は、透明電極材料（例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）など）からなる。第１透明電極膜１９は、画素電極１１ｇやソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の一部やＴＦＴ１１ｆのソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３の一部などを構成する。第２透明電極膜２２は、共通電極１１ｈ（タッチ電極１４）などを構成する。

　ＴＦＴ１１ｆ及び画素電極１１ｇの構成について詳しく説明する。ＴＦＴ１１ｆは、図２及び図３に示すように、ゲート配線１１ｉから分岐してなるゲート電極１１ｆ１を有する。ゲート電極１１ｆ１は、ゲート配線１１ｉのうち、ソース配線１１ｊに隣接する部分を、Ｙ軸方向に沿って接続対象となる画素電極１１ｇ側に向けて突出させてなり、平面に視て略方形状をなす。ゲート電極１１ｆ１は、ゲート配線１１ｉに供給される走査信号に基づいてＴＦＴ１１ｆを駆動し、それによりソース電極１１ｆ２とドレイン電極１１ｆ３との間の電流が制御される。ＴＦＴ１１ｆは、ソース配線１１ｊから分岐してなるソース電極１１ｆ２を有する。ソース電極１１ｆ２は、ソース配線１１ｊのうち、ゲート配線１１ｉに隣接する部分を、Ｘ軸方向に沿って接続対象となる画素電極１１ｇ側に向けて突出させてなり、その突出先端部がゲート電極１１ｆ１と重畳するとともにチャネル部１１ｆ４に接続される。ＴＦＴ１１ｆは、ソース電極１１ｆ２との間に間隔を空けた位置に配されるドレイン電極１１ｆ３を有する。ドレイン電極１１ｆ３は、ソース電極１１ｆ２に並行する形で延在する略方形状をなしており、その一端側がソース電極１１ｆ２と対向状をなしてゲート電極１１ｆ１と重畳するとともにチャネル部１１ｆ４に接続されるのに対し、他端側が画素電極１１ｇに接続される。ソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３は、第１透明電極膜１９と第２金属膜２０との積層構造とされており、半導体膜１８からなるチャネル部１１ｆ４に対しては下層側の第１透明電極膜１９が直接接する。一方、ドレイン電極１１ｆ３の他端側は、第１透明電極膜１９からなる画素電極１１ｇ（コンタクト部１１ｇ２）に対して直接連ねられている。

　画素電極１１ｇは、図２及び図３に示すように、遮光部１１ｌの画素開口部１１ｌ１と重畳する略方形状の画素電極本体１１ｇ１と、画素電極本体１１ｇ１からＹ軸方向に沿ってＴＦＴ１１ｆ側に突出するコンタクト部１１ｇ２と、からなり、このうちのコンタクト部１１ｇ２がドレイン電極１１ｆ３に接続されている。ＴＦＴ１１ｆは、ゲート絶縁膜１７を介してゲート電極１１ｆ１と重畳するとともに、ソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３に接続されるチャネル部１１ｆ４を有する。チャネル部１１ｆ４は、ゲート電極１１ｆ１を横切る形でＸ軸方向に沿って延在し、その一端側がソース電極１１ｆ２に、他端側がドレイン電極１１ｆ３に、それぞれ接続されている。そして、ゲート電極１１ｆ１に供給される走査信号に基づいてＴＦＴ１１ｆがオン状態にされると、ソース配線１１ｊに供給される画像信号（信号、データ信号）は、ソース電極１１ｆ２から半導体膜１８からなるチャネル部１１ｆ４を介してドレイン電極１１ｆ３へと供給され、その結果、画素電極１１ｇが画像信号に基づいた電位に充電されるようになっている。

　次に、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の配置について詳しく説明する。ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５は、図２に示すように、それぞれＹ軸方向に沿って延在するとともにＸ軸方向（ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の延在方向と直交（交差）する方向）について隣り合う画素電極１１ｇの間に挟み込まれる形で配されている。そして、複数ずつのソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５は、Ｘ軸方向について間に１つずつの画素電極１１ｇを挟み込む形で交互に繰り返し並んで配されている。詳しくは、複数のソース配線１１ｊは、Ｘ軸方向について間に２つの画素電極１１ｇを挟み込む形で配されるのに対し、複数のタッチ配線１５は、Ｘ軸方向について間に２つの画素電極１１ｇを挟み込むとともに複数のソース配線１１ｊとはＸ軸方向について１つの画素電極１１ｇ分の間隔を空ける形でオフセット配置されている。従って、ソース配線１１ｊは、Ｘ軸方向についてタッチ配線１５を両側から挟み込む２つの画素電極１１ｇを上記タッチ配線１５との間でそれぞれ挟み込む形で少なくとも２つが配されている。同様に、タッチ配線１５は、Ｘ軸方向についてソース配線１１ｊを両側から挟み込む２つの画素電極１１ｇを上記ソース配線１１ｊとの間でそれぞれ挟み込む形で少なくとも２つが配されている。このような構成によれば、ソース配線１１ｊとタッチ配線１５とが互いに重畳することがなく、非重畳の配置とされているので、ソース配線１１ｊとタッチ配線１５との間に寄生容量が生じる事態を好適に避けることができる。これにより、ソース配線１１ｊにより伝送される画像信号やタッチ配線１５により伝送されるタッチ信号に鈍りが生じ難くなるので、位置検出に係る感度が良好なものとなるとともに、例えば中間階調でのシャドーイングの発生が抑制されるなどして表示品位が良好なものとなる。しかも、タッチ配線１５を挟み込む２つの画素電極１１ｇの間には、ソース配線１１ｊが挟み込まれることがない構成となっているので、仮に各画素電極１１ｇに対して個別にソース配線が隣り合う配置とした場合に比べると、ソース配線１１ｊの数及び配置スペースが約半分程度にまで削減される。これにより、高精細化、狭額縁化及び高開口率化などが図られる。

　ソース配線１１ｊは、上記のような配置とされるのに伴い、図２に示すように、Ｘ軸方向について隣り合う各画素電極１１ｇのそれぞれに供給される画像信号を伝送するものとされる。つまり、ソース配線１１ｊに伝送される画像信号は、そのソース配線１１ｊに対してＸ軸方向について左右に隣り合う２列の画素電極１１ｇ群（ソース配線１１ｊの延在方向に沿って並んで列状をなす複数の画素電極１１ｇからなる群）にそれぞれ供給されるようになっている。ソース配線１１ｊに伝送される画像信号を、そのソース配線１１ｊに対してＸ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇのそれぞれに伝送するため、ゲート配線１１ｉ及びＴＦＴ１１ｆは、次のような配置とされている。すなわち、ゲート配線１１ｉは、Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇの間に挟み込まれる形で一対ずつが配されている。従って、各画素電極１１ｇは、Ｙ軸方向について一方側に配された一対のゲート配線１１ｉと、他方側に配された一対のゲート配線１１ｉと、の間に挟み込まれている。一対のゲート配線１１ｉは、Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇの間に空けられたスペース（領域）においてＹ軸方向について間隔を空けて且つ互いに並行する形で配されている。Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇの間に空けられたスペースは、一対のゲート配線１１ｉの各線幅と、一対のゲート配線１１ｉの間に空けられた間隔と、を足し合わせた寸法よりも大きなものとされ、それにより各ゲート配線１１ｉと各画素電極１１ｇとが互いに非重畳の配置とされる。

　一対のゲート配線１１ｉのそれぞれに連なる一対のゲート電極１１ｆ１は、図２に示すように、各ゲート配線１１ｉからＹ軸方向について互いに離れる向きに突出している。一対のゲート配線１１ｉのうち、一方のゲート配線１１ｉに連なるゲート電極１１ｆ１と、他方のゲート配線１１ｉに連なるゲート電極１１ｆ１と、は、Ｘ軸方向についてオフセットした配置とされており、間にソース配線１１ｊを挟み込む配置とされる。これに対し、ソース配線１１ｊに連なるソース電極１１ｆ２は、Ｙ軸方向について一対のゲート配線１１ｉを挟んだ位置（Ｙ軸方向についてオフセットした位置）に一対ずつが配されており、Ｘ軸方向に沿って互いに逆向きに突出する形で設けられている。従って、一対ずつのゲート電極１１ｆ１及びソース電極１１ｆ２を有する一対のＴＦＴ１１ｆは、一対のゲート配線１１ｉと、ソース配線１１ｊと、の交差箇所を挟んで対角状に隣り合う一対の画素電極１１ｇに対してそれぞれ接続される形で配されている。言い換えると、一対のＴＦＴ１１ｆは、一対のゲート配線１１ｉと、ソース配線１１ｊと、そのソース配線１１ｊをＸ軸方向について挟み込む形で配される一対の画素電極１１ｇと、にそれぞれ接続される形で少なくとも配されている。なお、上記のようなＴＦＴ１１ｆの配置に伴い、Ｘ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇは、互いにＹ軸方向について反転した配置、具体的には画素電極本体１１ｇ１に対するコンタクト部１１ｇ２のＹ軸方向についての配置が互いに逆となっており、そのためにＸ軸方向について隣り合う画素電極本体１１ｇ１及びそれと重畳する画素重畳開口部１１ｈ１群がジグザグ状に配されている。以上のような構成によれば、例えば、一方のゲート配線１１ｉと他方のゲート配線１１ｉとで走査信号の入力タイミングを異ならせることで、一方のＴＦＴ１１ｆと他方のＴＦＴ１１ｆとを異なるタイミングで駆動することができる。この走査信号の入力タイミングに同期する形でソース配線１１ｊに対して一方のＴＦＴ１１ｆ用の画像信号と他方のＴＦＴ１１ｆ用の画像信号とを入力することで、一方のＴＦＴ１１ｆに接続された一方の画素電極１１ｇと、他方のＴＦＴ１１ｆに接続された他方の画素電極１１ｇと、に各画像信号に基づいた電位をそれぞれ充電することができる。

　Ｘ軸方向について画素電極１１ｇを挟み込むソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５は、図４に示すように、共に第１透明電極膜１９と第２金属膜２０との積層構造とされる。従って、アレイ基板１１ｂの製造に際して、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５を形成するには、ゲート絶縁膜１７及び半導体膜１８の上層側に順次に積層された共通の第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０をパターニングすればよいことになる。ここで、仮に、タッチ配線とソース配線とが異なる透明電極膜や金属膜をパターニングしてそれぞれ設けられる場合に比べると、パターニングに要するフォトマスクなどを削減することができるので、製造コストを低下させることができる。また、ソース配線１１ｊとタッチ配線１５とが第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０の積層構造とされることで配線抵抗を低下させることができる。さらに、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５に冗長性を持たせることができるので、断線が発生する確率を低下させることができる。しかも、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の一部を構成する第１透明電極膜１９は、画素電極１１ｇをも構成しているので、アレイ基板１１ｂの製造に際して、画素電極１１ｇを形成するには、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５と共通の第１透明電極膜１９をパターニングすればよいことになる。これにより、パターニングに要するフォトマスクなどをさらに削減することができるので、製造コストをさらに低下させることができる。

　より具体的には、本実施形態では、アレイ基板１１ｂの製造に際して、画素電極１１ｇ、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５を１枚のフォトマスクによってパターニングすることが可能となっている。すなわち、画素電極１１ｇ、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５をパターニングするには、まず第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０を連続して成膜した後にフォトレジストを成膜してから図示しないハーフトーンマスクを用いて露光を行う。ハーフトーンマスクは、露光装置から照射される露光をほぼ１００％の透過率でもって透過する透過領域と、同露光を例えば１０％～７０％程度の透過率でもって透過する半透過領域と、同露光を遮る遮光領域と、を有しており、透過領域または遮光領域がソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の形成範囲と、半透過領域が画素電極１１ｇの形成範囲と、それぞれ平面に視て重畳する配置とされる。このようなハーフトーンマスクを用いて露光を行った後に、エッチングを行うと、第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０が共に残存した部分がソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５となり、第１透明電極膜１９のみが残存した部分が画素電極１１ｇとなる。以上のように、画素電極１１ｇ、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５を１枚のフォトマスクによってパターニングすることが可能となるから、製造コストの低廉化を図る上で極めて好適となる。

　第２透明電極膜２２からなるタッチ電極１４（共通電極１１ｈ）には、図２及び図４に示すように、ソース配線１１ｊの少なくとも一部と重畳する形で配されるソース配線重畳開口部（信号配線重畳開口部）２４と、タッチ配線１５の少なくとも一部と重畳する形で配されるタッチ配線重畳開口部（位置検出配線重畳開口部）２５と、が設けられている。ソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５は、それぞれソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の延在方向であるＹ軸方向に並行する形で延在しており、平面に視て縦長形状（ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の延在方向を長手方向とした長手形状）とされる。また、ソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５は、その幅寸法（Ｘ軸方向についての寸法）がソース配線１１ｊやタッチ配線１５の幅寸法よりも大きく、共通電極１１ｈの画素重畳開口部１１ｈ１の幅寸法と同等とされる。このように、ソース配線重畳開口部２４がソース配線１１ｊの少なくとも一部と重畳する形で配されることで、ソース配線１１ｊとタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量が軽減されるとともに、タッチ配線重畳開口部２５がタッチ配線１５の少なくとも一部と重畳する形で配されることで、タッチ配線１５と、そのタッチ配線１５とは非接続とされるタッチ電極１４と、の間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。また、タッチ電極１４におけるソース配線重畳開口部２４の開口縁と、ソース配線１１ｊと、の間には、電界が生じ、その電界に起因して液晶層１１ｃに含まれる液晶材料の配向状態が乱されるおそれがあるものの、本実施形態では、液晶材料がネガ型液晶とされているので、上記した電界に起因する液晶材料の配向乱れが生じ難くなっており、特に黒表示時における光漏れといった不具合が生じ難いものとなっている。

　ソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５（後述する仕切開口部１１ｈ２を除く）は、図２に示すように、その長さ寸法（Ｙ軸方向についての寸法）が、画素電極１１ｇの長さ寸法よりも短くされており、共通電極１１ｈの画素重畳開口部１１ｈ１の長さ寸法と同等とされる。そして、ソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５（後述する仕切開口部１１ｈ２を除く）は、Ｙ軸方向についての配置が互いに揃えられるとともに、各画素重畳開口部１１ｈ１ともＹ軸方向について配置が概ね揃えられており、より詳細にはＹ軸方向についてジグザグ状に配される各画素重畳開口部１１ｈ１に対して画素電極１１ｇの中央寄り（ゲート配線１１ｉから遠い側）に収まる配置とされる。このような構成によれば、仮にソース配線重畳開口部及びタッチ配線重畳開口部がＹ軸方向について画素重畳開口部１１ｈ１とは配置が不揃いとされる場合に比べると、ソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５と画素重畳開口部１１ｈ１とを効率よく配置することが可能となり、また、共通電極１１ｈを分割してなるタッチ電極１４に係る電気抵抗値を低減させることができる。

　共通電極１１ｈにおいて、隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部１１ｈ２の一部は、図２及び図３に示すように、ソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５の少なくともいずれか一方としても機能する。つまり、仕切開口部１１ｈ２の一部であるＹ軸方向に沿って延在する部分は、ソース配線１１ｊやタッチ配線１５と重畳する形で配されている。なお、図２及び図３では、仕切開口部１１ｈ２の一部がタッチ配線１５と重畳していてタッチ配線重畳開口部２５を構成する場合を代表して例示しているが、仕切開口部１１ｈ２の一部にはソース配線１１ｊと重畳していてソース配線重畳開口部２４を構成するものが含まれていてもよい。仕切開口部１１ｈ２のうちソース配線重畳開口部２４及びタッチ配線重畳開口部２５を構成する部分は、Ｙ軸方向について表示領域ＡＡの全長にわたって延在していることから、ソース配線１１ｊやタッチ配線１５におけるほぼ全長にわたって重畳している。このように、既存構造である仕切開口部１１ｈ２を利用してソース配線１１ｊとタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量やタッチ配線１５と、そのタッチ配線１５とは非接続のタッチ電極１４と、の間に生じ得る寄生容量を軽減することができる。また、仮に仕切開口部がソース配線１１ｊやタッチ配線１５とは非重畳となって画素電極１１ｇと重畳する配置とされる場合に比べると、開口率を高く保つことができる。好ましくは、本実施形態では、仕切開口部１１ｈ２の一部（Ｙ軸方向に沿って延在する部分）がタッチ配線１５と選択的に重畳していて、ソース配線１１ｊとは非重畳とされている。ここで、仮に仕切開口部の一部をソース配線１１ｊにおける少なくとも一部と重畳する形で配する場合、仕切開口部はその設置間隔がソース配線１１ｊの設置間隔よりも遙かに広いことから多数本のソース配線１１ｊの全てと重畳配置されることはないため、多数本のソース配線１１ｊには仕切開口部とは非重畳となるものが生じ、結果として各ソース配線１１ｊの負荷が不均一になるおそれがある。その点、上記のように仕切開口部１１ｈ２の一部が多数本のタッチ配線１５の一部と選択的に重畳する形で配されていて全てのソース配線１１ｊとは非重畳とされているので、多数本のソース配線１１ｊの負荷を均一に保つことができ、それにより輝度ムラなどの表示不良を抑制することができるのである。

　また、共通電極１１ｈは、図２及び図６に示すように、仕切開口部１１ｈ２の一部が、Ｙ軸方向について一対のゲート配線１１ｉの間に位置する形で配されている。つまり、仕切開口部１１ｈ２のうちのＸ軸方向に沿って延在する部分は、画素電極１１ｇ及び各ゲート配線１１ｉとは非重畳となるよう、Ｙ軸方向について一対のゲート配線１１ｉの間に空けられた間隔を有効に利用して配置されている。従って、仮に仕切開口部が画素電極１１ｇと重畳する配置とされる場合に比べると、開口率を高く保つことができ、また、仮に仕切開口部がいずれか一方のゲート配線１１ｉと重畳し、他方のゲート配線１１ｉとは非重畳となる配置とされる場合に比べると、一対のゲート配線１１ｉと共通電極１１ｈ（タッチ電極１４）との間に生じる寄生容量を均等化する上で好適となる。さらに、ゲート配線１１ｉと共通電極１１ｈとの間に生じる電界を、共通電極１１ｈ自体でシールドすることができるため、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向乱れが生じ難くなる。

　また、第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０からなるタッチ配線１５と、第２透明電極膜２２からなるタッチ電極１４と、を接続するために透明電極膜間絶縁膜２１に開口形成されたコンタクトホール２３は、図２に示すように、Ｙ軸方向について一対のゲート配線１１ｉの間に位置する形で配されている。つまり、コンタクトホール２３は、表示機能を主体的に発揮する構造物である画素電極１１ｇからは離間した配置となるよう、Ｙ軸方向について一対のゲート配線１１ｉの間に空けられた間隔を有効に利用して配置されている。ここで、コンタクトホール２３は、タッチ電極１４を構成する共通電極１１ｈと画素電極１１ｇとの間に介在する透明電極膜間絶縁膜２１に開口形成されているため、コンタクトホール２３付近には液晶層１１ｃに含まれる液晶分子に配向乱れが生じ易くなっていてそれに起因して表示不良が生じるおそれがある。その点、上記のようにコンタクトホール２３が一対のゲート配線１１ｉの間に配されていて、表示に寄与する画素電極１１ｇからは離間した配置となっているので、コンタクトホール２３に起因する表示不良が生じ難くなっており、もって開口率を高く保つことができる。また、ＣＦ基板１１ａ側には、ゲート配線１１ｉと平面に視て重畳するように遮光部１１ｌが配置されているため、コンタクトホール２３に起因して液晶層１１ｃに含まれる液晶分子に生じ得る配向乱れが、表示品位に影響し難くなっている。

　また、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡに配されたソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５は、図１に示すように、非表示領域ＮＡＡに配されたソース引き出し配線（信号引き出し配線）２６及びタッチ引き出し配線（位置検出引き出し配線）２７にそれぞれ接続されている。なお、図１では、ソース配線１１ｊの図示を省略している。ソース引き出し配線２６及びタッチ引き出し配線２７は、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５と同様に多数本ずつがＸ軸方向に沿って間隔を空けて並んで配されており、一端側がソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の端部にそれぞれ接続されるのに対し、他端側がドライバ１２の実装領域に向けてそれぞれ略扇状に引き回されており、それらの引き出し先端部にドライバ１２に接続される端子部（図示せず）がそれぞれ設けられている。多数本のソース引き出し配線２６は、その他端側がドライバ１２の長辺方向（Ｘ軸方向）についての中央側部分に集約されるのに対し、多数本のタッチ引き出し配線２７は、その他端側がドライバ１２の長辺方向についての両端側部分にそれぞれ二手に分かれて集約されている。ドライバ１２は、長辺方向についての中央側部分にソース引き出し配線２６へ画像信号を出力するための回路が、長辺方向についての両端側部分にタッチ引き出し配線２７へタッチ信号を出力するための回路が、それぞれ設けられている。なお、図１では、区別のため、ソース引き出し配線２６を太い実線により、タッチ引き出し配線２７を細い実線により、それぞれ図示している。

　以上説明したように本実施形態の液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０は、間隔を空けて並ぶ複数の画素電極１１ｇと、位置入力を行う位置入力体である指との間で静電容量を形成し、位置入力体である指による入力位置を検出するタッチ電極（位置検出電極）１４と、隣り合う画素電極１１ｇの間に挟み込まれる形で配されてタッチ電極１４に接続されるタッチ配線（位置検出配線）１５と、タッチ配線１５に並行する形で延在して画素電極１１ｇに供給される画像信号を伝送するソース配線（信号配線）１１ｊであって、タッチ配線１５を挟み込む２つの画素電極１１ｇをタッチ配線１５との間でそれぞれ挟み込む形で配される少なくとも２つのソース配線１１ｊと、を備える。

　このようにすれば、画素電極１１ｇには、ソース配線１１ｊによって供給される画像信号に基づいた電位が充電され、それにより表示がなされる。一方、タッチ電極１４は、位置入力を行う位置入力体である指との間で静電容量を形成し、タッチ配線１５によって供給される信号を利用して位置入力体である指による入力位置を検出することができる。

　ソース配線１１ｊは、タッチ配線１５を挟み込む２つの画素電極１１ｇをタッチ配線１５との間でそれぞれ挟み込む形で少なくとも２つが配されているので、タッチ配線１５とは非重畳の配置となっている。従って、タッチ配線１５とソース配線１１ｊとの間に寄生容量が生じる事態を好適に避けることができ、もって位置検出に係る感度及び表示品位が良好なものとなる。しかも、タッチ配線１５を挟み込む２つの画素電極１１ｇの間には、ソース配線１１ｊが挟み込まれることがない構成となっているので、仮に各画素電極１１ｇに対して個別にソース配線が隣り合う配置とした場合に比べると、ソース配線１１ｊの数及び配置スペースが削減される。これにより、高精細化、狭額縁化及び高開口率化などが図られる。

　また、タッチ配線１５及びソース配線１１ｊの少なくとも一部ずつを構成する導電膜である第１透明電極膜１９を備える。このようにすれば、共通の導電膜である第１透明電極膜１９をパターニングすることで、タッチ配線１５及びソース配線１１ｊの少なくとも一部ずつを設けることができる。仮にタッチ配線とソース配線とが異なる導電膜をパターニングしてそれぞれ設けられる場合に比べると、パターニングに要するフォトマスクなどを削減することができるので、製造コストを低下させることができる。

　また、画素電極１１ｇを構成する第１透明電極膜（透明電極膜）１９を備えており、導電膜には、少なくとも第１透明電極膜１９が含まれる。このようにすれば、導電膜に含まれる共通の第１透明電極膜１９をパターニングすることで、タッチ配線１５及びソース配線１１ｊに加えて画素電極１１ｇを設けることができる。これにより、パターニングに要するフォトマスクなどをさらに削減することができるので、製造コストをさらに低下させることができる。

　また、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５と交差する形で延在して走査信号が伝送されるゲート配線（走査配線）１１ｉと、画素電極１１ｇ、ソース配線１１ｊ及びゲート配線１１ｉに接続されて走査信号に基づいて駆動されて画像信号に基づく電位を画素電極１１ｇに充電可能なＴＦＴ（スイッチング素子）１１ｆと、を備えており、ゲート配線１１ｉは、隣り合う画素電極１１ｇの間に挟み込まれていて一対が間隔を空けて互いに並行する形で配されるのに対し、ＴＦＴ１１ｆは、一対のゲート配線１１ｉと、ソース配線１１ｊと、そのソース配線１１ｊを挟み込む形で配される少なくとも２つの画素電極１１ｇと、にそれぞれ接続される形で少なくとも２つが配される。このようにすれば、一対のゲート配線１１ｉに対する走査信号の入力タイミングを異ならせるとともに、その入力タイミングに同期する形でソース配線１１ｊに対して画像信号を入力すると、少なくとも２つのＴＦＴ１１ｆは、異なるタイミングで駆動されるとともに、異なるタイミングでソース配線１１ｊに入力された画像信号に基づく電位を、ソース配線１１ｊを挟み込む少なくとも２つの画素電極１１ｇにそれぞれ充電することが可能となる。

　また、画素電極１１ｇに対して透明電極膜間絶縁膜（絶縁膜）２１を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数のタッチ電極１４を構成していて隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部１１ｈ２を有する共通電極１１ｈを備えており、共通電極１１ｈは、仕切開口部１１ｈ２の少なくとも一部が、一対のゲート配線１１ｉの間に位置する形で配されている。このようにすれば、一対のゲート配線１１ｉの間に空けられた間隔を有効に利用して仕切開口部１１ｈ２を配しているので、仮に仕切開口部が画素電極１１ｇと重畳する配置とされる場合に比べると、開口率を高く保つことができる。また、仮に仕切開口部がいずれか一方のゲート配線１１ｉと重畳し、他方のゲート配線１１ｉとは非重畳となる配置とされる場合に比べると、一対のゲート配線１１ｉと共通電極１１ｈとの間に生じる寄生容量を均等化する上で好適となる。さらに、ゲート配線１１ｉと共通電極１１ｈとの間に生じる電界を、共通電極１１ｈ自体でシールドすることができるため、画素電極１１ｇと共通電極１１ｈとの間に生じる電界によって液晶分子の配向を制御する場合には、液晶分子の配向乱れが生じ難くなる。

　また、画素電極１１ｇに対して透明電極膜間絶縁膜２１を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数のタッチ電極１４を構成する共通電極１１ｈを備えており、タッチ配線１５は、透明電極膜間絶縁膜２１のうち一対のゲート配線１１ｉの間に位置して開口形成されたコンタクトホール２３を通してタッチ電極１４に接続される。共通電極１１ｈを分割してなる複数のタッチ電極１４のうちのいずれかとタッチ配線１５とを接続するコンタクトホール２３は、共通電極１１ｈと画素電極１１ｇとの間に介在する透明電極膜間絶縁膜２１に開口形成されているため、画素電極１１ｇと共通電極１１ｈとの間に生じる電界によって液晶分子の配向を制御する場合には、コンタクトホール２３付近には液晶分子の配向乱れが生じ易くなり、それに起因して表示不良が生じるおそれがある。その点、上記のようにコンタクトホール２３が一対のゲート配線１１ｉの間に配されていて、表示に寄与する画素電極１１ｇからは離間した配置となっているので、コンタクトホール２３に起因する表示不良が生じ難くなっており、もって開口率を高く保つことができる。

　また、タッチ電極１４は、ソース配線１１ｊの少なくとも一部と重畳する形で配されるソース配線重畳開口部（信号配線重畳開口部）２４を有する。このようにすれば、タッチ電極１４は、ソース配線１１ｊの少なくとも一部と重畳する形で配されるソース配線重畳開口部２４を有しているので、ソース配線１１ｊとタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

　また、タッチ電極１４は、タッチ配線１５の少なくとも一部と重畳する形で配されるタッチ配線重畳開口部（位置検出配線重畳開口部）２５を有する。このようにすれば、タッチ電極１４は、タッチ配線１５の少なくとも一部と重畳する形で配されるタッチ配線重畳開口部２５を有しているので、タッチ配線１５とタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度が良好なものとなる。

　また、画素電極１１ｇに対して透明電極膜間絶縁膜２１を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数のタッチ電極１４を構成していて隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部１１ｈ２を有する共通電極１１ｈを備えており、共通電極１１ｈは、仕切開口部１１ｈ２がソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の少なくともいずれか一方における少なくとも一部と重畳する形で配される。このようにすれば、隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部１１ｈ２は、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５の少なくともいずれか一方における少なくとも一部と重畳する形で配されることで、ソース配線１１ｊとタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量やタッチ配線１５とタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量を軽減することが可能となる。このように既存構造である仕切開口部１１ｈ２を利用して寄生容量の軽減を図ることができる。仮に仕切開口部がソース配線１１ｊやタッチ配線１５とは非重畳となって画素電極１１ｇと重畳する配置とされる場合に比べると、開口率を高く保つことができる。

　また、共通電極１１ｈは、仕切開口部１１ｈ２がタッチ配線１５における少なくとも一部と選択的に重畳する形で配される。仮に仕切開口部をソース配線１１ｊにおける少なくとも一部と重畳する形で配する場合、仕切開口部は少なくとも２つのソース配線１１ｊの全てと重畳配置されることはないため、少なくとも２つのソース配線１１ｊには仕切開口部とは非重畳となるものが生じ、結果として各ソース配線１１ｊの負荷が不均一になるおそれがある。その点、上記のように仕切開口部１１ｈ２がタッチ配線１５における少なくとも一部と選択的に重畳する形で配されているので、少なくとも２つのソース配線１１ｊの負荷を均一に保つことができ、それにより輝度ムラなどの表示不良を抑制することができるとともに、タッチ配線１５とタッチ電極１４との間に生じ得る寄生容量を軽減することが可能となる。

　＜実施形態２＞
　本発明の実施形態２を図７から図１０によって説明する。この実施形態２では、層間絶縁膜２８を追加したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るアレイ基板１１１ｂには、図８及び図９に示すように、第１透明電極膜１１９と第２金属膜１２０との間に層間絶縁膜２８が介在する形で設けられている。層間絶縁膜２８は、透明電極膜間絶縁膜１２１と同様に、無機材料からなり、第１透明電極膜１１９と第２金属膜１２０とを絶縁状態に保つ。第１透明電極膜１１９は、層間絶縁膜２８に対して上層側に配されるのに対し、第２金属膜１２０は、層間絶縁膜２８に対して下層側に配される。これに伴って、本実施形態では、ソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５は、第２金属膜１２０のみからなる。従って、第２金属膜１２０からなるソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５と、第１透明電極膜１１９からなる画素電極１１１ｇと、の間には、層間絶縁膜２８が介在している。さらには、第２金属膜１２０からなるソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５と、第２透明電極膜１２２からなるタッチ電極１１４（共通電極１１１ｈ）と、の間には、層間絶縁膜２８及び透明電極膜間絶縁膜１２１が介在している。これにより、上記した実施形態１との比較において、層間絶縁膜２８の膜厚分だけソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５とタッチ電極１１４との間の距離が大きくなるので、ソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５とタッチ電極１１４との間に生じ得る寄生容量が軽減される。もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。また、タッチ電極１１４とタッチ配線１１５とを接続するためのコンタクトホール１２３は、図１０に示すように、透明電極膜間絶縁膜１２１及び層間絶縁膜２８に連通する形で開口形成されている。

　本実施形態では、透明電極膜間絶縁膜１２１は、図８及び図９に示すように、層間絶縁膜２８よりも膜厚が小さくされている。このような構成によれば、画素電極１１１ｇと共通電極１１１ｈとの間の間隔が小さくなるから、両電極１１１ｇ，１１１ｈの間に生じる電界（特に横電界モードの液晶表示装置における基板に対して水平な方向の電界）がより強いものとなるので、表示品位がより良好なものとなる。一方、層間絶縁膜２８は、透明電極膜間絶縁膜１２１よりも膜厚が大きくされることで、ソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５とタッチ電極１１４との間の間隔がより大きくなるので、それによりソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５とタッチ電極１１４との間に生じ得る寄生容量がさらに軽減される。もって、位置検出に係る感度及び表示品位がさらに良好なものとなる。また、ＴＦＴ１１１ｆを構成するソース電極１１１ｆ２及びドレイン電極１１１ｆ３は、ソース配線１１１ｊ及びタッチ配線１１５と同様に第２金属膜１２０のみからなる。従って、ドレイン電極１１１ｆ３は、図７及び図８に示すように、第１透明電極膜１１９からなる画素電極１１１ｇのコンタクト部１１１ｇ２に対して層間絶縁膜２８に開口形成された画素コンタクトホール２９を通して接続されている。画素コンタクトホール２９は、各ＴＦＴ１１１ｆのドレイン電極１１１ｆ３と、各画素電極１１１ｇのコンタクト部１１１ｇ２との重畳位置に平面配置されている。

　以上説明したように本実施形態によれば、画素電極１１１ｇ及びタッチ電極１１４のうちの一方側を構成する第１透明電極膜１１９と、画素電極１１１ｇ及びタッチ電極１１４のうちの他方側を構成して第１透明電極膜１１９との間に透明電極膜間絶縁膜１２１が介在する第２透明電極膜１２２と、第１透明電極膜１１９に対して第２透明電極膜１２２側とは反対側に配されて第１透明電極膜１１９との間に層間絶縁膜２８が介在する第２金属膜（金属膜）１２０と、を備えており、導電膜には、少なくとも第２金属膜１２０が含まれる。このようにすれば、仮に導電膜が第１透明電極膜１１９を含む構成とした場合に比べると、層間絶縁膜２８の分だけタッチ配線１１５及びソース配線１１１ｊとタッチ電極１１４との間の距離が大きなものとなる。これにより、タッチ配線１１５及びソース配線１１１ｊとタッチ電極１１４との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。また、ゲート配線１１１ｉとタッチ電極１１５との間の距離も層間絶縁膜２８の分だけ大きくなるため、ゲート配線１１１ｉとタッチ電極１１５との間に生じ得る寄生容量も軽減される。

　また、画素電極１１１ｇに対して透明電極膜間絶縁膜１２１を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数のタッチ電極１１４を構成する共通電極１１１ｈを備えており、透明電極膜間絶縁膜１２１は、層間絶縁膜２８よりも膜厚が小さい。このようにすれば、画素電極１１１ｇと共通電極１１１ｈとの間の間隔が小さくなるから、両電極１１１ｇ，１１１ｈの間に生じる電界がより強いものとなるので、表示品位がより良好なものとなる。一方、層間絶縁膜２８は、透明電極膜間絶縁膜１２１よりも膜厚が大きくされることで、タッチ配線１１５及びソース配線１１１ｊとタッチ電極１１４との間の間隔がより大きくなるので、それによりタッチ配線１１５及びソース配線１１１ｊとタッチ電極１１４との間に生じ得る寄生容量がさらに軽減される。もって、位置検出に係る感度及び表示品位がさらに良好なものとなる。

　＜実施形態３＞
　本発明の実施形態３を図１１または図１２によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態２からタッチ配線２１５の配置を変更するとともに第３金属膜３０を追加したものを示す。なお、上記した実施形態２と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るアレイ基板２１１ｂには、図１１に示すように、第１透明電極膜２１９と透明電極膜間絶縁膜２２１との間に第３金属膜３０が介在する形で設けられている。第３金属膜３０は、第１金属膜２１６及び第２金属膜２２０と同様に、１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有している。そして、タッチ配線２１５は、第１透明電極膜２１９と第３金属膜３０との積層構造とされる。つまり、タッチ配線２１５は、層間絶縁膜２２８の上層側に配されており、第１透明電極膜２１９からなる画素電極２１１ｇと同層の配置とされるものの、第２金属膜２２０からなるソース配線２１１ｊに対しては層間絶縁膜２２８を介して上層側に配置される。従って、上記した実施形態１のようにソース配線１１ｊとタッチ配線１５とが同層の配置とされた場合に比べると、層間絶縁膜２２８の膜厚の分だけ、ソース配線２１１ｊとタッチ電極２１４との間の間隔が大きくなる。これにより、ソース配線２１１ｊとタッチ電極２１４との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。また、タッチ電極２１４とタッチ配線２１５とを接続するためのコンタクトホール２２３は、図１２に示すように、透明電極膜間絶縁膜２２１のみに開口形成されている。

　以上説明したように本実施形態によれば、画素電極２１１ｇ及びタッチ電極２１４のうちの一方側を構成する第１透明電極膜２１９と、画素電極２１１ｇ及びタッチ電極２１４のうちの他方側を構成して第１透明電極膜２１９との間に透明電極膜間絶縁膜２２１が介在する第２透明電極膜２２２と、第１透明電極膜２１９に対して第２透明電極膜２２２側とは反対側に配されて第１透明電極膜２１９との間に層間絶縁膜２２８が介在する第２金属膜２２０と、を備えており、第１透明電極膜２１９は、タッチ配線２１５の少なくとも一部を構成するのに対し、第２金属膜２２０は、ソース配線２１１ｊの少なくとも一部を構成する。このようにすれば、仮に第１透明電極膜２１９がタッチ配線２１５に加えてソース配線の少なくとも一部を構成する場合に比べると、層間絶縁膜２２８の分だけソース配線２１１ｊとタッチ電極２１４との間の間隔が大きくなる。これにより、ソース配線２１１ｊとタッチ電極２１４との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。また、ゲート配線２１１ｉとタッチ電極２１５との間の距離も層間絶縁膜２２８の分だけ大きくなるため、ゲート配線２１１ｉとタッチ電極２１５との間に生じ得る寄生容量も軽減される。

　＜実施形態４＞
　本発明の実施形態４を図１３または図１４によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態３からタッチ配線３１５の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態３と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るタッチ配線３１５は、図１３及び図１４に示すように、第２金属膜３２０からなる第１タッチ配線３１５Ａと、第１透明電極膜３１９及び第３金属膜３３０の積層構造とされる第２タッチ配線３１５Ｂと、から構成されている。第１タッチ配線３１５Ａ及び第２タッチ配線３１５Ｂは、共にＹ軸方向に沿って延在するとともに互いに重畳する配置とされており、その線幅もほぼ同一とされている。そして、第１タッチ配線３１５Ａを構成する第２金属膜３２０と、第２タッチ配線３１５Ｂの一部を構成する第１透明電極膜３１９と、の間に介在する層間絶縁膜３２８のうち、第１タッチ配線３１５Ａ及び第２タッチ配線３１５Ｂと重畳する位置には、タッチ配線用コンタクトホール（コンタクトホール）３１が開口形成されている。層間絶縁膜３２８に対して下層側に配された第１タッチ配線３１５Ａと、層間絶縁膜３２８に対して上層側に配された第２タッチ配線３１５Ｂと、は、タッチ配線用コンタクトホール３１を通して互いに電気的に接続されている。このタッチ配線用コンタクトホール３１は、層間絶縁膜３２８のうち、Ｙ軸方向について一対のゲート配線３１１ｉの間となる位置、つまり画素電極３１１ｇとは非重畳となる位置に複数が配されている。従って、複数のタッチ配線用コンタクトホール３１には、タッチ電極３１４とタッチ配線３１５とを接続するためのコンタクトホール３２３と重畳する配置のものが含まれている。このような構成によれば、第１タッチ配線３１５Ａと第２タッチ配線３１５Ｂとのうちのいずれか一方側に断線などが生じた場合でも、他方側に断線などが生じていなければ、タッチ配線３１５の電気的な機能を発揮させることができ、冗長性の担保を図る上で好適となる。しかも、第２金属膜３２０からなる第１タッチ配線３１５Ａと第１透明電極膜３１９を含む第２タッチ配線３１５Ｂとが互いに重畳するとともに層間絶縁膜３２８に開口形成されたタッチ配線用コンタクトホール３１を通して接続されているので、タッチ配線３１５の配線抵抗を好適に低下させることができ、もって位置検出に係る感度をより向上させることができる。また、上記した実施形態１のようにソース配線１１ｊとタッチ配線１５とが同層の配置とされた場合に比べると、層間絶縁膜３２８の分だけソース配線３１１ｊとタッチ電極３１４との間の距離が大きなものとなる。これにより、ソース配線３１１ｊとタッチ電極３１４との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

　以上説明したように本実施形態によれば、画素電極３１１ｇ及びタッチ電極３１４のうちの一方側を構成する第１透明電極膜３１９と、画素電極３１１ｇ及びタッチ電極３１４のうちの他方側を構成して第１透明電極膜３１９との間に透明電極膜間絶縁膜３２１が介在する第２透明電極膜３２２と、第１透明電極膜３１９に対して第２透明電極膜３２２側とは反対側に配されて第１透明電極膜３１９との間に層間絶縁膜３２８が介在する第２金属膜３２０と、を備えており、第２金属膜３２０は、ソース配線３１１ｊの少なくとも一部と、タッチ配線３１５の一部である第１タッチ配線（第１位置検出配線）３１５Ａと、を構成するのに対し、第１透明電極膜３１９は、タッチ配線３１５の一部であって第１タッチ配線３１５Ａと重畳する形で配され且つ層間絶縁膜３２８に開口形成されたタッチ配線用コンタクトホール（コンタクトホール）３１を通して第１タッチ配線３１５Ａに接続される第２タッチ配線（第２位置検出配線）３１５Ｂを構成する。このようにすれば、第１タッチ配線３１５Ａと第２タッチ配線３１５Ｂとのうちのいずれか一方側に断線などが生じた場合でも、他方側に断線などが生じていなければ、タッチ配線３１５の電気的な機能を発揮させることができ、冗長性の担保を図る上で好適となる。しかも、第２金属膜３２０からなる第１タッチ配線３１５Ａと第１透明電極膜３１９からなる第２タッチ配線３１５Ｂとが互いに重畳するとともに層間絶縁膜３２８に開口形成されたタッチ配線用コンタクトホール３１を通して接続されているので、タッチ配線３１５の配線抵抗を低下させることができ、もって位置検出に係る感度を向上させることができる。また、第２金属膜３２０がソース配線３１１ｊの少なくとも一部を構成しているので、仮に第１透明電極膜３１９がソース配線３１１ｊの少なくとも一部を構成する場合に比べると、層間絶縁膜３２８の分だけソース配線３１１ｊとタッチ電極３１４との間の距離が大きなものとなる。これにより、ソース配線３１１ｊとタッチ電極３１４との間に生じ得る寄生容量が軽減され、もって位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。

　＜実施形態５＞
　本発明の実施形態５を図１５によって説明する。この実施形態５では、上記した実施形態１から各引き出し配線４２６，４２７の配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るソース引き出し配線４２６及びタッチ引き出し配線４２７は、図１５に示すように、アレイ基板４１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおいて互いに並行する形で引き回されている。詳しくは、多数本ずつのソース引き出し配線４２６及びタッチ引き出し配線４２７は、接続対象であるソース配線（図示せず）及びタッチ配線４１５が配された表示領域ＡＡから略扇状に引き回されてドライバ４１２に至るまでの間、互いに並行する形で延在していて途中で交差することが避けられている。これにより、ソース引き出し配線４２６とタッチ引き出し配線４２７との間に寄生容量が生じ難くなっているので、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。また、ドライバ４１２は、ソース引き出し配線４２６へ画像信号を出力するための回路と、タッチ引き出し配線４２７へタッチ信号を出力するための回路と、がほぼ全長にわたって分散配置されている。

　以上説明したように本実施形態によれば、画素電極、タッチ電極４１４、タッチ配線４１５及びソース配線が少なくとも配されて画像が表示される表示領域ＡＡと、表示領域ＡＡを取り囲む非表示領域ＮＡＡと、非表示領域ＮＡＡに実装されるドライバ（駆動回路部）４１２と、非表示領域ＮＡＡに配されて一端側がソース配線に、他端側がドライバ４１２にそれぞれ接続されるソース引き出し配線（信号引き出し配線）４２６と、非表示領域ＮＡＡに配されて一端側がタッチ配線４１５に、他端側がドライバ４１２にそれぞれ接続されるタッチ引き出し配線（位置検出引き出し配線）４２７と、を備えており、ソース引き出し配線４２６及びタッチ引き出し配線４２７は、互いに並行する形で延在する。このようにすれば、ドライバ４１２から出力された各信号は、ソース引き出し配線４２６を介してソース配線へ、タッチ引き出し配線４２７を介してタッチ配線４１５へ、とそれぞれ伝送される。ソース引き出し配線４２６及びタッチ引き出し配線４２７が互いに並行する形で延在していて途中で交差することが避けられているので、ソース引き出し配線４２６とタッチ引き出し配線４２７との間に寄生容量が生じ難くなっている。従って、位置検出に係る感度及び表示品位が良好なものとなる。

　＜他の実施形態＞
　本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
　（１）上記した実施形態２の変形例１として、図１６に示すように、層間絶縁膜２８－１と第１透明電極膜１１９－１との間に平坦化膜３２を追加しても構わない。変形例１に係る平坦化膜３２は、有機材料（例えばアクリル樹脂材料など）からなり、その膜厚が無機材料からなるゲート絶縁膜１７－１、層間絶縁膜２８－１及び透明電極膜間絶縁膜１２１－１のいずれよりも大きなものとされる。このような構成によれば、ソース配線１１１ｊ－１及びタッチ配線１１５－１と、画素電極１１１ｇ－１やタッチ電極１１４－１と、の間により大きな間隔が空けられることになるから、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。
　（２）上記した実施形態２の変形例２として、図１７に示すように、共通電極１１１ｈ－２及びタッチ電極１１４－２と画素電極１１１ｇ－２との配置を入れ替えることも可能である。変形例２に係る共通電極１１１ｈ－２及びタッチ電極１１４－２は、第１透明電極膜１１９－２からなるのに対し、画素電極１１１ｇ－２は、第２透明電極膜１２２－２からなる。このような構成によれば、ソース配線１１１ｊ－２と画素電極１１１ｇ－２との間に層間絶縁膜２８－２及び透明電極膜間絶縁膜１２１－２が介在するので、透明電極膜間絶縁膜１２１－２の膜厚分だけソース配線１１１ｊ－２と画素電極１１１ｇ－２との間の間隔が大きくなり、もって表示品位がより良好なものとなる。なお、画素電極１１１ｇ－２には、共通電極１１１ｈ－２と重畳する形で共通電極重畳開口部３３が設けられている。共通電極重畳開口部３３は、実施形態１に記載した画素重畳開口部１１ｈ１（図４を参照）と同等の構造及び機能を持つものである。
　（３）上記した実施形態２の変形例３として、図１８に示すように、上記した（２）の変形例２の構成に平坦化膜３２－３を追加しても構わない。平坦化膜３２－３は、上記した（１）の変形例１に記載したものと同様であり、層間絶縁膜２８－３と第１透明電極膜１１９－３との間に介在している。このような構成によれば、ソース配線１１１ｊ－３及びタッチ配線１１５－３と、画素電極１１１ｇ－３やタッチ電極１１４－３と、の間により大きな間隔が空けられることになるから、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。
　（４）上記した実施形態３の変形例４として、図１９に示すように、層間絶縁膜２２８－４と第１透明電極膜２１９－４との間に平坦化膜３２－４を追加しても構わない。平坦化膜３２－４は、上記した（１）の変形例１に記載したものと同様である。このような構成によれば、ゲート配線（図示せず）及びソース配線２１１ｊ－４と、画素電極２１１ｇ－４やタッチ電極２１４－４と、の間により大きな間隔が空けられることになるから、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。
　（５）上記した実施形態４の変形例５として、図２０に示すように、層間絶縁膜３２８－５と第１透明電極膜３１９－５との間に平坦化膜３２－５を追加しても構わない。平坦化膜３２－５は、上記した（１）の変形例１に記載したものと同様である。このような構成によれば、ゲート配線（図示せず）及びソース配線３１１ｊ－５と、画素電極３１１ｇ－５やタッチ電極３１４－５と、の間により大きな間隔が空けられることになるから、位置検出に係る感度及び表示品位がより良好なものとなる。
　（６）上記した実施形態１の変形例として、ソース配線及びタッチ配線が第２金属膜のみからなる構成を採ることも可能である。
　（７）上記した実施形態１の変形例として、ドライバにおける画像信号を出力するための回路と、タッチ信号を出力するための回路と、の配置は、適宜に変更可能であり、その配置変更に伴ってソース引き出し配線及びタッチ引き出し配線の引き回し経路も適宜に変更可能である。
　（８）上記した実施形態３の変形例として、タッチ配線が第３金属膜のみからなる構成を採ることも可能である。
　（９）上記した実施形態４の変形例として、第２タッチ配線が第３金属膜のみからなる構成を採ることも可能である。
　（１０）上記した実施形態４の変形例として、第３金属膜を省略することも可能であり、その場合は第２タッチ配線が第１透明電極膜のみからなる。
　（１１）上記した実施形態１，３，４，５に記載した構成において、上記した（２）の変形例２に記載した技術事項を適用し、共通電極及びタッチ電極と画素電極との配置を入れ替えることも可能である。
　（１２）上記した各実施形態では、ソース配線とタッチ配線との線幅が同一とされる場合を示したが、ソース配線とタッチ配線との線幅を異ならせることも可能である。
　（１３）上記した各実施形態では、ソース配線重畳開口部とタッチ配線重畳開口部とが互いにＹ軸方向について揃う配置とされた場合を示したが、ソース配線重畳開口部とタッチ配線重畳開口部とがＹ軸方向についてオフセットした配置とされていても構わない。また、ソース配線重畳開口部及びタッチ配線重畳開口部のＹ軸方向についての長さ寸法やＸ軸方向についての幅寸法は、互いに異なっていても構わない。
　（１４）上記した各実施形態以外にも、タッチ電極とタッチ配線とを接続するためのコンタクトホールの具体的な平面配置は、適宜に変更可能である。
　（１５）上記した各実施形態に記載した技術事項を適宜に組み合わせることも勿論可能である。
　（１６）上記した各実施形態では、ソース配線及びタッチ配線がＹ軸方向に沿ってほぼ真っ直ぐに延在する場合を示したが、ソース配線及びタッチ配線が部分的にＹ軸方向に対する斜め方向に沿って延在する斜め延在部を有していても構わない。その場合、画素電極の外形の一部（長辺部）が斜め延在部に並行する形態とすることも可能である、
　（１７）上記した各実施形態では、遮光部がＣＦ基板側に設けられた場合を示したが、遮光部がアレイ基板側に設けられていても構わない。
　（１８）上記した各実施形態以外にも、ＴＦＴのチャネル部を構成する半導体膜は、ポリシリコンであっても構わない。その場合は、ＴＦＴをボトムゲート型とするのが好ましい。
　（１９）上記した各実施形態では、タッチパネルパターンが自己容量方式とされる場合を示したが、タッチパネルパターンが相互容量方式であっても構わない。
　（２０）上記した各実施形態では、透過型の液晶パネルを例示したが、反射型の液晶パネルや半透過型の液晶パネルであっても本発明は適用可能である。
　（２１）上記した実施形態では、液晶表示装置（液晶パネルやバックライト装置）の平面形状が縦長の長方形とされる場合を示したが、液晶表示装置の平面形状が横長の長方形、正方形、円形、半円形、長円形、楕円形、台形などであっても構わない。
　（２２）上記した各実施形態では、一対の基板間に液晶層が挟持された構成とされた液晶パネルについて例示したが、一対の基板間に液晶材料以外の機能性有機分子を挟持した表示パネルについても本発明は適用可能である。

　１０…液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）、１１ｆ，１１１ｆ…ＴＦＴ（スイッチング素子）、１１ｇ，１１１ｇ，１１１ｇ－１，１１１ｇ－２，１１１ｇ－３，２１１ｇ，２１１ｇ－４，３１１ｇ，３１１ｇ－５…画素電極、１１ｈ，１１１ｈ，１１１ｈ－２…共通電極、１１ｈ２…仕切開口部、１１ｉ，３１１ｉ…ゲート配線（走査配線）、１１ｊ，１１１ｊ，１１１ｊ－１，１１１ｊ－２，１１１ｊ－３，２１１ｊ，２１１ｊ－４，３１１ｊ，３１１ｊ－５…ソース配線（信号配線）、１２，４１２…ドライバ（駆動回路部）、１４，１１４，１１４－１，１１４－２，１１４－３，２１４，２１４－４，３１４，３１４－５，４１４…タッチ電極（位置検出電極）、１５，１１５，１１５－１，１１５－３，２１５，３１５，４１５…タッチ配線（位置検出配線）、１９，１１９，１１９－１，１１９－２，１１９－３，２１９，２１９－４，３１９，３１９－５…第１透明電極膜（導電膜、透明電極膜）、２０，１２０，２２０，３２０…第２金属膜（導電膜、金属膜）、２１，１２１，１２１－１，１２１－２，２２１，３２１…透明電極膜間絶縁膜（絶縁膜）、２２，１２２，１２２－２，２２２，３２２…第２透明電極膜、２３，１２３，２２３，３２３…コンタクトホール、２４…ソース配線重畳開口部（信号配線重畳開口部）、２５…タッチ配線重畳開口部（位置検出配線重畳開口部）、２６，４２６…ソース引き出し配線（信号引き出し配線）、２７，４２７…タッチ引き出し配線（位置検出引き出し配線）、２８，２８－１，２８－２，２８－３，２２８，２２８－４，３２８，３２８－５…層間絶縁膜、３１…タッチ配線用コンタクトホール（コンタクトホール）、３１５Ａ…第１タッチ配線（第１位置検出配線）、３１５Ｂ…第２タッチ配線（第２位置検出配線）、ＡＡ…表示領域、ＮＡＡ…非表示領域

Claims

　間隔を空けて並ぶ複数の画素電極と、
　位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、前記位置入力体による入力位置を検出する位置検出電極と、
　隣り合う前記画素電極の間に挟み込まれる形で配されて前記位置検出電極に接続される位置検出配線と、
　前記位置検出配線に並行する形で延在して前記画素電極に供給される画像信号を伝送する信号配線であって、前記位置検出配線を挟み込む２つの前記画素電極を前記位置検出配線との間でそれぞれ挟み込む形で配される少なくとも２つの信号配線と、を備える位置入力機能付き表示装置。
　前記位置検出配線及び前記信号配線の少なくとも一部ずつを構成する導電膜を備える請求項１記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極を構成する透明電極膜を備えており、
　前記導電膜には、少なくとも前記透明電極膜が含まれる請求項２記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの一方側を構成する第１透明電極膜と、
　前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの他方側を構成して前記第１透明電極膜との間に透明電極膜間絶縁膜が介在する第２透明電極膜と、
　前記第１透明電極膜に対して前記第２透明電極膜側とは反対側に配されて前記第１透明電極膜との間に層間絶縁膜が介在する金属膜と、を備えており、
　前記導電膜には、少なくとも前記金属膜が含まれる請求項２記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極に対して前記透明電極膜間絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成する共通電極を備えており、
　前記透明電極膜間絶縁膜は、前記層間絶縁膜よりも膜厚が小さい請求項４記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの一方側を構成する第１透明電極膜と、
　前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの他方側を構成して前記第１透明電極膜との間に透明電極膜間絶縁膜が介在する第２透明電極膜と、
　前記第１透明電極膜に対して前記第２透明電極膜側とは反対側に配されて前記第１透明電極膜との間に層間絶縁膜が介在する金属膜と、を備えており、
　前記第１透明電極膜は、前記位置検出配線の少なくとも一部を構成するのに対し、前記金属膜は、前記信号配線の少なくとも一部を構成する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの一方側を構成する第１透明電極膜と、
　前記画素電極及び前記位置検出電極のうちの他方側を構成して前記第１透明電極膜との間に透明電極膜間絶縁膜が介在する第２透明電極膜と、
　前記第１透明電極膜に対して前記第２透明電極膜側とは反対側に配されて前記第１透明電極膜との間に層間絶縁膜が介在する金属膜と、を備えており、
　前記金属膜は、前記信号配線の少なくとも一部と、前記位置検出配線の一部である第１位置検出配線と、を構成するのに対し、前記第１透明電極膜は、前記位置検出配線の一部であって前記第１位置検出配線と重畳する形で配され且つ前記層間絶縁膜に開口形成されたコンタクトホールを通して前記第１位置検出配線に接続される第２位置検出配線を構成する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記信号配線及び前記位置検出配線と交差する形で延在して走査信号が伝送される走査配線と、
　前記画素電極、前記信号配線及び前記走査配線に接続されて前記走査信号に基づいて駆動されて前記画像信号に基づく電位を前記画素電極に充電可能なスイッチング素子と、を備えており、
　前記走査配線は、隣り合う前記画素電極の間に挟み込まれていて一対が間隔を空けて互いに並行する形で配されるのに対し、前記スイッチング素子は、一対の前記走査配線と、前記信号配線と、その信号配線を挟み込む形で配される少なくとも２つの前記画素電極と、にそれぞれ接続される形で少なくとも２つが配される請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成していて隣り合う前記位置検出電極の間を仕切る仕切開口部を有する共通電極を備えており、
　前記共通電極は、前記仕切開口部の少なくとも一部が、一対の前記走査配線の間に位置する形で配されている請求項８記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成する共通電極を備えており、
　前記位置検出配線は、前記絶縁膜のうち一対の前記走査配線の間に位置して開口形成されたコンタクトホールを通して前記位置検出電極に接続される請求項８または請求項９記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記位置検出電極は、前記信号配線の少なくとも一部と重畳する形で配される信号配線重畳開口部を有する請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記位置検出電極は、前記位置検出配線の少なくとも一部と重畳する形で配される位置検出配線重畳開口部を有する請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する形で配され、自身が分割されることで複数の前記位置検出電極を構成していて隣り合う前記位置検出電極の間を仕切る仕切開口部を有する共通電極を備えており、
　前記共通電極は、前記仕切開口部が前記信号配線及び前記位置検出配線の少なくともいずれか一方における少なくとも一部と重畳する形で配される請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記共通電極は、前記仕切開口部が前記位置検出配線における少なくとも一部と選択的に重畳する形で配される請求項１３記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極、前記位置検出電極、前記位置検出配線及び前記信号配線が少なくとも配されて画像が表示される表示領域と、
　前記表示領域を取り囲む非表示領域と、
　前記非表示領域に実装される駆動回路部と、
　前記非表示領域に配されて一端側が前記信号配線に、他端側が前記駆動回路部にそれぞれ接続される信号引き出し配線と、
　前記非表示領域に配されて一端側が前記位置検出配線に、他端側が前記駆動回路部にそれぞれ接続される位置検出引き出し配線と、を備えており、
　前記信号引き出し配線及び前記位置検出引き出し配線は、互いに並行する形で延在する請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。