Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

WO2017159298A1 - ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法 - Google Patents

ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2017159298A1
WO2017159298A1 PCT/JP2017/007183 JP2017007183W WO2017159298A1 WO 2017159298 A1 WO2017159298 A1 WO 2017159298A1 JP 2017007183 W JP2017007183 W JP 2017007183W WO 2017159298 A1 WO2017159298 A1 WO 2017159298A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
polyimide
solvent
reaction
aprotic amide
amide solvent
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/007183
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
晃久 松丸
洋平 安孫子
末永　修也
Original Assignee
三菱瓦斯化学株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三菱瓦斯化学株式会社 filed Critical 三菱瓦斯化学株式会社
Priority to JP2018505768A priority Critical patent/JP7077939B2/ja
Priority to CN201780015633.1A priority patent/CN108779249B/zh
Priority to EP17766303.6A priority patent/EP3431525B1/en
Priority to US16/083,099 priority patent/US11421079B2/en
Priority to KR1020187026087A priority patent/KR102731040B1/ko
Publication of WO2017159298A1 publication Critical patent/WO2017159298A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003—Preparatory processes
    • C08G73/1007—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/1028—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous
    • C08G73/1032—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous characterised by the solvent(s) used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003—Preparatory processes
    • C08G73/1007—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1075—Partially aromatic polyimides
    • C08G73/1078—Partially aromatic polyimides wholly aromatic in the diamino moiety

Definitions

  • the present invention relates to a method for controlling a polyimide skeleton structure and a method for producing polyimide.
  • Polyimide having properties such as transparency, sufficient film toughness, low dielectric constant, and high glass transition temperature are used for liquid crystal alignment films, electrical insulating films in various electronic devices, interlayer insulating films and protective films for semiconductor elements, and substrates for liquid crystal display elements. Widely used in organic electroluminescence (EL) display element substrates, electronic paper substrates, solar cell substrates, optical waveguide substrates, heated article conveyance belts, electrophotographic fixing belts or intermediate transfer belts, etc. Yes.
  • EL organic electroluminescence
  • a useful compound for polyimide raw materials is 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. Polyimide produced using this compound is likely to have high transparency, low dielectric constant, and high toughness.
  • 1,2,4,5-Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride can be obtained by various methods, and by any method, it is represented by the following formula (A) which is a cis form (1S, 2R, 4S , 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride is easily obtained. This is presumably because (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride has the most thermodynamically stable steric structure (see, for example, Patent Document 1).
  • the polyimide obtained by reacting (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and diamine is (1S, 2R, 4S, 5R represented by the following formula (B): ) -Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride has a skeletal structure (sometimes referred to as “cis-type structure”).
  • R represents a divalent organic group derived from a diamine component.
  • a polyimide having a cis-type structure has a low viscosity, so that there is a limit to the film thickness that can be formed. That is, to form a thin film, it is necessary to further dilute the coating solution, but the dilution rate is limited due to the low viscosity. In addition, when a thick film is to be formed, it is necessary to concentrate the coating solution, but this is not practical. On the other hand, if a coating liquid having a certain degree of viscosity is obtained, the range of dilution rate can be widened or the coating can be performed in a high viscosity state, so that the above problem can be solved.
  • a polyimide manufactured using 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride can be made to have a high viscosity without changing its composition and molecular weight, it can be used from a thin film to a thick film.
  • the field of application can be expanded.
  • the object of the present invention is to provide a polyimide production method capable of preparing a polyimide having a desired viscosity from low viscosity to high viscosity while having the same composition and molecular weight, and a polyimide skeleton structure applied to the polyimide production method. It is to provide a control method.
  • the present inventors In an organic solvent containing an aprotic amide solvent and a lactone solvent, the present inventors have obtained a diamine component and (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride as a cis isomer.
  • the reaction conditions of one or more of the mass ratio of the aprotic amide solvent and the lactone solvent, the reaction temperature, the reaction time, and the amount of the aprotic amide solvent are adjusted. It has been found that the above problems can be solved by a method for controlling a polyimide skeleton structure, and the present invention has been completed.
  • the present invention relates to the following [1] to [4].
  • [1] When preparing a polyimide by reacting a diamine component and (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride in an organic solvent containing an aprotic amide solvent and a lactone solvent.
  • the cis structure derived from the (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride in the resulting polyimide is expressed as (1R, 2S, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride.
  • the manufacturing method of the polyimide which can prepare the polyimide which has desired viscosity from low viscosity to high viscosity, although it is the same composition and molecular weight, and control of the polyimide frame
  • the polyimide skeleton structure control method of the present invention comprises a diamine component and (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride in an organic solvent containing an aprotic amide solvent and a lactone solvent.
  • R represents a divalent organic group derived from a diamine component.
  • the mass ratio of the aprotic amide solvent to the lactone solvent, the reaction temperature, the reaction time, and the amount of the aprotic amide solvent in the organic solvent containing the aprotic amide solvent and the lactone solvent are adjusted.
  • One or more of the reaction conditions are adjusted, and according to the reaction conditions, the cis-type structure in the resulting polyimide is a trans isomer represented by the following formula (C): (1R, 2S, 4S,
  • C trans isomer represented by the following formula (C): (1R, 2S, 4S,
  • the ratio of the trans structure can be controlled.
  • the viscosity of the polyimide can be increased accordingly.
  • R represents a divalent organic group derived from a diamine component.
  • the mass ratio of the aprotic amide solvent to the lactone solvent (aprotic amide solvent: lactone solvent) during the reaction is preferably constant in the range of 0: 100 to 80:20. .
  • “constant” in “constant in the range of 0: 100 to 80:20” means that it is within the range of ⁇ 3 of the set value selected from the range of 0: 100 to 80:20. .
  • the aprotic amide solvent: lactone solvent is set to 30:70, the range of 27 to 33:73 to 67 corresponds to the above “constant”.
  • the reaction temperature is preferably constant in the range of 170 to 200 ° C., although it depends on the boiling point of the solvent. As the reaction temperature increases, the proportion of the trans type increases.
  • “constant” in “constant in the range of 170 to 200 ° C.” means being within a range of ⁇ 5 ° C. of a set value selected from the range of 170 to 200 ° C. For example, when set to 180 ° C., if the actual temperature is in the range of 175 ° C. to 185 ° C., it corresponds to the above “constant”.
  • the reaction time is preferably constant in the range of 1 to 72 hours. As the reaction time increases, the proportion of the trans form increases.
  • the “reaction time” refers to the time at which the target temperature is reached and the time at which the reaction temperature is maintained at the set temperature ⁇ 5 ° C. from the time when the target temperature is reached.
  • the term “constant” in “constant in the range of 1 to 72 hours” means that the installation time is within a range of ⁇ 5 minutes selected from the range of 1 to 72 hours. For example, when the reaction time is set to 3 hours and the actual reaction time is in the range of 2 hours 55 minutes to 3 hours 5 minutes, it corresponds to the above “constant”.
  • the amount of the aprotic amide solvent is preferably constant in the range of 20 to 60% by mass in the organic solvent.
  • concentration of the aprotic amide solvent in the organic solvent increases, the trans ratio increases.
  • Constant in “constant in the range of 20 to 60% by mass in the organic solvent” means that it is within a range of ⁇ 3% by mass of a set value selected from the range of 20 to 60% by mass. Say. For example, when the aprotic amide solvent is set to 30% by mass, a range of 27 to 33% by mass corresponds to the above “constant”.
  • the mass ratio of the aprotic amide solvent and the lactone solvent it is preferable to adjust the mass ratio of the aprotic amide solvent and the lactone solvent and to keep the reaction temperature constant at 170 ° C. or higher from the viewpoint of efficiently converting to the trans type.
  • the present invention is produced by adjusting one or more reaction conditions among the mass ratio of the aprotic amide solvent and the lactone solvent, the reaction temperature, the reaction time, and the amount of the aprotic amide solvent.
  • the proportion of the trans-type structure in the polyimide can be controlled. From the viewpoint of increasing the viscosity of the polyimide to be produced, it is preferable to control the ratio of the trans structure to be large. Specifically, it is preferable to control the ratio of the trans structure to 10 mol% or more, and 25 mol%. It is more preferable to control to above, and it is more preferable to control to 50 mol% or more.
  • the mass ratio of the aprotic amide solvent to the lactone solvent is constant in the range of 10:90 to 80:20. It is preferable to make it constant, more preferably in the range of 20:80 to 80:20, and still more preferably constant in the range of 30:70 to 80:20.
  • the reaction temperature is preferably constant in the range of 170 to 200 ° C, preferably constant in the range of 180 to 200 ° C, and in the range of 190 to 200 ° C. More preferably, it is constant.
  • the reaction time is preferably constant in the range of 1 to 72 hours, more preferably in the range of 3 to 72 hours, and in the range of 5 to 72 hours. It is more preferable to make it constant.
  • the amount of the aprotic amide solvent is preferably constant in the range of 20 to 60% by mass in the organic solvent and constant in the range of 25 to 60% by mass. More preferably, it is more preferably constant in the range of 30 to 60% by mass.
  • the ratio of a cis type structure and a trans type structure can be calculated
  • N N-dimethylisobutyramide
  • N N-dimethylformamide
  • N N-dimethylacetamide
  • N-methyl-2-pyrrolidone N-methylcaprolactam
  • 1 3-dimethylimidazolidinone, tetramethylurea, etc.
  • lactone solvent examples include ⁇ -butyrolactone and ⁇ -valerolactone.
  • any solvent that does not inhibit the imidization reaction and can dissolve the formed polyimide resin may be used.
  • examples include aprotic solvents other than amide solvents and lactone solvents, phenol solvents, ether solvents, carbonate solvents, and the like.
  • aprotic solvents other than amide solvents and lactone solvents include phosphorus-containing amide solvents such as hexamethylphosphoric amide and hexamethylphosphine triamide, sulfur-containing dimethylsulfone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. And solvents such as ketone solvents such as acetone, cyclohexanone and methylcyclohexanone, amine solvents such as picoline and pyridine, and ester solvents such as acetic acid (2-methoxy-1-methylethyl).
  • phenol solvent examples include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4 -Xylenol, 3,5-xylenol and the like.
  • ether solvent examples include 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2- (2-methoxyethoxy) ethyl]. Examples include ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like.
  • carbonate solvent examples include diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, and the like. You may use the said solvent individually or in mixture of 2 or more types.
  • the total content of the aprotic amide solvent and the lactone solvent in the organic solvent is preferably 20 to 100% by mass, and more preferably 40 to 100% by mass.
  • the diamine component becomes a divalent organic group which is R in the above-described formula by reaction.
  • the diamine component is not particularly limited, and an aromatic diamine compound containing 6 to 28 carbon atoms or an aliphatic diamine compound containing 2 to 28 carbon atoms can be used.
  • aromatic diamine compound examples include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl, and 4,4′-diamino- 3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-ditrifluoromethylbiphenyl, 2,2'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoro Methyl) benzidine, 3,3′-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminobenzophenone, 4 , 4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4
  • aliphatic diamine compound examples include ethylene diamine, hexamethylene diamine, polyethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, polypropylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, , 4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 3 (4), 8 (9) -bis (aminomethyl) -tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane, Mention may be made of aliphatic diamine compounds such as metaxylylenediamine, paraxylylenediamine, isophorone diamine, norbornane diamine, and siloxane diamines.
  • aromatic diamine compounds include 4,4′-diamino-3,3′-dimethylbiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-ditrifluoromethylbiphenyl, 2,2 '-Dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3 -Bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane.
  • Examples of the aliphatic diamine compound include 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 3 (4), 8 (9) -bis (aminomethyl) -tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane.
  • the charge ratio of (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride to diamine component is diamine to 1 mol of (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride.
  • the component is preferably 0.9 to 1.1 mol.
  • a terminal blocking agent may be used.
  • monoamines or dicarboxylic acids are preferred.
  • the amount of terminal blocking agent to be introduced is preferably 0.0001 to 0.1 mol, particularly 0.001 with respect to 1 mol of (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. ⁇ 0.06 mol is preferred.
  • Examples of monoamine end-capping agents include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, benzylamine, 4-methylbenzylamine, 4-ethylbenzylamine, 4-dodecylbenzylamine, 3-methylbenzylamine, 3- Ethylbenzylamine, aniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline and the like are recommended. Of these, benzylamine and aniline can be preferably used.
  • dicarboxylic acid end-capping agent dicarboxylic acids are preferable, and a part of them may be closed.
  • phthalic acid, phthalic anhydride, 4-chlorophthalic acid, tetrafluorophthalic acid, 2,3-benzophenone dicarboxylic acid, 3,4-benzophenone dicarboxylic acid, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid, cyclopentane-1,2 -Dicarboxylic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid and the like are recommended.
  • phthalic acid and phthalic anhydride can be suitably used.
  • a diamine component and an organic solvent are charged into a reactor and dissolved, and then stirred at room temperature to 80 ° C. as necessary to obtain (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexane.
  • the imidization reaction it is preferable to perform the reaction using a Dean Stark apparatus or the like while removing water generated during production. By performing such an operation, the imidization reaction can be promoted and the degree of polymerization can be increased.
  • a known imidation catalyst can be used.
  • the imidization catalyst include a base catalyst and an acid catalyst.
  • Base catalysts include pyridine, quinoline, isoquinoline, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, imidazole, N, N-dimethylaniline
  • organic base catalysts such as N, N-diethylaniline and inorganic base catalysts such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate.
  • the acid catalyst examples include crotonic acid, acrylic acid, trans-3-hexenoic acid, cinnamic acid, benzoic acid, methylbenzoic acid, oxybenzoic acid, terephthalic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, etc. Is mentioned.
  • the above imidation catalysts may be used alone or in combination of two or more.
  • a base catalyst more preferably an organic base catalyst, and still more preferably triethylamine.
  • the polyimide production method of the present invention comprises reacting a diamine component with (1S, 2R, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride in an organic solvent containing an aprotic amide solvent and a lactone solvent.
  • the polyimide is manufactured using the above-described method for controlling the polyimide skeleton structure of the present invention.
  • the aprotic amide solvent, the lactone solvent, the organic solvent other than these, the diamine component, and the like are as described in the “method for controlling the polyimide skeleton structure of the present invention”.
  • the mass ratio of the aprotic amide solvent and the lactone solvent may be adjusted to keep the reaction temperature constant at 170 ° C. or higher. preferable.
  • the ratio of the trans structure suitable from the viewpoint of increasing the viscosity of the polyimide to be produced is as described in the “control method of the polyimide skeleton structure of the present invention”. Furthermore, for the preferable range regarding each of the mass ratio of the aprotic amide solvent and the lactone solvent, the reaction temperature, the reaction time, and the amount of the aprotic amide solvent, “the method for controlling the polyimide skeleton structure of the present invention” As described above.
  • the polyimide obtained by the production method of the present invention may be mixed with various additives to make a polyimide composition as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the additive include an antioxidant, a light stabilizer, a surfactant, a flame retardant, a plasticizer, and a polymer compound other than the polyimide described above.
  • the polyimide obtained by the production method of the present invention and the polyimide composition containing this polyimide can have a desired viscosity from low viscosity to high viscosity while having the same composition and molecular weight.
  • substrates for liquid crystal display elements substrates for organic electroluminescence (EL) display elements, substrates for electronic paper, substrates for solar cells, substrates for optical waveguides, belts for conveying heated articles, fixing belts for electrophotography, or It can also be applied to thick film applications such as an intermediate transfer belt.
  • EL organic electroluminescence
  • Example 1 2,2'-dimethyl in a 0.3L 5-neck glass round bottom flask equipped with a stainless steel half-moon stirrer, nitrogen inlet tube, Dean Stark fitted with a cooling tube, thermometer and glass end cap
  • Benzidine (Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) 16.10 g (0.076 mol), 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) 6.07 g (0.019) Mol), 44.10 g of ⁇ -butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 4.78 g of triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a catalyst were stirred at 200 rpm under a nitrogen atmosphere of 70 ° C.
  • this self-supporting film is made from a glass substrate.
  • the solvent was removed by peeling off, fixing the film edge, and drying in a nitrogen atmosphere at 280 ° C. for 2 hours to obtain a polyimide film having a thickness of 65 ⁇ m.
  • Example 2 In a 0.3 L 5-neck glass round bottom flask similar to that used in Example 1, 2,2′-dimethylbenzidine (Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) 20.15 g (0.095 mol), 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) 7.60 g (0.024 mol), ⁇ -butyrolactone (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 44.54 g, and as a catalyst A solution was obtained by stirring 5.99 g of triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) at a system temperature of 70 ° C. under a nitrogen atmosphere at 200 rpm.
  • triethylamine manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.
  • the obtained polyimide resin contained structural units derived from 2,2′-dimethylbenzidine and 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine.
  • the ratio of the structural unit derived from 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine to the total of the structural units derived was 20 mol%. Further, disappearance of the raw material peak and the appearance of a peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, a polyimide film was prepared from a polyimide resin solution, and NMR measurement was performed on this polyimide film. From the NMR measurement, it was found that among the structures derived from 1,2,3,4-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, the cis-type structure contained 37 mol% and the trans-type structure contained 63 mol%.
  • Example 3 In a five-neck glass round bottom flask similar to that used in Example 1, 16.1 g (0.076 mol) of 2,2′-dimethylbenzidine (Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.), 2,2 '-Bis (trifluoromethyl) benzidine (manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) 6.070 g (0.019 mol), ⁇ -butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 25.45 g, and triethylamine (Kanto) as a catalyst (Chemical Co., Ltd.) 4.795 g was stirred at 200 rpm in a nitrogen atmosphere at a system temperature of 70 ° C.
  • the obtained polyimide resin contained structural units derived from 2,2′-dimethylbenzidine and 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine.
  • the ratio of the structural unit derived from 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine to the total of the structural units derived was 20 mol%. Further, disappearance of the raw material peak and the appearance of a peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, a polyimide film was prepared from a polyimide resin solution, and NMR measurement was performed on this polyimide film. From the NMR measurement, it was found that among the structures derived from 1,2,3,4-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, the cis-type structure was 41 mol% and the trans-type structure was 59 mol%.
  • the isomerization rate was calculated from the following formula from the integrated value of the peak derived from the cyclohexanetetracarboxylic acid moiety found at ⁇ 2.2 ppm, 2.1 ppm, and 2.3 ppm.
  • Ratio of transformer structure (mol%) 2.2 ppm / (2.2 ppm + 2.3 ppm + 2.1 ppm)
  • Ratio of cis structure (mol%) 100-Trans ratio of trans structure
  • the reaction temperature was kept constant at 190 ° C., and the mass ratio of N, N-dimethylacetamide (aprotic amide solvent) and ⁇ -butyrolactone (lactone solvent) was changed to change the trans structure.
  • the ratio could be controlled.
  • the reaction temperature was 180 ° C. lower than 190 ° C., the proportion of the trans-type structure similar to that of Example 2 could be obtained by increasing the proportion of N, N-dimethylacetamide.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中の（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造を、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造に変換して、トランス型構造の割合を制御する、ポリイミド骨格構造の制御方法。

Description

ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法
　本発明はポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法に関する。
　透明性、十分な膜靭性、低い誘電率及び高いガラス転移温度といった特性を有するポリイミドは、液晶配向膜、各種電子デバイスにおける電気絶縁膜、半導体素子の層間絶縁膜及び保護膜、液晶表示素子用基板、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光導波路用基板、加熱物品の搬送用ベルト、電子写真方式の定着ベルト若しくは中間転写ベルト等において幅広く用いられている。
　ポリイミド原料の有用な化合物として、１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物がある。この化合物を用いて製造されたポリイミドは、高透明性、低誘電率、高靭性が得られやすい。
　１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物は種々の方法で得られるが、いずれの方法によっても、シス体である、下記式（Ａ）で表される（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物が得られやすい。これは、（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物が、熱力学的に最も安定な立体構造をとっているためと考えられている（例えば、特許文献１参照）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　そして、（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて得られるポリイミドは、下記式（Ｂ）で表されるような（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来する骨格構造（「シス型構造」ということがある）を有することになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （上記式中、Ｒはジアミン成分に由来する２価の有機基を表す。）
特開２００９－２８６７０６号公報
　シス型構造を有するポリイミドでは粘度が低いため、形成できる膜厚に制限があった。すなわち、薄膜を形成しようとすると塗布液をさらに希釈する必要があるが、粘度が低いことにより希釈率にも限度がある。また、厚膜を形成しようとすると塗布液を濃縮する必要があるが、これを行うことはあまり実際的ではない。
　一方で、ある程度粘度の高い塗布液が得られれば、希釈率の幅が広がったり、粘度の高い状態で塗布できたりするため、上記問題を解決できる。
　つまり、１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物を用いて製造されるポリイミドで、その組成及び分子量を変えることなく、粘度の高いものまで作製できれば、薄膜から厚膜用途にまで適用分野を広げることができる。
　以上から本発明の課題は、同一の組成及び分子量でありながら、低粘度から高粘度まで所望の粘度を有するポリイミドを調製できるポリイミドの製造方法、及び当該ポリイミドの製造方法に適用されるポリイミド骨格構造の制御方法を提供することにある。
　本発明者らは、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と、シス体である、（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整するポリイミド骨格構造の制御方法により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
　すなわち本発明は、下記［１］～［４］に関する。
［１］　非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び前記非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中の前記（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造を、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造に変換して、該トランス型構造の割合を制御する、ポリイミド骨格構造の制御方法。
［２］　前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比を調整し、前記反応温度を１７０℃以上で一定とする［１］に記載のポリイミド骨格構造の制御方法。
［３］　非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び前記非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中の前記（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造を、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造に変換して、該トランス型構造の割合を制御して、ポリイミドを製造する方法。
［４］　前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比を調整し、前記反応温度を１７０℃以上で一定とする［３］に記載のポリイミドを製造する方法。
　本発明によれば、同一の組成及び分子量でありながら、低粘度から高粘度まで所望の粘度を有するポリイミドを調製できるポリイミドの製造方法、及び当該ポリイミドの製造方法に適用されるポリイミド骨格構造の制御方法を提供することができる。
［ポリイミド骨格構造の制御方法］
　本発明のポリイミド骨格構造の制御方法は、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中の（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造を、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造に変換して、そのトランス型構造の割合を制御する方法である。
　ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させると、通常であれば、下記式（Ｂ）で表される（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造のポリイミドが得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （上記式中、Ｒはジアミン成分に由来する２価の有機基を表す。）
　本発明では、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、反応温度、反応時間、及び非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中のシス型構造を、下記式（Ｃ）で表される、トランス体である、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造（下記式（Ｄ））に変換して、そのトランス型構造の割合を制御することができる。
　そして、トランス型構造の割合を大きくすることにより、これに応じてポリイミドの粘度を上昇させることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （上記式中、Ｒはジアミン成分に由来する２価の有機基を表す。）
　ここで、反応を行う際の非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比（非プロトン性アミド溶媒：ラクトン系溶媒）は、０：１００～８０：２０の範囲で一定とすることが好ましい。非プロトン性アミド溶媒の割合が高くなるほどトランス型の割合が大きくなる。
　ここで、「０：１００～８０：２０の範囲で一定とする」の「一定」とは、０：１００～８０：２０の範囲から選ばれる設定値の±３の範囲内にあることをいう。例えば、非プロトン性アミド溶媒：ラクトン系溶媒を３０：７０と設定した場合、２７～３３：７３～６７の範囲にあれば、上記「一定」に相当する。
　また、反応温度としては、溶媒の沸点にもよるが、１７０～２００℃の範囲で一定とすることが好ましい。反応温度が高くなるに従って、トランス型の割合が大きくなる。
　ここで、「１７０～２００℃の範囲で一定とする」の「一定」とは、１７０～２００℃の範囲から選ばれる設定値の±５℃の範囲内にあることをいう。例えば、１８０℃に設定した場合、実際の温度が１７５℃～１８５℃の範囲にあれば、上記「一定」に相当する。
　反応時間としては、１～７２時間の範囲で一定とすることが好ましい。反応時間が長くなるに従って、トランス型の割合が大きくなる。
　ここで、「反応時間」とは、目標温度に到達した時点を反応開始時間として、そこから設定温度±５℃に維持できた時間をいい、反応を終了して設定温度から６℃下がった時点で反応終了とする。そして、「１～７２時間の範囲で一定とする」の「一定」とは、１～７２時間の範囲から選ばれる設置時間の±５分の範囲にあることをいう。例えば、反応時間を３時間に設定した場合、実際の反応時間が２時間５５分～３時間５分の範囲にあれば、上記「一定」に相当する。
　さらに、非プロトン性アミド溶媒の量としては、有機溶媒中２０～６０質量％の範囲で一定とすることが好ましい。有機溶媒中の非プロトン性アミド溶媒の濃度が大きくなるに従って、トランス型の割合が大きくなる。
　ここで、「有機溶媒中２０～６０質量％の範囲で一定とする」の「一定」とは、２０～６０質量％の範囲から選ばれる設定値の±３質量％の範囲内にあることをいう。例えば、非プロトン性アミド溶媒を３０質量％と設定した場合、２７～３３質量％の範囲にあれば、上記「一定」に相当する。
　既述の条件の中でも、トランス型への変換を効率よく行う観点から、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比を調整し、反応温度を１７０℃以上で一定とすることが好ましい。
　本発明においては、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び前記非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整することで、生成するポリイミド中のトランス型構造の割合を制御することができる。生成するポリイミドの粘度を高める観点からは、トランス型構造の割合が大きくなるように制御することが好ましく、具体的には、トランス型構造の割合を１０ｍｏｌ％以上に制御することが好ましく、２５ｍｏｌ％以上に制御することがより好ましく、５０ｍｏｌ％以上に制御することがさらに好ましい。
　トランス型構造の割合を大きくする観点からは、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比（非プロトン性アミド溶媒：ラクトン系溶媒）は、１０：９０～８０：２０の範囲で一定とすることが好ましく、２０：８０～８０：２０の範囲で一定とすることがより好ましく、３０：７０～８０：２０の範囲で一定とすることがさらに好ましい。
　トランス型構造の割合を大きくする観点からは、反応温度は１７０～２００℃の範囲で一定とすることが好ましく、１８０～２００℃の範囲で一定とすることが好ましく、１９０～２００℃の範囲で一定とすることがさらに好ましい。
　トランス型構造の割合を大きくする観点からは、反応時間は１～７２時間の範囲で一定とすることが好ましく、３～７２時間の範囲で一定とすることがより好ましく、５～７２時間の範囲で一定とすることがさらに好ましい。
　トランス型構造の割合を大きくする観点からは、非プロトン性アミド溶媒の量は、有機溶媒中２０～６０質量％の範囲で一定とすることが好ましく、２５～６０質量％の範囲で一定とすることがより好ましく、３０～６０質量％の範囲で一定とすることがさらに好ましい。
　なお、シス型構造及びトランス型構造の割合は、実施例に記載の方法で求めることができる。
　ここで、非プロトン性アミド溶媒としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド（ＤＭＩＢ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－メチルカプロラクタム、１，３－ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等が挙げられる
　ラクトン系溶媒としては、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン等が挙げられる。
　非プロトン性アミド溶媒及びラクトン系溶媒以外の有機溶媒としては、イミド化反応を阻害せず、生成するポリイミド樹脂を溶解できるものであればよい。例えば、アミド系溶媒及びラクトン系溶媒以外の非プロトン性溶媒、フェノール系溶媒、エーテル系溶媒、カーボネート系溶媒等が挙げられる。
　アミド系溶媒及びラクトン系溶媒以外の非プロトン性溶媒の具体例としては、ヘキサメチルホスホリックアミド、ヘキサメチルホスフィントリアミド等の含リン系アミド系溶媒、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、ピコリン、ピリジン等のアミン系溶媒、酢酸（２－メトキシ－１－メチルエチル）等のエステル系溶媒等が挙げられる。
　フェノール系溶媒の具体例としては、フェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、２，３－キシレノール、２，４－キシレノール、２，５－キシレノール、２，６－キシレノール、３，４－キシレノール、３，５－キシレノール等が挙げられる。
　エーテル系溶媒の具体例としては、１，２－ジメトキシエタン、ビス（２－メトキシエチル）エーテル、１，２－ビス（２－メトキシエトキシ）エタン、ビス〔２－（２－メトキシエトキシ）エチル〕エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等が挙げられる。
　また、カーボネート系溶媒の具体的な例としては、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。
　上記溶媒は単独で又は２種以上混合して用いてもよい。
　有機溶媒中の非プロトン性アミド溶媒及びラクトン系溶媒の合計含有量は、２０～１００質量％であることが好ましく、４０～１００質量％であることがより好ましい。
　また、ジアミン成分は反応により既述の式中のＲである２価の有機基となる。このようなジアミン成分としては特に限定はされないが、６～２８の炭素原子を含む芳香族ジアミン化合物又は２～２８の炭素原子を含む脂肪族ジアミン化合物を用いることができる。
　上記芳香族ジアミン化合物としては、例えば、ｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－ジアミノ－２，２’－ジメチルビフェニル、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルビフェニル、４，４’－ジアミノ－２，２’－ジトリフルオロメチルビフェニル、２，２’－ジメチルベンジジン、３，３’－ジメチルベンジジン、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、３，３’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、４，４’－ジアミノジフェニルスルフィド、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］－１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパン、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレンなどの芳香族ジアミン化合物が挙げられる。
　上記脂肪族ジアミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリエチレングリコールビス（３－アミノプロピル）エーテル、ポリプロピレングリコールビス（３－アミノプロピル）エーテル、１，３－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、４，４’－ジアミノジシクロヘキシルメタン、３（４），８（９）－ビス（アミノメチル）－トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミン、シロキサンジアミン類などの脂肪族ジアミン化合物を挙げることができる。
　これらは１種類単独かあるいは２種類以上を混合して使用することができる。これらのジアミン化合物のうち、好ましい芳香族ジアミン化合物としては、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルビフェニル、４，４’－ジアミノ－２，２’－ジトリフルオロメチルビフェニル、２，２’－ジメチルベンジジン、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］－１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパンが挙げられる。
　脂肪族ジアミン化合物では４，４’－ジアミノジシクロヘキシルメタン、３（４），８（９）－ビス（アミノメチル）－トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンが挙げられる。
　（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とジアミン成分との仕込み量比は、（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物１モルに対してジアミン成分が０．９～１．１モルであることが好ましい。
　また（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ジアミン成分の他に、末端封止剤を用いてもよい。末端封止剤としてはモノアミン類あるいはジカルボン酸類が好ましい。導入される末端封止剤の仕込み量としては、（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物１モルに対して０．０００１～０．１モルが好ましく、特に０．００１～０．０６モルが好ましい。モノアミン類末端封止剤としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ベンジルアミン、４－メチルベンジルアミン、４－エチルベンジルアミン、４－ドデシルベンジルアミン、３－メチルベンジルアミン、３－エチルベンジルアミン、アニリン、３－メチルアニリン、４－メチルアニリン等が推奨される。これらのうち、ベンジルアミン、アニリンが好適に使用できる。ジカルボン酸類末端封止剤としては、ジカルボン酸類が好ましく、その一部を閉環していてもよい。例えば、フタル酸、無水フタル酸、４－クロロフタル酸、テトラフルオロフタル酸、２，３－ベンゾフェノンジカルボン酸、３，４－ベンゾフェノンジカルボン酸、シクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸、シクロペンタン－１，２－ジカルボン酸、４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸等が推奨される。これらのうち、フタル酸、無水フタル酸が好適に使用できる。
　（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを反応（イミド化反応）させるまでの操作手順には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
　具体的な反応方法としては、（１）ジアミン成分及び有機溶媒を反応器に仕込んで溶解させた後、必要に応じて室温～８０℃で攪拌し、（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物を仕込み、その後に昇温してイミド化反応を行う方法、（２）（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ジアミン成分、及び有機溶媒を反応器に仕込み、室温～８０℃で撹拌し、その後に昇温してイミド化反応を行う方法、（３）（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ジアミン成分、及び有機溶媒を反応器に仕込み、直ちに昇温してイミド化反応を行う方法等が挙げられる。
　イミド化反応では、ディーンスターク装置などを用いて、製造時に生成する水を除去しながら反応を行うことが好ましい。このような操作を行うことで、イミド化反応を促進し、重合度をより大きくすることができる。
　上記のイミド化反応においては、公知のイミド化触媒を用いることができる。イミド化触媒としては、塩基触媒又は酸触媒が挙げられる。
　塩基触媒としては、ピリジン、キノリン、イソキノリン、α－ピコリン、β－ピコリン、２，４－ルチジン、２，６－ルチジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、イミダゾール、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン等の有機塩基触媒、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基触媒が挙げられる。
　また、酸触媒としては、クロトン酸、アクリル酸、トランス－３－ヘキセノイック酸、桂皮酸、安息香酸、メチル安息香酸、オキシ安息香酸、テレフタル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。上記のイミド化触媒は単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　上記のうち、取り扱い性の観点から、塩基触媒を用いることが好ましく、有機塩基触媒を用いることがより好ましく、トリエチルアミンを用いることが更に好ましい。
［ポリイミドの製造方法］
　本発明のポリイミドの製造方法は、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、既述の本発明のポリイミド骨格構造の制御方法を用いてポリイミドを製造する方法である。
　非プロトン性アミド溶媒、ラクトン系溶媒、これら以外の有機溶媒、ジアミン成分等は、「本発明のポリイミド骨格構造の制御方法」で説明したとおりである。
　また、ポリイミド骨格構造の制御方法でも説明したとおり、ポリイミドを調製する際には、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比を調整し、反応温度を１７０℃以上で一定とすることが好ましい。
　また、生成するポリイミドの粘度を高める観点から好適なトランス型構造の割合についても、「本発明のポリイミド骨格構造の制御方法」で説明したとおりである。さらに、非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び非プロトン性アミド溶媒の量、の各々に関する好適な範囲についても、「本発明のポリイミド骨格構造の制御方法」で説明したとおりである。
　なお、本発明の製造方法で得られたポリイミドは、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の添加剤を混合してポリイミド組成物としてもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、光安定剤、界面活性剤、難燃剤、可塑剤、既述のポリイミド以外の高分子化合物等が挙げられる。
　また、本発明の製造方法により得られたポリイミド、及びこのポリイミドを含むポリイミド組成物は、同一の組成及び分子量でありながら、低粘度から高粘度まで所望の粘度とすることができるため、薄膜用途だけでなく、液晶表示素子用基板、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光導波路用基板、加熱物品の搬送用ベルト、電子写真方式の定着ベルト若しくは中間転写ベルトといった厚膜用途にも適用できる。
　以下実施例により本発明を具体的に説明する。但し本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
＜実施例１＞
　ステンレス製半月型攪拌翼、窒素導入管、冷却管を取り付けたディーンスターク、温度計、ガラス製エンドキャップを備えた０．３Ｌの５ツ口ガラス製丸底フラスコ中で、２，２’－ジメチルベンジジン（和歌山精化工業（株）製）１６．１０ｇ（０．０７６モル）、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（和歌山精化工業（株）製）６．０７ｇ（０．０１９モル）、γ－ブチロラクトン（三菱化学（株）製）４４．１０ｇ、及び触媒としてトリエチルアミン（関東化学（株）製）４．７８ｇを、反応系内温度７０℃窒素雰囲気下、２００ｒｐｍで攪拌して溶液を得た。これに（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物（三菱ガス化学（株）製）２１．２５ｇ（０．０９５モル）とＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（三菱ガス化学（株）製）１１．０３ｇをそれぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約２０分かけて反応系内温度を１８０℃まで上げた。留去される成分を捕集し、撹拌数を粘度上昇に合わせて調整しつつ、反応系内温度を１９０℃で３時間維持した。Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１０４．９ｇを添加後、１００℃付近で約２時間攪拌して均一な溶液とし、固形分濃度２０質量％における溶液粘度が３９．９Ｐａ・ｓ（２０ｗｔ％）、後述の対数粘度１．２２ｄＬ／ｇのポリイミド樹脂溶液を得た。
　ポリイミド樹脂溶液を１Ｈ－ＮＭＲにより分析した結果、得られたポリイミド樹脂中の、２，２’－ジメチルベンジジンに由来する構成単位と２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンに由来する構成単位の合計に対する２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンに由来する構成単位の割合は、２０モル％であった。また、ＦＴ－ＩＲ（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ社製　装置名：Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００）により原料ピークの消失およびイミド骨格に由来するピークの出現を確認した。
　また、得られたポリイミド樹脂溶液をガラス基板上に塗布し、６０℃３０分、１００℃１時間の条件で溶媒を蒸発させて自己支持性フィルムとした後、該自己支持性フィルムをガラス基板から剥離し、フィルム端部を固定し、２８０℃窒素雰囲気下、２時間乾燥することにより溶媒を除去し、厚さ６５μｍのポリイミドフィルムを得た。
　このポリイミドフィルムのＮＭＲ測定を実施し、１，２，３，４－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物由来の構造のうち、シス型構造が７１ｍｏｌ％、トランス型構造が２９ｍｏｌ％含まれることがわかった。
＜実施例２＞
　実施例１で使用したものと同様の０．３Ｌ５ツ口ガラス製丸底フラスコ中で２，２’－ジメチルベンジジン、（和歌山精化工業（株）製）２０．１５ｇ（０．０９５モル）、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（和歌山精化工業（株）製）７．６０ｇ（０．０２４モル）、γ－ブチロラクトン（三菱化学（株）製）４４．５４ｇ、及び触媒としてトリエチルアミン（関東化学（株）製）５．９９ｇを、系内温度７０℃、窒素雰囲気下、２００ｒｐｍで攪拌して溶液を得た。これに１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物（三菱ガス化学（株）製）２６．５６ｇ（０．１１８モル）とＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（三菱ガス化学（株）製）１９．１ｇをそれぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約２０分かけて反応系内温度を１８０℃まで上げた。留去される成分を捕集し、撹拌数を粘度上昇に合わせて調整しつつ、反応系内温度を１９０℃に５．０時間維持した。Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１３６．４ｇを添加後、１００℃付近で約３時間攪拌して均一な溶液とし、固形分濃度２０質量％における溶液粘度が７５．１Ｐａ・ｓ、後述の対数粘度が１．１８ｄＬ／ｇのポリイミド樹脂溶液を得た。
　実施例１と同様の方法によりポリイミド樹脂溶液を分析した結果、得られたポリイミド樹脂中の、２，２’－ジメチルベンジジンに由来する構成単位と２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンに由来する構成単位の合計に対する２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンに由来する構成単位の割合は、２０モル％であった。また、ＦＴ－ＩＲにより原料ピークの消失およびイミド骨格に由来するピークの出現を確認した。
　実施例１と同様にしてポリイミド樹脂溶液からポリイミドフィルムを作製し、このポリイミドフィルムについてＮＭＲ測定を行った。ＮＭＲ測定から、１，２，３，４－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物由来の構造のうち、シス型構造が３７ｍｏｌ％、トランス型構造が６３ｍｏｌ％含まれることがわかった。
＜実施例３＞
　実施例１で使用したものと同様の５ツ口ガラス製丸底フラスコ中で２，２’－ジメチルベンジジン（和歌山精化工業（株）製）１６．１ｇ（０．０７６モル）、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（和歌山精化工業（株）製）６．０７０ｇ（０．０１９モル）、γ－ブチロラクトン（三菱化学（株）製）２５．４５ｇ、及び触媒としてトリエチルアミン（関東化学（株）製）４．７９５ｇを、系内温度７０℃、窒素雰囲気下、２００ｒｐｍで攪拌して溶液を得た。これに１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物（三菱ガス化学（株）製）２１．２５ｇ（０．０９５モル）とＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（三菱ガス化学（株）製）２５．４５ｇをそれぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約２０分かけて反応系内温度を１８０℃まで上げた。留去される成分を捕集し、撹拌数を粘度上昇に合わせて調整しつつ、反応系内温度を１８０℃に５時間維持し、ポリイミド溶液を得た。最後にＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド８３．３ｇ、γ－ブチロラクトン２５．８ｇを添加後、１００℃付近で約３時間攪拌して均一な溶液とし、固形分濃度２０質量％における溶液粘度が１００．０Ｐａ・ｓ、後述の対数粘度が１．２３ｄＬ／ｇのポリイミド樹脂溶液を得た。
　実施例１と同様の方法によりポリイミド樹脂溶液を分析した結果、得られたポリイミド樹脂中の、２，２’－ジメチルベンジジンに由来する構成単位と２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンに由来する構成単位の合計に対する２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンに由来する構成単位の割合は、２０モル％であった。また、ＦＴ－ＩＲにより原料ピークの消失およびイミド骨格に由来するピークの出現を確認した。
　実施例１と同様にしてポリイミド樹脂溶液からポリイミドフィルムを作製し、このポリイミドフィルムについてＮＭＲ測定を行った。ＮＭＲ測定から、１，２，３，４－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物由来の構造のうち、シス型構造が４１ｍｏｌ％、トランス型構造が５９ｍｏｌ％含まれることがわかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　なお、各種の測定は下記のようにして行った。
＜シス型構造及びトランス型構造の割合(１Ｈ－ＮＭＲスペクトル)＞
　ＢＲＵＫＥＲ　ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ製ＮＭＲ分光光度計（ＡＳＣＥｎｄＴＭ５００）を用い、重水素化ジメチルスルホキシド中でポリイミドの１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。各プロトンは下記のように同定した。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）
δ７．５ｐｐｍ～８．０ｐｐｍ（トリフルオロメチルベンジジン芳香族プロトン、６Ｈ）
δ７．０ｐｐｍ～７．５ｐｐｍ（２，２’－ジメチルベンジジン芳香族プロトン、６Ｈ）
δ３．２ｐｐｍ（トランス－シクロヘキサンテトラカルボン酸プロトン（１，２，４，５位）、４Ｈ）
δ３．３ｐｐｍ（シス－シクロヘキサンテトラカルボン酸プロトン（１，２，４，５位）、４Ｈ）
δ２．２ｐｐｍ（トランス－シクロヘキサンテトラカルボン酸プロトン（３，６位）、４Ｈ）
δ２．１ｐｐｍ、２．３ｐｐｍ（シス－シクロヘキサンテトラカルボン酸プロトン（３，６位）、４Ｈ）
δ１．９ｐｐｍ～２．１ｐｐｍ（２，２’－ジメチルベンジジンメチル基プロトン、６Ｈ）
　上記のうち、δ２．２ｐｐｍ、２．１ｐｐｍ、２．３ｐｐｍにみられるシクロヘキサンテトラカルボン酸部分に由来するピークの積分値から、下記式より異性化率を算出した。
トランス型構造の割合（ｍｏｌ％）＝２．２ｐｐｍ／（２．２ｐｐｍ＋２．３ｐｐｍ＋２．１ｐｐｍ）
シス型構造の割合（ｍｏｌ％）＝１００－トランス型構造の割合
＜対数粘度＞
　０．５質量％のポリイミド溶液を、キャノンフェンスケ粘度計を用いて３０℃で測定した。この値が高いほど、分子量が大きいことを表す。溶液の溶媒はＮ－メチルピロリドンを用いた。
＜溶液粘度＞
　固形分濃度２０質量％のポリイミド溶液（溶媒：γ―ブチロラクトン、ジメチルアセトアミド）を、東機産業（株）製溶液粘度計（ＴＶ－２０）を用い、２５℃で測定した。コーンロータは標準品を用いた。
　実施例１，２より、反応温度を１９０℃で一定とし、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（非プロトン性アミド溶媒）とγ－ブチロラクトン（ラクトン系溶媒）との質量比を変えることでトランス型構造の割合を制御することができた。
　また、実施例３より、反応温度が１９０℃より低温の１８０℃の場合、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドの割合を増やすことで実施例２と同様なトランス型構造の割合とすることができた。

Claims (4)

  1. 　非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び前記非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中の前記（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造を、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造に変換して、該トランス型構造の割合を制御する、ポリイミド骨格構造の制御方法。
  2. 　前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比を調整し、前記反応温度を１７０℃以上で一定とする請求項１に記載のポリイミド骨格構造の制御方法。
  3. 　非プロトン性アミド溶媒とラクトン系溶媒とを含む有機溶媒中で、ジアミン成分と（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリイミドを調製する際に、前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比、反応温度、反応時間、及び前記非プロトン性アミド溶媒の量のうちの１以上の反応条件を調整し、その反応条件に応じて、生成するポリイミド中の前記（１Ｓ，２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するシス型構造を、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物に由来するトランス型構造に変換して、該トランス型構造の割合を制御して、ポリイミドを製造する方法。
  4. 　前記非プロトン性アミド溶媒と前記ラクトン系溶媒との質量比を調整し、前記反応温度を１７０℃以上で一定とする請求項３に記載のポリイミドを製造する方法。
     
     
     
PCT/JP2017/007183 2016-03-14 2017-02-24 ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法 WO2017159298A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018505768A JP7077939B2 (ja) 2016-03-14 2017-02-24 ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法
CN201780015633.1A CN108779249B (zh) 2016-03-14 2017-02-24 聚酰亚胺骨架结构的控制方法和聚酰亚胺的制造方法
EP17766303.6A EP3431525B1 (en) 2016-03-14 2017-02-24 Method for controlling polyimide backbone structure and method for producing polyimide
US16/083,099 US11421079B2 (en) 2016-03-14 2017-02-24 Method for controlling polyimide backbone structure and method for producing polyimide
KR1020187026087A KR102731040B1 (ko) 2016-03-14 2017-02-24 폴리이미드 골격구조의 제어방법 및 폴리이미드의 제조방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016049532 2016-03-14
JP2016-049532 2016-03-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017159298A1 true WO2017159298A1 (ja) 2017-09-21

Family

ID=59850188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/007183 WO2017159298A1 (ja) 2016-03-14 2017-02-24 ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11421079B2 (ja)
EP (1) EP3431525B1 (ja)
JP (1) JP7077939B2 (ja)
CN (1) CN108779249B (ja)
TW (1) TWI783922B (ja)
WO (1) WO2017159298A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101495655B1 (ko) * 2013-08-09 2015-02-25 노틸러스효성 주식회사 반송롤러 승강구조를 이용한 스큐보정장치 및 스큐보정방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006037079A (ja) * 2004-06-21 2006-02-09 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 無色透明性ポリイミド複合フィルムおよびその製造方法
JP2009286706A (ja) * 2008-05-27 2009-12-10 Iwatani Industrial Gases Corp 新規な（１ｒ，２ｓ，４ｓ，５ｒ）‐シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物及びその利用
JP2013184943A (ja) * 2012-03-09 2013-09-19 Jsr Corp （１ｒ，２ｓ，４ｓ，５ｒ）シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4375533B2 (ja) * 2003-06-26 2009-12-02 三菱瓦斯化学株式会社 溶媒可溶性ポリイミドの製造方法
CN100528965C (zh) * 2004-06-21 2009-08-19 三菱瓦斯化学株式会社 无色透明的聚酰亚胺复合薄膜及其制备方法
JP5470678B2 (ja) * 2005-01-21 2014-04-16 三菱瓦斯化学株式会社 ポリイミド樹脂、ポリイミドフィルム及びポリイミド積層体
JP5804778B2 (ja) * 2011-06-03 2015-11-04 三井化学株式会社 新規ポリイミドワニス
TWI605092B (zh) * 2012-09-27 2017-11-11 三菱瓦斯化學股份有限公司 聚醯亞胺樹脂組成物
EP3018164B1 (en) * 2013-07-05 2019-03-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyimide resin

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006037079A (ja) * 2004-06-21 2006-02-09 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 無色透明性ポリイミド複合フィルムおよびその製造方法
JP2009286706A (ja) * 2008-05-27 2009-12-10 Iwatani Industrial Gases Corp 新規な（１ｒ，２ｓ，４ｓ，５ｒ）‐シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物及びその利用
JP2013184943A (ja) * 2012-03-09 2013-09-19 Jsr Corp （１ｒ，２ｓ，４ｓ，５ｒ）シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3431525A4 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180124861A (ko) 2018-11-21
JPWO2017159298A1 (ja) 2019-01-17
US11421079B2 (en) 2022-08-23
EP3431525A4 (en) 2019-02-27
TWI783922B (zh) 2022-11-21
EP3431525B1 (en) 2020-11-18
US20190100622A1 (en) 2019-04-04
CN108779249B (zh) 2021-05-28
CN108779249A (zh) 2018-11-09
EP3431525A1 (en) 2019-01-23
TW201734092A (zh) 2017-10-01
JP7077939B2 (ja) 2022-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6950684B2 (ja) ポリイミド樹脂
JP7302595B2 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
KR20140112062A (ko) 폴리이미드 전구체 수용액 조성물, 및 폴리이미드 전구체 수용액 조성물의 제조 방법
JP7205491B2 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JP2021059731A (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JPWO2019188306A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JPWO2019151336A1 (ja) ポリイミド樹脂組成物及びポリイミドフィルム
WO2020110948A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JPWO2020110947A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JPWO2019131896A1 (ja) ポリイミド、ポリイミド溶液組成物、ポリイミドフィルム、及び基板
JP7375749B2 (ja) ポリアミド－イミド樹脂、ポリアミド－イミドワニス及びポリアミド－イミドフィルム
WO2020040057A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
WO2021132196A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
WO2021100727A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JP7077939B2 (ja) ポリイミド骨格構造の制御方法及びポリイミドの製造方法
JP7255489B2 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
WO2022210109A1 (ja) ポリイミド樹脂組成物、ポリイミド前駆体組成物、ワニス、及びポリイミドフィルム
WO2021210641A1 (ja) イミド－アミド酸共重合体及びその製造方法、ワニス、並びにポリイミドフィルム
WO2021210640A1 (ja) イミド－アミド酸共重合体及びその製造方法、ワニス、並びにポリイミドフィルム
KR102731040B1 (ko) 폴리이미드 골격구조의 제어방법 및 폴리이미드의 제조방법
TWI858133B (zh) 聚醯亞胺樹脂組成物、聚醯亞胺清漆、以及聚醯亞胺薄膜
WO2021065509A1 (ja) ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
WO2023182038A1 (ja) 重合体の製造方法、ワニス、及びワニスの製造方法
TW202409146A (zh) 聚醯亞胺之製造方法
WO2021177145A1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム

Legal Events

Date Code Title Description
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2018505768

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20187026087

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2017766303

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017766303

Country of ref document: EP

Effective date: 20181015

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17766303

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1