以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(本発明の一実施形態による合わせガラス)
まず、図1を参照して、本発明の一実施形態による合わせガラスについて説明する。
(Laminated glass according to one embodiment of the present invention)
First, with reference to FIG. 1, the laminated glass by one Embodiment of this invention is demonstrated.
図1には、本発明の一実施形態による合わせガラス(以下、「第1の合わせガラス」という)の概略的な断面図を示す。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a laminated glass (hereinafter referred to as “first laminated glass”) according to an embodiment of the present invention.
図1に示すように、第1の合わせガラス100は、第1のガラス板110と、第2のガラス板120と、両ガラス板110、120の間に配置された中間膜130とを有する。
As shown in FIG. 1, the first laminated glass 100 includes a first glass plate 110, a second glass plate 120, and an intermediate film 130 disposed between both glass plates 110 and 120.
第1のガラス板110は、対向する第1の表面112および第2の表面114を有する。第2のガラス板120は、対向する第3の表面122および第4の表面124を有する。
The first glass plate 110 has a first surface 112 and a second surface 114 facing each other. The second glass plate 120 has a third surface 122 and a fourth surface 124 that face each other.
中間膜130は、第1のガラス板110と第2のガラス板120を接合するため、第2の表面114と第3の表面122の間に配置される。従って、第1のガラス板110の第1の表面112は、第2の表面114に比べて、第1の合わせガラス100の第1の「外側」101により近く、第2のガラス板120の第4の表面124は、第3の表面122に比べて、第1の合わせガラス100の第2の「外側」102により近くなるように配置される。
The intermediate film 130 is disposed between the second surface 114 and the third surface 122 in order to join the first glass plate 110 and the second glass plate 120. Accordingly, the first surface 112 of the first glass plate 110 is closer to the first “outside” 101 of the first laminated glass 100 than the second surface 114, and the second surface of the second glass plate 120. The fourth surface 124 is arranged closer to the second “outside” 102 of the first laminated glass 100 compared to the third surface 122.
なお、これらの「外側」という用語は、第1の合わせガラス100が実際に建物などの被設置場所に設置された際に使用される「屋外側」/「屋内側」と言う用語とは、異なることに留意する必要がある。すなわち、第1の合わせガラス100の使用環境では、第1の合わせガラス100の第1の外側101は、「屋外側」に対応し、第1の合わせガラス100の第2の外側102は、「屋内側」に対応する。
The term “outside” means that the term “outdoor side” / “indoor side” used when the first laminated glass 100 is actually installed at an installation location such as a building, It is necessary to keep in mind that it is different. That is, in the usage environment of the first laminated glass 100, the first outer side 101 of the first laminated glass 100 corresponds to the “outdoor side”, and the second outer side 102 of the first laminated glass 100 is “ Corresponds to "indoor side".
第1のガラス板110の第1の表面112には、第1のコーティング膜150が設置される。また、第2のガラス板120の第4の表面124には、第2のコーティング膜170が設置される。第1のコーティング膜150および第2のコーティング膜170は、単層膜であっても、積層膜であっても良い。
The first coating film 150 is provided on the first surface 112 of the first glass plate 110. In addition, a second coating film 170 is provided on the fourth surface 124 of the second glass plate 120. The first coating film 150 and the second coating film 170 may be a single layer film or a laminated film.
第1のコーティング膜を第1のガラス板の第1の表面に設けることにより、防汚性能を付与することが可能となる。好適な防汚性能を付与するためには、第1のコーティング膜の表面の算術平均粗さRaが1nm以上13nm以下であり、第1のコーティング膜の表面のPeak-valley値(PV値)とRaとの比(PV/Ra)が15以下であることが好ましい。
It is possible to impart antifouling performance by providing the first coating film on the first surface of the first glass plate. In order to provide suitable antifouling performance, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the first coating film is 1 nm or more and 13 nm or less, and the Peak-valley value (PV value) of the surface of the first coating film is It is preferable that ratio (PV / Ra) with Ra is 15 or less.
また、第2のコーティング膜を第2のガラス板の第4の表面に設けることにより、より効果的に断熱/遮熱性能を付与することが可能となる。また、第2のコーティング膜は耐久性を有することが好ましい。例えば、第2のコーティング膜において、ISO12870に準拠した3日間の耐汗試験後に第2のコーティング膜の表面を顕微鏡(50倍)で観察して計測される、1mm×1mmの範囲における欠点数は、50以下であることが好ましい。
Further, by providing the second coating film on the fourth surface of the second glass plate, it becomes possible to more effectively provide heat insulation / heat shielding performance. The second coating film preferably has durability. For example, in the second coating film, the number of defects in the range of 1 mm × 1 mm measured by observing the surface of the second coating film with a microscope (50 times) after a 3-day sweat resistance test according to ISO12870 is 50 or less.
これらのコーティング膜150、170の存在により、第1の合わせガラス100では、第1の外側101、すなわち第1のガラス板110の側から、ISO9050:2003に準拠して測定された可視光反射率をRvout(%)とし、日射熱取得率をg値とし、以下の(1)式で表されるように、0.88で除した値を遮蔽係数SCとしたとき、
SC=g値/0.88 (1)式
Rvout≦30%であり、SC≦0.35であるという特徴が得られる。
Due to the presence of the coating films 150 and 170, the first laminated glass 100 has a visible light reflectance measured in accordance with ISO 9050: 2003 from the first outer side 101, that is, the first glass plate 110 side. Is Rv out (%), the solar heat acquisition rate is g value, and the value divided by 0.88 is represented by the following formula (1), and the shielding coefficient SC is:
SC = g value / 0.88 (1) Formula
The characteristics of Rv out ≦ 30% and SC ≦ 0.35 are obtained.
ここで、日射熱取得率g値は、合わせガラスの一方の外側から入射される全太陽熱に対する、第2の外側まで直接透過される熱(透過熱)と、合わせガラスの内部で吸収され、その後第2の外側に放出される熱との総和の割合で表される。また、遮蔽係数SCは、合わせガラスの遮熱性能を表す一指標であり、この値が小さいほど、合わせガラスの遮熱性能は高いと言える。
Here, the solar heat acquisition rate g value is absorbed in the inside of the laminated glass with the heat (transmitted heat) directly transmitted to the second outside with respect to the total solar heat incident from one outside of the laminated glass, and thereafter It is expressed as a ratio of the sum total with the heat released to the second outside. Further, the shielding coefficient SC is an index representing the heat shielding performance of the laminated glass. It can be said that the smaller the value, the higher the heat shielding performance of the laminated glass.
第1の合わせガラス100では、遮蔽係数SCが0.35以下であり、十分に小さくなっており、このため十分な遮熱特性を得ることができる。SCは0.33以下とすることがより好ましい。
In the first laminated glass 100, the shielding coefficient SC is 0.35 or less, which is sufficiently small, and therefore sufficient heat shielding characteristics can be obtained. The SC is more preferably 0.33 or less.
また、第1の合わせガラス100では、可視光反射率Rvoutが30%以下に抑制されているため、第1の合わせガラス100を第1の外側101から視認した際に、顕著なギラツキが生じ難く、意匠性を損なうことも有意に抑制される。
Further, the first laminated glass 100, since the visible light reflectance Rv out is suppressed to 30% or less, when the first laminated glass 100 viewed from the first outer 101, significant glare occurs It is difficult to significantly impair the design properties.
このような特徴により、第1の合わせガラス100は、例えば建物の窓などに適用した際に、意匠性を損なうことなく、良好な遮熱性を発揮することができる。
Due to such characteristics, the first laminated glass 100 can exhibit good heat shielding properties without impairing the design properties when applied to, for example, a building window.
なお、本明細書に記載の合わせガラスにおいて、外観のみからは、いずれの外側が第1の外側101または第2の外側102であるかを判断することは難しい。従って、実際には、対象とする合わせガラスが前述のような構成を有し、さらにいずれか一方の外側から測定した可視光反射率Rvout(%)および遮蔽係数SCが上記条件を満たせば、そのような合わせガラスは、本発明の一実施形態による合わせガラスであると言える。
In the laminated glass described in this specification, it is difficult to determine which outer side is the first outer side 101 or the second outer side 102 only from the appearance. Therefore, actually, if the target laminated glass has the above-described configuration, and the visible light reflectance Rv out (%) and the shielding coefficient SC measured from the outside of either one satisfy the above conditions, Such a laminated glass can be said to be a laminated glass according to an embodiment of the present invention.
(合わせガラスを構成する各部材)
次に、前述のような特徴を有する第1の合わせガラス100を構成する各部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図1に示した参照符号を使用する。
(Each member constituting laminated glass)
Next, each member which comprises the 1st laminated glass 100 which has the above characteristics is demonstrated in detail. In the following description, the reference numerals shown in FIG. 1 are used to represent each member for the sake of clarity.
(ガラス板110、120)
第1のガラス板110は、例えば、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス等で構成されても良い。
(Glass plate 110, 120)
The first glass plate 110 may be made of, for example, soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, aluminosilicate glass, or the like.
また、ガラス板110は、透明なものであっても、着色されたものであっても良い。ガラス板110の色は、特に限られないが、ガラス板110は、例えば、緑色または青色等であっても良い。
Further, the glass plate 110 may be transparent or colored. The color of the glass plate 110 is not particularly limited, but the glass plate 110 may be, for example, green or blue.
第2のガラス板120についても、第1のガラス板110と同様のことが言える。なお、第2のガラス板120は、第1のガラス板110とは異なる組成および/または異なる色を有しても良い。
The same can be said for the second glass plate 120 as for the first glass plate 110. Note that the second glass plate 120 may have a different composition and / or a different color from the first glass plate 110.
ガラス板110、120の厚さは、特に限られないが、厚さは、例えば、2mm~12mmの範囲である。なお、第1のガラス板110は、第2のガラス板120とは異なる厚さであっても良い。ガラス板110、120は強化されたガラス、特に化学強化されたガラスであっても良く、化学強化ガラスを用いることで合わせガラスの強度を向上させることが可能となるため、建築物の高層階等に好適に用いることができる。
The thickness of the glass plates 110 and 120 is not particularly limited, but the thickness is, for example, in the range of 2 mm to 12 mm. Note that the first glass plate 110 may have a thickness different from that of the second glass plate 120. The glass plates 110 and 120 may be tempered glass, particularly chemically tempered glass, and the strength of the laminated glass can be improved by using the chemically tempered glass. Can be suitably used.
(中間膜130)
第1の合わせガラス100では、前述の特徴を満たす限り、中間膜130として、従来から使用されているいかなる中間膜も使用することができる。
(Intermediate film 130)
In the first laminated glass 100, any conventionally used intermediate film can be used as the intermediate film 130 as long as the above characteristics are satisfied.
典型的な中間膜130は、熱可塑性樹脂および可塑剤を有する。
A typical intermediate film 130 has a thermoplastic resin and a plasticizer.
熱可塑性樹脂には、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン-アクリル共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂及びポリビニルアルコール樹脂等が使用される。ただし、これら以外の熱可塑性樹脂を用いても良い。
Examples of the thermoplastic resin include polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetal resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, ethylene-acrylic copolymer resin, polyurethane resin, and polyvinyl alcohol resin. However, other thermoplastic resins may be used.
可塑剤には、例えば、一塩基性有機酸エステルおよび多塩基性有機酸エステル等の有機エステル可塑剤、ならびに有機リン酸可塑剤および有機亜リン酸可塑剤などのリン酸可塑剤等が使用される。ただし、これら以外の可塑剤を用いても良い。
Examples of the plasticizer include organic ester plasticizers such as monobasic organic acid esters and polybasic organic acid esters, and phosphoric acid plasticizers such as organic phosphoric acid plasticizers and organic phosphorous acid plasticizers. The However, other plasticizers may be used.
中間膜130の厚さは、特に限られないが、例えば、0.1mm~3mmの範囲である。
The thickness of the intermediate film 130 is not particularly limited, but is, for example, in the range of 0.1 mm to 3 mm.
(コーティング膜150、170について)
コーティング膜150、170は、それぞれ、ガラス板110、120に適用した際に、前述のような可視光反射率Rvout(%)および遮蔽係数SCが得られるように構成される。
(About coating films 150 and 170)
The coating films 150 and 170 are configured to obtain the visible light reflectance Rv out (%) and the shielding coefficient SC as described above when applied to the glass plates 110 and 120, respectively.
以下、図2および図3を参照して、第1のコーティング膜150および第2のコーティング膜170のそれぞれの構成例について説明する。
Hereinafter, with reference to FIG. 2 and FIG. 3, a configuration example of each of the first coating film 150 and the second coating film 170 will be described.
(第1のコーティング膜150の構成例)
図2には、コーティング膜150の構成の一例を概略的に示す。
(Configuration example of first coating film 150)
FIG. 2 schematically shows an example of the configuration of the coating film 150.
図2に示すように、この構成では、コーティング膜150は、アンダーコート層152、導電性酸化物層153、および高屈折率層154の3層で構成される。ここで、高屈折率層とは、屈折率が2より大きい層のことを言う。
As shown in FIG. 2, in this configuration, the coating film 150 includes three layers of an undercoat layer 152, a conductive oxide layer 153, and a high refractive index layer 154. Here, the high refractive index layer means a layer having a refractive index larger than 2.
アンダーコート層152は、第1のガラス板110と導電性酸化物層153の間で、所定の元素が相互に拡散することを抑制する役割を有する。アンダーコート層152は、例えば、シリカを主体とする材料であるシリコン酸化物(SiOx)で構成される。ここで、本願において「材料Aを主体とする(層)」とは、対象とする層内に、材料Aが50質量%以上含まれることを意味する。
The undercoat layer 152 has a role of suppressing diffusion of predetermined elements between the first glass plate 110 and the conductive oxide layer 153. The undercoat layer 152 is made of, for example, silicon oxide (SiO x ) that is a material mainly composed of silica. Here, in the present application, “the layer mainly composed of the material A” means that the material A is contained in an amount of 50% by mass or more in the target layer.
アンダーコート層152の厚さは、例えば、10nm~100nmの範囲である。
The thickness of the undercoat layer 152 is, for example, in the range of 10 nm to 100 nm.
なお、アンダーコート層152は、単層である必要はなく、複数の層で構成されても良い。アンダーコート層を多層にすることで、アルカリバリア性能が高くなったり、反射色調の調整が容易になる効果を得ることが可能となり、良好な外観性能や耐久性を向上させる観点から好ましい。
Note that the undercoat layer 152 need not be a single layer, and may be composed of a plurality of layers. By making the undercoat layer into a multilayer, it becomes possible to obtain an effect of improving the alkali barrier performance and facilitating the adjustment of the reflection color tone, which is preferable from the viewpoint of improving the good appearance performance and durability.
導電性酸化物層153は、例えば、導電性酸化スズを主体とする材料で構成される。導電性酸化物層153は、例えば、アンチモンおよび/またはフッ素がドープされた酸化スズで構成されても良い。ここで、導電性とは放射率0.4以下である膜のことを言う。
The conductive oxide layer 153 is made of, for example, a material mainly composed of conductive tin oxide. The conductive oxide layer 153 may be made of, for example, tin oxide doped with antimony and / or fluorine. Here, the conductivity means a film having an emissivity of 0.4 or less.
導電性酸化物層153の厚さは、例えば、50nm~500nmの範囲である。
The thickness of the conductive oxide layer 153 is, for example, in the range of 50 nm to 500 nm.
高屈折率層154は、コーティング膜150に入射される光の反射特性を調整する役割を有する。
The high refractive index layer 154 has a role of adjusting the reflection characteristics of light incident on the coating film 150.
高屈折率層154の厚さは、例えば、10nm~70nmの範囲である。
The thickness of the high refractive index layer 154 is, for example, in the range of 10 nm to 70 nm.
なお、図2に示した構成例において、アンダーコート層152および高屈折率層154は、必須の構成ではなく、省略しても良い。また、第1のコーティング膜150は、前述のような可視光反射率をRvout(%)および遮蔽係数SCが得られる限り、各層152、153、154の界面、または高屈折率層154の上部に、別の層を有しても良い。
In the configuration example shown in FIG. 2, the undercoat layer 152 and the high refractive index layer 154 are not essential components and may be omitted. Further, the first coating film 150 has an interface between the layers 152, 153, and 154 or an upper portion of the high refractive index layer 154 as long as the above-mentioned visible light reflectance Rv out (%) and the shielding coefficient SC can be obtained. In addition, another layer may be provided.
このような構成を有する第1のコーティング膜150の形成方法は、特に限られない。第1のコーティング膜150は、例えば、物理的蒸着法(例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等)、化学的蒸着法(例えば熱CVD法、プラズマCVD法、および光CVD法等)、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、各層を順次成膜することにより構成される。
The method for forming the first coating film 150 having such a configuration is not particularly limited. The first coating film 150 is formed by, for example, physical vapor deposition (for example, vacuum vapor deposition, ion plating, and sputtering), chemical vapor deposition (for example, thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD). ) And a method selected from an ion beam sputtering method and the like.
第1のコーティング膜150の総厚は、例えば、70nm~670nmの範囲であり、100nm~500nmの範囲であることが好ましい。
The total thickness of the first coating film 150 is, for example, in the range of 70 nm to 670 nm, and preferably in the range of 100 nm to 500 nm.
なお、第1のガラス板および第1のコーティング膜の積層のISO9050:2003に準拠して得られるエネルギー透過率Teは50%以下であることが好ましい。
In addition, it is preferable that the energy transmittance | permeability Te obtained based on ISO9050: 2003 of lamination | stacking of a 1st glass plate and a 1st coating film is 50% or less.
(第2のコーティング膜170の構成例)
図3には、第2のコーティング膜170の構成の一例を概略的に示す。
(Configuration example of second coating film 170)
FIG. 3 schematically shows an example of the configuration of the second coating film 170.
図3に示すように、この構成では、第2のコーティング膜170は、アンダーコート層172および導電性酸化物層173の2層で構成される。
As shown in FIG. 3, in this configuration, the second coating film 170 is composed of two layers, an undercoat layer 172 and a conductive oxide layer 173.
アンダーコート層172は、第2のガラス板120と導電性酸化物層173の間で、所定の元素が相互に拡散することを抑制する役割を有する。アンダーコート層172は、例えば、シリカを主体とする材料であるシリコン酸化物(SiOx)で構成される。
The undercoat layer 172 has a role of suppressing diffusion of predetermined elements between the second glass plate 120 and the conductive oxide layer 173. The undercoat layer 172 is made of, for example, silicon oxide (SiO x ) that is a material mainly composed of silica.
アンダーコート層172の厚さは、例えば、10nm~100nmの範囲である。
The thickness of the undercoat layer 172 is, for example, in the range of 10 nm to 100 nm.
導電性酸化物層173は、例えば、導電性酸化スズを主体とする材料で構成される。導電性酸化物層173は、例えば、アンチモンおよび/またはフッ素がドープされた酸化スズで構成されても良い。導電性酸化物層がアンチモンがドープされた酸化スズの場合は、透過色調が黄色くなりにくくなるため、良好な外観性能とするために特に好ましい。また、導電性酸化物層がフッ素がドープされた酸化スズの場合は、膜の耐久性が高くなるため、より高い耐久性が求められる用途に特に好ましい。
The conductive oxide layer 173 is made of, for example, a material mainly composed of conductive tin oxide. The conductive oxide layer 173 may be made of, for example, tin oxide doped with antimony and / or fluorine. In the case where the conductive oxide layer is tin oxide doped with antimony, the transmission color tone is unlikely to become yellow, and thus it is particularly preferable in order to obtain good appearance performance. In addition, in the case where the conductive oxide layer is tin oxide doped with fluorine, the durability of the film is high, and therefore, it is particularly preferable for applications where higher durability is required.
導電性酸化物層173の厚さは、例えば、50nm~500nmの範囲である。
The thickness of the conductive oxide layer 173 is, for example, in the range of 50 nm to 500 nm.
なお、図3に示した構成例において、アンダーコート層172は、必須の構成ではなく、省略しても良い。また、第2のコーティング膜170は、前述のような遮蔽係数SCが得られる限り、各層172、173の界面、または導電性酸化物層173の上部に、別の層を有しても良い。
In the configuration example shown in FIG. 3, the undercoat layer 172 is not an essential configuration and may be omitted. The second coating film 170 may have another layer on the interface between the layers 172 and 173 or on the conductive oxide layer 173 as long as the above-described shielding coefficient SC is obtained.
このような構成を有する第2のコーティング膜170の形成方法は、特に限られない。第2のコーティング膜170は、例えば、物理的蒸着法(例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等)、化学的蒸着法(例えば熱CVD法、プラズマCVD法、および光CVD法等)、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、各層を順次成膜することにより構成される。
The method for forming the second coating film 170 having such a configuration is not particularly limited. The second coating film 170 is formed by, for example, physical vapor deposition (for example, vacuum vapor deposition, ion plating, and sputtering), chemical vapor deposition (for example, thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD). ) And a method selected from an ion beam sputtering method and the like.
例えば、第2のコーティング膜170は、オンラインのCVD法により、形成されても良い。
For example, the second coating film 170 may be formed by an on-line CVD method.
ここで、「オンライン(の成膜法)」とは、ガラスの製造過程中に、ガラスの表面に膜を成膜する方法を意味する。より具体的には、ガラスの製造の際には、ガラスリボンが溶融スズ浴の上を移動した後、徐冷されることで、連続的にガラスが製造されるが、「オンライン(の成膜法)」では、このガラスリボンの移動中に、ガラスリボンの上面に、膜が成膜される。すなわち、「オンライン(の成膜法)」では、ガラスの製造工程と膜の成膜工程が連続的に実施される。
Here, “on-line (film formation method)” means a method of forming a film on the surface of the glass during the glass manufacturing process. More specifically, when glass is manufactured, glass ribbon is moved on the molten tin bath and then slowly cooled to manufacture glass continuously. In the method), a film is formed on the upper surface of the glass ribbon during the movement of the glass ribbon. That is, in the “on-line (film forming method)”, the glass manufacturing process and the film forming process are continuously performed.
第2のコーティング膜170の総厚は、例えば、60nm~600nmの範囲であり、100nm~500nmの範囲であることが好ましい。
The total thickness of the second coating film 170 is, for example, in the range of 60 nm to 600 nm, and preferably in the range of 100 nm to 500 nm.
なお、前記第2のコーティング膜は放射率0.4以下の膜であることが好ましい。
The second coating film is preferably a film having an emissivity of 0.4 or less.
(第1の合わせガラス100)
以上に加えて、第1の合わせガラス100は、以下のような特性を有する。
(First laminated glass 100)
In addition to the above, the first laminated glass 100 has the following characteristics.
(可視光透過率)
第1の合わせガラス100は、ISO9050:2003に準拠した方法で、第1の側101から測定される可視光透過率をTv(%)としたとき、
Tv(%)>26%
を満たす。
(Visible light transmittance)
The first laminated glass 100 is a method based on ISO 9050: 2003, and when the visible light transmittance measured from the first side 101 is Tv (%),
Tv (%)> 26%
Meet.
このような可視光透過率Tv(%)を有する第1の合わせガラス100は、建造物の窓ガラスに適用した際に、十分な採光を得ることができる。
The first laminated glass 100 having such a visible light transmittance Tv (%) can obtain sufficient lighting when applied to a window glass of a building.
特に、可視光透過率Tv(%)は、28%超であり、30%超であることが好ましい。なお、防眩性の観点から、可視光透過率Tv(%)は、60%以下であることが好ましい。
Particularly, the visible light transmittance Tv (%) is more than 28%, preferably more than 30%. From the viewpoint of antiglare properties, the visible light transmittance Tv (%) is preferably 60% or less.
(反射色)
第1の合わせガラス100は、第1の側101から、ISO9050:2003に準拠して得られる5度および55度入射の反射光を、CIE1976L*a*b*色度座標で表すことにより数値化したとき、
a*<3、およびb*<3
を満たす。
(Reflective color)
The first laminated glass 100 is digitized by expressing reflected light of 5 degrees and 55 degrees incident obtained from the first side 101 according to ISO 9050: 2003 in CIE 1976 L * a * b * chromaticity coordinates. When
a * <3 and b * <3
Meet.
一般に、美的観点から、反射色は、薄い青色系~薄い緑色系が好まれ、赤色系~黄色系は避けられる傾向にある。第1の合わせガラス100では、a*およびb*が前述の範囲にあり、反射色が赤色系または黄色系となることを抑制することができ、意匠性に優れた反射色を提供することができる。
In general, from the aesthetic point of view, the reflected color is preferably light blue to light green, and red to yellow tends to be avoided. In the 1st laminated glass 100, a * and b * are in the above-mentioned range, it can suppress that a reflective color turns into red type or yellow type, and can provide the reflective color excellent in the design property. it can.
特に、a*もしくはb*の少なくともいずれかが
a*>-30、b*>―30
であることがより好ましい。この場合、得られる反射色は、薄い青色系~薄い緑色系の領域となり、意匠性がより向上する。その中でも特に、
a*>-10かつb*>―20
をいずれも満たすように調整することで、ビルの外壁との調和がとり易い色に調整出来るため好ましい。
In particular, at least one of a * or b *
a * >-30, b * >-30
It is more preferable that In this case, the obtained reflection color is a light blue to light green region, and the design is further improved. Among the,
a * >-10 and b * >-20
By adjusting to satisfy both, it is preferable because it can be adjusted to a color that is easy to harmonize with the outer wall of the building.
(エネルギー反射率)
第1の合わせガラス100は、第1の側101から、ISO9050:2003に準拠して測定された可視光反射率をRvout(%)とし、日射熱取得率をg値とし、以下の(1)式で表される値を遮蔽係数SCとしたとき、
SC=g値/0.88 (1)式
Rvout≦30%であり、SC≦0.35であるという特徴が得られる。
(Energy reflectivity)
The first laminated glass 100 has a visible light reflectance measured from the first side 101 according to ISO 9050: 2003 as Rv out (%), a solar heat gain as a g value, and the following (1 ) When the value represented by the equation is the shielding coefficient SC,
SC = g value / 0.88 (1) Formula
The characteristics of Rv out ≦ 30% and SC ≦ 0.35 are obtained.
一般に、SC値を低くするためにはエネルギー透過率Teを低くすることとエネルギー反射率Reoutを高くすることの両方が有効である。特に、前記第1のガラス板および第1のコーティング膜の積層のTeが50%以下であり、前記第2のコーティング膜が放射率0.4以下の膜である場合、SC≦0.35が得られる。
Generally, in order to lower the SC value, it is effective to both lower the energy transmittance Te and increase the energy reflectivity Re out . In particular, when Te of the lamination of the first glass plate and the first coating film is 50% or less and the second coating film is a film having an emissivity of 0.4 or less, SC ≦ 0.35 is satisfied. can get.
また特に、第1の合わせガラス100の第1のガラス板の側からのエネルギー反射率が4%≦ReoutであるときにSC≦0.35であるという特徴が得られる。なお、15%≦Reoutとなるような構成すると、SC≦0.33に調整し易くなるためより好ましい。なお、エネルギー反射率Reoutは15%以上がより好ましい。
Further, in particular, when the energy reflectance from the first glass plate side of the first laminated glass 100 is 4% ≦ Re out , SC ≦ 0.35 is obtained. Note that a configuration that satisfies 15% ≦ Re out is more preferable because it is easy to adjust SC ≦ 0.33. The energy reflectance Re out is more preferably 15% or more.
以上示したように、遮蔽係数SCと可視光反射率Rvout、可視光透過率Tv、反射色a*、b*のを同時に満たすことで、特に断熱及び遮熱性能と外観性能を両立した合わせガラスということが出来る。
As described above, by simultaneously satisfying the shielding coefficient SC, the visible light reflectance Rv out , the visible light transmittance Tv, and the reflection colors a * and b * , it is particularly possible to achieve both heat insulation and heat shielding performance and appearance performance. It can be called glass.
(本発明の一実施形態による別の合わせガラス)
次に、図4を参照して、本発明の別の実施形態による合わせガラスについて説明する。
(Another laminated glass according to an embodiment of the present invention)
Next, with reference to FIG. 4, the laminated glass by another embodiment of this invention is demonstrated.
図4には、本発明の別の実施形態による合わせガラス(以下、「第2の合わせガラス」という)の概略的な断面図を示す。
FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of a laminated glass (hereinafter referred to as “second laminated glass”) according to another embodiment of the present invention.
図4に示すように、第2の合わせガラス200は、第1のガラス板210と、第2のガラス板220と、両ガラス板210、220の間に配置された中間膜230とを有する。
As shown in FIG. 4, the second laminated glass 200 includes a first glass plate 210, a second glass plate 220, and an intermediate film 230 disposed between both glass plates 210 and 220.
第1のガラス板210は、相互に対向する第1の表面212および第2の表面214を有する。第2のガラス板220は、相互に対向する第3の表面222および第4の表面224を有する。
The first glass plate 210 has a first surface 212 and a second surface 214 that face each other. The second glass plate 220 has a third surface 222 and a fourth surface 224 that face each other.
第1のガラス板210と第2のガラス板220は、中間膜230を介して相互に接合される。第1のガラス板210の第1の表面212は、第2の表面214に比べて、第2の合わせガラス200の第1の「外側」201により近く、第2のガラス板220の第4の表面224は、第3の表面222に比べて、第2の合わせガラス200の第2の「外側」202により近くなるように配置される。
The first glass plate 210 and the second glass plate 220 are bonded to each other through the intermediate film 230. The first surface 212 of the first glass plate 210 is closer to the first “outside” 201 of the second laminated glass 200 and the fourth surface of the second glass plate 220 than the second surface 214. The surface 224 is positioned closer to the second “outside” 202 of the second laminated glass 200 compared to the third surface 222.
第2のガラス板220の第4の表面224には、第2のコーティング膜270が設置される。
The second coating film 270 is installed on the fourth surface 224 of the second glass plate 220.
ここで、第2の合わせガラス200では、前述の第1の合わせガラス100とは異なり、第1のガラス板210の第2の表面214に、コーティング膜(以下、「第3のコーティング膜」と称する)280が設置される。第2のコーティング膜270および第3のコーティング膜280は、単層膜であっても、積層膜であっても良い。コーティング膜が第1のガラス板の第2の表面に設けられることにより、ヘイズを抑制することが出来好ましい。また、第1のガラス板210の第2の表面214にコーティング膜を設けるため、耐久性がそれほど高くない膜であっても好適に用いることが出来る。特に、銀膜を好適に用いることが出来る。
Here, in the second laminated glass 200, unlike the first laminated glass 100 described above, a coating film (hereinafter referred to as “third coating film”) is formed on the second surface 214 of the first glass plate 210. 280) is installed. The second coating film 270 and the third coating film 280 may be a single layer film or a laminated film. By providing the coating film on the second surface of the first glass plate, it is preferable because haze can be suppressed. In addition, since a coating film is provided on the second surface 214 of the first glass plate 210, even a film that is not highly durable can be suitably used. In particular, a silver film can be suitably used.
これらのコーティング膜270、280の存在により、第2の合わせガラス200では、第1の外側201、すなわち第1のガラス板210の側から、ISO9050:2003に準拠して測定された可視光反射率をRvout(%)とし、日射熱取得率をg値とし、前述の(1)式で表される値を遮蔽係数SCとしたとき、Rvout≦30%であり、SC≦0.35であるという特徴が得られる。
Due to the presence of these coating films 270 and 280, in the second laminated glass 200, the visible light reflectance measured in accordance with ISO 9050: 2003 from the first outer side 201, that is, the first glass plate 210 side. Is Rv out (%), the solar heat gain is g value, and the value expressed by the above equation (1) is the shielding coefficient SC, Rv out ≦ 30%, SC ≦ 0.35 The characteristic that there is.
一般に、SC値を低くするためにはエネルギー透過率Teを低くすることとエネルギー反射率Reoutを高くすることの両方が有効である。特に、前記第1のガラス板および第1のコーティング膜の積層のTeが50%以下であり、前記第2のコーティング膜が放射率0.4以下の膜である場合、SC≦0.35、さらにはSC≦0.33が得られ易い。
Generally, in order to lower the SC value, it is effective to both lower the energy transmittance Te and increase the energy reflectivity Re out . In particular, when the Te of the lamination of the first glass plate and the first coating film is 50% or less and the second coating film is a film having an emissivity of 0.4 or less, SC ≦ 0.35, Furthermore, SC ≦ 0.33 is easily obtained.
また特に、第1の合わせガラス200の第1のガラス板の側からのエネルギー反射率が4%≦ReoutであるときにSC≦0.35、さらにはSC≦0.33であるという特徴が得られ易い。
In particular, when the energy reflectance from the first glass plate side of the first laminated glass 200 is 4% ≦ Re out , SC ≦ 0.35, and further SC ≦ 0.33. It is easy to obtain.
このような特徴により、第2の合わせガラス200においても、例えば建物の窓などに適用した際に、意匠性を損なうことなく、良好な遮熱性が得られるという効果を得ることができる。
Due to such a feature, the second laminated glass 200 can obtain an effect that a good heat shielding property can be obtained without impairing the design property when applied to, for example, a building window.
なお、第2の合わせガラス200を構成する各部材のうち、第3のコーティング膜280以外のものについては、前述の第1の合わせガラス100の各部材に関して示した記載が参照できる。そこで、以下、第2の合わせガラス200の第3のコーティング膜280のいくつかの構成例について説明する。
In addition, the description shown regarding each member of the above-mentioned 1st laminated glass 100 can be referred for members other than the 3rd coating film 280 among each member which comprises the 2nd laminated glass 200. FIG. Therefore, several configuration examples of the third coating film 280 of the second laminated glass 200 will be described below.
(第3のコーティング膜280の構成例)
(第1の構成例)
第3のコーティング膜280は、前述の図2に示したような第1のコーティング膜150と同様の構成(第1の構成)を有しても良い。この第1の構成は、前述の第1のコーティング膜150に関する記載から明らかであるため、ここでは記載を省略する。
(Configuration example of third coating film 280)
(First configuration example)
The third coating film 280 may have the same configuration (first configuration) as the first coating film 150 as shown in FIG. Since the first configuration is clear from the description regarding the first coating film 150 described above, the description is omitted here.
(第2の構成例)
図5には、第3のコーティング膜280の第2の構成の一例を概略的に示す。
(Second configuration example)
FIG. 5 schematically shows an example of the second configuration of the third coating film 280.
図5に示すように、この構成では、第3のコーティング膜280は、第1の誘電体層282、機能層283、および第2の誘電体層284の3層で構成される。
As shown in FIG. 5, in this configuration, the third coating film 280 is composed of three layers of a first dielectric layer 282, a functional layer 283, and a second dielectric layer 284.
第1の誘電体層282は、金属の酸化物、窒化物、および/または酸窒化物等を含む誘電体で構成される。上記金属としては、亜鉛、スズ、チタン、ケイ素、アルミニウム、クロム、ニッケル、ニオブ、および、それらの合金等が挙げられる。
The first dielectric layer 282 is made of a dielectric containing a metal oxide, nitride, and / or oxynitride. Examples of the metal include zinc, tin, titanium, silicon, aluminum, chromium, nickel, niobium, and alloys thereof.
なお、第1の誘電体層282を構成する誘電体には、添加物質がドープされても良い。添加物質は、例えば、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウム、およびガリウム等の酸化物、窒化物、ならびに/または酸窒化物であっても良い。
Note that the dielectric material forming the first dielectric layer 282 may be doped with an additive material. The additive material may be, for example, an oxide, nitride, and / or oxynitride such as tin, aluminum, chromium, titanium, silicon, boron, magnesium, and gallium.
特に、第1の誘電体層282は、酸化亜鉛を主体とする材料、もしくは窒化ケイ素を主体とする材料で構成されることが好ましい。この場合、第1の誘電体層282には、さらに、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウム、およびガリウムから選定された少なくとも一つの酸化物が添加されても良い。
In particular, the first dielectric layer 282 is preferably composed of a material mainly composed of zinc oxide or a material mainly composed of silicon nitride. In this case, the first dielectric layer 282 may further include at least one oxide selected from tin, aluminum, chromium, titanium, silicon, boron, magnesium, and gallium.
第1の誘電体層282の厚さは、例えば、10nm~80nmの範囲である。
The thickness of the first dielectric layer 282 is, for example, in the range of 10 nm to 80 nm.
なお、第1の誘電体層282は、単層である必要はなく、複数の層で構成されても良い。
Note that the first dielectric layer 282 does not have to be a single layer, and may be composed of a plurality of layers.
機能層283は、銀または銀合金を主体とする材料、またはニオブ、タンタル、モリブデン及びジルコニウムの少なくとも1つの金属の窒化物を含む。機能層283が銀合金で構成される場合、機能層283は、銀と、パラジウム、金、クロム、コバルト、およびニッケルから選ばれる少なくとも1種の金属とを含んでも良い。これらの金属は、機能層283の全体に対して、0.1質量%以上の割合で含有されても良い。
The functional layer 283 includes a material mainly composed of silver or a silver alloy, or a nitride of at least one metal of niobium, tantalum, molybdenum, and zirconium. When the functional layer 283 is made of a silver alloy, the functional layer 283 may include silver and at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel. These metals may be contained at a ratio of 0.1% by mass or more with respect to the entire functional layer 283.
機能層283の厚さは、例えば、7nm~30nmの範囲であり、10nm~25nmの範囲であることが好ましい。
The thickness of the functional layer 283 is, for example, in the range of 7 nm to 30 nm, and preferably in the range of 10 nm to 25 nm.
第2の誘電体層284としては、前述の第1の誘電体層282に関する記載が参照できる。第2の誘電体層284は、第1の誘電体層282と同じ材料であっても、異なる材料であっても良い。
For the second dielectric layer 284, the above-described description of the first dielectric layer 282 can be referred to. The second dielectric layer 284 may be the same material as the first dielectric layer 282 or a different material.
第2の誘電体層284の厚さは、例えば、10nm~150nmの範囲であり、20nm~130nmの範囲であることが好ましい。
The thickness of the second dielectric layer 284 is, for example, in the range of 10 nm to 150 nm, and preferably in the range of 20 nm to 130 nm.
なお、第2の誘電体層284は、単層である必要はなく、複数の層で構成されても良い。
Note that the second dielectric layer 284 does not have to be a single layer, and may be composed of a plurality of layers.
このような第2の構成を有する第3のコーティング膜280の形成方法は、特に限られない。第3のコーティング膜280は、例えば、物理的蒸着法(例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等)、化学的蒸着法(例えば熱CVD法、プラズマCVD法、および光CVD法等)、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、各層を順次成膜することにより構成される。
The method for forming the third coating film 280 having such a second configuration is not particularly limited. The third coating film 280 is formed by, for example, physical vapor deposition (for example, vacuum vapor deposition, ion plating, and sputtering), chemical vapor deposition (for example, thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD). ) And a method selected from an ion beam sputtering method and the like.
第3のコーティング膜280の総厚は、例えば、50nm~300nmの範囲であり、70nm~270nmの範囲であることが好ましい。
The total thickness of the third coating film 280 is, for example, in the range of 50 nm to 300 nm, and preferably in the range of 70 nm to 270 nm.
なお、図5に示した例では、第3のコーティング膜280は、3層構造を有する。しかしながら、第2の構成において、第3のコーティング膜280の層数は、特に限られない。
In the example shown in FIG. 5, the third coating film 280 has a three-layer structure. However, in the second configuration, the number of layers of the third coating film 280 is not particularly limited.
例えば、第3のコーティング膜280は、誘電体層と金属層の繰り返し構造を有しても良い。この場合、第3のコーティング膜280は、ガラス板210に近い側から、第1の誘電体層、第1の金属層、第2の誘電体層、第2の金属層、第3の誘電体層…の構造を有する。特に、繰り返し数は、2であることが好ましい。なお、機能層283が銀または銀合金を主体とする材料で繰り返し数が2の場合、下層の機能層が上層の機能層と比較して厚くなっている構成とすることがより好ましい。具体的には下層の厚さに対する上層の厚さの比は0.4~0.8が好ましく。この範囲にすることでより色調を好ましく設定することが出来る。また、上層の方が厚い場合は下層の厚さを10nm未満とし、かつ下層の厚さに対する上層の厚さの比を2.5以上とすることでもより色調を好ましく設定することが出来る。
For example, the third coating film 280 may have a repeating structure of a dielectric layer and a metal layer. In this case, the third coating film 280 is formed from the side close to the glass plate 210 from the first dielectric layer, the first metal layer, the second dielectric layer, the second metal layer, and the third dielectric. It has a layer ... structure. In particular, the number of repetitions is preferably 2. Note that when the functional layer 283 is a material mainly composed of silver or a silver alloy and the number of repetitions is 2, it is more preferable that the lower functional layer is thicker than the upper functional layer. Specifically, the ratio of the upper layer thickness to the lower layer thickness is preferably 0.4 to 0.8. By setting this range, the color tone can be set more preferably. Further, when the upper layer is thicker, the color tone can be preferably set by setting the thickness of the lower layer to less than 10 nm and setting the ratio of the upper layer thickness to the lower layer thickness to 2.5 or more.
(第3の構成例)
図6には、第3のコーティング膜の第3の構成の一例を概略的に示す。
(Third configuration example)
FIG. 6 schematically shows an example of the third configuration of the third coating film.
図6に示すように、この構成では、第3のコーティング膜280Aは、第1の誘電体層282A、第1の機能層283A、第1のバリア層284A、第2の誘電体層285A、第2の機能層286A、第2のバリア層287A、および第3の誘電体層288Aの7層で構成される。
As shown in FIG. 6, in this configuration, the third coating film 280A includes a first dielectric layer 282A, a first functional layer 283A, a first barrier layer 284A, a second dielectric layer 285A, Two functional layers 286A, a second barrier layer 287A, and a third dielectric layer 288A.
このうち、誘電体層282A、285A、288Aと、機能層283A、286Aとについては、前述の図5に示したような、第3のコーティング膜280の第2の構成に関する記載が参照できる。このため、これらの層の詳細は、省略する。
Among these, for the dielectric layers 282A, 285A, and 288A and the functional layers 283A and 286A, the description related to the second configuration of the third coating film 280 as shown in FIG. 5 can be referred to. Therefore, details of these layers are omitted.
第1のバリア層284Aおよび第2のバリア層287Aは、それぞれ、第2の誘電体層285Aおよび第3の誘電体層288Aの成膜の際に、第1の機能層283Aおよび第2の機能層286Aの酸化を抑制するために設けられる。
The first barrier layer 284A and the second barrier layer 287A are formed in the first functional layer 283A and the second function layer 285A, respectively, when the second dielectric layer 285A and the third dielectric layer 288A are formed. Provided to suppress oxidation of layer 286A.
第1のバリア層284Aの構成材料は、上記役割を発揮できるものであれば特に制限されない。第1のバリア層284Aは、例えば、チタン、亜鉛アルミニウム合金、ニッケルクロム合金、またはそれらの酸化物を含んでも良い。特に、第1のバリア層284Aは、チタンまたは酸化チタンを主体とする材料で構成されることが好ましい。
The constituent material of the first barrier layer 284A is not particularly limited as long as it can exhibit the above role. The first barrier layer 284A may include, for example, titanium, a zinc aluminum alloy, a nickel chromium alloy, or an oxide thereof. In particular, the first barrier layer 284A is preferably made of a material mainly containing titanium or titanium oxide.
第1のバリア層284Aには、チタン以外の構成元素を含有させることができる。チタン以外の構成元素としては、例えば、ニオブ、タンタル、ジルコニウム、ケイ素、タングステン、モリブデンが挙げられ、これらは1種または2種以上、含有されても良い。チタン、ニオブ、タンタル、タングステン、およびモリブデンは、バリア層中、例えば、TiOx(x<2)、Nb2Ox(x<5)、Ta2Ox(x<5)、ZrOx(x<2)、SiOx(x<2)、WOx(x<3)、MoOx(x<3)、またはこれらの複合物として含有されても良い。
The first barrier layer 284A can contain a constituent element other than titanium. Examples of constituent elements other than titanium include niobium, tantalum, zirconium, silicon, tungsten, and molybdenum, and these may be used alone or in combination of two or more. Titanium, niobium, tantalum, tungsten, and molybdenum are included in the barrier layer, for example, TiO x (x <2), Nb 2 O x (x <5), Ta 2 O x (x <5), ZrO x (x <2), SiO x (x <2), WO x (x <3), MoO x (x <3), or a composite thereof.
第1のバリア層284Aの厚さは、1nm以上であることが好ましい。第1のバリア層284Aの厚さを1nm以上とすることで、第1の機能層283Aの酸化を効果的に抑制できる。
The thickness of the first barrier layer 284A is preferably 1 nm or more. By setting the thickness of the first barrier layer 284A to 1 nm or more, oxidation of the first functional layer 283A can be effectively suppressed.
第1のバリア層284Aの厚さは、例えば、10nm以下である。このような厚さでは、合わせガラスの可視光透過率Tv(%)を高くすることができる。
The thickness of the first barrier layer 284A is, for example, 10 nm or less. With such a thickness, the visible light transmittance Tv (%) of the laminated glass can be increased.
第2のバリア層287Aについても、第1のバリア層284Aと同様のことが言える。
The same can be said for the second barrier layer 287A as for the first barrier layer 284A.
なお、図6に示した例では、第3のコーティング膜280Aは、7層構造を有する。しかしながら、第3の構成において、第3のコーティング膜280Aの層数は、これに限られない。
In the example shown in FIG. 6, the third coating film 280A has a seven-layer structure. However, in the third configuration, the number of layers of the third coating film 280A is not limited to this.
例えば、第3のコーティング膜280Aは、図6に示した層のうち、第2の機能層286~第3の誘電体層288Aまでの部分を省略しても良い。あるいは、第3のコーティング膜280Aは、誘電体層~バリア層までの部分を、3回以上繰り返した構造を有しても良い。
For example, in the third coating film 280A, portions from the second functional layer 286 to the third dielectric layer 288A in the layers shown in FIG. 6 may be omitted. Alternatively, the third coating film 280A may have a structure in which portions from the dielectric layer to the barrier layer are repeated three times or more.
その他にも、各種構成が想定され得ることは当業者には明らかである。また、前記した第1~3のコーティング膜は前記した形態のみに用いられる訳ではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更して用いることが出来る。例えば、前記した第2の合わせガラスにおいて、第4の表面に、第2のコーティング膜の代わりに第3のコーティング膜を用いたり、第1の合わせガラスにおいて、第1の表面に、第1のコーティング膜の代わりに第3のコーティング膜を用いたりしても構わない。
It will be apparent to those skilled in the art that other various configurations can be envisaged. Further, the first to third coating films described above are not used only in the above-described form, but can be appropriately modified and used without departing from the gist of the present invention. For example, in the above-described second laminated glass, a third coating film is used instead of the second coating film on the fourth surface, or in the first laminated glass, the first surface is formed on the first surface. A third coating film may be used instead of the coating film.
次に、本発明の実施例について説明する。なお、以下の記載において、例1~例5、例11~例18、および例51~例58、例60~例66は実施例であり、例31~例43、および例59は比較例である。
Next, examples of the present invention will be described. In the following description, Examples 1 to 5, Example 11 to Example 18, Example 51 to Example 58, Example 60 to Example 66 are examples, and Example 31 to Example 43 and Example 59 are comparative examples. is there.
(例1)
以下の方法で、合わせガラスを製造した。
(Example 1)
Laminated glass was produced by the following method.
まず、第1のガラス板の一方の表面に、第1の膜を形成した。第1のガラス板には、縦300mm×横300mm×厚さ6mmの寸法を有する着色ガラス(EverGreen(登録商標):ピルキントン社製)を使用した。
First, a first film was formed on one surface of the first glass plate. For the first glass plate, colored glass (EverGreen (registered trademark): manufactured by Pilkington) having dimensions of 300 mm in length, 300 mm in width, and 6 mm in thickness was used.
第1の膜の構成は、前述の図2に示したような3層構造とした。アンダーコート層は、SiOx層(目標厚さ55nm)とした。導電性酸化物層は、アンチモンドープされた酸化スズ層(目標厚さ260nm)とした。高屈折率層は、酸化チタン層(目標厚さ40nm)とした。
The configuration of the first film was a three-layer structure as shown in FIG. The undercoat layer was a SiOx layer (target thickness 55 nm). The conductive oxide layer was an antimony-doped tin oxide layer (target thickness 260 nm). The high refractive index layer was a titanium oxide layer (target thickness 40 nm).
これらの層は、いずれも熱CVD法により形成した。アンダーコート層の成膜には、シラン(SiH4)ガス、二酸化炭素(CO2)ガス、エチレン(C2H4)ガスを混合した原料ガスを窒素により希釈したものを使用した。これら原料ガスの混合比率(モル比)はCO2/SiH4が約6、C2H4/SiH4が約10である。成膜時の基板温度は約650℃である。
All of these layers were formed by a thermal CVD method. The undercoat layer was formed by diluting a raw material gas mixed with silane (SiH 4 ) gas, carbon dioxide (CO 2 ) gas, and ethylene (C 2 H 4 ) gas with nitrogen. The mixing ratio (molar ratio) of these source gases is about 6 for CO 2 / SiH 4 and about 10 for C 2 H 4 / SiH 4 . The substrate temperature during film formation is about 650 ° C.
導電性酸化物層の成膜には、モノブチル塩化スズ(MBTC)、水、三塩化アンチモン(SbCl3)の原料を気化した混合ガスを空気により希釈したものを使用した。これらの原料ガスの混合比率(モル比)は、H2O/MBTCが約1.3、SbCl3/MBTCが約0.04である。成膜時の基板温度は約590℃である。
For the formation of the conductive oxide layer, a mixed gas obtained by diluting a raw material of monobutyltin chloride (MBTC), water, and antimony trichloride (SbCl 3 ) with air was used. The mixing ratio (molar ratio) of these source gases is about 1.3 for H 2 O / MBTC and about 0.04 for SbCl 3 / MBTC. The substrate temperature during film formation is about 590 ° C.
チタニア層の成膜には、テトラチタンイソプロポキシド(TTIP)、MBTCの原料を気化した混合ガスを窒素により希釈したものを使用した。これらの原料の混合比率(モル比)は、MBTC/TTIPが約0.07である。成膜時の基板温度は約540℃である。成膜後に縦70mm×横100mmの寸法に切断した。
The titania layer was formed by diluting a mixed gas obtained by vaporizing a raw material of tetratitanium isopropoxide (TTIP) and MBTC with nitrogen. The mixing ratio (molar ratio) of these raw materials is about 0.07 for MBTC / TTIP. The substrate temperature during film formation is about 540 ° C. After film formation, the film was cut to a size of 70 mm length × 100 mm width.
次に、一方の表面に第2の膜が設置された第2のガラス板を準備した。
Next, a second glass plate having a second film on one surface was prepared.
第2のガラス板には、ソーダライム組成の透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)に、オンラインCVD法により第2の膜を形成した後に、縦70mm×横100mm×厚さ4mmの寸法に切断したものを使用した。第2の膜は、図3に示したような、SiOx層(アンダーコート層)とフッ素添加酸化スズ層(導電性酸化物層)の2層構造とした。
On the second glass plate, a second film is formed on a transparent float glass with a soda lime composition (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) by an on-line CVD method. A cut one was used. The second film had a two-layer structure of an SiOx layer (undercoat layer) and a fluorine-added tin oxide layer (conductive oxide layer) as shown in FIG.
SiOx層は、成膜時の基板温度は約670℃で成膜した。フッ素添加酸化スズ層は、原料として、MBTC、水、3フッ化酢酸(TFA)の原料を気化した混合ガスを空気により希釈したものを使用し、成膜温度約590℃で成膜した。これらの原料の混合比(モル比)は、H2O/MBTCが約6、TFA/MBTCが約0.3である。
The SiOx layer was formed at a substrate temperature of about 670 ° C. during film formation. The fluorine-added tin oxide layer was formed at a film forming temperature of about 590 ° C. using a mixed gas obtained by evaporating a raw material of MBTC, water, and trifluoroacetic acid (TFA) as a raw material. The mixing ratio (molar ratio) of these raw materials is about 6 for H 2 O / MBTC and about 0.3 for TFA / MBTC.
SiOx層の厚さは、55nm(目標値)とし、フッ素ドープ酸化スズ層の厚さは、320nm(目標値)とした。
The thickness of the SiOx layer was 55 nm (target value), and the thickness of the fluorine-doped tin oxide layer was 320 nm (target value).
このようにして得られた2枚のガラス板を、中間膜を介して相互に積層して、積層体を構成した。なお、この際には、第1のガラス板の第1の膜が形成された表面が第1の外側となり、第2のガラス板の第2の膜が形成された表面が第2の外側となるようにして、両ガラス板を中間膜を介して配置した。合わせガラス作製は、重ねて配置した2枚のガラスと中間膜を仮接着した後、オートクレーブで接着する方法によることができ、中間膜の材料には、通常ポリビニルブチラールが使用される。他に、エチレン-酢酸ビニル共重合体などがあげられる。
The two glass plates thus obtained were laminated with each other through an intermediate film to form a laminate. In this case, the surface of the first glass plate on which the first film is formed is the first outer side, and the surface of the second glass plate on which the second film is formed is the second outer side. In this manner, both glass plates were arranged with an intermediate film interposed therebetween. Laminated glass can be produced by a method of temporarily adhering two sheets of laminated glass and an intermediate film and then adhering them with an autoclave. Polyvinyl butyral is usually used as a material for the intermediate film. Other examples include ethylene-vinyl acetate copolymer.
これにより、合わせガラス(以下、例1に係る合わせガラスと称する)が製造された。なお、得られた例1に係る合わせガラスにおいて、中間膜の厚さは、0.38mmであった。
Thereby, a laminated glass (hereinafter referred to as a laminated glass according to Example 1) was produced. In the laminated glass according to Example 1 obtained, the thickness of the interlayer film was 0.38 mm.
(例2~例5)
例1の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。ただし、これらの例2~例5では、第1のガラス板として、例1とは異なる種類(および厚さ)のものを使用した。また、例3,例5では、第2のガラス板の厚さを3.2mmに変更した。例5では同じガラス板と第1のコーティングにより構成される例4よりTe値が1%低下しているが、この変動はサンプル面内に発生する膜厚変動による特性のバラツキと分光光度計の測定値のゆらぎの2要素によって発生しうる程度である。
(Example 2 to Example 5)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 1. However, in Examples 2 to 5, the first glass plate of a type (and thickness) different from that of Example 1 was used. In Examples 3 and 5, the thickness of the second glass plate was changed to 3.2 mm. In Example 5, the Te value is 1% lower than in Example 4 configured by the same glass plate and the first coating, but this variation is caused by variations in characteristics due to film thickness variations occurring in the sample surface and spectrophotometers. It is a level that can be generated by two factors of fluctuation of the measured value.
得られた合わせガラスを、それぞれ、例2~例5に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glasses are referred to as laminated glasses according to Examples 2 to 5, respectively.
(例11)
例1の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。
(Example 11)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 1.
ただし、この例11では、第1のガラス、中間膜、および第2のガラスを積層する際に、第1のガラスの第1の膜が形成された表面が中間膜と面するようにして(すなわち内側となるようにして)、第1のガラスを配置した。一方、第2のガラス板は、第2の膜が形成された表面が第2の外側となるようにして配置した。
However, in Example 11, when the first glass, the intermediate film, and the second glass are laminated, the surface on which the first film of the first glass is formed faces the intermediate film ( In other words, the first glass was disposed so as to be inside. On the other hand, the 2nd glass plate was arrange | positioned so that the surface in which the 2nd film | membrane was formed might become a 2nd outer side.
この構成は、前述の図4に示した第2の合わせガラス200の構成に対応する。そこで、ここでは、第1の膜を第3の膜と称することにする。
This configuration corresponds to the configuration of the second laminated glass 200 shown in FIG. 4 described above. Therefore, here, the first film is referred to as a third film.
得られた合わせガラスを例11に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glass is referred to as laminated glass according to Example 11.
(例12~例18)
例11の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。ただし、これらの例12~例18では、第1のガラス板および/または第2のガラス板として、例11とは異なる種類(および厚さ)のものを使用した。第2の膜の構成および成膜条件は、例1における第2の膜の構成および成膜条件と同様である。また、例12、14では、第2のガラス板の厚さを3.2mmに変更した。例14では同じガラス板と第1のコーティングにより構成される例15よりTe値が1%低下しているが、この変動はサンプル面内に発生する膜厚変動による特性のバラツキと分光光度計の測定値のゆらぎの2要素によって発生しうる程度である。
(Examples 12 to 18)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 11. However, in Examples 12 to 18, the first glass plate and / or the second glass plate used were of a type (and thickness) different from Example 11. The configuration and deposition conditions of the second film are the same as the configuration and deposition conditions of the second film in Example 1. In Examples 12 and 14, the thickness of the second glass plate was changed to 3.2 mm. In Example 14, the Te value is 1% lower than in Example 15 composed of the same glass plate and the first coating, but this variation is caused by variation in characteristics due to film thickness variation occurring in the sample surface and the spectrophotometer. It is a level that can be generated by two factors of fluctuation of the measured value.
得られた合わせガラスを、それぞれ、例12~例18に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glasses are referred to as laminated glasses according to Examples 12 to 18, respectively.
以下の表1および表2には、例1~例5および例11~例18に係る合わせガラスの構成をまとめて示した。
Tables 1 and 2 below collectively show the configurations of the laminated glasses according to Examples 1 to 5 and Examples 11 to 18.
(例31)
以下の方法で、合わせガラスを製造した。
(Example 31)
Laminated glass was produced by the following method.
まず、第1のガラス板の一方の表面に、第1の膜を形成した。第1のガラス板には、透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)を使用した。
First, a first film was formed on one surface of the first glass plate. A transparent float glass (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used for the first glass plate.
第1の膜は、チタニアと酸化スズ混合酸化物層の単層構造とした。この層は、オンライン熱分解スプレー法により成膜した。2種類の原料、オキシレングリコールチタネート(Oxylen Glycol Titanate)、2メチル2酢酸スズ(Dimethyl Tin Diacetate)と溶剤ジメチルフォルムアミド(DimethlFormamide)を混合し、圧搾空気によって霧化しフロートガラスのリボンに吹き付けながら酸化物層を形成した。成膜時の基板温度は約520℃であった。なお、混合酸化物層の厚さは、45nm(目標値)であった。膜形成後、縦70mm×横100mm×厚さ6mmの寸法に切断した。
The first film has a single layer structure of a mixed oxide layer of titania and tin oxide. This layer was formed by an on-line pyrolysis spray method. Two raw materials, oxylene glycol titanate (Oxylen Glycol Titanate), 2-methyltinacetate (Dimethyl Tin Diacetate) and solvent dimethylformamide (DimethylFormamide) are mixed and atomized with compressed air while being sprayed on the ribbon of float glass A physical layer was formed. The substrate temperature during film formation was about 520 ° C. The mixed oxide layer had a thickness of 45 nm (target value). After the film formation, the film was cut into dimensions of 70 mm length × 100 mm width × 6 mm thickness.
次に、一方の表面に第2の膜が設置された第2のガラス板を準備した。
Next, a second glass plate having a second film on one surface was prepared.
第2のガラス板には、ソーダライム組成の透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)に、オンラインCVD法により第2の膜を形成した後に、縦70mm×横100mm×厚さ6mmの寸法に切断したものを使用した。第2の膜の構成および成膜条件は、例1における第2の膜の構成および成膜条件と同様である。
On the second glass plate, a second film is formed on a transparent float glass with a soda lime composition (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) by an on-line CVD method, and then the dimensions are 70 mm long × 100 mm wide × 6 mm thick. A cut one was used. The configuration and deposition conditions of the second film are the same as the configuration and deposition conditions of the second film in Example 1.
このようにして得られた2枚のガラス板を、中間膜を介して相互に積層して、積層体を構成した。なお、この際には、第1のガラス板の第1の膜が形成された表面が第1の外側となり、第2のガラス板の第2の膜が形成された表面が第2の外側となるようにして、両ガラス板を中間膜を介して配置した。
The two glass plates thus obtained were laminated with each other through an intermediate film to form a laminate. In this case, the surface of the first glass plate on which the first film is formed is the first outer side, and the surface of the second glass plate on which the second film is formed is the second outer side. In this manner, both glass plates were arranged with an intermediate film interposed therebetween.
その後は、例1の場合と同様の処理により、両ガラス板を相互に接合した。
Thereafter, both glass plates were joined to each other by the same treatment as in Example 1.
これにより、合わせガラス(以下、例31に係る合わせガラスと称する)が製造された。
Thereby, a laminated glass (hereinafter referred to as a laminated glass according to Example 31) was produced.
(例32~例35)
例31の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。ただし、これらの例32~例35では、第1のガラス板として、例31とは異なる種類のものを使用した。
(Example 32 to Example 35)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 31. However, in these examples 32 to 35, the first glass plate of a different type from that of example 31 was used.
得られた合わせガラスを、それぞれ、例32~例35に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glasses are referred to as laminated glasses according to Examples 32 to 35, respectively.
(例36~例37)
例31の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。ただし、これらの例36~例37では、第1のガラス板として、例31とは異なる種類のものを使用した。また、第1の膜は、スプレー法により形成した鉄、クロム、コバルト混合酸化物層である。この膜はオンライン熱分解スプレー法により成膜した。3種類の原料、鉄、クロム、コバルトのアセチルアセトネートを調合し溶剤ジメチルフォルムアミド(DimethlFormamide)に溶解した溶液を、圧搾空気によって霧化しフロートガラスのリボンに吹き付けながら酸化物層を形成した。酸化物層の厚さは、40nm(目標値)とした。
(Example 36 to Example 37)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 31. However, in these examples 36 to 37, the first glass plate of a different type from that of example 31 was used. The first film is an iron, chromium, cobalt mixed oxide layer formed by a spray method. This film was formed by an on-line pyrolysis spray method. Three types of raw materials, iron, chromium, and cobalt acetylacetonate were mixed and dissolved in the solvent dimethylformamide, and the oxide layer was formed while atomizing with compressed air and spraying on a float glass ribbon. The thickness of the oxide layer was 40 nm (target value).
得られた合わせガラスを、それぞれ、例36~例37に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glasses are referred to as laminated glasses according to Examples 36 to 37, respectively.
(例38)
例31の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。
(Example 38)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 31.
ただし、この例38では、第1の膜は、SiOx層と導電性スズ酸化物の2層構造とした。SiOx層の目標厚さは、55nmとした。また、導電性スズ酸化物は、アンチモンドープされた酸化スズ層とし、目標厚さは、320nmとした。
However, in Example 38, the first film had a two-layer structure of a SiO x layer and a conductive tin oxide. The target thickness of the SiO x layer was 55 nm. The conductive tin oxide was an antimony-doped tin oxide layer, and the target thickness was 320 nm.
また、この例38では、第1のガラス、中間膜、および第2のガラスを積層する際に、第1のガラスの第1の膜が形成された表面が中間膜と面するようにして(すなわち内側となるようにして)、第1のガラスを配置した。一方、第2のガラス板は、第2の膜が形成された表面が第2の外側となるようにして配置した。
In Example 38, when the first glass, the intermediate film, and the second glass are laminated, the surface on which the first film of the first glass is formed faces the intermediate film ( In other words, the first glass was disposed so as to be inside. On the other hand, the 2nd glass plate was arrange | positioned so that the surface in which the 2nd film | membrane was formed might become a 2nd outer side.
この構成は、前述の図4に示した第2の合わせガラス200の構成に対応する。そこで、ここでは、第1の膜を第3の膜と称することにする。
This configuration corresponds to the configuration of the second laminated glass 200 shown in FIG. 4 described above. Therefore, here, the first film is referred to as a third film.
得られた合わせガラスを例38に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glass is referred to as laminated glass according to Example 38.
(例39~例41)
例38の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。ただし、これらの例39~例41では、第1のガラス板として、例38とは異なる種類のものを使用した。
(Example 39 to Example 41)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 38. However, in Examples 39 to 41, the first glass plate used was a different type from that in Example 38.
得られた合わせガラスを、それぞれ、例39~例41に係る合わせガラスと称する。
The obtained laminated glasses are referred to as laminated glasses according to Examples 39 to 41, respectively.
(例42)
例31の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。
(Example 42)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 31.
ただし、この例42では、第1のガラス板の第1の膜は、SiOx層と導電性スズ酸化物の2層構造とし、SiOx層の目標厚さは55nmとした。また、導電性スズ酸化物は、アンチモン添加された酸化スズ層とし、目標厚さは、320nmとした。
However, in Example 42, the first film of the first glass plate has a two-layer structure of an SiOx layer and a conductive tin oxide, and the target thickness of the SiOx layer is 55 nm. The conductive tin oxide was a tin oxide layer to which antimony was added, and the target thickness was 320 nm.
その後、例31の場合と同様の処理により、第1のガラス板を、第2の膜が設置された第2のガラス板と相互に接合した。これにより、合わせガラス(以下、例42に係る合わせガラスと称する)が製造された。
Thereafter, the first glass plate was bonded to the second glass plate provided with the second film by the same treatment as in Example 31. Thereby, a laminated glass (hereinafter referred to as a laminated glass according to Example 42) was produced.
(例43)
例31の場合と同様の方法で、合わせガラスを製造した。
(Example 43)
A laminated glass was produced in the same manner as in Example 31.
ただし、この例43では、第1の膜の構成は、例1と同様、前述の図2に示したような3層構造とした。
However, in Example 43, the first film has a three-layer structure as shown in FIG.
その後、例31の場合と同様の処理により、第1のガラス板を、第2の膜が設置された第2のガラス板と相互に接合した。これにより、合わせガラス(以下、例43に係る合わせガラスと称する)が製造された。
Thereafter, the first glass plate was bonded to the second glass plate provided with the second film by the same treatment as in Example 31. Thereby, a laminated glass (hereinafter referred to as a laminated glass according to Example 43) was produced.
以下の表3および表4には、例31~例43に係る合わせガラスの構成をまとめて示した。
Tables 3 and 4 below collectively show the configurations of the laminated glasses according to Examples 31 to 43.
(例51~例58)
次に、前述の図6に示したような7層構造の第3の膜を有する合わせガラスを製造した(例51~例58)。また、10層構造の第3の膜を有する合わせガラスを製造した(例59)。さらに、8層構造の第3の膜を有する合わせガラスを製造した(例60~例63)。
(Example 51 to Example 58)
Next, laminated glass having the third film having the seven-layer structure as shown in FIG. 6 was manufactured (Examples 51 to 58). A laminated glass having a third film having a 10-layer structure was produced (Example 59). Furthermore, laminated glass having a third film having an eight-layer structure was produced (Examples 60 to 63).
このうち、7層構造の第3の膜を有する合わせガラス(例51~例54)は、以下のように製造した。
Among these, laminated glasses having a third film having a seven-layer structure (Examples 51 to 54) were produced as follows.
まず、第1のガラス板の一方の表面に、第3の膜を形成した。第1のガラス板には、縦70mm×横100mm×厚さ6mmの寸法を有する透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)を使用した。第3の膜を構成する各層は、インライン型スパッタ装置を用いて連続して形成した。
First, a third film was formed on one surface of the first glass plate. As the first glass plate, transparent float glass (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having dimensions of 70 mm in length, 100 mm in width, and 6 mm in thickness was used. Each layer constituting the third film was continuously formed using an in-line type sputtering apparatus.
第1、第2および第3の誘電体層は、アルミニウムが添加された酸化亜鉛層(AZO層)とした。成膜の際には、アルミニウムが2wt%添加されたアルミ亜鉛合金ターゲットを使用し、放電ガスとして二酸化炭素を100sccm導入した。このときの成膜圧力は、0.35Paであった。
The first, second and third dielectric layers were zinc oxide layers (AZO layers) to which aluminum was added. During film formation, an aluminum zinc alloy target to which 2 wt% of aluminum was added was used, and 100 sccm of carbon dioxide was introduced as a discharge gas. The film forming pressure at this time was 0.35 Pa.
第1および第2の機能層は、パラジウムが添加された銀層(AgPd層)とした。成膜の際には、パラジウムが1wt%添加された銀パラジウム合金ターゲットを使用し、放電ガスとしてアルゴンを50sccm導入した。このときの成膜圧力は、0.14Paであった。
The first and second functional layers were silver layers to which palladium was added (AgPd layers). At the time of film formation, a silver palladium alloy target to which 1 wt% of palladium was added was used, and 50 sccm of argon was introduced as a discharge gas. The film forming pressure at this time was 0.14 Pa.
第1および第2のバリア層は、チタン層とした。チタン層の成膜の際には、チタンターゲットを使用し、放電ガスとしてアルゴンを100sccm導入した。このときの成膜圧力は、0.25Paであった。
The first and second barrier layers were titanium layers. When forming the titanium layer, a titanium target was used, and 100 sccm of argon was introduced as a discharge gas. The film forming pressure at this time was 0.25 Pa.
第2のガラス板には、ソーダライム組成の透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)に、オンラインCVD法により第2の膜を形成した後に、縦70mm×横100mm×厚さ6mmの寸法に切断したものを使用した。第2の膜の構成および成膜条件は、例1における第2の膜の構成および成膜条件と同様である。その後は、例31の場合と同様の処理により、両ガラス板を相互に接合した。これにより、合わせガラス(以下、例51~54に係る合わせガラスと称する)が製造された。例55~例58においても、同様の方法により、合わせガラスを製造した。ただし、これらの例では、第2のガラス板に形成された第2の膜は、例1における第2の膜において、酸化スズ層にフッ素の代わりにアンチモンを添加した膜とした点を除いて同様である。
On the second glass plate, a second film is formed on a transparent float glass with a soda lime composition (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) by an on-line CVD method, and then the dimensions are 70 mm long × 100 mm wide × 6 mm thick. A cut one was used. The configuration and deposition conditions of the second film are the same as the configuration and deposition conditions of the second film in Example 1. Thereafter, both glass plates were bonded to each other by the same treatment as in Example 31. Thereby, a laminated glass (hereinafter referred to as a laminated glass according to Examples 51 to 54) was produced. In Examples 55 to 58, laminated glass was produced by the same method. However, in these examples, the second film formed on the second glass plate is the same as the second film in Example 1 except that the tin oxide layer is a film in which antimony is added instead of fluorine. It is the same.
(例60~66)
まず、第1のガラス板の一方の表面に、第1の膜を形成した。第1のガラス板には、縦70mm×横100mm×厚さ6mmの寸法を有する透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)を使用した。
(Examples 60 to 66)
First, a first film was formed on one surface of the first glass plate. As the first glass plate, transparent float glass (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having dimensions of 70 mm in length, 100 mm in width, and 6 mm in thickness was used.
第1の膜の構成は、前述の図6に示したような7層構造とした。各層はインライン型スパッタ装置を用いて連続して形成した。
The first film has a seven-layer structure as shown in FIG. Each layer was continuously formed using an in-line type sputtering apparatus.
第1、第2の誘電体層(AZO膜)には、アルミが2wt%添加されたアルミ亜鉛合金ターゲットを使用し、放電ガスとして二酸化炭素を100sccm導入して成膜した。このときの成膜圧力は、0.35Paであった。
For the first and second dielectric layers (AZO films), an aluminum zinc alloy target to which 2 wt% of aluminum was added was used, and carbon dioxide was introduced at 100 sccm as a discharge gas to form a film. The film forming pressure at this time was 0.35 Pa.
第3の誘電体層(AZO膜、SZO膜)には、アルミが2wt%添加されたアルミ亜鉛合金ターゲットを使用し、放電ガスとして二酸化炭素を100sccm導入して成膜したAZO膜と、スズを50wt%含有したスズ亜鉛合金ターゲットを使用し、アルゴン:酸素を30:70sccm導入して成膜したSZO膜の積層とした。SZO膜の成膜圧力は、0.50Paであった。
For the third dielectric layer (AZO film, SZO film), an aluminum zinc alloy target to which 2 wt% of aluminum was added was used, and an AZO film formed by introducing 100 sccm of carbon dioxide as a discharge gas; and tin Using a tin-zinc alloy target containing 50 wt%, an SZO film was formed by introducing argon: oxygen at 30:70 sccm. The deposition pressure of the SZO film was 0.50 Pa.
第1、第2の機能層(AgPd膜)には、パラジウムが1wt%添加された銀パラジウム合金ターゲットを使用し、放電ガスとしてアルゴンを50sccm導入して成膜した。このときの成膜圧力は、0.14Paであった。
The first and second functional layers (AgPd films) were formed by using a silver-palladium alloy target to which 1 wt% of palladium was added and introducing argon at 50 sccm as a discharge gas. The film forming pressure at this time was 0.14 Pa.
第1、第2のバリア層(Ti膜、NiCr膜)には、チタンターゲットまたはニッケルを50wt%含有したニッケルクロム合金ターゲットを使用し、放電ガスとしてアルゴンを100sccm導入して成膜した。このときの成膜圧力は、0.25Paであった。
The first and second barrier layers (Ti film, NiCr film) were formed using a titanium target or a nickel chromium alloy target containing 50 wt% of nickel and introducing 100 sccm of argon as a discharge gas. The film forming pressure at this time was 0.25 Pa.
第2のガラス板には、ソーダライム組成の透明フロートガラス(Clear:旭硝子株式会社製)に、オンラインCVD法により第2の膜を形成した後に、縦70mm×横100mm×厚さ4mmの寸法に切断したものを使用した。例60、例61、例64~66における第2の膜の構成および成膜条件は、例51~例54における第2の膜の構成および成膜条件と同様であり、例62、例63における第2の膜の構成および成膜条件は、例55~例58における第2の膜の構成および成膜条件と同様である。
On the second glass plate, a second film is formed on a transparent float glass with a soda lime composition (Clear: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) by an on-line CVD method. A cut one was used. The configurations and deposition conditions of the second film in Examples 60, 61, and 64 to 66 are the same as the configurations and deposition conditions of the second film in Examples 51 to 54. The configuration and deposition conditions of the second film are the same as the configuration and deposition conditions of the second film in Examples 55 to 58.
その後は、例51~例58の場合と同様の処理により、両ガラス板を相互に接合した。これにより、合わせガラス(以下、例60~66に係る合わせガラスと称する)が製造された。以下の表5および表6には、例51~例66に係る合わせガラスの構成をまとめて示した。
Thereafter, both glass plates were bonded to each other by the same treatment as in Examples 51 to 58. Thereby, a laminated glass (hereinafter referred to as a laminated glass according to Examples 60 to 66) was produced. Tables 5 and 6 below collectively show the configurations of the laminated glasses according to Examples 51 to 66.
(評価)
前述のように製造された各合わせガラスを用いて、以下の評価を行った。
(Evaluation)
The following evaluation was performed using each laminated glass manufactured as described above.
(光学特性の評価)
各合わせガラスについて、HITACHI社製分光光度計U4100を用いて分光測定し、ISO9050:2003に準拠した方法で、可視光反射率Rvout(%)、エネルギー反射率Reout、遮蔽係数SC、および可視光透過率Tv(%)を算出した。
(Evaluation of optical properties)
Each laminated glass was spectroscopically measured using a spectrophotometer U4100 manufactured by HITACHI, and the visible light reflectance Rv out (%), the energy reflectance Re out , the shielding coefficient SC, and the visible light were measured in accordance with ISO 9050: 2003. The light transmittance Tv (%) was calculated.
なお、これらの測定は、各合わせガラスの第1の外側、すなわち、第1のガラス板の外側から光を照射して実施した。放射率は、DEVICES AND SERVICES COMPANY社製Emissometerを用いて測定し、予め求めた赤外分光機JASCO社製FT/IR-420での測定結果との換算式を用いて算出した。
In addition, these measurements were performed by irradiating light from the first outside of each laminated glass, that is, from the outside of the first glass plate. The emissivity was measured by using an Emissometer manufactured by DEVICES AND SERVICES COMPANY, and calculated using a conversion formula with a measurement result obtained in advance by an infrared spectrometer JAFT FT / IR-420.
以下の表7には、各合わせガラスにおいて得られた可視光反射率Rvout(%)、エネルギー反射率Reout、遮蔽係数SC、および可視光透過率Tv(%)を、まとめて示す。
Table 7 below collectively shows the visible light reflectance Rv out (%), energy reflectance Re out , shielding coefficient SC, and visible light transmittance Tv (%) obtained in each laminated glass.
図7には、各合わせガラスにおいて得られた可視光透過率Tv(%)と遮蔽係数SCの関係をプロットしたグラフを示す。また、図8には、各合わせガラスにおいて得られた可視光透過率Tv(%)と可視光反射率Rvout(%)の関係をプロットしたグラフを示す。また、図9には第1のガラスのエネルギー透過率Te(%)と各合わせガラスにおいて得られた遮蔽係数SCの関係をプロットしたグラフを示す。さらに図10には各合わせガラスにおいて得られたエネルギー反射率Reout(%)と遮蔽係数SCの関係をプロットしたグラフを示す。
FIG. 7 shows a graph plotting the relationship between the visible light transmittance Tv (%) and the shielding coefficient SC obtained in each laminated glass. FIG. 8 is a graph plotting the relationship between the visible light transmittance Tv (%) and the visible light reflectance Rv out (%) obtained in each laminated glass. FIG. 9 is a graph plotting the relationship between the energy transmittance Te (%) of the first glass and the shielding coefficient SC obtained in each laminated glass. FIG. 10 is a graph plotting the relationship between the energy reflectance Re out (%) and the shielding coefficient SC obtained in each laminated glass.
なお、例31~例32、および例37~例40、および例42~例43に係る合わせガラスの測定結果は、図7からは確認できない。これは、これらの例の測定結果は、図7で表される縦軸と横軸の範囲から大きく逸脱しているためである。
Note that the measurement results of the laminated glasses according to Examples 31 to 32, 37 to 40, and 42 to 43 cannot be confirmed from FIG. This is because the measurement results of these examples greatly deviate from the ranges of the vertical axis and the horizontal axis shown in FIG.
また、例31、38、42、43に係る合わせガラスの測定結果は図9および図10からは確認できない。これは、これらの例の測定結果は、図9および図10で表わされる縦軸の範囲から大きく逸脱しているためである。
Moreover, the measurement result of the laminated glass which concerns on Example 31, 38, 42, 43 cannot be confirmed from FIG. 9 and FIG. This is because the measurement results of these examples greatly deviate from the range of the vertical axis shown in FIGS.
図7から、例1~例5、例11~例18、および例51~例66に係る合わせガラスの場合、いずれのプロットも、遮蔽係数SC≦0.35で表される領域A内に含まれることがわかる。また、図B8から、例1~例5、例11~例18、および例51~例66に係る合わせガラスの場合、いずれのプロットも、可視光反射率Rvout≦30%で表される領域B内に含まれることがわかる。
From FIG. 7, in the case of the laminated glasses according to Examples 1 to 5, Example 11 to Example 18, and Example 51 to Example 66, any plot is included in the region A represented by the shielding coefficient SC ≦ 0.35. I understand that Further, from FIG. B8, in the case of the laminated glass according to Examples 1 to 5, Example 11 to Example 18, and Example 51 to Example 66, all plots are regions represented by visible light reflectance Rv out ≦ 30%. It can be seen that it is included in B.
これに対して、例31~例43に係る合わせガラスの場合、プロットは、領域Aと領域Bの少なくとも一つには、包含されていないことがわかる。
On the other hand, in the case of the laminated glasses according to Examples 31 to 43, it can be seen that the plot is not included in at least one of the regions A and B.
このことから、例1~例5、例11~例18、および例51~例66に係る合わせガラスは、良好な遮熱性を有する上、第1の側からの反射が有意に抑制されていると言える。
From this, the laminated glasses according to Examples 1 to 5, 11 to 18 and 51 to 66 have good heat shielding properties, and reflection from the first side is significantly suppressed. It can be said.
また、例1~例5および例11~例18、および例51~例66に係る合わせガラスでは、いずれのプロットも、可視光透過率Tv(%)>26%を満たしており、十分な透過性を有することがわかった。
In addition, in the laminated glasses according to Examples 1 to 5, 11 to 18, and 51 to 66, all plots satisfy the visible light transmittance Tv (%)> 26%, and the transmission is sufficient. It was found to have sex.
図9から例1~例5、例11~例18および例51~例66に係る合わせガラスの場合、いずれのプロットも、遮蔽係数SC≦0.35で表される領域C内に含まれることがわかる。これらのプロットは概略として第1のガラスのエネルギー透過率Teの増加によりSCが増大する傾向にある。これらいずれのプロットも第1のガラスのTe<50%の領域にあり、Teがこの領域より大きい場合はSC値が0.35を上回る。これに対して、例31~例43に係る合わせガラスの場合、プロットは、この領域包含されていないものが発生する。例33、34、36、37は遮蔽係数SC≦0.35の領域内であるが、これらは図8に示されるように可視光反射率Rvout>30%の領域に分布しており、顕著なギラツキを生じるため意匠性を損ねる。
In the case of laminated glass according to Examples 1 to 5, Example 11 to Example 18, and Example 51 to Example 66 from FIG. 9, all plots are included in the region C represented by the shielding coefficient SC ≦ 0.35. I understand. In these plots, the SC tends to increase as the energy transmission Te of the first glass increases. Both of these plots are in the region of Te <50% of the first glass, and when Te is larger than this region, the SC value exceeds 0.35. On the other hand, in the case of the laminated glass according to Examples 31 to 43, the plot does not include this region. Examples 33, 34, 36, and 37 are in the region of the shielding coefficient SC ≦ 0.35, but these are distributed in the region of visible light reflectance Rv out > 30% as shown in FIG. Design glare is lost because of the glaring effect.
また図10から例1~例5、例11~例18および例51~例66に係る合わせガラスの場合、いずれのプロットも、遮蔽係数SC≦0.35で表される領域D内に含まれることがわかる。これらのプロットは概略としてエネルギー反射率Reoutの増加によりSCが低下する傾向にある。これらいずれのプロットも第1のガラスのReout≧4%の領域にあり、Reoutがこの領域より小さい場合はSC値が0.35を上回ることが予想できる。例33、34、36、37は遮蔽係数SC≦0.35の領域内であるが、これらは図8に示されるように可視光反射率Rvout>30%の領域に分布しており、顕著なギラツキを生じるため意匠性を損ねる。
Further, in the case of the laminated glass according to Examples 1 to 5, Example 11 to Example 18, and Example 51 to Example 66 from FIG. 10, any plots are included in the region D represented by the shielding coefficient SC ≦ 0.35. I understand that. In these plots, the SC tends to decrease as the energy reflectivity Re out increases. Located Re out ≧ 4% of the area of even any one of these plots the first glass, when Re out is less than this region can be expected that the SC value is above 0.35. Examples 33, 34, 36, and 37 are in the region of the shielding coefficient SC ≦ 0.35, but these are distributed in the region of visible light reflectance Rv out > 30% as shown in FIG. Design glare is lost because of the glaring effect.
(反射色の評価)
次に、例1~例5、例11~例18および例51~例66に係る合わせガラスを用いて、反射色の評価を実施した。具体的には、合わせガラスの第1の側(すなわち第1のガラス板の側)から可視光が照射された際の反射光について、反射色の評価を行った。入射角度は、5゜および55゜とした。反射色は、ISO9050:2003に準拠して得られる反射光を、CIE1976L*a*b*色度座標で表すことにより数値化した。以下の表8には、例1~例5および例11~例18および例60~例66に係る合わせガラスにおいて得られた、反射色の評価結果をまとめて示す。
(Evaluation of reflection color)
Next, the reflection color was evaluated using the laminated glasses according to Examples 1 to 5, 11 to 18 and 51 to 66. Specifically, the reflected color was evaluated for the reflected light when visible light was irradiated from the first side of the laminated glass (that is, the first glass plate side). The incident angles were 5 ° and 55 °. The reflected color was quantified by expressing the reflected light obtained according to ISO 9050: 2003 with CIE1976L * a * b * chromaticity coordinates. Table 8 below summarizes the evaluation results of the reflection colors obtained in the laminated glasses according to Examples 1 to 5, 11 to 18 and 60 to 66.
表8に示すように、例59を除くいずれの合わせガラスにおいても、反射色は、第3象限、すなわちa*およびb*がいずれも負となる領域に存在することがわかった。また、a*およびb*の絶対値は、十分に小さくなった。このことから、これらの合わせガラスの反射色は、薄い緑色系~薄い青色系の領域にあることがわかった。
As shown in Table 8, in any laminated glass except Example 59, it was found that the reflected color was in the third quadrant, that is, in a region where both a * and b * were negative. In addition, the absolute values of a * and b * were sufficiently small. From this, it was found that the reflection color of these laminated glasses is in the light green to light blue region.
この領域の反射色は、視認者に違和感を与えることが少なく、むしろ好まれる傾向にあるため、これらの合わせガラスは、良好な意匠性を有すると言える。
Since the reflected color in this region rarely gives the viewer a sense of incongruity and tends to be preferred, it can be said that these laminated glasses have good design properties.
このように、例1~例5、例11~例18、例51~例66に係る合わせガラスの場合、反射色により、合わせガラスの意匠性が低下する可能性は小さいことが確認された。特に、例64~66は他の形態と比較して優れた色調を有することが確認された。例59は、55゜入射反射色において、a*が正であることから反射色が違和感を与えることが懸念される。
Thus, in the case of the laminated glasses according to Examples 1 to 5, Examples 11 to 18, and Examples 51 to 66, it was confirmed that there is little possibility that the design properties of the laminated glass deteriorate due to the reflection color. In particular, it was confirmed that Examples 64-66 had excellent color tone as compared with other forms. In Example 59, there is a concern that the reflection color gives a sense of incongruity because a * is positive in the 55 ° incident reflection color.