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WO2014002841A1 - マスクフレーム - Google Patents

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Publication number
WO2014002841A1
WO2014002841A1 PCT/JP2013/066802 JP2013066802W WO2014002841A1 WO 2014002841 A1 WO2014002841 A1 WO 2014002841A1 JP 2013066802 W JP2013066802 W JP 2013066802W WO 2014002841 A1 WO2014002841 A1 WO 2014002841A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
mask
mask frame
metal mask
side portion
metal
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/066802
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
智文 大崎
伸一 川戸
越智 貴志
菊池 克浩
学 二星
知裕 小坂
優人 塚本
Original Assignee
シャープ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シャープ株式会社 filed Critical シャープ株式会社
Priority to US14/411,383 priority Critical patent/US20150299840A1/en
Publication of WO2014002841A1 publication Critical patent/WO2014002841A1/ja

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Definitions

  • the present invention relates to a mask frame to which a metal mask for depositing a material on a substrate is attached.
  • a metal mask for depositing a material on a substrate is used.
  • the metal mask is made of metal and is attached to the mask frame. At that time, the metal mask is generally welded to the surface of the mask frame.
  • the metal mask and the mask frame are also enlarged.
  • the metal mask is required to be thin enough to deposit the material precisely on the substrate. At present, the thickness of the metal mask is about several tens to 100 ⁇ m.
  • FIG. 5 is a diagram schematically showing a state in which a material is deposited on the substrate 104 using the conventional mask frame 101 and the metal mask 102.
  • the mask frame 101 is a metal frame having a large opening at the center.
  • a metal mask 102 is welded to one surface of the mask frame 101.
  • the metal mask 102 is welded to the surfaces of at least a pair of side portions constituting the mask frame 101. All four sides may be welded. In any case, only the periphery of the metal mask 102 is welded to the mask frame 101. Accordingly, the portion of the metal mask 102 that faces the opening of the mask frame 101 is separated from the mask frame 101.
  • the mask frame 101 and the metal mask 102 are arranged in parallel to the ground.
  • the metal mask 102 is welded to the surface of the mask frame 101 opposite to the ground. Since the welded surface of the metal mask 102 is within one plane, the metal mask 102 is welded to the welded surface as a single thin flat shape.
  • a substrate 104 is disposed on the metal mask 102.
  • the metal mask 102 is provided with a large number of openings corresponding to the vapor deposition pattern of the material on the substrate 104.
  • a vapor deposition source 106 is disposed at a position away from the surface opposite to the vapor deposition surface of the mask frame 101 by a certain distance toward the ground.
  • a material for forming an organic EL element or the like is emitted from the vapor deposition source 106 toward the opening of the metal mask 102. Thereby, the material is deposited on the substrate 104 through the opening of the metal mask 102. As a result, a film is formed on the substrate 104 in a predetermined pattern.
  • FIG. 5 is a view showing a cross section of the mask frame 101 according to the prior art and a cross section of the metal mask 102 attached to the mask frame 101.
  • the metal mask 102 is very thin. Therefore, when the metal mask 102 is increased in size, bending toward the ground occurs due to its own weight at a position facing the substrate 104 of the mask frame 101. As shown in FIG. 5B, the force applied to the metal mask 102 due to its own weight increases as it goes toward the center of the metal mask 102, and the deflection increases accordingly.
  • the opening provided in advance in the metal mask 102 does not face the substrate in the size and shape as designed. Therefore, there is a risk that the pattern of the film deposited on the substrate 104 through each opening will be out of design. Furthermore, the material may be deposited through a certain opening at the position of the substrate 104 corresponding to the opening adjacent to the opening.
  • each opening in the metal mask 102 corresponds to each pixel in the substrate 104. Therefore, when the metal mask 102 and the mask frame 101 shown in FIG. 5A are used, a pixel group having a pattern different from the design pattern is formed on the substrate 104 in the substrate 104. In addition, a certain picture element material is mixed into an adjacent picture element. As a result, problems such as deterioration of display quality in the manufactured organic EL display and partial failure of the picture elements to occur easily occur.
  • Patent Document 1 discloses a vapor deposition apparatus that includes a deposition mechanism that presses a deposition target substrate placed on a deposition mask against the deposition mask and includes a pressing mechanism that includes a magnet at least at a position corresponding to a corner of the deposition target substrate. Is disclosed. The purpose of this vapor deposition apparatus is to reduce deformation of the vapor deposition mask due to its own weight by attracting the vapor deposition mask in the direction opposite to the direction of gravity.
  • JP 2011-233510 A (published on November 17, 2011)
  • the present invention has been made to solve the above problems. And according to 1 aspect of this invention, the bending by the freedom which arises in a metal mask can be effectively reduced, without requiring an additional member.
  • a mask frame provides A square mask frame with an opening to which a deposition mask is attached, A first side portion having a chevron-shaped surface with the central portion in the length direction as the top and one end portion and the other end portion in the length direction as hems, respectively; A second side facing the first side and having the same shape as the first side; A third side perpendicular to the first side and the second side; It has the 4th side part which opposes the said 3rd side part, It is characterized by the above-mentioned.
  • the mask frame according to an aspect of the present invention has an effect that it is possible to effectively reduce the deflection caused by the freedom generated in the metal mask without requiring an additional member.
  • FIG. 2 is a diagram schematically showing a state in which a material is deposited on the substrate 4 using the mask frame 1 and the metal mask 2 according to the present embodiment.
  • the mask frame 1 is a rectangular frame made of metal with a large opening at the center.
  • the mask frame 1 is used for the purpose of fixing and stabilizing the metal mask 2.
  • the mask frame 1 is rectangular.
  • the mask frame 1 may be square.
  • the shape is determined according to the shape of the substrate 4 to be deposited.
  • the mask frame has a frame composed of four thin sides.
  • the width and thickness of the frame are about several tens of mm in order to maintain sufficient strength. Therefore, even if the mask frame 1 is enlarged, the mask frame 1 is not bent or deformed by its own weight.
  • a metal mask 2 (deposition mask) is attached to one surface of the mask frame 1. As will be described in detail later, the metal mask 2 has a curved shape rather than a flat shape. Thereby, the bending of the metal mask 2 is reduced.
  • the metal mask 2 is a vapor deposition mask used for forming a thin film having a predetermined pattern on the substrate 4.
  • the metal mask 2 is a rectangular thin mask made of metal and has a thickness of about several ⁇ m to several hundred ⁇ m. In the present embodiment, the metal mask 2 is rectangular. However, the metal mask 2 may be square.
  • the shape of the metal mask 2 depends on the application of the metal mask 2. For example, when using it for the purpose of vapor-depositing a material on the large substrate 4, the shape of the metal mask 2 is preferably a strip shape. This is because if a plurality of strip-shaped metal masks 2 are arranged in a line and attached to the mask frame 2, it is not necessary to use a large metal mask 2 corresponding to the large substrate 4.
  • the metal mask 2 is attached to the mask frame 1 by being welded to at least a pair of opposite sides constituting the mask frame 1. In addition, you may weld with respect to all four sides. In any case, only the periphery of the metal mask 2 is welded to the mask frame 1. Therefore, a portion of the metal mask 2 that faces the opening of the mask frame 2 is not welded to the mask frame 1.
  • a large number of openings corresponding to the vapor deposition pattern of the material on the substrate 4 are provided.
  • the size of each opening depends on the application of the individual thin film to be deposited on the substrate 4.
  • the substrate 4 is a film formation substrate on which a thin film having a predetermined pattern is formed through the opening of the metal mask 2.
  • the substrate 4 constitutes an organic EL display.
  • the pattern formed on the substrate 4 through the metal mask 2 is a pixel pattern of an organic EL display.
  • the deposition source 6 emits a material to be deposited on the substrate 4.
  • a material to be deposited on the substrate 4. for example, an organic light emitting material constituting a picture element of an organic EL display is emitted toward the metal mask 2. Thereby, the material is deposited on the substrate 4 through the opening of the metal mask 2. As a result, the released material is deposited on the substrate 4 in a predetermined pattern.
  • the metal mask 2 is attached to one surface of the metal mask 2. This surface is also called a vapor deposition surface.
  • a substrate 4 is disposed on the metal mask 2. The substrate 4 is arranged in parallel to the ground.
  • a vapor deposition source 6 is disposed at a position away from the surface opposite to the vapor deposition surface in the mask frame 1 by a certain distance toward the ground. The vapor deposition source 6 deposits the material on the substrate 4 disposed above the vapor deposition source 6 by discharging the material upward.
  • FIG. 1A is a diagram illustrating an appearance of a mask frame 1 according to the present embodiment.
  • the mask frame 1 includes a side part 10 (first side part), a side part 12 (second side part), It is comprised by the side part 14 (3rd side part) and the side part 16 (4th side part).
  • the side portion 10 has a mountain-shaped surface with the central portion 18 in the length direction of the side portion 10 as the top and the end portion 20 and the end portion 22 in the length direction of the side portion 10 as hems, respectively. ing.
  • This surface is a surface to which the metal mask 2 is attached.
  • the side portion 10 itself has a mountain shape.
  • the shape of the surface of the side portion 10 is an arc shape or a cosine shape that connects the central portion 18 to the end portion 20 and the end portion 22. That is, the surface of the side portion 10 is a curved surface.
  • the side portion 12 faces the side portion 10 and has the same shape as the first side portion. That is, the surface of the side portion 12 has a mountain shape as in the surface of the side portion 10. Further, the side portion 12 itself has a mountain shape.
  • the side part 14 is orthogonal to the side part 10 and the side part 12.
  • the surface of the side portion 14 is a curved surface similar to the surface of the side portion 10 near the end portion 20.
  • the side 16 faces the side 14 and is orthogonal to the side 10 and the side 12. Further, the surface of the side portion 16 is a curved surface similar to the surface of the side portion 10 near the end portion 22.
  • the side 10 and the side 12 are longer than the side 14 and the side 16. That is, the side portion 10 and the side portion 12 correspond to a pair of long sides in the mask frame 1, and the side portion 14 and the side portion 16 correspond to a pair of short sides in the mask frame 1. These are only examples.
  • the side part 10 and the side part 12 may have the same length as the side part 14 and the side part 16.
  • the metal mask 2 is attached to the mask frame 1a by being welded on at least the side part 14 and the side part 16.
  • the metal mask 2 may or may not be welded to the surface of the side portion 10 and the surface of the side portion 12.
  • the region facing the side part 10 in the metal mask 2 is close to the side part 10 but is strictly in contact with it.
  • the region facing the side portion 12 in the metal mask 2 is close to the side portion 12 but is not strictly in contact with it.
  • FIG. 1B is a view showing a cross section of the mask frame 1 according to the present embodiment and a cross section of the metal mask 2 attached to the mask frame 1.
  • the side portion 10 has a mountain shape with the central portion 18 in the length direction as the top.
  • the side portion 12 has the same shape as the side portion 10. Therefore, the metal mask 2 attached to the mask frame 1 is curved in the direction opposite to the ground along the surfaces of the side portion 10 and the side portion 12. Therefore, the force applied to the metal mask 2 by this curvature and the force applied to the metal mask by its own weight are just in opposite directions, so that the deflection of the metal mask 2 due to its own weight is reduced as shown in FIG. be able to.
  • the metal mask 2 can be attached to the surface of the side portion 10 and the surface of the side portion 12 so as to be exactly along. Accordingly, the curved state of the metal mask 2 can be stably maintained. Thereby, it is possible to prevent the metal mask 2 once attached from being deformed.
  • the peripheral portion of the metal mask 2 is welded to the curved surface of the side portion 14 and the curved surface of the side portion 16, respectively.
  • the force which makes a metal mask bend in a mountain shape can be given further with respect to a metal mask. Therefore, the deflection of the metal mask 2 due to freedom can be further reduced.
  • the surface of the side part 14 and the side part 16 may be a horizontal plane instead of a curved surface.
  • FIG. 3A is a diagram showing a state of vapor deposition when the metal mask 2 is greatly bent.
  • the metal mask 2 when the metal mask 2 is greatly bent by its own weight, the metal mask 2 is not arranged in parallel to the substrate 4. More specifically, the metal mask 2 is further away from the substrate 4 toward the ground as it goes toward the center of the metal mask 2. Thereby, it becomes impossible to vapor-deposit material on the target film formation area 30 on the substrate 4. As a result, the thin film 32 formed on the substrate 4 becomes wider than the film formation area 30.
  • a picture element group having a pattern different from the design pattern is formed on the substrate 104.
  • a certain picture element material is mixed into an adjacent picture element. As a result, problems such as deterioration of display quality in the manufactured organic EL display and partial failure of the picture elements to occur easily occur.
  • FIG. 3B is a diagram showing the state of vapor deposition when the metal mask 2 is not bent at all.
  • the metal mask 2 if the metal mask 2 is not bent by its own weight, the metal mask 2 is arranged in parallel to the substrate 4. More specifically, the distance from the substrate 4 is constant at any position on the metal mask 2. As a result, the material can be accurately deposited on the target film formation area 30 on the substrate 4. As a result, the thin film 34 formed on the substrate 4 fits snugly in the film formation area 30. As a result, a group of picture elements having a pattern according to the design pattern can be formed on the substrate 104. Therefore, there is no problem that the display quality of the manufactured organic EL display is deteriorated or the picture elements are not partially lit.
  • the metal mask 2 is always subjected to a force of bending in the direction opposite to the ground. Therefore, the metal mask 2 cannot be attached to the mask frame 1 in a completely flat state.
  • the deflection of the metal mask 2 attached to the mask frame 1 of the present embodiment is much smaller than the deflection of the metal mask 102 attached to the mask frame 101 according to the prior art. That is, in the vapor deposition using the mask frame 101 according to the prior art, the situation as shown in FIG. 3A is likely to occur. In the vapor deposition using the mask frame 1 according to the present embodiment, it is close to FIG. The situation is likely to happen. Therefore, in the mask frame 1 of this embodiment, even if ideal deposition accuracy cannot be obtained, sufficiently high deposition accuracy can be obtained as compared with the conventional technique.
  • the mask frame 1 according to the present embodiment does not require an additional member such as a magnet for reducing the bending due to the weight of the metal mask 2. Therefore, there is no adverse effect on the vapor deposition process in the vapor deposition apparatus.
  • the substrate 4 is disposed above the metal mask 2, and deposition is performed by discharging the material upward from the deposition source 6 located below the metal mask 2.
  • this is only an example. That is, the substrate 4 may be disposed below the metal mask 2, and vapor deposition may be performed by discharging the material downward from the vapor deposition source 6 positioned above the metal mask 2.
  • the metal mask 2 is disposed horizontally, an effect of reducing the bending due to the weight of the metal mask 2 can be obtained.
  • the region used for vapor deposition in the metal mask 2 is preferably a region on the inner side of the mask frame 1 on which the metal mask 2 is installed and closer to the center. Thereby, it can prevent that the precision of vapor deposition falls.
  • FIG. 4A is a view showing the appearance of a mask frame 1a according to the second embodiment of the present invention.
  • the mask frame 1a is composed of two semirectangular metal members.
  • One metal member includes a half of the side part 10, a half of the side part 12, and a side part 14.
  • the other metal member includes the other half of the side part 10, the other half of the side part 12, and the side part 14.
  • the surface of the side portion 14 has an inclined surface (first inclined surface) from the central portion 18 toward the end portion 20, and from the central portion 18 to the end portion 22. It consists of an inclined surface (second inclined surface). That is, the surface of the side portion 10 is not in an arc shape or a cosine shape. However, the side portion 10 itself has a mountain shape, like the side portion 10 included in the mask frame 1 according to the first embodiment.
  • the side part 12 has the same shape as the side part 10. That is, the side portion 12 has a mountain shape.
  • the side portion 10 and the side portion 12 face each other in parallel.
  • the surface of the side portion 14 is an inclined surface (third inclined surface) having the same inclination angle as the surface near the end portion 20.
  • the surface of the side portion 16 is an inclined surface (fourth inclined surface) having the same inclination angle as the surface in the vicinity of the end portion 22.
  • the metal mask 2 is attached to the mask frame 1a by being welded on at least the side portion 14 and the side portion 16.
  • the metal mask 2 may or may not be welded to the surface of the side portion 10 and the surface of the side portion 12.
  • the portion of the metal mask 2 welded to the side portion 14 is welded to the side portion 14 in an inclined manner along the inclined surface of the side portion 14.
  • the location welded to the side part 16 in the metal mask 2 is welded to the side part 16 in an inclined manner along the inclined surface of the side part 16.
  • the force to bend the metal mask 2 toward the ground by its own weight is weakened by the force to bend the metal mask 2 in the direction opposite to the ground.
  • an effect of reducing the bending due to the own weight in the metal mask 2 is obtained.
  • the mask frame 1 shown in FIG. 4 (a) has a configuration in which two semi-rectangular metal members, each of which has a shape in which a prismatic metal bar is bent at two right angles, are combined. Each metal member has no curved surface. Therefore, it is easier to process such a metal material to form such a metal member than in the case of forming a mask frame 1 having a curved surface as shown in FIG. Therefore, the mask frame 1a shown in FIG. 4A has an advantage that the number of members increases, but the manufacture is easier.
  • FIG. 4B is a diagram showing the appearance of the mask frame 1b according to the second embodiment of the present invention.
  • the mask frame 1b is composed of one frame-shaped metal member.
  • the surface of the side portion 14 is composed of a first inclined surface extending from the central portion 18 toward the end portion 20, and a second inclined surface extending from the central portion 18 toward the end portion 22. That is, the surface of the side portion 10 is not in an arc shape or a cosine shape.
  • the side portion 10 itself has a mountain shape, like the side portion 10 included in the mask frame 1 according to the first embodiment.
  • the side part 12 has the same shape as the side part 10. That is, the side portion 12 has a mountain shape.
  • the side portion 10 and the side portion 12 face each other in parallel.
  • the surface of the side portion 14 is an inclined surface having the same inclination as the surface of the side portion 10 near the end portion 20.
  • the surface of the side portion 16 is an inclined surface having the same inclination as the surface of the side portion 10 near the end portion 22.
  • the metal mask 2 is attached to the mask frame 1b by being welded on at least the side part 14 and the side part 16. The metal mask 2 may or may not be welded to the surface of the side portion 10 and the surface of the side portion 12.
  • the welded surface of the mask frame 1b is essentially the same as the welded surface of the mask frame 1a. Therefore, in the mask frame 1b as well as in the mask frame 1a, the effect of reducing the bending due to its own weight in the metal mask 2 can be obtained as in the mask frame 1.
  • the side part 10, the side part 12, the side part 14, and the side part 16 are integrally formed. Further, the side surfaces of the side portion 10, the side portion 12, the side portion 14, and the side portion 16 are all flat. Moreover, each back surface in the side part 10, the side part 12, the side part 14, and the side part 16 is included in one plane. Thus, the mask frame 1b has no inclined surface at all. Unlike the mask frame 1 shown in FIG. 1A, there is no curved surface at all. That is, the mask frame 1b has an advantage that it can be more easily manufactured from a metal material than the mask frame 1. In addition, there is an advantage that the number of members is small as compared with FIG.
  • FIG. 4C is a view showing an appearance of a mask frame 1c according to the second embodiment of the present invention.
  • the mask frame 1a is composed of first to fourth prismatic metal members.
  • the first metal member constitutes a portion in contact with the opening in the side portion 10.
  • the second metal member forms a corner including the end 20 in the side 10, the entire side 12, and a corner including the end facing the end 20 in the side 14.
  • the third metal member constitutes a portion in contact with the opening in the side portion 12.
  • the fourth metal member constitutes a corner including the end 22 in the side 10, the entire side 16, and a corner including the end facing the end 22 in the side 14.
  • the surface of the first metal member is a uniform plane.
  • an inclined surface (sixth inclined surface) from the other side toward the end portion 22 of the two sides is not in an arc shape or a cosine shape.
  • the side 10 itself has a mountain shape with the entire plane in contact with one side of the opening as the top and the end 20 and the end 22 as hems, respectively.
  • the side part 12 has the same shape as the side part 10. That is, the side portion 12 has a mountain shape.
  • the side portion 10 and the side portion 12 face each other in parallel.
  • the surface of the side portion 14 is an inclined surface having the same inclination as the surface near the end portion 20.
  • the surface of the side portion 16 is an inclined surface having the same inclination as the surface near the end portion 22.
  • the metal mask 2 is attached to the mask frame 1a by being welded on at least the side portion 14 and the side portion 16.
  • the metal mask 2 may or may not be welded to the surface of the side portion 10 and the surface of the side portion 12.
  • the portion of the metal mask 2 welded to the side portion 14 is welded to the side portion 14 in an inclined manner along the inclined surface of the side portion 14.
  • the location welded to the side part 16 in the metal mask 2 is welded to the side part 16 in an inclined manner along the inclined surface of the side part 16.
  • the force to bend the metal mask 2 toward the ground by its own weight is weakened by the force to bend the metal mask 2 in the direction opposite to the ground.
  • the effect of reducing the bending due to the own weight in the metal mask 2 is obtained.
  • the accuracy of vapor deposition can be improved by depositing the material in a state where the substrate 4 is in close contact with the metal mask 2.
  • the metal mask 2 and the substrate 4 move relatively, it is necessary to provide a certain gap between the substrate 4 and the metal mask 2, but the smaller the gap, the more accurate the vapor deposition. More enhanced.
  • the surface of the side portion 10 that is in contact with one side of the opening is not inclined with respect to the ground, and is a uniform plane.
  • the surface of the side portion 12 that is in contact with one side of the opening is not inclined with respect to the ground, and is a uniform plane. That is, the opening in the mask frame 1 c is parallel to the substrate 4 as a whole. Therefore, the substrate 4 can be brought into close contact with the metal mask 2 or the gap between the substrate 4 and the metal mask 2 can be made as small as possible. That is, the mask frame 1c has an advantage that the deposition accuracy can be further improved as compared with the mask frames 1, 1a, and 1b.
  • the mask frame 1 shown in FIG. 4A has a configuration in which four metal members on a prism are combined. Each metal member has no curved surface. Therefore, it is easier to process such a metal material to form such a metal member than in the case of forming a mask frame 1 having a curved surface as shown in FIG. Therefore, the mask frame 1a shown in FIG. 4A has an advantage that the number of members increases, but the manufacture is easier.
  • the mask frame according to the present invention is: A square mask frame with an opening to which a deposition mask is attached, A first side portion having a chevron-shaped surface with the central portion in the length direction as the top and one end portion and the other end portion in the length direction as hems, respectively; A second side facing the first side and having the same shape as the first side; A third side perpendicular to the first side and the second side; It has the 4th side part which opposes the said 3rd side part, It is characterized by the above-mentioned.
  • the first side portion and the second side portion have a mountain shape with the central portion in the length direction capped. Therefore, the metal mask attached to the mask frame according to one embodiment of the present invention is curved along this mountain shape.
  • the force applied to the metal mask by this curvature and the force applied to the metal mask by its own weight can be made in opposite directions. As a result, bending of the metal mask due to its own weight can be reduced.
  • the mask frame according to one aspect of the present invention does not require an additional member such as a magnet for reducing the bending due to the weight of the metal mask. Therefore, it is not necessary to enlarge or complicate the vapor deposition apparatus provided with the mask frame.
  • the surface shape of the first side portion is an arc shape or a cosine shape connecting the center portion and the both end portions.
  • the metal mask can be attached so as to be exactly along the surfaces of the first side and the second side. Therefore, the curved state of the metal mask can be stably maintained. Thereby, it is possible to prevent the metal mask once attached from being deformed.
  • the surface of the third side is a curved surface similar to the surface near the first end of the first side
  • the surface of the fourth side portion is a curved surface similar to the surface of the first side portion near the second end portion.
  • the force which is going to curve a metal mask to a mountain shape by welding the peripheral part of a metal mask to the 3rd side part and the 4th side part is more with respect to a metal mask. More can be given.
  • the surface of the first side portion includes a first inclined surface from the central portion toward one end portion and a second inclined surface from the central portion toward the other end portion. It is said.
  • the mask frame according to one aspect of the present invention can be manufactured more easily.
  • a third side surface of the third side portion is inclined with respect to a direction orthogonal to the length direction of the third side portion and has the same inclination angle as the inclination angle of the first inclined surface; It consists of an inclined surface, A surface of the fourth side portion is inclined with respect to a direction orthogonal to the length direction of the fourth side portion and has the same inclination angle as the inclination angle of the second inclined surface. It is preferable that it consists of an inclined surface.
  • the mask frame according to one aspect of the present invention can be manufactured more easily.
  • a fifth slope in which the surface of the first side part is in contact with one side of the opening and one of two sides orthogonal to the length direction in the plane from the one side toward the one end part is characterized by comprising a surface and a sixth inclined surface from the other side of the two sides toward the other end.
  • the mask frame according to one aspect of the present invention can be manufactured more easily.
  • the first side, the second side, the third side, and the fourth side are configured integrally.
  • the side surfaces of the first side, the second side, the third side, and the fourth side are all flat. It is preferable that each back surface in the said 1st side part, 2nd side part, 3rd side part, and 4th side part is contained in the same surface.
  • the first side is preferably longer than the third side.
  • the shape of the mask frame is rectangular. Therefore, the material can be deposited on a rectangular substrate.
  • the mask frame according to the present invention can be widely used as various mask frames to which a metal mask for vapor deposition is attached.

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Abstract

 本発明に係る一実施形態のマスクフレーム(1)は、長さ方向における中央部(18)を頂上とし、かつ、長さ方向における端部(20)と端部(22)とをそれぞれ裾とした山型の表面を有する辺部(10)と、辺部(10)に対向し、かつ、辺部(10)と同一の形状を有する辺部(12)とを備えている。

Description

マスクフレーム
 本発明は、基板に材料を蒸着するためのメタルマスクが取り付けられるマスクフレームに関する。
 有機ELディスプレイを製造する際、基板に材料を蒸着するためのメタルマスクが用いられる。メタルマスクは金属でできており、マスクフレームに取り付けられる。その際、メタルマスクはマスクフレームの表面に溶接されるのが一般的である。
 近年、技術の進歩に伴い、有機ELディスプレイの大型化が進んでいる。これに対応する形で、メタルマスクおよびマスクフレームも大型化している。一方、材料を基板に対して精密に蒸着させるために、メタルマスクには相応の薄さが要求される。現在、メタルマスクの厚さは、数10~100μm程度である。
 図5中の(a)は、従来のマスクフレーム101およびメタルマスク102を用いて、基板104に材料を蒸着する際の様子を模式的に示す図である。マスクフレーム101は、中央に大きな開口部が設けられた、金属製のフレームである。マスクフレーム101の一方の表面に、メタルマスク102が溶接されている。メタルマスク102は、マスクフレーム101を構成する少なくとも一対の辺部の表面に溶接される。なお、4つの辺部の全てが溶接されていてもよい。いずれにせよ、メタルマスク102はその周辺部のみがマスクフレーム101に溶接されている。したがって、メタルマスク102における、マスクフレーム101の開口部に対向する箇所は、マスクフレーム101から離れている。
 蒸着装置内において、マスクフレーム101およびメタルマスク102は、地面に対して平行に配置される。メタルマスク102は、マスクフレーム101における地面と反対側の面に溶接されている。メタルマスク102の溶接面は一つの平面内に収まっているので、メタルマスク102は、薄い一枚の平らな形状として溶接面に溶接されている。
 メタルマスク102の上には、基板104が配置される。メタルマスク102には、基板104における材料の蒸着パターンに対応する、多数の開口部が設けられている。マスクフレーム101における蒸着面と反対側の面から地面に向かって一定距離離れた位置には、蒸着源106が配置されている。蒸着源106から、有機EL素子等を形成するための材料を、メタルマスク102の開口部に向かって放出させる。これにより、メタルマスク102の開口部を通じて材料が基板104に蒸着される。その結果、所定のパターンで基板104に成膜される。
 図5中の(b)は、従来技術に係るマスクフレーム101の断面、およびマスクフレーム101に取り付けられたメタルマスク102の断面をそれぞれ示す図である。
 上述したように、メタルマスク102は非常に薄い。したがって、メタルマスク102が大型化すると、マスクフレーム101の基板104に対向する位置において、自重によって、地面に向かう撓みが発生する。図5中の(b)に示すように、メタルマスク102の中心部に向かえば向かうほど、自重によってメタルマスク102に掛かる力が大きくなるので、それだけ、撓みも大きくなる。
 図5中の(b)に示すような大きな撓みがメタルマスク102に発生すると、メタルマスク102に予め設けた開口部が、設計通りの大きさや形で基板に面しなくなってしまう。したがって、各開口部を通じて基板104に蒸着された成膜のパターンが、設計から狂ってしまう恐れが生ずる。さらには、ある開口部を通じて、この開口部に隣接する開口部に対応する基板104の位置に、材料が蒸着されることも起こりうる。
 有機ELディスプレイを製造する際、メタルマスク102における個々の開口部は、基板104における個々の絵素に対応する。したがって、図5中の(a)に示すメタルマスク102およびマスクフレーム101を用いた場合、基板104において、設計パターンとは異なるパターンの絵素群が基板104に形成されてしまう。また、ある絵素用の材料が隣接する絵素に混入してしまう。これらの結果、製造された有機ELディスプレイにおける表示品位が低下したり、部分的に絵素が点灯しなくなったりするなどの問題が発生しやすくなる。
 この問題を解決すべく、基板への蒸着中における、メタルマスクの自重による撓みを低減させるための技術が、従来、提案されている。特許文献1には、蒸着マスクに載置された被成膜基板を蒸着マスクに押圧し、かつ、少なくとも被成膜基板の角部に対応する位置に磁石を備えた押圧機構とを備える蒸着装置が開示されている。この蒸着装置では、磁石が蒸着マスクを重力方向と反対方向に引きつけることによって、自重による蒸着マスクの変形を低減することを目的としている。
日本国公開特許公報「特開2011-233510号公報(2011年11月17日公開)」
 しかし、特許文献1の技術によっても、蒸着マスクの中央部分が自重によって撓むことに変わりはない。特に、大型の蒸着マスクを用いる場合、特許文献1の技術では、蒸着マスクの撓みを十分に低減させることはできない。さらには、磁石が蒸着装置内の他の部材に何らかの悪影響を及ぼすことを防ぐための処置が必要となる。このような処置は、追加の部材を必要とするので、蒸着装置の大型化や複雑化を招く恐れがある。
 本発明は上記の課題を解決するために成されたものである。そして、本発明の一態様によれば、追加の部材を必要とすることなく、メタルマスクに生じる自由による撓みを効果的に低減することができる。
 本発明に係るマスクフレームは、上記の課題を解決するために、
 蒸着マスクが取り付けられる、開口部を有した方形のマスクフレームであって、
 長さ方向における中央部を頂上とし、かつ、当該長さ方向における一方の端部と他方の端部とをそれぞれ裾とした山型の表面を有する第1の辺部と、
 上記第1の辺部と対向し、かつ、上記第1の辺部と同じ形状を有する第2の辺部と、
 上記第1の辺部および上記第2の辺部と直交する第3の辺部と、
 上記第3の辺部と対向する第4の辺部とを備えていることを特徴としている。
 本発明の一態様に係るマスクフレームは、追加の部材を必要とすることなく、メタルマスクに生じる自由による撓みを効果的に低減することができる効果を奏する。
本発明の第1の実施形態に係るマスクフレームの外観を示す図である。 本実施形態に係るマスクフレームの断面、およびマスクフレームに取り付けられたメタルマスクの断面をそれぞれ示す図である。 本発明の第1の実施形態に係るマスクフレーム1およびメタルマスク2を用いて、基板4に材料を蒸着する際の様子を模式的に示す図である。 メタルマスクが大きく撓んでいる場合における蒸着の様子を示す図である。 メタルマスクがまったく撓んでいない場合における蒸着の様子を示す図である。 本発明の第2の実施形態に係るマスクフレームの外観を示す図である。 本発明の第2の実施形態に係るマスクフレームの外観を示す図である。 本発明の第2の実施形態に係るマスクフレームの外観を示す図である。 (a)は、従来技術に係るマスクフレームおよびメタルマスクを用いて、基板に材料を蒸着する際の様子を模式的に示す図であり、(b)は、従来技術に係るマスクフレームの断面、およびマスクフレームに取り付けられたメタルマスクの断面をそれぞれ示す図である。
〔実施形態1〕
 本発明に係る一実施形態について、図1~図3を参照して以下に説明する。
 図2は、本実施形態に係るマスクフレーム1およびメタルマスク2を用いて、基板4に材料を蒸着する際の様子を模式的に示す図である。
 (マスクフレーム1)
 マスクフレーム1は、中央に大きな開口部が設けられ、金属で出来た、方形のフレームである。マスクフレーム1は、メタルマスク2を固定して安定させる用途に用いられる。本実施形態では、マスクフレーム1は長方形である。しかし、マスクフレーム1は正方形であってもよい。どのような形状にするかは、蒸着される基板4の形状に応じて決まる。
 マスクフレームは、4つの細い辺部によって構成される枠を有している。枠の幅および厚さは、十分な強度を保つために、数10mm程度はある。したがって、マスクフレーム1を大型化したとしても、マスクフレーム1が自重によって撓んだり変形したりすることはない。
 マスクフレーム1の一方の表面には、メタルマスク2(蒸着マスク)が取り付けられる。詳しくは後述するが、メタルマスク2は平坦な形状ではなく、湾曲した形状を有している。これにより、メタルマスク2の撓みを低減している。
 (メタルマスク2)
 メタルマスク2は、基板4に対して所定パターンの薄膜を形成するために用いられる、蒸着用のマスクである。メタルマスク2は金属でできた、方形の薄いマスクであり、その厚さは数μm~数100μm程度である。本実施形態では、メタルマスク2は長方形である。しかし、メタルマスク2は、正方形であってもよい。どのような形状にするかは、メタルマスク2の用途によって決まる。例えば、大型の基板4に対して材料を蒸着する用途で用いる場合には、メタルマスク2の形状を短冊形状とすることが好ましい。短冊形状のメタルマスク2を複数、一列に並べてマスクフレーム2に取り付ければ、大型の基板4に対応する大型のメタルマスク2を用いずに済むからである。
 メタルマスク2は、マスクフレーム1を構成する少なくとも一対の互いに対向する辺部に溶接されることによって、マスクフレーム1に取り付けられる。なお、4つの辺部の全てに対して溶接されていてもよい。いずれにせよ、メタルマスク2はその周辺部のみがマスクフレーム1に溶接されている。したがって、メタルマスク2における、マスクフレーム2の開口部に対向する箇所は、マスクフレーム1に溶接されてはいない。
 メタルマスク2における、マスクフレーム1の開口部に対応する領域には、基板4における材料の蒸着パターンに対応する、多数の開口部が設けられている。個々の開口部の大きさは、基板4に蒸着させる個々の薄膜の用途によって決まる。
 (基板4)
 基板4は、メタルマスク2の開口部を通じて所定パターンの薄膜が形成される、被成膜基板である。本実施形態では、基板4は、有機ELディスプレイを構成する。また、メタルマスク2を通じて基板4に形成されるパターンは、有機ELディスプレイの絵素パターンである。
 (蒸着源6)
 蒸着源6は、基板4に蒸着させる材料を放出する。本実施形態では、たとえば有機ELディスプレイの絵素を構成する有機発光材料を、メタルマスク2に向かって放出する。これにより、メタルマスク2の開口部を通じて材料が基板4に蒸着される。その結果、放出された材料が所定のパターンで基板4に成膜される。
 (各部材の配置)
 図2に示すように、メタルマスク2における一方の表面に、メタルマスク2が取り付けられる。この表面は、蒸着面とも呼ばれる。メタルマスク2の上には、基板4が配置される。基板4は、地面に対して平行に配置される。マスクフレーム1における蒸着面と反対側の面から地面に向かって一定距離離れた位置には、蒸着源6が配置される。蒸着源6は、上方に向けて材料を放出することによって、蒸着源6の上方に配置される基板4に、材料を蒸着させる。
 (マスクフレーム1の詳細)
 図1(a)は、本実施形態に係るマスクフレーム1の外観を示す図である。 この図に示すように、マスクフレーム1は、辺部10(第1の辺部)、辺部12(第2の辺部)、
辺部14(第3の辺部)、および辺部16(第4の辺部)によって構成されている。
 辺部10は、辺部10の長さ方向における中央部18を頂上とし、かつ、辺部10の長さ方向における端部20および端部22をそれぞれ裾とした、山型の表面を有している。この表面は、メタルマスク2が取り付けられる側の面である。また、辺部10自体が、山型の形状をしている。本実施形態では、辺部10の表面の形状が、中央部18と端部20および端部22とを結ぶ、円弧形状または余弦形状である。すなわち、辺部10の表面は曲面となっている。
 辺部12は、辺部10と対向し、かつ、上記第1の辺部と同じ形状を有している。すなわち、辺部12の表面も、辺部10の表面と同じように、山型の形状を有している。さらに、辺部12自体も、山型の形状をしている。
 辺部14は、辺部10および辺部12に直交している。また、辺部14の表面は、辺部10における端部20近辺の表面と同様の湾曲面となっている。
 辺部16は、辺部14に対向し、かつ、辺部10および辺部12に直交している。また、辺部16における表面は、辺部10における端部22近辺の表面と同様の湾曲面となっている。
 本実施形態では、辺部10および辺部12は、辺部14および辺部16よりも長い。すなわち、辺部10および辺部12はマスクフレーム1における一対の長辺に相当し、辺部14および辺部16はマスクフレーム1における一対の短辺に相当する。なお、これらはあくまで一例に過ぎない。辺部10および辺部12は、辺部14および辺部16と同じ長さであっても良い。
 メタルマスク2は、少なくとも辺部14および辺部16上に溶接されることによって、マスクフレーム1aに取り付けられる。メタルマスク2は、辺部10の表面および辺部12の表面には、溶接されていても、されていなくてもよい。メタルマスク2が辺部10の表面および辺部12の表面に溶接されていない場合、メタルマスク2における辺部10に面する領域は、辺部10に近接はしているが、厳密には接してはいない。同様に、メタルマスク2における辺部12に面する領域は、辺部12に近接はしているが、厳密には接してはいない。
 (メタルマスク2の撓みの低減)
 図1(b)は、本実施形態に係るマスクフレーム1の断面、およびマスクフレーム1に取り付けられたメタルマスク2の断面をそれぞれ示す図である。上述したように、辺部10は、長さ方向における中央部18を頂上とした山型の形状である。また、辺部12は、辺部10と同様の形状をしている。したがって、マスクフレーム1に取り付けられたメタルマスク2は、辺部10および辺部12の表面に沿って、地面と反対方向に湾曲される。したがって、この湾曲によってメタルマスク2に掛かる力と、自重によってメタルマスクに掛かる力とは、ちょうど逆方向になるので、図1(b)に示すように、自重によるメタルマスク2の撓みを低減することができる。
 また、メタルマスク2は、辺部10の表面および辺部12の表面に、ぴったりと沿うように取り付けることができる。したがって、メタルマスク2が湾曲した状態を安定して維持することができる。これにより、一度取り付けたメタルマスク2が変形することを未然に防止することができる。
 さらに、図1(b)に示すように、メタルマスク2の周辺部が、辺部14の湾曲面および辺部16の湾曲面にそれぞれ溶接されている。これにより、メタルマスクを山型に湾曲させようとする力を、メタルマスクに対してより一層与えることができる。したがって、自由によるメタルマスク2の撓みを、より一層、低減することができる。なお、辺部14および辺部16の表面は、湾曲面ではなく、水平な平面であってもよい。
 (蒸着精度)
 図3(a)は、メタルマスク2が大きく撓んでいる場合における蒸着の様子を示す図である。この図に示すように、メタルマスク2が自重によって大きく撓むと、メタルマスク2は基板4に対して平行に配置されない。より具体的には、メタルマスク2の中央部に向かうにつれて、メタルマスク2が基板4からより離れて地面側に向かってしまう。これにより、基板4における、狙いの成膜エリア30に対して性格に材料を蒸着することができなくなる。その結果、基板4に形成された薄膜32は、成膜エリア30よりも広がってしまう。その結果、設計パターンとは異なるパターンの絵素群が基板104に形成されてしまう。また、ある絵素用の材料が隣接する絵素に混入してしまう。これらの結果、製造された有機ELディスプレイにおける表示品位が低下したり、部分的に絵素が点灯しなくなったりするなどの問題が発生しやすくなる。
 図3(b)は、メタルマスク2がまったく撓んでいない場合における蒸着の様子を示す図である。この図に示すように、メタルマスク2が自重によって撓まなければ、メタルマスク2は基板4に対して平行に配置される。より具体的には、メタルマスク2における如何なる位置も、基板4との間の距離が一定となる。これにより、基板4における、狙いの成膜エリア30に対して正確に材料を蒸着することができる。その結果、基板4に形成された薄膜34は、成膜エリア30にぴったりと収まることになる。その結果、設計パターンどおりのパターンの絵素群を、基板104に形成することができる。したがって、製造された有機ELディスプレイにおける表示品位が低下したり、部分的に絵素が点灯しなくなったりするなどの問題は起こらない。
 本実施形態では、メタルマスク2には地面と反対方向に湾曲させる力が常に働いている。したがって、メタルマスク2を完全に平坦な状態でマスクフレーム1に取り付けることはできない。しかし、本実施形態のマスクフレーム1に取り付けられたメタルマスク2の撓みは、従来技術に係るマスクフレーム101に取り付けられたメタルマスク102の撓みに比べて、格段に小さい。すなわち、従来技術に係るマスクフレーム101を用いた蒸着では、図3(a)に示すような状況が起こりやすい、本実施形態に係るマスクフレーム1を用いた蒸着では、図3(b)に近い状況が起こりやすい。したがって、本実施形態のマスクフレーム1では、理想的な蒸着精度は得られないとしても、従来技術に比べれば十分に高い蒸着精度を得ることができる。
 また、本実施形態に係るマスクフレーム1では、メタルマスク2の自重による撓みを低減するための、磁石等の追加の部材を必要としない。したがって、蒸着装置における蒸着処理に何らかの悪影響を与えることがない。
 (蒸着方向)
 図2の例では、基板4がメタルマスク2の上方に配置され、メタルマスク2の下方に位置する蒸着源6から上方に向かって材料を放出することによって、蒸着を行う。しかし、これはあくまで一例に過ぎない。すなわち、基板4がメタルマスク2の下方に配置され、メタルマスク2の上方に位置する蒸着源6から下方に向かって材料を放出することによって、蒸着を行う構成であってもよい。いずれにしても、メタルマスク2は水平に配置されるので、メタルマスク2の自重による撓みを低減させる効果が得られる。
 (蒸着に用いる領域)
 マスクフレーム1に取り付けられたメタルマスク2における、山型の辺部10および辺部12に近い部分は、辺部10および辺部12に沿って、湾曲している。したがって、メタルマスク2における、あまりに辺部10および辺部12に近い領域を用いて材料を蒸着させると、平坦な基板4に対して材料を正確に蒸着することが難しくなる。メタルマスク2における蒸着に用いる領域は、メタルマスク2が設置されたマスクフレーム1よりも内側の、さらに中央に近い領域であることが望ましい。これにより、蒸着の精度が低下することを防止できる。
 〔実施形態2〕
 本発明に係る第2の実施形態について、図4を参照して以下に説明する。なお、上述した第1の実施形態と共通する各部材には同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。
 (マスクフレーム1a)
 図4(a)は、本発明の第2の実施形態に係るマスクフレーム1aの外観を示す図である。マスクフレーム1aは、2つの半矩形状の金属部材によって構成されている。一方の金属部材は、辺部10の半分と、辺部12の半分と、辺部14とからなっている。他方の金属部材は、辺部10のもう半分と、辺部12のもう半分と、辺部14とからなっている。
 図4(a)に示すように、マスクフレーム1aでは、辺部14の表面が、中央部18から端部20に向かう傾斜面(第1の傾斜面)と、中央部18から端部22に向かう傾斜面(第2の傾斜面)とからなっている。すなわち、辺部10の表面は、円弧形状または余弦形状にはなっていない。しかし、辺部10そのものは、第1の実施形態に係るマスクフレーム1が備える辺部10と同様に、山型となっている。
 辺部12は、辺部10と同様の形状をしている。すなわち、辺部12も山型の形状をしている。辺部10と辺部12とは、互いに平行に向き合っている。
 辺部14の表面は、端部20近辺の表面と同じ傾斜角を持った傾斜面(第3の傾斜面)となっている。一方、辺部16の表面は、端部22近辺の表面と同じ傾斜角を持った傾斜面(第4の傾斜面)となっている。メタルマスク2は、少なくとも辺部14および辺部16上に溶接されることによって、マスクフレーム1aに取り付けられる。メタルマスク2は、辺部10の表面および辺部12の表面には、溶接されていても、されていなくてもよい。
 メタルマスク2における、辺部14に溶接される箇所は、辺部14の傾斜面に沿って、傾斜した形で辺部14に溶接される。一方、メタルマスク2における、辺部16に溶接される箇所は、辺部16の傾斜面に沿って、傾斜した形で辺部16に溶接される。これらのようにメタルマスク2の溶接箇所が傾斜することによって、メタルマスク2に対して、メタルマスク2を地面と反対方向に湾曲させようとする力が働く。また、辺部10および辺部12がいずれも山型の形状をしていることによって、メタルマスク2の中央部が端部よりも、より地面から離れる方向に配置される。このことによっても、メタルマスク2を地面と反対方向に湾曲させようとする力が働く。
 したがって、マスクフレーム1aにおいても、自重によってメタルマスク2を地面に向かって撓ませようとする力が、メタルマスク2を地面と反対方向に湾曲させようとする力によって弱められる。この結果、マスクフレーム1aにおいても、マスクフレーム1と同様に、メタルマスク2における自重による撓みを低減する効果が得られる。
 図4(a)に示すマスクフレーム1では、角柱状の金属棒を二カ所で直角に折り曲げた形状の、半矩形の金属部材を2つ組み合わせた構成となっている。各金属部材には、曲面がまったく存在していない。したがって、金属材料を加工してこのような金属部材を形成することは、図1に示すような、曲面を有するマスクフレーム1を形成する場合にくらべて容易である。したがって、図4(a)に示すマスクフレーム1aには、部材の数が増えるが、より製造が容易であるという利点がある。
 (マスクフレーム1b)
 図4(b)は、本発明の第2の実施形態に係るマスクフレーム1bの外観を示す図である。マスクフレーム1bは、1つの枠状の金属部材によって構成されている。マスクフレーム1bでは、辺部14の表面が、中央部18から端部20に向かう第1の傾斜面と、中央部18から端部22に向かう第2の傾斜面とからなっている。すなわち、辺部10の表面は、円弧形状または余弦形状にはなっていない。しかし、辺部10そのものは、第1の実施形態に係るマスクフレーム1が備える辺部10と同様に、山型となっている。
 辺部12は、辺部10と同様の形状をしている。すなわち、辺部12も山型の形状をしている。辺部10と辺部12とは、互いに平行に向き合っている。
 辺部14の表面は、辺部10における端部20近辺の表面と同じ傾きを持った、傾斜面となっている。一方、辺部16の表面は、辺部10における端部22近辺の表面と同じ傾きを持った、傾斜面となっている。メタルマスク2は、少なくとも辺部14および辺部16上に溶接されることによって、マスクフレーム1bに取り付けられる。メタルマスク2は、辺部10の表面および辺部12の表面には、溶接されていても、されていなくてもよい。
 以上のように、マスクフレーム1bの溶接面は、マスクフレーム1aの溶接面と本質的に同等である。したがって、マスクフレーム1bにおいても、マスクフレーム1aと同様に、マスクフレーム1と同様に、メタルマスク2における自重による撓みを低減する効果が得られる。
 マスクフレーム1bでは、辺部10、辺部12、辺部14、および辺部16が一体的に構成されている。また、辺部10、辺部12、辺部14、辺部16における各側面が、いずれも平面となっている。また、辺部10、辺部12、辺部14、および辺部16における各裏面が、一つの平面に含まれている。このように、マスクフレーム1bには、傾斜面がまったく存在しない。図1(a)に示すマスクフレーム1とは異なり、曲面がまったく存在しない。すなわち、マスクフレーム1bには、マスクフレーム1に比べて金属材料からより容易に製造することができるという利点がある。また、図4(a)に比べて、部材の数が少ないという利点もある。
 (マスクフレーム1c)
 図4(c)は、本発明の第2の実施形態に係るマスクフレーム1cの外観を示す図である。マスクフレーム1aは、第1~第4の角柱状の金属部材によって構成されている。第1の金属部材は、辺部10における開口部に接する部分を構成する。第2の金属部材は、辺部10における端部20を含む角部と、辺部12の全部と、辺部14における、端部20に対向する端部を含む角部とを構成する。第3の金属部材は、辺部12における開口部に接する部分を構成する。第4の金属部材は、辺部10における端部22を含む角部と、辺部16の全部と、辺部14における、端部22に対向する端部を含む角部とを構成する。
 図4(c)に示すように、マスクフレーム1cでは、第1の金属部材の表面には、傾斜面が形成されていない。すなわち、第1の金属部材の表面は一様な平面である。これにより、辺部10の表面が、開口部の一辺に接する平面と、当該平面における長さ方向と直交する2つの辺のうち一方の辺から端部20に向かう傾斜面(第5の傾斜面)と、当該2つの辺のうち他方の辺から端部22に向かう傾斜面(第6の傾斜面)とからなっている。すなわち、辺部10の表面は、円弧形状または余弦形状にはなっていない。しかし、辺部10そのものは、開口部の一辺に接する平面全体を頂上とし、端部20および端部22をそれぞれ裾とする山型となっている。
 辺部12は、辺部10と同様の形状をしている。すなわち、辺部12も山型の形状をしている。辺部10と辺部12とは、互いに平行に向き合っている。
 辺部14の表面は、端部20近辺の表面と同じ傾きを持った、傾斜面となっている。一方、辺部16の表面は、端部22近辺の表面と同じ傾きを持った、傾斜面となっている。メタルマスク2は、少なくとも辺部14および辺部16上に溶接されることによって、マスクフレーム1aに取り付けられる。メタルマスク2は、辺部10の表面および辺部12の表面には、溶接されていても、されていなくてもよい。
 メタルマスク2における、辺部14に溶接される箇所は、辺部14の傾斜面に沿って、傾斜した形で辺部14に溶接される。一方、メタルマスク2における、辺部16に溶接される箇所は、辺部16の傾斜面に沿って、傾斜した形で辺部16に溶接される。これらのようにメタルマスク2の溶接箇所が傾斜することによって、メタルマスク2に対して、メタルマスク2を地面と反対方向に湾曲させようとする力が働く。
 したがって、マスクフレーム1cにおいても、自重によってメタルマスク2を地面に向かって撓ませようとする力が、メタルマスク2を地面と反対方向に湾曲させようとする力によって弱められる。この結果、マスクフレーム1cにおいても、マスクフレーム1と同様に、メタルマスク2における自重による撓みを低減する効果が得られる。
 メタルマスク2と基板4とが相対的に動かない蒸着装置では、基板4をメタルマスク2に密着させた状態で材料を蒸着すると、蒸着の精度を高めることができる。一方、メタルマスク2と基板4とが相対的に動く蒸着装置では、基板4とメタルマスク2との間に一定のギャップを設ける必要があるが、そのギャップが小さければ小さいほど、蒸着の精度をより高められる。
 マスクフレーム1cでは、辺部10における、開口部の一辺に接する面は、地面に対して傾斜しておらず、一様な平面となっている。同様に、辺部12における、開口部の一辺に接する面も、地面に対して傾斜しておらず、一様な平面となっている。すなわち、マスクフレーム1cにおける、開口部は、全体として、基板4に対して平行となっている。したがって、基板4をメタルマスク2に密着させたり、または、基板4とメタルマスク2との間のギャップをできるだけ小さくしたりすることが可能である。すなわちマスクフレーム1cは、マスクフレーム1,1a,1bに比べて、蒸着の精度をより高められる利点もある。
 図4(a)に示すマスクフレーム1では、角柱上の4つの金属部材を組み合わせた構成となっている。各金属部材には、曲面がまったく存在していない。したがって、金属材料を加工してこのような金属部材を形成することは、図1に示すような、曲面を有するマスクフレーム1を形成する場合にくらべて容易である。したがって、図4(a)に示すマスクフレーム1aには、部材の数が増えるが、より製造が容易であるという利点がある。
 本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。当業者は、請求項に示した範囲内において、本発明をいろいろと変更できる。すなわち、請求項に示した範囲内において、適宜変更された技術的手段を組み合わせれば、新たな実施形態が得られる。
 〔まとめ〕
 本発明に係るマスクフレームは、
 蒸着マスクが取り付けられる、開口部を有した方形のマスクフレームであって、
 長さ方向における中央部を頂上とし、かつ、当該長さ方向における一方の端部と他方の端部とをそれぞれ裾とした山型の表面を有する第1の辺部と、
 上記第1の辺部と対向し、かつ、上記第1の辺部と同じ形状を有する第2の辺部と、
 上記第1の辺部および上記第2の辺部と直交する第3の辺部と、
 上記第3の辺部と対向する第4の辺部とを備えていることを特徴としている。
 上記の構成によれば、第1の辺部および第2の辺部は、長さ方向における中央部を頂上した山型の形状である。したがって、本発明の一態様に係るマスクフレームに取り付けられたメタルマスクは、この山型の形状に沿って湾曲される。この湾曲によってメタルマスクに掛かる力と、自重によってメタルマスクに掛かる力とを、ちょうど逆方向にすることができる。その結果、自重によるメタルマスクの撓みを低減することができる。
 また、本発明の一態様に係るマスクフレームでは、メタルマスクの自重による撓みを低減するための、磁石等の追加の部材を必要としない。したがって、マスクフレームを備えた蒸着装置を大型化したり複雑化したりする必要がない。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第1の辺部の表面の形状が、上記中央部と上記両端部とを結ぶ円弧形状または余弦形状であることが好ましい。
 上記の構成によれば、メタルマスクを第1の辺部および第2の辺部の表面にぴったりと沿うように取り付けることができる。したがって、メタルマスクが湾曲した状態を安定して維持することができる。これにより、一度取り付けたメタルマスクが変形することを未然に防止することができる。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第3の辺部における表面が、上記第1の辺部における第1の端部近辺の表面と同様の湾曲面となっており、
 上記第4の辺部における表面が、上記第1の辺部における第2の端部近辺の表面と同様の湾曲面となっていることが好ましい。
 上記の構成によれば、第3の辺部および第4の辺部にメタルマスクの周辺部を溶接することによって、メタルマスクを山型に湾曲させようとする力を、メタルマスクに対してより一層与えることができる。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第1の辺部の上記表面が、上記中央部から一方の端部に向かう第1の傾斜面と、上記中央部からもう一方の端部に向かう第2の傾斜面とからなることを特徴としている。
 上記の構成によれば、本発明の一態様に係るマスクフレームをより容易に製造できる効果を奏する。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第3の辺部における表面が、上記第3の辺部の長さ方向と直交する方向に対して傾斜し、かつ、上記第1の傾斜面の傾斜角と同じ傾斜角を有する第3の傾斜面からなっており、
 上記第4の辺部における表面が、上記第4の辺部の長さ方向と直交する方向に対して傾斜し、かつ、上記第2の傾斜面の傾斜角と同じ傾斜角を有する第4の傾斜面からなっておいることが好ましい。
 上記の構成によれば、本発明の一態様に係るマスクフレームをより容易に製造できる効果を奏する。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第1の辺部の表面が、上記開口部の一辺に接する平面と、当該平面における上記長さ方向と直交する2つの辺のうち一方の辺から上記一方の端部に向かう第5の傾斜面と、当該2つの辺のうち他方の辺から上記他方の端部に向かう第6の傾斜面とからなることを特徴としている。
 上記の構成によれば、本発明の一態様に係るマスクフレームをより容易に製造できる効果を奏する。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第1の辺部、第2の辺部、第3の辺部、および第4の辺部が一体的に構成されており、
 上記第1の辺部、第2の辺部、第3の辺部、および第4の辺部における各側面が、いずれも平面となっており、
 上記第1の辺部、第2の辺部、第3の辺部、および第4の辺部における各裏面が、同一の面に含まれていることが好ましい。
 本発明の一態様に係るマスクフレームでは、さらに、
 上記第1の辺部が、上記第3の辺部よりも長いことが好ましい。
 上記の構成によれば、マスクフレームの形状は長方形である。したがって、長方形の基板に対して材料を蒸着することができる。
 本発明に係るマスクフレームは、蒸着用のメタルマスクが取り付けられる各種のマスクフレームとして、幅広く利用することができる。
 1 マスクフレーム
 2 メタルマスク
 4 基板
 6 蒸着源
 10 辺部(第1の辺部)
 12 辺部(第2の辺部)
 14 辺部(第3の辺部)
 16 辺部(第4の辺部)
 18 中央部
 20 端部(第1の端部)
 22 端部(第2の端部)

Claims (8)

  1.  蒸着マスクが取り付けられる、開口部を有した方形のマスクフレームであって、
     長さ方向における中央部を頂上とし、かつ、当該長さ方向における一方の端部と他方の端部とをそれぞれ裾とした山型の表面を有する第1の辺部と、
     上記第1の辺部と対向し、かつ、上記第1の辺部と同じ形状を有する第2の辺部と、
     上記第1の辺部および上記第2の辺部と直交する第3の辺部と、
     上記第3の辺部と対向する第4の辺部とを備えていることを特徴とするマスクフレーム。
  2.  上記第1の辺部の表面の形状が、上記中央部と第1の端部および第2の端部とを結ぶ円弧形状または余弦形状であることを特徴とする請求項1に記載のマスクフレーム。
  3.  上記第3の辺部における表面が、上記第1の辺部における第1の端部近辺の表面と同様の湾曲面となっており、
     上記第4の辺部における表面が、上記第1の辺部における第2の端部近辺の表面と同様の湾曲面となっていることを特徴とする請求項2記載のマスクフレーム。
  4.  上記第1の辺部の上記表面が、上記中央部から一方の端部に向かう第1の傾斜面と、上記中央部からもう一方の端部に向かう第2の傾斜面とからなることを特徴とする請求項1に記載のマスクフレーム。
  5.  上記第3の辺部における表面が、上記第3の辺部の長さ方向と直交する方向に対して傾斜し、かつ、上記第1の傾斜面の傾斜角と同じ傾斜角を有する第3の傾斜面からなっており、
     上記第4の辺部における表面が、上記第4の辺部の長さ方向と直交する方向に対して傾斜し、かつ、上記第2の傾斜面の傾斜角と同じ傾斜角を有する第3の傾斜面からなることを特徴とする請求項4に記載のマスクフレーム。
  6.  上記第1の辺部の表面が、上記開口部の一辺に接する平面と、当該平面における上記長さ方向と直交する2つの辺のうち一方の辺から上記一方の端部に向かう第5の傾斜面と、当該2つの辺のうち他方の辺から上記他方の端部に向かう第6の傾斜面とからなることを特徴とする請求項1に記載のマスクフレーム。
  7.  上記第1の辺部、第2の辺部、第3の辺部、および第4の辺部が一体的に構成されており、
     上記第1の辺部、第2の辺部、第3の辺部、および第4の辺部における各側面が、いずれも平面となっており、
     上記第1の辺部、第2の辺部、第3の辺部、および第4の辺部における各裏面が、一つの平面に含まれていることを特徴とする請求項6に記載のマスクフレーム。
  8.  上記第1の辺部が、上記第3の辺部よりも長いことを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載のマスクフレーム。
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