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WO2013100502A1 - Ｍｃｃｌ용 절연 접착제 조성물, 이를 이용한 도장 금속판 및 그 제조방법 - Google Patents

Ｍｃｃｌ용 절연 접착제 조성물, 이를 이용한 도장 금속판 및 그 제조방법 Download PDF

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WO2013100502A1
WO2013100502A1 PCT/KR2012/011310 KR2012011310W WO2013100502A1 WO 2013100502 A1 WO2013100502 A1 WO 2013100502A1 KR 2012011310 W KR2012011310 W KR 2012011310W WO 2013100502 A1 WO2013100502 A1 WO 2013100502A1
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WO
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printed circuit
adhesive composition
circuit board
epoxy resin
insulating adhesive
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Application number
PCT/KR2012/011310
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English (en)
French (fr)
Inventor
박찬섭
조래홍
김동현
박경호
한상권
박종수
이배근
김중봉
한재만
신태규
배대철
Original Assignee
주식회사 포스코
포스코강판 주식회사
국도화학 주식회사
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Publication date
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Definitions

  • the present invention relates to an insulating adhesive composition for MCCL (Metal Copper Clad Laminate), an adhesive coating metal plate and a manufacturing method of the coating metal plate using the same.
  • MCCL Metal Copper Clad Laminate
  • Printed Circuit Boards can be classified into resin and metal based on the type of board. Recently, since high heat dissipation (thermal conductivity) is required for printed circuit boards, metal printed circuit boards are used in existing resin printed circuit boards. The transition to China is skyrocketing. Metal printed circuit boards are used for lighting and industrial purposes. For example, they are used in LED substrates (replacement of light bulbs, fluorescent lamps, street lamps, advertisement lamps), LED TVs, converters, inverters, power supplies (SMPS), rectifiers (rectifiers), etc. .
  • the metal printed circuit board is a metal plate such as aluminum, magnesium, hot-dip galvanized steel sheet, hot-dip aluminum-zinc alloy plated steel sheet, hot-dip galvanized steel sheet, electro galvanized steel sheet; Insulating adhesive layer; And a copper foil layer.
  • the function required for the insulating adhesive layer is to maintain the initial adhesion and electrical insulation in the adhesion between the metal plate and the copper foil layer, the electrical insulating function, and the heat and humidity generated during the metal printed circuit board manufacturing process.
  • the first method is to prepare and use an insulating adhesive layer as a dry film in the form of a sheet
  • the second method is to form an adhesive by applying it to a copper foil.
  • the first method has a disadvantage in that the ease of operation and productivity is lowered because it is used by laminating in the form of a sheet film, and the second method is the most commonly used manufacturing method.
  • An object of the present invention is to provide an insulating adhesive composition for a metal printed circuit board excellent in adhesion between the metal material and the copper foil and electrical insulation.
  • Another object of the present invention is to provide an adhesive coated metal plate using the adhesive composition.
  • the present invention provides an insulating adhesive composition for a metal printed circuit board comprising a modified epoxy resin reacted with a silicon compound represented by the following formula (1) and an epoxy resin to achieve the above object.
  • R is an aliphatic or aromatic alkylene group
  • R 1 , R 2 and R 3 are each independently an aliphatic or aromatic alkyl group.
  • the modified epoxy resin preferably comprises 0.3 to 3% by weight of silicon (Si), the average epoxy equivalent of the modified epoxy resin is preferably 170 to 1,000 g / eq.
  • the adhesive composition according to the present invention may include a high equivalent epoxy resin, an inorganic filler, a curing agent, and an organic solvent.
  • the high equivalent epoxy resin may be at least one selected from a solid epoxy resin having an equivalent weight of 1,500 to 7,000 g / eq, and a phenoxy resin having a molecular weight of 20,000 to 70,000 g / mol.
  • the weight average molecular weight of the total composition excluding the inorganic filler is preferably 2,000 to 60,000 g / mol.
  • the inorganic filler is preferably aluminum oxide, the particle size of the inorganic filler is preferably 0.1 to 3.0 ⁇ m, the inorganic filler is preferably included in 40 to 70% by weight relative to the total solids weight in the adhesive composition.
  • the curing agent may be used alone or in combination of two or more selected from phenol novolak resins, acid anhydrides, aromatic amines, urea resins, melamine resins, phenol resol derivatives.
  • the softening point of the phenol novolak resin is preferably 80 to 130 °C.
  • the acid anhydride is preferably an acid anhydride represented by the following formula (2).
  • R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently H, aliphatic or aromatic alkyl group.
  • the aromatic amine is preferably an aromatic amine represented by the following formula (3).
  • R 9 and R 10 are each independently an aromatic alkylene group.
  • the organic solvent preferably contains at least one solvent having a boiling point of 70 to 149 ° C and at least one solvent having a boiling point of 150 to 230 ° C.
  • the present invention is a metal plate; And an insulating adhesive layer formed on the metal plate and using an insulating adhesive composition containing a modified epoxy resin reacted with the silicon compound represented by Chemical Formula 1 and an epoxy resin.
  • the metal plate may be selected from aluminum, magnesium, hot dip galvanized steel sheet, hot dip aluminum-zinc alloy plated steel sheet, hot dip galvanized steel sheet, and electrogalvanized steel sheet.
  • the final coating film thickness of the insulating adhesive layer is preferably 40 to 120 ⁇ m.
  • the present invention comprises the steps of (a) continuously supplying a metal plate in a continuous roll-coating coating line; And (b) coating an insulating adhesive composition comprising a modified epoxy resin reacted with the silicon compound represented by Formula 1 and an epoxy resin on top of the metal plate, followed by drying to form an insulating adhesive layer. It provides a manufacturing method.
  • the step of coating and drying the insulating adhesive composition may be repeatedly performed two or more times.
  • the method of manufacturing an adhesive coated metal plate for a metal printed circuit board according to the present invention includes adjusting a surface of a metal plate with a brush after the step (a), applying a protective film after the step (b), and / or the It may further comprise the step of removing the iron oxide component by installing a magnetic filter in the insulating adhesive composition before step (b).
  • an insulating adhesive resin composition for a metal printed circuit board using an epoxy resin having excellent adhesion, heat resistance, and moisture resistance is provided.
  • the composition that can be easily manufactured in a high speed continuous roll-coated coating line has a great effect on improving productivity.
  • it can be applied regardless of the material, such as aluminum, aluminum plated steel sheet, galvanized steel sheet, aluminum zinc alloy plated steel sheet, galvanized steel sheet, there is an advantage to secure a variety of uses.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of an adhesive coated metal plate for a metal printed circuit board manufactured according to an embodiment of the present invention.
  • the composition of the insulating adhesive may be composed of a main resin, a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, a solvent, a dispersing agent, a coupling agent, a leveling agent and / or an antifoaming agent, and the like, and may be provided in one component form.
  • the main resin of the adhesive composition is composed of an epoxy resin, and the epoxy resin that can be used is not particularly limited, but an epoxy resin having at least two or more aromatic skeletons and also having at least two epoxy groups is preferable.
  • the epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, tetramethylbiphenyl type epoxy resins, novolac type epoxy resins, rubber modified epoxy resins, thiobiphenyl epoxy resins, Epoxy resin mixtures selected from one or more of the common epoxy resins such as biphenyl sulfone type epoxy resin, bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol F type phenoxy resin, and florene type phenoxy resin can be used. It is not limited to. Any one or several of the above-described epoxy resins may be selected and used in the present composition, but the epoxy resin may be selected according to the physical and electrical properties of the desired adhesive.
  • Examples of the commercially available divalent epoxy resin include YD-128 (bisphenol-A basic liquid epoxy resin), YD-134 (bisphenol-A semi-solid epoxy resin), YD-136 (bisphenol-A semi-solid epoxy resin), YD-011 (bisphenol A basic solid epoxy resin), YD-012 (bisphenol A basic solid epoxy resin), YD-014 (bisphenol A basic solid epoxy resin), YDF-170 (bisphenol F basic liquid epoxy resin) And YDF-2001 (bisphenol F-type solid epoxy resin) (above Kukdo Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned.
  • phenol novolac epoxy resin cresol novolac epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, polyhydric phenol type epoxy resin, tetraphenol type epoxy resin, phenol-di It may include one or more of the epoxy resin containing two or more polyfunctional epoxy group, such as cyclopentadiene epoxy resin.
  • Examples of the commercially available polyfunctional epoxy resin include YDPN-631 (phenol novolac type epoxy resin), YDPN-638 (phenol novolac type epoxy resin), YDCN-500-1P (cresol novolac type epoxy resin), YDCN-500-4P (cresol novolac type epoxy resin), YDCN-500-5P (cresol novolac type epoxy resin), YDCN-500-8P (cresol novolac type epoxy resin), YDCN-500-10P (cresol furnace Volac type epoxy resin), YDCN-500-80P (cresol novolac type epoxy resin), YDCN-500-90P (cresol novolac type epoxy resin), KBPN-110 (bisphenol A (BPA)-novolac type epoxy resin) KBPN-115 (BPA-Novolak-type epoxy resin), KBPN-120 (BPA-Novolak-type epoxy resin), KDMN-1065, KDCP-130 (Dicyclopentadiene (DCPD) type epoxy resin) Co
  • the modified epoxy obtained from the reaction of the silicon (Si) compound represented by the following formula and the epoxy resin may contain one or more resins.
  • R is an aliphatic or aromatic alkylene group
  • R 1 , R 2 and R 3 are each independently an aliphatic or aromatic alkyl group.
  • R may be selected from an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group, an arylalkylene group and an alkylarylene group
  • R 1 , R 2 , and R 3 may each independently be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or aryl.
  • Group, arylalkyl group and alkylaryl group may be selected from, but is not limited thereto.
  • the modified epoxy resin in which the silicon element was modified By reacting the alkoxy group of the said silicon compound and the aliphatic hydroxy group in an epoxy resin, the modified epoxy resin in which the silicon element was modified can be obtained.
  • the silicon compound By substituting the silicon compound with a hydroxy group which serves to increase the adhesion between the epoxy resin and the interface, the density of the alkoxy group may be increased to improve the interfacial adhesion.
  • the modified epoxy resin may include a silicon compound so that the silicon content is 0.3 to 3.0% by weight based on the total weight of the resin. If the silicon content is less than 0.3% by weight, it is difficult to increase the desired adhesive strength.
  • the average epoxy equivalent of the modified epoxy resin is preferably 170 to 1,000 g / eq in consideration of physical properties such as adhesion.
  • metals other than silicon are not reactive or low in reactivity.
  • the modified epoxy resin may be KSR-176, KSR-177, KSR-276, KSR-900, etc., produced and sold by Kukdo Chemical.
  • the mixing ratio of the modified epoxy resin and another epoxy resin may be 0.5: 9 to 9: 0.5 in weight ratio. Too few modified epoxy resins may result in brittle coating and poor coating properties, too much curing may be insufficient and poor coating properties.
  • the epoxy resin composition includes at least one material having a large molecular weight and elasticity, such as an elastic rubber with a substituent or an epoxy resin modified with an elastomer to improve the cracking phenomenon caused by the high crosslinking density of the cured epoxy resin.
  • Preferred elastomers include nitro butadiene rubber substituted with carboxyl groups, butadiene liquid rubber substituted with carboxyl groups at both ends, butadiene liquid rubber substituted with amine groups at both ends, and acrylic corel.
  • the liquid rubber containing a substituent include N631, N34, 1072S, DN601, Nipol 1071 (above Nippon Zeon), and the like.
  • KR-628 (acrylic rubber-modified epoxy resin), KR And -629 (acrylic rubber modified epoxy resin), KR-693 (acrylic rubber modified epoxy resin) (manufactured and sold by Kukdo Chemical Co., Ltd.).
  • the epoxy resin composition may include a crystalline epoxy resin to increase the degree of crystallinity in the cured product.
  • Examples of the crystalline epoxy resins include biphenyl epoxy resins, tetramethyl biphenyl epoxy resins, bisphenol S-type epoxy resins, bisphenol A-type epoxy resins with very high purity, and bisphenol F-type epoxy resins with very high purity.
  • crystalline epoxy resins include YSLV-50TE, YSLV-80DE, YSLV-80XY, YSLV-90CR, YSLV-120TE, and YDC-1312 (from Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), KDS-8128 (ultra high purity and low viscosity) Low chlorine bisphenol A epoxy resin), KDS-8170 (super high purity low viscosity low chlorine bisphenol F epoxy resin), KDS-8128P, and KDS-8170P (manufactured by Kukdo Chemical Co., Ltd.).
  • the degree of crystallinity in the cured product of the epoxy resin composition there is a method of increasing the crystalline region in the chain by maintaining a constant polymer chain orientation.
  • the polymer chain has a property of crystallinity in some regions and amorphous in some regions due to interchain orientation under certain conditions. Accordingly, phenoxy resins having a high equivalent weight of 1,500 g / eq or higher and / or a high molecular weight epoxy resin having a weight average molecular weight of 20,000 g / mol or more are relatively longer than those of other epoxy chains.
  • the crystallization effect can be expected by the orientation between chains.
  • Some of such high equivalent epoxy resins and / or phenoxy resins may be applied to increase the crystallinity of the adhesive composition by the long chain orientation of the resins.
  • Epoxy resins having an equivalent weight of less than 1,500 g / eq and phenoxy resins having a weight average molecular weight of less than 20,000 g / mol are not sufficiently long in molecular chains, and thus, it is difficult to expect a sufficient crystallization effect due to the chain-to-chain orientation.
  • the upper equivalent of the high equivalent epoxy resin may be, for example, 7,000 g / eq, and the upper molecular weight of the phenoxy resin may be, for example, 70,000 g / mol.
  • the high equivalent epoxy resin that can be used is not particularly limited as long as its equivalent is 1,500 g / eq or more, and an epoxy resin having a bifunctional single chain such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol A / F type, and bisphenol S type is preferable.
  • an epoxy resin having a bifunctional single chain such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol A / F type, and bisphenol S type is preferable.
  • Examples of commercially available epoxy resins include YD-017 (bisphenol A basic solid resin), YD-019 (bisphenol A basic solid resin), YD-020 (high purity bisphenol A solid resin), and ZX-217 (above) Kukdo Chemical Co., Ltd.).
  • the phenoxy resin which can be used is also not limited in its kind, but bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol F type phenoxy resin, bisphenol A / F type phenoxy resin, florenic phenoxy resin, etc. are preferable.
  • Commercially available phenoxy resins include YP-50 (pure bisphenol A type phenoxy resin), YP-70 (bisphenol A / bisphenol F type phenoxy resin), and FX-293 (above manufactured by Nippon Iron & Chemical). have.
  • Preferred epoxy resin compositions are resin compositions having a weight average molecular weight in the range of 2,000 g / mol to 60,000 g / mol.
  • the molecular weight of the epoxy resin composition is less than 2,000 g / mol, the phenomenon that the adhesive aggregates on the surface of the metal plate is reduced as the interfacial energy of the surface of the coated metal plate becomes smaller than the surface tension of the adhesive due to the high drying heat during the continuous-roll coating coating process.
  • the coating properties can be significantly lowered, the resin flows to the press surface due to the high pressure during the vacuum press process with the copper foil after coating, contaminating the device.
  • the inorganic filler may include an inorganic filler to impart heat dissipation characteristics in the adhesive layer.
  • an inorganic filler metal oxides, silicon oxides, metal hydrates, and the like can be used.
  • the type of the inorganic filler is not limited, preferred inorganic fillers may be aluminum oxide (hereinafter, alumina) having excellent thermal conductivity and being commercially competitive.
  • alumina aluminum oxide
  • commercially available alumina varies in kind depending on its preparation method and particle shape and particle size, and the alumina for forming the adhesive composition of the present invention is not limited to any kind.
  • preferred aluminas have an average particle size of 3.0 ⁇ m or less.
  • the average particle size exceeds 3.0 ⁇ m, surface boiling may occur due to high temperature drying conditions after coating in a continuous roll-coating process, and the boiling frequency and size are generated in proportion to the average particle size.
  • work with respect to an alumina is 30 micrometers or less.
  • the content of alumina is preferably limited to a level including 40 to 70% by weight relative to the total solids weight in the adhesive composition. If the content of alumina is less than 40% by weight, the thermal conductivity may drop sharply. If it exceeds 70% by weight, the thermal conductivity may be excellent, but the viscosity of the solution may be high, resulting in a uniform film due to aggregation of the resin during roll coating. It may be missing.
  • the curing agent in the adhesive composition preferably uses a resin that reacts with an epoxy group or a hydroxyl group at a high temperature.
  • Preferred curing agents are resins or compounds that react very slowly or do not react with the epoxy resin at room temperature, and initiate a reaction with the epoxy resin above a certain temperature.
  • a novolak-based resin when used as a curing agent for an epoxy resin, it has a remarkably low reactivity with an epoxy resin at room temperature and is stable for a very long time after mixing, and when a certain temperature is applied, for example, 100 ° C. or more.
  • the reaction rate When added, the reaction rate is increased, the reaction rate can be controlled by a catalyst, or the like, and thermal properties such as lead heat resistance after curing are greatly improved.
  • the novolak resin may include a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a bisphenol A novolak resin, a phenol-dicyclo pentadiene resin, a cresol-dicyclo pentadiene resin, and the like.
  • a phenol novolak resin having a softening point in the range of 80 ° C to 130 ° C can be used. If the softening point of the phenol novolak resin is less than 80 ° C., the crosslinking density is remarkably low and thus the desired lead heat resistance cannot be secured. On the other hand, when using a phenol novolak resin of more than 130 °C can obtain a high cross-link density, not only can not obtain significantly more physical properties than the desired lead heat resistance, there is a disadvantage that the adhesive strength is significantly reduced.
  • the acid anhydride-based compound also shows a remarkably slow reactivity at room temperature with the epoxy resin, it is a useful curing agent because the reaction rate is faster than a certain temperature.
  • the acid anhydride-based curing agent is widely used as a curing agent for transformer mold because of its excellent electrical properties.
  • More preferable acid anhydride is an acid anhydride containing a nadic group represented by a following formula. The inclusion of a nadic group in the acid anhydride structure suppresses electron transfer in the curing chain after curing, thereby improving electrical properties, relieving hydrogen bonding with moisture, and stabilizing moisture absorption and the like.
  • R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently H, aliphatic or aromatic alkyl group.
  • R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 may be each independently selected from hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an arylalkyl group, and an alkylaryl group, but are not limited thereto.
  • aromatic amine-based compound is also useful because it shows a remarkably slow reactivity at room temperature with the epoxy resin, the reaction rate increases over a certain temperature.
  • the aromatic amine is excellent in adhesiveness and heat resistance of the cured product after curing reaction with epoxy.
  • Preferred aromatic amines include sulfone groups in the structure represented by the following formula. Aromatic amines containing sulfone groups are more useful than the amines because they have superior thermal properties, no liquefaction by isomers, and less human toxicity.
  • R 9 and R 10 are each independently an aromatic alkylene group.
  • R 9 and R 10 may be each independently selected from an arylene group, an arylalkylene group, and an alkylarylene group having 1 to 20 carbon atoms, but are not limited thereto.
  • the adhesive composition may include a curing agent that reacts at a significantly high rate with a hydroxyl group included in the epoxy resin or phenoxy resin molecular chain at a predetermined temperature or more.
  • Preferred curing agents include urea resins, melamine resins, phenol resol derivatives and the like.
  • the adhesive composition may include a curing accelerator depending on the speed of the continuous roll-coated coating line and the conditions of the drying oven.
  • Preferred curing accelerators include imidazole compounds such as methyl imidazole, phenyl imidazole and 2-ethyl-4-methyl imidazole; Basic catalysts such as organo-phosphorus complexes such as triphenyl phosphine, ethyltriphenyl phosphine iodine, ethyltriphenyl phosphine bromide and the like; Acidic catalysts, such as a boron trifluoride complex and a phosphate compound, can be included.
  • the dispersant of the adhesive composition is adsorbed by the inorganic filler to impart an electrostatic repulsive force or steric hindrance effect to maintain a constant gap between the pigment and the pigment, thereby preventing the re-agglomeration of the prepared dispersion composition and improves the flowability of the composition .
  • a dispersant which does not impair the fluidity of the composition should be appropriately selected.
  • examples of such dispersants include DISPERBYK-110 series, DISPERBYK-160 series, DISPERBYK-170, and 171 of BYK, and EFKA-4009, 4015, 4020, 4300, 4330, 4400, 4401, 4500, and 4550 of EFKA. Etc.
  • an appropriate amount of a high molecular weight block copolymer dispersant having a pigment affinity group is used.
  • the insulating adhesive composition according to the present invention may include additives such as a coupling agent, a leveling agent, an antifoaming agent, and the like.
  • a coupling agent a silane coupling agent such as Z-6040 (manufactured by Dow Corning Co., Ltd.) may be used, and as the leveling agent, Polyflow No. 90D-50 (Hansung Co., Ltd.), etc. can be used, An acrylic type etc. can be used as an antifoamer.
  • the solvent of an adhesive composition contains 1 or more types of solvents with a boiling point of 70-149 degreeC, and 1 or more types of solvents with a boiling point of 150-230 degreeC.
  • a ketone solvent such as methyl ethyl ketone (MEK, boiling point of about 80 ° C.) having excellent solubility of the epoxy resin, but since the boiling point of the ketone solvent is low, DBE (Dibasic Esters, Boiling Point 196 to 225) is preferable.
  • °C methyl ethyl ketone
  • PGME propylene glycol methyl ether
  • aromatic hydrocarbon solvents must be properly mixed to prevent boiling of the coating film during the drying process during the roll-coating process.
  • the mixing ratio of the low boiling point solvent and the high boiling point solvent is preferably 1: 9 to 9: 1 by weight.
  • MEK Methyl ethyl ketone
  • At least one epoxy resin may be used as the main resin, specifically, a silane-modified epoxy resin using the compound of Formula 1 as the main resin and a high equivalent / high molecular weight epoxy resin as the auxiliary resin.
  • a silane-modified epoxy resin using the compound of Formula 1 as the main resin and a high equivalent / high molecular weight epoxy resin as the auxiliary resin may be used.
  • the weight ratio of the silane-modified epoxy resin and the high equivalent / high molecular weight epoxy resin may be 1: 9 to 9: 1.
  • the total main resin content may be 10 to 50% by weight, preferably 20 to 40% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • the curing agent at least one of phenol novolac resins, acid anhydrides such as formula (2), and aromatic amines such as formula (3) is essentially used, and optionally urea resins, melamine resins, phenol resol derivatives and the like can be used.
  • the content of the curing agent may be 1 to 30% by weight, preferably 1 to 20% by weight, based on the total weight of the adhesive composition.
  • imidazole may be used, and the content of the curing accelerator may be 0.01 to 2% by weight, preferably 0.01 to 1% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • Acrylic dispersant may be used as the dispersant, and the content of the dispersant may be 0.01 to 2% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • a coupling agent may be used as the coupling agent, and the content of the coupling agent may be 0.01 to 2 wt%, preferably 0.1 to 1 wt% based on the total weight of the adhesive composition.
  • An acrylic or the like may be used as the leveling agent, and the content of the leveling agent may be 0.01 to 2% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • the inorganic filler alumina or the like may be used, and the content of the inorganic filler may be 10 to 50% by weight, preferably 25 to 45% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • the solvent two or more kinds of low boiling point solvents (boiling point of 70 to 149 ° C) and high boiling point solvents (boiling point of 150 to 230 ° C) may be used.
  • MEK, DBE, PGME, aromatic hydrocarbon solvents, and the like may be used.
  • the content of the solvent may be 5 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight, based on the total weight of the adhesive composition of MEK, DBE, and PGME.
  • the aromatic hydrocarbon solvent it may be 0 to 10% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • the total solvent content may be 10 to 80% by weight, preferably 25 to 65% by weight based on the total weight of the adhesive composition.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of an adhesive coated metal plate for a metal printed circuit board manufactured according to an embodiment of the present invention.
  • the metal plate 10, the first insulating adhesive layer 20, and the second insulating adhesive layer 30 are shown from below. It may be composed of a copper foil layer (40).
  • insulating adhesive coated metal sheets for metal printed circuit boards in continuous roll-coated coating lines first, aluminum, magnesium, hot dip galvanized steel, hot dip galvanized steel, hot dip galvanized steel, electro galvanized steel, etc.
  • the coil metal plate is continuously fed at a production rate of 20 to 100 mpm (m / min).
  • the thickness of the metal plate may be 0.3 mm or more.
  • An alkali solution can be sprayed onto the surface of the metal plate to be continuously supplied to clean foreign substances such as rust-preventive oil and dust, and the surface to be coated with an insulating adhesive can be rubbed with a brush.
  • the reason for using the brush is to increase the surface area of the metal plate to increase the bonding strength with the insulating adhesive, in the case of aluminum steel sheet to remove the aluminum chip attached to the cut surface.
  • the iron oxide component may be removed by installing a magnetic filter in the adhesive solution prior to roll-coating the insulating adhesive.
  • the reason for using the magnetic filter is that the iron oxide contained as an impurity in the filler deteriorates the breakdown voltage characteristics of the insulating adhesive and adversely affects the final quality.
  • the insulating adhesive solution is repeatedly applied to the cleaned metal plate surface at least once, preferably at least twice. If the thickness exceeds 50 ⁇ m in one coating, the boiling phenomenon of the coating may occur during the drying process, and this boiling phenomenon may be prevented by repeatedly applying the coating.
  • the roll-coating is carried out so that the dry coating thickness of the insulating adhesive solution is 10 to 50 m in one coating.
  • the metal plate is dried by heating to a temperature of 170 to 250 ° C. in a dry oven. Drying time is several tens of seconds or less. Repeated coatings bring the final thickness of the insulating adhesive to 40-120 ⁇ m.
  • a protective film can be applied continuously onto the dried insulating adhesive coating, which is used to prevent surface damage in subsequent processes and to protect the surface of the insulating adhesive from moisture.
  • the manufacturing method of the metal printed circuit board is a step of cutting the adhesive coated metal plate to a certain size, laminating about 5 to 20 sets of the adhesive coated metal plate and copper foil in order, the temperature of 150 to 250 °C in a vacuum press of 10 torr or less and Pressing at a pressure of 10 to 50 kgf / cm 2 for 0.5 to 2.5 hours may include cold pressing for 0.1 to 1 hour.
  • an adhesive composition according to the present invention is applied to a continuous roll-coating coating line to prepare an adhesive coated metal plate, and an example of completing a metal printed circuit board by bonding copper foil to the adhesive coated metal plate through a vacuum pressing process.
  • the present invention will be described in more detail.
  • a test example for evaluating the quality of the finished metal printed circuit board is presented to clarify the effects of the present invention.
  • the scope of the present invention is not limited to the following examples.
  • KSR-177 (bifunctional silane modified epoxy resin, manufactured and sold by Kukdo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 201 g / eq, viscosity 13,100 cps @ 25 ° C) 20 g, YD-128 (bifunctional bisphenol A epoxy resin, national road Manufacture and sale of Chemical Co., Ltd., equivalent weight 186 g / eq, viscosity 12,800 cps @ 25 °C) 10 g of YDPN-638 (phenol novolak epoxy resin, manufactured and sold by Kukdo Chemical Co., Ltd.) and YP-50 (bisphenol A type)
  • the main part was prepared by completely dissolving 60 g of phenoxy resin, Nippon Steel Chemical Co., Ltd., 60 g of weight average molecular weight 65,000 g / mol) in 60 g of methyl ethyl ketone and 60 g of propylene glycol methyl ether. At this time, the average molecular
  • KPN-116 phenol novolac resin, manufactured and sold by Gangnam Hwasung Co., Ltd., softening point 110 ° C
  • MNA Metal Nadic Anhydride, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., 2
  • 2-phenyl imidazole (2PI) Hitachi Chemical
  • the entire amount of the prepared master batch and the total amount of the curing agent were uniformly mixed to prepare an insulating adhesive composition suitable for continuous roll coating.
  • Adhesive-coated metal sheets were prepared according to the following continuous roll-coating coating line conditions.
  • Metal plate material aluminum 5052, thickness 1.0 mm, width 1,000 mm
  • MCCL Metal Copper Clad Laminate
  • KSR-276 (bifunctional silane-modified solid epoxy resin, manufactured and sold by Kukdo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 430 g / eq, softening point 63 ° C) 10 g, YD-011 (bifunctional bisphenol A epoxy resin, Kukdo Chemical Co., Ltd.) Preparation and sales, 10 g of epoxy equivalent 450 g / eq, softening point 65 ° C.), 20 g of YDPN-638, and 60 g of YP-50 were completely dissolved in 60 g of methylethylketone and 60 g of propylene glycol mono methyl ether Prepared. At this time, the average molecular weight of the main part was 41,000 g / eq. The remaining method was evaluated by preparing MCCL under the same conditions as in Example 1.
  • Total amount of the prepared main part, AL-160SG-3 180 g, DisperBKY-110 2 g, Z-6040 2 g, Polyflow No. Ball milling was performed in 2 g of 90D-50, and 30 g of DBE as a diluent solvent, but the master batch was prepared by adjusting the particle size average to 30 ⁇ m or less as measured by a particle size analyzer.
  • a curing agent was prepared by completely dissolving 12 g of DDS (4,4-Diaminodiphenylsulfone, an aromatic divalent amine monomer, corresponding to Chemical Formula 3) in methyl ethyl ketone.
  • Example 1 Example 2
  • Example 3 Example 4
  • Example 5 Comparative Example 1 Comparative Example 2 1.withstand voltage 7.0 kV 6.9 kV 6.5 kV 7.0 kV 6.9 kV 1.2 kV 6.8 kV 2.
  • Boiling water withstand voltage 5.5 kV 5.7 kV 6.0 kV 5.8 kV 5.1 kV 0.2 kV 3.2 kV 3.
  • Copper foil adhesion 1.85kgf / cm 1.73kgf / cm 1.83kgf / cm 1.67kgf / cm 1.90kgf / cm 0.90kgf / cm 1.89kgf / cm 4.
  • Boiling Copper Foil Adhesion 1.82kgf / cm 1.72kgf / cm 1.80kgf / cm 1.66kgf / cm 1.67kgf / cm 0.52kgf / cm 1.75kgf / cm 5. Solder resistance More than 80 minutes More than 80 minutes More than 80 minutes 72 minutes 55 minutes ⁇ 1 min 2 minutes 6. Coating property Good Good Good Good Bad Good 7. Insulation layer thermal conductivity 1.9827 W / mK 1.9626 W / mK 2.3532W / mK 2.4351 W / mK 1.8135 W / mK 1.6102W / mK 1.9257 W / mK
  • the maximum AC voltage that the insulation adhesive layer between the copper foil layer and the aluminum layer withstands was measured using the voltage resistance measuring instrument.
  • the prepared specimen was immersed in boiling water for 2 hours and dried for 30 minutes, and then the maximum AC voltage of the insulating adhesive layer between the copper foil layer and the aluminum layer was measured using a withstand voltage measuring instrument. .
  • the prepared specimens were immersed in boiling water for 2 hours and dried for 30 minutes, and when the peeled copper foil of 1 cm wide by 90 degrees using a 90-degree Peel-off test equipment The force was measured.
  • the prepared specimen was floated in a lead-free solder melt at 288 ° C. and the time until the bubble was generated in the copper foil was measured.
  • the coating property as a result of observing the surface state after coating and drying the adhesive on the metal plate, the surface is uniform, good, if the adhesive is agglomerated or not uniform is described as bad.
  • the insulating layer thermal conductivity only the adhesive layer is cured in the form of a film to prepare a specimen, and then the thermal conductivity is measured in the thickness direction by using a laser flash method.

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Abstract

본 발명은 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물, 이를 이용한 접착제 도장 금속판 및 이 도장 금속판의 제조방법에 관한 것으로, 동박과의 접착력이 우수하고 전기절연성과 내열성이 우수한 접착층을 형성하는 접착제 조성물로서, 특정 에폭시 수지, 경화제, 알루미나를 포함하는 조성물을 제공한다. 또한, 본 발명에서는 용액 형태의 접착제를 금속판에 도장함에 있어서, 롤 코팅 방식을 이용하여 금속판에 연속으로 도장함으로써, 통상적으로 시트 형태의 접착 필름을 사용하는 방식에 대비하여 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Description

ＭＣＣＬ용 절연 접착제 조성물, 이를 이용한 도장 금속판 및 그 제조방법
본 발명은 MCCL(Metal Copper Clad Laminate)용 절연 접착제 조성물, 이를 이용한 접착제 도장 금속판 및 도장 금속판의 제조방법에 관한 것이다.
인쇄회로기판(Printed Circuit Board)은 기판의 종류에 따라 수지계 및 금속계 등으로 구분할 수 있는데, 최근에는 인쇄회로기판에 높은 방열성(열전도도)이 요구됨에 따라, 기존 수지계 인쇄회로기판에서 메탈 인쇄회로기판으로의 전환이 급증하고 있다. 메탈 인쇄회로기판은 조명용 및 산업용으로 사용되고 있는데, 예를 들어 LED 기판(전구, 형광등, 가로등, 광고등 대체), LED TV, 컨버터, 인버터, 전원공급장치(SMPS), 정류기(rectifier) 등에 사용되고 있다.
일반적으로 메탈 인쇄회로기판은 알루미늄, 마그네슘, 용융 알루미늄 도금강판, 용융 알루미늄-아연 합금 도금강판, 용융 아연 도금강판, 전기 아연 도금강판 등의 금속판; 절연 접착층; 및 동박(Copper Foil)층으로 구성된다. 절연 접착층에 요구되는 기능은 금속판과 동박층과의 접착력, 전기 절연성 기능, 그리고 메탈 인쇄회로기판 제조 공정상에 발생하는 열과 습도에서 초기의 접착력과 전기 절연성을 유지하는 것이다.
한편, 종래의 절연 접착층 형성 공정에는 크게 두 가지 방법이 있다. 첫째는 절연 접착층을 시트 형태의 건조 필름으로 제조하여 사용하는 방법이며, 둘째는 접착제를 동박에 도포하여 형성시키는 방법이다. 첫째 방법은 시트 필름 형태로 적층하여 사용하기 때문에 작업의 용이성과 생산성이 낮아지는 단점이 있으며, 둘째 방법은 가장 상용화된 일반적인 제조 방법이다.
본 발명의 목적은 금속 소재와 동박과의 접착력 및 전기 절연성이 우수한 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 접착제 조성물을 이용한 접착제 도장 금속판을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 절연 접착제 용액을 고온과 고속의 연속 롤-코팅 도장 라인에서 금속 소재에 도장함으로써 생산성을 향상시킬 수 있는 접착제 도장 금속판의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 하기 화학식 1로 표시되는 규소 화합물과 에폭시 수지를 반응시킨 변성 에폭시 수지를 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2012011310-appb-I000001
상기 식에서 R은 지방족 또는 방향족 알킬렌기이고, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 지방족 또는 방향족 알킬기이다.
본 발명에서 상기 변성 에폭시 수지는 규소(Si) 0.3 내지 3 중량%를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 변성 에폭시 수지의 평균 에폭시 당량은 170 내지 1,000 g/eq인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 접착제 조성물은 고당량 에폭시 수지, 무기 충진제, 경화제 및 유기 용제를 포함할 수 있다.
본 발명에서 고당량 에폭시 수지는 당량 1,500 내지 7,000 g/eq의 고형 에폭시 수지, 및 분자량 20,000 내지 70,000 g/mol의 페녹시 수지 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.
본 발명에서 무기 충진제를 제외한 총 조성물의 무게평균분자량은 2,000 내지 60,000 g/mol인 것이 바람직하다.
본 발명에서 무기 충진제는 알루미늄 산화물인 것이 바람직하고, 무기 충진제의 입자크기는 0.1 내지 3.0 ㎛인 것이 바람직하며, 무기 충진제는 접착제 조성물 중 총 고형분 중량 대비 40 내지 70 중량%로 포함되는 것이 바람직하다.
본 발명에서 경화제는 페놀 노볼락 수지, 산무수물, 방향족 아민, 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 레졸 유도체 중에서 선택되는 단독 또는 2종 이상을 혼용할 수 있다.
본 발명에서 페놀 노볼락 수지의 연화점은 80 내지 130℃인 것이 바람직하다.
본 발명에서 산무수물은 하기 화학식 2로 표시되는 산무수물인 것이 바람직하다.
[화학식 2]
Figure PCTKR2012011310-appb-I000002
상기 식에서 R5, R6, R7, R8은 각각 독립적으로 H, 지방족 또는 방향족 알킬기이다.
본 발명에서 방향족 아민은 하기 화학식 3으로 표시되는 방향족 아민인 것이 바람직하다.
[화학식 3]
Figure PCTKR2012011310-appb-I000003
상기 식에서 R9, R10은 각각 독립적으로 방향족 알킬렌기이다.
본 발명에서 유기 용제는 끓는점 70 내지 149℃의 용제 1종 이상 및 끓는점 150 내지 230℃의 용제 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 금속판; 및 상기 금속판 상부에 형성되고, 상기 화학식 1로 표시되는 규소 화합물과 에폭시 수지를 반응시킨 변성 에폭시 수지를 함유하는 절연 접착제 조성물을 이용하여 형성된 절연 접착층을 포함하는 접착제 도장 금속판을 제공한다.
본 발명에서 금속판은 알루미늄, 마그네슘, 용융 알루미늄 도금강판, 용융 알루미늄-아연 합금 도금강판, 용융 아연 도금강판, 및 전기 아연 도금강판 중에서 선택될 수 있다.
본 발명에서 절연 접착층의 최종 도막두께는 40 내지 120 ㎛인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 (a) 연속 롤-코팅 도장 라인에서 금속판을 연속적으로 공급하는 단계; 및 (b) 상기 금속판 상부에 상기 화학식 1로 표시되는 규소 화합물과 에폭시 수지를 반응시킨 변성 에폭시 수지를 포함하는 절연 접착제 조성물을 코팅한 후 건조하여 절연 접착층을 형성하는 단계를 포함하는 접착제 도장 금속판의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법 중, 상기 (b) 단계에서는 절연 접착제 조성물을 코팅한 후 건조하는 공정을 2회 이상 반복 실시할 수 있다.
본 발명에 따른 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법은 상기 (a) 단계 이후에 브러쉬로 금속판 표면을 조정하는 단계, 상기 (b) 단계 이후에 보호필름을 도포하는 단계, 및/또는 상기 (b) 단계 이전에 절연 접착제 조성물 내에 마그네틱 필터를 설치하여 산화철 성분을 제거하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 접착력과 내열성 및 내습성이 우수한 에폭시 수지를 이용한 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 수지 조성물을 제공한다. 또한, 고속의 연속 롤-코팅 도장 라인에서 용이하게 제조할 수 있는 조성으로 생산성 향상에 큰 효과가 있다. 또한, 알루미늄, 알루미늄 도금 강판, 아연 도금 강판, 알루미늄아연합금 도금 강판, 전기아연 도금 강판 등 소재에 상관없이 적용이 가능하여 다양한 사용처를 확보할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따라 제조된 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 구조를 나타내는 단면도이다.
이하에서는 본 발명에 의한 고온과 고속의 연속 롤-코팅 도장 공정용 절연 접착제 조성물 및 이를 이용한 도장 금속판에 대하여 상세히 설명한다.
절연 접착제의 조성은 주수지, 경화제, 경화촉진제, 무기충진제, 용제, 분산제, 커플링제, 레벨링제 및/또는 소포제 등으로 구성될 수 있으며, 일액형으로 제공될 수 있다.
접착제 조성물의 주수지는 에폭시 수지로 구성되며, 사용 가능한 에폭시 수지는 특별히 한정되지 않으나, 적어도 두 개 이상의 방향족 골격을 갖고, 또한 적어도 두 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지가 바람직하다. 상기 에폭시 수지의 구체적인 예로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 바이페닐형 에폭시 수지, 테트라메틸바이페닐형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 고무 변성 에폭시 수지, 티오바이페닐 에폭시 수지, 바이페닐설폰형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 페녹시 수지, 비스페놀 F형 페녹시 수지, 플로렌형 페녹시 수지 등 상용하는 에폭시 수지 중 1종 또는 여러 종을 선택한 에폭시 수지 혼합물이 사용 가능하며, 그 종류에 한정되지 않는다. 상기 기술한 에폭시 수지 중 어느 한 종 또는 여러 종을 선택하여 본 조성물에 사용 가능하나, 목적하는 접착제의 물리적, 전기적 특성에 따라 에폭시 수지의 선택이 가능하다.
상기 기술한 에폭시 수지 중 금속 소재와 동박과의 높은 접착 특성과, 연속 롤-코팅 도장 공정에서의 용이한 공정성을 확보하기 위하여, 에폭시기가 두 개인 2가 에폭시 수지를 적어도 1종 포함하는 것이 바람직하다. 상용화되어 시판되는 상기 2가 에폭시 수지의 예로서는 YD-128(비스페놀 A형 기본 액상 에폭시 수지), YD-134(비스페놀 A형 반고형 에폭시 수지), YD-136(비스페놀 A형 반고형 에폭시 수지), YD-011(비스페놀 A형 기본 고형 에폭시 수지), YD-012(비스페놀 A형 고형 에폭시 수지), YD-014(비스페놀 A형 기본 고형 에폭시 수지), YDF-170(비스페놀 F형 기본 액상 에폭시 수지), YDF-2001(비스페놀 F형 고형 에폭시 수지)(이상 국도화학㈜ 제조) 등을 들 수 있다.
또한, MCCL 접착면에 요구되는 높은 열적 특성의 구현을 위하여 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀 A형 노볼락 에폭시 수지, 다가 페놀형 에폭시 수지, 테트라 페놀형 에폭시 수지, 페놀-디사이클로펜타디엔 에폭시 수지 등 두 개 이상의 다관능 에폭시기를 포함하는 에폭시 수지 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 상용화되어 시판되는 상기 다관능 에폭시 수지의 예로는 YDPN-631(페놀 노볼락형 에폭시 수지), YDPN-638(페놀 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-1P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-4P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-5P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-8P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-10P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-80P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), YDCN-500-90P(크레졸 노볼락형 에폭시 수지), KBPN-110(비스페놀 A(BPA)-노볼락형 에폭시 수지), KBPN-115(BPA-노볼락형 에폭시 수지), KBPN-120(BPA-노볼락형 에폭시 수지), KDMN-1065, KDCP-130(디사이클로펜타디엔(DCPD)형 에폭시 수지)(이상 국도화학㈜ 제조) 등을 들 수 있다.
또한, MCCL 접착제의 방열성(열전도도)을 향상을 위하여 필연적으로 함유되는 무기 충진제에 의한 동박 접착력의 저하를 극복하기 위하여, 하기 식으로 표현되는 규소(Si) 화합물과 에폭시 수지의 반응으로부터 얻어진 변성 에폭시 수지 1종 이상을 포함할 수 있다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2012011310-appb-I000004
상기 식에서 R은 지방족 또는 방향족 알킬렌기이고, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 지방족 또는 방향족 알킬기이다. 예를 들어, R은 탄소수 1 내지 20의 알킬렌기, 아릴렌기, 아릴알킬렌기 및 알킬아릴렌기 중에서 선택될 수 있고, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬아릴기 중에서 선택될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 규소 화합물의 알콕시 그룹과 에폭시 수지 내의 지방족 하이드록시 그룹을 반응시킴으로써, 규소원소가 변성된 변성 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 에폭시 수지와 계면의 접착력을 증대시키는 역할을 하는 하이드록시 그룹에 상기 규소화합물을 치환시킴으로써, 알콕시 그룹의 밀도를 증가시켜 계면접착력을 향상시킬 수 있다. 바람직하게는 상기 변성 에폭시 수지는 수지 전체 중량에 대해 규소함량이 0.3 내지 3.0 중량%가 되도록 규소화합물을 포함할 수 있다. 규소함량이 0.3 중량% 미만에서는 목적하는 정도의 접착력 증대가 힘들다. 반대로, 규소함량이 3.0 중량%를 초과할 경우에는 에폭시와 규소화합물을 완전 반응시키기 힘들고, 잔존하는 규소화합물로 인하여 열특성 등 기타 특성이 저하되는 문제를 보일 수 있다. 또한, 상기 변성 에폭시 수지의 평균 에폭시 당량은 접착력 등의 물성을 고려하여 170 내지 1,000 g/eq인 것이 바람직하다. 한편, 규소 이외의 금속은 반응성이 없거나 반응성이 낮다. 상기 변성 에폭시 수지의 예로는 국도화학에서 생산 판매 중인 KSR-176, KSR-177, KSR-276, KSR-900 등을 예로 들 수 있다. 상기 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지의 혼합비율은 중량비율로 0.5:9 내지 9:0.5일 수 있다. 변성 에폭시 수지가 너무 적을 경우 도막이 브리틀(brittle)해지고 코팅성이 불량해질 수 있고, 너무 많을 경우 경화가 미흡하고 코팅성이 불량해질 수 있다.
또한, 상기 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지 경화물의 높은 가교밀도에 의해 발생하는 깨짐 현상을 개선하기 위하여, 치환기가 있는 탄성 고무 또는 탄성체가 변성된 에폭시 수지 등 분자량이 크고 탄성을 가진 재료를 1종 이상 포함할 수 있다. 바람직한 탄성체로는 카르복실기가 치환된 니트로 부타디엔 고무, 양 말단에 카르복실기가 치환된 부타디엔 액상 고무, 양 말단에 아민기가 치환된 부타디엔 액상 고무, 아크릴 코아셀 등이 있다. 치환기를 포함하는 액상 고무의 예로서는 N631, N34, 1072S, DN601, Nipol 1071(이상 Nippon Zeon사) 등을 들 수 있고, 아크릴 코아셀 함유 에폭시 수지로는 KR-628(아크릴 고무 변성 에폭시 수지), KR-629(아크릴 고무 변성 에폭시 수지), KR-693(아크릴 고무 변성 에폭시 수지)(이상 국도화학㈜ 제조, 판매) 등을 들 수 있다.
한편, 경화물 내 결정화도의 조절은 절연층의 열전도 특성(방열특성)에 매우 중요한 요소가 된다. 어떤 매질에서 열이 전달될 경우 그 경로가 짧을수록 빠른 속도로 열이 전달된다. 금속 물질의 열전달이 빠른 것은 금속격자 구조가 결정구조로 이루어진 것이 크게 영향을 주므로, 이와 마찬가지로 고분자 물질의 결정화도를 높일수록 열전도도가 높아질 것을 쉽게 예상할 수 있다. 따라서, 상기 에폭시 수지 조성물은 경화물 내 결정화도를 높이기 위해 결정성 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 결정성 에폭시 수지의 종류로는 바이페닐 에폭시 수지, 테트라메틸 바이페닐 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 순도가 매우 높은 비스페놀 A형 에폭시 수지, 순도가 매우 높은 비스페놀 F형 에폭시 수지 등이 있다. 시판되는 결정성 에폭시 수지로는 YSLV-50TE, YSLV-80DE, YSLV-80XY, YSLV-90CR, YSLV-120TE, YDC-1312(이상 신일본제철화학㈜ 제조 판매), KDS-8128(초고순도 저점도 저염소분 비스페놀 A형 에폭시 수지), KDS-8170(초고순도 저점도 저염소분 비스페놀 F형 에폭시 수지), KDS-8128P, KDS-8170P(이상 국도화학㈜ 제조 판매) 등이 있다.
또한, 상기 에폭시 수지 조성물의 경화물 내 결정화도를 조절하는 또 다른 방법으로는, 고분자 사슬 배향을 일정하게 유지하여 사슬 내 결정성 영역을 높이는 방법이 있다. 고분자 사슬은 일정 조건에서 사슬간 배향에 의하여 일부 영역에서는 결정성을 일부 영역에서는 비결정성을 띄는 성질이 있다. 따라서, 당량이 1,500 g/eq 이상의 고당량의 에폭시 수지 및/또는 무게평균 분자량이 20,000 g/mol 이상의 고분자량의 에폭시 수지의 일종인 페녹시 수지는 사슬 길이가 다른 에폭시에 비하여 상대적으로 길어 사슬과 사슬간의 배향에 의하여 결정화 효과를 기대할 수 있다. 이러한 고당량 에폭시 수지 및/또는 페녹시 수지를 일부 적용하여 상기 수지의 긴 사슬의 배향에 의하여 접착제 조성물의 결정화도를 높일 수 있다. 당량이 1,500 g/eq 미만의 에폭시 수지와 무게평균 분자량이 20,000 g/mol 미만의 페녹시 수지는 분자 사슬의 길이가 충분히 길지 못하여 사슬과 사슬간의 배향에 의한 충분한 결정화 효과를 기대하기 힘들다. 고당량 에폭시 수지의 당량 상한치는 예를 들어 7,000 g/eq일 수 있고, 페녹시 수지의 분자량 상한치는 예를 들어 70,000 g/mol일 수 있다. 사용 가능한 고당량 에폭시 수지는 당량이 1,500 g/eq 이상이면 특별히 한정되지 않으며, 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 A/F형, 비스페놀 S형 등 2관능의 단일 사슬을 가지는 에폭시 수지가 바람직하다. 상용하여 시판되는 에폭시 수지의 예로는 YD-017(비스페놀 A형 기본 고형수지), YD-019(비스페놀 A형 기본 고형수지), YD-020(고순도 비스페놀 A형 고형수지), ZX-217(이상 국도화학 ㈜ 제조판매) 등을 들 수 있다. 사용 가능한 페녹시 수지 또한 그 종류가 한정되지 않으나, 비스페놀 A형 페녹시 수지, 비스페놀 F형 페녹시 수지, 비스페놀 A/F형 페녹시 수지, 플로렌계 페녹시 수지 등이 바람직하다. 시판되는 페녹시 수지로는 YP-50(순수 비스페놀 A형 페녹시 수지), YP-70(비스페놀 A/비스페놀 F형 페녹시 수지), FX-293(이상 신일본제철화학㈜ 제조 판매) 등이 있다.
또 다른 중요한 요소로서, 본 발명의 도장공정 특성상 에폭시 수지의 분자량 조절이 있다. 바람직한 에폭시 수지 조성물은 무게 평균 분자량이 2,000 g/mol 내지 60,000 g/mol의 범위에 있는 수지 조성물이다. 에폭시 수지 조성물의 분자량이 2,000 g/mol 미만일 경우, 연속-롤 코팅 도장 공정 중 높은 건조열로 인해서 코팅되는 금속판 표면의 계면 에너지가 접착제의 표면장력보다 작아짐에 따라 접착제가 금속판 표면에서 응집되는 현상이 발생하여 코팅성이 현저히 저하될 수 있고, 도장 후 동박과의 진공 프레스 공정 시 높은 압력으로 인해 수지가 프레스 표면으로 흘러나와 장치를 오염시킬 우려가 있다. 반면에, 60,000 g/mol을 초과하는 분자량의 에폭시 수지를 사용 경우에는, 높은 분자량으로 인한 접착제 조성액 자체의 점도가 매우 높아져 젖음성이 저해되고 표면외관이 불량해지는 문제가 발생하며, 또한 후처리 공정 시 용제에 용해성이 떨어져 생산성 문제가 발생할 수 있다.
한편, 접착층 내에 방열특성을 부여하기 위하여 무기 충진제를 포함할 수 있다. 무기 충진제로는 금속산화물, 산화규소, 금속수화물 등을 사용할 수 있다. 무기 충진제의 종류는 한정되지 않으나, 바람직한 무기 충진제로는 열전도가 뛰어나고 상업적으로 경쟁력있는 산화알루미늄(이하 알루미나)을 사용할 수 있다. 상업적으로 시판되는 알루미나는 그 제조방법 및 입자 모양과 입자 크기에 따라 종류가 다양하며, 본 발명의 접착제 조성물을 이루기 위한 알루미나는 어떤 종류에 한정되지 아니한다. 특히, 바람직한 알루미나는 평균 입자크기가 3.0 ㎛ 이하이다. 평균 입자가 크기가 3.0 ㎛를 초과할 경우 연속 롤-코팅 공정에서 도장 후 고온의 건조 조건에 의하여 표면의 끓음 현상이 발생할 수 있으며, 끓음의 빈도 및 크기는 평균 입자 크기에 비례하여 발생된다. 또한, 알루미나에 대한 밀링 작업 후의 분산도는 30 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 알루미나의 함량은 접착제 조성물 중 총 고형분 중량 대비 40 내지 70 중량%를 포함하는 수준으로 한정하는 것이 바람직하다. 알루미나의 함량이 40 중량% 미만일 경우 열전도성이 급격하게 떨어질 수 있으며, 70 중량%를 초과할 경우 열전도성은 우수하나 용액의 점도가 높아져 롤 코팅시 수지의 뭉침 등의 현상으로 균일한 피막을 얻을 수 없게 될 수 있다.
접착제 조성물 중 경화제는 고온에서 에폭시기 또는 하이드록시기와 반응하는 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 바람직한 경화제는 상온에서 에폭시 수지와의 반응이 매우 느리거나 반응을 하지 않고, 일정온도 이상에서 에폭시 수지와 반응을 개시하는 수지 또는 화합물이다.
일반적으로, 노볼락 계통의 수지를 에폭시 수지의 경화제로 사용할 경우, 상온에서는 에폭시 수지와 현저히 낮은 반응성을 가져 혼합 후 매우 긴 시간 동안 안정하며, 일정온도를 가하였을 때, 예를 들어 100℃ 이상을 가하였을 때 반응속도가 빨라지고, 촉매 등으로 반응 속도 조절이 가능하며, 경화 후 납내열성 등의 열특성이 크게 향상되는 장점이 있다. 상기 노볼락수지의 예로는 페놀노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 비스페놀 에이형 노볼락 수지, 페놀-디사이클로 펜타디엔 수지, 크레졸-디사이클로 펜타디엔 수지 등을 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는 연화점이 80℃ 내지 130℃ 범위인 페놀노볼락 수지를 사용할 수 있다. 페놀노볼락 수지의 연화점이 80℃ 미만일 경우 가교밀도가 현저히 낮아 목적하는 납내열성을 확보할 수 없다. 반면에, 130℃를 초과하는 페놀노볼락 수지를 사용할 경우 높은 가교밀도를 얻을 수 있으나, 목적하는 납내열성보다 현저히 초과하는 물성을 얻을 수 없을뿐더러, 접착력이 현저히 떨어지는 단점이 있다.
또한, 산무수물 계통의 화합물도 에폭시수지와 상온에서는 현저히 느린 반응성을 보이고, 일정온도 이상에서 반응속도가 빨라지므로 유용한 경화제이다. 특히, 산무수물 계통의 경화제는 전기적 특성이 뛰어난 장점이 있어 변압기 몰드용 경화제 등으로 널리 사용되고 있다. 보다 바람직한 산무수물은 하기 식으로 표현되는 나딕기를 포함하는 산무수물이다. 산무수물 구조 내에 나딕기를 포함하면, 경화 후 경화사슬 내에 전자이동을 억제하여 전기적 특성이 향상되고, 수분과의 수소결합을 완화하여 흡습 등이 보다 안정화된다.
[화학식 2]
Figure PCTKR2012011310-appb-I000005
상기 식에서 R5, R6, R7, R8은 각각 독립적으로 H, 지방족 또는 방향족 알킬기이다. 예를 들어, R5, R6, R7, R8은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬아릴기 중에서 선택될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 방향족 아민 계통의 화합물도 에폭시수지와 상온에서는 현저히 느린 반응성을 보이고, 일정온도 이상에서 반응속도가 증가하는 특징이 있으므로 유용하다. 특히, 방향족 아민은 에폭시와 경화반응 후 경화물의 접착성, 내열성 등이 뛰어난 특징이 있다. 바람직한 방향족 아민은 하기 식으로 표현되는 구조 내 술폰기를 포함하는 것이다. 술폰기를 포함하는 방향족 아민은 그렇지 않은 아민에 비해 경화물의 열적 특성이 뛰어나고, 이성질체에 의한 액화현상이 없으며, 인체독성도 덜하므로 사용하기가 유용하다.
[화학식 3]
Figure PCTKR2012011310-appb-I000006
상기 식에서 R9, R10은 각각 독립적으로 방향족 알킬렌기이다. 예를 들어, R9, R10은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 20의 아릴렌기, 아릴알킬렌기 및 알킬아릴렌기 중에서 선택될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 접착제 조성물은 일정온도 이상에서 에폭시 수지 또는 페녹시 수지 분자 사슬 내에 포함되는 하이드록시기와 현저히 빠른 속도로 반응하는 경화제를 포함할 수 있다. 바람직한 경화제로는 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 레졸 유도체 등이 대표적인 예이다.
또한, 상기 접착제 조성물은 연속 롤-코팅 도장 라인의 속도와 건조 오븐의 조건에 따라 경화촉진제를 포함할 수 있다. 바람직한 경화 촉진제는 메틸 이미다졸, 페닐 이미다졸, 2-에틸-4-메틸 이미다졸 등의 이미다졸 화합물; 트리페닐 포스핀, 에틸트리페닐 포스핀 요오드아드, 에틸트리페닐 포스핀 브로마이드 등의 유기-인 착화물 등과 같은 염기성 촉매; 삼불화붕소 착화물, 인산 화합물 등의 산성 촉매를 포함할 수 있다.
접착제 조성물의 분산제는 무기충진제에 흡착되어 정전기적 반발력이나 입체 장애 효과를 부여하여 안료와 안료 사이의 간격을 일정하게 유지시킴으로써, 분산 제조된 조성물의 재응집을 막고 조성물의 유동성을 향상시키는 역할을 한다. 분산제 선정에 있어서 조성물의 유동성을 해치지 않는 분산제를 적절하게 선정하여야 한다. 이러한 분산제의 예로는 BYK사 제품 중 DISPERBYK-110 시리즈, DISPERBYK-160 시리즈, DISPERBYK-170, 171이 있으며, EFKA사 제품 중 EFKA-4009, 4015, 4020, 4300, 4330, 4400, 4401, 4500, 4550 등이 있다. 바람직하기로는 안료 친화 그룹을 가진 고분자량의 블록 공중합체 분산제를 적당량 사용하는 것이 좋다.
또한, 본 발명에 따른 절연 접착제 조성물은 커플링제, 레벨링제, 소포제 등의 첨가제를 포함할 수 있다. 커플링제로는 Z-6040(다우코닝사 제조)과 같은 실란 커플링제 등을 사용할 수 있고, 레벨링제로는 Polyflow No. 90D-50(한성공업 판매) 등을 사용할 수 있으며, 소포제로는 아크릴계 등을 사용할 수 있다.
접착제 조성물의 용제는 끓는점 70 내지 149℃의 용제 1종 이상 및 끓는점 150 내지 230℃의 용제 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 구체적으로, 에폭시 수지의 용해력이 우수한 메틸에틸케톤(MEK, 끓는점 약 80℃) 등과 같은 케톤계 용제를 사용하는 것이 바람직하나, 케톤계 용제의 끓는점이 낮기 때문에, DBE(Dibasic Esters, 끓는점 196 내지 225℃), 프로필렌글리콜메틸에테르(PGME), 방향족 탄화수소계 용제를 적절히 혼합하여야 롤-코팅 공정 중 건조과정에서 도막의 끓음 현상을 효과적으로 방지할 수 있다. 저비점 용제와 고비점 용제의 혼합비율은 중량비율로서 1:9 내지 9:1인 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 절연 접착제 조성물의 성분과 함량을 예시하면 표 1과 같으며, 물론 이에 한정되지 않고 필요에 따라 적절하게 변경할 수 있다.
표 1
구분 성분 함량(중량%)
주수지 에폭시 수지(1종 이상) 10 ~ 50
경화제 페놀노볼락 수지 등 1 ~ 30
경화촉진제 이미다졸 0.01 ~ 2
분산제 아크릴계 0.01 ~ 2
커플링제 실란계 0.01 ~ 2
레벨링제 아크릴계 0.01 ~ 2
무기충진제 알루미나 10 ~ 50
용제 메틸에틸케톤(MEK) 5 ~ 50
디비이(DBE) 5 ~ 50
피지엠이(PGME) 5 ~ 50
방향족 하이드로카본계 0 ~ 10
표 1에 따르면, 주수지로는 1종 이상의 에폭시 수지를 사용할 수 있는데, 구체적으로 주제수지로서 화학식 1의 화합물을 이용한 실란 변성 에폭시 수지 및 보조수지로서 고당량/고분자량 에폭시 수지를 필수적으로 사용하고, 선택적으로 2관능 에폭시 수지, 다관능 에폭시 수지, 결정성 에폭시 수지, 고무 변성 에폭시 수지 중에서 1종 이상을 사용할 수 있다. 실란 변성 에폭시 수지 및 고당량/고분자량 에폭시 수지의 중량비율은 1:9 내지 9:1일 수 있다. 전체 주수지의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 20 내지 40 중량%일 수 있다.
경화제로는 페놀 노볼락 수지, 화학식 2 등의 산무수물, 화학식 3 등의 방향족 아민 중에서 적어도 1종을 필수적으로 사용하고, 선택적으로 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 레졸 유도체 등을 사용할 수 있다. 경화제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 1 내지 30 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%일 수 있다.
경화촉진제로는 이미다졸 등을 사용할 수 있고, 경화촉진제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 0.01 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1 중량%일 수 있다.
분산제로는 아크릴계 등을 사용할 수 있고, 분산제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 0.01 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1 중량%일 수 있다.
커플링제로는 실란계 등을 사용할 수 있고, 커플링제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 0.01 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1 중량%일 수 있다.
레벨링제로는 아크릴계 등을 사용할 수 있고, 레벨링제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 0.01 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1 중량%일 수 있다.
무기충진제로는 알루미나 등을 사용할 수 있고, 무기충진제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 25 내지 45 중량%일 수 있다.
용제로는 저비점 용매(비점 70~149℃) 및 고비점 용매(비점 150~230℃)를 2종 이상 사용할 수 있는데, 구체적으로 MEK, DBE, PGME, 방향족 탄화수소계 용제 등을 사용할 수 있다. 용제의 함량은 MEK, DBE, PGME의 경우 각각 독립적으로 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 5 내지 30 중량%일 수 있다. 방향족 탄화수소계 용제의 경우, 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 0 내지 10 중량%일 수 있다. 전체 용제의 함량은 접착제 조성물 전체 중량에 대하여 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 25 내지 65 중량%일 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 절연 접착제 조성물 및 롤-코팅 도장라인을 이용한 접착제 도장 금속판의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따라 제조된 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 구조를 나타내는 단면도로서, 아래로부터 금속판(10), 제1절연 접착층(20), 제2절연 접착층(30), 동박층(40)으로 구성될 수 있다.
연속 롤-코팅 도장 라인에서 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 도장 금속판을 제조하기 위해, 먼저 알루미늄, 마그네슘, 용융 알루미늄 도금강판, 용융 알루미늄-아연 합금 도금강판, 용융 아연 도금강판, 전기 아연 도금강판 등의 코일 금속판을 20 내지 100 mpm(m/min)의 생산속도로 연속적으로 공급한다. 금속판의 두께는 0.3 mm 이상일 수 있다.
연속 공급되는 금속판 표면에 알칼리용액을 분사하여 방청유, 먼지와 같은 이물질을 세정할 수 있고, 또한 절연 접착제가 도포될 면을 브러쉬로 문질러 줄 수 있다. 브러쉬를 사용하는 이유는 금속판의 표면적을 높여서 절연 접착제와의 결합력을 높이고, 알루미늄 강판의 경우 절단면에 부착된 알루미늄 칩을 제거하기 위함이다.
절연 접착제를 롤-코팅 하기 전에 접착제 용액 내에 마그네틱 필터를 설치하여 산화철 성분을 제거할 수 있다. 마그네틱 필터를 사용하는 이유는 충진제 중에 불순물로 포함되는 산화철이 절연 접착제의 내전압 특성을 열화시켜 최종품질에 악영향을 미치기 때문이다.
세정된 금속판 표면에 상기 절연 접착제 용액을 적어도 1회, 바람직하게는 2회 이상 반복 도장을 한다. 1회 도장에 두께가 50 ㎛를 초과할 경우 건조과정에서 도막의 끓음 현상이 발생할 수 있는데, 반복 도장을 실시함으로써 이러한 끓음 현상을 방지할 수 있다. 1회 도장시 절연 접착제 용액의 건조 도막 두께는 10 내지 50 ㎛가 되도록 롤-코팅한다. 롤-코팅 공정 후 드라이 오븐에서 금속판의 온도가 170 내지 250℃가 되도록 가열하여 건조시킨다. 건조시간은 수십초 내지 1분 이하이다. 반복 도장으로 절연 접착제의 최종 두께는 40 내지 120 ㎛가 되도록 한다. 도막두께가 40 ㎛ 미만일 경우 내전압성이 크게 떨어지며, 120 ㎛를 초과할 경우 열전도성이 크게 떨어지는 문제점이 발생할 수 있다. 건조된 절연 접착제 도막 위에는 보호필름을 연속으로 도포할 수 있는데, 보호필름은 이후의 공정에서 표면이 손상되는 것을 방지하고, 절연 접착제 표면을 습기로부터 보호하기 위해 사용된다.
메탈 인쇄회로기판의 제조방법은 접착제 도장 금속판을 일정 크기로 재단하는 단계, 접착제 도장 금속판과 동박을 순서대로 5 내지 20세트 정도 적층하는 단계, 10 torr 이하의 진공프레스에서 150 내지 250℃의 온도 및 10 내지 50 kgf/㎠의 압력으로 0.5 내지 2.5시간 동안 프레스하는 단계, 0.1 내지 1시간 동안 콜드 프레스하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 접착제 수지 조성물을 연속 롤-코팅 도장라인에 적용한 결과, 본 발명에서 목적으로 하는 물성, 즉 메탈 인쇄회로기판에서 요구되는 접착력, 내전압성, 내열성, 내습성 등의 물성을 얻을 수 있었다. 또한, 연속 롤-코팅 방식으로 생산함으로써 종래의 생산방식에 비하여 생산성을 향상시킬 수 있었다.
이하, 본 발명에 따른 접착제 조성물을 연속 롤-코팅 도장라인에 적용하여 접착제 도장 금속판을 제조하고, 그 접착제 도장 금속판에 진공 프레스공정을 통하여 동박을 접착하여 메탈 인쇄회로기판을 완성하는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 또한, 완성된 메탈 인쇄회로기판의 품질을 평가한 시험예를 제시하여 본 발명의 효과를 명백하게 한다. 그러나, 본 발명의 권리범위는 이하의 실시예로 한정되지 않는다.
[실시예 1]
1. 주제부의 제조
KSR-177(2관능성 실란 변성 에폭시 수지, 국도화학㈜ 제조 및 판매, 에폭시 당량 201 g/eq, 점도 13,100 cps @25℃) 20 g, YD-128(2관능성 비스페놀 A형 에폭시 수지, 국도화학㈜ 제조 및 판매, 당량 186 g/eq, 점도 12,800 cps @25℃) 10 g, YDPN-638(페놀 노볼락 에폭시 수지, 국도화학㈜ 제조 및 판매) 10 g, 및 YP-50(비스페놀 A형 페녹시 수지, 신일본 제철화학 ㈜ 제조 및 판매, 중량 평균 분자량 65,000g/mol) 60 g을 메틸에틸케톤 60 g과 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 60 g에 완전히 용해시켜 주제부를 제조하였다. 이때 주제부의 평균 분자량은 39,000 g/eq이었다.
2. 마스터 배치의 제조
제조된 주제부 전량, AL-160SG-3(열활성 초미립 알루미나, 쇼와덴코㈜ 제조 및 판매, 평균입경 0.55 ㎛) 150 g, DisperBKY-110(BYK사 제조, 분산제) 2 g, Z-6040(다우코닝사 제조, 실란 커플링제) 2 g, Polyflow No. 90D-50(한성공업 판매, 레벨링제) 2 g, 및 희석용제로 DBE 30 g을 바스켓 밀에서 볼밀 작업을 하되, 입도 분석계를 통해 알루미나 입자의 입도 평균을 30 ㎛ 이하로 조절하여 마스터 배치를 제조하였다.
3. 경화제의 제조
KPN-116(페놀노볼락 수지, 강남화성㈜ 제조 및 판매, 연화점 110℃) 5 g, MNA(Methyl Nadic Anhydride, 히타치화성㈜ 제조, 화학식 2에 해당) 6 g, 및 2-페닐 이미다졸(2PI, 히타치화학) 0.2 g을 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 4 g에 완전히 용해시켜 경화제를 제조하였다.
4. 접착제의 제조
제조된 마스터 배치 전량과 경화제 전량을 균일하게 혼합하여 연속 롤 코팅용에 적합한 절연 접착제 조성물을 제조하였다.
5. 접착제 도장 금속판의 제조
다음과 같은 연속 롤-코팅 도장라인 조건에 따라 접착제 도장 금속판을 제조하였다.
- 금속판 소재: 알루미늄 5052, 두께 1.0 mm, 폭 1,000 mm
- 라인 진행 속도: 25 mpm
- 최고 금속 온도(PMT): 216℃
- 절연 접착제 건조 도막 두께: 총 80 ㎛(40 ㎛씩 2회 도장)
기타 작업 조건은 연속 롤-코팅 생산공정의 통상적인 조건을 따랐다.
6. MCCL의 제조
고온 고압 하 동박과의 합지 공정을 통해 MCCL를 제조하였다. 구체적으로, 1 온스 규격 전해 동박 및 제조된 절연 접착제가 도포된 알루미늄판을 진공 프레스에서 205℃의 온도로 1.5시간 동안 프레스를 실시한 후, 30분간 콜드 프레스를 실시함으로써, 메탈 PCB(Printed Circuit Board)용 MCCL(Metal Copper Clad Laminate)를 제조하였다.
[실시예 2]
KSR-276(2관능성 실란 변성 고형 에폭시 수지, 국도화학㈜ 제조 및 판매, 에폭시 당량 430 g/eq, 연화점 63℃) 10 g, YD-011(2관능성 비스페놀 A형 에폭시 수지, 국도화학㈜ 제조 및 판매, 에폭시 당량 450 g/eq, 연화점 65℃) 10 g, YDPN-638 20 g, 및 YP-50 60 g을 메틸에틸케톤 60 g 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 60 g에 완전히 용해시켜 주제부를 제조하였다. 이때 주제부의 평균 분자량은 41,000 g/eq이었다. 나머지 방법은 실시예 1과 동일한 조건으로 MCCL을 제조하여 평가하였다.
[실시예 3]
KSR-177 10 g, YSLV-50TE(티오 비스페놀형 결정성 에폭시 수지, 신일본제철화학㈜ 제조 및 판매, 에폭시 당량 175 g/eq, 녹는점 46℃) 40 g, 및 YP-70(비스페놀 A/F형 페녹시 수지, 신일본 제철화학 ㈜ 제조 및 판매, 중량 평균 분자량 55,000 g/mol) 60 g을 메틸에틸케톤 60 g 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 60 g에 완전히 용해시켜 주제부를 제조하였다. 이때 주제부의 평균 분자량은 31,500 g/eq이었다. 나머지 방법은 실시예 1과 동일한 조건으로 MCCL을 제조하여 평가하였다.
[실시예 4]
KSR-177 10 g, YSLV-50TE 30 g, YSLV-80XY(메틸기 치환 비스페놀 F형 결정성 에폭시 수지, 신일본제철화학㈜ 제조 및 판매, 에폭시 당량 190 g/eq, 녹는점 79℃) 10 g, 및 YP-70 60 g을 메틸에틸 케톤 60 g 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 60 g에 완전히 용해시켜 주제부를 제조하였다. 이때 주제부의 평균 분자량은 31,500 g/eq이었다. 나머지 방법은 실시예 1과 동일한 조건으로 MCCL을 제조하여 평가하였다.
[실시예 5]
1. 주제부의 제조
KSR-177 30 g, YD-128 20 g, YDPN-638 10 g, YP-50 10 g, 및 Nipol 1071(카르복실기가 치환된 부타디엔 고무, 니폰제온사 제조판매) 30 g을 메틸에틸케톤 80 g 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 40 g에 완전히 용해시켜 주제부를 제조하였다. 이때 고무 함량을 제외한 주제부의 평균 분자량은 11,500 g/eq이었다.
2. 마스터 배치의 제조
제조된 주제부 전량, AL-160SG-3 180 g, DisperBKY-110 2 g, Z-6040 2 g, Polyflow No. 90D-50 2 g, 및 희석용제로 DBE 30 g을 바스켓 밀에서 볼밀 작업을 하되, 입도 분석계로 측정시 입도 평균을 30 ㎛ 이하로 조절하여 마스터 배치를 제조하였다.
3. 경화제의 제조
DDS(4,4-Diaminodiphenylsulfone, 방향족 2가 아민 단량체, 화학식 3에 해당) 12 g을 메틸에틸케톤에 완전히 용해시켜 경화제를 제조하였다.
이하 공정은 실시예 1과 동일하다.
[비교예 1]
YD-128 80 g 및 YD-014(비스페놀 A형 고형 에폭시, 국도화학㈜ 제조 및 판매, 에폭시 당량 950 g/eq) 40 g을 메틸에틸케톤 120 g에 완전히 용해시켜 주제부를 제조하였다. 이때 주제부의 평균 분자량은 1,890 g/eq이었다. 이하의 공정은 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
[비교예 2]
주제부와 마스터배치의 제조는 실시예 1과 동일하게 실시하되, 경화제 성분으로 DICY(Cyanoguanidine) 10 g을 PGME에 완전히 용해시켜 경화제를 제조하였다. 이하 공정은 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
[시험예]
실시예 및 비교예의 MCCL 품질 시험결과는 다음과 같다.
표 2
시험 항목 실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 비교예 1 비교예 2
1. 내전압성 7.0 kV 6.9 kV 6.5 kV 7.0 kV 6.9 kV 1.2 kV 6.8 kV
2. 비등수내전압성 5.5 kV 5.7 kV 6.0 kV 5.8 kV 5.1 kV 0.2 kV 3.2 kV
3. 동박접착력 1.85kgf/cm 1.73kgf/cm 1.83kgf/cm 1.67kgf/cm 1.90kgf/cm 0.90kgf/cm 1.89kgf/cm
4. 비등수동박 접착력 1.82kgf/cm 1.72kgf/cm 1.80kgf/cm 1.66kgf/cm 1.67kgf/cm 0.52kgf/cm 1.75kgf/cm
5. 내솔더성 80분 이상 80분 이상 80분 이상 72분 55분 1분 미만 2분
6. 코팅성 양호 양호 양호 양호 양호 불량 양호
7. 절연층열전도도 1.9827W/mK 1.9626W/mK 2.3532W/mK 2.4351W/mK 1.8135W/mK 1.6102W/mK 1.9257W/mK
상기 내전압성 시험방법의 경우, 내전압성 측정장비를 이용하여 동박층과 알루미늄층간의 절연 접착층이 견디는 최대 AC 전압을 측정하였다.
상기 비등수 내전압성 시험방법의 경우, 준비된 시편을 비등수에 2시간 동안 침수하고 30분 동안 건조한 후, 내전압성 측정장비를 이용하여 동박층과 알루미늄층간의 절연 접착층이 견디는 최대 AC 전압을 측정하였다.
상기 동박 접착력 시험방법의 경우, 90도 Peel-off 시험장비를 이용하여 1 ㎝ 폭의 동박을 90도로 강제 박리시킬 때의 힘을 측정하였다.
상기 비등수 동박 접착력 시험방법의 경우, 준비된 시편을 비등수에 2시간 동안 침수하고 30분 동안 건조한 후, 90도 Peel-off 시험장비를 이용하여 1 ㎝ 폭의 동박을 90도로 강제 박리시킬 때의 힘을 측정하였다.
상기 내솔더성 시험방법의 경우, 준비된 시편을 288℃의 무연 솔더 용융액에 띄운 후 동박에 기포가 발생하는 시점까지의 시간을 측정하였다.
상기 코팅성의 경우, 금속판 위에 접착제를 도장하고 건조한 후 표면상태를 관찰한 결과로서, 표면이 균일하면 양호, 접착제가 응집되거나 균일하지 못하면 불량이라고 표기하였다.
상기 절연층 열전도도의 경우, 접착제층만 필름 형태로 경화시켜 시편을 제작한 후, Laser flash법을 이용하여 두께 방향으로 열전도도를 측정한 결과이다.
표 2의 결과로부터 확인할 수 있듯이, 실시예들의 경우 모든 물성이 우수하였다. 비교예 1의 경우 실란 변성 에폭시 수지 및 고당량 에폭시 수지를 사용하지 않음에 따라, 모든 물성이 실시예보다 현저하게 저하되었다. 비교예 2의 경우 지방족 아민계 경화제를 사용함에 따라, 비등수 내전압성이 저하되었고, 특히 내솔더성이 현저하게 저하되었다.
본 발명의 권리범위는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

Claims (22)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 규소 화합물과 에폭시 수지를 반응시킨 변성 에폭시 수지를 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2012011310-appb-I000007
    상기 식에서 R은 지방족 또는 방향족 알킬렌기이고, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 지방족 또는 방향족 알킬기이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 변성 에폭시 수지는 규소(Si) 0.3 내지 3 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 변성 에폭시 수지의 평균 에폭시 당량은 170 내지 1,000 g/eq인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 절연 접착제 조성물은 고당량 에폭시 수지, 무기 충진제, 경화제 및 유기 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 고당량 에폭시 수지는 당량 1,500 내지 7,000 g/eq의 고형 에폭시 수지, 및 분자량 20,000 내지 70,000 g/mol의 페녹시 수지 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 무기 충진제를 제외한 총 조성물의 무게평균분자량은 2,000 내지 60,000 g/mol인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 무기 충진제는 알루미늄 산화물인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 무기 충진제의 입자크기는 0.1 내지 3.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 무기 충진제는 접착제 조성물 중 총 고형분 중량 대비 40 내지 70 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  10. 제4항에 있어서,
    상기 경화제는 페놀 노볼락 수지, 산무수물, 방향족 아민, 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 레졸 유도체 중에서 선택되는 단독 또는 2종 이상을 혼용하는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 페놀 노볼락 수지의 연화점은 80 내지 130℃인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 산무수물은 하기 화학식 2로 표시되는 산무수물인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물:
    [화학식 2]
    Figure PCTKR2012011310-appb-I000008
    상기 식에서 R5, R6, R7, R8은 각각 독립적으로 H, 지방족 또는 방향족 알킬기이다.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 방향족 아민은 하기 화학식 3으로 표시되는 방향족 아민인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물:
    [화학식 3]
    Figure PCTKR2012011310-appb-I000009
    상기 식에서 R9, R10은 각각 독립적으로 방향족 알킬렌기이다.
  14. 제4항에 있어서,
    상기 유기 용제는 끓는점 70 내지 149℃의 용제 1종 이상 및 끓는점 150 내지 230℃의 용제 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 절연 접착제 조성물.
  15. 금속판; 및
    상기 금속판 상부에 형성되고, 하기 화학식 1로 표시되는 규소 화합물과 에폭시 수지를 반응시킨 변성 에폭시 수지를 함유하는 절연 접착제 조성물을 이용하여 형성된 절연 접착층을 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2012011310-appb-I000010
    상기 식에서 R은 지방족 또는 방향족 알킬렌기이고, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 지방족 또는 방향족 알킬기이다.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 금속판은 알루미늄, 마그네슘, 용융 알루미늄 도금강판, 용융 알루미늄-아연 합금 도금강판, 용융 아연 도금강판, 및 전기 아연 도금강판 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 절연 접착층의 최종 도막두께는 40 내지 120 ㎛인 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판.
  18. (a) 연속 롤-코팅 도장 라인에서 금속판을 연속적으로 공급하는 단계; 및
    (b) 상기 금속판 상부에 하기 화학식 1로 표시되는 규소 화합물과 에폭시 수지를 반응시킨 변성 에폭시 수지를 함유하는 절연 접착제 조성물을 코팅한 후 건조하여 절연 접착층을 형성하는 단계를 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2012011310-appb-I000011
    상기 식에서 R은 지방족 또는 방향족 알킬렌기이고, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 지방족 또는 방향족 알킬기이다.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 (b) 단계에서 절연 접착제 조성물을 코팅한 후 건조하는 공정을 2회 이상 반복 실시하는 것을 특징으로 하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 (a) 단계 이후에 브러쉬로 금속판 표면을 조정하는 단계를 추가로 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법.
  21. 제18항에 있어서,
    상기 (b) 단계 이후에 보호필름을 도포하는 단계를 추가로 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법.
  22. 제18항에 있어서,
    상기 (b) 단계 이전에 절연 접착제 조성물 내에 마그네틱 필터를 설치하여 산화철 성분을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 메탈 인쇄회로기판용 접착제 도장 금속판의 제조방법.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015081339A (ja) * 2013-10-24 2015-04-27 日東シンコー株式会社 絶縁シート用樹脂組成物および絶縁シート、ならびに半導体モジュール
US10403850B2 (en) * 2013-05-21 2019-09-03 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and method for encapsulating organic electronic device using same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016060898A (ja) * 2014-09-22 2016-04-25 京セラケミカル株式会社 ２液性注型用エポキシ樹脂組成物、及びコイル部品
KR102012789B1 (ko) * 2016-03-28 2019-08-21 주식회사 엘지화학 반도체 장치
JP6615150B2 (ja) * 2017-05-01 2019-12-04 古河電気工業株式会社 接着フィルム、半導体ウェハ加工用テープ、半導体パッケージおよびその製造方法
KR101840839B1 (ko) 2017-06-30 2018-03-21 국도화학 주식회사 변성 에폭시 수지 및 그 제조 방법, 변성 에폭시 수지 조성물 및 그 제조 방법, 적층판 및 그 제조 방법
KR101878377B1 (ko) 2017-07-21 2018-07-16 주식회사 씨알콤 Mccl용 적층판 제작 장치 및 방법
DE102017221072A1 (de) 2017-11-24 2019-05-29 Tesa Se Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder
GB2579582B (en) * 2018-12-04 2022-08-31 Hexcel Composites Ltd Adhesive composition
WO2020166137A1 (ja) * 2019-02-13 2020-08-20 横浜ゴム株式会社 導電性組成物
JP6705568B1 (ja) * 2019-02-13 2020-06-03 横浜ゴム株式会社 導電性組成物
GB2583350A (en) 2019-04-24 2020-10-28 Hexcel Composites Ltd Self-adhesive prepreg
DE102019207550A1 (de) 2019-05-23 2020-11-26 Tesa Se Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder
CN111002690B (zh) * 2019-12-31 2021-08-10 江门市华锐铝基板股份公司 一种铝基覆铜板的粘合方法
CN114634749A (zh) * 2022-04-20 2022-06-17 溧阳市佳禾电子材料有限公司 无公害环保型电磁线用环氧自粘漆的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980059108A (ko) * 1996-12-30 1998-10-07 김충세 일액형 가소성 에폭시수지 조성물
KR100584847B1 (ko) * 1996-05-06 2006-11-30 아메론 인터내셔날 코포레이션 실록산변성접착제/피착물시스템
KR20110040704A (ko) * 2009-10-14 2011-04-20 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 에폭시 수지 조성물, 프리프레그, 금속 부착 적층판, 프린트 배선판 및 반도체 장치
KR20110111236A (ko) * 2010-04-02 2011-10-10 롯데알미늄 주식회사 전극의 도전성 접착층 형성용 조성물, 이를 사용한 전극의 제조 방법 및 전극
KR101076977B1 (ko) * 2004-05-27 2011-10-26 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤 반도체 봉지용 수지 조성물 및 반도체장치

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59170157A (ja) * 1983-03-18 1984-09-26 Toray Silicone Co Ltd プライマ−組成物
JP2001510492A (ja) * 1996-05-06 2001-07-31 アメロン インターナショナル コーポレイション シロキサン変性接着剤／被着体系
TWI440647B (zh) * 2008-07-03 2014-06-11 Asahi Kasei Chemicals Corp 改質樹脂組成物、其製造方法及含該組成物之硬化性樹脂組成物
KR101146622B1 (ko) * 2009-08-31 2012-05-16 금호석유화학 주식회사 감광성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물
KR101251121B1 (ko) * 2009-09-16 2013-04-04 주식회사 엘지화학 유기 발광 표시 장치 봉지용 조성물, 접착 필름, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100584847B1 (ko) * 1996-05-06 2006-11-30 아메론 인터내셔날 코포레이션 실록산변성접착제/피착물시스템
KR19980059108A (ko) * 1996-12-30 1998-10-07 김충세 일액형 가소성 에폭시수지 조성물
KR101076977B1 (ko) * 2004-05-27 2011-10-26 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤 반도체 봉지용 수지 조성물 및 반도체장치
KR20110040704A (ko) * 2009-10-14 2011-04-20 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 에폭시 수지 조성물, 프리프레그, 금속 부착 적층판, 프린트 배선판 및 반도체 장치
KR20110111236A (ko) * 2010-04-02 2011-10-10 롯데알미늄 주식회사 전극의 도전성 접착층 형성용 조성물, 이를 사용한 전극의 제조 방법 및 전극

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2799509A4 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10403850B2 (en) * 2013-05-21 2019-09-03 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and method for encapsulating organic electronic device using same
US11223028B2 (en) * 2013-05-21 2022-01-11 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and method for encapsulating organic electronic device using same
JP2015081339A (ja) * 2013-10-24 2015-04-27 日東シンコー株式会社 絶縁シート用樹脂組成物および絶縁シート、ならびに半導体モジュール

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