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WO2003067288A1 - Spiegelfacette für einen facettenspiegel - Google Patents

Spiegelfacette für einen facettenspiegel Download PDF

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Publication number
WO2003067288A1
WO2003067288A1 PCT/EP2003/000716 EP0300716W WO03067288A1 WO 2003067288 A1 WO2003067288 A1 WO 2003067288A1 EP 0300716 W EP0300716 W EP 0300716W WO 03067288 A1 WO03067288 A1 WO 03067288A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
mirror
mirror surface
carrier element
facet
adjusting means
Prior art date
Application number
PCT/EP2003/000716
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Frank Melzer
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Smt Ag filed Critical Carl Zeiss Smt Ag
Priority to AU2003205668A priority Critical patent/AU2003205668A1/en
Publication of WO2003067288A1 publication Critical patent/WO2003067288A1/de

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0647—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors
    • G02B17/0657—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors

Definitions

  • the invention relates to a mirror facet for a facet mirror comprising at least one of these mirror facets for use in illumination devices for projection exposure systems in microlithography, in particular in microlithography using radiation in the area of extreme ultraviolet (EUV lithography).
  • EUV lithography extreme ultraviolet
  • a device for the precise adjustment of optical mirrors is known from SU 653593 A, in which a platform which carries the mirror is gimbally suspended via solid-body joints.
  • the solid-state joints also preload the two planes against actuating means.
  • These adjusting means are designed as adjusting screws which each engage on inclined planes.
  • One of these inclined planes is arranged on one of the two planes, which are designed here as a frame and as the platform.
  • the construction allows a very fine adjustment of the optical element, here a mirror for laser technology, due to the transmission ratio between the set screw and the plane to be moved through the inclined plane.
  • the structure requires a comparatively large installation space and has the disadvantage that inaccuracies can occur due to the positioning of the adjusting means on the inclined planes when adjusting the optical element. These inaccuracies are due to the friction between the actuating means and the inclined plane, in particular the fact that a slip-stick effect will occur here due to the change from static friction to sliding friction during the adjustment process.
  • a tilting mirror arrangement is known from EP 0 726 479 A2, which is also designed for laser technology. In this tilting mirror arrangement, the construction is carried out in such a way that a base body in which the tilting mirror is mounted has all the elements and actuators required for tilting, the base body not projecting, or only insignificantly, beyond the projection of the mirror surface.
  • the structure of the mirror should be designed for mirror surfaces with a characteristic length of less than 40 mm.
  • the structure is comparatively complicated, so that such a tilting mirror arrangement is complex and expensive and is therefore not suitable as a mirror facet for use in a facet mirror with a large number of tiltable mirror facets.
  • the structure is so complex with regard to the components and actuators used that a further reduction in the characteristic length is not possible here or is possible only with extremely great effort.
  • this object is achieved by a mirror mount which has the following properties:
  • a mirror surface of the mirror facet is arranged on a carrier element.
  • the carrier element has a gimbal for the part of the carrier element on which the mirror surface (12) is arranged.
  • the adjusting position of the mirror surface in a plane can be adjusted at least approximately perpendicular to the optical axis of the mirror surface in at least one spatial direction.
  • the actuating means act on at least part of the carrier element via gear elements.
  • the adjusting means are accessible from the side of the mirror facet facing away from the mirror surface.
  • the carrier element, the adjusting means and the gear elements are all located below an at least approximately perpendicular projection surface of the carrier element in the region of the mirror surface.
  • Such a construction has the advantage that it can be made very small and space-saving, since all elements are located below the mirror surface. Due to the accessibility of the adjusting means from the side facing away from the mirror surface, it can also be achieved that the mirror facets can be packed very densely when assembled to form a facet mirror without the adjustability suffering as a result.
  • Such a facet mirror can be used for all tasks in the area of the projection exposure system. However, its preferred application can certainly be seen in the area of the lighting device.
  • the facet mirror according to the invention comprises at least one mirror facet. However, in the usual structure, it will have a large number of such mirror facets. In the case of a facet mirror, which is made up of a few to a few hundred of the mirror facets, the importance of the advantages mentioned above becomes particularly clear.
  • the adjustability in the plane perpendicular to the optical axis can be done either in one spatial direction or, in a particularly preferred manner, in two spatial directions.
  • these will generally be perpendicular to one another, that is to say represent two orthogonal spatial directions.
  • other angles between the two spatial directions and / or a different number of spatial directions in which an adjustment can be made are also conceivable.
  • Figure 1 is a schematic representation of a possible structure of a projection exposure system for semiconductor lithography
  • FIG. 2 shows a structure similar to that in FIG. 1 for use with radiation in the extreme ultraviolet range
  • FIG. 3 shows a facet mirror in an isometric view
  • Figure 4 is an isometric view of a single mirror facet
  • FIG. 5 shows a side view of the mirror facet according to FIG. 4;
  • Figure 6 is a schematic representation of the principle of operation of a possible lever gear
  • Figure 7 is an isometric view of an alternative embodiment of a single mirror facet.
  • FIG. 8 shows a side view of the mirror facet according to FIG. 7;
  • FIG. 1 shows a projection exposure system 1 for microlithography. This serves for the exposure of structures on a substrate coated with photosensitive materials, which generally consists predominantly of silicon and is referred to as a wafer 2, for the production of semiconductor components, such as e.g. Computer chips.
  • photosensitive materials which generally consists predominantly of silicon and is referred to as a wafer 2
  • semiconductor components such as e.g. Computer chips.
  • the projection exposure system 1 essentially consists of an illumination device 3, a device 4 for receiving and exact positioning of a mask provided with a grid-like structure, a so-called reticle 5, by means of which the later structures on the wafer 2 are determined, a device 6 for holding, moving and exact positioning of this wafer 2 and an imaging device 7 ,
  • the basic functional principle provides that the structures introduced into the reticle 5 are exposed on the wafer 2, in particular by reducing the structures to a third or less of the original size.
  • the requirements with regard to the resolutions to be imposed on the projection exposure system 1, in particular on the imaging device 7, are in the range of a few nanometers.
  • the wafer 2 After exposure has taken place, the wafer 2 is moved on, so that a large number of individual fields, each with the structure specified by the reticle 5, are exposed on the same wafer 2.
  • a number of chemical treatment steps generally an etching removal of material. If necessary, several of these exposure and treatment steps are carried out in succession until a large number of computer chips have been produced on the wafer 2. Due to the gradual feed movement of the wafer 2 in the projection exposure system 1, this is often also referred to as a stepper.
  • the illumination device 3 provides a projection beam 8, for example light or a similar electromagnetic radiation, required for imaging the reticle 5 on the wafer 2.
  • a laser or the like can be used as the source for this radiation.
  • the radiation is so in the lighting device 3 via optical elements shaped so that the projection beam 8 has the desired properties with regard to diameter, polarization, shape of the wavefront and the like when it hits the reticle 5.
  • the imaging device 7 which could also be called an objective, consists of a large number of individual refractive and / or diffractive optical elements, such as e.g. Lenses, mirrors, prisms, end plates and the like.
  • Figure 2 shows a basic representation of a structure analogous to Figure 1, but here for use with a projection beam 8, the wavelength of which is in the range of extreme ultraviolet (EUV). At these wavelengths, generally approx. 13 nm, the use of diffractive optical elements is no longer possible, so that all elements must be designed as reflecting elements. This is represented here by the numerous mirrors 9.
  • the projection exposure system 1 shown here which can be used for EUV lithography, is constructed in a manner comparable to the projection exposure system 1 already described in FIG.
  • the same device elements have the same reference numerals, so that more detailed explanations should be omitted here.
  • a facet mirror 10 is arranged, which has a decisive importance for the quality and the homogeneity of the projection beam 8.
  • the following explanations relate to the construction of such a facet mirror 10, as is generally the case can be used in microlithography, but in particular in the illumination system 3 for EUV lithography.
  • FIG. 3 shows an example of a possible construction of the facet mirror 10 with individual mirror facets 11.
  • Each of the mirror facets 11 has a mirror surface 12 which is suitable for reflecting radiation.
  • a mirror surface 12 which is suitable for reflecting radiation.
  • the mirror surface 12 can be applied directly to the mirror facet 11 or also to an intermediate element 29 (not shown here, recognizable in FIGS. 7 and 8), which is then connected to the mirror facet.
  • the use of the intermediate element is particularly important when used with very short-wave radiation, e.g.
  • the radiation in the range of the extreme ultraviolet (EUV) very cheap, since here very high demands have to be made on the surface quality of the mirror surface 12 and thus also on the surface below this mirror surface 12.
  • EUV extreme ultraviolet
  • the intermediate element there is no need to manufacture the entire mirror facet 11 from a material which allows the surface to be machined as well as that required for the reflection of EUV radiation.
  • intermediate elements made of crystalline substrates would be conceivable, which can be processed very well in terms of their surface quality to the corresponding requirements.
  • Such substrates could consist of silicon, for example.
  • mirror facets 11, which are formed in one piece it would be conceivable, for example, to manufacture them from high-alloy steels, the mirror surface then being able to be applied over an intermediate layer made of nickel, which ensures the good machinability of the mirror surface.
  • the individual mirror facets 11 are arranged on a base plate 13.
  • the exact structure of the mirror facets 11 is not shown in detail in FIG. 3. However, this structure should be the focus of the explanations and explanations below.
  • FIG. 4 shows a possible construction of a carrier element 14 of the mirror facet 11 with the mirror surface 12 and a cardanic suspension.
  • the gimbal is formed from two orthogonally effective solid joints 15, 16 so that a part 17 of the support element 14, on which the mirror surface 12 is arranged, via the gimbal or the solid joints 15, 16 in two orthogonal spatial directions can be tilted.
  • the mirror facet 11 has two adjusting means 19, 20.
  • These adjusting means 19, 20 are each connected to part 17 of the carrier element 14 via gear elements 21, 22.
  • these gear elements 21, 22 are designed as inclined planes.
  • the adjusting means 19, 20, which are designed here in particular as adjusting screws, which run in the carrier element 14 parallel to the optical axis 18 in the neutral position of the mirror surface 12, only touch the inclined planes 21, 22 to minimize the friction, if possible, only selectively ,
  • the actuating means 19, 20 instruct for this a spherical design at its end facing the mirror surface 12.
  • a spring means 23 can be seen in FIG. 4, which presses the two inclined planes 21, 22, which are connected to the part 17 of the carrier element 14, against the actuating means 19, 20 under prestress.
  • the spring means 23 is not absolutely necessary. In principle, it would also be conceivable to manufacture part 17 of carrier element 14 under a certain pretension, so that, due to this pretension caused by production, the inclined planes 21, 22 are each pressed against actuating means 22, 23.
  • lever gear 24 As gear elements.
  • the basic mode of operation of the lever mechanism 24 is described by FIG. 6, a special feature being already integrated here.
  • the lever mechanism 24 is to be actuated via two actuating means S f and S g , which are indicated here in principle. In the event that one adjusting means S f is actuated, the other adjusting means S g serves as a support and fulcrum; and vice versa.
  • the adjusting means S g serves for large adjustment paths, since this acts directly on the part 17 via the lever arrangement 24.
  • the actuating means S g thus serves a rough setting. With the actuating means S g held firm, the actuating means S f and the correspondingly effective lever length 1 2 - l'i with the transmission ratio given by this lever length can now be used. be acted on the part 17.
  • the adjusting means S f is used for fine adjustment in the embodiment shown here.
  • FIG. 7 has two of the lever gears 24, both of which operate according to the functional principle that was shown in FIG. 6. It can again be seen in the isometric view according to FIG. 7 that two of the gear devices or lifting gear 24 are arranged orthogonally to one another. However, both have the same mode of operation, so that in order to explain the same reference should be made in particular to FIG. 8, in which the mirror facet 11 of FIG. 7 is shown in a side view.
  • FIGS. 7 and 8 have elements which are comparable to those which have already been explained in FIGS. 4 and 5. Comparable functional elements are provided with the same reference symbols.
  • a set screw 25 is now to take over the coarse setting S g in each of the two spatial directions perpendicular to one another, while a further set screw 26 in each case permits the fine setting S f .
  • the cardanic suspension of the part 17 of the carrier element 14 relative to the rest of the carrier element 14 is carried out in a similar manner as has already been shown in FIGS. 4 and 5.
  • a solid-state joint 15 or 16 that is continuous over the largest part of the diameter, a structure has been chosen in which a connection as a solid-body joint is placed exactly in the center under the mirror surface 12. This part of the solid-state joint cannot be seen in the figures, it is covered in FIG. 8 by the solid-state joint designated here with "16".
  • the tilting of the mirror surface 12 in FIG. 8 will be explained below.
  • the part 17, on which the mirror surface 12 is arranged is tilted or rotated about the solid body joint 16 and the part of the solid body joint which is aligned with it, which is not shown.
  • the resetting of the part 17 or the pressure on the two adjusting means 25 and 26 is in turn provided by a spring means 23 ', which is integrated into the lever mechanism 24 via solid-state joints or as a solid-state spring.
  • the adjusting screw 25 is actuated. This movement of the set screw 25 is transmitted directly to the part 17 via the connection between the set screw 25 and the part 17 via the solid body joint 15, whereby the part 17 rotates about the solid body joint 16.
  • the set screw 26 acts via a lever element 27, which is supported in the support point 28 on the actuating means 25, and the previously described path via the solid-state joint 15 in such a way on the part 17 of the carrier element 14 that the mirror surface 12 tilts comes. Due to the length of the lever element 27 and the pitch of the adjusting screw 26, such a structure can meet the requirements be designed accordingly, so that a very large adjustment range of +/- 5 ° with a very good angular resolution of less than 1 "can be realized using the combination of fine adjustment and coarse adjustment. These data come from the construction shown here, which has a characteristic diameter of 10 mm. For other larger or smaller structures, these values can vary accordingly.
  • the effort with regard to the two adjusting means is not absolutely necessary. It would also be conceivable that only the fine adjustment would be used.
  • the contact point 28 on the adjusting means 25 can then be replaced by a further joint, in particular a solid-state joint. The high-precision fine adjustment would then still be available, albeit with a smaller possible adjustment path.
  • the mirror surface 12 is arranged on an intermediate element 29, which is placed on the carrier element 14 and connected to it.
  • the classic micromechanical joining techniques such as gluing, wringing or the like, can be mentioned here as joining techniques, however, fine mechanical joining techniques such as screwing, clamping or the like are also conceivable.
  • adjusting means are not arranged axially, as shown here in each case, but in which the central axes of the adjusting means 19, 20, 25, 26 are at an angle different from 180 °, that is to say obliquely, to the optical one Stand axis 18.
  • the oblique arrangement of the adjusting means 19, 20, 25, 26 can be useful both for design reasons and for reasons of the adjustable transmission ratios or lever lengths. Because accessibility from the side facing away from the mirror surface 12 should continue to be ensured, the angles with respect to the optical axis are in practice restricted to 1 ° to approx. 35 °.

Landscapes

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

Eine Spiegelfacette (11) dient zum Aufbau eines wenigstens einen dieser Spiegelfacetten (11) umfassenden Facettenspiegels (10). Der Facettenspiegel (10) ist für den Einsatz in Projektionsbelilchtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, vorgesehen. Die Spiegelfacette (11) weist dabei folgende Eigenschaften auf: eine Spiegeloberfläche (12) derSpiegelfacette (11) ist auf einem Trägerelement (14) angeordnet; das Trägerelement (14) weist eine kardanische Aufhängung für den Teil (17) des Trägerelements (14) auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist; über Stellmittel (19, 20, 25, 26) ist die Winkellage der Spiegeloberfläche (12) in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) Stellmittel (19, 20, 25, 26) wirken über Getriebeelemente (21, 22, 24) auf wenigstens eine Teil (A) des Trägerelements (14); die Stellmittel (19, 20, 25, 26) sind von der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite der Spiegelfacette (11) aus zugänglich; und das Trägerelement (14), die Stellmittel (19, 20, 25, 26) und die Getriebeelemente (21, 22, 24) liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) stehenden Projektionsfläche des Trägerelements (14) im Bereich der Spiegeloberfläche (12).

Description

Spiegelfacette für einen Facettenspiegel
Die Erfindung betrifft eine Spiegelfacette für einen wenigstens eine dieser Spiegelfacetten umfassenden Facettenspiegel zum Einsatz in Beleuchtungseinrichtungen für Projektionsbe- lichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der Mikrolithographie unter Verwendung von Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV-Lithographie) .
Aus der SU 653593 A ist eine Vorrichtung zum präzisen Justieren von optischen Spiegeln bekannt, bei welchem eine Plattform, welche den Spiegel trägt, über Festkörpergelenke karda- nisch aufgehängt ist. Die Festkörpergelenke bewirken außer der weichen kardanischen Aufhängung in zwei orthogonalen Ebenen auch eine Vorspannung der beiden Ebenen gegen Stellmittel. Diese Stellmittel sind als Stellschrauben ausgebildet, welche jeweils auf schiefen Ebenen angreifen. Je eine dieser schiefen Ebenen ist dabei auf jeweils einer der beiden Ebe- nen, welche hier als ein Rahmen und als die Plattform ausgebildet sind, angeordnet. Der Aufbau erlaubt es aufgrund des Übersetzungsverhältnisses zwischen der Stellschraube und der zu bewegenden Ebene durch die schiefe Ebene eine sehr feine Justierung des optischen Elements, hier eines Spiegels für die Lasertechnologie, vorzunehmen.
Der Aufbau benötigt jedoch einen vergleichsweise großen Bauraum und weist den Nachteil auf, daß durch die Anlage der Stellmittel auf den schiefen Ebenen bei der Justage des opti- sehen Elements durch die Stellmittel Ungenauigkeiten auftreten können. Diese Ungenauigkeiten liegen in der Reibung zwischen dem Stellmittel und der schiefen Ebene begründet, insbesondere in der Tatsache, daß hier durch den Wechsel von Haftreibung zu Gleitreibung während des Justagevorgangs ein Slip-Stick-Effekt auftreten wird. Des weiteren ist aus der EP 0 726 479 A2 eine Kippspiegelanordnung bekannt, welche ebenfalls für die Lasertechnologie konzipiert ist. Bei dieser Kippspiegelanordnung ist die Konstruktion so ausgeführt, daß ein Basiskörper, in welchem der Kippspiegel gelagert ist, sämtliche für das Kippen benötigte Elemente und Aktuatoren aufweist, wobei der Basiskörper nicht oder nur unwesentlich über die Projektion der Spiegelfläche hinausragt. Der Aufbau des Spiegels soll dabei für Spiegelflächen mit einer charakteristischen Länge von weniger als 40 mm ausgebildet sein.
Der Aufbau ist vergleichsweise kompliziert, so daß eine derartige Kippspiegelanordnung aufwendig und teuer ist und daher nicht als Spiegelfacette für den Einsatz in einem Facetten- spiegel mit einer Vielzahl von kippbaren Spiegelfacetten geeignet ist. Außerdem ist der Aufbau derart aufwendig hinsichtlich der eingesetzten Bauteile und Aktuatoren, daß eine weitere Verkleinerung der charakteristischen Länge hier nicht oder nur unter extrem hohem Aufwand möglich ist.
Insbesondere beim Einsatz von derartigen Kippspiegeln oder justierbaren Spiegeln als Spiegelfacetten für mehrere dieser Spiegelfacetten aufweisende Facettenspiegel, wie er beispielsweise durch die nicht vorveröffentlichte DE 100 52 587.9 beschrieben ist, im Bereich der Mikrolithographie, und hier insbesondere im Bereich der EUV-Lithographie, stellen sich jedoch hohe Anforderungen an die einzelnen Spiegelfacetten, an die zu erzielende Auflösung, an die zu erzielende 0- berflächenqualität der Spiegeloberfläche und an die geometri- sehen Abmessungen der Spiegel aufgrund einer sehr hohen geforderten Packungsdichte.
Mit den oben beschriebenen Spiegeln, welche aus dem Stand der Technik bekannt sind, lassen sich derartige Anforderungen nicht realisieren. Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Spiegelfaeette für einen wenigstens eine dieser Spiegelfacetten umfassenden Facettenspiegel zum Einsatz Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie, und hier insbesondere für die EUV- Lithographie, zu schaffen, welche einen sehr einfachen Aufbau bei minimalen, insbesondere in radialer Richtung, beanspruchten Bauraum aufweist, und welcher darüber hinaus einfach und kostengünstig in der Herstellung ist.
Erfindungsgemäße wird diese Aufgabe durch eine Spiegelfaeette gelöst, welche die nachfolgenden Eigenschaften aufweist:
- Eine Spiegeloberfläche der Spiegelfacette ist auf einem Trägerelement angeordnet.
- Das Trägerelement weist eine kardanische Aufhängung für den Teil des Trägerelements auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist.
- Über Stellmittel ist die Winkellage der Spiegeloberfläche in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse der Spiegeloberfläche in wenigstens einer Raumrichtung einstellbar.
— Die Stellmittel wirken über Getriebeelemente auf wenigstens einen Teil des Trägerelements.
- Die Stellmittel sind von der der Spiegeloberfläche abgewandten Seite der Spiegelfacette aus zugänglich. Das Trä- gerelement, die Stellmittel und die Getriebeelemente liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse der Spiegeloberfläche stehenden Projektionsfläche des Trägerelements im Bereich der Spiegeloberfläche. Ein derartiger Aufbau bietet den Vorteil, daß er sehr klein und platzsparend ausgeführt werden kann, da sich sämtliche Elemente unterhalb der Spiegelfläche befinden. Durch die Zugänglichkeit der Stellmittel von der der Spiegeloberfläche abgewandten Seite kann außerdem erreicht werden, daß die Spiegelfacetten beim Zusammensetzen zu einem Facettenspiegel sehr dicht gepackt werden können, ohne daß die Justierbarkeit darunter leidet.
Eine derartiger Facettenspiegel kann dabei für sämtliche Aufgaben im Bereich der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt werde. Sein bevorzugter Einsatzzweck ist aber sicherlich im Bereich der Beleuchtungseinrichtung zu sehen. Der Facettenspiegel gemäß der Erfindung umfaßt dabei wenigstens eine Spiegelfacette. Im üblicherweise vorliegenden Aufbau wird er allerdings en Vielzahl derartiger Spiegelfacetten aufweisen. Bei einem Facettenspiegel, welcher aus einigen bis einigen hundert der Spiegelfacetten aufgebaut ist, wird dann jedoch die Bedeutung der oben genannten Vorteile besonders deutlich.
Die Einstellbarkeit in der Ebene senkrecht zur optischen Achse kann dabei entweder in einer Raumrichtung oder in besonders bevorzugter Weise in zwei Raumrichtungen erfolgen. Bei zwei Raumrichtungen werden diese im allgemeinen senkrecht aufeinander stehen, also zwei orthogonale Raumrichtungen darstellen. Bei entsprechenden optischen Anforderungen sind jedoch auch andere Winkel zwischen den beiden Raumrichtungen und/Oder eine andere Anzahl an Raumrichtungen in denen eine Einstellung erfolgen kann, denkbar.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen und anhand der Ausführungsbeispiele, welche nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher dargestellt sind.
Es zeigt: Figur 1 eine prinzipmäßige Darstellung eines möglichen Aufbaus einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie;
Figur 2 ein Aufbau analog dem in Figur 1 zur Verwendung mit Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts;
Figur 3 einen Facettenspiegel in einer isometrischen An- sieht;
Figur 4 eine isometrische Ansicht einer einzelnen Spiegelfaeette;
Figur 5 eine Seitenansicht der Spiegelfacette gemäß Figur 4;
Figur 6 eine Prinzipdarstellung des Funktionsprinzip eines möglichen Hebelgetriebes ;
Figur 7 eine isometrische Ansicht einer alternativen Ausführungsform einer einzelnen Spiegelfacette; und
Figur 8 eine Seitenansicht der Spiegelfacette gemäß Figur 7;
In Figur 1 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie dargestellt. Diese dient zur Belichtung von Strukturen auf mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als ein Wafer 2 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z.B. Computerchips.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 besteht dabei im wesentli- ehen aus einer Beleuchtungseinrichtung 3, einer Einrichtung 4 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer gitterartigen Struktur versehenen Maske, ein sogenanntes Reticle 5, durch welche die späteren Strukturen auf den Wafer 2 bestimmt werden, einer Einrichtung 6 zur Halterung, Fortbewe- gung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 2 und einer Abbildungseinrichtung 7.
Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, daß die in das Reticle 5 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 2 be- lichtet werden, insbesondere mit einer Verkleinerung der Strukturen auf ein Drittel oder weniger der ursprünglichen Größe. Die an die Projektionsbelichtungsanlage 1, insbesondere an die Abbildungseinrichtung 7, zu stellenden Anforderungen hinsichtlich der Auflösungen liegen dabei im Bereich von wenigen Nanometern.
Nach einer erfolgten Belichtung wird der Wafer 2 weiterbewegt, so daß auf demselben Wafer 2 eine Vielzahl von einzelnen Feldern, jeweils mit der durch das Reticle 5 vorgegebenen Struktur, belichtet wird. Wenn die gesamte Fläche des Wafers 2 belichtet ist, wird dieser aus der Projektionsbelichtungsanlage 1 entnommen und einer Mehrzahl chemischer Behandlungsschritte, im allgemeinen einem ätzenden Abtragen von Material, unterzogen. Gegebenenfalls werden mehrere dieser Belich- tungs- und Behandlungsschritte nacheinander durchlaufen, bis auf dem Wafer 2 eine Vielzahl von Computerchips entstanden ist. Aufgrund der schrittweisen Vorschubbewegung des Wafers 2 in der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird diese häufig auch als Stepper bezeichnet.
Die Beleuchtungseinrichtung 3 stellt eine für die Abbildung des Reticles 5 auf dem Wafer 2 benötigten Projektionsstrahl 8, beispielsweise Licht oder eine ähnliche elektromagnetische Strahlung, bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in der Beleuchtungseinrichtung 3 über optische Elemente so geformt, daß der Projektionsstrahl 8 beim Auftreffen auf das Reticle 5 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist .
Über den Projektionsstrahl 8 wird ein Bild des Reticles 5 erzeugt und von der Abbildungseinrichtung 7 entsprechend verkleinert auf den Wafer 2 übertragen, wie bereits vorstehend erläutert wurde. Die Abbildungseinrichtung 7, welche auch als Objektiv bezeichnet werden könnte, besteht dabei aus einer Vielzahl von einzelnen refraktiven und/oder diffraktiven optischen Elementen, wie z.B. Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlußplatten und dergleichen.
Figur 2 zeigt eine prinzipmäßige Darstellung eines Aufbaus analog zu Figur 1, hier jedoch für die Verwendung mit einem Projektionsstrahϊ 8, dessen Wellenlänge im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV) liegt. Bei diesen Wellenlängen, im allgemeinen ca. 13 nm, ist die Verwendung von diffraktiven optischen Elementen nicht mehr möglich, so daß sämtliche Elemente als reflektierende Elemente ausgebildet sein müssen. Dies wird hier durch die zahlreichen Spiegel 9 dargestellt. Mit Ausnahme des Verlaufs des Projektionsstrahls 8 ist die hier dargestellte Projektionsbelichtungsanlage 1, wie sie für die EUV-Litho-graphie Verwendung finden kann, vergleichbar zu der in Figur 1 bereits beschriebenen Projektionsbelichtungsanlage 1 aufgebaut. Die gleichen Vorrichtungselemente weisen dabei die gleichen Bezugszeichen auf, so daß auf nähere Erläuterungen an dieser Stelle verzichtet werden soll.
Im Bereich der hier durch die strichpunktierte Linie angedeuteten Beleuchtungseinrichtung 3 ist dabei ein Facettenspiegel 10 angeordnet, welcher eine entscheidende Bedeutung für die Qualität und die Homogenität des Projektionsstrahls 8 hat. Die nachfolgenden Erläuterungen beziehen sich auf den Aufbau eines derartigen Facettenspiegels 10, wie er ganz allgemein in der Mikrolithographie, insbesondere jedoch in dem Beleuchtungssystem 3 für die EUV-Lithographie eingesetzt werden kann.
Figur 3 zeigt beispielhaft einen möglichen Aufbau des Facettenspiegels 10 mit einzelnen Spiegelfacetten 11. Jede der Spiegelfacetten 11 weist eine Spiegeloberfläche 12 auf, welche zur Reflexion von Strahlung, geeignet ist. Je nach Typ der eingesetzten Strahlung, wie z.B. Licht, UV-Strahlung, Röntgenstrahlung oder dergleichen kann der Aufbau der Spiegeloberfläche 12 variieren. Denkbar sind hier verschiedene Aufbauten aus zum Teil vielen auf eine Substrat aufgebrachten, z.B. aufgedampften, Multilayer-Schichten. Die Spiegeloberfläche 12 kann dabei direkt auf die Spiegelfacette 11 o- der auch auf ein Zwischenelement 29 (hier nicht dargestellt, in Figur 7 und 8 erkennbar) , welches dann mit der Spiegelfaeette verbunden wird, aufgebracht werden. Die Verwendung des Zwischenelements ist dabei insbesondere beim Einsatz mit sehr kurzwelliger Strahlung, z.B. der Strahlung im Bereich des ex- tremen Ultravioletts (EUV) , sehr günstig, da hier sehr hohe Anforderungen an die Oberflächenqualität der Spiegeloberfläche 12 und damit auch der Oberfläche unter dieser Spiegeloberfläche 12 gestellt werden müssen. Bei der Verwendung des Zwischenelements entfällt dann aber der Aufwand, die gesamte Spiegelfacette 11 aus einem Material zu fertigen, welches eine derart gute Bearbeitung seiner Oberfläche erlaubt, wie die, die für die Reflexion von EUV-Strahlung erforderlich ist.
Als Materialien bei der Verwendung der Spiegelfacetten 11 im Bereich der EUV-Lithographie wären beispielsweise Zwischenelemente aus kristallinen Substraten denkbar, welche hinsichtlich ihrer Oberflächenqualität sehr gut auf die entsprechenden Erfordernisse bearbeitbar sind. Derartige Substrate könnten beispielsweise aus Silizium bestehen. Bei der Verwendung von Spiegelfacetten 11, welche einstückig ausgebildet sind, wäre es beispielsweise denkbar, diese aus hochlegierten Stählen zu fertigen, wobei die Spiegeloberfläche dann über einer Zwischenschicht aus Nickel, welche die gute Bearbeit- barkeit der Spie- geloberfäche sicherstellt, aufgebracht werden kann.
Zur Bildung des Facettenspiegels 10 sind die einzelnen Spiegelfacetten 11 auf einer Grundplatte 13 angeordnet. Der exakte Aufbau der Spiegelfacetten 11 ist in Figur 3 nicht detail- liert dargestellt. Dieser Aufbau soll jedoch der Schwerpunkt der nachfolgenden Erläuterungen und Ausführungen sein.
In Figur 4 ist ein möglicher Aufbau eines Trägerelements 14 der Spiegelfacette 11 mit der Spiegeloberfläche 12 und einer kardanischen Aufhängung näher dargestellt. Die kardanische Aufhängung ist dabei aus zwei orthogonal zueinander wirksamen Festkörpergelenken 15, 16 so ausgebildet, daß ein Teil 17 des Trägerelements 14, auf welchem die Spiegeloberfläche 12 angeordnet ist, über die kardanische Aufhängung bzw. die Festkör- pergelenke 15, 16 in zwei orthogonale Raumrichtungen verkippt werden kann.
Um das Verkippen der Spiegeloberfläche 12 in einer Ebene senkrecht zu ihrer optischen Achse 18 bzw. der korrespondie- renden Achse 18 in der Nullstellung der Spiegeloberfläche 12 zu erreichen, weist die Spiegelfacette 11 zwei Stellmittel 19, 20 auf. Diese Stellmittel 19, 20 sind jeweils über Getriebeelemente 21, 22 mit dem Teil 17 des Trägerelements 14 verbunden. In dem in Figur 4 dargestellten Ausführungsbei- spiel sind diese Getriebe-elemente 21, 22 als schiefe Ebenen ausgebildet. Die Stellmittel 19, 20, welche hier insbesondere als Stellschrauben ausgebildet sind, welche in dem Trägerelement 14 parallel zur optischen Achse 18 in der Neutralstellung der Spiegeloberfläche 12 verlaufen, berühren die schie- fen Ebenen 21, 22 dabei zur Minimierung der Reibung nach Möglichkeit nur punktuell. Die Stellmittel 19, 20 weisen dazu an ihrem der Spiegeloberfläche 12 zugewandten Ende eine ballige Ausführung auf.
Des weiteren ist in Figur 4 ein Federmittel 23 zu erkennen, welches die beiden schiefen Ebenen 21, 22, welche mit dem Teil 17 des Trägerelements 14 verbunden sind, unter Vorspannung gegen die Stellmittel 19, 20 drückt. Das Federmittel 23 ist dabei nicht unbedingt notwendig. Prinzipiell wäre es auch denkbar, das Teil 17 des Trägerelements 14 unter einer gewis- sen Vorspannung zu fertigen, so daß aufgrund dieser fertigungsbedingten Vorspannung die schiefen Ebenen 21, 22 jeweils gegen die Stellmittel 22, 23 gedrückt werden.
Der eben beschriebene Aufbau der Spiegelfacette 11 ist dabei anhand der Seitenansicht gemäß Figur 5 nochmals detailliert zu erkennen.
Wird nun das in Figur 5 mit "20" bezeichnete Stellmittel bewegt, beispielsweise in Richtung der Spiegeloberfläche 12 ge- schraubt, so wird dessen balliges Ende auf der schiefen Ebene 22 verschoben, wodurch es zu einem Verkippen des Teils 17 um das Festkörpergelenk 15 kommt. Als Übersetzung zwischen den einzelnen Bewegungen fungiert dabei der Winkel der schiefen Ebene 22. .Vergleichbares gilt für das Zusammenspiel des Stellmittels 19 mit der schiefen Ebene 21, welche das Teil 17 des Trägerelements 14 entsprechend um das Festkörpergelenk 16 verkippt. Da beide schiefen Ebenen 21, 22 direkt an dem Teil 17 des Trägerelements 14 angebracht sind, können die Bewegungen in die beiden orthogonalen Raumrichtungen nicht vollkom- men unabhängig voneinander eingestellt werden.
Beim bevorzugten Einsatzzweck im Bereich der Beleuchtungseinrichtung 3 für die EUV-Lithographie spielt dies jedoch praktisch keine Rolle, da die Facettenspiegel 10 für einen derar- tigen Einsatzzweck im allgemeinen unter Beleuchtung einjustiert werden, so daß auf den hinsichtlich des Projektions- Strahls 8 zu erzielenden Effekt sofort reagiert werden kann. Die Einstellbarkeit der jeweiligen Spiegelfacette 11 wird dadurch nicht nennenswert verschlechtert.
Grundsätzlich ist jedoch auch ein anderes Konzept denkbar, welches durch die Prinzipdarstellung gemäß Figur 6 gekennzeichnet ist. Der Aufbau sieht anstatt der schiefen Ebenen 21, 22 als Getriebeelemente ein Hebelgetriebe 24 vor. Die prinzipielle Funktionsweise des Hebelgetriebes 24 ist durch die Figur 6 beschrieben, wobei hier bereits eine Besonderheit integriert ist. Das Hebelgetriebe 24 soll über zwei hier prinzipmäßig angedeutete Stellmittel Sf und Sg betätigt werden. Für den Fall, daß das eine Stellmittel Sf betätigt wird, dient das andere Stellmittel Sg als Auflage und Drehpunkt; und umgekehrt.
Dieser Aufwand mit den beiden Stellmitteln ist für eine derartige Anordnung prinzipiell nicht notwendig. Um jedoch entsprechende Übersetzungsverhältnisse und besonders große Ver- hältnisse von Verstellbereich zu Auflösung, hier sind bei den dargestellten Ausführungsbeispielen Verhältnisse von ca. 100 bis 500 möglich, realisieren zu können, würden die beiden aktiven Hebelelemente li und 12 des hier dargestellten Hebelgetriebes 24 in ihrem Verhältnis zueinander bei entsprechend kleiner Auflösung sehr groß werden, so daß nur mit erheblichen Mühen die Anforderungen hinsichtlich des Bauraums realisiert werden können. Wird nun dagegen entsprechend der Darstellung in Figur 6 die Verwendung von zwei Stellmitteln Sg, Sf in Kauf genommen, so läßt sich der Bauraum erheblich redu- zieren. Im hier dargestellten Ausführungsbeispiel ist es nun so, daß das Stellmittel Sg für große Verstellwege dient, da dieses über die Hebelanordnung 24 unmittelbar auf das Teil 17 wirkt. Das Stellmittel Sg dient also einer Grobeinstellung. Bei festgehaltenem Stellmittel Sg kann nun über das Stellmit- tel Sf und die entsprechend wirksame Hebellänge 12 - l'i mit dem durch diese Hebellänge vorgegebenen Übersetzungsverhält- nis auf das Teil 17 eingewirkt werden. Das Stellmittel Sf dient also in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel zur Feineinstellung.
In Figur 7 ist nun ein derartiger Aufbau dargestellt, welcher über zwei der Hebelgetriebe 24 verfügt, welche beide nach dem Funktionsprinzip arbeiten, das in Figur 6 dargestellt wurde. Dabei ist in der isometrischen Ansicht gemäß der Figur 7 wiederum erkennbar, daß zwei der Getriebeeinrichtungen bzw. He- beigetriebe 24 orthogonal zueinander angeordnet sind. Beide haben jedoch die gleiche Funktionsweise, so daß zur Erläuterung derselben insbesondere auf Figur 8 Bezug genommen werden soll, in welcher die Spiegelfacette 11 der Figur 7 in einer Seitenansicht dargestellt ist.
Ansonsten weisen die beiden Figuren 7 und 8 vergleichbare E- lemente auf, wie die, die in den Figuren 4 und 5 bereits erläutert wurden. Vergleichbare Funktionselemente sind dabei mit denselben Bezugszeichen versehen.
Eine Stellschraube 25 soll in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel nun in jeder der beiden senkrecht aufeinander stehenden Raumrichtungen die Grobeinstellung Sg übernehmen, während eine weitere Stellschraube 26 jeweils die Feinein- Stellung Sf erlaubt. Die kardanische Aufhängung des Teils 17 des Trägerelements 14 gegenüber dem Rest des Trägerelements 14 ist dabei in ähnlicher Weise ausgeführt wie dies in den Figuren 4 und 5 bereits dargestellt wurde. Lediglich ist anstatt eines über den größten Teil des Durchmessers durchgän- giges Festkörpergelenk 15 bzw. 16 ein Aufbau gewählt worden, bei dem eine Anbindung als Festköpergelenk genau mittig unter der Spiegeloberfläche 12 plaziert ist. Dieser Teil des Festkörpergelenks ist in den Figuren nicht erkennbar, er wird in Figur 8 durch das hier mit "16" bezeichnete Festkörpergelenk verdeckt. Dieser nicht dargestellte Teil des Festkörpergelenks und das Festkörpergelenk 16, welche fluchtend zueinan- der angeordnet sind, bilden das Festkörpergelenk für die Kippung des Teils 17 in der einen der Raumrichtungen. In der senkrecht dazu stehenden Raumrichtung erfolgt die Kippung wiederum über das nicht dargestellte Teil des Festkörperge- lenks und das in den Figuren 7 und 8 mit "15" bezeichnete Teil des Festkörpergelenks.
Nachfolgend soll das Verkippen der Spiegeloberfläche 12 in der Figur 8 erläutert werden. Dafür wird das Teil 17, auf welchem die Spiegeloberfläche 12 angeordnet ist, um das Festkörpergelenk 16 und das mit ihm fluchtend angeordnete Teil des Festkörpergelenks, welches nicht dargestellt ist, verkippt bzw. gedreht.
Für die Rückstellung des Teils 17 bzw. die Anpressung auf die beiden Stellmittel 25 und 26 sorgt dabei wiederum ein Federmittel 23', welches jeweils in die Hebelgetriebe 24 über Festkörpergelenke bzw. als Festkörperfeder integriert ist.
Soll nun eine Grobverstellung der Spiegeloberfläche 12 in der Darstellung gemäß Figur 8 erfolgen, so wird die Stellschraube 25 betätigt. Über die Verbindung zwischen der Stellschraube 25 und dem Teil 17 über das Festkörpergelenk 15 wird diese Bewegung der Stellschraube 25 direkt auf das Teil 17 übertra- gen, wobei es zu einer Drehung des Teils 17 um das Festkörpergelenk 16 kommt.
Soll nun eine Feinjustage der Spiegeloberfläche 12 erfolgen, so kann dies über die Stellschraube 26 realisiert werden. Die Stellschraube 26 wirkt dabei über ein Hebelelement 27, welches sich im Auflagepunkt 28 auf dem Stellmittel 25 abstützt, und den zuvor bereits beschriebenen Weg über das Festkörpergelenk 15 in der Art auf das Teil 17 des Trägerelements 14, daß es zu einem Verkippen der Spiegeloberfläche 12 kommt. Durch die Länge des Hebelelementes 27 sowie die Steigung der Stellschraube 26 kann ein derartiger Aufbau den Anforderungen entsprechend ausgelegt werden, so daß über die Kombination aus Feineinstellung und Grobeinstellung ein sehr großer Stellbereich von +/- 5° bei einer sehr guten Winkelauflösung von unter 1" realisiert werden kann. Diese Daten stammen von dem hier dargestellten Aufbau, welcher einen charakteristischen Durchmesser von 10 mm aufweist. Für andere größere oder kleinere Aufbauten können diese Werte entsprechend variieren.
Wie bereits oben erwähnt wurde ist der Aufwand hinsichtlich der beiden Stellmittel nicht unbedingt erforderlich. Es wäre auch denkbar, daß nur die Feinverstellung eingesetzt werden würde. Der Auflagepunkt 28 am Stellmittel 25 könne dann durch eine weiteres Gelenk, insbesondere eine Festkörpergelenk, ersetzte werden. Die hochgenaue Feinjustage stünde dann, aller- dings bei kleinerem möglichen Verstellweg, weiterhin zur Verfügung .
Außerdem ist in den Figuren 7 und 8 erkennbar, daß die Spiegeloberfläche 12 auf einem Zwischenelement 29 angeordnet ist, welches auf das Trägerelement 14 aufgesetzt und mit diesem verbunden ist. Als Verbindungstechniken lassen sich hier beispielsweise die klassischen Verbindungstechniken der Mikrome- chanik, wie Kleben, Ansprengen oder dergleichen, nennen, es sind jedoch auch feinmechanische Verbindungstechniken, wie Verschrauben, Klemmen oder dergleichen, denkbar. Für die Funktionsweise der Spiegelfacette 11 spielt dies keine oder nur eine untergeordnete Rolle, da die Verbindung lediglich so ausgeführt sein sollte, daß von der Spiegeloberfläche 12 absorbierte Wärme über die Spiegelfacette 11 an die Grundplatte 13 des Facettenspiegels 10 abgeleitet werden kann.
Des weiteren sind auch Ausführungsformen denkbar, bei denen die Stellmittel nicht, wie hier jeweils dargestellt, axial angeordnet sind, sondern bei denen die Mittelachsen der Stellmittel 19, 20, 25, 26 in einem von 180° verschiedenen Winkel, also schräg, zu der optischen Achse 18 stehen. Dies ist bei beiden dargestellten Ausgestaltungen der Getriebeelemente 21,22,24 möglich. Der schräge Anordnung der Stellmittel 19, 20, 25, 26 kann dabei sowohl aus konstruktiven Gründen als auch aus Gründen der einstellbaren Übersetzungsverhältnisse bzw. Hebellängen sinnvoll sein. Dadurch, daß auch weiterhin die Zugänglichkeit von der der Spiegeloberfläche 12 abgewandten Seite aus gewährleistet bleiben soll, sind die Winkel gegenüber der optischen Achse in der Praxis dabei auf 1° bis ca. 35° eingeschränkt.
Außerdem können die beiden jeweils orthogonale Verstellungen bewirkenden Kombinationen aus Stellmitteln 19,20,25,26 und Getriebemittel 21,22,24 natürlich auch in einem anderen Winkel zueinander angeordnet sein, wenn dies die Verstellung, z.B. aus optischen Gründen, erforderlich machen sollte.

Claims

Patentansprüche :
1. Spiegelfacette für einen wenigstens eine dieser Spiegelfacetten umfassenden Facettenspiegel zum Einsatz in Pro- jektionsbelichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere für die Mikrolithographie unter Verwendung von Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV) , mit den folgenden Eigenschaften:
1.1 eine Spiegeloberfläche (12) der Spiegelfacette (11) ist auf einem Trägerelement (14) angeordnet;
1.2 das Trägerelement (14) weist eine kardanische Aufhängung für den Teil (17) des Trägerelements (14) auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist; 1.3 über Stellmittel (19,20,25,26) ist die Winkellage der Spiegeloberfläche (12) in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegel-oberflache (12) in wenigstens einer Raumrichtung einstellbar; 1.4 die Stellmittel (19,20,25,26) wirken über Getriebeelemente (21,22,24) auf wenigstens einen Teil (A) des Trägerelements (14);
1.5 die Stellmittel (19,20,25,26) sind von der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite der Spiegelfacette (11) aus zugänglich; und
1.6 das Trägerelement (14), die ' Stellmittel
(19,20,25,26) und die Getriebeelemente (21,22,24) liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegelober- fläche (12) stehenden Projektionsfläche des Trägerelements (14) im Bereich der Spiegeloberfläche (12).
2. Spiegelfacette nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die kardanische Aufhängung über in dem monolithisch ausgebildeten Trägerelement (14) integrierte Festkörpergelenke (15,16) gebildet ist.
Spiegelfacette nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegeloberfläche (12) direkt auf das Trägerelement (14) aufgebracht ist.
Spiegelfacette nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegeloberfläche (12) auf einem Zwischenelement (29) aufgebracht ist, welches auf das Trägerelement (14) aufgesetzt und mit diesem verbunden ist.
5. Spiegelfacette nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) stehende Projektionsfläche des Trägerelements (14) im Be- reich der Spiegeloberfläche (12) eine charakteristische Länge von weniger als 30 mm, insbesondere einen charakteristischen Durchmesser von weniger als 15 mm, aufweist.
6. Spiegelfacette nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Stellmittel (19,20,25,26) als mit ihren Mittelachsen wenigstens annähernd in axialer Richtung zu der optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) angeordnete Stellschrauben ausgebildet sind.
7. Spiegelfacette nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Stellmittel (19,20,25,26) als mit ihren Mittelachsen in einem von 180° verschiedenen Winkel zu der optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) angeordnete Stellschrauben ausgebildet sind.
8. Spiegelfacette nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Teil des Trägerelements (14), auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist, durch wenigstens ein Federmittel (23,23') gegen die Stellmittel (19,20,25,25) vorgespannt ist.
9. Spiegelfacette nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Getriebeelemente als schiefe Ebenen (21,22), auf welchen ballige Enden der Stellmittel
(19,20) anliegen, ausgebildet sind.
10. Spiegelfacette nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die schiefen Ebenen (21,22) orthogonal zueinander ausgebildet sind, wobei die schiefen Ebenen (21,22) beide fest mit dem Teil des Trägerelements (14), auf welchem die Spiegeloberfläche (12) 'angeordnet ist, verbunden sind.
11. Spiegelfacette nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Getriebeelemente als Hebelgetrie- be (24) einstückig mit dem Trägerelement (14) ausgebildet sind.
12. Spiegelfacette nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jedes der Hebelgetriebe (24) zwei Stellmittel (25,26) aufweist, welche über unterschiedlich lange Hebel (lι,l2, 27) an dem Teil (17) des Trägerelements (14), auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist, angreifen.
13. Spiegelfacette nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jedes der Hebelgetriebe (24) ein Stellmittel (26) aufweist, welches über einen an einem Gelenk abgestützten Hebel (lι,l2, 27) an dem Teil (17) des Trägerelements (14), auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist, angreift.
Spiegelfaeette nach Anspruch 11, 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Federmittel (23') in die Anbindung der Hebelgetriebe (24) an dem Trägerelement (14) integriert sind.
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