明細書 セフエム化合物の製造法 技術分野 Description Method for producing cefm compound
この発明は、 7— [ 2 - ( 2—ァミノチアゾールー 4 _ィル) 一 2—低級アルコキシカルボニルメ トキシイ ミノアセ トアミ ド] — 3 —セフヱム化合物またはその塩の製造法に関する。 The present invention relates to a method for producing 7- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -12-lower alkoxycarbonylmethoxyiminoacetamide] -3-3-cebum compound or a salt thereof.
さらに詳しくは、 この発明は、 下記一般式で示される 7— [ 2 _ ( 2—ァミノ'チアゾ一ルー 4 _ィル) _ 2—低級アルコキシカルボ ニルメ トキシイ ミ ノアセトアミ ド] — 3—セフヱム化合物またはそ の塩の、 対応する 7—アミノー 3—セフヱム化合物またはその塩お よび 2—( 2—ァミノチアゾ一ルー 4 —ィル) 一 2 —低級アルコキシ カルボニルメ トキシィ ミ ノァセチルハロゲン化物又はその塩からの 高収率での新規製造法に関する。 More specifically, the present invention provides a compound represented by the following general formula: 7- [2_ (2-amino'thiazo-l-yl-4_yl) _2-lower alkoxycarbonyl methoxyiminoacetamide] -3-cepum compound or Of the salt thereof from the corresponding 7-amino-3-cebum compound or a salt thereof and 2- (2-aminothiazo-1-yl-4-yl) -12-lower alkoxycarbonylmethoxymethoxyminacetyl halide or a salt thereof It relates to a novel production method with high yield.
( I ) (I)
(式中、 R 1は有機基、 R 2はカルボキシ基または保護されたカルボ キシ基、 R 3は低級アルキル機を意味する) 。 すなわちこの発明の目的は 7— [ 2 - ( 2—ァミノチアゾ一ル一 4 一ィル) 一 2 —低級アルコキシカルボニルメ トキシイ ミノアセト
ァ.ミ ド] 一 3—セフヱム化合物 ( I ) またはその塩の新規工業的製 造法を提供することである。 ■ (Wherein R 1 represents an organic group, R 2 represents a carboxy group or a protected carboxy group, and R 3 represents a lower alkyl group). That is, an object of the present invention is to provide 7- [2- (2-aminothiazolyl-14-yl) 1-2-lower alkoxycarbonylmethoxyiminoacetate. A.Mid] It is an object of the present invention to provide a novel industrial production method of 1-3-cepum compound (I) or a salt thereof. ■
発明の開示 Disclosure of the invention
従来、 7— [ 2 - ( 2 —ァミノチアゾールー 4 一ィル) 一 2 _低 鈒アルコキシカルボニルメ トキシイ ミ ノアセ トアミ ド] — 3—セフ ェム化合物 ( I ) は、 例えば下記の方法により製造されていた。 方法 1 : Conventionally, 7- [2- (2-aminothiazole-41-yl) -12-low alkoxycarbonylmethoxyiminoacetamide] —3-cephem compound (I) can be prepared, for example, by the following method. Had been manufactured. Method 1:
しかしながら、 方法 1に関しては、 二つの余分な工程、 すなわち However, for Method 1, there are two extra steps:
、 ァミ ノ保護基の導入およびアミノ保護基の脱離が必要であり、 従 つて目的セフエム化合物の総収率がそれ程高くない。 However, introduction of an amino-protecting group and elimination of an amino-protecting group are required, so that the total yield of the desired cefm compound is not so high.
方法 2に関しては、 高価なセフエム化合物を初期に使用しなけれ ばならず、 従って最終化合物を得るのに非常にコス ト高となり、 さ
らにこの方法ではォキシム部分におけるァンチ異性体も生成するの で、 さらに追加してアンチ異性体の分離工程も必要となる。 For Method 2, expensive cefm compounds must be used initially and therefore are very expensive to obtain the final compounds. In addition, since this method also generates an anti-isomer in the oxime moiety, an additional step of separating the anti-isomer is required.
この発明の発明者等は、 7— C 2 - ( 2—ァミノチアゾールー 4 —ィル) 一 2—アルコキシカルボニルメ トキシイ ミ ノアセトアミ ド ] 一 3—セフ ム化合物の工業的製造のため種々の方法を鋭意研究 し、 その結果として 2— ( 2 —ァミノチアゾ一ルー 4 一ィル) 一 2 一アルコキシカルボニルメ トキシィ ミソァセチルハロゲン化物また はその酸付加塩を安定的な形で分離して、 この発明の新規製造法を 完成することに成功した。 The inventors of the present invention have proposed various processes for the industrial production of 7-C2- (2-aminothiazol-4-yl) -12-alkoxycarbonylmethoxyiminoacetamide] -13-cephum compounds. The method was studied diligently, and as a result, 2- (2-aminothiazo-l- 4-yl) -l-l-alkoxycarbonylmethyoxy misoacetyl halide or its acid addition salt was separated in a stable form. We succeeded in completing the new manufacturing method of the present invention.
この発明の製造法は、 式 : The production method of the present invention has the following formula:
(式中、 および R 2はそれぞれ前と同じ意味) で示される 7—ァ ミノー 3—セフヱム化合物またはァミノ基におけるその反応性誘導 体またはその塩を、 式 : (Wherein, and R 2 have the same meanings as described above), and a reactive derivative thereof or a salt thereof at the 7-amino 3-cephalum compound or amino group,
(式中、 R 3および Xは前と同じ意味) で示される 2— ( 2—ァミノ チアゾール— 4 _ィル) 一 2 —低級アルコキシカルボニルメ トキシ ィ ミ ノァセチルハロゲン化物またはその塩と反応させて、 式 :
(Wherein, R 3 and X have the same meanings as described above) 2- (2-aminothiazole-4-yl) 12-lower alkoxycarbonylmethoxyiminoacetyl halide or a salt thereof And the formula:
(式中、 R R 2および R 3はそれぞれ前と同じ意味) で示される 7 一〔2— ( 2—ァミノチアゾ一ル一 4 一ィル) 一 2 —低級アルコキシ カルボニルメ トキシイ ミノアセトアミ ド) 一 3—セフエム化合物を 得ることを特徴とする。 (Wherein, RR 2 and R 3 have the same meanings as described above), respectively. 7 1 [2- (2-aminothiazolyl-141-yl) 1 2 -lower alkoxycarbonylmethoxyiminoacetamide) 1 3— It is characterized by obtaining a cefm compound.
原料化合物 ( I I ) および目的化合物 ( I ) の好適な塩としては セファロスポリ ンおよびべニシリ ン分野で使用される常用の塩が挙 げられ、 無機塩基との塩、 その例として、 例えばナトリ ゥム塩、 力 リウム塩等のアルカリ金属塩、 例えばカルシウム塩、 マグネシウム 塩等のアルカリ土類金属塩 ; 有機塩基との塩、 その例として、 例え ばト リエチルァミ ン塩、 ピリ ジン塩、 ピコリ ン塩、 エタノールアミ ン塩、 ト リエタノールアミ ン塩、 ジシクロへキシルァミ ン塩、 N, N ' —ジベンジルェチレンジアミ ン塩等の有機ァミ ン塩等; 例えば 塩酸塩、 臭化水素酸塩、 硫酸塩、 燐酸塩等の無機酸付加塩; 例えば ギ酸塩、 酢酸塩、 ト リ フルォロ酢酸塩、 マレイ ン酸塩、 酒石酸塩、 メタンスルホン酸塩、 ベンゼンスルホン酸塩、 ρ — トルエンスルホ ン酸塩等の有機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩等の ような塩基との塩または酸付加塩が挙げられ、 原料化合物 (III) の 好適な塩としては上記で例示したような酸付加塩が挙げられる。 Suitable salts of the raw material compound (II) and the target compound (I) include common salts used in the field of cephalosporin and venicillin, and salts with inorganic bases, for example, sodium Salts, alkali metal salts such as potassium salts, for example, alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts; salts with organic bases, for example, triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, Organic amine salts such as ethanolamine salt, triethanolamine salt, dicyclohexylamine salt, N, N'-dibenzylethylenediamine salt and the like; for example, hydrochloride, hydrobromide, Inorganic acid addition salts such as sulfates and phosphates; for example, formate, acetate, trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonic acid Salts, salts with bases or acid addition salts such as organic carboxylic acid addition salts or organic sulfonic acid addition salts such as ρ-toluenesulfonate and the like. Suitable salts of the raw material compound (III) are described above. And the acid addition salts exemplified above.
この発明の製造法は下記反応式によって示される。
The production method of the present invention is represented by the following reaction formula.
(Π) - ■ (Π)-■
またはアミノ基における Or in the amino group
その反応性誘導体または Its reactive derivative or
その塩 The salt
またはその塩 Or its salt
(式中、 R R2および R3はそれぞれ前と同じ意味) 。 (Where RR 2 and R 3 each have the same meaning as before).
原料化合物 2 _ (2—ァミ ノチアゾ一ルー 4 _ィル) 一 2—低級 アルコキシカルボニルメ トキシィ ミ ノァセチルハロゲン化物 (III) には新規化合物が含まれており、 これらは下記反応式で示す方法に よって製造することができる。 Starting compound 2 _ (2-aminothiazolyl 4-yl) 12-lower alkoxycarbonylmethoxyiminoacetyl halide (III) contains novel compounds, which are represented by the following reaction formulas. It can be manufactured by a method.
またはその塩 またはその塩 Or its salt or its salt
(式中、 R3および Xはそれぞれ前と同じ意味) 。 (Wherein, R 3 and X each have the same meaning as before).
この発明の製造法によって得られる目的化合物 ( I ) の R3を脱離 することによって得られる 7— [2 - (2—ァミノチアゾ一ル一 4
一ィル) _ 2 —カルボキシメ トキシイ ミノアセ トアミ ド] — 3—セ フエム化合物は強い抗菌作用を発揮して、 グラム陽性菌およびグラ ム陰性菌を含む広汎な病原菌の生育を阻止し、 抗菌薬として有用で める。 7- [2- (2-Aminothiazol) obtained by removing R 3 of the target compound (I) obtained by the production method of the present invention. 1-yl) _ 2 -Carboxymethoxyiminoacetamide]-3-cefm compound has a strong antibacterial effect, and inhibits the growth of a wide range of pathogenic bacteria including Gram-positive and Gram-negative bacteria. Useful as
この明細書の上記記載に.おける R R2および)?3の定義の好適な例 および説明を以下詳細に述べる。 Preferred examples and explanations of the definitions of RR 2 and) -3 in the above description of this specification are described in detail below.
この明細書で使用する 「低級」 とは、 特に指示がなければ、 炭素 原子 1個ないし 6個、 好ましくは 1個ないし 4個を有する基を意味 するものとする。 As used herein, "lower", unless indicated otherwise, shall mean a group having 1 to 6, preferably 1 to 4 carbon atoms.
好適な 「低級アルキル基」 としては、 メチル、 ェチル、 プロピル 、 イソプロピル、 プチル、 イソプチル、 第三級ブチル、 ペンチル、 ネオペンチル、 第三級ペンチル、 へキシル等の低級アルキル基が挙 げられる。 Suitable "lower alkyl groups" include lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isoptyl, tertiary butyl, pentyl, neopentyl, tertiary pentyl and hexyl.
好適な 「保護されたカルボキシ基」 としては、 ペニシリ ンまたは セファロスポリ ン化合物においてそれらの 3位または 4位に常用さ れるエステル化されたカルボキシ基が挙げられる。 Suitable "protected carboxy groups" include the commonly used esterified carboxy groups at the 3- or 4-position in penicillin or cephalosporin compounds.
「エステル化されたカルボキシ基」 の好適な 「エステル部分」 と しては、 例えばメチルエステル、 ェチルエステル、 プロピルエステ ル、 イソプロピルエステル、 ブチルエステル、 イソブチルエステル 、 第三級ブチルエステル、 ペンチルエステル、 第三級ペンチルエス テル、 へキシルエステル等の低級アルキルエステル、 例えばビニル エステル、 ァリルエステル等の低級アルケニルエステル、 例えばェ チニルエステル、 プロピニルエステル等の低級アルキニルエステル 、 例えばメ トキシメチルエステル、 エトキシメチルエステル、 ィソ プロポキシメチルエステル、 1ーメ トキシェチルエステル、 1—ェ トキシェチルエステル等の低級アルコキシ (低級) アルキルエステ ル、 例えばメチルチオメチルエステル、 ェチルチオメチルエステル
、 ェチルチオェチルエステル、 イソプロピルチオメチルエステル等 の低級アルキルチオ (低級) アルキルエステル、 例えば 2—ョウ ド ェチルエステル、 2, 2, 2 _ ト リ クロ口ェチルエステル等のモノ (また はジまたはト リ) ハロ (低級) アルキル: Cステル、 例えばァセ トキ シメチルエステル、 プロピオニルォキシメチルエステル、 プチリル ォキシメチルエステル、 イソブチリルォキシメチルエステル、 ノ レ リルォキシメチルエステル、 ビバロイルォキシメチルエステル、 へ キサノィルォキシメチルエステル、 2—ァセ トキシェチルエステル 、 2—プロピオニルォキシェチルエステル、 1 —ァセ トキシプロピ ルエステル等の低級アルカノィルォキシ (低級) アルキルエステルSuitable "ester moieties" of the "esterified carboxy group" include, for example, methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, tertiary ester Lower alkyl esters such as lower-pentyl ester and hexyl ester; lower alkenyl esters such as vinyl ester and aryl ester; lower alkynyl esters such as ethynyl ester and propynyl ester; for example, methoxymethyl ester, ethoxymethyl ester and isopropoxymethyl Lower alkoxy (lower) alkyl esters such as esters, 1-methoxyl ester, 1-ethoxyl ester, etc., for example, methylthiomethyl ester, ethylthio Methyl ester Lower alkylthio (lower) alkyl esters such as ethylthioethyl ester, isopropylthiomethyl ester, etc., and mono- (or di- or tri-ethyl) esters such as 2-iodoethyl ester, 2,2,2_trichloroethyl ester and the like. I) Halo (lower) alkyl: C-ster, for example, acetomethyl ester, propionyloxymethyl ester, ptyryloxymethyl ester, isobutyryloxymethyl ester, noryloxymethyl ester, vivaloyloxy Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as methyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 2-acetoxyl ester, 2-propionyloxetyl ester, 1-acetooxypropyl ester
、 例えばメチルメ シルエステル、 2—メ シルェチルエステル等の低 級アルカンスルホニル (低級) アルキルエステル、 例えばべンジル エステノレ、 4ーメ トキシベンジノレエステノレ、 4 _ニ トロペンジノレエ ステノレ、 フエネチノレエステノレ、 ベンズヒ ドリルエステノレ、 ト リチル エステル、 ビス (メ トキシフヱニル) メチルエステル、 3, 4—ジメ ト キシベンジルエステル、 4—ヒ ドロキシ _ 3,5—ジ第三級ブチルベン ジルエステル等の適当な置換基 1個以上を有していてもよいモノ ( またはジまたは ト リ) フヱニル (低級) アルキルエステルのような 置換基 1個以上を有していてもよいアル (低級) アルキルエステル 、 例えばフヱニルエステル、 ト リルエステル、 第三級ブチルフエ二 ルエステル、 キシリルエステル、 メ シチルエステル、 クメニルエス テル、 サリチルエステル等の適当な置換基 1個以上を有していても よいァリールエステル、 例えばフタ リ ジルエステル等の複素環エス テル、 例えばト リ メチルシリル、 ト リェチルシリル、 ィソプロピル ジメチルシリル、 第三級プチルジメチルシリル、 ジイソプロピルメ チルシリル等の ト リ (低級) アルキルシリルのような ト リ置換シリ ル、 例えばト リ フヱニル等の ト リァリ一ルシリル、 例えばト リベン
ジルシリル等の ト リアル (低級) アルキルシリル等が挙げられる。 好適な 「有機基」 としてはセファロスポリ ン化合物の三位に常用 される基が挙げられ、 脂肪族基、 芳香族基および複素環基、 例えば メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 ブチル、 イソプチル、 第三級プチル、 ペンチル、 ネオペンチル、 第三級ペンチル、 へキシ ル等の低級アルキル基 ; For example, lower alkanesulfonyl (lower) alkyl esters such as methyl mesyl ester and 2-mesyl ethyl ester, for example, benzyl ester, 4-methoxybenzinole estenole, 4-nitropentinole estenole, fenethino lenestenole Suitable substituents such as benzhydryl ester, trityl ester, bis (methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy_3,5-ditert-butylbenzyl ester Al (lower) alkyl esters which may have one or more substituents such as mono (or di or tri) phenyl (lower) alkyl esters which may have one or more, for example, phenyl esters, Ril ester, tertiary butyl phenyl ester, xylyl ester Aryl esters which may have one or more suitable substituents such as ter, mesityl ester, cumenyl ester, salicyl ester, etc .; heterocyclic esters such as phthalidyl ester; for example, trimethylsilyl, triethylsilyl, Tri-substituted silyls such as tri (lower) alkylsilyls such as isopropyl dimethylsilyl, tertiary butyldimethylsilyl and diisopropylmethylsilyl; trisylsilyls such as triphenyl, eg triben Trial (lower) alkylsilyl such as zirsilyl and the like. Suitable "organic groups" include those commonly used in the 3-position of cephalosporin compounds, such as aliphatic, aromatic and heterocyclic groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isoptyl, tertiary Lower alkyl groups such as tert-butyl, pentyl, neopentyl, tertiary pentyl, and hexyl;
例えばビニル、 1 一プロぺニル、 ァリル、 1—メチルァリル、 1 または 2または 3—ブテニル、 1または 2または 3または 4一ペン テニル、 1または 2または 3または 4または 5—へキセニル等の低 級アルケニル基 ; Lower, for example, vinyl, 1-propenyl, aryl, 1-methylaryl, 1 or 2 or 3-butenyl, 1 or 2 or 3 or 4 pentenyl, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexenyl Alkenyl group;
例えばフヱニル、 トリル、 キシリル、 クメニル、 ナフチル等のァ リール基 ; Aryl groups such as, for example, phenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, naphthyl;
例えばフリルチオメチル、 チアゾリルチオメチル、 チアジアゾリ ルチオメチル、 テトラゾリルチオメチル等の複素環チオメチル基 ; 例えば 1 —メチルピロリ ジニオメチル、 1 —ェチルピロリ ジニォ メチル、 1—メチル一 2—ヒ ドロキシメチルピロリ ジニオメチル、 1—メチル一 2—力ルバモイルォキシメチルピロリ ジニオメチル等 のような 1—低級アルキルピロリジニオメチル等の第四級窒素原子 を有する複素環メチル基がその例として挙げられる。 For example, heterocyclic thiomethyl groups such as furylthiomethyl, thiazolylthiomethyl, thiadiazolylthiomethyl, tetrazolylthiomethyl, etc .; Examples thereof include a heterocyclic methyl group having a quaternary nitrogen atom such as a 1-lower alkylpyrrolidiniomethyl such as -methyl-12-rubamoyloxymethylpyrrolidiniomethyl.
好適な 「ハロゲン」 としては塩素、 臭素、 沃素等が挙げられる。 R1 . R2、 および R3の好ましい実施態様は下記のとおりである。 R1は例えばビニル等の低級アルケニル基; または複素環チオメチ ル基、 好ましく は例えば 1, 2, 4—チアジアゾリル等のィォゥ原子 1個 および窒素原子 1個ないし 2個を含む 5員芳香族複素環基; Suitable "halogen" includes chlorine, bromine, iodine and the like. Preferred embodiments of R 1. R 2 and R 3 are as follows. R 1 is, for example, a lower alkenyl group such as vinyl; or a heterocyclic thiomethyl group, preferably a 5-membered aromatic heterocyclic ring containing one io atom and one or two nitrogen atoms such as 1,2,4-thiadiazolyl. Group;
R2はカルボキシ基またはエステル化されたカルボキシ基、 好まし くはト リ (低級) アルキルシリルォキシカルボ二ル基、 好ましくは 例えばトリメチルシリルォキシカルボニル等の トリ ( ー ) アル
キルシリルォキシ力ルボ二ル基; R 2 is a carboxy group or an esterified carboxy group, preferably a tri (lower) alkylsilyloxycarbonyl group, preferably a tri (-) alkyl group such as trimethylsilyloxycarbonyl. Kirsilyloxycarbonyl group;
R3は低級アルキル基、 好ましくはメチル等の 一 C4アルキル基で める。 R 3 is a lower alkyl group, preferably Mel one C 4 alkyl group such as methyl.
この発明の目的化合物 ( I ) の製造法を以下詳細に説明する。 製造法 1 The method for producing the target compound (I) of the present invention will be described in detail below. Manufacturing method 1
化合物 ( I ) またはその塩は、 化合物 (I I) またはアミノ基にお けるその反応性誘導体またはその塩を、 2 — ( 2—ァミ ノチアゾ一 ル一 4 一ィル) 一 2 —アルコキシカルボニルメ トキシイ ミノアセチ ルハロゲン化物 (III) またはその塩と反応させることにより製造す ることができる。 The compound (I) or a salt thereof can be obtained by converting the compound (II) or a reactive derivative thereof at the amino group or a salt thereof to a 2- (2-aminothiazolyl-1-4-yl) -12-alkoxycarbonyl It can be produced by reacting with toximino acetyl halide (III) or a salt thereof.
化合物 (I I) のァミ ノ基における好適な反応性誘導体としては、 化合物 (I I) とビス (ト リメチルシリル) ァセ トアミ ド、 モノ (ト リメチルシリル) ァセ トアミ ド等のようなシリル化合物との反応に よって生成するシリル誘導体が挙げられる。 Suitable reactive derivatives at the amino group of compound (II) include compounds (II) and silyl compounds such as bis (trimethylsilyl) acetamide and mono (trimethylsilyl) acetamide. Examples include silyl derivatives generated by the reaction.
化合物 ( I I ) の好適な塩としては、 化合物 ( I ) について例示 したような塩が挙げられる。 Suitable salts of the compound (II) include salts as exemplified for the compound (I).
反応は通常、 水、 ァセトン、 ジォキサン、 ァセトニト リル、 クロ 口ホルム、 塩化メチレン、 塩化工チレン、 テトラヒ ドロフラン、 酢 酸ェチル、 N,N—ジメチルホルムァミ ド、 ピリ ジンのような常用の溶 媒中で行われるが、 反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他 のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる。 これらの常用 の溶媒は水との混合物として使用してもよい。 The reaction is usually carried out with common solvents such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, pyridine. The reaction can be carried out in any other organic solvent that does not adversely affect the reaction. These conventional solvents may be used as a mixture with water.
反応はアルカリ金属炭酸水素塩、 トリ (低級) アルキルァミ ン、 ピリ ジン、 N— (低級) アルキルモルホリ ン、 N,N—ジ (低級) アル キルベンジルァミ ン等のような無機塩基または有機塩基を存在させ て行ってもよいし、 存在させずに行ってもよい。 The reaction involves inorganic or organic bases such as alkali metal bicarbonates, tri (lower) alkylamines, pyridines, N- (lower) alkylmorpholines, N, N-di (lower) alkylbenzylamines, etc. It may be done with or without it.
反応温度は特に限定されないが、 通常は冷却下または常温で反応
が行われる。 The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is usually performed under cooling or at room temperature. Is performed.
この反応において、 R2のカルボキシ保護基が反応中またはこの製 造法の後処理中に脱離される場合も、 その範囲内に包含される。 In this reaction, the case where the carboxy protecting group of R 2 is eliminated during the reaction or during the post-treatment of this production method is also included in the scope.
この反応に使用される化合物 (III) またはその塩はこの発明の発 明者等によって初めて安定な形で単離され、 それによつて反応は高 収率で進行し、 副生成物の回収工程が不必要となるので非常に便利 になり、 反応物の量を最良の条件で容易に管理することができる。 The compound (III) or a salt thereof used in this reaction is isolated in a stable form for the first time by the inventors of the present invention, whereby the reaction proceeds in high yield, and the step of recovering by-products is reduced. It is very convenient because it is not needed, and the amount of reactants can be easily controlled under the best conditions.
出発物質の 2— (2 —ァミノチアゾ一ルー 4 _ィル) 一 2 —低級 アルコキシカルボニルメ トキシイ ミノアセチルハロゲン化物 (III) またはその塩の製造法を以下に説明する。 A method for producing the starting material 2- (2-aminothiazoyl-4-yl) 1-2-lower alkoxycarbonylmethoxyiminoacetyl halide (III) or a salt thereof will be described below.
出発化合物 (III) またはその塩は化合物 (Ilia) をハロゲン化剤 と反応させて製造することができる。 Starting compound (III) or a salt thereof can be produced by reacting compound (Ilia) with a halogenating agent.
化合物 (III) の好適な塩は塩基との塩であり、 化合物 (Ilia) の 好適な塩は化合物 ( I ) について例示したような塩基との塩または 酸付加塩が挙げられる。 A preferred salt of compound (III) is a salt with a base, and a preferred salt of compound (Ilia) is a salt with a base or an acid addition salt as exemplified for compound (I).
化合物 (Ilia) は後述の製造法で記された方法または常用の方法 によつて製造することができる。 Compound (Ilia) can be produced by the method described in the production method described later or by a conventional method.
この反応で使用される好適なハロゲン化剤は五塩化燐、 ォキシ塩 化燐、 塩化チォニル、 ホスゲン等のカルボン酸を酸ハロゲン化物に 変換できる常用のものが挙げられる。 Suitable halogenating agents used in this reaction include conventional ones capable of converting carboxylic acids such as phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, and phosgene into acid halides.
反応は通常、 塩化メチレン、 クロ口ホルム等のような常用の溶媒 中で行われるが、 反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他の いかなる溶媒中でも反応を行うことができる。 The reaction is usually carried out in a conventional solvent such as methylene chloride, chloroform, and the like, but the reaction can be carried out in any other solvent that does not adversely influence the reaction.
反応温度は特に限定されないが、 通常は冷却下または常温で反応 が行われる。 The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is usually performed under cooling or at room temperature.
化合物 (III) の塩酸塩のような酸付加塩は安定な結晶形で単離さ れることができ、 特に本発明の反応には好ましい。
以下この発明を実施例に従って説明する。 Acid addition salts, such as the hydrochloride salt of compound (III), can be isolated in stable crystalline form and are particularly preferred for the reaction of the present invention. Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.
実施例 1 Example 1
7—ァミ ノ 一 3 _ビニル一 3—セフエム一 4—カルボン酸べンズ ヒ ドリル塩酸塩 (4g) のジクロ口メタン溶液 (20ml) に蟻酸 (1.2m 1) とメタンスルホン酸 (1.34g) を加え、 30分間反応する。 冷水 (4 Oml) を加え、 0〜5°Cで攪拌し、 安水を用いて pH8.5に調整した後静 置する。 分液しジクロロメタンを除き水層を希塩酸で pH4.5に調整し 、 次いで五酸化二燐存在下、 真空乾燥して、 7 _アミノー 3—ビニ ル— 3—セフユムー 4 _カルボン酸 (シン異性体) (2.05g) (収率 97%) を得る。 7-amino-3-vinyl-13-cef-14-carboxylate Benzhydryl hydrochloride (4g) in dichloromethane solution (20ml) in formic acid (1.2m1) and methanesulfonic acid (1.34g) And react for 30 minutes. Add cold water (4 Oml), stir at 0-5 ° C, adjust the pH to 8.5 with cold water, and let it stand still. Separate, remove dichloromethane and adjust the aqueous layer to pH 4.5 with dilute hydrochloric acid, then dry in vacuo in the presence of diphosphorus pentoxide to obtain 7-amino-3-vinyl-3-cefumu-4-carboxylic acid (syn isomer) ) (2.05 g) (97% yield).
I R (ヌジヨール) : 2620, 2050, 1810, 1790, 1640, 1610 cm—1 NMR (MSO- dい (5) : 3.51, 3.82 (2H, ABq, J =18Hz) , 4.77 (1H, d, J =5Hz) , 5.01 (lH,d,J=5Hz) , 5.26 (1H, d, J=llHz) , 5.54 (1H ,d,J=18Hz) , 6.88 (1H, dd, J=18Hz, 11Hz) IR (Nudiol): 2620, 2050, 1810, 1790, 1640, 1610 cm- 1 NMR (MSO-d (5): 3.51, 3.82 (2H, ABq, J = 18 Hz), 4.77 (1H, d, J = 5Hz), 5.01 (lH, d, J = 5Hz), 5.26 (1H, d, J = llHz), 5.54 (1H, d, J = 18Hz), 6.88 (1H, dd, J = 18Hz, 11Hz)
実施例 2 Example 2
2 - (2—ァミノチアゾ一ルー 4 _ィル) 一 2—メ トキシカルボ ニルメ トキシィ ミ ノ酢酸 (シン異性体) (68.8g)のジクロロメタン ( 350ml) 溶液に五塩化燐 (58. Og) を加え- 25〜- 30°Cで 60分間攪拌を 続ける。 反応液にジイソプロピルエーテル (1240πι1) を 60分かけて 加える。 生成する沈殿を濾過してジィソプロピルエーテルで洗浄し 、 次いで五酸化二燐存在下真空乾燥して 2— (2—ァミ ノチアゾー ル _ 4 _ィル) 一 2—メ トキシカルボニルメ トキシイ ミノアセチル クロ リ ド ·塩酸塩 (シン異性体) (83.4g) を得る。 2-Phosphorus pentachloride (58.Og) was added to a dichloromethane (350 ml) solution of 2- (2-aminothiazoyl 4-yl) -1-2-methoxycarbonylmethoxyaminoacetic acid (syn isomer) (68.8 g). Continue stirring at 25-30 ° C for 60 minutes. Diisopropyl ether (1240πι1) is added to the reaction solution over 60 minutes. The resulting precipitate is filtered, washed with diisopropylpropyl ether, and then dried under vacuum in the presence of diphosphorus pentoxide to give 2- (2-aminothiazole_4-yl) -12-methoxycarbonylmethoxyamino acetyl. Chloride hydrochloride (syn isomer) (83.4 g) is obtained.
I R (ヌジヨール) : 3375, 3200, 1780, 1750, 1650, 1630, 1600, I R (Nudiol): 3375, 3200, 1780, 1750, 1650, 1630, 1600,
1580 cm-1 1580 cm- 1
mp: 91°C mp: 91 ° C
実施例 3
7—ァミ ノ _ 3—ビニル一 3—セフエムー 4—カルボン酸 (30. Og ) と1[, N—ビス トリメチルシリル尿素 (54.2 g) をジクロ口メタ ン (450m l ) に懸濁し、 90分間還流しシリル化して溶解する。 反応 液を- 20°Cに冷却し、 2— (2—ァミ ノチアゾールー 4一ィル) — 2 ーメ トキシカルボニルメ トキシイ ミノアセチルクロリ ド塩酸塩 (シ ン異性体) を加え、 30分間反応する。 反応液に冷水 (450m l ) を加 え、 10%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、 p H6〜7になるまで滴下 し析出した結晶を溶解する。 ジクロロメタン層を分液して取り除き 、 水層を希塩酸で p H3.0に調整し、 次いで 0〜5°Cで 30分間攪拌する 。 沈殿を濾取して冷水で洗浄し、 次いで五酸化二燐存在下真空乾燥 して 7— [2 - (2—ァミ ノチアゾ一ルー 4一ィル) 一 2—メ トキ シ力ルポニルメ トキシイ ミ ノアセ トアミ ド] 一 3—ビニルー 3—セ フヱム一 4一力ルボン酸 (55.55 g) を得る (収率 89.6%) 。 Example 3 7-Amino_3-vinyl-1-3-fuemu-4-carboxylic acid (30. Og) and 1 [, N-bistrimethylsilylurea (54.2 g) are suspended in dichloromethane (450 ml) for 90 minutes. Reflux to silylate and dissolve. Cool the reaction mixture to -20 ° C, add 2- (2-aminothiazole-41-yl)-2-methoxycarbonylmethoxyamino acetyl chloride hydrochloride (cin isomer) and react for 30 minutes I do. Cold water (450 ml) is added to the reaction solution, and the solution is dropped with a 10% aqueous sodium carbonate solution until the pH becomes 6 to 7 to dissolve the precipitated crystals. The dichloromethane layer was separated and removed, and the aqueous layer was adjusted to pH 3.0 with diluted hydrochloric acid, and then stirred at 0 to 5 ° C for 30 minutes. The precipitate is collected by filtration, washed with cold water, and then dried under vacuum in the presence of diphosphorus pentoxide to give 7- [2- (2-aminothiazo-l- 4-yl) -12-methoxy-l-ponylmethoxime. Noacetamide] 1-3-vinyl-3-serum-IV (55.55 g) was obtained (yield 89.6%).
I R (ヌジヨール) : 3575, 3250, 1760, 1730, 1660, 1550 cm"1 NMR (DMS0-d6, <5 ) : 3.57,3.85 (2H, ABq, J=18Hz), 3.68 (3H, s),IR (Nudiol): 3575, 3250, 1760, 1730, 1660, 1550 cm " 1 NMR (DMS0-d6, <5): 3.57,3.85 (2H, ABq, J = 18Hz), 3.68 (3H, s),
4.69 (2H,s), 5.20 (1H, d, J=5Hz), 5.32 (1H, d, J=llHz), 5.60 (1H ,d, J=18Hz), 5.79 (1H, dd, J=5, 8Hz), 6.80 (lH,s), 6.92 (1H, dd, J= ll,18Hz), 7.27 (2H,s), 9.63 (1H, d, J=8Hz) 4.69 (2H, s), 5.20 (1H, d, J = 5Hz), 5.32 (1H, d, J = llHz), 5.60 (1H, d, J = 18Hz), 5.79 (1H, dd, J = 5, 8Hz), 6.80 (lH, s), 6.92 (1H, dd, J = ll, 18Hz), 7.27 (2H, s), 9.63 (1H, d, J = 8Hz)
実施例 4 Example 4
7 - [2— (2—ァミノチアゾ一ルー 4一ィル) 一 2—メ トキシ カルボニルメ トキシィ ミ ノァセ トアミ ド] 一 3—ビニル一 3—セフ ェムー4一力ルボン酸 (35.4g) を水 (400ml) に懸濁し!)〜 5°Cで攪 拌する。 10%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、 PH7とし、 結晶を溶 解する。 メタノール (150 ml) を加え、 -12°Cまで冷却する。 24 水酸 化ナトリゥム水溶液を用いて p H 14として 5分間攪拌する。 反応 終了後、 濃塩酸を用いて p Hを 5にする。 水 (450ml) を加え、 20°C で攪拌下、 希塩酸を用いて P Hを 2. 2とする。 0〜5°Cで攪拌後
、 沈殿物を濾過し、 水洗し、 次いで五酸化二燐存在下真空乾燥して7- [2- (2-aminothiazoyl 4-yl) 1-2-methoxycarbonyl methoxyminoacetamide] 1-3-vinyl-13-sephemu 4 One-strength rubonic acid (35.4g) in water ( 400ml) and stirred at ~ 5 ° C. Dissolve crystals by adjusting the pH to 7 using a 10% aqueous sodium carbonate solution. Add methanol (150 ml) and cool to -12 ° C. 24 Stir for 5 minutes at pH 14 using aqueous sodium hydroxide solution. After the reaction, adjust the pH to 5 using concentrated hydrochloric acid. Add water (450ml) and adjust the pH to 2.2 using dilute hydrochloric acid while stirring at 20 ° C. After stirring at 0-5 ° C The precipitate is filtered, washed with water, and then dried under vacuum in the presence of diphosphorus pentoxide.
、 7— [2 - ( 2—ァミ ノチアゾール一 4—ィル) _.2 _カルボキ シメ トキシイ ミ ノアセトアミ ド] 一 3 _ビニルー 3—セフエム一 4 一力ルボン酸 (シン異性体) (32.9g) (収率 95.9%) で得る。 , 7— [2- (2-aminothiazole-1-yl) _.2 _carboxymeximinoiminoacetamide] 13 _vinyl-3- cefm-14 4 rubonic acid (syn isomer) (32.9 g) (95.9% yield).
I R (ヌジヨール) : 3450, 3275, 3180, 1780, 1660, 1620, 1540 cm I R: 3450, 3275, 3180, 1780, 1660, 1620, 1540 cm
NMR (DMS0-d6, δ :3.57, 3.85 (2Η, dd, J=18Hz), 4.59 (2H,s), 5.21 (1H, d, J=5Hz), 5.32 (1H, d, J=llHz), 5.60 (1H, d, J=17Hz), 5. 81 (1H, dd, J=5, 8Hz), 6.81 ((lH,s), 6.92 (1H, dd, J=ll, 17Hz) 7.27NMR (DMS0-d6, δ: 3.57, 3.85 (2Η, dd, J = 18Hz), 4.59 (2H, s), 5.21 (1H, d, J = 5Hz), 5.32 (1H, d, J = llHz), 5.60 (1H, d, J = 17Hz), 5.81 (1H, dd, J = 5, 8Hz), 6.81 ((lH, s), 6.92 (1H, dd, J = ll, 17Hz) 7.27
(2H,s), 9.56 (lH,d,8Hz)) (2H, s), 9.56 (lH, d, 8Hz))
実施例 5 ' Example 5 '
7—ァミ ノ一 3—ビニルー 3—セフエムー 4一 ルボン酸べンズ ヒ ドリル塩酸塩 (50· Og) をアセ トン (750ml) に懸濁し、 0〜5°Cで 攪拌する。 2— (2—ァミ ノチアゾール _ 4一ィル) 一 2—メ トキシ カルボニルメ トキシィ ミ ノァセチルク口リ ドー塩酸塩 (シン異性体 ) (73.24g) を加え、 20%炭酸ソーダ水溶液を用いて pH6〜7に保持 する。 反応終了後、 冷水 (200ml) を添加し、 反応液中のアセ トンを 減圧下、 留去する。 留去液に水 (300ml) を加え、 0〜5°Cで 1時間攪 拌する。 沈殿物を慮取して冷水で洗浄し、 次いで五酸化二燐で真空 乾燥して、 7—〔2— (2—ァミノチアゾールー 4一ィル) — 2—メ トキシカルボニルメ トキシイ ミノアセトアミ ド〕一 3—ビニルー 3— セフヱム一 4—カルボン酸べンズヒ ドリル (70· Og) (94.7%) を得 る。 7-Amino 3-vinyl-3-sefum 4-Hensyl benzoyl hydryl hydrochloride (50 Og) is suspended in acetone (750 ml) and stirred at 0-5 ° C. 2- (2-Aminothiazole_4-yl) -1-2-Methoxycarbonyl methoxyminosetylc mouth lido hydrochloride (syn isomer) (73.24 g) is added, and the mixture is added with a 20% aqueous sodium carbonate solution. Maintain pH 6-7. After the reaction is completed, cold water (200 ml) is added, and acetone in the reaction solution is distilled off under reduced pressure. Add water (300ml) to the distillate and stir at 0-5 ° C for 1 hour. The precipitate was washed with cold water in consideration of the precipitate, and then dried in vacuo over diphosphorus pentoxide to give 7- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-methoxycarbonylmethoxyiminoacetamide. ] Benzhydryl (70 · Og) (70 · Og) (1-vinyl-3-carboxy-4) is obtained (94.7%).
I R (ヌジョ一ル) : 1780, 1750, 1730, 1710, 1670, 1620, 1530 cm" 1 IR (Nujor): 1780, 1750, 1730, 1710, 1670, 1620, 1530 cm " 1
NMR (DMS 0-d6, (5) :3.62, 3.91 (2H, ABq, J=18Hz), 3.68 (3 H,s), 4.69 (2H,s), 5.28 (1H, d, J=5Hz), 5.32 (1H, d, J=llHz), 5.6
6 (lH,d, J=18Hz), 5.90 (1H, dd, J=5, 8Hz), 6.75 (1H, dd, J= 11, 18Hz ), 6.81 (lH,s), 6.95 (lH,s), 7.27-7.50 (12H, m) , 9.67 (1H, d, J=8Hz) NMR (DMS 0-d6, (5): 3.62, 3.91 (2H, ABq, J = 18Hz), 3.68 (3H, s), 4.69 (2H, s), 5.28 (1H, d, J = 5Hz), 5.32 (1H, d, J = llHz), 5.6 6 (lH, d, J = 18Hz), 5.90 (1H, dd, J = 5, 8Hz), 6.75 (1H, dd, J = 11, 18Hz), 6.81 (lH, s), 6.95 (lH, s) , 7.27-7.50 (12H, m), 9.67 (1H, d, J = 8Hz)
実施例 6 Example 6
7 - [2— (2—ァミ ノチアゾール一 4—ィル) 一 2—メ トキシ カルボニルメ トキシイ ミ ノアセ トアミ ド] _ 3—ビニル一 3—セフ ェム _ 4一力ルボン酸べンズヒ ドリル (48. Og) をァニソール (150m 1) に懸濁し、 - 20°Cで攪拌する。 三弗化ホウ素エーテル錯塩 (37.6g ) を加え反応する。 反応終了液を水 (450ml) に注ぎ入れ、 24%水酸 化ナト リゥム水溶液を用いて、 pH7とする。 反応液を分液し、 水層を 希塩酸で pH3とし、 0〜5°Cで 1時間攪拌する。 沈殿物を瀘取し、 水洗 後、 次いで五酸化二燐存在下真空乾燥して、 7— [2— (2—アミ ノチアゾールー 4一ィル) 一 2—メ トキシカルボニルメ トキシィ ミ ノアセ トアミ ド] 一 3—ビニル一 3—セフエム一 4—カルボン酸 (3 3.6g) (収率 95%)を得る。 7- [2- (2-aminothiazol-1-yl) -1-2-methoxycarbonylmethoxyiminoacetamide] _3-vinyl-1-3-cephem_4 Benzhydryl rubonate (48. Og) is suspended in anisol (150 ml) and stirred at -20 ° C. Boron trifluoride etherate (37.6g) is added and reacted. The reaction-terminated liquid is poured into water (450 ml), and the pH is adjusted to 7 using a 24% aqueous sodium hydroxide solution. The reaction solution is separated, and the aqueous layer is adjusted to pH 3 with dilute hydrochloric acid and stirred at 0 to 5 ° C for 1 hour. The precipitate is collected by filtration, washed with water, and then dried under vacuum in the presence of diphosphorus pentoxide to give 7- [2- (2-aminothiazole-4-yl) -12-methoxycarbonylmethoxyaminoacetamide]. 1-vinyl-13-cef-14-carboxylic acid (33.6 g) (95% yield) was obtained.
I R (ヌ ジヨール) : 3575, 3250, 1760, 1730, 1660, 1550 cm'1 NMR (DMS0-d6, <5 ) : 3.57, 3.85 (2H, dd, J=18Hz), 3.68 (3H, s), 4.69 (2H,s), 5.20 (1H, d, J=5,Hz), 5.32 (1H, d, J=llHz), 5.60(1H, d, J=18Hz), 5.79(lH,dd, J=5, 8Hz), 6.80(1H, s), 6.92 (1H, dd, J=ll, 18Hz), 7.27 (2H,s), 9.63 (1H, d, J=8Hz)
IR (nujol): 3575, 3250, 1760, 1730, 1660, 1550 cm ' 1 NMR (DMS0-d6, <5): 3.57, 3.85 (2H, dd, J = 18Hz), 3.68 (3H, s), 4.69 (2H, s), 5.20 (1H, d, J = 5, Hz), 5.32 (1H, d, J = llHz), 5.60 (1H, d, J = 18Hz), 5.79 (lH, dd, J = 5, 8Hz), 6.80 (1H, s), 6.92 (1H, dd, J = ll, 18Hz), 7.27 (2H, s), 9.63 (1H, d, J = 8Hz)