Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

TWI755781B - 投影模組、成像模組及電子裝置 - Google Patents

投影模組、成像模組及電子裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI755781B
TWI755781B TW109122685A TW109122685A TWI755781B TW I755781 B TWI755781 B TW I755781B TW 109122685 A TW109122685 A TW 109122685A TW 109122685 A TW109122685 A TW 109122685A TW I755781 B TWI755781 B TW I755781B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical element
light
projection module
reflection structure
light source
Prior art date
Application number
TW109122685A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202201105A (zh
Inventor
羅永波
Original Assignee
新煒科技有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 新煒科技有限公司 filed Critical 新煒科技有限公司
Publication of TW202201105A publication Critical patent/TW202201105A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI755781B publication Critical patent/TWI755781B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
    • G03B21/2033—LED or laser light sources
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/22—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring depth
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2066—Reflectors in illumination beam
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/28—Reflectors in projection beam
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N9/00—Details of colour television systems
    • H04N9/12—Picture reproducers
    • H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Projection Apparatus (AREA)
  • Measurement Of Optical Distance (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

本申請提供一種投影模組，包括光源，所述投影模組還包括：反射結構與光學元件，所述反射結構包括第一反射結構與第二反射結構，所述光學元件包括第一光學元件與第二光學元件，所述光源發射之光線經所述第一反射結構與所述第二反射結構反射至所述第一光學元件，所述第一光學元件用於根據接收之光線進行人臉掃描，所述光源發射之光線經所述第一反射結構透射至所述第二光學元件，所述第二光學元件用於根據接收之光線進行補光處理，輔助所述第一光學元件進行人臉掃描。本申請還提供一種成像模組與電子裝置。藉由本申請，節省了電子裝置之空間，有利於電子裝置之輕薄化設計。

Description

投影模組、成像模組及電子裝置
本申請涉及圖像採集技術領域，尤其涉及一種投影模組、成像模組及電子裝置。
目前，用於投影光線之投影模組在電子裝置之成像系統中得到廣泛之應用，特別是在結構光3D感測模組中，感測模組可以藉由投影模組發射帶有資訊之光線到待測物體表面，由接收模組接收經物體反射後之光線，藉由光線之變化獲得物體之深度信息。
然而，習知之投影模組通常設置在基板、電路板及電子裝置之其他元件上(例如，顯示元件、外殼等)，多元件堆疊會造成電子裝置之厚度增加，不利於電子裝置之輕薄化設計。
鑒於此，有必要提出一種投影模組、成像模組及電子裝置，能夠實現投影模組之結構小型化，節省電子裝置之空間。
本申請實施例第一方面提供一種投影模組，包括光源，所述投影模組還包括：反射結構與光學元件，所述反射結構包括第一反射結構與第二反射結構，所述光學元件包括第一光學元件與第二光學元件，所述第二光學元件位於所述光源發射之光線之光路上，所述第二光學元件之長度大於或等於所述光源發出光線之範圍長度，所述光源發射之光線經所述第一反射結構與所述第 二反射結構反射至所述第一光學元件，所述第一光學元件用於根據接收之光線進行人臉掃描，所述光源發射之光線經所述第一反射結構透射至所述第二光學元件，所述第二光學元件用於根據接收之光線進行補光處理，輔助所述第一光學元件進行人臉掃描。
進一步地，在本申請實施例提供之上述投影模組中，所述第一反射結構位於所述光源發出光線之光路上，所述第二反射結構位於所述第一反射結構反射光線之光路上。
進一步地，在本申請實施例提供之上述投影模組中，所述第一光學元件位於所述第二反射結構反射之光線之光路上。
進一步地，在本申請實施例提供之上述投影模組中，所述第一光學元件與所述第二光學元件並排裝設於同一透鏡中。
進一步地，在本申請實施例提供之上述投影模組中，所述第一光學元件為衍射光學元件，所述第二光學元件為擴散器。
進一步地，在本申請實施例提供之上述投影模組中，所述光源之數量為1個。
進一步地，在本申請實施例提供之上述投影模組中，所述第一光學元件與所述第二光學元件之數量包括：1個或者2個，當所述第一光學元件之數量為2個或者所述第二光學元件之數量為2個時，2個所述第一光學元件緊密設置，2個所述第二光學元件緊密設置。
本申請實施例第二方面還提供一種成像模組，所述成像模組包括接收模組與上述任意一項所述之投影模組，所述接收模組包括成像鏡頭與圖像感測器，所述圖像感測器位於所述成像鏡頭之像側。
本申請實施例第三方面還提供一種應用上述任意一項所述之投影模組之電子裝置。
本申請實施例提供一種投影模組、成像模組及電子裝置，包括光源，所述投影模組還包括：反射結構與光學元件，所述反射結構包括第一反射結構與第二反射結構，所述光學元件包括第一光學元件與第二光學元件，所述光源發射之光線經所述第一反射結構與所述第二反射結構反射至所述第一光學 元件，所述第一光學元件用於根據接收之光線進行人臉掃描，所述光源發射之光線經所述第一反射結構透射至所述第二光學元件，所述第二光學元件用於根據接收之光線進行補光處理，輔助所述第一光學元件進行人臉掃描。藉由本申請實施例，將實現補光功能與掃描物體功能之光學部件藉由一個投影模組實現，不需要增加其他光學部件，從而實現電子裝置之集成度更高，節省電子裝置之空間，有利於電子裝置之輕薄化設計；且由於只需要生成一個投影模組，可以縮短生產週期，節約生產成本。
100:投影模組
10:光源
20:反射結構
21:第一反射結構
22:第二反射結構
30:光學元件
31:第一光學元件
32:第二光學元件
200:成像模組
201:接收模組
300:電子裝置
圖1是本申請一實施例提供之投影模組之一整體結構示意圖。
圖2是本申請一實施例提供之投影模組之另一整體結構示意圖。
圖3是本申請一實施例提供之成像模組之模塊組成圖。
圖4是本申請一實施例提供之投影模組之電子裝置之模塊組成圖。
本申請實施例提供一種投影模組、成像模組及電子裝置，包括光源，所述投影模組還包括：反射結構與光學元件，所述反射結構包括第一反射結構與第二反射結構，所述光學元件包括第一光學元件與第二光學元件，所述光源發射之光線經所述第一反射結構與所述第二反射結構反射至所述第一光學元件，所述第一光學元件用於根據接收之光線進行人臉掃描，所述光源發射之光線經所述第一反射結構透射至所述第二光學元件，所述第二光學元件用於根據接收之光線進行補光處理，輔助所述第一光學元件進行人臉掃描。
藉由本申請實施例，將實現補光功能與掃描物體功能之光學部件藉由一個投影模組實現，不需要增加其他光學部件，從而實現電子裝置之集成度更高，節省電子裝置之空間，有利於電子裝置之輕薄化設計；且由於只需要生成一個投影模組，可以縮短生產週期，節約生產成本。
下面結合附圖，對本申請之一些實施方式作詳細說明。
請一併參閱圖1至圖2，本申請實施例提供一種投影模組100，包括光源10、反射結構20與光學元件30，所述光源10裝設在遠離所述光學元件30且位於所述反射結構20之延伸方向上，所述反射結構20裝設於所述光源10與所述光學元件30之間。
所述光源10用於發射鐳射，特別地，所述光源10可以用於發射紅外光。所述光源10可以是垂直腔面發射鐳射器(Vertical Cavity Surface Emitting Laser，VCSEL)，所述垂直腔面發射鐳射器是一種小體積之半導體鐳射器，可以以較高之輸出功率形成陣列分佈，用於建立高效之鐳射光源。在一實施例中，所述光源10之數量為1個。本申請藉由使用一個垂直腔面發射鐳射器作為光源10，在保證光源功率之同時，可以滿足光源小體積之需求。
所述反射結構20包括第一反射結構21與第二反射結構22，所述第一反射結構21位於所述光源10發出光線之光路上，所述第二反射結構22位於所述第一反射結構21反射光線之光路上。所述第一反射結構21與所述第二反射結構22相對設置。其中，所述第一反射結構21之作用包括以下一種或多種：反射所述光源10發射之光線；或者，透射所述光源10發射之光線。示例性地，所述光源10發出之光自所述第一反射結構21反射至所述第二反射結構22上，並由所述第二反射結構22反射至所述第一光學元件31。在一實施例中，所述反射為半反射。所述光源10發出之光自所述第一反射結構21透射至所述第二光學元件32。在一實施例中，所述第一反射結構21與所述第二反射結構22在水平方向之距離與所述光源10發出光線之範圍一致，從而使得所述光源10發出之光線均能夠被反射至第一光學元件31中。
所述光學元件30包括第一光學元件31與第二光學元件32，所述第二光學元件32位於所述光源10發射之光線之光路上，所述第一光學元件31位於所述第二反射結構22反射之光線之光路上。所述第一光學元件31之長度等於所述光源10發出光線之範圍長度，所述第二光學元件32之長度大於或等於所述光源10發出光線之範圍長度，從而使得所述第一光學元件31、所述第二光學元件32能夠接收到所述光源10發出之任意光線。所述第一光學元件31與所述第二光學元件32並排裝設於同一透鏡(Lens)中。在一實施例中，所述第 一光學元件31與所述第二光學元件32可以緊密設置(如圖2所示)；在其他實施例中，所述第一光學元件31與所述第二光學元件32也可以分開設置(如圖1所示)。在一實施例中，所述第二光學元件32靠近所述光源10之垂直方向(所述第二光學元件32可以與所述光源10在同一垂直方向上)，所述第一光學元件31遠離所述光源10之垂直方向。在其他實施例中，所述第一光學元件31與所述第二光學元件32之位置可以互換。可以理解之是，藉由將所述第一光學元件31與所述第二光學元件32並排設置，且均位於光線之光路上，從而實現投影模組100之結構小型化，節省電子裝置300之空間。
在本申請之一實施例中，所述第一光學元件31可以為衍射光學元件(Diffractive Optical Elements，DOE)，所述第二光學元件32可以為擴散器(diffuser)。其中，所述衍射光學元件可以將光線投影形成帶有圖像信息之結構化光線，所述衍射光學元件用於投影散斑結構光，利用衍射原理藉由控制光線之發散角和光斑之形貌，使得光線投影後具有特定之散斑圖案。所述擴散器可以將光線投影形成具有一定光型分佈之均勻光線，所述擴散器發射出去之光起到補光，輔助所述衍射光學元件之作用，有利於提高投影光線之質量。
在本申請之至少一實施例中，所述第一光學元件31與所述第二光學元件32之數量可以根據實際需求設置，在此不作限制。例如，在一實施例中，所述第一光學元件31與所述第二光學元件32之數量可以為1個。在其他實施例中，允許同時存在兩個所述第一光學元件31；或者，允許同時存在兩個所述第二光學元件32。對應於一個光源10，優選地，兩個所述第一光學元件31緊密設置，或者，兩個所述第二光學元件32緊密設置，藉由緊密設置，能夠確保所述光源10發出之光線能被所述第一元件31和/或所述第二光學元件32接收，提高光線利用率。
本申請實施例提供之投影模組100，包括光源10、反射結構20與光學元件30，所述反射結構20包括第一反射結構21與第二反射結構22，所述光學元件30包括第一光學元件31與第二光學元件32，其中，所述光源10發射之光線經所述第一反射結構21與所述第二反射結構22反射至所述第一光學元件31，所述第一光學元件31用於根據接收之光線進行人臉掃描，所述光源10 發射之光線經所述第一反射結構21透射至所述第二光學元件32，所述第二光學元件32用於根據接收之光線進行補光處理，輔助所述第一光學元件31進行人臉掃描。
藉由本申請實施例，將實現補光功能與掃描物體功能之光學部件並排設置在同一投影模組100中，且均位於光線之光路上，能夠實現投影模組100之結構小型化；且由於只需要生成一個投影模組100，可以縮短生產週期，節約生產成本。
請參閱圖3，本申請實施例還提供一種成像模組200，所述成像模組200包括接收模組201以及上述任一實施例之投影模組100。所述接收模組201可以包括成像鏡頭(圖未示出)與圖像感測器(圖未示出)，所述圖像感測器位於所述成像鏡頭之像側。其中，所述成像鏡頭可以將光線彙聚到圖像感測器，有利於提高圖像質量，所述圖像感測器用於採集光線信息並形成圖像信息。
在本申請之至少一實施例中，藉由所述投影模組100發射帶有信息之光線到待測物體表面，由所述接收模組201接收經物體反射後之光線，藉由光線之變化獲得物體之深度信息。具體地，藉由所述成像模組200獲取物體之三維輪廓信息，從而實現更多功能。例如，所述成像模組200可用於人臉識別模組(所述人臉識別模組只使用一個透鏡(Lens))，藉由獲取人臉之深度信息，實現人臉識別等功能。
請參閱圖4，所述投影模組100能夠應用到各種電子裝置300(圖未示出)中，如手機、可穿戴設備、電腦設備、交通工具以及門鎖設備等。在本實施方式中，所述投影模組100應用於一手機中。
本申請實施例在將所述投影模組100應用於電子裝置300時，將實現補光功能與掃描物體功能之光學部件藉由一個投影模組100實現，不需要增加其他光學部件，從而實現電子裝置300之集成度更高，節省電子裝置300之空間，有利於電子裝置300之輕薄化設計。
100:投影模組
10:光源
20:反射結構
21:第一反射結構
22:第二反射結構
30:光學元件
31:第一光學元件
32:第二光學元件

Claims (9)

  1. 一種投影模組，包括光源，其中，所述投影模組還包括：反射結構與光學元件，所述反射結構包括第一反射結構與第二反射結構，所述光學元件包括第一光學元件與第二光學元件，所述第二光學元件位於所述光源發射之光線之光路上，所述第二光學元件之長度大於或等於所述光源發出光線之範圍長度，所述光源發射之光線經所述第一反射結構與所述第二反射結構反射至所述第一光學元件，所述第一光學元件用於根據接收之光線進行人臉掃描，所述光源發射之光線經所述第一反射結構透射至所述第二光學元件，所述第二光學元件用於根據接收之光線進行補光處理，輔助所述第一光學元件進行人臉掃描。
  2. 根據請求項1所述之投影模組，其中，所述第一反射結構位於所述光源發出光線之光路上，所述第二反射結構位於所述第一反射結構反射光線之光路上。
  3. 根據請求項1所述之投影模組，其中，所述第一光學元件位於所述第二反射結構反射之光線之光路上。
  4. 根據請求項1所述之投影模組，其中，所述第一光學元件與所述第二光學元件並排裝設於同一透鏡中。
  5. 根據請求項1所述之投影模組，其中，所述第一光學元件為衍射光學元件，所述第二光學元件為擴散器。
  6. 根據請求項1所述之投影模組，其中，所述光源之數量為1個。
  7. 根據請求項1所述之投影模組，其中，所述第一光學元件與所述第二光學元件之數量包括1個或者2個，當所述第一光學元件之數量為2個或者所述第二光學元件之數量為2個時，2個所述第一光學元件緊密設置，2個所述第二光學元件緊密設置。
  8. 一種成像模組，其中，所述成像模組包括接收模組與如請求項1至7任意一項所述之投影模組，所述接收模組包括成像鏡頭與圖像感測器，所述圖像感測器位於所述成像鏡頭之像側。
  9. 一種應用如請求項1至7中任一項所述之投影模組之電子裝置。
TW109122685A 2020-06-19 2020-07-03 投影模組、成像模組及電子裝置 TWI755781B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010569022.5A CN113820870B (zh) 2020-06-19 2020-06-19 投影模组、成像模组及电子装置
CN202010569022.5 2020-06-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202201105A TW202201105A (zh) 2022-01-01
TWI755781B true TWI755781B (zh) 2022-02-21

Family

ID=78924598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109122685A TWI755781B (zh) 2020-06-19 2020-07-03 投影模組、成像模組及電子裝置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11435658B2 (zh)
CN (1) CN113820870B (zh)
TW (1) TWI755781B (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102572249A (zh) * 2012-03-08 2012-07-11 湖南创远智能科技有限公司 一种用于人脸和虹膜的双模成像光学系统
CN108508621A (zh) * 2018-03-12 2018-09-07 广东欧珀移动通信有限公司 结构光投射模组、图像获取装置及电子设备
CN109709756A (zh) * 2017-10-25 2019-05-03 华为技术有限公司 一种投影器、摄像头模组和终端设备
CN110888290A (zh) * 2018-09-07 2020-03-17 深圳光峰科技股份有限公司 光源系统及投影系统
TWI689752B (zh) * 2018-03-22 2020-04-01 財團法人工業技術研究院 光源模組、感測裝置以及產生疊加結構圖案的方法
US20200110268A1 (en) * 2017-07-05 2020-04-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Compact optical system with mems scanners for image generation and object tracking
CN111175768A (zh) * 2020-02-14 2020-05-19 深圳奥锐达科技有限公司 一种离轴扫描距离测量系统及方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05224128A (ja) * 1992-02-14 1993-09-03 Olympus Optical Co Ltd 走査型顕微鏡
US6183092B1 (en) * 1998-05-01 2001-02-06 Diane Troyer Laser projection apparatus with liquid-crystal light valves and scanning reading beam
US6512385B1 (en) * 1999-07-26 2003-01-28 Paul Pfaff Method for testing a device under test including the interference of two beams
JP4031306B2 (ja) * 2002-07-12 2008-01-09 日本放送協会 ３次元情報検出システム
CN101890575A (zh) * 2010-07-14 2010-11-24 中国科学院上海光学精密机械研究所 具有实时监测的基于达曼光栅的飞秒激光并行微加工装置
US10073336B2 (en) * 2012-09-11 2018-09-11 Barco N.V. Projection system with safety detection
US9373352B2 (en) * 2012-12-10 2016-06-21 Hitachi Consumer Electronics Co., Ltd. Optical information reproduction apparatus and optical information reproduction method
CN104516110A (zh) * 2014-12-30 2015-04-15 华中科技大学 一种共孔径宽波段红外光学系统
US9817238B2 (en) * 2015-12-11 2017-11-14 Everready Precision Ind. Corp. Optical device
US10739607B2 (en) * 2018-03-22 2020-08-11 Industrial Technology Research Institute Light source module, sensing device and method for generating superposition structured patterns
CN108594457A (zh) * 2018-04-03 2018-09-28 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射器、图像获取装置及电子装置
CN208907957U (zh) * 2018-11-12 2019-05-28 南昌欧菲生物识别技术有限公司 投影模组、成像模组和电子装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102572249A (zh) * 2012-03-08 2012-07-11 湖南创远智能科技有限公司 一种用于人脸和虹膜的双模成像光学系统
US20200110268A1 (en) * 2017-07-05 2020-04-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Compact optical system with mems scanners for image generation and object tracking
CN109709756A (zh) * 2017-10-25 2019-05-03 华为技术有限公司 一种投影器、摄像头模组和终端设备
CN108508621A (zh) * 2018-03-12 2018-09-07 广东欧珀移动通信有限公司 结构光投射模组、图像获取装置及电子设备
TWI689752B (zh) * 2018-03-22 2020-04-01 財團法人工業技術研究院 光源模組、感測裝置以及產生疊加結構圖案的方法
CN110888290A (zh) * 2018-09-07 2020-03-17 深圳光峰科技股份有限公司 光源系统及投影系统
CN111175768A (zh) * 2020-02-14 2020-05-19 深圳奥锐达科技有限公司 一种离轴扫描距离测量系统及方法

Also Published As

Publication number Publication date
US11435658B2 (en) 2022-09-06
TW202201105A (zh) 2022-01-01
CN113820870A (zh) 2021-12-21
CN113820870B (zh) 2024-03-29
US20210397074A1 (en) 2021-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3786707B1 (en) Projection module and terminal
US9503708B2 (en) Systems and methods for reducing z-thickness and zero-order effects in depth cameras
US10001583B2 (en) Structured light projection using a compound patterned mask
CN109755859B (zh) 集成结构化光投影仪
US10739607B2 (en) Light source module, sensing device and method for generating superposition structured patterns
US10317781B2 (en) Lighting apparatus and laser diode module
CN107783353B (zh) 用于捕捉立体影像的装置及系统
EP3712660B1 (en) Integrated electronic module for 3d sensing applications, and 3d scanning device including the integrated electronic module
CN109579728B (zh) 基于全息波导的散斑结构光投影模组
US20200192206A1 (en) Structured light projector, three-dimensional camera module and terminal device
US10122146B2 (en) Thin laser package for optical applications
WO2019213865A1 (zh) 一种光源模组、图像获取装置、身份识别装置及电子设备
KR20190000052A (ko) 광 송출장치 및 이를 이용한 ToF(Time of Flight)모듈
TWI755781B (zh) 投影模組、成像模組及電子裝置
US20210389654A1 (en) Projection module, imaging device, and electronic device
WO2019213861A1 (zh) 一种光源模组、图像获取装置、身份识别装置及电子设备
CN115407308A (zh) 一种3d传感模组、3d传感方法及电子设备
TWI691736B (zh) 發光裝置及應用其之圖像採集裝置
US11467419B2 (en) Projection module, structured light three-dimensional imaging device and electronic apparatus
WO2019056662A1 (zh) 投射不相关图案的结构光投影模组
TWI749280B (zh) 結構光發射模塊、結構光感測模塊及電子裝置
CN110223601B (zh) 具有3d摄像头模组的显示装置及电子设备
US11480427B2 (en) Structured light projector
TWI699526B (zh) 光學組件及其組裝方法、光學裝置與電子設備
CN210166522U (zh) 通光件、光发射模组和电子设备