TW202414123A - 描繪裝置以及描繪方法 - Google Patents

Abstract

於描繪裝置1的台21設置有用以保持基板9之基板保持部25。描繪頭41係對基板9照射經過調變的光線。刻度部52係在台21上於主掃描方向中與基板保持部25鄰接地設置。在刻度部52位於描繪頭41的下方的校準位置的狀態下，校準攝影機53係拍攝已從描繪頭41照射至刻度部52之預定的校準圖案。在描繪裝置1中，在台21位於搬入搬出位置的狀態下，刻度部52係位於校準位置，該搬入搬出位置為用以進行基板9相對於基板保持部25的搬入以及搬出之位置。藉此，能一邊抑制產距時間的增大一邊進行描繪頭41的校準。

Description

描繪裝置以及描繪方法

本發明係有關於一種用以對基板照射光線並進行圖案(pattern)的描繪之技術。 [相關申請案的參照] 本申請案係主張2022年9月16日所申請的日本專利申請案JP2022-148502的優先權，將日本專利申請案JP2022-148502的全部的揭示內容援用於本申請案。

以往，在對印刷基板或者半導體基板等(以下稱為「基板」)描繪圖案時利用了描繪裝置；該描繪裝置係對形成於基板上的感光材料照射經過調變的光線並掃描該光線的照射區域，藉此直接地描繪圖案。

在此種描繪裝置中會有下述問題：因為從開始描繪起的時間經過所伴隨之描繪頭的溫度上升以及裝置周邊的溫度變化等，來自描繪頭的光線在基板上的照射位置會變動，從而產生描繪於基板上的圖案的位置偏離。因此，在日本特開2014-197136號公報(文獻1)中提出了一種校準(calibration)方法，係預先取得溫度變化所導致的該照射位置的變動資料，並配合測定的溫度來修正該照射位置。然而，在將溫度作為指標之間接性的校準中，會有校準精密度不足之情形。

另一方面，亦已知有一種校準方法，係與文獻1般從溫度間接地求出照射位置的變動之情形不同，以攝影機觀察來自描繪頭的光線並直接性地求出照射位置的變動。在此種情形中，移動載置有基板的台(stage)且使攝影機位於描繪頭的鉛直下方並進行校準，結束校準後，使台朝描繪頭的鉛直下方移動並對基板進行描繪。因此，於一次的校準需要較長的時間。因此，從縮短產距時間(tact time)(亦即針對一片基板的描繪作業所花費的時間，亦稱為循環時間)的觀點來看，難以於每次結束對於一片基板的描繪時進行校準，而是在每次經過預定的描繪時間時進行校準，或者在每次結束對於兩片以上的預定片數的基板的描繪時進行校準。

此外，在上文所說明般的描繪裝置中，期望進一步地提升描繪位置精密度，需要增大校準的頻繁度且亦需要抑制生產性的降低。因此，要求一邊抑制產距時間的增大一邊進行描繪頭的校準。

本發明係著眼於一種用以對基板照射光線並進行圖案的描繪之描繪裝置，目的在於一邊抑制產距時間的增大一邊進行描繪頭的校準。

本發明的第一態樣為一種描繪裝置，係用以對基板照射光線並進行圖案的描繪，並具備：台，係設置有用以保持前述基板之基板保持部；描繪頭，係對前述基板照射經過調變的光線；主掃描機構，係將前述台於與前述基板的上表面平行的主掃描方向相對於前述描繪頭相對性地移動；刻度部，係在前述台上於前述主掃描方向中與前述基板保持部鄰接地設置；校準攝影機(calibration camera)，係在前述刻度部位於前述描繪頭的下方的校準位置的狀態下，拍攝已從前述描繪頭照射至前述刻度部之預定的校準圖案；修正資訊取得部，係基於檢查圖像求出修正資訊，前述檢查圖像係包含藉由前述校準攝影機所取得的前述刻度部以及前述校準圖案，前述修正資訊係被使用於來自前述描繪頭的光線的照射位置的修正；以及描繪控制部，係基於描繪資料以及前述修正資訊來控制前述描繪頭以及前述主掃描機構，藉此一邊使前述基板於前述主掃描方向相對於前述描繪頭相對性地移動一邊使前述描繪頭執行針對前述基板的描繪。在前述台位於搬入搬出位置的狀態下，前述刻度部係位於前述校準位置，前述搬入搬出位置為用以進行前述基板相對於前述基板保持部的搬入以及搬出之位置。

依據本發明，能一邊抑制產距時間的增大一邊進行描繪頭的校準。

本發明的第二態樣係如第一態樣所記載之描繪裝置，其中前述描繪裝置係進一步地具備：對準攝影機(alignment camera)，係拍攝前述基板上的對準標記；以及對準資訊取得部，係基於藉由前述對準攝影機所取得的前述對準標記的圖像求出對準資訊，前述對準資訊係被使用於前述基板相對於前述描繪頭之相對位置的修正。前述對準攝影機係於前述主掃描方向中隔著前述描繪頭位於前述台中之與前述基板保持部相反之側，且前述台係位於前述搬入搬出位置。

本發明的第三態樣係如第二態樣所記載之描繪裝置，其中前述描繪裝置係進一步地具備：支撐部，係在前述台的上方支撐前述描繪頭。前述對準攝影機亦被前述支撐部支撐。

本發明的第四態樣係如第一態樣(亦可為第一態樣至第三態樣中任一態樣)所記載之描繪裝置，其中前述刻度部為透光性刻度構件，配置於前述台的上表面。前述校準攝影機係在前述透光性刻度構件的下方安裝於前述台，用以拍攝已透過前述透光性刻度構件的前述校準圖案。於前述校準攝影機的上端部施予有低反射加工。

本發明的第五態樣係如第一態樣(亦可為第一態樣至第四態樣中任一態樣)所記載之描繪裝置，其中前述刻度部上的前述校準圖案的前述主掃描方向中的位置係能夠在前述台已經靜止的狀態下藉由前述描繪頭進行變更。

本發明的第六態樣係如第一態樣(亦可為第一態樣至第五態樣中任一態樣)所記載之描繪裝置，其中前述描繪頭係具備：複數個光源，係射出彼此不同的波長的光線。在對前述基板進行描繪時，使用複數個前述光源中的兩個以上的光源。朝前述刻度部照射前述校準圖案時，僅使用複數個前述光源中的一個光源。

本發明的第七態樣係如第一態樣(亦可為第一態樣至第六態樣中任一態樣)所記載之描繪裝置，其中包含前述描繪頭且用以分別對前述基板照射經過調變的光線之複數個描繪頭係排列於與前述基板的上表面平行且相對於前述主掃描方向呈傾斜之排列方向。前述校準攝影機係在前述刻度部位於前述校準位置的狀態下，一邊於前述排列方向移動一邊依序拍攝從複數個前述描繪頭分別照射至前述刻度部之複數個校準圖案。

本發明的第八態樣係如第一態樣至第七態樣中任一態樣所記載之描繪裝置，其中前述校準攝影機所為的前述檢查圖像的取得所需的時間係比為了從前述基板保持部搬出一片基板並將新的基板搬入至前述基板保持部所需的時間還短。

本發明的第九態樣係如第一態樣至第七態樣任一態樣(亦可為第一態樣至第八態樣中任一態樣)所記載之描繪裝置，其中前述校準攝影機所為的前述檢查圖像的取得係在每次朝前述基板保持部搬入基板時進行。

本發明亦著眼於一種用以對基板照射光線並進行圖案的描繪之描繪方法。本發明的第十態樣為一種描繪方法，係用以對基板照射光線並進行圖案的描繪，並具備下述工序：工序a，係在設置有基板保持部以及刻度部之台位於搬入搬出位置的狀態下，拍攝已從描繪頭照射至位於前述描繪頭的下方的校準位置的前述刻度部之預定的校準圖案，其中，前述基板保持部係用以保持前述基板，前述刻度部係在與前述基板的上表面平行的主掃描方向中與前述基板保持部鄰接，前述搬入搬出位置為用以進行前述基板相對於前述基板保持部的搬入以及搬出之位置；工序b，係基於檢查圖像求出修正資訊，前述檢查圖像係包含藉由在前述工序a中所取得的前述刻度部以及前述校準圖案，前述修正資訊係被使用於來自前述描繪頭的光線的照射位置的修正；以及工序c，係基於描繪資料以及前述修正資訊，從前述描繪頭對於前述主掃描方向相對於前述描繪頭相對性地移動之前述基板照射經過調變的光線並對前述基板進行描繪。

參照隨附的圖式並藉由以下所進行的本發明的詳細的說明，更明瞭上述目的以及其他的目的、特徵、態樣以及優點。

圖1係顯示本發明的實施形態之一的描繪裝置1之立體圖。描繪裝置1為直接描繪裝置，用以對基板9上的感光材料照射經過空間調變的略束狀的光線並於基板9上掃描該光線的照射區域，藉此進行圖案的描繪。在圖1中以箭頭顯示彼此正交的三個方向作為X方向、Y方向以及Z方向。在圖1所示的例子中，X方向以及Y方向為彼此垂直的水平方向，Z方向為鉛直方向(亦即上下方向)。在其他的圖中亦相同。

基板9係例如為略矩形平板狀的印刷基板。在基板9的+Z側的主表面(以下亦稱為「上表面91」)中，於銅層上設置有藉由感光材料所形成的阻劑(resist)膜。在描繪裝置1中，於基板9的該阻劑膜描繪(亦即形成)有電路圖案。此外，基板9的種類以及形狀等亦可進行各種變更。

如圖1所示，描繪裝置1係具備台21、台移動機構22、對準部3、描繪部4、校準部5以及控制部10。控制部10係控制台移動機構22、對準部3、描繪部4以及校準部5等。

台21為略矩形平板狀的構件，配置於對準部3以及描繪部4的下方(亦即-Z側)。台21係具備：基板保持部25，係從下側保持水平狀態的基板9。基板保持部25係例如為真空夾具(vacuum chuck)，用以吸附並保持基板9的下表面。基板保持部25亦可具有真空夾具以外的構造，例如亦可為機械夾具。載置於基板保持部25上的基板9的上表面91係與Z方向略垂直，且與X方向以及Y方向略平行。

台移動機構22為移動機構，用以將台21相對於對準部3以及描繪部4於水平方向(亦即與基板9的上表面91略平行的方向)相對性地移動。台移動機構22係具備第一移動機構23以及第二移動機構24。第二移動機構24係將台21沿著導軌於X方向直線移動。第一移動機構23係將台21與第二移動機構24一起沿著導軌於Y方向直線移動。第一移動機構23以及第二移動機構24的驅動源係例如為線性伺服馬達或者於滾珠螺桿安裝有馬達之構造。第一移動機構23以及第二移動機構24的構造亦可進行各種變更。

在描繪裝置1中亦可設置有：台旋轉機構，係使台21以將於Z方向延伸的旋轉軸作為中心旋轉。此外，亦可於描繪裝置1設置有：台升降機構，係將台21於Z方向移動。作為台旋轉機構，例如能夠利用伺服馬達。作為台升降機構，例如能夠利用線性伺服馬達。台旋轉機構以及台升降機構的構造亦可進行各種變更。

對準部3係具備：複數個(在圖1所示的例子中為兩個)對準攝影機31，係排列於X方向。各個對準攝影機31係藉由跨越台21以及台移動機構22而設置的支撐部40支撐在台21以及台移動機構22的上方。支撐部40為設置於Y方向中的一個位置之單一個構件。在圖1所示的例子中，支撐部40為門形的構件(所謂的高架(gantry))，且跨越台21以及台移動機構22。

在圖1所示的例子中，兩個對準攝影機31係安裝於支撐部40的+Y側的側面。兩個對準攝影機31中的例如一方的對準攝影機31係被固定於支撐部40，另一方的對準攝影機31係能夠在支撐部40上於X方向移動。藉此，能變更兩個對準攝影機31之間的X方向的距離。此外，對準部3的對準攝影機31的數量亦可為一個，亦可為三個以上。

各個對準攝影機31係具備省略圖示的拍攝元件以及光學系統。各個對準攝影機31係例如為用以取得二維的圖像之區域攝影機(area camera)。在各個對準攝影機31中，從省略圖示的照明光源被導引至基板9的上表面91之照明光的反射光係經由光學系統被導引至拍攝元件。該拍攝元件係接收來自基板9的上表面91的反射光，從而取得略矩形狀的拍攝區域的圖像。對準攝影機31係拍攝預先設置於基板9的上表面91的對準標記(省略圖示)。作為上文所說明的照明光源，能夠利用LED(Light Emitting Diode；發光二極體)等各種光源。此外，各個對準攝影機31亦可為線列式攝影機(line camera)等其他種類的攝影機。

藉由對準攝影機31所取得且包含對準標記之圖像(以下亦稱為「對準圖像」)係被輸送至圖1所示的控制部10。在控制部10中，基於對準圖像進行基板9的對準(亦即基板9相對於後述的描繪頭41之相對位置的修正)。

描繪部4係具備：複數個(在圖1所示的例子中為六個)描繪頭41，係排列於X方向。複數個描繪頭41係具有略相同的構造。各個描繪頭41係具備：空間光線調變器，係朝向下方照射經過調變(亦即經過空間調變)的光線。各個描繪頭41係藉由上文所說明的支撐部40被支撐於台21以及台移動機構22的上方。在圖1所示的例子中，六個描繪頭41係安裝於支撐部40的-Y側的側面。換言之，六個描繪頭41係於Y方向隔著支撐部40配置於與上文所說明的兩個對準攝影機31相反之側。進一步換言之，兩個對準攝影機31係於Y方向隔著六個描繪頭41位於台21中之與基板保持部25相反之側，其中該台21係位於後述的搬入搬出位置。

在圖1所示的例子中，六個描繪頭41係與X方向略平行地排列成略直線狀。此外，六個描繪頭41與台21上的基板9的上表面91之間的Z方向的距離係略相同。換言之，六個描繪頭41的排列方向係與基板9的上表面91略平行且與Y方向略垂直。進一步換言之，六個描繪頭41的Y方向以及Z方向中的位置係略相同。

此外，上文所說明的描繪頭41的排列方向只要為相對於Y方向呈傾斜之方向即可，並不一定需要與X方向平行。在描繪部4中，複數個描繪頭41係不一定需要排列於一條直線上，亦可排列成例如交錯狀。此外，在描繪部4中，描繪頭41的數量係可為一個，亦可為兩個以上。

在描繪裝置1中，針對基板9之圖案描繪係藉由所謂的多程(multi pass)方式進行。具體而言，一邊從描繪部4的複數個描繪頭41將經過調變的光線照射至基板9的上表面91上，一邊藉由台移動機構22的第一移動機構23使基板9於Y方向移動並通過描繪頭41的下方。藉此，來自複數個描繪頭41的光線的照射區域係於基板9上朝Y方向掃描，從而對基板9進行描繪。接著，藉由第二移動機構24使基板9於X方向步階移動(step shift)達至預定距離。接著，再度進行第一移動機構23所為之使基板9朝Y方向的移動以及描繪頭41與該基板9朝Y方向的移動並行地朝基板9照射光線，從而對基板9進行描繪。在描繪裝置1中，交互地進行朝於Y方向移動的基板9照射光線以及基板9朝X方向的步階移動，藉此對基板9進行圖案的描繪。

在以下的說明中，亦將Y方向稱為「主掃描方向」，且亦將X方向稱為「副掃描方向」。主掃描方向以及副掃描方向為與基板9的上表面91略平行的方向。在台移動機構22中，第一移動機構23為主掃描機構，用以使台21於主掃描方向相對於描繪頭41相對性地移動。此外，第二移動機構24為副掃描機構，用以使台21於副掃描方向相對於描繪頭41相對性地移動。此外，在描繪裝置1中，亦可藉由單程(single pass)方式(亦稱為單向(one pass)方式)方式對基板9進行描繪；單程方式為：將基板9於Y方向相對於描繪頭41僅進行一次相對移動，藉此完成朝基板9上描繪圖案。在此種情形中，於圖案的描繪時不藉由第二移動機構24進行基板9的副掃描(亦即朝X方向的步階移動)。

校準部5係在台21上設置於基板保持部25的+Y側。校準部5係被使用於描繪頭41的校準(亦即來自描繪頭41的光線的照射位置的測定以及修正)。

圖2係放大地顯示描繪裝置1的校準部5附近之俯視圖。圖3係顯示校準部5以及描繪頭41的構成之前視圖。在圖3中顯示描繪頭41位於校準部5的鉛直上方的狀態。在圖3中顯示台21的內部的構成以及一個描繪頭41的內部的構成。其他的描繪頭41的構造係與該一個描繪頭41的構造略相同。

如圖3所示，描繪頭41係具備光源部42、照明光學系統43、空間光線調變器44(以下亦簡稱為「光線調變器44」)以及投影光學系統45。從光源部42射出的光線係藉由照明光學系統43導引至光線調變器44並在光線調變器44中經過調變後，藉由投影光學系統45導引至描繪頭41的下方(亦即-Z方向)。

光源部42係具備：複數個光源，係射出彼此不同的波長的光線。在圖3所示的例子中，光源部42係具備三個光源421至423。作為光源421至423，能夠利用LD(Laser Diode；雷射二極體)等各種光源。對基板9描繪圖案時，配合基板9上的感光材料的種類等使用例如光源421至423中的兩個以上的光源。此外，設置於光源部42的光源的數量亦可為一個或者兩個，亦可為四個以上。設置於光源部42的光源並未限定於LD，亦能夠利用各種類種的光源。

照明光學系統43以及投影光學系統45係分別具備省略圖示的複數個透鏡等光學元件。作為光線調變器44，能夠利用DMD(Digital Micro Mirror Device；數位微鏡元件)或者GLV(Grating Light Valve；柵光閥)(Silicon Light Machines公司(森尼韋爾(Sunnyvale)、加利福尼亞(California))的註冊商標)等各種光線調變器。光線調變器44並未限定於上文所說明的例子，能夠利用各種種類的光線調變器。

校準部5係具備拍攝部51以及刻度部52。刻度部52為略平板狀的構件，設置於台21上。刻度部52係配置於台21的上表面，且鄰接(亦即接近地配置)於基板保持部25的+Y側。在圖2所示的例子中，刻度部52為與X方向略平行地延伸的略矩形帶狀的構件，且具有透光性。於刻度部52的+Z側的主表面設置有眾多的刻度，該眾多的刻度係用以顯示刻度部52的+Z側的主表面上的X方向的位置。換言之，刻度部52為透光性刻度構件，例如為略透明的玻璃刻度尺(glass scale)。刻度部52的該刻度係例如為十字圖案或者其他形狀的圖案。此外，刻度部52亦可為半透明的構件。

拍攝部51係在刻度部52的下方安裝於台21的內部。拍攝部51係具備校準攝影機53以及攝影機移動機構54。校準攝影機53係在刻度部52的鉛直下方處配置成朝向上方。校準攝影機53係例如為數位攝影機，且具有CCD(Charge Coupled Device；電荷耦合元件)或者CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor；互補式金屬氧化物半導體)作為拍攝元件。此外，校準攝影機53的種類以及性能亦可適當地設定。

於校準攝影機53的上端部(亦即經由刻度部52而與描繪頭41對向之部位)施加有低反射加工。具體而言，例如於校準攝影機53的物鏡(objective lens)的框架貼附有用以使反射率降低之反射防止膜。藉此，在藉由對準攝影機31進行拍攝時能抑制無意中拍攝到來自校準攝影機53的反射光。此外，上文所說明的低反射加工亦可藉由反射防止膜以外的各種構造以及方法來進行。

攝影機移動機構54為移動機構，用以在台21的內部將校準攝影機53沿著導軌於X方向直線移動。攝影機移動機構54的驅動源係例如為線性伺服馬達或者於滾珠螺桿安裝了馬達之驅動源。攝影機移動機構54的構造亦可進行各種變更。

在描繪裝置1中，在複數個描繪頭41位於校準部5的刻度部52的鉛直上方的狀態下，藉由攝影機移動機構54移動校準攝影機53並配置於屬於校準對象的一個描繪頭41的鉛直下方。從該一個描繪頭41朝向刻度部52射出預定的校準圖案(亦即被利用於描繪頭41的校準之圖案)。校準圖案係例如為十字型的圖案。校準圖案的形狀只要為能夠算出重心位置之形狀則亦可進行各種變更。

校準攝影機53係從下方經由刻度部52一起拍攝刻度部52上之來自描繪頭41的光線的照射區域(亦即校準圖案)以及預先形成於刻度部52上的刻度。換言之，校準攝影機53係一起拍攝透過刻度部52的校準圖案以及刻度。藉由校準攝影機53所取得的圖像(以下亦稱為「檢查圖像」)係被輸送至圖1所示的控制部10。在控制部10中，基於檢查圖案進行上文所說明的一個描繪頭41的校準。此外，在進行其他的描繪頭41的校準之情形中，藉由攝影機移動機構54將校準攝影機53朝X方向移動且在位於該其他的描繪頭41的鉛直下方後，以同樣的順序進行校準。

圖4係顯示作為控制部10發揮作用的電腦100的構成之圖。電腦100為具備有處理器(processor)101、記憶體102、輸入輸出部103以及匯流排(bus)104之一般的電腦。匯流排104為用以連接處理器101、記憶體102以及輸入輸出部103之訊號電路。記憶體102係記憶程式以及各種資訊。處理器101係依循記憶於記憶體102的程式等，一邊利用記憶體102等一邊執行各種處理(例如數值計算、圖像處理)。輸入輸出部103係具備：鍵盤105以及滑鼠106，係接受來自操作者的輸入；以及顯示器107，係顯示來自處理器101的輸出等。此外，控制部10係可為可程式邏輯控制器(PLC；Programmable Logic Controller)或者電路基板等，亦可為這些構件與一個以上的電腦的組合。

圖5係顯示藉由電腦100所實現的控制部10的功能之方塊圖。在圖5中亦一併顯示控制部10以外的構成。控制部10係具備記憶部111、拍攝控制部112、位置檢測部113、修正資訊取得部114、對準資訊取得部115以及描繪控制部116。記憶部111係主要藉由記憶體102所實現，並預先記憶欲被描繪至基板9之預定的圖案的資料(亦即描繪用資料)等各種資訊。拍攝控制部112、位置檢測部113、修正資訊取得部114、對準資訊取得部115以及描繪控制部116係主要藉由處理器101所實現。

拍攝控制部112係控制描繪頭41以及拍攝部51，藉此從描繪頭41對刻度部52(參照圖2以及圖3)照射預先儲存於記憶部111的校準圖案，並使拍攝部51取得上文所說明的校準用的檢查圖像。該檢查圖像係從拍攝部51被輸送至控制部10並被存儲於記憶部111。

位置檢測部113係基於包含刻度部52以及校準圖案的圖像之該檢查圖像，求出刻度部52上之來自描繪頭41的光線的照射位置(以下亦稱為「測定位置」)。如上所述，由於刻度部52被固定於台21上，因此刻度部52相對於基板保持部25之相對位置亦被固定。因此，檢測刻度部52的上文所說明的眾多的刻度上的校準圖案的照射位置，藉此求出從描繪頭41照射的光線的照射位置相對於基板保持部25之相對性的位置。

修正資訊取得部114係基於藉由位置檢測部113所求出的上文所說明的測定位置求出修正資訊，該修正資訊係被使用於來自描繪頭41的光線在基板9上的照射位置的修正。具體而言，比較測定位置與從描繪頭41照射的校準圖案在刻度部52上的設計上的照射位置(以下亦稱為「設計位置」)，求出測定位置與設計位置之間的X方向以及Y方向中的距離(亦即與設計位置相距的偏離量)。修正資訊取得部114係基於該偏離量求出修正資訊，該修正資訊係以使來自描繪頭41的光線的照射位置與設計位置一致之方式進行修正。該修正資訊係例如為用以配合該偏離量修正被描繪於基板9上的圖案的描繪資料之資訊。或者，該修正資訊亦可為用以在對基板9描繪圖案時修正台移動機構22對於基板9的移動之資訊。

對準資訊取得部115係基於藉由對準部3的對準攝影機31所取得的上文所說明的對準標記的圖像(以下亦稱為「對準圖像」)來取得對準資訊，該對準資訊係被使用於基板9的對準(亦即基板9相對於描繪頭41之相對位置的修正)。具體而言，基於對準圖像中的對準標記的位置求出基板保持部25上的基板9的位置，並求出基板保持部25上的基板9與設計位置相距的偏離量。換言之，求出基板9相對於描繪頭41之相對位置與設計位置相距的偏離量。對準資訊取得部115係基於該偏離量求出對準資訊，該對準資訊係以使基板9相對於描繪頭41之相對位置與設計位置一致之方式進行修正。該對準資訊係例如為用以在針對基板9描繪圖案時修正台移動機構22對於基板9的移動之資訊。或者，該對準資訊亦可為用以配合上文所說明的偏離量修正被描繪於基板9上的圖案的描繪資料之資訊。

描繪控制部116係基於記憶於記憶部111的描繪資料、藉由修正資訊取得部114所求出的修正資訊、以及藉由對準資訊取得部115所求出的對準資訊等控制描繪頭41以及台移動機構22，藉此一邊使基板9相對於描繪頭41相對性地移動，一邊使描繪頭41對基板9執行描繪。

接著，參照圖6以及圖7A至圖7E說明描繪裝置1所為的圖案的描繪。圖6係顯示針對基板9的圖案描繪的流程的一例之圖。圖7A至圖7E係示意性地顯示描繪裝置1的主要構成之前視圖，用以說明描繪裝置1的動作。在圖7A至圖7E中亦以實線顯示台21的內部的構成。

首先，對基板9進行描繪時，台21係位於圖7A所示的位置。在以下的說明中，亦將圖7A所示的台21的Y方向的位置稱為「搬入搬出位置」。在描繪裝置1中，在台21位於搬入搬出位置的狀態下，描繪裝置1中已經結束描繪的基板9係如二點鏈線所示般從台21被搬出至描繪裝置1的外部。此外，新的基板9(亦即預定供描繪裝置1進行描繪的基板9)係被搬入至描繪裝置1，並被保持於基板保持部25的台21上(步驟S11)。亦即，在步驟S11中，在台21位於搬入搬出位置的狀態下，進行基板9相對於基板保持部25的搬入以及搬出。基板9的搬入以及搬出係例如藉由省略圖示的搬入搬出裝置來進行，亦可藉由作業員的手動作業來進行。在台21位於該搬入搬出位置的狀態下，基板保持部25係位於比被安裝於支撐部40(參照圖1)之描繪部4的複數個描繪頭41以及複數個對準攝影機31還要-Y側。

在圖7A所示的狀態下，校準部5的刻度部52係位於描繪頭41的鉛直下方。在以下的說明中，亦將圖7A所示的刻度部52的Y方向的位置稱為「校準位置」。在描繪裝置1中，在台21位於搬入搬出位置且刻度部52位於校準位置的狀態下，與步驟S11中的基板9的搬入以及搬出並行地進行複數個描繪頭41的校準。

具體而言，藉由攝影機移動機構54(參照圖2以及圖3)移動校準攝影機53，並配置於屬於校準對象的一個描繪頭41的鉛直下方。接著，藉由控制部10控制該描繪頭41的光源部42以及光線調變器44(參照圖3)等，藉此從該描繪頭41對刻度部52照射上文所說明的校準圖案。在光源部42中，在照射校準圖案時，僅使用上文所說明的光源421至423(參照圖3)中預先決定的一個光源。藉此，藉由單一個波長的光線形成刻度部52上的校準圖案。

校準攝影機53係一起拍攝被照射至位於校準位置的刻度部52的校準圖案以及刻度部52的刻度，從而取得檢查圖像。所取得的檢查圖像係被輸送至控制部10並被儲存於記憶部111(參照圖5)。

在取得檢查圖像時會有下述情形等：校準圖案在Y方向偏離地較大，且離開校準攝影機53的視野。在此種情形中，以校準圖案收斂於校準攝影機53的視野內之方式修正刻度部52上的校準圖案的Y方向中的位置後，進行檢查圖像的取得。校準圖案的Y方向中的位置的修正係在台21靜止的狀態下(亦即無需使台21於Y方向移動)藉由描繪頭41來進行。

具體而言，例如在記憶部111預先儲存有Y方向中的位置不同的複數個校準圖案的資料並且刻度部52上的校準圖案的位置偏離至+Y側之情形中，將校準圖案比目前的資料還要位於-Y側之資料與該目前的資料交換。接著，基於交換後的資料來控制描繪頭41，藉此刻度部52上的校準圖案的位置係朝-Y側移動。

藉此，由於無需使台21移動(亦即無需使刻度部52移動)即能夠適當地拍攝校準圖案，因此能縮短描繪頭41的校準所需的時間。此外，如上所述，由於描繪頭41的校準係與基板9的搬入以及搬出並行地進行，因此防止因為台21的移動對基板9的搬入以及搬出產生不良影響(例如台21的移動中的搬入搬出作業的中斷)。此外，描繪頭41所為的校準圖案的位置變更並未限定於上文所說明的方法，亦可藉由其他的方法來進行。

接著，藉由攝影機移動機構54將校準攝影機53於X方向移動並配置於下一個描繪頭41的鉛直下方，該下一個描繪頭41係在X方向中與檢查圖像取得完畢的描繪頭41鄰接。接著，與上文所說明同樣地，拍攝從該下一個描繪頭41照射至刻度部52的校準圖案，並取得該下一個描繪頭41的檢查圖像。在描繪裝置1中，針對描繪部4的全部的描繪頭41依序進行校準攝影機53所為的檢查圖像的取得(步驟S12)。換言之，該一個校準攝影機53係一邊於X方向(亦即複數個描繪頭41的排列方向)移動一邊依序拍攝從複數個描繪頭41分別照射至刻度部52的複數個校準圖案。

在描繪裝置1中，步驟S12的所需時間(亦即複數個描繪頭41的全部的檢查圖像取得所需的時間)係較佳為比在步驟S11中從基板保持部25搬出一個基板9並將新的基板9搬入至基板保持部25所需的時間還短。此外，在描繪裝置1中，在一個描繪頭41的檢查圖像取得時，係可停止從其他的描繪頭41照射校準圖案，亦可從其他的描繪頭41對刻度部52照射校準圖案。

在描繪裝置1中，當取得一個描繪頭41的檢查圖像時，位置檢測部113(參照圖5)係基於該檢查圖像求出刻度部52上之來自描繪頭41的光線的照射位置(亦即校準圖案的測定位置)。接著，修正資訊取得部114(參照圖5)係基於該校準圖案的測定位置求出與從上文所說明的一個描繪頭41的光線的照射位置相關的修正資訊(步驟S13)。如此，較佳為在描繪裝置1中並行地進行複數個描繪頭41的檢查圖像的取得以及基於檢查圖像之修正資訊的取得。

當結束基板9的搬入與搬出(步驟S11)以及針對全部的描繪頭41的檢查圖像的取得(步驟S12)時，藉由台移動機構22的第一移動機構23將台21朝+Y方向移動。台21朝+Y方向的移動係例如在針對全部的描繪頭41取得上文所說明的修正資訊之前(亦即在結束步驟S13之前)開始。在此種情形中，步驟S13亦在基板9的移動中持續地進行。此外，步驟S21的移動亦可在步驟S13結束後再開始。

台21係朝+Y方向移動，藉此如圖7B所示通過對準攝影機31的下方並朝圖7C所示的待機位置移動後則停止。如圖7B所示，在台21通過對準攝影機31的下方時，藉由對準攝影機31拍攝預先設置於基板保持部25上的基板9的對準標記(省略圖示)。在拍攝對準標記時，從對準部3的上文所說明的照明光源朝對準攝影機31的拍攝區域照射脈衝(pulse)狀的照明光(亦即閃光)。藉此，精密度佳地拍攝移動中的基板9上的對準標記。如上所述，在通過對準攝影機31的下方之校準部5中，由於在校準攝影機53的上端部施加了低反射加工，因此抑制或者防止上文所說明的照明光因為校準攝影機53所致使的反射光射入至對準攝影機31。

藉由對準攝影機31所取得且包含對準標記之圖像(亦即對準圖像)係被輸送至控制部10並被儲存於記憶部111(參照圖5)。在對準資訊取得部115中，基於該對準圖像求出對準資訊。接著，描繪控制部116係基於該對準資訊進行基板9的對準處理(步驟S14)。在對準處理中，為了使基板9的位置與預定的設計位置一致，例如進行台21朝X方向以及Y方向的位移(shift)(亦即微小距離的移動)以及旋轉，或者進行被描繪至基板9上之圖案的描繪資料的修正等。

當結束上文所說明的對準處理時，使位於待機位置的台21開始朝-Y方向移動。在校準部5中，在台21開始朝-Y方向移動之前，校準攝影機53係朝X方向移動，並從刻度部52的鉛直下方朝位於+X側或者-X側的退避位置退避。亦即，退避位置係位於比在台21中設置有刻度部52的位置還要+X側或者-X側。藉此，能抑制或者防止被使用於圖案的描繪之較高強度的光線射入至校準攝影機53。

如圖7D所示，在描繪裝置1中，被基板保持部25保持的基板9通過描繪頭41的下方。接著，描繪控制部116(參照圖5)係基於上文所說明的描繪資料以及修正資訊等控制描繪頭41以及台移動機構22，藉此從描繪頭41對在描繪頭41的下方朝Y方向移動的台21上的基板9照射經過調變的光線並描繪圖案(步驟S15)。

在本實施形態中，如上所述，由於以多程方式對基板9進行圖案描繪，因此從描繪頭41對在描繪頭41的下方朝Y方向往復移動的基板9照射經過調變的光線並描繪圖案。此外，較佳為在對基板9描繪圖案時，在各個描繪頭41中使用光源部42的三個光源421至423(參照圖3)中的兩個以上的光源。藉此，能配合基板9上的感光材料的種類等進行適當的圖案描繪。

當結束對基板9描繪圖案時，台21係朝圖7E所示的搬入搬出位置移動(步驟S16)。此時，校準攝影機53係從退避位置朝X方向移動並返回至刻度部52的鉛直下方。藉此，結束對一片基板9描繪圖案。

在實際的描繪裝置1中，從步驟S16返回至步驟S11，重複進行步驟S11至步驟S16，依序對複數片基板9進行圖案的描繪。如此，在描繪裝置1中，在每次朝基板保持部25搬入基板9(步驟S11)時進行校準攝影機53所為的檢查圖像的取得(步驟S12)，藉此即使在連續地對複數片基板9進行圖案描繪之情形中，亦能以高精密度的狀態維持對於基板9的圖案描繪。

在描繪裝置1中，針對全部的描繪頭41之修正資訊的取得(步驟S13)以及基板9的對準處理(步驟S14)係只要直至開始對基板9描繪圖案為止再結束即可。此外，步驟S13的結束係可在步驟S14的結束之前或者之後，亦可略同時。

如以上所說明般，用以對基板9照射光線並進行圖案的描繪之描繪裝置1係具備台21、描繪頭41、主掃描機構(亦即第一移動機構23)、刻度部52、校準攝影機53、修正資訊取得部114以及描繪控制部116。於台21設置有用以保持基板9之基板保持部25。描繪頭41係對基板9照射經過調變的光線。第一移動機構23係將台21於與基板9的上表面91平行的主掃描方向(在上述例子中為Y方向)相對於描繪頭41相對性地移動。刻度部52係在台21上於主掃描方向中與基板保持部25鄰接地設置。校準攝影機53係在刻度部52位於描繪頭41的下方的校準位置的狀態下，拍攝已從描繪頭41照射至刻度部52之預定的校準圖案。修正資訊取得部114係基於檢查圖像求出修正資訊，該檢查圖像係包含藉由校準攝影機53所取得的刻度部52以及校準圖案，該修正資訊係被使用於來自描繪頭41的光線的照射位置的修正。描繪控制部116係基於描繪資料以及修正資訊來控制描繪頭41以及第一移動機構23，藉此一邊使基板9於主掃描方向相對於描繪頭41相對性地移動一邊使描繪頭41執行針對基板9的描繪。在描繪裝置1中，在台21位於搬入搬出位置的狀態下，刻度部52係位於校準位置，該搬入搬出位置為用以進行基板9相對於基板保持部25的搬入以及搬出之位置。藉此，能夠與基板9相對於描繪裝置1的搬入以及搬出並行地進行描繪頭41的校準。因此，能一邊抑制產距時間的增大一邊進行描繪頭41的校準。

如上所述，較佳為描繪裝置1係進一步地具備對準攝影機31以及對準資訊取得部115。對準攝影機31係拍攝基板9上的對準標記。對準資訊取得部115係基於藉由對準攝影機31所取得的對準標記的圖像(亦即對準圖像)求出對準資訊，該對準資訊係被使用於基板9相對於描繪頭41之相對位置的修正。對準攝影機31係於主掃描方向中隔著描繪頭41位於台21中之與基板保持部25相反之側，該台21係位於搬入搬出位置。藉此，與對準攝影機31位於描繪頭41與台21的基板保持部25之間且該台21位於搬入搬出位置之情形相比，能於主掃描方向將台21小型化。結果，能於主掃描方向將描繪裝置1小型化。

如上所述，較佳為描繪裝置1係進一步地具備：支撐部40，係在台21的上方支撐描繪頭41。此外，對準攝影機31亦被支撐部40支撐。藉此，與分別設置有描繪頭41用的支撐部與對準攝影機31用的支撐部之情形相比，能簡化描繪裝置1的構造，且能於主掃描方向將描繪裝置1小型化。此外，在分別設置有描繪頭41用的支撐部以及對準攝影機31用的支撐部之情形中，雖然會有描繪頭41以及對準攝影機31的相對位置的偏離因為兩個支撐部的熱變形等而變大之可能性，然而如上所述般，藉由將一個構件的支撐部40共用於描繪頭41以及對準攝影機31的支撐，能抑制描繪頭41以及對準攝影機31的相對位置的偏離。

如上所述，刻度部52為透光性刻度構件，配置於台21的上表面。校準攝影機53係在透光性刻度構件的下方安裝於台21，用以拍攝已透過該透光性刻度構件的校準圖案。較佳為，於校準攝影機53的上端部施予有低反射加工。藉此，在對準攝影機31進行拍攝時等，能抑制來自校準攝影機53的反射光(例如來自物鏡的框架的反射光)射入至對準攝影機31。因此，由於在對準攝影機31進行拍攝時無需使校準攝影機53從刻度部52的下方退避，因此能縮短產距時間。

如上所述，較佳為刻度部52上的校準圖案的主掃描方向中的位置係能夠在台21已經靜止的狀態下藉由描繪頭41進行變更。藉此，在校準圖案從刻度部52上的預定位置朝主掃描方向較大幅地偏離之情形中，無需使台21移動即能夠拍攝校準圖案。因此，能防止校準時台21的移動導致產距時間的增大。

如上所述，較佳為描繪頭41係具備：複數個光源(在上述例子中為光源421至423)，係射出彼此不同的波長的光線。此外，在對基板9進行描繪時，使用複數個光源中的兩個以上的光源；朝刻度部52照射校準圖案時，僅使用複數個光源中的一個光源。藉此，在對基板9描繪圖案時，能配合基板9上的感光材料的種類等選擇使用光源以及光量比等，從而能進行適當的圖案描繪。此外，配合來自一個光源的光線的波長來設定校準攝影機53，藉此能精密度佳地拍攝校準圖案。

如上所述，較佳為在描繪裝置1，複數個描繪頭41係排列於與基板9的上表面91平行且相對於主掃描方向呈傾斜之排列方向。該複數個描繪頭41係包含上文所說明的描繪頭41且分別對基板9照射經過調變的光線。此外，校準攝影機53係在刻度部52位於校準位置的狀態下，一邊於上文所說明的排列方向移動一邊依序拍攝從複數個描繪頭41分別照射至刻度部52之複數個校準圖案。藉此，與於校準部5設置複數個校準攝影機之情形相比，能簡化描繪裝置1的構造並能降低描繪裝置1的製造成本。

如上所述，較佳為校準攝影機53所為的檢查圖像的取得(步驟S12)所需的時間係比為了從基板保持部25搬出一片基板9並將新的基板9搬入至基板保持部25所需的時間還短。藉此，能在結束基板9的搬入以及搬出後立即開始台21的移動。因此，能防止因為校準導致產距時間的增大。

如上所述，較佳為校準攝影機53所為的檢查圖像的取得係在每次朝基板保持部25搬入基板9時進行。藉此，能一邊抑制產距時間的增大一邊實現高精密度的描繪。

上文所說明的描繪方法係具備下述工序：在設置有基板保持部25以及刻度部52之台21位於搬入搬出位置的狀態下，拍攝已從描繪頭41照射至位於描繪頭41的下方的校準位置的刻度部52之預定的校準圖案，其中，基板保持部25係用以保持基板9，刻度部52係在與基板9的上表面91平行的主掃描方向中與基板保持部25鄰接，搬入搬出位置為用以進行基板9相對於基板保持部25搬入以及搬出之位置(步驟S12)；基於檢查圖像求出修正資訊，該檢查圖像係包含藉由在步驟S12中所取得的刻度部52以及校準圖案，該修正資訊係被使用於來自描繪頭41的光線的照射位置的修正(步驟S13)；以及基於描繪資料以及修正資訊，從描繪頭41對於主掃描方向相對於描繪頭41相對性地移動之基板9照射經過調變的光線並對基板9進行描繪(步驟S15)。藉此，與上文所說明同樣地，能一邊抑制產距時間的增大一邊進行描繪頭41的校準。

在上文所說明的描繪裝置1以及描繪方法中能夠進行各種變更。

例如，在描繪頭41的光源部42中，在拍攝檢查圖像時亦可從兩個以上的光源射出光線。此外，光源部42並不一定需要具備複數個光源，亦可僅具備一個光源。

在描繪裝置1中，刻度部52上的校準圖案的Y方向的位置並不一定需要藉由描繪頭41而變更，亦可藉由台21於Y方向移動而變更。

在描繪裝置1中，校準攝影機53所為的檢查圖像的取得(步驟S12)所需的時間亦可比從基板保持部25搬出一片基板9並將新的基板9搬入至基板保持部25所需的時間還長，亦可略相同。在任一種情形中，並行地進行基板9的搬入與搬出以及描繪頭41的校準，藉此能縮短產距時間。

在描繪裝置1中亦可為：在校準部5的拍攝部51中，在刻度部52的鉛直下方於X方向排列有分別與複數個描繪頭41分別對應的複數個(亦即與描繪頭41相同數量)的校準攝影機53，且略同時地取得複數個描繪頭41的檢查圖像。

在描繪裝置1中，校準攝影機53的上端部中的低反射加工並不一定需要施予。在此種情形中，在對準攝影機31所為的對準圖像的取得時，校準攝影機53亦可因應需要從刻度部52的鉛直下方朝+X側或者-X側的退避位置退避。

在描繪裝置1中，校準攝影機53的退避位置不一定需要位於比刻度部52還要+X側或者-X側。例如，該退避位置亦可設定成在X方向中鄰接的兩個描繪頭41之間。在此種情形中，與將退避位置設置於比刻度部52還要+X側或者-X側之情形相比，由於能減少校準攝影機53的退避時的X方向的移動量，因此能進一步地縮短產距時間。

在描繪裝置1中，描繪頭41以及對準攝影機31不一定需要藉由一個支撐部40支撐，亦可藉由於Y方向分離地配置且為各自獨立的構件之兩個支撐部分別支撐。

在描繪裝置1中，對準攝影機31亦可設置於描繪頭41與位於搬入搬出位置的台21的基板保持部25之間。

在描繪裝置1中，刻度部52並不一定需要具有透光性，校準攝影機53亦不一定需要安裝於台21。例如，刻度部52亦可為反射板，用以將從描繪頭41照射的光線反射至預定的方向。亦可為：校準攝影機53係例如在從台21離開的位置處被固定於描繪裝置1的框架等，接收來自刻度部52的反射光，藉此拍攝檢查圖像，該檢查圖像係包含被照射至刻度部52上的校準圖案以及刻度部52上的刻度。

台21係只要藉由第一移動機構23於主掃描方向相對於描繪頭41相對性地移動即可。因此，例如亦可為：台21係被固定；在台21的上方，描繪頭41係藉由第一移動機構23於主掃描方向移動。同樣地，亦可藉由第二移動機構24使描繪頭41朝副掃描方向移動。

在描繪裝置1中，不一定需要在每次搬入基板9時進行校準，例如亦可在結束對兩片以上的預定片數的基板9描繪圖案時進行描繪頭41的校準。

上文所說明的基板9並未限定於印刷基板。在描繪裝置1中，例如亦可對半導體基板、半導體封裝用基板、液晶顯示裝置或者電漿顯示裝置等平板面板顯示裝置用的玻璃基板、光罩用的玻璃基板、太陽電池面板用的基板等進行圖案的描繪。

上述實施形態以及各個變化例中的構成只要未相互矛盾亦可適當地組合。

雖然已經詳細地描述並說明本發明，然而上述說明僅為例示性而非示限定性。因此，只要不脫離本發明的範圍，則能視為能夠有各種變化以及各種態樣。

1:描繪裝置 3:對準部 4:描繪部 5:校準部 9:基板 10:控制部 21:台 22:台移動機構 23:第一移動機構 24:第二移動機構 25:基板保持部 31:對準攝影機 40:支撐部 41:描繪頭 42:光源部 43:照明光學系統 44:空間光線調變器(光線調變器) 45:投影光學系統 51:拍攝部 52:刻度部 53:校準攝影機 54:攝影機移動機構 91:(基板的)上表面 100:電腦 101:處理器 102:記憶體 103:輸入輸出部 104:匯流排 105:鍵盤 106:滑鼠 107:顯示器 111:記憶部 112:拍攝控制部 113:位置檢測部 114:修正資訊取得部 115:對準資訊取得部 116:描繪控制部 421至423:光源 S11至S16:步驟

[圖1]係顯示實施形態之一的描繪裝置之立體圖。 [圖2]係放大地顯示校準部附近之俯視圖。 [圖3]係顯示校準部以及描繪頭的內部的構成之圖。 [圖4]係顯示電腦的構成之圖。 [圖5]係顯示控制部的功能之方塊圖。 [圖6]係顯示圖案描繪的流程之圖。 [圖7A]係示意性地顯示描繪裝置的主要構成之前視圖。 [圖7B]係示意性地顯示描繪裝置的主要構成之前視圖。 [圖7C]係示意性地顯示描繪裝置的主要構成之前視圖。 [圖7D]係示意性地顯示描繪裝置的主要構成之前視圖。 [圖7E]係示意性地顯示描繪裝置的主要構成之前視圖。

1:描繪裝置

4:描繪部

5:校準部

9:基板

21:台

22:台移動機構

23:第一移動機構

25:基板保持部

41:描繪頭

52:刻度部

53:校準攝影機

Claims (10)

1. 一種描繪裝置，係用以對基板照射光線並進行圖案的描繪，並具備： 台，係設置有用以保持前述基板之基板保持部； 描繪頭，係對前述基板照射經過調變的光線； 主掃描機構，係將前述台於與前述基板的上表面平行的主掃描方向相對於前述描繪頭相對性地移動； 刻度部，係在前述台上於前述主掃描方向中與前述基板保持部鄰接地設置； 校準攝影機，係在前述刻度部位於前述描繪頭的下方的校準位置的狀態下，拍攝已從前述描繪頭照射至前述刻度部之預定的校準圖案； 修正資訊取得部，係基於檢查圖像求出修正資訊，前述檢查圖像係包含藉由前述校準攝影機所取得的前述刻度部以及前述校準圖案，前述修正資訊係被使用於來自前述描繪頭的光線的照射位置的修正；以及 描繪控制部，係基於描繪資料以及前述修正資訊來控制前述描繪頭以及前述主掃描機構，藉此一邊使前述基板於前述主掃描方向相對於前述描繪頭相對性地移動一邊使前述描繪頭執行針對前述基板的描繪； 在前述台位於搬入搬出位置的狀態下，前述刻度部係位於前述校準位置，前述搬入搬出位置為用以進行前述基板相對於前述基板保持部的搬入以及搬出之位置。
2. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中進一步地具備： 對準攝影機，係拍攝前述基板上的對準標記；以及 對準資訊取得部，係基於藉由前述對準攝影機所取得的前述對準標記的圖像求出對準資訊，前述對準資訊係被使用於前述基板相對於前述描繪頭之相對位置的修正； 前述對準攝影機係於前述主掃描方向中隔著前述描繪頭位於前述台中之與前述基板保持部相反之側，且前述台係位於前述搬入搬出位置。
3. 如請求項2所記載之描繪裝置，其中前述描繪裝置係進一步地具備：支撐部，係在前述台的上方支撐前述描繪頭； 前述對準攝影機亦被前述支撐部支撐。
4. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述刻度部為透光性刻度構件，配置於前述台的上表面； 前述校準攝影機係在前述透光性刻度構件的下方安裝於前述台，用以拍攝已透過前述透光性刻度構件的前述校準圖案； 於前述校準攝影機的上端部施予有低反射加工。
5. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述刻度部上的前述校準圖案的前述主掃描方向中的位置係能夠在前述台已經靜止的狀態下藉由前述描繪頭進行變更。
6. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述描繪頭係具備：複數個光源，係射出彼此不同的波長的光線； 在對前述基板進行描繪時，使用複數個前述光源中的兩個以上的光源； 朝前述刻度部照射前述校準圖案時，僅使用複數個前述光源中的一個光源。
7. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中包含前述描繪頭且用以分別對前述基板照射經過調變的光線之複數個描繪頭係排列於與前述基板的上表面平行且相對於前述主掃描方向呈傾斜之排列方向； 前述校準攝影機係在前述刻度部位於前述校準位置的狀態下，一邊於前述排列方向移動一邊依序拍攝從複數個前述描繪頭分別照射至前述刻度部之複數個校準圖案。
8. 如請求項1至7中任一項所記載之描繪裝置，其中前述校準攝影機所為的前述檢查圖像的取得所需的時間係比為了從前述基板保持部搬出一片基板並將新的基板搬入至前述基板保持部所需的時間還短。
9. 如請求項1至7中任一項所記載之描繪裝置，其中前述校準攝影機所為的前述檢查圖像的取得係在每次朝前述基板保持部搬入基板時進行。
10. 一種描繪方法，係用以對基板照射光線並進行圖案的描繪，並具備下述工序： 工序a，係在設置有基板保持部以及刻度部之台位於搬入搬出位置的狀態下，拍攝已從描繪頭照射至位於前述描繪頭的下方的校準位置的前述刻度部之預定的校準圖案，其中，前述基板保持部係用以保持前述基板，前述刻度部係在與前述基板的上表面平行的主掃描方向中與前述基板保持部鄰接，前述搬入搬出位置為用以進行前述基板相對於前述基板保持部的搬入以及搬出之位置； 工序b，係基於檢查圖像求出修正資訊，前述檢查圖像係包含藉由在前述工序a中所取得的前述刻度部以及前述校準圖案，前述修正資訊係被使用於來自前述描繪頭的光線的照射位置的修正；以及 工序c，係基於描繪資料以及前述修正資訊，從前述描繪頭對於前述主掃描方向相對於前述描繪頭相對性地移動之前述基板照射經過調變的光線並對前述基板進行描繪。

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