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TW201302417A - 環狀帶的檢查方法及裝置 - Google Patents

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TW201302417A
TW201302417A TW101107575A TW101107575A TW201302417A TW 201302417 A TW201302417 A TW 201302417A TW 101107575 A TW101107575 A TW 101107575A TW 101107575 A TW101107575 A TW 101107575A TW 201302417 A TW201302417 A TW 201302417A
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TW101107575A
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Toshinao Arai
Hidekazu Yamazaki
Original Assignee
Fujifilm Corp
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    • GPHYSICS
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Abstract

本發明提供一種環狀帶的檢查方法及裝置。驅動部對檢查用輥的旋轉軸外加預定的外力。對捲繞在檢查用輥上之帶外加張力。感測器單元測定從測定位置MP1至測定窗的距離A。感測器單元測定從測定位置MP2至測定窗的距離B。控制部利用距離A、距離B及從存儲部讀入之帶厚度D計算浮起量CL。當成為檢查對象之帶的浮起量CL均在閾值TH1以下時,控制部判定該帶為“合格品”。當成為檢查對象之帶的浮起量CL中的任何一個超過閾值TH1時,判定該帶為“不合格品”。

Description

環狀帶的檢查方法及裝置
本發明係有關於一種環狀帶的檢查方法及裝置。
隨著液晶顯示器(LCD)的大畫面化,對使用在LCD上之光學薄膜也要求大面積化。光學薄膜製造成長形後,根據LCD的尺寸切割成預定的尺寸。因此,為了製造更大面積的光學薄膜,需要製造寬度大於習知之長形光學薄膜。
作為長形光學薄膜的代表性製造方法有連續方式的溶液製膜方法。總所周知,連續方式的溶液製膜方法為如下方法:將聚合物溶於溶劑中之濃液流延在移動之流延支撐體上,並在流延支撐體上形成由濃液組成之流延膜,從流延支撐體剝下流延膜並乾燥,從而製造薄膜。
作為流延支撐體,使用掛繞在驅動輥之金屬製帶。能夠製造的薄膜的最大寬度受該帶寬度的制約。因此,製造更大寬度的薄膜時需要更大寬度的帶。但是,至今為止只得到寬度最大為2m左右的帶。
因此,在韓國專利公開公報第2009-0110082號中,藉由向長邊方向焊接成為寬度方向的中央部的中央部帶和成為帶的各側部的一對側部帶來得到比以往更大寬度的帶。
但是,在韓國專利公開公報第2009-0110082號中記載的帶由於向長邊方向延伸之焊接線而易於在寬度方向上產生翹曲。尤其是在帶的寬度方向端部,亦即從中央部帶遍及側部帶而容易產生翹曲。若利用寬度方向端部翹曲之帶實施溶液製膜方法,則由於該翹曲而產生流延膜的厚度不均。厚度不均是指厚度不均勻。即便乾燥產生這種厚度不均之流延膜,也會成為產生厚度不均之薄膜。並且,當剝離產生厚度不均之流延膜時,易產生剝離殘留故障。剝離殘留故障是指流延膜沒有從帶上完全剝離而流延膜的一部份留在帶上之現象。並且,當乾燥產生厚度不均之流延膜時,容易在流延膜上產生起泡。除此之外,當以由於翹曲而彎曲之帶的內側面(與形成流延膜之其中一方的帶面相反一側的帶面)與驅動輥的周面接觸之方式將帶掛繞在驅動輥時,帶端在帶的側部局部接觸於驅動輥的周面。如果持續帶端局部接觸於驅動輥的周面之狀態,則由於帶的側部變形增大,因此容易引起起因於上述厚度不均之問題。
並且,藉由技術開發,當能夠製造超過目前的製造界限寬度之帶時,由於使用該帶,因此由於焊接線引起之翹曲會消失。但是,由於帶寬的增大而產生在寬度方向上翹曲的問題。
如此,不管有無焊接線,在使用寬度寬於習知之帶時,都會產生在寬度方向上翹曲的問題。
本發明的目的在於,提供一種當製造寬度寬於習知之帶時,不實施溶液製膜方法,即可檢測帶翹曲的環狀帶的檢查方法及裝置。
本發明的金屬製環狀帶的檢查方法,其中,前述環狀帶具備表面和裏面。在前述表面上設定從流延模流下之濃液所到達之到達位置,並形成由前述到達之濃液組成之流延膜。當前述環狀帶循環移動時,前述裏面由製膜用輥支撐。環狀帶的檢查方法具備距離計算步驟(A步驟)、浮起量計算步驟(B步驟)及判定步驟(C步驟)。A步驟計算從前述表面上的測定位置到檢查用輥的支撐面的距離H。前述測定位置對應前述到達位置。針對前述裏面由前述檢查用輥支撐並且外加移動張力之狀態的前述環狀帶計算前述距離H。B步驟根據式(1)計算前述測定位置上的從前述支撐面至前述裏面的浮起量CL。前述式(1)為CL=H-D。前述D為前述測定位置上的前述環狀帶的厚度。C步驟判定前述計算出之浮起量CL是否在閾值以下。
在上述的環狀帶的檢查方法中,前述檢查用輥在軸向中央部支撐前述環狀帶,以便軸向端部露出,在前述A步驟中利用測距單元測定從前述測定位置到前述測距單元的距離A和從前述測定位置上的前述軸向端部至前述測距單元的距離B,並根據式(2)計算前述距離H為較佳。
式(2)為H=B-A。
在前述B步驟中,從存儲部讀取環狀帶的厚度D,利用從前述存儲部讀取之前述環狀帶的厚度D計算前述浮起量CL為較佳。存儲部中,關聯存儲有從設定在前述環狀帶上之基準位置到前述測定位置的位置情報和前述測定位置上的前述環狀帶的厚度D。
前述環狀帶由金屬製第1網和焊接在該第1網的寬度方向一側之金屬製第2網組成為較佳。
前述製膜用輥和前述檢查用輥為同一輥為較佳。
前述移動張力為60N/mm2,且前述閾值為0.1mm以下為較佳。
本發明的金屬製環狀帶的檢查裝置,其中,前述環狀帶具備表面和裏面。在前述表面上設定從流延模流下之濃液所到達之到達位置,並形成由前述到達之濃液組成之流延膜。當前述環狀帶循環移動時,前述裏面由製膜用輥支撐。本發明的環狀帶的檢查裝置具備距離計算部、浮起量計算部、判定部。距離計算部計算從前述表面上的測定位置到檢查用輥的支撐面的距離H。前述測定位置對應前述到達位置。針對前述裏面由前述檢查用輥支撐並外加移動張力之狀態的前述環狀帶計算前述距離H。浮起量計算部根據式(1)計算前述測定位置上的從前述支撐面至前述裏面的浮起量CL。前述式(1)為CL=H-D。前述D為前述測定位置上的前述環狀帶的厚度。判定部判定前述計算出之浮起量CL是否在閾值以下。
上述的環狀帶的檢查裝置具備測定距離A和距離B之測距單元為較佳。前述距離A係從前述測距單元到前述測定位置的距離。前述距離B係從前述測距單元至在軸向中央部支撐前述環狀帶之前述檢查用輥所露出之軸向端部的距離。前述距離計算部根據式(2)計算前述距離H。
式(2)為H=B-A。
環狀帶的檢查裝置具有存儲部,前述浮起量計算部利用存儲在前述存儲部中之前述環狀帶的厚度D計算前述浮起量CL為較佳。存儲部中,關聯存儲有從設定在前述環狀帶上之基準位置至前述測定位置的位置情報和前述測定位置上的前述環狀帶的厚度D。
前述製膜用輥和前述檢查用輥為同一輥為較佳。
根據本發明,不實施溶液製膜方法即可檢測帶的翹曲。
圖1及圖2所示之帶製造設備10係製作由長形中央構件12和設置在中央構件12的寬度方向兩側之側構件11構成之長形帶構件13者。
側構件11和中央構件12分別係金屬製片材料。側構件11係寬度相對狹窄的窄幅片材料。側構件11和中央構件12由相互相同的原材料形成為較佳,由相互相同的原料及經形成製程而形成為更佳。例如,作為側構件11及中央構件12使用由不銹鋼形成者為較佳。
作為中央構件12,使用一直以來用作流延支撐體之帶即可。中央構件12的寬度比側構件11寬。在本實施方式中的中央構件12的寬度在1500mm以上2100mm以下的範圍內是恆定的,側構件11的寬度在50mm以上500mm以下的範圍內是恆定的。
帶製造設備10具備送出部16、對接部17、焊接單元18、加熱部19及捲取裝置20。
送出部16具有送出側構件11之第1送出裝置23和送出中央構件12之第2送出裝置24。送出部16將側構件11和中央構件12分別獨立送往對接部17。在第1送出裝置23上設置捲成輥狀之側構件11,捲出側構件11並送至對接部17。第2送出裝置24上設置捲成輥狀之中央構件12,捲出中央構件12並送至對接部17。
對接部17使獨立引導過來之側構件11和中央構件12對接,以便側構件11的側緣11e和中央構件12的側緣12e相互接觸。對接部17具有第1輥26及第2輥27、第3輥28、第4輥29為較佳。在中央構件12的傳送路上從上游側依次配設第1輥26及第2輥27。在側構件11的傳送路上配設第3輥28。第4輥29在傳送路上配設成支撐側構件11及中央構件12雙方。
第4輥29係在對接位置Ph支撐送來之側構件11和中央構件12之對接支撐輥。對接位置Ph係側構件11的其中一方的側緣11e和中央構件12的其中一方的側緣12e開始接觸的位置。
第2輥27和第3輥28分別調整中央構件12的傳送路徑和側構件11的傳送路徑,以便中央構件12和側構件11在第4輥29的周面接觸。
第2輥27調整中央構件12的傳送路徑,朝向對接位置Ph控制應和側構件11焊接之側緣12e的通過路徑。第2輥27在中央構件12的寬度方向Y上移動自如。位移機構32向寬度方向Y移動第2輥27。
在第2輥27和第4輥29之間配設位置檢測手段34。位置檢測手段34檢測中央構件12的各側緣12e中的其中一方的通過位置,將檢測之通過位置信號送到控制器33。控制器33根據送來之通過位置信號求出第2輥27在寬度方向Y上的變位量,將變位量信號送到位移機構32。位移機構32根據送來之變位量信號改變第2輥27的傾斜度或第2輥27在中央構件12的寬度方向Y上的位置。這樣,藉由改變第2輥27的傾斜度或位置,中央構件12在寬度方向Y上變位。
第1輥26上設置位移機構37為較佳。第1輥26藉由該位移機構37從其中一方的構件面按壓朝向第2輥27之中央構件12。根據該第1輥26的變位量改變第1輥26相對於中央構件12的按壓壓力,並調整按壓壓力。由此,能夠控制捲繞在第2輥27的中央構件12的捲繞中心角。根據該捲繞中心角的控制,能夠以更加精確地控制中央構件12根據第2輥27的在寬度方向Y上的變位量。
第3輥28調整側構件11的傳送路徑,朝向對接位置Ph調整應和中央構件12焊接之其中一方的側緣11e的通過路徑。在第3輥28上具備控制長邊方向的朝向之控制器38。該控制器38例如沿著側構件11的構件面改變第3輥28的長邊方向,以便在與側構件11接觸期間的接觸區域中的周向和中央構件12的傳送方向X所成之角θ1發生變化。
如同以上使用第1輥26~第3輥28以對接位置Ph位於第4輥29上的方式進行控制為較佳。第1輥26~第3輥28均為沿周向旋轉之驅動輥為較佳。藉由沿周向旋轉,第1輥26及第2輥27還作為中央構件12的傳送手段發揮作用,第3輥28還作為側構件11的傳送手段發揮作用。藉由將第1輥26~第3輥28設為驅動輥,側構件11和中央構件12的傳送路的控制變得更可靠,並且藉由防止側構件11和中央構件12在第1輥26~第3輥28上的滑動來防止劃傷構件面。
焊接單元18係在彼此的側緣11e、12e接觸之狀態下焊接從對接部17供給之側構件11和中央構件12。藉由從對接部17連續供給,能夠進行在長邊方向上焊接側構件11和中央構件12之長邊焊接製程。焊接單元18具備焊接裝置42。作為焊接裝置42例如可以舉出雷射焊接裝置。作為雷射焊接裝置,例如能夠使用CO2雷射焊接裝置或釔鋁石榴石(YAG)雷射焊接裝置。在本實施態樣中,對利用CO2雷射焊接裝置作為焊接裝置42之情況進行說明。
焊接裝置42射出聚光之雷射,藉由對作為照射對象的側構件11及中央構件12照射雷射來熔融並接合側構件11和中央構件12。焊接裝置42具備雷射振盪器43、對從該雷射振盪器43引導過來之雷射進行聚光並射出之焊接裝置主體46、及每照射雷射時供給CO2氣體之氣體供給部(未圖示)。CO2氣體防止側構件11和中央構件12的氧化。此外,在圖2中,為了避免附圖的繁雜化而省略雷射振盪器43的圖示。
可以使用鎢惰性氣體焊接(Tungsten Inert Gas(TIG)welding)裝置來代替雷射焊接裝置。衆所周知,TIG焊接係以電弧為熱源之電弧焊接的一種。TIG焊接係使用惰性氣體(非活性氣體)作為保護氣體且關於電極使用鎢或鎢合金之惰性氣體電弧焊接的一種。雷射焊接與TIG焊接相比更為佳。並且,亦可設為組合TIG焊接和雷射焊接之混合焊接。
在側構件11和中央構件12的傳送路上,以與焊接裝置主體46的雷射的射出口對置的方式具備由周面支撐側構件11和中央構件12之焊接支撐輥41。焊接支撐輥41的旋轉軸與側構件11及中央構件12的寬度方向Y平行。設定根據焊接支撐輥41支撐側構件11和中央構件12的支撐位置,以便雷射照射於由焊接支撐輥41的周面支撐期間之側構件11和中央構件12為較佳。亦即,在焊接支撐輥輥41上進行焊接為較佳。由此,側構件11和中央構件12在側緣11e、12e相互接觸之狀態下變得穩定,能夠對應照射之部位可靠地照射雷射。
焊接裝置主體46上具備用於向寬度方向Y變位之位移機構50為較佳。在焊接裝置42的上游側設有位置檢測手段47,該位置檢測手段檢測側構件11的側緣11e和中央構件12的側緣12e相接觸之接觸位置Ps(參考圖5),並將檢測出之接觸位置Ps(參考圖5)的信號送至控制器51。位置檢測手段47配設在對接位置Ph至焊接裝置42(例如焊接位置Pw)之傳送路附近即可。
控制器51根據送來之接觸位置Ps(參考圖5)的信號求出焊接裝置主體46在寬度方向Y上的變位量,並將變位量的信號送至位移機構50。若被輸入側構件11和中央構件12的傳送速度的信號,則控制器51將變位時刻的信號與應使焊接裝置主體46變位之變位量的信號一同送至位移機構50。位移機構50根據送來之變位量及變位時刻的信號在預定時刻改變焊接裝置主體46的位置。如此藉由在寬度方向Y上改變焊接裝置主體46的位置,更加精確地控制雷射的照射位置,並更加可靠地焊接側構件11和中央構件12。另外,本實施方式中側構件11和中央構件12向焊接裝置42的傳送速度設為0.15m/分鐘以上20m/分鐘以下的範圍。
如圖1所示,焊接單元18上設置室52和清潔裝置55更為佳。室52將焊接裝置主體46和焊接支撐輥41隔開為外部空間。清潔裝置55對氣體進行清潔化。此外,圖2中為了避免附圖的繁雜化而省略室52和清潔裝置55的圖示。室52內設有向外部送出內部氣體之第1開口(未圖示)和向內部引導在清潔裝置55中清潔化之氣體之第2開口(未圖示)。第1開口和第2開口分別連接於清潔裝置55。室52的內部氣體從第1開口引導至清潔裝置55,清潔裝置55對從室52引導過來之氣體進行清潔化,並透過第2開口送至室52。如此,室52的內部氣體在與清潔裝置55之間循環。
藉由對室52的內部氣體進行清潔化,焊接位置Pw及其周邊被清潔化,防止異物等混入焊接部13w。此外,藉由將室52的內部壓力保持為高於外部空間的壓力,能夠更加可靠地保持為對室52的內部進行清潔化之狀態。並且,藉由將焊接位置Pw設為相對送出部16、對接部17、加熱部19、捲取裝置20較高的位置,能夠進一步防止從這些構件引入異物。
室52的內部清潔度例如設為在美國聯邦規格FED-STD-209D中規定之1000級以下,設為100級以下更為佳。
加熱部19設置於比焊接單元18更靠下游側為較佳。加熱部19只要係將藉由焊接獲得之帶構件13的焊接部13w加熱成恆定的溫度範圍者,則無特別限定。在焊接部13w及其周邊,由於因焊接產生之應變而引起之應力有時殘留於內部。針對這種焊接部13w及其周邊,能夠藉由加熱部19加熱來去除應力。藉由去除該應力,即使在長時間連續實施溶液製膜方法時,也能夠抑制焊接部13w變形。
焊接部13w基於加熱部19的加熱之溫度只要為可以去除應力的溫度,則無特別限定。例如當帶構件13由不銹鋼構成時,焊接部13w基於加熱部19的加熱之溫度為100℃以上200℃以下為較佳,120℃以上180℃以下更為佳。
作為加熱部19例如有送風手段。如圖1所示,作為加熱部19的送風手段有導管56和送風機57。導管56吹出恆定溫度的氣體。送風機57在控制氣體溫度之基礎上,將該氣體送入導管56。此外,圖2中為了避免附圖的繁雜化而省略導管56和送風機57的圖示。
加熱部19可以在帶構件13的傳送路上如圖1設置於焊接支撐輥41的相反側,亦可設置於焊接支撐輥41的相同側。
被去除應力之帶構件13被送至加熱部19的下游的捲取裝置20,並捲取成輥狀。捲取裝置20上設置捲取帶構件13之卷芯,並設有向周向旋轉該卷芯之驅動手段。
捲取裝置20還作為控制焊接位置Pw上的帶構件13和側構件11及中央構件12的張力之焊接張力控制手段發揮作用。在此,將捲取裝置20的轉矩控制成焊接位置Pw上的帶構件13和側構件11及中央構件12的張力保持恆定為較佳。由此,能夠在長邊方向上將焊接部13w設為恆定狀態。
當開始焊接時,例如利用捲取裝置20如下進行為較佳。首先,在從送出部16至捲取裝置20之傳送路設置側構件11和中央構件12,將側構件11和中央構件12的各前端捲繞在捲取裝置20的卷芯。開始捲取側構件11和中央構件12。開始捲取,控制側構件11和中央構件12的傳送路徑,並將對接位置Ph保持在預定位置。在側構件11和中央構件12的對接位置Ph保持恆定之後,藉由焊接裝置42開始焊接。
邊抑制側構件11、中央構件12、帶構件13的位置偏離,邊實施焊接為較佳。例如可以利用具備按壓裝置之如圖3及圖4所示之焊接單元61來代替焊接單元18。焊接單元61係在圖1及圖2所示之焊接單元18進一步具備按壓裝置62者,盡管與焊接單元18相同地具備位移機構50、控制器51、室52及清潔裝置55,但是為了避免附圖的繁雜化在圖3及圖4中省略這些構件的圖示。並且,對圖1及圖2相同的裝置和構件附加與圖1及圖2相同的符號,省略說明。此外,在焊接單元61中,室52以與外部空間隔開的方式包圍按壓構件62和焊接支撐輥41。
按壓裝置62係抑制側構件11、中央構件12及帶構件13在焊接位置Pw上的位置偏離者。按壓裝置62藉由包括第1傳送帶63及第2傳送帶64之一對傳送帶按壓焊接支撐輥41上的側構件11、中央構件12及帶構件13。
第1傳送帶63和第2傳送帶64係形成為環狀之無端傳送帶。第1傳送帶63和第2傳送帶64以向第5輥67~第7輥69的各長邊方向排列的方式捲繞於第5輥67~第7輥69的周面。第5輥67~第7輥69中的至少任一輥成為沿周向旋轉之驅動輥。第1傳送帶63和第2傳送帶64藉由該驅動輥的旋轉邊保持相互平行之傳送路邊被傳送。
第5輥67~第7輥69配設成旋轉軸與焊接支撐輥41的旋轉軸平行。
第5輥67~第7輥69在側構件11和中央構件12的傳送路上配設於第4輥29和焊接支撐輥41所配設之一側的相反側區域。第5輥67設置成與從第4輥29朝向焊接支撐輥41之側構件11和中央構件12的傳送路對置。第6輥68設置成與從焊接支撐輥41朝向加熱部19之側構件11和中央構件12的傳送路對置。第7混69適當配設成確定從第6輥68朝向第5輥67之第1傳送帶63和第2傳送帶64的傳送路。
第5輥67和第6輥68配設成從第5輥67朝向第6輥68之第1傳送帶63和第2傳送帶64以按壓焊接支撐輥41上的側構件11、中央構件12及帶構件13的方式傳送。例如,當從上方焊接焊接支撐輥41上的側構件11、中央構件12時,第5輥67和第6輥68配設成它們的各下端成為低於焊接支撐輥41的上端的位置。
第5輥67和第6輥68設置成如下:第1傳送帶63的傳送路與側構件11和由側構件11形成之帶構件13的側部13s的傳送路對置,並且第2傳送帶64的傳送路與中央構件12和由中央構件12形成之帶構件13的中央部13c的傳送路對置。由此,第1傳送帶63向焊接支撐輥41按壓側構件11和側部13s,第2傳送帶64向焊接支撐輥41按壓中央構件12和中央部13c。
如以上,第1傳送帶63和第2傳送帶64分別設置成與焊接支撐輥41對置,並以側構件11和中央構件12的高度在焊接位置Pw上的高度相等的方式進行按壓。側構件11和中央構件12的高度為各構件11、12表面的高度。如此將側構件11和中央構件12按壓成高度變得相等,並在該狀態下實施焊接,從而焊接部13w的態樣在長邊方向上變得更加均勻,並且能夠進一步可靠地進行焊接。
參考圖5及圖6,進一步詳細說明長邊焊接製程。第1傳送帶63和第2傳送帶64以相互分開之狀態傳送。第1傳送帶63和第2傳送帶64以焊接位置Pw通過第1傳送帶63與第2傳送帶64的間隙的方式設定傳送路。由此,側構件11的側緣11e和中央構件12的側緣12e相接觸之接觸位置Ps如圖5所示通過第1傳送帶63與第2傳送帶64的間隙,並在第1傳送帶63與第2傳送帶64之間焊接。另外,圖5中省略焊接裝置主體46的圖示。
第1傳送帶63與第2傳送帶64的間隔D1設為6mm以上12mm以下的範圍為較佳。側構件11和中央構件12在寬度方向Y上的截面中,接觸位置Ps與第1傳送帶63的距離D2及接觸位置Ps與第2傳送帶64的距離D3分別設為3mm以上且小於6mm的範圍為較佳。
可以分別在焊接裝置主體46的上游和下游配設具有與焊接支撐輥41的旋轉軸平行之旋轉軸之輥(未圖示)來代替按壓裝置62。此時,能夠藉由由上游的其中一方的輥按壓側構件11和中央構件12且由下游的另一方的輥按壓帶構件13來按壓焊接位置Pw上的側構件11和中央構件12。
如圖6所示,在接觸位置Ps及其周邊由於焊接裝置42的熱被溶解而形成焊接液珠72。從該焊接液珠72向兩側傳熱,分別在側構件11和中央構件12產生受焊接中的熱影響之熱影響區域73。該熱影響區域73有時會立刻或經時性地顯出與不受熱影響之其他區域不同之性狀。例如若利用如此廣範圍產生熱影響者作為流延支撐體,則當長時間連續實施溶液製膜方法時,產生焊接部13w變形或流延膜起泡等弊端。
因此,如圖5所示,在焊接支撐輥41的周面中接觸位置Ps所通過之通過區域形成由熱傳導率高於側構件11及中央構件12之原材料構成之高熱傳導部71為較佳。由此,能夠使來自焊接裝置42(參考圖3、圖4)的熱更快地擴散。為了在焊接支撐輥41側更快地擴散熱,能夠進一步縮小側構件11和中央構件12的熱影響區域73的寬度,或者還使熱影響區域73的深度變淺。
成為高熱傳導部71之通過區域的寬度D4為26mm以上32mm以下的範圍為較佳。
並且,第1傳送帶63及第2傳送帶64的兩面也形成由熱傳導率高於側構件11及中央構件12之原材料構成之高熱傳導部更為佳。由此,能夠在寬度方向或厚度方向上縮小熱影響區域73的大小。
側構件11的側緣11e和中央構件12的側緣12e為在焊接位置Pw上黏附成間隙為0(零)之狀態為較佳。因此,側構件11和中央構件12預先形成為對接各側緣11e及12e時不產生間隙之類的形狀為較佳。由此,能夠更加可靠地製造焊接部無空隙之帶構件。
上述長邊焊接製程可以僅為在側構件11和中央構件12的長邊方向上連續實施焊接之連續焊接製程,除此之外,還可以實施斷續焊接之斷續焊接製程。若斷續焊接,則連續送至焊接裝置42之側構件11和中央構件12被間歇地焊接。這種斷續焊接製程在連續焊接製程之前進行為較佳。此時,在斷續焊接製程中,首先臨時接合側構件11和中央構件12之後,在連續焊接製程中遍及長邊方向的整個區域進行接合即可。
當在斷續焊接製程中臨時接合之後,在連續焊接製程中進行接合時,從對接部17(參考圖1、圖2)向焊接單元18引導側構件11和中央構件12並斷續焊接。另外,當對側構件11和中央構件12設定與用作後面的流延支撐體時的流延面對應之表面和與非流延面對應之裏面時,斷續焊接製程中的焊接針對裏面進行為較佳。因此,以裏面與焊接裝置主體46(參考圖1)對置而通過的方式傳送側構件11和中央構件12。
進行斷續焊接製程之後,引導並捲取於捲取裝置20。另外,亦可在捲取之前藉由加熱部19對焊接部進行加熱。藉由送出裝置(未圖示)捲出由經斷續焊接製程而捲取之側構件11和中央構件12構成之臨時接合構件(未圖示),並再次送至焊接單元18。關於該送出,以臨時焊接構件的表面與焊接裝置主體46(參考圖1)對置而通過的方式進行。在焊接單元18中進行連續焊接,獲得帶構件13。此外,代替該方法,亦可在上游和下游相對排列配設兩個焊接單元18,由上游的其中一方的焊接單元18實施斷續焊接,由下游的另一方的焊接單元18實施連續焊接。
若進行焊接,則有時比側構件11和中央構件12更凸起而形成焊接液珠72。因此,關於如以上實施在長邊方向焊接其中一方的面之第1製程和在長邊方向上焊接另一方的面之第2製程時使用之焊接支撐輥41,如圖5所示在焊接支撐輥41的周面中在接觸位置Ps所通過之通過區域形成有槽76為較佳。以由在第1製程中凸起之焊接液珠72形成之焊接部通過該槽76的方式傳送側構件11和中央構件12來實施第2製程即可。由此,能夠獲得更平滑且殘留應力更少之帶構件13。隨此,即使在溶液製膜中使用,在作為流延支撐體的帶上產生變形或形狀變化也更少,而且流延膜不起泡,能夠更加可靠地製造無厚度不均的薄膜。
槽76的寬度D5為6mm以上12mm以下的範圍為較佳,槽的深度D6為1mm左右即可。
在以上實施方式中,利用第3輥28作為調整對接部17上的側構件11的傳送路徑的手段,但是亦可利用如圖7所示之錐狀輥81來代替第3輥28。錐狀輥81係以直徑d從一端朝向另一端連續遞減的方式形成之截面圓形輥。直徑d從一端朝向另一端以恆定比例連續遞減。將錐狀輥81配設成直徑d較大的一端朝向中央構件12的傳送路且直徑d較小的另一端朝向中央構件12的相反側(側構件11的傳送路側)。
傳送中之側構件11藉由與該錐狀輥81接觸向朝向中央構件12之箭頭A方向改變傳送路徑,靠近中央構件12。由此,側構件11可靠地朝向對接位置Ph(參考圖1、圖2)傳送。
錐狀輥81上具備有沿周向旋轉之驅動手段82為較佳。旋轉軸插通一端面的中央和另一端面的中央而形成。藉由由驅動手段82旋轉之錐狀輥81傳送側構件11,從而側構件更有效地靠近中央構件12。
亦可利用如圖8所示之作為把持手段的夾子85來代替第3輥28。夾子85具備開口為字狀之夾子主體86和設置於夾子主體86的各前端部之1對挾持針87,挾持把持側構件11。挾持針87移動自如地設置於挾持側構件11之挾持位置與從挾持位置退避之退避位置之間。夾子85具備移動機構88,在開始把持之把持開始位置與解除把持之把持解除位置之間移動自如。並且,夾子85在寬度方向Y上也移動自如。
隨著挾持針87向挾持位置移動,夾子85在把持開始位置把持側構件11。夾子85以把持側構件11之狀態向朝向中央構件12之方向A靠近,並向下游傳送。
錐狀輥81和夾子85為了使側構件11向中央構件12靠近而使用,除此之外,還可以為了使中央構件12向側構件11靠近而使用。此時,由錐狀輥81、夾子85支撐或傳送中央構件12即可。
在上述實施方式中,中央構件12上同時焊接兩個側構件11,但是亦可將其中一方的側構件11焊接於中央構件12之後,將另一方的側構件11焊接於中央構件12。
如圖9所示,用作流延支撐體之帶91係呈環狀之無端(endless)帶。帶91係焊接帶構件13的長邊方向上的一端與另一端而成者。另外,用於製作帶91之帶構件13可以剪切為預定長度,當根據預先剪切為預定長度之側構件11和中央構件12製作帶構件13時,亦可以未剪切狀態製作帶91。該焊接部中的針孔直徑不到40μm為較佳。
向與寬度方向Y交叉的方向剪切帶構件13為較佳。以剪切方向與寬度方向Y所成之角成為大致5°以上15°以下範圍的方式剪切帶構件13更為佳。焊接如此剪切之帶構件13的長邊方向上的一端與另一端之焊接部91v和寬度方向Y所成之角θ2在大致5°以上15°以下的範圍內。在如此使長形帶構件13成為環狀之環狀焊接製程中,可以利用在長邊焊接製程中使用之焊接裝置42,亦可利用公知的其他焊接裝置。
藉由焊接製造之帶91包括由側構件11(參考圖1~圖8)形成之側部91s和由中央構件12(參考圖1~圖8)形成之中央部91c,側部91s及中央部91c的焊接部91w露出於帶的表面91a或裏面91b。焊接部91w係相當於焊接部13w之部份。線狀焊接部91w設置成與帶91的長邊方向平行為較佳。如此獲得之帶91的寬度在2000mm以上3000mm以下的範圍內。
所獲得之帶91在經表面研磨並作成鏡面之後,用於溶液製膜設備。接著,以下對在溶液製膜設備中製造薄膜之方法進行說明。聚合物的種類不特別限定,使用在溶液製膜中能夠作成薄膜之公知的聚合物即可。以下實施方式中,以使用纖維素醯化物作為聚合物的情況為例子進行說明。
如圖10所示,溶液製膜設備110從上游側依次具備薄膜形成裝置117、第1拉幅機120、輥乾燥裝置124、第2拉幅機125、分切機126及捲取裝置127。薄膜形成裝置117由纖維素醯化物111溶解於溶劑112中而得到之濃液113形成薄膜116。第1拉幅機120邊由保持構件120a保持薄膜116的各側部邊進行乾燥。輥乾燥裝置124邊由複數個輥122支撐薄膜116邊進行乾燥。第2拉幅機125由保持構件125a保持薄膜116的各側部,對薄膜116賦予朝向寬度方向的張力。分切機126切除藉由第2拉幅機125的保持構件125a保持之各邊緣。捲取裝置127將切除邊緣之薄膜116捲在卷芯上作成輥狀。
薄膜形成裝置117具備沿周向旋轉之1對製膜用輥131、132。1對製膜用輥131、132在水平面上以相互平行的方式排列,製膜用輥131與製膜用輥132上捲繞帶91。製膜用輥131為主動輥(驅動輥),製膜用輥132為自由輥。製膜用輥131、132上分別具備將周面溫度控制在預定溫度內的第1控制器(未圖示)及第2控制器(未圖示)。
薄膜形成裝置117中,從帶91的移動方向上游側朝向下游側依次設置流出濃液113之流延模133、膜乾燥裝置134及剝離輥135。
如圖11及圖12所示,流延模133係朝向支撐於製膜用輥131之帶91的表面91a流下濃液113(參考圖10)者。流延模133在前端具備流出濃液113(參考圖10)之流出口133a。流延模133以流出口133a與帶91的表面91a正對的方式配設。
從流延模133流下之濃液113(參考圖10)落在帶91的表面91a上的到達位置DP。由於帶91為移動狀態,所以落在到達位置DP上之濃液113(參考圖10)在設定於帶91的表面91a之流延區CA內流動並延伸。這樣,流延區CA內形成由濃液113(參考圖10)組成且流延寬度CW的流延膜136。
流延模133配設成到達位置DP成為如以下敘述之位置。如圖11及圖13所示,到達位置DP設定於帶91的表面91a中支撐於製膜用輥131之部份。到達位置DP設定於比製膜用輥131的頂部TP更靠進帶91的移動方向上游側為較佳。並且,從旋轉軸131a的旋轉中心O131a朝向頂部TP延伸之面LTP與從旋轉軸131a的旋轉中心O131a朝向到達位置DP延伸之面LDP所成角之角度φ1為0°以上45°以下為較佳。
如圖10所示,膜乾燥裝置134具有第1導管141~第3導管143。朝向流延膜136送出乾燥風之第1導管141~第3導管143從上游側沿帶91的移動路依次配設。第1導管141設置於從製膜用輥131向製膜用輥132移動之帶91的表面91a側及裏面91b側。第2導管142設置於支撐在製膜用輥132之帶91的表面91a側。第3導管143設置於從製膜用輥132朝向製膜用輥131移動之帶91的表面91a側及裏面91b側。
第1導管~第3導管141~143分別連接於送風機(未圖示)。送風機上連接獨立控制分別供給至第1導管~第3導管141~143之氣體的溫度、濕度及流量之送風控制器(未圖示)。在第1~第3導管141~143上設置將從送風機供給之氣體作為乾燥風送出之送出口。設置於第1導管~第3導管141~143之送出口以與帶91的表面91a及裏面91b對置的方式形成。
設置於第1導管141~第3導管143之流出口形成為狹縫狀,且從帶91的其中一端遍及另一端而延設。各流出口在帶91的寬度方向上的長度成為如乾燥風接觸於流延膜136整體者即可。
乾燥風的溫度隨著從帶91的移動路的上游側朝向下游側而變低為較佳。來自第1導管141的乾燥風的溫度為50℃以上140℃以下為較佳,來自第2導管142的乾燥風的溫度為50℃以上140℃以下為較佳,來自第3導管143的乾燥風的溫度為40℃以上100℃以下為較佳。
如圖11所示,製膜用輥131由旋轉軸131a和固定於旋轉軸131a之輥主體131b構成。製膜用輥132的結構與製膜用輥131相同。如圖12所示,旋轉軸131a上連接馬達171和驅動部172。製膜用輥131藉由馬達171以旋轉軸131a為中心旋轉。驅動部172向旋轉軸131a外加從製膜用輥132(參考圖10)朝向製膜用輥131之外力。藉由向旋轉軸131a外加外力F1,對帶91外加移動張力T1。並且,旋轉軸131a上安裝力量感測器173。力量感測器173檢測旋轉軸131a所承受之外力F1的大小。控制部(未圖示)以存儲於內部記憶體中之值除力量感測器173檢測出之外力F1來計算移動張力T1。移動張力T1的大小根據帶91的尺寸或移動路確定即可,例如為60N/mm2
接著,對藉由溶液製膜設備110進行之溶液製膜方法進行說明。溶液製膜方法中,依次進行膜形成製程、膜乾燥製程、剝離製程及薄膜乾燥製程。另外,“膜”是指位於帶91上之膜,而“薄膜”是指從帶91上剝下之膜。
如圖11所示,膜形成製程中,流延模133向帶91的表面91a連續流出濃液113(參考圖10)。藉由膜形成製程在流延區CA(參考圖12)內形成由濃液113組成且流延寬度CW(參考圖12)的流延膜136。
如圖10及圖11所示,膜形成製程中,第1導管141朝向流延膜136及帶91的裏面91b送出乾燥風,第2導管142朝向流延膜136送出乾燥風,第3導管143朝向流延膜136及帶91的裏面91b送出乾燥風。若乾燥風接觸到流延膜136,則溶劑112從流延膜136中蒸發。並且,藉由乾燥風的接觸來加熱帶91的裏面91b,其結果促進溶劑從流延膜136中的蒸發。另外,製膜用輥132的周面溫度藉由第2控制器調節為高於流延膜136的溫度。藉由與製膜用輥132的接觸,製膜用輥132的熱傳遞至流延膜136,並從裏面91b側加熱帶91。這樣,促進溶劑從流延膜136中的蒸發。
在剝離製程中,藉由溶劑的蒸發,以包含溶劑之狀態從帶91中剝下成為可以向第1拉幅機120傳送之程度的流延膜136。剝離時,用剝離輥135支撐薄膜116,並且將從帶91剝下流延膜136之剝離位置PP保持為恆定。另外,剝離輥135可以係具備驅動手段且沿周向旋轉之驅動輥。
被剝離流延膜136之帶91的溫度藉由膜乾燥裝置134變得高於從流延模133流出之濃液113的溫度。若直接對這種帶91流出濃液113,則導致引起濃液113的起泡。因此,利用第1控制器,將製膜用輥131的周面溫度調節為低於從流延模133流出之濃液113的溫度。由此,支撐於製膜用輥131之帶91的溫度變得低於從流延模133流出之濃液113的溫度,所以能夠防止濃液113的起泡。
被剝離之流延膜136,亦即薄膜116依次引導至第1拉幅機120、輥乾燥裝置124及第2拉幅機125。在第1拉幅機120、輥乾燥裝置124及第2拉幅機125中進行薄膜116與預定的乾燥氣體接觸之薄膜乾燥製程。藉由薄膜乾燥製程進行薄膜116的乾燥。
分切機126進行切除薄膜116的邊緣之切邊製程。被切除邊緣之薄膜116藉由捲取裝置127捲成輥狀。
(帶檢查裝置)
接著,對關於藉由帶製造設備10(參考圖1)製造之帶91進行在溶液製膜方法中使用時是否因帶91的翹曲而產生厚度不均的檢查之帶檢查裝置進行說明。
如圖14及圖15所示,帶檢查裝置200具備1對檢查用輥201、202、位移部203、馬達205、驅動部206、力量感測器207、感測器單元208及控制部210(參考圖16)。
1對檢查用輥201、202係用於捲繞作為檢查對象的帶91者,在水平面上排列成相互平行。檢查用輥201為主動輥,檢查用輥202為自由輥。檢查用輥201、202的形狀及尺寸採用與製膜用輥131、132相同者為較佳。例如,檢查用輥201、202的直徑與製膜用131、132的直徑相同為較佳。
另外,即使在檢查用輥201、202的直徑與製膜用輥131、132的直徑不同時,只要在作用於捲繞在檢查用輥201、202之帶91的垂直應力與作用於捲繞在製膜用輥131、132之帶91的垂直應力相等的條件下,都能夠應用本發明。作用於在直徑Dr的輥上捲繞之帶91的垂直應力N能夠以下述式表示。其中,T1為帶91的移動張力,THb為帶91的厚度。
N=THb×T1/0.5Dr
檢查用輥201由旋轉軸201a和軸著於旋轉軸201a之輥主體201b構成。檢查用輥202由旋轉軸202a和軸著於旋轉軸202a之輥主體202b構成。
旋轉軸202a在張力外加位置Pt與鬆弛位置Pr(參考圖17)之間移動自如。張力外加位置Pt為對掛繞於檢查用輥201、202之帶91外加預定張力之位置。鬆弛位置Pr為掛繞於檢查用輥201、202之帶91鬆弛之位置。驅動部206向旋轉軸201a外加從輥主體202b朝向輥主體201b之外力F2。藉由向旋轉軸201a外加外力F2,對掛繞於檢查用輥202、201之帶91外加移動張力T2。力量感測器207檢測旋轉軸201a所承受之外力F2的大小。
在支撐於檢查用輥201上之帶91的表面91a上設定向帶91的寬度方向延伸之測定位置MP1。測定位置MP1係與到達位置DP(參考圖11)對應者。亦即,從旋轉軸201a的旋轉中心O201a朝向檢查用輥201的頂部TP延伸之面MTP與從旋轉軸201a的旋轉中心O201a朝向測定位置MP1延伸之面MMP1所成角的角度φ2等於角度φ1(參考圖11)。
周面201bx上設定測定位置MP2。測定位置MP2為面MMP1與軸向端部201be的交線。
感測器單元208配設於帶91的表面91a側,亦即面MMP1上為較佳。感測器單元208具備與測定位置MP1正對之測定窗208a。測定窗208a從支撐帶91之輥主體201b的軸向一端遍及另一端朝向帶91的寬度方向延設。
並且,感測器單元208具備距離感測器208x和基準位置檢測感測器208y。距離感測器208x測定從測定窗208a至測定位置MP1的距離或從測定窗208a至測定位置MP2的距離。基準位置檢測感測器208y檢測設定於帶91的表面91a之基準位置是否在測定位置MP1上。距離感測器208x具有感測器件(未圖示)、內置CPU(未圖示)及內置記憶體(未圖示)。作為基準位置檢測感測器208y,例如能夠利用反射型光感測器。另外,關於在帶91的表面91a上設定之基準位置進行後述。
向帶91的寬度方向延伸之厚度測定線ST(j)[j=1,2,3,......,n]設定為向帶91的長邊方向排列。並且,向帶91的長邊方向延伸之厚度測定線SM(i)[i=1,2,3,......,m]設定為向帶91的寬度方向排列。另外,相鄰之厚度測定線ST的間隔及相鄰之厚度測定線SM的間隔預先設定為預定值。
如圖16所示,控制部210具備CPU211、存儲部212、距離計算部216、浮起量計算部217及判定部218。
CPU211透過總線222與存儲部212或各部216~218電性連接。存儲部212中儲存有程序或各資料。作為儲存於存儲部212中之程序,有帶的檢查用程序等。並且,作為儲存於存儲部212中之資料,有帶的厚度情報225(參考圖18)、閾值TH1或移動張力T1等。
如圖18所示,帶的厚度情報225由各個厚度測定線ST(參考圖15)的位置情報MD和各個厚度測定線ST(參考圖15)上的帶91的厚度分佈情報DB構成。位置情報MD表示帶91的長邊方向上從基準位置B1(參考圖15)至任意的厚度測定線ST(j)的距離L(j)(參考圖15)。其中,基準位置B1露出於帶91的表面91a之焊接部91v(參考圖15)。
厚度分佈情報DB由厚度測定線ST與厚度測定線SM的各交點P上的帶91的厚度測定值D構成,按每個厚度測定線ST分組測定值D。例如,當任意的厚度測定線ST(j)與任意的厚度測定線SM(i)的交點P(i,j)上的帶91的厚度測定值表示為D(i,j)時,任意的厚度測定線ST(j)的厚度分佈情報DB(j)中包含D(1,j)、D(2,j)、D(3,j)、......、D(i-1,j)、D(i,j)、D(i+1,j)、......、D(m,j)。此外,測定值D(i,j)能夠預先藉由超音波感測器等得到。
如圖16所示,距離計算部216根據式(2)計算從輥主體201b的周面201bx至帶91的表面91a的距離H(參考圖19)。
式(2)為H=B-A。
A為從測定窗208a至測定位置MP1的距離(參考圖19),B為從測定窗208a至測定位置MP2的距離(參考圖19)。
浮起量計算部217根據式(1)計算從周面201bx至帶91的裏面91b的浮起量CL(參考圖20)。
式(1)為CL=H-D。
判定部218判定藉由浮起量計算部217計算出之所有CL是否在閾值TH1以下。閾值TH1儲存於存儲部212內。閾值TH1根據帶91的目標質量確定即可。在溶液製膜方法中,為了抑制厚度不均故障或起因於厚度不均故障之剝離殘留故障或起泡,將閾值TH1設定在0.1mm以下為較佳。
接著,對如圖14所示之帶檢查裝置200中的帶檢查製程230(參考圖21)進行說明。
首先,位移部203將旋轉軸202a設置在鬆弛位置Pr上(參考圖17)。將作為檢查對象的帶91掛繞在檢查用輥201、202上。之後,位移部203將旋轉軸202a設置在張力外加位置Pt上(圖21的S10)。
如圖15及圖16所示,驅動部206在控制部210的控制下,對旋轉軸201a外加外力F2。力量感測器207檢測外力F2。控制部210從力量感測器207讀取外力F2,從存儲部212讀取值BS。值BS係帶91的平均截面積Sav乘以2而獲得者。接著,控制部210將外力F2除以值BS來計算移動張力T2。而且,控制部210調節外力F2的大小,以便計算出之移動張力T2變得與從存儲部212讀取之移動張力T1相同。這樣,對帶91外加與製膜時相同的移動張力(圖21的S11)。
如圖14及圖15所示,若馬達205旋轉旋轉軸201a,則帶91向長邊方向移動。基準位置檢測感測器208y利用光源向測定位置MP1放出測試光。從基準位置檢測感測器208y放出之測試光在測定位置MP1反射並成為反射光入射到測定窗208a。基準位置檢測感測器208y檢測從測定窗208a入射之反射光的量。當檢測出之反射光的量小於基準量時,內置CPU向CPU211發送基準位置檢測信號。其中,基準量係在測定位置MP1上照射測試光時除了基準位置B1以外的帶91的表面91a上之反射光的量。這樣,基準位置檢測感測器208y在測定位置MP1上進行基準位置B1的檢測(圖21的S12)。
CPU211使檢查用輥201透過馬達205從接收基準位置檢測信號之時刻僅旋轉預定時間t1。藉由檢查用輥201的旋轉,向長邊方向送出與時間t1相應之距離L量的帶91。例如,若從基準位置B1僅送出距離L(j)量的帶91,則厚度測定線ST(j)位於測定位置MP1上(圖21的S13)。
如圖19所示,感測器單元208利用距離感測器208x(參考圖16)按每個測定位置MP1上的交點P(參考圖15)測定從帶91的表面91a至測定窗208a的距離A(圖21的S14)。例如,當厚度測定線ST(j)位於測定位置MP1上時(參考圖15),距離感測器208x(參考圖16)測定厚度測定線ST(j)上的交點P(i,j)[i=1,2,3,......m]上的距離A(i,j)[i=1,2,3,......m]。
並且,感測器單元208利用距離感測器208x(參考圖16)在測定位置MP2(參考圖15)測定從軸向端部201be至測定窗208a的距離B。當厚度測定線ST(j)位於測定位置MP1上時,距離感測器208x(參考圖16)測定從軸向端部201be至測定窗208a的距離B(j)(圖21的S15)。另外,若距離B(j)的測定點為設定在測定位置MP2上之點,則可以為1個點,亦可為複數個點。將距離B(j)的測定點設定為1個點時,將其測定點上的測定值設為距離B(j)即可。並且,將距離B(j)的測定點設定為複數個點時,可以將各個測定點上的測定值的平均值設為距離B(j)。
距離A和距離B的測定值分別儲存於存儲部212中(參考圖16)(圖21的S16)。
CPU211進行是否結束有關所有厚度測定線ST的測定之判定(圖21的S17)。當判定為結束有關所有厚度測定線ST的測定時,進入下一個處理(圖21的S20)。另一方面,當判定為未結束有關所有厚度測定線ST的測定時,反覆進行使帶91移動至下一個厚度測定線ST到達測定位置MP1上之步驟(圖21的S18)和對該厚度測定線ST進行測定之一連串的步驟(S14~S16)。
距離計算部216根據式(2)計算從軸向端部201be至帶91的表面91a的距離H(參考圖20)(圖21的S20)。計算出之距離H儲存於存儲部212中(參考16)。
式(2)為H(i,j)=B(j)-A(i,j)。
[j=1,2,3,......n][i=1,2,3,......m]
浮起量計算部217從存儲部212讀入帶的厚度情報225,根據式(1)計算浮起量CL(i,j)(參考圖21)(圖21的S21)。計算出之浮起量CL儲存於存儲部212中(參考圖16)。
式(1)為CL(i,j)=H(i,j)-D(i,j)。
[j=1,2,3,......n][i=1,2,3,......m]
判定部218判定該帶91的所有浮起量CL(i,j)是否在閾值TH1以下(圖21的S22)。當判定為所有浮起量CL(i,j)在閾值TH1以下時,判定該帶91為“合格品”(圖21的S23)。另一方面,判定為在容許範圍外之帶91判定為“不合格品”(圖21的S24)。在容許範圍外是指浮起量CL(i,j)中的至少一個大於閾值TH1。
在將判定為“不合格品”之帶91使用在溶液製膜方法中時,導致流延膜136上產生厚度不均。在本發明中,由於根據與製膜條件相同條件下的浮起量CL檢查製造出之帶91,因此不實施溶液製膜方法即可檢測是否為引發流延膜136的厚度不均之帶。
此外,如圖11及圖12所示,可以在流延模133的移動方向上游側設置對液珠的背面側(帶91的移動方向上游側)進行減壓之減壓室237。其中,液珠係藉由從流延模133流出之濃液從流出口133a遍及帶91的表面91a而形成者。能夠藉由減壓室237抑制隨著帶91的移動在帶91的表面91a附近產生且因流向帶91的移動方向之攜帶風引起之液珠的振動,甚至能夠防止流延膜或薄膜的厚度不均等。當帶91的移動速度超過30m/分鐘時,因攜帶風引起之液珠的振動會成為問題。因此,當帶91的移動速度超過30m/分鐘時,設置減壓室237為較佳。
減壓室237在帶91的移動方向上比流延模133更靠近上游側,以在帶91的表面91a的法線方向上靠近帶91的表面91a的方式配設。減壓室237與帶91的表面91a的間隔例如為0.7mm以下。減壓室237上透過吸引管連接用於吸引減壓室237內的氣體之減壓扇(未圖示)。
減壓室237由箱形的室主體、用於提高室主體內的密封性之密封構件、及為了使減壓室237內的氣體的流動成為預定方向而進行整頓之整流構件構成。室主體係用於包圍液珠的背面側者,具有上游側遮風板237a、1對側方遮風板237b、頂板237c及前面板。上游側遮風板237a設置成以相對帶91的表面91a豎立之姿勢,在比流出口133a(參考圖11)更靠近帶91的移動方向上游側,在帶91的表面91a的法線方向上靠近帶91的表面91a。上游側遮風板237a從帶91的其中一方的側部遍及另一方的側部延設,上游側遮風板237a的兩端部分別與側部正對。1對側方遮風板237b分別以相對側部的表面豎立之姿勢,從上游側遮風板237a的兩端部朝向帶91的移動方向下游側延設。1對側方遮風板237b上掛繞頂板237c和前面板。
減壓室主體被上游側遮風板237a、1對側方遮風板237b、頂板237c及前面板包圍而形成,且具有朝向帶91的表面91a開口之吸引口(未圖示)。減壓室237藉由減壓扇(未圖示)從吸引口吸引位於液珠的上游側之氣體。吸引位於液珠的上游側之氣體的結果,液珠的上游側的氣壓下降,從而能夠產生液珠的上游側與下游側的壓力差ΔP。由該壓力差ΔP,能夠抑制隨著帶91的移動而在帶91的表面91a附近產生且因流向帶91的移動方向之攜帶風引起之液珠的振動,甚至能夠防止流延膜或薄膜的厚度不均等。
如圖11及圖13所示,帶91的表面91a上形成減壓區BA。減壓區BA為支撐於製膜用輥131之帶91的表面91a中被減壓室237覆蓋之部份。
此時,利用帶檢查裝置200(參考圖14)除了進行有關測定位置MP1的浮起量CL的測定,還對與減壓區BA對應之測定位置MA(參考圖15)進行浮起量CL的測定為較佳。更具體而言,在設定於帶91的表面91a之測定位置MA設定沿寬度方向延伸之測定線ML,按每個該測定線ML進行上述的帶檢查製程230(參考圖21)為較佳。測定線ML從測定位置MA的帶91的移動方向上流端遍及帶91的移動下游端排列設定為較佳。由此,能夠在測定位置MA的整個區域進行帶91的檢查。
測定位置MA設定在支撐於檢查用輥201上之帶91的表面91a上。如圖11及圖22所示,從旋轉中心O131a朝向減壓區BA的帶91的移動方向上游端BAu延伸之面LBAu與面LTP所成角的角度φBAu等於從旋轉中心O201a朝向測定位置MA的帶91的移動方向上游端MAu延伸之面LMAu與面LTP所成角的角度φMAu。並且,從旋轉中心O131a朝向減壓區BA的帶91的移動方向下游端BAd延伸之面LBAd與面LTP所成角的角度φBAd等於從旋轉中心O201a朝向測定位置MA的帶91的移動方向下游端MAd延伸之面MMAd與面MTP所成角的角度φMAd
在將測定位置MA上的浮起量CL超過閾值TH1之帶91使用於溶液製膜方法中時,因帶91的移動而產生減壓單元的密封性的偏差。而且,液珠因減壓單元的密封性的偏差而振動之結果,導致產生流延膜的厚度不均。因此,藉由對與減壓區BA對應之測定位置MA(參考圖22)測定浮起量CL,並對測定位置MA的整個區域進行帶91的檢查,不實施溶液製膜方法即可檢測是否為引發流延膜的厚度不均之帶。
接著,對厚度測定線SM的設定方法的一例進行說明。圖23中,對未產生翹曲之帶,亦即浮起量CL均為“0”的帶示出距離感測器208x的感測器件所檢測之距離資料,圖24中,對產生翹曲之帶示出距離感測器208x的感測器件所檢測之距離資料。圖23及圖24的橫軸表示帶91的寬度方向的位置,圖23及圖24的縱軸表示感測器件所檢測之距離。
距離感測器208x的感測器件從寬度方向的一端遍及另一端對帶91測定從測定窗208a至帶91的表面91a或軸向端部208be的距離。距離感測器208x的內置CPU從其中一方的寬度方向外側朝向寬度方向中央側將感測器件測定之距離的資料(以下稱為距離資料)讀取至另一方的寬度方向外側。接著,內置CPU將距離資料中的初始值E1判定為軸向端部201be的端,將峰值E2判定為帶91的端。其中,初始值E1係從其中一方的寬度方向外側讀取至另一方的寬度方向外側之內置CPU最初檢測之初始值部份,峰值E2係表示距離資料中最大值之位置。
接著,內置CPU在初始值E1的位置與從初始值E1向寬度方向中央側僅遠離預定量之位置之間選擇任意的距離資料。而且,根據該選出之距離資料計算距離B。
另外,內置CPU在峰值E2的位置與從峰值E2向寬度方向中央側僅遠離預定量ε之位置之間選擇任意的距離資料。如此,內置CPU根據該選出之距離資料計算距離A。
厚度測定線SM中在帶91的寬度方向上位於最端側者,亦即厚度測定線SM(1)或厚度測定線SM(m)設定在相當於圖23或圖24中的峰值E2之位置,亦即帶91的其中一方的端或另一方的端為較佳。由此,內置CPU能夠將峰值E2的位置認定為厚度測定線SM(1)或厚度測定線SM(m)。並且,由於能夠預先設定相鄰之厚度測定線SM的間隔ε,因此能夠將從峰值E2向寬度方向中央側僅遠離預定距離之位置認定為厚度測定線SM(2)或厚度測定線SM(m-1)。
如此,即使帶91的寬度方向端部翹曲,也能夠將厚度測定線SM在寬度方向上的位置的誤差限制在最小限度內。
上述實施方式中,以帶91的其中一方的端或另一方的端為基準設定厚度測定線SM,但本發明不限於此,可以以未產生翹曲之部份(例如,帶91的寬度方向中央部)為基準,在從該部份僅遠離預定距離之位置設定厚度測定線SM。並且,當為具有焊接部91w之帶91時,亦可以以焊接部91w的位置為基準,在從該部份僅遠離預定距離之位置設定厚度測定線SM。另外,亦可以設定於帶91的表面91a之另外的記號為基準,在從該部份僅遠離預定距離之位置設定厚度測定線SM。
上述帶檢查製程230均可應用於僅具有焊接部91v之帶91和具有焊接部91v及焊接部91w之帶91。
在上述的薄膜形成裝置117(參考圖10)中,在藉由製膜用輥131支撐之帶91的表面91a上設定到達位置DP和剝取位置PP,但本發明不限於此。例如,有時利用到達用支撐輥和剝離用支撐輥來代替製膜用輥131。此時,在掛繞於到達用支撐輥和剝離用支撐輥上之帶91的表面91a上,在到達用支撐輥所支撐之部份設定到達位置DP,在剝離用支撐輥所支撐之部份設定剝離位置PP。另外,當設置減壓室237時,在到達用支撐輥所支撐之部份設定減壓區BA。可以對與這種到達位置DP或減壓區BA對應之位置進行本發明的帶檢查製程230。
基準位置B1可以不是焊接部91v。例如可以將設定在帶91的表面91a上之另外的記號設為基準位置B1。
製膜用輥131、132和評價用輥201、202為同一輥為較佳。並且,可以在溶液製膜設備110上進行帶檢查製程230。
藉由如圖10所示之溶液製膜設備110得到之薄膜116能夠使用於相位差薄膜或偏光板保護薄膜。
薄膜116的寬度為600mm以上3000mm以下為較佳,2000mm以上3000mm以下更為佳。並且,即使薄膜116的寬度超過3000mm時,也能夠應用本發明。薄膜116的膜厚為30μm以上120μm以下為較佳。
(聚合物)
能夠使用於本發明之聚合物只要是熱塑性樹脂就不特別限定,例如可以舉出纖維素醯化物、含內酯環聚合體、環狀烯烴、聚碳酸酯等。其中,纖維素醯化物、環狀烯烴為較佳,其中,包含醋酸基、丙酸酯基之纖維素醯化物以及藉由加成聚合得到之環狀烯烴為較佳。
(纖維素醯化物)
作為纖維素醯化物,係醯基向纖維素的羥基的取代度滿足下述式(I)~(III)者為較佳。在下述式(I)~(III)中,A及B表示醯基對纖維素的羥基中的氫原子之取代度,A為乙醯基的取代度,B為碳原子數3~22的醯基的取代度。纖維素醯化物的90質量%以上為0.1~4mm的顆粒為較佳。其中,本發明在使用二醋酸纖維素(DAC)作為纖維素醯化物時,具有特別大的效果。
(I)2.0A+B3.0
(II)0A3.0
(III)0B2.9
構成纖維素的進行β-1,4鍵合的葡萄糖單位在2位、3位及6位具有游離之羥基。纖維素醯化物為藉由碳數2以上的醯基對這些羥基的一部份或整體進行酯化的聚合體(聚合物)。醯基取代度是指纖維素的羥基分別在2位、3位及6位被酯化之比例(將100%酯化時設為取代度1)。
總醯化取代度,亦即DS2+DS3+DS6的值為2.00~3.00為較佳,2.22~2.90更為佳,2.40~2.88尤為佳。並且,DS6/(DS2+DS3+DS6)的值為0.28為較佳,0.30以上更為佳,0.31~0.34尤為佳。其中,DS2為葡萄糖單位中的2位羥基的氫被醯基取代之比例(以下稱為“2位醯基取代度”),DS3為葡萄糖單位中的3位羥基的氫被醯基取代之比例(以下稱為“3位醯基取代度”),DS6為在葡萄糖單位中6位羥基的氫被醯基取代之比例(以下稱為“6位醯基取代度”)。
在本發明的纖維素醯化物中使用之醯基可以僅為1種,或者亦可使用2種以上醯基。在使用2種以上醯基時,其中1個為乙醯基為較佳。若將2位、3位及6位羥基被乙醯基取代之程度的總和設為DSA,並將2位、3位及6位羥基被除乙醯基以外的醯基取代之程度的總和設為DSB,則DSA+DSB的值為2.22~2.90為較佳,2.40~2.88尤為佳。
並且,DSB為0.30以上為較佳,0.7以上尤為佳。另外,DSB其20%以上為6位羥基的取代基為較佳,25%以上更為佳,30%以上為進一步較佳,33%以上尤為佳。另外,纖維素醯化物的6位上的DSA+DSB的值為0.75以上、進一步較佳為0.80以上、尤其較佳為0.85以上的纖維素醯化物亦較佳,藉由使用這些纖維素醯化物,能夠製作溶解性更加優異之濃液。尤其是,若使用非氯系有機溶劑,則能夠製作顯示優異之溶解性且低黏度、過濾性優異之濃液。
作為纖維素醯化物的原料之纖維素可以係從棉絨纖維、漿料中的任一種獲得者。
作為本發明中的纖維素醯化物的碳數2以上的醯基,可以是脂肪族基亦可為芳基,並不特別限定。例如可以舉出纖維素的烷羰基酯、烯羰基酯、芳香族羰基酯、芳香族烷羰基酯等,亦可分別具有進一步被取代的基團。作為它們的較佳例子,可以舉出丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基、辛醯基、癸醯基、十二烷醯基、十三烷醯基、十四烷醯基、十六烷醯基、十八烷醯基、異丁醯基、三級丁醯基、環己烷羰基、油醯基、苯甲醯基、萘羰基、肉桂醯基等。其中,丙醯基、丁醯基、十二烷醯基、十八烷醯基、三級丁醯基、油醯基、苯甲醯基、萘羰基、肉桂醯基等更為佳,丙醯基、丁醯基尤為佳。
(溶劑)
作為製備濃液的溶劑,可以舉出芳香族烴(例如苯、甲苯等)、鹵代烴(例如二氯甲烷、氯苯等)、醇(例如甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、二甘醇等)、酮(例如丙酮、甲乙酮等)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯等)及醚(例如四氫呋喃、甲基溶纖劑等)等。
上述鹵代烴中,使用碳原子數1~7的鹵代烴為較佳,使用二氯甲烷最為佳。從纖維素醯化物的溶解性、流延膜從支撐體上的剝離性、薄膜的機械強度及光學特性等物性觀點考慮,除了二氯甲烷之外,混合一種乃至數種碳原子數1~5的醇為較佳。醇的含量相對於整個溶劑為2~25質量%為較佳,5~20質量%更為佳。作為醇,可以舉出甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等,但使用甲醇、乙醇、正丁醇或它們的混合物為較佳。
最近以對環境的影響抑制到最小限度為目的,對不使用二氯甲烷的溶劑組成也進行研究。在這種情況下,碳原子數為4~12的醚、碳原子數為3~12的酮、碳原子數為3~12的酯及碳原子數為1~12的醇為較佳,有時還適當地混合這些來使用。例如,可以舉出乙酸甲酯、丙酮、乙醇、正丁醇的混合溶劑。這些醚、酮、酯及醇係可以具有環狀結構者。而且,具有2個以上醚、酮、酯及醇的官能團(亦即,-O-、-CO-、-COO-及-OH)中的任意一種之化合物亦能夠用作溶劑。
[實施例]
以下,為了確認本發明的效果,進行了實驗1~6。各實驗的詳細內容用實驗1進行說明,關於實驗2~6僅表示與實驗1不同之條件。
(實驗1)
在圖1所示之帶製造設備10中,根據SUS316製的側構件11(寬度150mm)和SUS316製的中央構件12(寬度2000mm)製造出了帶(A-1)。
利用圖14所示之帶檢查裝置200對帶(A-1)進行圖21所示之帶檢查製程230。帶檢查製程230中對測定位置MP1上的浮起量CL及測定位置MA上的浮起量CL。測定位置MP1上的浮起量CL的最大值CLMP及測定位置MA上的浮起量CL的最大值CLMA如表1所示。進行帶檢查製程230時,外加於成為被檢查對象之帶之移動張力T2為60N/mm2
在溶液製膜設備110(參考圖10)中,由包含二醋酸纖維素(DAC)及溶劑之濃液113製造出了薄膜116。使用帶(A-1)作為帶91。帶91的移動速度為40m/分鐘。流延模133向移動狀態的帶91連續流出濃液113。在帶91的表面91a上形成了由濃液113組成之流延膜136。
利用來自各導管141~143的乾燥風,使溶劑從帶91上的流延膜136中蒸發。剝離輥135從帶91剝離流延膜136並作為薄膜116。薄膜116依次被送至第1拉幅機120、輥乾燥裝置124、第2拉幅機125及分切機126。
(實驗2~6)
代替帶(A-1)使用藉由帶製造設備10得到之帶(A-2)~(A-6)作為帶91,除此以外,與實驗1相同地製造出了薄膜116。其中,浮起量CL的最大值CLMP及浮起量CL的最大值CLMA如表1所示。
對在實驗1~實驗6中得到之薄膜進行了如下評價。
1.剝離殘留評價
對帶中有無剝離殘留流延膜進行了調查。
A:未在帶中產生流延膜的剝離殘留。
B:在帶中產生了流延膜的剝離殘留。
2.有無厚度不均的評價
按以下順序評價有無流延膜的厚度不均。從利用捲取裝置127捲取在卷芯之前的薄膜切出樣品薄膜。向樣品薄膜透射光時,目視觀察樣品薄膜的表面出現之陰影。當在樣品薄膜中觀察到之陰影的強弱大於通過作為相位差薄膜或偏光板保護薄膜的厚度不均評價試驗之產品薄膜者時,判定為無法容許該厚度不均(B)。並且,當在樣品薄膜中觀察到之陰影的規模與通過作為相位差薄膜或偏光板保護薄膜的性能試驗之產品薄膜者相同程度,或者小於其時,判定為能夠容許該厚度不均(A)。
表1示出實驗1~6的評價結果。另外,表1中附加於評價結果之序號表示附加於上述評價項目之序號。
10...帶製造設備
11...側構件
11e、12e...側緣
12...中央構件
13...帶構件
13c、91c...中央部
13s、91s...側部
13w、91v、91w...焊接部
16...送出部
17...對接部
18、61...焊接單元
19...加熱部
20、127...捲取裝置
23...第1送出裝置
24...第2送出裝置
26...第1輥
27...第2輥
28...第3輥
29...第4輥
34、47...位置檢測手段
32、37、50...位移機構
33、38、51...控制器
41...焊接支撐輥
42...焊接裝置
43...雷射振盪器
46...焊接裝置主體
52...室
55...清潔裝置
56、141、142、143...導管
57...送風機
62...按壓構件
63...第1傳送帶
64...第2傳送帶
67...第5輥
68...第6輥
69...第7輥
71...高熱傳導部
72...焊接液珠
73...熱影響區域
76...槽
81...錐狀輥
82...驅動手段
85...夾子
86...夾子主體
87...挾持針
88...移動機構
91...帶
91a...帶的表面
91b...帶的裏面
110...溶液製膜設備
111...纖維素醯化物
112...溶劑
113...濃液
116...薄膜
117...薄膜形成裝置
120...第1拉幅機
120a、125a...保持構件
122...輥
124...輥乾燥裝置
125...第2拉幅機
126...分切機
131、132...製膜用輥
131a...旋轉軸
131b...輥主體
133、136...流延模
133a...流出口
134...膜乾燥裝置
135...剝離輥
171、205...馬達
172、206...驅動部
173、207...力量感測器
200...帶檢查裝置
201、202...檢查用輥
201a、202a...旋轉軸
201b、202b...輥主體
201be...軸向端部
201bx...輥主體的周面
203...位移部
208...感測器單元
208a...測定窗
208x...距離感測器
208y...基準位置檢測感測器
210...控制部
211...CPU
212...存儲部
216...距離計算部
217...浮起量計算部
218...判定部
222...總線
225...厚度情報
230...帶檢查製程
237...減壓室
237a...上游側遮風板
237b...側方遮風板
237c...頂板
A...箭頭
A(i,j)...厚度測定線ST(j)上的交點P(i,j)上的距離
B(j)...從軸向端部201be至測定窗208a的距離
B1...基準位置
BA...減壓區
BAd...下游端
BAu...上游端
CA...流延區
CL(i,j)...浮起量
CW...流延寬度
d...直徑
D(i,j)...交點P(i,j)上的帶91的厚度測定值
D1...第1傳送帶63與第2傳送帶64的間隔
D2...接觸位置Ps與第1傳送帶63的距離
D3...接觸位置Ps與第2傳送帶64的距離
D4...通過區域的寬度
D5...槽76的寬度
D6...槽76的深度
DB...厚度分佈情報
DP...到達位置
E1...初始值
E2...峰值
H(i,j)...從軸向端部201be至帶91的表面91a的距離
L(j)...從基準位置B1至任意的厚度測定線ST(j)的距離
LBAd...從旋轉中心O131a朝向減壓區BA的帶91的移動方向下游端BAd延伸之面
LBAu...從旋轉中心O131a朝向減壓區BA的帶91的移動方向上游端BAu延伸之面
LDP...從旋轉軸131a的旋轉中心O131a朝向到達位置DP延伸之面
LTP...從旋轉軸131a的旋轉中心O131a朝向頂部TP延伸之面
MA...測定位置
MAd...測定位置MA的帶91的移動方向下游端
MAu...測定位置MA的帶91的移動方向上游端
MD...位置情報
ML...測定線
MMAd...從旋轉中心O201a朝向測定位置MA的帶91的移動方向下游端MAd延伸之面
MMAu...從旋轉中心O201a朝向測定位置MA的帶91的移動方向下游端MAu延伸之面
MMP1...從旋轉軸201a的旋轉中心O201a朝向測定位置MP1延伸之面
MP1...向帶的寬度方向延伸之測定位置
MP2...面MMP1與軸向端部201be的交線
MTP...從旋轉軸201a的旋轉中心O201a朝向檢查用輥201的頂部TP延伸之面
O131a...旋轉軸131a的旋轉中心
O201a...旋轉軸201a的旋轉中心
P(i,j)...厚度測定線ST(j)與厚度測定線SM(i)的交點
Ph...對接位置
PP...剝離位置
Pr...鬆弛位置
Ps...接觸位置
Pt...張力外加位置
Pw...焊接位置
SM(i-1)、SM(i)、SM(i+1)、ST(j-1)、ST(j)、ST(j+1)...厚度測定線
S10、S11、S12、S13、S14、S15、S16、S17、S18、S20、S21、S22、S23...步驟
TP...頂部
X...傳送方向
Y...寬度方向
θ1...接觸區域中的周向和中央構件12的傳送方向X所成之角
θ2...焊接部91v和寬度方向Y所成之角
φ1...面LTP與面LDP所成角之角度
φ2...面MTP與面MMP1所成角的角度
φBAd...面LBAd與面LTP所成角的角度
φBAu...面LBAu與面LTP所成角的角度
φMAd...面MMAd與面MTP所成角的角度
φMAu...面MMAu與面MTP所成角的角度
圖1係表示帶的製造設備的概要之側視圖。
圖2係表示帶製造設備的概要之俯視圖。
圖3係表示焊接單元的概要之側視圖。
圖4係表示焊接單元的概要之俯視圖。
圖5係表示焊接支撐輥的概要之V-V線截面圖。
圖6係焊接液珠及其周邊的說明圖。
圖7係錐狀輥的概要圖。
圖8係夾子的概要圖。
圖9係帶的概要圖。
圖10係表示溶液製膜設備的概要之側視圖。
圖11係表示到達位置DP、減壓區BA的概要之側視圖。
圖12係表示流延模、減壓室、及製膜用輥的概要之立體圖。
圖13係表示到達位置DP及減壓區BA的概要之立體圖。
圖14係表示在張力外加位置設置旋轉軸時的帶檢查裝置的概要之側視圖。
圖15係表示捲繞在檢查用輥上之帶的概要之立體圖。
圖16係表示帶檢查裝置的概要之塊圖。
圖17係表示在鬆弛位置設置旋轉軸時的帶檢查裝置的概要之側視圖。
圖18係表示厚度情報的概要之說明圖。
圖19係設置在測定位置MP1上之厚度測定線ST(j)上的帶的截面圖,係表示距離A、B及H的概要者。
圖20係設置在測定位置MP1上之厚度測定線ST(j)上的帶的截面圖,係表示距離A、H、帶的厚度D及浮起量CL的概要者。
圖21係表示帶檢查製程的概要之流程圖。
圖22係表示在張力外加位置設置旋轉軸時的帶檢查裝置的概要之側視圖。
圖23係表示未在帶上產生翹曲時距離感測器的感測器件所檢測之距離的概要之說明圖。
圖24係表示在帶上產生翹曲時距離感測器的感測器件所檢測之距離的概要之說明圖。
91...帶
91a...帶的表面
91b...帶的裏面
200...帶檢查裝置
201、202...檢查用輥
201a、202a...旋轉軸
201b、202b...輥主體
201bx...輥主體的周面
203...位移部
207...力量感測器
208...感測器單元
208a...測定窗
208x...距離感測器
208y...基準位置檢測感測器
MMP1...從旋轉軸201a的旋轉中心O201a朝向測定位置MP1延伸之面
MP1...向帶的寬度方向延伸之測定位置
MP2...面MMP1與軸向端部201be的交線
MTP...從旋轉軸201a的旋轉中心O201a朝向檢查用輥201的頂部TP延伸之面
O201a...旋轉軸201a的旋轉中心
Pt...張力外加位置
TP...頂部
φ2...面MTP與面MMP1所成角的角度

Claims (10)

  1. 一種金屬製環狀帶的檢查方法,前述環狀帶具備表面和裏面,前述表面上設定從流延模流下之濃液所到達之到達位置,並形成由前述到達之濃液組成之流延膜,當前述環狀帶循環移動時,前述裏面由製膜用輥支撐,其特徵為,環狀帶的檢查方法具備以下步驟:(A)計算從前述表面上的測定位置到檢查用輥的支撐面的距離H,前述測定位置對應前述到達位置,針對藉由前述檢查用輥支撐前述裏面並外加移動張力之狀態的前述環狀帶計算前述距離H;(B)根據式(1)計算前述測定位置上的從前述支撐面至前述裏面的浮起量CL,前述式(1)為CL=H-D,前述D為前述測定位置上的前述環狀帶的厚度;及(C)判定前述計算出之浮起量CL是否在閾值以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之環狀帶的檢查方法,其中,前述檢查用輥在軸向中央部支撐前述環狀帶,以便軸向端部露出,在前述A步驟中利用測距單元測定從前述測定位置到前述測距單元的距離A和從前述測定位置上的前述軸向端部至前述測距單元的距離B,並根據式(2)計算前述距離H,其中,式(2)為H=B-A。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之環狀帶的檢查方法,其中,在前述B步驟中,從存儲部讀取前述環狀帶的厚度D,並利用從前述存儲部讀取之前述環狀帶的厚度D計算前述浮起量CL,其中存儲部中從設定在前述環狀帶上之基準位置至前述測定位置的位置情報和前述測定位置上的前述環狀帶的厚度D相關聯而被存儲。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之環狀帶的檢查方法,其中,前述環狀帶由金屬製第1網和焊接在該第1網的寬度方向一側之金屬製第2網組成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之環狀帶的檢查方法,其中,前述製膜用輥和前述檢查用輥為同一輥。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之環狀帶的檢查方法,其中,前述移動張力為60N/mm2,前述閾值為0.1mm以下。
  7. 一種金屬製環狀帶的檢查裝置,前述環狀帶具備表面和裏面,前述表面上設定從流延模流下之濃液所到達之到達位置,並形成由前述到達之濃液組成之流延膜,當前述環狀帶循環移動時,前述裏面由製膜用輥支撐,其特徵為,前述環狀帶的檢查裝置具備:距離計算部,計算從前述表面上的測定位置到檢查用輥的支撐面的距離H,前述測定位置對應前述到達位置,針對藉由前述檢查用輥支撐前述裏面並外加移動張力之狀態的前述環狀帶計算前述距離H;浮起量計算部,根據式(1)計算前述測定位置上的從前述支撐面至前述裏面的浮起量CL,前述式(1)為CL=H-D,前述D為前述測定位置上的前述環狀帶的厚度;及判定部,判定前述計算出之浮起量CL是否在閾值以下。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之環狀帶的檢查裝置,其中,具備測定距離A和距離B之測距單元,前述距離A係從前述測距單元到前述測定位置的距離,前述距離B係從前述測距單元到在軸向中央部支撐前述環狀帶之前述檢查用輥所露出之軸向端部的距離,前述距離計算部根據式(2)計算前述距離H,其中,式(2)為H=B-A。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之環狀帶的檢查裝置,其中,具有從設定在前述環狀帶上之基準位置至前述測定位置的位置情報和前述測定位置上的前述環狀帶的厚度D相關聯而被存儲的存儲部,前述浮起量計算部利用存儲在前述存儲部中之前述環狀帶的厚度D計算前述浮起量CL。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之環狀帶的檢查裝置,其中,前述製膜用輥和前述檢查用輥為同一輥。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5710537B2 (ja) * 2012-03-30 2015-04-30 富士フイルム株式会社 エンドレスバンドの評価方法及び溶液製膜方法
TWI734107B (zh) * 2019-04-30 2021-07-21 住華科技股份有限公司 一種光學檢測裝置及其光學檢測方法
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Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2963655B2 (ja) * 1996-05-27 1999-10-18 三ツ星ベルト株式会社 定荷重および定伸張モードにおけるベルト検尺方法
JP2001096553A (ja) * 1999-10-01 2001-04-10 Teijin Ltd 溶液製膜法フィルム製造についての、支持体の評価方法、支持体、フィルム製造方法およびフィルム
JP2002131020A (ja) * 2000-10-30 2002-05-09 Mitsuboshi Belting Ltd ベルト検尺装置
JP4093459B2 (ja) * 2001-09-19 2008-06-04 株式会社リコー 電子写真画像形成装置用部材表面の突起等の検出方法、検出装置および前記画像形成装置用部材の生産システム
JP4014153B2 (ja) * 2002-12-02 2007-11-28 日東電工株式会社 誘導加熱を用いたシームレスベルトの製造方法
JP2004219351A (ja) * 2003-01-17 2004-08-05 Hitachi Printing Solutions Ltd ベルト寸法測定装置
JP2005111669A (ja) * 2003-10-02 2005-04-28 Konica Minolta Opto Inc ポリマーフィルムの製造方法
JP2006330539A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Shin Etsu Polymer Co Ltd 電子写真装置用無端ベルト
US7727445B2 (en) * 2006-04-28 2010-06-01 Konica Minolta Opto, Inc. Method for manufacturing optical film
JP2008087474A (ja) * 2006-09-06 2008-04-17 Fujifilm Corp ポリマーフィルムの製造方法及び製造設備
KR101150345B1 (ko) * 2008-04-17 2012-06-08 에스케이이노베이션 주식회사 광폭 캐스팅 벨트, 광폭 필름의 제조방법 및 광폭 필름
JP5524705B2 (ja) * 2010-05-13 2014-06-18 富士フイルム株式会社 バンドの製造方法
JP5584545B2 (ja) * 2010-07-30 2014-09-03 富士フイルム株式会社 流延装置及び溶液製膜方法
JP5017481B2 (ja) * 2010-08-16 2012-09-05 富士フイルム株式会社 溶液製膜方法
KR101307307B1 (ko) * 2010-08-16 2013-09-11 후지필름 가부시키가이샤 용액 제막 방법 및 유연 장치
JP5059216B2 (ja) * 2011-01-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 溶液製膜方法及び溶液製膜設備

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