Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

SU674981A1 - Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings - Google Patents

Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings

Info

Publication number
SU674981A1
SU674981A1 SU772450434A SU2450434A SU674981A1 SU 674981 A1 SU674981 A1 SU 674981A1 SU 772450434 A SU772450434 A SU 772450434A SU 2450434 A SU2450434 A SU 2450434A SU 674981 A1 SU674981 A1 SU 674981A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
graphite
coatings
preparation
colloid
graphite preparation
Prior art date
Application number
SU772450434A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Петр Александрович Пшеничкин
Михаил Васильевич Семенов
Герман Николаевич Топоров
Владимир Иванович Виноградов
Римма Александровна Елисеева
Original Assignee
Предприятие П/Я А-1837
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я А-1837 filed Critical Предприятие П/Я А-1837
Priority to SU772450434A priority Critical patent/SU674981A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU674981A1 publication Critical patent/SU674981A1/en

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)

Description

Изобретение относитс  к технологии получени  коллоидно-графитовых препаратов дл  токопровод щих покрытий на стекл нных детал х фотоприемНИКОВ , экранах цветных кинескопов, оптических фильтров корректирующих линз и может использоватьс  в радиотехнической и оптической промьтшейности . Известен способ получени  коллоид но-графитового препарата дл  покрытий путем окислени  порошка графита смесью концентрированных азотной, и серной кислот, промывку и последующее добавление растворител  (ацетона ) до нужной концентрации Д. Полученный таким способом коллоид но-графитовый препарат при нанесении на различные подложки образует при высыхании токопровод щие пленки графита . Однако нанесенное графитовое покрытие обладает слабой адгезией к стеклу и другим кремнийсодержащим подложкам и отслаиваетс  при эксплуа тации во влажной атмосфере. Наиболее близким .к изобретению  вл етс  способ получени  коллоиднографитового препарата дл  покрытий, включающий окисление порошка графит смесью концентрированных -азотной и серной кислот, промывку и последующее добавление к окисленному графиту водного раствора соединени  аммони  (раствор аммиака в воде) 2, Однако добавление водного аммиака к окисленному графиту не повышает прочности графитовой пленки к кремнийсодержащим подложкам, так как при комнатной температуре водный аммиак не реагирует с кремнийсодержащими подложками, а при нагревании улетучиваетс . Цель изобретени  - повьшение прбчности покрыти  к кремнийсодержащим подложкам. Это достигаетс  тем, что предлагаемый способ включает окисление порошка графита смесью концентрированных азотной и серной кислот, промывку и последующее добавление к окисленному графиту раствора силиката аммони  в количестве 1-20% от веса сухого окисленного графита. Добавка силиката аммони  не тормозит процесса поликонденсации, благодар  летучести продуктов реакции. Введение в препарат силиката аммони  резко повышает прочность покрытий за счет химического взаимодействи  силиката аммони  с окисленным графитом, в резуль1ате чего образует с  .крелшийорГанйческрё сбёдинёние, а аммонийна  группа выдел етс  в виде аммиака. ,,;,.;..,.,,...,„..,.,..„.,, Йобавка силиката аммон-и  свыше 20% peSko снижает элёктропровоДноБть покрыти , снижение же содержани  сиЛ1П :ата;а ® 1Шйй Шнеё 1% П1Р ае усиливает прочность покрыти  к кремнийсоДержащим подложка по выдаёт отЬйкЬсти покйлтй  во влангнрй атмосфере. Пример . 80 г тайгивскбго обёззопенного графита (сойерж§Шё-зо лы не бо ее 0,5%, влаги Не б(эйёе 0,5% уд. поверхность 300-500 ) запивают лри перемешивании 800 мл кислот-азотной (уд. вес 1 ,43 г/см) и серной (уд. звес 1,84т/см), вз тых в соотнесений 1:3 при Температуре окружающей среды После суточного отстаивани  гфи температуре окружающей сред бЙ1сй помвцают в термостат аг выдерживают 3 ч при температуре 90 С. После охлаждени  смесь запивзоот 1 л дистиллированной вода, после чего отмывают от кислоз дека нтацией при атмосферном давлении до плотности сливаетлбго раствора 1,0101 ,005 .: Затем графит отмывают на воронках itoxrepa при разр Еженйи 0,8-0,9кгс/см создаваемом вакуум-насосом до исчез нрвени  ионов SOjJ, что определ ют по реакции с раствором соли бари . ..Отмытый окисленный графит раствор ют в 1 л дистиллированной воды при температуре окружающей среды. Концентраци  полученного раствора составл ет 70 г/л. При перемешивании в полученный препарат добавл ют 0,5 л силиката аммони  с концентрацией 14 г/л при температуре окружающей среды и нормальном давл.ении. Полученный коллоидно-графитовый препарат нанос т на стекло при температуре Окружающей среды до получени  сло  толщиной 20 м. Пластины с препаратом помещают в сушильный шкаф и выдерживают в течение 3 ч при , Покрытие охлаждают до; темпера туры окружающей среды. Лл  Определений прочности полученного покрыти  пластины помещают в воду и выдерживают при температуре окружающей среды в течение суток. Отслаивание графита от стекла не наблиШаетс . По примеру также готов т коллоидно-графитовые препараты с содержанием силиката аммони  от 1 до 20%. В таблице приведены данные испытаний коллоидно-графитовых препаратов , полученных известным.и предлагаемым способами.The invention relates to a technology for the preparation of colloidal-graphite preparations for conductive coatings on glass photodetector parts, color kinescope screens, optical filters for corrective lenses, and can be used in radio and optical media. A known method for producing a colloid of a graphite preparation for coatings by oxidizing graphite powder with a mixture of concentrated nitric and sulfuric acids, washing and then adding a solvent (acetone) to the desired concentration D. When prepared on different substrates, the graphloid obtained in this way forms drying of conductive graphite films. However, the deposited graphite coating has poor adhesion to glass and other silicon-containing substrates and peels off when operating in a humid atmosphere. The closest to the invention is a method of obtaining a colloid-graphite preparation for coatings, including the oxidation of graphite powder with a mixture of concentrated nitrogen and sulfuric acids, washing and subsequent addition of an aqueous solution of ammonium compound to the oxidized graphite (water ammonia solution) 2 oxidized graphite does not increase the strength of graphite film to silicon-containing substrates, since at room temperature aqueous ammonia does not react with silicon-containing substrates, and when the heat volatilizes. The purpose of the invention is to increase the strength of the coating to silicon-containing substrates. This is achieved by the fact that the proposed method involves the oxidation of graphite powder with a mixture of concentrated nitric and sulfuric acids, washing and then adding an ammonium silicate solution to the oxidized graphite in an amount of 1-20% by weight of dry oxidized graphite. The addition of ammonium silicate does not inhibit the process of polycondensation, due to the volatility of the reaction products. The introduction of ammonium silicate into the preparation dramatically increases the strength of the coatings due to the chemical interaction of ammonium silicate with oxidized graphite, as a result of which it forms a glued core and the ammonium group is released in the form of ammonia. ,,;,.; ..,. ,, ..., "..,., ..". ,, The addition of ammonium silicate and more than 20% of peSko reduces the electrical conduction of the coating, the reduction of the content of pulp: ata; a ® 1Schnee 1% P1P ae enhances the strength of the coating to silicon and the substrate provides a better feel in the atmosphere. An example. 80 g of taigivskogo depopulated graphite (soyg§cheo-asy not more than 0.5%, moisture not b (eyo 0.5% specific surface 300-500) washed down with stirring 800 ml of acid-nitric (specific weight 1, 43 g / cm 2) and sulfuric acid (id. Stars 1.84 tons / cm) taken in 1: 3 ratios at ambient temperature. After setting up gfi for 24 hours, the ambient temperature was heated in a thermostat for 3 hours at 90 C. cooling the mixture with 1 liter of distilled water, then rinsing from acidity by decanting at atmospheric pressure to a density of merging solution a 1,0101, 005.: Then the graphite is washed on itoxrepa funnels at a discharge of 0.8-0.9 kgf / cm generated by a vacuum pump until the ions SOjJ disappear, which is determined by reaction with barium salt solution ... Washed oxidized graphite is dissolved in 1 liter of distilled water at ambient temperature.The concentration of the resulting solution is 70 g / l. Under stirring, 0.5 l of ammonium silicate with a concentration of 14 g / l is added to the resulting preparation at ambient temperature and normal pressure. . The resulting colloidal graphite preparation is applied to glass at an ambient temperature until a layer 20 m thick is obtained. Plates with the preparation are placed in an oven and incubated for 3 hours at. The coating is cooled to; ambient temperatures. The determination of the strength of the coating obtained was placed in water and kept at ambient temperature for 24 hours. Exfoliation of graphite from glass is not observed. For example, colloid-graphite preparations with an ammonium silicate content of from 1 to 20% are also prepared. The table shows the test data of colloidal-graphite preparations obtained by known and proposed methods.

. -.. -.

ПроЧй&сть определ ли после испытани  покрыти  на : Свёкле в при комнатной температуре в течение суток.WHERE ARE determined after testing the coating on: Beet in at room temperature for a day.

Коллоидно-графитовый препарат, полученный по предлагаемому способу, обладает по сравнению с известным более высокой прочностью к кремнийсодержащим подложкам, которые найда т -применение дл  замены серебра и других металлов.The colloid-graphite preparation obtained by the proposed method has, in comparison with the known, higher strength to silicon-containing substrates, which can be used for the replacement of silver and other metals.

Claims (2)

1.Авторское свидетельство СССР 1. USSR author's certificate 0 332044, кл. С 01 В 31/04, 29.07.68.0 332044, cl. From 01 to 31/04, 29.07.68. 2.Авторское свидетельство СССР 571435, кл. С 01 В 31/04, 23.04.76.2. Authors certificate of the USSR 571435, cl. From 01 to 31/04, 23.04.76.
SU772450434A 1977-02-09 1977-02-09 Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings SU674981A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772450434A SU674981A1 (en) 1977-02-09 1977-02-09 Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772450434A SU674981A1 (en) 1977-02-09 1977-02-09 Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU674981A1 true SU674981A1 (en) 1979-07-25

Family

ID=20694782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU772450434A SU674981A1 (en) 1977-02-09 1977-02-09 Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU674981A1 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990015022A1 (en) * 1989-05-29 1990-12-13 Institut Khimii Dalnevostochnogo Otdelenia Akademii Nauk Sssr Hydrate of carbon hydroxide and method of obtaining it
US5476580A (en) 1993-05-17 1995-12-19 Electrochemicals Inc. Processes for preparing a non-conductive substrate for electroplating
US5690805A (en) 1993-05-17 1997-11-25 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
US5725807A (en) 1993-05-17 1998-03-10 Electrochemicals Inc. Carbon containing composition for electroplating
US6171468B1 (en) 1993-05-17 2001-01-09 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
US6303181B1 (en) 1993-05-17 2001-10-16 Electrochemicals Inc. Direct metallization process employing a cationic conditioner and a binder
US6710259B2 (en) 1993-05-17 2004-03-23 Electrochemicals, Inc. Printed wiring boards and methods for making them

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990015022A1 (en) * 1989-05-29 1990-12-13 Institut Khimii Dalnevostochnogo Otdelenia Akademii Nauk Sssr Hydrate of carbon hydroxide and method of obtaining it
US5476580A (en) 1993-05-17 1995-12-19 Electrochemicals Inc. Processes for preparing a non-conductive substrate for electroplating
US5690805A (en) 1993-05-17 1997-11-25 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
US5725807A (en) 1993-05-17 1998-03-10 Electrochemicals Inc. Carbon containing composition for electroplating
US6171468B1 (en) 1993-05-17 2001-01-09 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
US6303181B1 (en) 1993-05-17 2001-10-16 Electrochemicals Inc. Direct metallization process employing a cationic conditioner and a binder
US6710259B2 (en) 1993-05-17 2004-03-23 Electrochemicals, Inc. Printed wiring boards and methods for making them

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4865649A (en) Coating solution for forming a silica-based coating film
JPS6427125A (en) Conductive product and its manufacture
US4781980A (en) Copper powder for use in conductive paste
SU674981A1 (en) Method of obtaining colloid-graphite preparation for coatings
CA2053985A1 (en) Process for producing thin glass film by sol-gel method
CN101817980A (en) Sol-gel preparation method of silica-based superhydrophobic thin films
CN113463078B (en) Preparation method and application of antioxidant liquid containing polyhydroxy organic matters
US3157534A (en) Silicone coated articles and method
JPS5588322A (en) Treatment of semiconductor substrate
TWI233938B (en) Sol-gel process for the preparation of vitreous films possessing high adhesion properties and stable colloidal solutions suitable for its carrying out the same
Tsukuma et al. Liquid phase deposition of a film of silica with an organic functional group
JPH05262524A (en) Production of zinc oxide thin film
JPS6112034A (en) Formation of silicon oxide film on silicon substrate surface
JP2648341B2 (en) Manufacturing method of thin film oxygen sensor
JPS6027130B2 (en) Method for manufacturing solution for creating transparent conductive film
CN108328641B (en) Hydrothermal preparation method of nano copper oxide film
JP2752968B2 (en) Method of forming silica-based coating
JPS55167130A (en) Metal oxide thin film forming method
JPS6117911B2 (en)
JPS5930864A (en) Coating liquid for silicon oxide-based film formation
JPH07278828A (en) Coating agent for forming grain-oriented silicon steel sheet coating film and production of grain-oriented silicon steel sheet having the coating film
SU789451A1 (en) Method of producing coating on support
KR940010090B1 (en) Process for producing thin glass film by sol-gel method
SU1176292A1 (en) Light-sensitive composition for etching
JP2818785B2 (en) Method of forming silica coating on metal substrate