SE527346C2 - Skär med beläggning av skikt av MTCVD-Ti (C,N) med styrd kornstorlek och morfologi och metod för att belägga skäret - Google Patents

Description

45 ; 527 346 2 4,619,886. Dopningsmedel kan även användas för att iörfina komstorleken hos MTCYD-skikt. An- vändning av CO dopning för att åstadkomma nanokom-MTCVD Tí(C,N) skikt visas 1 U.S. 6,472,060.

U.S. 6,472,060 beskriver en metod där relativt höga mängder av CO, fi-ân omkring 5 till 10 %, företrädesvis från omkring 7 till 9% av den totala gasformiga blandningen, används i MTCVD för att erhålla en kornstorlek av storleksordningen 25 nm eller mindre, helst 10 nm eller mindre. De CO-dopade nanokorn MTCVD skikten uppvisar ökad seghet men med reducerat gropförslítnings- motstånd som en följd.

Den har tidigare visats (U .S. 6,472,060) att kornstorleken hos MTCVD skikt kan minskas betydligt och till nanokornomrádet. Dessa nanokrístallina skikt skulle företrädesvis vara belagda som yttersta skikt. De nanokristallina skikten är hårdare vid rumstemperatur men uppvisar kom- gränsglidning ledande till plastisk deformation vid högre temperaturer (vid högre skfihastigheær).

Beroende på den ytterst tina kornstorleken i dessa belâggningar, ökas ytans jämnhet och fi-iktionskoefficíenten reduceras. Följaktligen kan nanokristallina skikt användas som fi-iktionsreducerandelsrnörjande skikt och skulle, som ovan nämnts, tttlällas ovanpå den existerande beläggn Det finns följaktligen fortfarande behov av att optimera och styra kornstorleken hos MTCVD skikt med avseende på materialet som skall bearbetas.

FÖREMÅL FÖR OCH SAMMANFATTNING AV UPPFINNINGEN Det är ett ändamål med denna uppfinning att undvika eller mildra problemet av tidigare känd teknik genom att förelägga en beläggning med en styrd kornstorlek, just över nanokornområ- det och styrd morfologi. I detta fall är kolumnär struktur töredragen.

Enligt denna uppfinning kan kornstorleken hos MTCVD Tí(C,N) minskas, samtidigt som den ko- lumnâra strukturen behålls. På detta sätt minskas problemet med korngränsglidning vid högre tem- peraturer. Sålunda består belâggningen enligt denna uppfinning av nâlformiga kolumnâxa kristaller.

Fin-komig, kolurnnär struktur företer mindre komgransglidning än líkaxliga skikt av samma kornstorlek gör vid samma temperatur och skall användas i kolstål eller grått giutjârn där slitstyrka är viktig. Därför är den idealiska situationen i ovan nämnda slitstyrkekrâvande tillämpningar att styra beläggningsprocessen så att Ti(C,N)-skiktet består av fina nålformiga (kolumnära) kom. Det har visat sig möjligt att styra CVD processen och komstorlek och form med anvmdning av textin- oeh struktur-modifierande agenter (betecknade dopningsmedel i den här ansökan) i sådan grad att dessa strukturer kan 'framställas industriellt.

I föreliggande uppfinning föreligger en belagd kropp med ett MTCVD skikt av Ti(C,N) som en del av en multiskiktbeläggning eller som ett enda skikt, sagda skikt med en kolumnär kornmor- fologi med kornbredd av 30-300 nm, företrädesvis fiån 50 till 200 nm och helst från 50 till 100 nm.

Vidare föreligger ett sätt att bilda en belagd kropp av MT CVD Ti(C,N) omfattande att bringa en kropp i kontakt med en gas innehållande titanhalid, kväve- och kolförening och en redu- cerande agent. Enligt uppfinningen kan en styrd dopningsmedeltillsats av CO, ZrCl4, HfCh och/eller AlClg användas till att bilda 'I“1(C,N)-skíkt i det specificerade intervallet av kornstorlek och form.

De ovannämnda skikten kan användas i kombination av andra CVD material såsom alumi- niumoxid att förbättra prestanda och slitstyrka av tidigare kända produkter.

KORT BESKRIVNING AV FIGURERNA Figl visar ytmorfologin hos en MTCVD Ti(C,N) enligt kand teknik med anvhdning av SEM vid en förstoring av 10000 gånger.

Fig2 visar ytmorfologin av ett modifierat MTCVD Ti(C,N)-skíkt enligt denna uppfinning med anvmdning av SEM vid en förstoring av 10000 gånger.

Fig.3 visar FEG SEM bild med hög upplösning (förstoring omkring 50000 gånger) av ytan av beläggníngen enligt denna uppfinning. 40 527 346 3 Fig.4 visar ett typiskt röntgendiffraktogram av en beläggning enligt denna uppfinning bestå- ende av fina, kolumnära korn.

Fig.5 visar ett typiskt röntgendifli-aktograrn av en beläggning bestående av fina, likaxliga korn.

DETALIERAD BESKRIVNING AV FÖREDRAGNA UTFÖRINGSFORMER AV UPPFINNINGEN Enligt föreliggande uppfinning föreliiger ett skär bestående av ett substrat av hârdmetall, cermet eller keramik åtminstone delvis belagt med en beläggning med en total tjocklek av 10-40 pm, företrädesvis 15-25 pm, bestående av ett eller flera refi-aktära skikt av vilka åtminstone ett skikt är ett MTCVD-Ti(C,N)-skikt med en tjocklek av 3 till 30 pm, företrädesvis 5-20 pm, varvid skiktet bildats genom att bringa substratet i kontakt med en gas irmehållande titanhalid, kväve- och kolförening och en reducerande agent vid en temperattn av 700 till 1000°C. Det har överraskande visat sig att fiyrd minskning av kornstorleken hos MTCVD-skikt vid samtidigt upprätthållande av den kolumnära kornmorfologin förbättrar slitstyrkan mer än 100% över kända MT CVD skikt i kolstål och gjutjärn. Speciellt viktigt är att gropförslimingsmotståndet förbättras vid bibehållen seghet. Beläggningen enligt denna uppfinning ökar skär-prestanda vid högre skärhastigheter och kan kombineras med aluminiumoxidsldkt för att skräddarsy ett verktyg för extrema höghastighetsfillâmpningar. Processen kan utföras på ett styrt sätt med användning av moderna CVD reaktorer från typiska MTCVD-temperattirer av storleksordningen 800-900 °C upp till 1000 °C.

Dekolumnärakornen skall haenbredd fiån 50tíll 100 nm. L/Wförhållandet (Längd/Bredd) skall vara högre än 10. Detta slag av skikt består följaktligen av fina, nálformiga kom och visar klart förbättrad slítstyrka. Slitstyrkan hos dessa skikt kan överskrida den för tidigare kända MTCVD Ti(C,N) skikt ittfällt fi-ân TiCl4-CH3CN-N2-H2 systemet med upp till åtskilliga hundra procent.

Sagda skikt kan utfällas ovanpå ett a-AlgOg, 'y-Alg03 eller x-Al203 skikt vilka kan ha utfällts ovanpå sagda skikt.

Fin-kornig, kolumnär morfologi kan erhållas med användning av ytterst låga och styrda ni- våer av CO och/eller ZrCl4 eller HfCl4 dopning. Dessa dopningsmedel kan tillsättes samtidigt och företrädesvis tillsammans med AlClg. Mängden av CO bör vara från 0.1 till l.0% och helst fiån 0.2 till 08%. 21014 och Hfïïh bör tillsättes i intervallet 0.1 till 05%, företrädesvis fitán 0.2 till 0.3% och AICI; bör vara i intervallet 0.5 till 3.0%, företrädesvis fiån 1.0 till l.5%. Mycket låga mängder av C02 kan användas. I detta fall vill vi undvika likaxlig kornmorfologí och såltmda skall C02 använ- das med yttersta försiktighet. C02 måste vara 0.0l-0.l%, företrädesvis från 0.05 till 0.08% av den totala genomströnniingen med ett högt CO/CO; förhållande. CO/CO; förhållandet bör vara högre än 8, företrädesvis högre än 10. Beläggningen utförs vid en temperatur av från 700 till 1000°C.

I Tabell 1 visas effekten av tillsats av ZrCh, HfCl4, AlClg, CO eller CO; dopningsmedel i TiCla-CHgCN-Nz-Hz-systernet. Beläggningen utfälldes vid 880 °C och vid ett totaltryck av 70 mbar.

Tabell 1 co co, A101; zfcl. Hfcl., Koiumna 0.1 - im ----- ----- *__- .__-_- Kohnnnar 0.1 - 1.o% ---- 1.0 - 211% ---- ___- Kolumner ___-__»- ---- ----- 0.1 _ 05% ---- Kolmmar 0.1 - 111% ----- ----- 0.1 - 05% ---- Kolumna- ----~ ---- 1.0 - 2.o% 0.1 - 05% ---- Kolumnar 0.1 - 1% ----- 1.0 - 2.o% 0.1 - 05% --- Kolumner ----- .__-m- ----- ---- o 1- 05% Kemmnn o.1- 1.o% »__-__- ----- ___-W- o.1-o.s% Likaxlig 1.5 -4.o% ----- ----- ...m- ...w 527 346 4 Likaxlig ___- om _ o.os% ----- ---- --- Likaxrig ------ ----- ----- 1-5-5-0°/° --- Likaxlig 1.5-4.0 2.5 -5 .5% ---- ---- Likaxrig 1.s-4.o% o.14>.4 2.s-s.s% ---- ---- Liknar; o.s4.o% ----- 1 s-s.s % ---- Likaxng o.s4.o% o. 141.4 2.5 - 55% Ls-as % --- Likaxrig o.s4.o% ---- ----- ---- 0-1 ~ 35% Likaxrii o.s-4.o% 0.1-of: ----- ---- 0.1 - 35% Enligt denna uppfinning har det även befimnits vara möjligt att styra och erhålla en líkformig ko- lurnnär kornstorlek i ett skikt oberoende av den totala tjockleken av sagda beläggning. Det är klart att, till exempel, från US 6,22l,469 komstorleken beror på belâggningens tjocklek. Speciellt kända CVD skikt visar stor variation i komstorlek; i närheten av substratet kan beläggflíflgfin bestå av sub- mikrona kom medan ovanpå beläggningen kan komstorleken vara av storleksordningen åtskilliga mikrometer.

Föreliggande uppfinning sätter skärprestanda i samband med tillväxttextrrren. Tillväxttexttr- ren kan beskrivas med texturkoeñicienten (TC), som bestäms på följande sätt: -Mr i .Iam -1 Tim) " Io(hkl) in zrothknl där I(hkl) = intensitet för (hkD-reflexen Io(hkl) = standardintensitet enligt JCPDS kort no 42-1489 n = antal reflexer använda i beräkningen (hkl) reflexer är: (1 l I), (200), (220), (311), (222), (400), (331), (420), (422), (511)- Texturkoefficienten för alla skikt enligt denna uppfinning bör vara på följande sätt: Textur- koeflicienten för 422 (TC(422)) bör vara högre än 5.0, företrädesvis högre än 7 eller texturkoefiicienten för 331 ('I'C(33I)) bör vara högre än 5 och företrädesvis högre än 6.

Linjebreddningen är också ett användbart medel att styra att det framställda skiktet inte har kommit in i nanokornomrâdet visat genom kraftig Iinjebreddning. Uttryckt i absolut värde (20°) bör FWHM vara mindre än l.5°, företrädesvis mindre ü 1.2° helst mindre än 1.0 °.

Kemisk sammansättning hos det erhållna skiktet kan beskrivas med följande formel (Ti,,Al,,X,)(C.,O,,Nv), där x, u och v >0 och åtminstone en av y, z och w >0. ' en av skiktet enligt denna uppfinning bör variera inom följande gränser: x är fiån 0.3 till 0.8, y är fiân 0.0 till0.l, züfiån0.0till0.l,uärfrån0.3 till0.9, wärfiän 0.0 till 0.1ochyârfiårr0.3 till 0.6.1 formeln (TiXAIyXIXCuOWNV) kan X väljas bland Zr, Hf', Nb, Ta eller Mo även om Zr och Hf används företrädesvis.

Substratet omfattar ett hårdmaterial såsom hârdmetall, cermets, keramik.

Exempel 1 I detta fall användes endast CO och ZrCL; för att erhålla kolurnnär struktmer med styrd, minskad, komstorlek. Följande fem experimentella skikt (betecknade skikt 1, 2, 3, 4 och 5) fram- ställdes vid ett tryck av 70 mbar och vid en temperatur av 880°C enligt processdata angivna i Tabell 2. Jämfört med U.S. 6,472,060, användes betydligt mindre mängder av dopning utom beläggning 5, som fiarnstâlldes enligt känd teknik U.S. 6,472,060. För att åstadkomma finkornig kolumnm' strukturbören maximal mängd av CO varamindreän 1%, företrädesvis från 0.1 till 03%. I det här exemplet användes 0.8% CO (Beläggning 2). Beläggning 3 utfälldes vid en CO-dopningsnivâ av 527 346 5 2.5% for att erhålla likaxlig kommorfologi. Beläggning 4 utíälldes med användning av ZrCh dop- ning flir att erhålla kolumnär morfologi. Beläggning 5 utßlldes med anvüdning av 8% CO enligt U.S. 6,472,060 för att erhålla ett nanokornskikt. Beläggning 1 utfiilldes enligt kmd teknik utan nâ- gon dopningsmedeltillsats och är ett exempel på en typisk struktur hos en MTCVD beläggning.

Hårdmetallskär med en sammansättning av 6.0% Co och som balans WC (hårdhet omkring 1580 HV) användes som substrat i alla Exempel. Följande geometri användes í skärproven: SNUNl20408 och CNMGl20408-M3.

Tabell 2 H2 N; CHgCN TiCh ZrC14 AlClg C02 CO (l/min) (l/mifl) (1/ min) (Vmifl) (%) (%) (%) (Vi) Beläggning 1 balans 45.5 0.55 2.1 0.0 0.0 0.0 0.0 Beläggning 2 balans 45.5 0.55 2.1 0.0 0.0 0.0 0.8 Beläggning 3 balans 45.5 0.55 2.1 0.0 0.0 0.0 2.5 Beläggning 4 balans 45 .5 0.55 2.1 0.5 0.0 0.0 0.0 Beläggning 5 balans 45.5 0.55 2.1 0.0 0.0 0.0 8.0 Exempel 2 Beläggningen fiån Exempel 1 undersöktes med användning av transmissionselektronrnikro- skopí (TEM) och svepelelctronmikroskopi (SBM) för att klarlägga inverkan av CO och ZrCL; dop- ning på kornstorlek oeh morfologi. Det verkade klart även i SEM att hos den ty- piska MTCVD Ti(C,N) beläggningen bestämde av stora kolumnära kristaller (Fig. 1) kan förfinas med CO dopning. Det erhållna skiktet bestående av nålforniiga kristaller som visats i Fig. 2 vid en CO dopningsnivå av 0.8%. Liknande ytrnorfolog krmde erhållas antingen vid Z1Cl4- eller HfCl4- dopning ensam eller tillsammans med CO. Den likaxliga kornmorfologin uppnåddes vid en CO dopning nivå av 2.5%. TEM visade att vid denna CO nivå kommer komstorleken inte in i nano- kornområdet och är omkring 60 nm. Beläggning 4, som utíälldes med användning av ZrCl4 dopning bestående av kolumnara kom med något mindre nålformiga kom m: Beläggning 2. Komstorleken hos Beläggning 5 är i nanokornomrâdet. Resultatet av beläggningsexperimenten är sammanställda i Tabell 3.

Tabell 3 1500 x 4000 nm 90 x 650 nm 60 nm 75 x 600 nm 14 nm N *) Mätt vid TEM; **) Känd teknik Stor kolurnnär Nål- Exempel 3 Följande fem experimentella skikt (betecknade skikt 6, 7, 8, 9 och 10) fi-amställdes vid ett tryck av 70 mbar och vid en temperatur av 880°C enligt piocessdata í Tabell 4. Beläggningens tjocklek var 8 um fór alla skikt. C02 användes inte i det här särskilda exemplet men kxmde applice- ras med ytterst noggrannhet däriör att skikt kan i närvaro av denna preeursor lätt komma in i nano- komområdet med likaxlig kornstorlek.

Beläggningen studerades med användning av TEM tillsammans med EDS/WDS. Resultatet presenteras i Tabell 5. Ytmorfologín hos Beläggning 9 visas i Fig.3. »527 346 Tabell 4 H2 N; CHgCN TiCl4 ZICL; AICI; C02 CO (lfmíß) I/mifl) (Umifl) (Vmin) (%) (%) (WL (%) Belagling 6 balans 45.5 0.55 2.1 0.1 0.0 0.0 0.0 Å g 7 Balans 45.5 0.55 2.1 0.3 0.0 0.0 0.0 Bel Balans 45.5 0.55 2.1 0.3 0.0 0.0 0.5 åcgggning 9 Balans 45.5 0.55 2.1 0.5 1.5 0.0 0.0 Beläggning 10 Balans 45.5 0.55 2.1 0.5 1.5 0.0 0.5 Tabell 5 Komstorlelñ) Morfologi Analys ing 6 70 x 650 nm Nål-fong Spår av Zl' ng 7 55 x 750 nm Nål-fonnig 1.32 vikt % Zl' 45 x 820 nm Nâl-formÅg 1.33 vikt % Zr Beläggning 9 75 x 400 nm Nål-formig 2.11 vikt % Zr 0.91 vikt % Al Beläggning 10 90 x 450 nm Nål-forlnig 2.08 vikt % Zr 1.22 vikt % Al *) Mätt med TEM Exempel 4 Bel l, 2, 3, 4 och 8 studerades med användning av röntgendifirakfion. Textur- koeflícienterna bestämdes enligt följande. 212059 I(hkl) = intensitet för (hkD-reflexen Io(hk1) = standardintensitet enligt JCPDS kort no 42-1489 n = antal reflexer använda i beräkningen (hkl) reflexer år: (ll 1), (200), (220), (31 l), (222), (400), (331), TC(hkl) där = LÛE.

Iolhkl) { l.

Il (420), (422), (511). 1103011510: ges 1 Tabell s.

Tabell 0 L B°1@ifls 1"') B°1å&@&2__ 4 Måwm 3 111 1.50 0.02 0.59 0.02 0.01 200 0.05 0.00 0.54 0.00 0.00 220 0.09 0.10 0.01 0.00 0.45 311 0.21 0.05 0.12 0.05 0.02 222 0.09 0.01 0.94 0.01 0.01 400 0.03 0.01 0.30 0.03 0.00 331 1.10 0.04 1.93 0.09 121 420 0.13 0.05 1.59 0.05 0.55 422 5.11 9.00 1.10 9.05 1.50 511 1.04 0.11 0.04 0.12 0.14 *) Känd teknik 527 346 1 Exempel 5 _ Skikten 1, 2, 4 och 8 studerades med användning av röntgendiffralction. lšornfdrfimngen var lätt manifest som linjebreddning. Röntgendifiïaktion demonstrerade att skikt enligt denna uppfin- ning inte âr i nanokornomrâdet, Tabell 7.

Tabell 7 CO % FWHM* (°20) Linjebreddning Kornform (BH/BU) ng 1 0.541 (Bo) 1.00 Stor kolurnnär**) Beläggning 2 0.849 (Bnz) 1,57 Kolumnâr Belag¶g4 0.860 (BM) 1.59 Kolumnâr Belawing s 0,924 (Bus) 1.71 Kolmnnar *) Full Bredd vid Halvt Maximum. Mått från Ka; strippade Gaussiska profiler av 422 re- flexen.

* *) Enligt kand teknik Full Bredd vid Halvt Maximum av referensen är Bo.

Full Bredd vid Halvt Maximmn av experimentell beläggning är Bnamwm Exempel 6 Typiska röntgenböjningsmönster från Beläggning 2 (Exempel 1) och Beläggning 3 (Exem- pel 1) visas i Fig 4 och 5, respektive. Beläggning 2 (Pig. 4) utfälldes enligt denna uppfinning och består av nålformíga kom med en krafiig 422-diffiaktionstopp och Beläggning 3 (Fig. 5) består av små kolumnâra korn. Skillnaden är klar. Röngtendiflíaktion kan lätt användas för att visa att beläggningen består av kolumnära kom och inte av likaxliga kom eller vice versa. Dessutom kan röngtendiüalction användas för att bekräfia att kornstorleken inte är i nanokomområdet.

Exempel 7 Belâggningen framställd i Exempel 1 provades í kolstål under följande betingelser: Arbetsstycke: Cylindrisk stång Material: SS1672 Skârtyp: SNUN 120418 Skärhastighet: 250 och 400 m/min Maming: 0.5 mm/varv Skärdjup: 2.5 rnm Anm: Torrsvarvning Som framgår av Tabell 8 uppvisar finkorníg kolumnâr struktur det bästa fllrslitningsmot- ståndet. Det bör noteras att alla experimentella skikt (även det likaxliga, Beläggning 3) visade bättre slitstyrka än referensen. Kolumnâm fin-korniga skikt utklassade klart känd teknik. Den Zr-dopade beläggníngen (Beläggning 4) uppvisade bäst prestanda. Nanokornskikt (Beläggning 5) havererade beroende på minskat gropflärslimingsmotstånd speciellt vid högre skårhastigheter. 527 346 s Tabell 8 svarvning Kolsrål (ss 1672) Lívslängd (min) vid 250 m/min Lívslângd (min) vid 400 mfmin Beläggning l"') 5 2 Beläggning 2 9 5 Beläggning 3 7 3 Beläggning 4 l I 6 Beläggning S*) 3 I Livslängdskriteriinn: gropförsliming enligt ISO 3685 *) Tidigare känt Exempel 8 Det experimentella skilctet från Exempel l och 3 jäintördes vid svarvning av kolstål under följande betingelser: Arbetsstycke: Cylíndrisk stång Material: SSI 672 Skär typ: CNMG 120418 Skärhastighet: 250 och 400 m/min Matning: 0.4 mm/varv Skardjup: 2.5 mm Anm: Tonsvarvning Tabell 9 Kol Stål 1672 Livslängdslcritexítmi: ISO 3685 *) Tidigare känt Resultat visas i Tabell 9. Alla skikt bestående av finkorniga kolumnâra kristaller utklassade referensbelåggningen (Beläggning 1) bestående av stora kolumnära korn och även beläggningen bestående av likaxliga kom (Beläggning 3). Beläggníngen 7 och 8 med de högsta L/W förhållan- dena befanns visa den lângsta livslängden.

Exempel 9 De experimentella skikten fi-ån Exempel l och 3 jämfördes i rostfritt stål (Tabell 10). Alla skikt enligt denna uppfinning uppvisade bättre slitstyrka än referensbelâggníngen (Beläggning l).

Men i detta material uppvisar belâggningen bestående av likaxliga korn (Beläggning 3) bättre prestanda än skikten med kolumnâr struktur. Följaktligen bör kolumnma skikt föredras i kolstål be- roende på den mycket bättre slitstyrkan under dessa betingelser. I rostfritt stål skulle man föredra likaxliga strukturer.

Tabell 10 527 346 9 Rostfiítt Stål 2333 ' min vid 185 m/min III! 8 9 8 3 4 8 9 9 Livslmgdskriterium: ISO 3685 *) Tidigare känt min vid 250 m/min

Claims (4)

20 25 30 35 40 45 527 346 V I 0

1. Skär bestående av ett substrat av hårdmetall, cerrnet eller keramik åtminstone delvis be- lagt med en beläggning med en total tjocklek av 10-40 pm, företrädesvis 15-25 pm, bestående av ett eller flera refraktära skikt av vilka åtminstone ett skikt är ett MTCVD-T1(C,N)-sk1kt med en tjock- lek av 3 till 30 pm, företrädesvis 5-20 pm, varvid skiktet bildats genom att bringa substratet i kontakt med en gas innehållande titanhalid, kväve- och kolförening och en reducerande agent vid en temperatur av 700 till 1000°C k ä n n e t e c k n a t av att skiktet - består av kolumnära kom med kombredd av 50-100 nrn och med ett längd-till-bredd-för- hållande (L/W)>10 oberoende av skikttjockleken - har texturkoeñicienter TC(hkl) a) TC(422) > 5, företrädesvis > 7, eller b) TC(331) > 5, företrädesvis > 6, varvid texturkoefficienten TC(hkl) definieras som: I(hkl) j Ighki) -1 TC(hkl) = Io(hkl) in Zloihknl där I(hkl) = intensitet för (hkD-reflexen Io(hkl) = standardintensitet enligt JCPDS-kort nr 42- 1489 n = antal reflexer använda i beräkningen (hkl) reflexer är: (111), (200), (220), (311), (222), (400), (331), (420), (422), (511) - har en linjebreddning av (422)-reflexen uttryckt i absolut värde (20°) av mindre än 1,5°, företrädesvis mindre än 1,2°, helst mindre än 1,0°, med användning av CuKot »strålning och - MTCVD-Ti(C,N)-skiktet är ett (TiXAIYXZXCuOWNQ-skikt med följ ande sammansättning: 0,3 eller Mo, företrädesvis Zr eller Hf.

2. Skär enligt krav 1 k ä n n e t e c k n a t av att skiktet är belagt ovanpå ett a-A12O3, ic- AI2O3 eller y-Algü; skikt vilka själva har utfällts ovanpå skiktet.

3. Metod att belägga ett skär bestående av ett substrat av hårdmetall, cermet eller keramik och en beläggning med en total tjocklek av 10-40 pm, företrädesvis 15-25 pm, bestående av ett eller flera refraktära skikt med åtminstone ett MTCVD-Ti(C,N)-skikt som är ett (TixAlyX,)(C,,OwNv)- skikt enligt krav l med en tjocklek av 3 till 30 pm, företrädesvis 5-20 pm, k ä n n e t e c k n a d av användning av en dopningsmedeltillsats omfattande åtminstone en av - CO i området 0,1-l,0%, företrädesvis 0,2-0,8%, av den totala gas genomströmningen, - CO; i området 0,0l-0,1%, företrädesvis 0,05-0,08 % med ett CO/COg-förhâllande > 8, fö- reträdesvis > 10. - en aluminiumhalid i området O,5-3,0%, företrädesvis l,0-1,5 %, - en zirkoniumhalid i området 0,1-O,5%, företrädesvis 0,2-0,3 % eller - en hafniumhalid i området 0,1-O,5%, företrädesvis 0,2-0,3 % varvid beläggningen utförs vid en temperatur av från 700 till 1000°C.

4. Metod enligt krav 3 k ä n n e t e c k n a d att zirkoniumhaliden är ZrCl4, hafniumhaliden är HfCl4, aluminiumhaliden är AlClg, och kväve och kol erhålls av CH3CN.