SE526747C2 - Implantat applicerbart i ett installationsläge i en hålupptagning i käkben - Google Patents

Description

25 30 6.11 h.) Cm Den förstärkta motståndskraften mot snedställda mot implantatet riktade krafter skall även kunna anordnas så att nedledning från implantatets övre/yttre delar (munhålan) till implantatets djupare liggande eller nedre delar av bakterier och/eller organismer som förorsakar inflammationstendenser effektivt förhindras. Uppfinningen löser även detta problem.

Det som huvudsakligen kan anses vara kännetecknande för ett implantat enligt uppfinningen är att en väsentlig del, Lex. 20 % eller mer, av spåren och/eller fördjupningarna är anordnade att i installationsläget sträcka sig väsentligen vinkelrätt i förhållande till nämnda krafi(-er) då denna eller dessa antar huvudriktning(-ar) som skiljer sig från implantatets längdriktriing och att nämnda yta angränsar direkt till implantatets utvändiga gänga.

I vidareutvecklingar av uppfinningstanken är spåren och/eller fördjupningarna anordnade slutna, varmed här menas att förbindelse mellan ifrågavarande implantatpartis övre och undre delar saknas och att därmed passage hindras fi'ån de övre delarna till de nedre delarna av implantatet för bakterier och/eller organismer. I en föredragen utföringsform vâljes fördjupningama inom området 50-100 um och uppvisar spår- eller fördjupningsdjup inom området 100-150 pm. I fallet då implantatet uppvisar ett invändigt nyckeltag som förorsakar olika godstjocklekar vid implantatets övre delar är mönsterarrangemanget anordnat vid endast de delar av partiet som uppvisar de större godstjocklekarna. Olika mönster- arrangemang kan därvid anordnas. Ytterligare vidareutvecklingar av uppfinningstanken framgår av bl.'a. de efterföljande underkraven.

Det i ovanstående angivna bryter mot fördomar inom det dentala området genom att föreslå att ifrågavarande yta skall mönstras med spår/fördjupningar. Normalt eftersträvas att ytan noggrant skall poleras för att underlätta möjligheter till att hålla ytan ren mot bakterier och/eller organismer av inflammationsbenägen karaktär. En dylik polering motverkar emellertid åstadkommandet av nämnda osseokondulctiva funktion och försvårar integrationen mellan implantatets ytmaterial och käkbenet Spårens osseokonduktiva funktion förbättrar beninlälmingen och genom att arrangera spåren enligt föreliggande uppfinning motverkas ' 10 15 20 25 30 596 747 b) också mikrorörelser och skjuvspänningar hos det redan inläkta benet i avsikt att bibehålla bennivån och förhindra benresorption. 'I och för sig kända metoder för att åstadkomma nämnda spår- och fördjupningarrangemang kan utnyttjas. Således kan det bli aktuellt med främst mekanisk bearbetning, t.ex. svarvning, fräsning eller gravering. Det är i och fór sig även känt att åstadkomma spår- och/eller fórdjupningsarrangemanget med laserbehandling av ytan. Olika implantat kan anordnas med olika mönster som tíllmötesgår olika installations- situationer, Lex. olika tandfunktíoner, implantatplaceringar i tandbenet, etc. Implantat med olika mönster kan således tillhandahållas på marknaden till berörda specialister som där- igenom erhåller valmöjlighet. i En för närvarande föreslagen utiöringsfonn av en anordning som uppvisar de för uppfin- ningen signifikativa kännetecknen skall beskrivas i nedanstående under samtidig hänvisning till bifogade ritningar där ñgurl i vertikalsnitt och principiellt visar en implantatinstallation i käkben där krafter som angriper implantatet uppvisar riktningar/huvudríktningar som skiljer sig från implantatets längdriktning, figur 2 i vertikalsnitt och principiellt visar ett implantat som i en aktuell installations» situation är snedställt i käkbenet, medförande att en kraft med vertikal- angreppsriktning skiljer sig från irnplantatets sträckning i längdled, figur 3 i vertikalsnitt och förstoring visar spår- eller íördjupningstyp som bidrar med en framträdande osseokonduktivitet, figur 4 i vertikalvy visar det slutna spår- eller fórdjupningsarrangemanget där nedled- ning av bakterier från övre delar till undre delar förhindras, figur 5 i sidovy och utbrett i figurplanet visar ett konstruktivt första mönster-arrange- Klang, figur 6 i perspektiv snett ovanifrån visar delar av ett implantat med ett antal olika mönsterarrangemang, och figur 7 i perspektiv snett ovanifrån visar delar av två andra implantattyper med ett antal olika mönster-arrangemang.

I figuren l är ett käkben principiellt visat med l. Käkbenet innefattar en mjukvävnadsdel 2 och en denna underliggande bendel bestående av kortikalt ben 3a och spongiöst ben 3b.

Käkbenet är ßrsett med en hålupptagning 4. I hålupptagningen är applicerat ett implantat 5.

Hålupptagrlingen kan uppvisa en invändig gänga 4a och implantatet är försett med en utvändig gänga Sa, medelst vilken implantatet är iskruvbar i hålupptagningen på i och för sig känt sätt. Implantatet är försett med ett övre eller yttre parti 5b som i implantatets i käkbenet applicerade läge kan anses vara beläget i eller omgivet av mjukvävnaden 2. Partiet är även anordnat vid hålupptagningens 4 utträdesöppning 4b till munhålan, vilken är principiellt angiven med 6. Implantatet är avsett att uppbära en med 7 principiellt angiven protetik. lmplantatets övre parti 5b är anordnat med ett mönster 8 av spår och/eller fördjupningar. I enlighet med uppfinningens idé skall spåren och/eller fördjupningama i mönstret anordnas så att en del av spåren och/eller fiirdjupningarna, t.ex. 20 % eller mer, skall vara väsentligen vinkelrätt anordnade mot angreppskrafier på implantatet i implantatets installerade läge.

Exempel på angreppskrafier och deras riktningar är angivna med Fl och F2. På grund av situationen i munhålan, protetiktyp, implantatplaceríng, etc. kan krafiema Fl och/eller F2 huvudangreppsriktningar skilja sig från implantatets längdaxel 5c. Dessa skillnader har i figuren l definierats med hjälp av vinklar a och ß. Respektive vinkel í aktuellt tvärsnitt anger således skillnaden mellan respektive angreppsriktning för vardera kraften.

Skillnadema mellan implantatets längdaxel och angreppskralten huvudriktning kan även ßr- orsakas av att implantatet intar ett snedställt läge. Ett dylikt exempel visas i figuren 2 där implantatet 5' är snedställt i käkbenets 1 delar 2 och 3. lmplantatets längdaxel 5c° lutar såle- des i käkbenet och en på implantatet vertikal anbringad krafi P3 uppvisar en huvudriktning 100000 som skiljer sig från nämnda längdaxel 5c' med en vinkel y. Ãven i detta fall är en del av _ l0 15 20 I n 000000 0 oo 0 spåren och/eller fördjupningama anordnade väsentligen vinkelrätt mot krafiens P3 huvud- riktning.

Figuren 3 avser att visa exempel på ett framträdande fördelaktig spåruppbyggnad som också främjar den i ovanstående omnämnda osseokonduktiviteten. Spåret eller fördjupningen skall uppvisa ett djup D som ligger inom området 50-100 um och företrädesvis vara av storleksordningen ca 70 pm. Vidden eller bredden B på spåret skall väljas inom området 100- 150 um och företrädesvis vara ca ll0 pm. Spåret eller ßrdjupningen är anordnad i implantatets övre parti (jämför Sb i figuren l). I figuren 3 har partiet betecknats med 9.

Spåret har beteckningen 10. Värdet B beräknas eller mätes efter lägena för nedfasningen 9a och 9b.

Nämnda spår skall i enlighet med ovanstående företrädesvis bilda ett slutet system. I enlighet med figuren 4 anligger aktuell käkbensdel ll via sin inneryta mot partiet 9. Nämnda spår- eller fórdjupningsarrangemang är i figuren 4 representerade med spårdelar l0a, l0b och l0c som i figuren 4 sträcker sig väsentligen vinkelrätt mot figurplanet. l figuren 4 har även en i spåret etablerad bentíllväxt visats och angivits med 12. I enlighet med uppfinningens idé är nämnda spårarrangemang l0a, l0b och l0c icke öppna mot partiets 9 övre delar 9d och partiets nedre delar 9e, medförande att en eventuell mindre ansamling av bakterier och/eller organismer 13 inte kan tränga ner från nämnda övre delar 9d till de djupare liggande delama 9e på implantatet. Därigenom hindras effektivt inflammationstendenser vid nämnda underliggande delar som skulle kunna förorsakas av nämnda bakterier och/eller organismer.

I figuren 5 är det i ovanstående omnämnda partiet angivet med l4. Partiet är i ßreliggande ' fall visat utbrett i ett plan. Implantatets längdaxel är i detta fall betecknad med 15 och en snedställd angreppskrafi är angiven med P4. Kraftens F4 huvudriktning är i likhet med ovan- stående angiven med punktstreckad linje. Vinkeln mellan krafiens F4 huvudriktning och längdaxeln 15 är angiven med ö. Det i figuren 5 angivna mönstret är visat med l6. Mönstret är sammansatt av en uppsättning parallella spårdelar l6a, l6b, l6c, 16d, l6e och l6f.

Delningsavståndet mellan spårdelama kan vara detsamma eller variera mellan de olika spårdelama. Spårdelsuppsättningama är vinklade i förhållande till varandra med en vinkel A, 10 l5 20 så att spåren har minst två lutningsriktningar. I en utföringsform av mönsterarrangemanget kan vinkelområdet för A väljas inom 10-45”. Angreppskraflen F4 kan i princip uppdelas på en vertikal krafikomposant som sammanfaller eller ficker sig parallellt med längdaxeln 15 samt en horisontell kraftkomposant som sträcker sig vinkelrätt i förhållande till nämnda längdaxel 15. Mönsterarrangemanget kan därvid anordnas så att den vertikala krañkomposanten väsentligen överstiger den horisontala kraftkomposanten varvid en efiersträvad god kraftupptagning föreligger för spârarrangemanget även i fallet då lcraftriktningen för F4 inte är helt vinkelrätt mot aktuell spårdel, t.ex. spårdelen l6e.

Spårdelar och/eller fördjupningar kan sträcka sig runt hela den perifera ytan l4a eller uteñer förutvalda delar av ytan sett i omkretsriktningen och därvid bilda grupper av mönsteruppsättningar.

Figuren 6 avser att visa några andra utföringsformer av mönsterarrangemang på implantatets övre, cylindriska parti 17. ifrågavarande mönsterutforrnning kan utgöras av ett sinusarrangemang anordnat så att ldaftupptagriing enligt ovanstående föreligger. lmplantatet är i detta fall försett med en invändig urtagning för ej visat vridpåverkningsorgan.

Urtagningen är angiven med 20 och kan utgöras av ett två- eller flervingat urtag, ett tandat urtag, ett månghömigt urtag, etc. I detta fall är partiet 17 försett med ett antal mönsterarrangemang l8a, l8b, osv. utefter omkretsytan 17. Mönsterarrangemangen kan vara anordnade vid de ställen som på grund av urtagningsarrangemanget 20 har grövre godstjocklek än övriga ställen. På så sätt undvikes otillbörlig försvagning av partiet vid delar som har mindre godstjocklek.

I figuren 7 visas ett antal utßrande av mönsterarrangemang, dels på ett s.k. scalloped implant ' 21, se figur 7a, och dels på ett implantat med konisk omkretsyta 22, se figur 7b. Beträffande scalloped implants hänvisas exempelvis till WO 03/059189. Mönsterarrangemanget kan vara uppdelat utefter ytan på motsvarande sätt som i fallet enligt figuren 6. Gemensamt för mönsterarrangemangsdelama är att de har minst två olika lutningsriktningar.

Olika implantat med olika mönster kan tillhandahållas på den allmänna marknaden. Implan- _ taten med de olika mönstren kan vara avsedda för olika huvudtyper av installationsfall. Utfö- OO 0 I O! 0000 I I 0 I I O 0 i 0 u I I I I I O O O II 00 nu 526 747 = ringsexemplen enligt figurema l och 2 är hänförbara till ett fall där olika installationssitua- tioner föreligger fór en och samma patient. Snedställningama av huvudriktningarna för respektive angreppskraft eller angreppskrafier är beroende på användning (tuggrörelser) och placeringar samt den tandtyp protetiken ifråga skall representera. Nämnda parti på ímplantatet kan utgöras av ett flänsparti.

Uppfinningen är inte begränsad till den i ovanstående såsom exempel visade utßringsformen utan kan underkastas modifikationer inom ramen för efterföljande patentlcrav och uppfin- ningstanken.

Claims (16)

10 15 20 25 30 526 747 PATENTKRAV

1. Implantat (5) applicerbart i ett installationsläge i en hålupptagning (4) i käkben (1) där implantatet är utsatt av påverkningskraft eller påverkningskrafter (F 1, F 2) samt innefattande en utvändig gänga (Sa) medelst vilken irnplantatet (5) är iskruvbart i nämnda hålupptagning (4) i käkbenet och en vid sitt övre parti anordnad och perifert sig sträckande yta som är motställbar käkbensdelen vid hålupptagningens utträdesöppning (4b) och varvid ytan är försedd med ett mönster (8) av spår (10) och/eller fördjupningar, k ä n ne te c k n at därav, att en väsentlig del, t.ex. 20 % eller mer, av spåren och/eller fördjupningarna är anordnade att i installationsläget sträcka sig väsentligen vinkelrätt i förhållande till nämnda kraft(-er) då denna eller dessa antar huvudriktningßar) som skiljer sig från implantatets längdriktning (5c) och att nämnda yta angränsar direkt till implantatets utvändiga gänga (5 a).

2. Implantat enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a t därav, att spåren (10) och/eller fördjupningarna är slutna, dvs. saknar förbindelse med partiets övre och/eller undre delar (9d, 9e) och därigenom hindrar passage från de övre delarna till irnplantatets nedre eller inre delar av bakterier och/eller organismer (13).

3. Implantat enligt patentkravet 1 eller 2, k ä n n e t e c k n a t därav, att spåren (10) och/eller fördjupningarna uppvisar ett djup (D) som ligger inom området 50-100 um, och är företrädesvis ca 70 pm, för att därmed stimulera bentillväxt eller osseokondtlktivitet.

4. Implantat enligt patentkravet 1, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a t därav, att spåren och/eller fördjupningarna uppvisar en vidd (B) inom området 100-150 pm, och är företrädes- vis ca 110 um.

5. Implantat enligt patentkravet 1, 2, 3 eller 4, k ä n n e t e c k n at därav, att det övre partiet uppvisar flerhörnigt, tandat eller två- och/eller flervingat innerurtag (20), varvid 10 15 20 25 30 526 747 'i spåren och/eller tördjupningarna är anordnade vid delar (l7b, 17c) med större godstjocklek vid det övre/yttre partiet.

6. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att mönstret innefattar raka och parallella spårdelar (l6a, l6a”) med minst två -lutningsrilmtingar och anordnade runt hela eller delar av den perifera ytan, och att spårdelarna sträcker sig 10- 45° i förhållande till ett tvärsnitt genom ytan.

7. Implantat enligt något av patentkraven 1- 5, k ä n n e t e c k n a t därav, att mönstret innefattar sinusfonnade spår- och/eller tördjupningsdelar (18b, l8c, l8d).

8. Implantat enligt något av patentkraven 1- 5, k ä n n e t e c k n a t därav, att mönstret innefattar en eller flera grupper av spår (l8d) anordnade inbördes parallellt och med olika längdsträcknirigar.

9. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att det uppbär den perifert sig sträckande ytan (14a) på ett flänsarrangemang.

10. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att huvuddelen av påverkningskraftens(-ernas) (F 3) huvudriktning är snedställd i förhållande till det installerade implantatets längdriktning (5c') på grund av att implantatet intar lutande läge i käkbenets hålupptagning.

11. ll. Implantat enligt något av patentkraven l- 10, k ä n n e t e c k n a t därav, att huvud- delen av påverkningskraftensßernas) (Fl, F2) huvudriktning är snedställd i förhållande till det installerade irnplantatet på grund av i installationsmiljön uppträdande snedställníngar av påverkningskraften(-ema) (järnrör tuggrörelser).

12. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n at därav, att dess spår- eller fördjupningsmönster är unikt för en ett första implantatuttörande som med avse- ende på mönstret skiljer sig från ett andra implantatutiörande. 10 15 526 747 IO

13. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att implantatet är utsatt för krafter (F 4) med inbördes olika riktningar, och att en första del eller delar av spår- och/eller fördjupningsmönstret (l6a) är väsentligen vinkelrätt anordnade i för- hållande till en första krafiriktning och att en andra del eller delar av mönstret är väsentligen vinkelrätt anordnade i förhållande till en andra kraftriktning och eventuellt vidare om ytterligare kraftriktriing eller kraftriktningar föreligger. i

14. Implantat enligt patentkrav 9 k ä n n e t e c k n a t av att nämnda flänsarrangemang (17) är cylindriskt.

15. Implantat enligt patentkrav 9 k ä n n e te c k n a t av att nämnda flänsarrangemang (22) är koniskt. Ü

16. Implantat enligt patentkrav 9 k ä n n e t e c k n at av att nämnda flänsarrangemang (21) är scalloped.