SE516282C2 - Implantat försett med anslutnings- och hålisättningsdelar samt förfarande vid dylikt implantat - Google Patents

Description

»vara :unna 10 15 20 s1e,2s2 av en finbearbetad slät yta, medan gängorna på implantatets nedre delar kan utföras med porositeter__av olika grovlekar, dvs. olika råheter. Genom referenserna är det även förut känt att anordna olika delar utefter irnplantatets längdsträckning, med olika partier som uppvisar olika porositetsgrader. Därvid är det känt att en zon med en första porositetsgrad på ytan abrupt övergår till en arman eller intilliggande zon med en andra porositetsgrad.

I anslutning till implantat, t.ex. i dentala sammanhang, är det angeläget att kunna komma ifrån abrupta övergångar mellan olika zoner med olika porositetsgrader och i stället kunna anvisa en eller flera markerade eller utdragna zoner, i vilken respektive vilka för- ändringen av porositeten är kontinuerligt förändrad. Således kan i en dylik markerad eller utdragen zon en första porositet föreligga vid zonens ena ände och förtätas eller avtagas mot zonens andra ände. I en utföringsform skall ifrågavarande zon kunna sträcka sig utefter åtminstone de väsentligaste delarna av implantatets längdsträckning. Således skall t.ex. en porositet om noll, eller nära noll, föreligga vid ytan på implantatets anslutningsdel, dvs. finbearbetnings- eller fmbehandlingsgraden är hög vid denna yta.

Därefter, dvs. vid ytan på implantatets gänga(-or), skall porositeten inledas med ett mindre värde för att ökas allteftersom i irnplantatets längdsträckning mot implantatets spets, eller vice versa. Förhöjningen av implantatets porositet utefter implantatets längdsträckning kan därvid utföras linjärt eller progressivt. Implantat skall alternativt kunna förses med två eller flera dylika markerade zoner där porositeten är i linjärt eller progressivt ökande respektive minskande från respektive zons ena ände till zonens andra ände. I en alternativ ytterligare utföringsform skall porositeten eller porositeterna kunna ökas linjärt eller progressivt i implantatets omkretsriktningar. I ytterligare alternativ skall porositeterna kunna anses bilda markerade öar på implantatets ytterytor, vilka öar således är belägna på finbehandlade och/eller finbearbetade ytor.

Variationerna i finbearbetnings- och/eller finbehandlingsgraderna och/eller porositeterna skall kunna tillgodose olika behov av t.ex. dentala situationer där implantat effektivt skall kunna appliceras i olika typer av ben, t.ex. tand- och käkben i överkäken, tand- och käk- ben i underkäkens främre respektive inre delar, osv. Porositeterna skall kunna bilda olika »annu naføa 10 15 20 25 30 5163282 valmöjligheter för att effektivt dra in eller förankra implantat i tand- och käkben av olika mjukhetsgrad eller hårdhetsgrad. Porositeterna är i vissa fall även avsedda attutnyttjas som depåer för bentillväxtstirnulerande eller bentillväxtupprätthållande medel, vilkas utträdesfunktioner från depåerna till omgivande ben skall kunna styras och varieras i beroende av de olika dentala situationerna. Porositeterna skall således kunna spegla tand- bensstrukturen och ge optimala idragnings- och förankringsfunktioner för implantatet i respektive ben, respektive avgångs- eller utträdesfunktioner för bentillväxtstimulerande medel.

Det föreligger således ett behov av att kunna tillhandahålla implantat med optimala poro- sitetsuppbyggnader och de kontinuerliga eller mjuka Övergångarna i de markerade zonerna föranledes av att förändringarna eller skillnaderna i de olika bentyperna eller bentillstånden utgöres av icke-distinkta övergångar eller förändringar, dvs. hårdheten eller mjukheten i ett bens uppbyggnad representerar ofta en mjuk eller kontinuerligt övergående förändring i patientens käke eller tandben. Rent tekniskt föreligger det stora problem att kunna erbjuda nämnda kontinuerligt avtagande eller tilltagande föränd- ringarna i porositetsgraderna i markerade zoner på implantat. Föreliggande uppfmning har som huvudändamål att lösa denna problematik.

Det föreligger ett behov av att kunna tillhandahålla ett sortiment med implantat som upp- visar olika porositetsavtagningsfunktioner i markerade zoner, dvs. det föreligger ett behov av olikt uppbyggda porositetsarrangemang på olika implantat. Uppfmningen löser även denna problematik. Tack vare ett sortiment av implantat med olika porositetsför- ändringar i en eller flera zoner kan ett optimalt implantat utnyttjas för respektive dentala situation. Det är känt att porositeten erbjuder en större fastväxningsyta för omkringlig- gande ben. Det är därvid intressant att vid speciellt mjuka benstrukturer kunna erbjuda stora fastväxningsytor som framträdande porositeter erbjuder. Det kan i vissa lägen vara intressant att anordna även anslutningsdelens ytteryta med porositet.

Det som således huvudsakligen kan anses vara kärmetecknande för ett implantat enligt uppfinningen är att ytorna är anordnade med åtminstone en zon, i vilken iver: 10 15 20 25 -516 282 finbearbetningsgraden och/eller råhetsgraden och/eller porositeten är kontinuerligt förändrad.

I utföringsformer av uppfinningstanken uppvisar irnplantatet en enda zon med kontinuer- ligt avtagande eller tilltagande porositet. Därvid kan en viss del av ytan eller ytorna, Lex. anslutningsdelens yta, utföras med en låg, minimal porositet. I ytterligare utföringsexempel kan två eller flera zoner anordnas utefter implantatets längd- och/eller omkretsriktningar. Respektive zon skall i en föredragen utföringsform uppta ett längdsträcknings- eller ornkretssträckningsvärde som är 5 % eller mer av respektive sträckning. Uppflnningen utnyttjas företrädesvis i anslutning till implantat med yttergänga(-or).

Det som huvudsakligen kan anses vara kännetecknande för ett förfarande enligt uppfin- ningen är att irnplantatet appliceras helt eller delvis, i eller i anslutning till en elektrolyt och att irnplantatet underkastas en nedkylning som företrädesvis är kraftig och att spän- ning anslutes till ett vid elektrolyten anordnat anod- och katodarrangemang där irnplan- tatet är anordnat så att en av spärmingen förorsakad ström genomledes irnplantatet för ernàende av nänmda porositetsetablering. För nedkylningen kan flytande kväve utnyttjas och irnplantatet kan därvid anslutas till en i anod- och katodarrangemanget ingående anod vid en begränsningsyta i behållaren. Anoden är belägen i kvävet i behållaren och den av kvävet förorsakade nedkylningen av anoden överföres till irnplantatet genom dennas mekaniska kontakt med anoden. Irnplantatet neddoppas helt eller delvis i elektrolyt och en kontinuerlig övergångszon erhålles genom att utefter i implantatet ej neddoppade delar elektrolyten uppsuges i avtagande mängd utefter implantatets höjdsträckning och att den avtagande mängden därvid ger upphov till den kontinuerliga förändringen av porositeten.

I alternativa utföringsformer kan delar av irnplantatet avmaskas så att elektrolyten förhindras få tillträde till de avmaskade partierna och därvid förhindras att förorsaka porositetsbildning. Olika stolekar på porositeten bestärnrnes bl.a. med hjälp av elektrolytkomposition och/eller förändringar i spänningen och/eller strömmen. 10 15 20 30 -Slå 282 Det nya arrangemanget kärmetecknas huvudsakligen av att ett antal implantat föreligger med olika kontinuerligt avtagande förändringar i porositeten i en eller flera zoner och att __ de olika irnplantaten i sortimentet är användbara för att möjliggöra optimal lösning av olika dentala situationer.

Ytterligare utföringsformer till irnplantatet, förfarandet och arrangemanget enligt ovan- stående framgår av de efterföljande underkraven till huvudkraven för implantatet, förfa- randet respektive arrangemanget.

Genom det i ovanstående möjliggöres tillhandahållandet av nya irnplantattyper på områ- det, vilka implantattyper banar nya vägar för lösningar av optimala dentala situationer.

Genom uppfinningen blir det även möjligt att på ett ekonomiskt fördelaktigt sätt tekniskt förverkliga implantat av porositeter av hithörande slag i markerade zoner. Man behöver således inte utnyttja de i de kända arrangemangen abrupt övergående zonerna med de olika råhets/porositetsgraderna som karakteriserar den kända tekniken. En stor variationsmöjlighet föreligger för framtagning av implantat av hithörande slag och det nya förfarandet erbjuder en tillverkningsteknik som tillhandahåller nämnda variationer på fördelaktiga sätt. Uppfinningen medger även en viss mindre eller en mera framträdande porositet på anslutningsdelens yta om man vill prioritera eventuell eliminering av infek- tionsrisker vid ytan respektive befrämja fastväxningsfiirrlctionen (större ytor för beninväxning) .

Det som huvudsakligen kan anses vara kärmetecknande för ett irnplantat, ett förfarande och ett arrangemang enligt uppfinningen skall beskrivas i nedanstående under samtidig hänvisning till bifogade ritningar där figuren l i diagramfonn visar porositeten eller råheten som funktion av irnplantatlängden L, varvid en kurva anger en mot implantatets ena ände kontinuerligt stigande porositet, øonuo .iiiø 10 15 20 25 30 figur 2 figur 3 figur 4 figur 5 figur 6 figur 7 figur 8 figur 9 figur 10 15166 282 visar i en sidovy ett implantat relaterat till diagrammet enligt figuren 1 och där implantatet uppvisar en viss finbearbetningsgrad vid sin vänstra del (anslutningsdelen) och där porositeten eller råheten ökar allteftersom kurvan stiger i figuren 1 mot implantatets fria ände, i diagramforrn visar spännings- och strömparametrar i en utnyttjad elektrokemiskprocess, från sidan och principiellt visar en i den elektrokemiska processen använd elektrolyt och i denna anordnat anod- och katodarrangemang, i förstoring i förhållande till figuren 4 och principiellt visar applice- ringen av iinplantatet i förhållande till lämplig kylenhet och elektrolyt samt där implantatet har avmaskats på delar av sin sträckning, från sidan visar en annan avmaskning i förhållande till exemplet enligt figuren 5, från sidan visar implantat med ett antal olika zoner med kontinuerligt avtagande porositet samt zoner med mycket låg porositet, i ett vertikalsnitt visar avtagande zoner i implantatets omkretsriktning, i vertikalsnitt visar implantatets applicering till en anoddel som sträcker sig in i kylenheten/behållarenheten enligt figuren 4 och där en mot implantatets fria eller nedre ände ökande porositet etableras, i vertikalsnitt/vertikalvy visar ett ytterligare utförande av irnplantatets anslutning till kylenheten och avmaskningar för etablerande av väsent- ligt porositetsfria zoner, :annu ..»|| 10 15 20 25 30 516 7282 figur 11 i vertikalsnitt/vertikalvy visar en omvänd applicering till kylenheten i förhållande till utförandet enligt figuren 10, figur 12 visar i vertikalsnitt/vertikalvy implantatets applicering till kylenheten med irnplantatet anordnat liggande så att en varierad porositet erhålles i implantatets omkretsriktning, och figur 13 visar ett exempel på ett dentalt implantat framställt enligt uppfinningen.

Den varierade eller kontinuerligt förändrade porositeten-i berörd zon eller berörda zoner kan åstadkommas på olika sätt. I föreliggande fall utnyttjas företrädesvis en elektro- kemisk metod som kan utgöras av i och för sig känt slag. Då den elektrokemiska meto- den som beskrives i de svenska patentansökningarna 9901971-3 och 9901974-7 är mycket lämplig att utnyttja i detta sammanhang hänvisas till dessa patentansökningar som inlämnats av samma sökanden som föreliggande patentansökan. Såsom framgår av den redan beskrivna elektrokemiska metoden kan man bilda och variera ifrågavarande oxidskikt på respektive irnplantats yta med hjälp av inställning av olika parametrar i processen, vilka parametrar kan utgöras av elektrolytens sammansättning, pâlagd spänning och ström i utnyttjat anod- och katodarrangemang, elektrodgeometri, behand- lingstid, etc. För att uppnå egenskaperna enligt föreliggande uppfinning kräves att implantatet appliceras och påverkas av elektrolyten på nedan angivet sätt. Den elektro- kemiska processen skall dock inte beskrivas här i detalj utan det hänvisas till nämnda svenska patentansökningar.

I figuren 1 anges med en kurva 1 en kontinuerligt förändrad råhet/porositet utefter ett implantats längd. Förändringen är därvid förutsatt att vara åstadkommen utefter en aktuell zon eller aktuella zoner på ett implantat. I föreliggande fall utnyttjas en låg rånet/porositet vid irnplantatets ena ände, vilken låga rähet kan anta ett värde om 0,7 um.

Efter en förutbestämd sträcka utefter implantatet övergår råheten i detta fall distinkt till att anta ett värde om t.ex. 1,0 pm. Därefter sker en ökning i den aktuella zonen eller de aktuella zonerna upp till ett värde av 1,5 um. Denna ökning utgör en kontinuerlig anno: ...ut 10- 15 20 25 30 »s1e,. 282 förändring och kan utföras linjärt eller uppvisa en progressivitet i enlighet med kurvans 1 sträckning .

Det i figuren 2 principiellt visade irnplantatet är relaterat till diagrammet enligt figuren 1 på så sätt att ett avstånd A på implantatet motsvarar avståndet l i diagrammet. Längden eller avståndet B motsvarar kurvlängden l'-l. Såsom framgår av figuren 2 utgöres eller representerar avståndet A en distansanslutningsdel 2 och avståndet B en hålisättningsdel 3 på ett implantat 4. Implantatet 4 uppvisar ett karakteristiskt utförande för uppfinningen. I detta fall bildar avstånden A och B två olika zoner, i vilka en kontinuerligt eller progres- sivt etablerad råhet/porositet föreligger. Distansanslutningsdelen 2 kan t.ex. uppvisa en mindre råhet/porositet utefter sin längdsträckning eller en råhet/porositet som är lägst vid en ändyta 2a och ökar svagt mot underytan 2a'. En vid ändytan 2a etablerad råhet/porositet av lägre grad är angiven med 2b medan den svagt ökande råheten/porositeten vid underytan 2a' är angiven med 2c. Ytterytan 2d kan således anses uppvisa en låg och något svagt ökande råhet/porositet sett från ändytan 2a.

Råheten/porositetsgraden kan i enlighet med uppfinningen varieras och i ett utföringsexempel kan ytterytan 2d helt sakna porositetsanvisningar, eller uppvisa mycket ringa porositet, dvs. ytterytan 2d är mycket finbearbetad. I utföringsexemplet är sträckningen B på irnplantatet anordnad så att en enda zon föreligger, i vilken zon således en lägre råhet/porositet föreligger vid hålisättningsdelens 3 övre ände 3a och en förhållandevis kraftig (jfr med figuren 1) råhet/porositet vid hålisättningsdelens ände 3b.

I figuren 3 visas typiska ström- och spänningsvärden i den elektrokemiska processen (jfr även nämnda svenska patentansökningar). Vid etablering av kraftiga räheter och porositeter utnyttjas i detta fall ett strömvärde av 0,2 ampere och spänningsvärden som kan stiga upptill en nivå som kan väljas t.ex. 300 volt. Strömkurvan är angiven med I och spänningskurvan med U. Horisontalaxeln utgör en tidsaxel t. I anslutning till den tidigare kända metoden enligt nämnda svenska patentansökningar uppträder viss gnistbildning vid området 5 på spärmingskurvan U. Gnistbildningen uppträder utmed hela implantatytan och ger upphov till porbildning och ökad ytråhet. innan »tili 10 15 20 a51g 282 I figur 4 visas principiellt en i den elektrokemiska processen använd elektrolyt 15 och ett i denna anordnat anod- och katodarrangemang. Anoden 8 som kan bildas av irnplantatet självt eller utgöras av en del som mekaniskt kopplas till irnplantatet 9 är ansluten till pluspotentialen 10 på en energikälla ll. Anod- och katodarrangemangets plusanslutning är indikerad med 13. Energikällans minuspotential 12 är på motsvarande sätt ansluten till anod- och katodarrangemangets katod 14. Som indikerats i figuren är irnplantatets nedre delar 9a neddoppade i elektrolyten 15. Kapillära och andra uppsugnings- och förångningsfenomen medför att elektrolyt uppsuges i avtagande mängd upp och utefter irnplantatets ytterytedelar 9b som är belägna ovanför implantatets neddoppade delar 9a.

Effekten av detta blir att de neddoppade delarna 9a kommer att underkastas en kemisk behandling som ger en starkare porositet än porositeten på de delar 9b som är belägna ovanför delarna 9a. Effekten medför att det uppkommer en zon på delarna 9b där porositeten är kontinuerligt förändrad eller avtagande i riktning uppåt.

Den elektrokemiska processens kinetik kan styras genom att implantatets temperatur varieras. Porositet och ytråhet på delarna 9b kan därför regleras med kylning av implantatet. I figur 4 visas en kylanordning 6 som i detta fall består av en behållare 6a för flytande kväve 7. I det visade utföringsexemplet är anod- och katodarrangemangets anod 8 anordnad i eller sträcker sig in i behållarens innerutrymme 8 och utsättes på så sätt av en nedkylningsfunktion som utövas av det flytande kvävet.

Det inses från ovanstående och i enlighet med figuren 5 att zonens läge kan förändras med hjälp av implantatets neddoppningsgrad i elektrolyten 15. I figuren 5 är neddopp- ningsgraden inställbar i pilarnas 16 riktningar. Det inses även att ifrågavarande uppsug- ningskrafter utefter implantatets yta 9c medför en större elektrolytanhopning l5a vid irnplantatets nedre delar 9d än vid delar 9b som är belägna högre upp. Elektrolyten kan således påverka irnplantatet med större mängd elektrolyt vid nämnda lägre delar 9d än vid de högre upp belägna delarna 9c, vilket även indikerar nänmda kontinuerliga eller progressiva förändring eller minskning av porositeten upp mot implantatets övre delar. I enlighet med utförandet enligt figuren 5 utnyttjas även avmaskningsfunktioner som mot- svarar dem som är angivna i nätrmda svenska ansökningar. Avmaskningarna kan utgöras man: 10 15 20 25 ~51fio282 av slangforrnade delar 17, 18 i teflon, latex, etc. Alternativt kan utnyttjas lacker.

Avmaskningarna skall förhindra att porositet uppträder på de avmaskade delarna i anslut- ning till den elektrokemiska processen. I föreliggande fall avmaskar slangdelen 17 eller motsvarande ett område 9f som är beläget under distansanslutningsdelen 2d. Sistnämnda del är i sin tur avmaskad av slangen eller lacket 18. Nämnda områden 9f och 2d har där- för mycket lâg porositet eller ingen porositet alls i beroende av tidigare behandling eller bearbetning.

I enlighet med figuren 6 är det även möjligt att med hjälp av maskningsfunktionen åstad- komma öar eller areor 9g, 9b som sträcker sig på delar av irnplantatets ifrågavarande ytor. Även i dessa areor 9g, 9h är porositeten kontinuerligt förändrad från irnplantatets nedre delar i riktning mot irnplantatets övre delar. Avmaskningen har i detta fall utförts med en slang, ett lack, etc. 19 som lämnar öppet för nänmda areor. I föreliggande fall erhåller således implantatets 9d en från nederdelen och upp mot avmaskningen 19 kontinuerligt ökande eller förändrad porositet, vilken ökning eller förändring övergår i nämnda areor 9g, 9h.

I enlighet med uppfinningen kan maskningsfunktioner således utnyttjas och under den totala processen med att belägga implantatet 4 med en eller flera zoner med avtagande eller ökande porositet kan maskernas lägen omdisponeras och ändras. Enligt figuren 7 kan flera zoner C, D och E etableras utefter irnplantatets längdsträckning eller höjd- sträckning.

I enlighet med figuren 8 kan olika zoner C', D' och E' etableras även i omkretsrikt- ningen där respektive zon, t.ex. zonen 19 uppvisar en större porositet vid änden l9a än vid änden l9b och porositeten är kontinuerligt avtagande inom zonen.

Det är även möjligt att påverka råhets/porositetsgraden med mekanisk bearbetning efter genomförd elektrokemisk behandling. tili! vvs;- 10 15 20 Figur 9 visar mera i detalj den mekaniska anslutningen mellan implantatet 4 och anod- delen 8 enligt figuren 4. Anoddelen 8 kan därvid uppvisa en urtagning för irnplantatets distansanslutningsdel 2d, vilken urtagning är angiven med 8a. Urtagningens storlek är anpassad till distansanslutningsdelen så att implantatet fasthålles i anoddelen 8. Genom detta arrangemang erhålles även en avmaskning för delens 2 ytteryta 2d. Av det visade utförandet framgår att en stor mekanisk kontaktyta föreligger mellan implantatet och anoden 8, vilken kontaktyta etableras medelst ovanytan 2a pâ implantatet och urtagningens 8a bottenyta 8a'. lmplantatet och anoden skall vara pressade mot varandra med krafter F respektive F '. Vid anslutningen av anod- och katodarrangemanget 13, 14 med en spänning enligt ovan etableras nämnda porositet vid irnplantatets nedre delar samtidigt som implantatet är utsatt för en mycket stark nedkylningseffekt från det flytande kvävet i behållaren 6a. Kylfiinktionen etableras således via kylanordningens bottendel 6b. Anoddelen 8 och bottendelen 6b kan eventuellt vara avtätade medelst en tätningsring 21 e. dyl.

Figur 10 visar en annan anslutningsprincip för implantatet 4 mot anoddelen 8 som i detta fall saknar den i figuren 9 angivna urtagningen (jfr 8a). I detta fall är överytan 2a på distansanslutningsorganet 2 fastgjord till anodens underyta Sa” medelst fasthållnings- medel av lämpligt slag. I detta fall är anoddelen 8 avtätad med täningsmedel eller tätningsorgan 21' mot behàllarens 6a innevägg 6a'. Arrangemanget kan förses med gejdrar 22 eller motsvarande påverkade i påverkningsriktningen 23 Lex. medelst påverkningsorgan 24 som kan utgöras av eller innefatta mekaniska drivhjul (t.ex. kugghjul). I detta fall är implantatet 4 försett med masker 25, 26 av det i ovanstående angivna slaget. Karakteristiskt för zonerna är att porositeten är störst nedtill i respektive zon och avtagande uppåt mot distansanslutningsdelen 2.

I figuren 11 är implantatet vänt i förhållande till fallet i figuren 10. Implantatets fria ändyta 9d' är i detta fall infást till urtagningen 8a på anoden på motsvarande sätt som i fallet enligt figuren 10. Alternativt kan anoden i detta fall innefatta en urtagning på mot- svarande sätt som i fallet enligt figuren 9, vilken urtagning är anpassad till irnplantatets 4 spets (fria ände). Även i detta fall är irnplantatet, anoden, etc. förskjutbart i pilarnas 25 »tunn mfßo 10 15 20 25 30 ~ sm 282 riktning för etablerande av doppningsfunktion i elektrolyten 15 i större eller mindre ut- sträckning. I detta fall etableras den grövre porositeten vid distansanslutningsdelens 2 ändyta 2a och avtar mot implantatets fria ände 9d'. I detta fall föreligger således endast C11 ZOII.

I utförandet enligt figuren 12 är implantatet i princip vågrätt anordnat i förhållande till elektrolytens 15 yta. Anoden 8 uppvisar även i detta fall en urtagning 8a, i vilken distansanslutningsdelen 2 är ansluten. Det sålunda vågrätt anordnade irnplantatet kan doppas i större eller mindre utsträckning i elektrolyten 15 i pilarnas 26 riktningar. På så vis kommer porositet .av olika grovlek att föreñnnas utefter implantatets omkretsriktning, jfr figur 8.

I enlighet med ovanstående kan implantatet i sig enbart bilda anoden i nämnda anod- och katodarrangemang. Implantatet sträcker sig därvid genom ifrågavarande bottendel 6b på behållaren 6 enligt exemplet ovan. I figuren 2 har hålisättningsdelens ytterytor angivits med 3a° och 3b”. Porositetsgradema har symboliserats med 2f respektive 2g. I figuren 7 är implantatets längd- eller höjdsträckning angiven med H. Med markerad eller utdragen zon, t.ex. någon av zonerna C, D eller E menas att zonens utbredning i implantatets riktning H skall vara åtminstone 5 % av värdet på H. På motsvarande sätt skall den avta- gande porositeten eller de avtagande porositeterna i omkretsriktningen, t.ex. omkrets- riktningen C' i figuren 8 anta ett värde av minst 5 % av den totala Omkretsen 2h i begreppet utdragen eller markerad zon. I figuren 10 är en första gänga på ett cylindriskt parti angiven med 4' och en gänga på implantatets spetsiga, koniska del angiven med 4”.

Implantatets neddoppningsgrad i elektrolyten 15 är beroende av var och hur lång den markerade eller utdragna zonen för den kontinuerligt förändrade porositeten skall vara och/eller irnplantatets avmaskningsgrad. I enlighet med uppfinningen skall även ett sortiment av i grunden samma implantat, men med olika porositetsförändringar inom en eller flera markerade zoner, olika zoner, etc. arrangeras. Härvid hänvisas till de olika utföringsexemplen enligt ovanstående där det framgår att implantat kan ha olika antal markerade zoner med olika porositetsförändringar, dvs. förändringar med olika grovlekar på porositeterna och olika förändringsfunktioner på dessa. Vid ett dylikt :man 10 15 20 51613282 tillhandahållet sortiment kan urval ske av det implantat som vid innevarande dentala situation bedöms ge det bästa resultatet eller det mest optimala resultatet i den aktuella dentala situationen. Urvalet kan ske genom praktisk erfarenhet eller schemaläggning av olika dentala situationer till olika implantat.

I figur 13 visas ett exempel på ett dentalt implantat av i och för sig känt slag (Brånemark System®) vilket försetts med en ytstrukur enligt uppfinningen. Implantatet är utfört av titan och har en maskinbearbetad yta. Den maskinbearbetade ytan kvarstår på distansanslutningsdelen 2, flänsen, medan den gängade delen, hálisättningsdelen 3, uppvisar en utefter implantatets längdutsträckning från flänsen kontinuerligt ökande råhet/porositet framställd enligt metoden ovan.

Figuren visar också två förstoringar tagna dels i det gängade partiet och dels i den kurvade delen vid distansanslutningsdelen, där den maskinbearbetade grundytan påverkats i lägre grad av elektrolytbehandlingen.

Uppfinningen är inte begränsad till den i ovan såsom exempel visade utföringsforrnen utan kan underkastas modifikationer inom ramen för efterföljande patentkrav och uppfin- ningstanken.

Claims (20)

.tiva 10 15 20 25 30 5164 282 PATENTKRAV

1. Implantat (4) försett med anslutnings- och hålisättningsdelar (2, 3) med ytor (2d, 3a', 3b') som uppvisar olika finbearbetnings- och/eller râhetsgrader, k ä n n e - t e c k n a t därav, att ytorna är anordnade med åtminstone en zon (A, B, C, D eller E), i vilken finbearbetningsgraden och/eller rähetsgraden och/eller porositeten (2f, 2g) är kontinuerligt förändrad.

2. 1. Implantat enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a t därav, att ytorna är anordnade med två eller flera zoner (A, B, C, D, E) med kontinuerligt förändrade finbearbetnings- och/eller râhetsgrader och/eller porositeter.

3. Implantat enligt patentkravet 1 eller 2, k ä n n e t e c k n a t därav, att i fallet med en zon denna sträcker sig i irnplantatets längdriktning, t.ex. utefter en väsent- lig del (B) av irnplantatets längdriktning.

4. Implantat enligt patentkravet l eller 2, k ä n n e t e c k n a t därav, att i fallet med tvâ eller flera zoner (A, B) dessa sträcker sig i irnplantatets längdriktning.

5. Implantat enligt patentkravet 1, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a t därav, att i fallet med en zon denna sträcker sig i implantatets omkretsriktning, t.ex. i en väsentlig del av implantatets omkretsriktning (C', D' eller E').

6. Implantat enligt patentkraven 1, 2, 4 eller 5, k ä n n e t e c k n a t därav, att i fallet med åtminstone två zoner (C°, D', E') dessa sträcker sig utefter delar av implantatets omkretsriktning (2h).

7. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att respektive zon (C-E respektive C'-E') uppvisar en längdsträckning i sinne 10 15 20 s(§ 282 implantatets längd- eller omkretsriktning (H, 2h) som år 5 % eller mer av respektive sträckning (H, 2h).

8. Implantat enligt något av patentkraven 1, 2, 4, 6 eller 7, k ä n n e t e c k - n a t därav, att i fallet med två eller flera zoner (C-E), två zoner är anordnade intill var- andra med porositetsförändringarna riktade mot eller från varandra.

9. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k å n n e t e c k n a t därav, att implantatets hålisättningsdel (3) uppvisar ett eller flera gångade partier, t.ex. ett cylindriskt gängat parti (4°) och ett koniskt gängat parti (4”) vid irnplantatets spets.

10. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att en på anslutningsdelen (2) befintlig yta (2d) uppvisar en finbearbemingsgrad som år effektuerad vid maskinbearbetning och att råhet/porositetsgraden därifrån ökar kontinuerligt ut mot implantatets spets (9d).

11. Förfarande för att etablera olika finbearbetningsgrader och/eller behand- lingsgrader av ytterytor (2d, 3a', 3b') på implantat (4) med anslutnings- och hål- isättningsdelar (2, 3a, 3b), k ä n n e t e c k n a t därav, att implantatet (4) appliceras helt eller delvis i eller i anslutning till en elektrolyt (15), att irnplantatets temperatur kan styras, och att spänning (U) anslutes till ett anod- och katodarrangemang (8, 14) där en av spänningen initierad ström (I) genomledes implantatet.

12. Förfarande enligt patentkravet ll, k ä n n e t e c k n a t därav, att en i arrangemanget ingående anod (8) anordnas i en kylanordning, exempelvis i en behållare (6) som fylles med flytande kväve (7), och att implantatet (4) anslutes till anoden (8) via en begränsningsyta (6a) i kylanordningen, och att av kylanordningen (7) förorsakad nedkylning på anoden överföres till implantatet. søoun »prov 10 15 20 51616282

13. Förfarande enligt patentkravet 11 eller 12, k ä n n e t e c k n at därav, att delar av implantatet (4) maskas av, och att porositet (2g) initieras medelst nämnda elek- trolyt (15) och spänning (U) på de frilagda partierna av irnplantatet.

14. Förfarande enligt patentkravet 13, k ä n n e t e c k n a t därav, att respek- tive zon (C-D) med respektive kontinuerligt förändrad flnbearbetnings- och/eller råhets- grad/porositet (2g) initieras med hjälp av spännings- och strömgenerering i anod- och katodarrangemanget (8, 14).

15. Förfarande enligt patentkravet 13 eller 14, k ä n n e t e c k n a t därav, att respektive zon (C-D) med respektive kontinuerligt förändrad ñnbehandlingsgrad och/eller ràhetsgrad och/eller porositet (2g) initieras med hjälp av implantatets neddopp- ningsgrad eller appliceringsgrad vid elektrolyten (15).

16. Förfarande enligt patentkravet 13, 14 eller 15, k ä n n e t e c k n a t därav, att respektive zon med respektive kontinuerligt förändrad finbehandlings- och/eller rå- hetsgrad och/eller porositet initieras med hjälp av irnplantatets avrnaskningsgrad.

17. Förfarande enligt patentkravet 13, 14 eller 15, k ä n n e t e c k n a t därav att respektive zon med respektive kontinuerligt förändrad finbehandlings- och/eller råhetsgrad och/eller porositet initieras av spärmings- och strömgenerering i anod- och katodarrangemanget, neddoppnings- eller appliceringsgrad vid elektrolyten, maskningsgrad och temperaturstyrning, företrädesvis kraftig nedkylning.

18. Arrangemang för att tillhandahålla implantat med olika finbearbetnings- och/eller finbehandlingsgrader och/eller porositetsgrader (2f, 2g) på implantatets ytor (4', 4"), k ä n n e t e c k n a t därav, att sortimentet innehåller implantat med kon- tinuerligt avtagande eller ökande porositet i en eller flera zoner (C-D). sonen 11111 -51é7 282 .n -~u u n o u a u

19. Arrangemang enligt patentkravet 18, k ä n n e t e c k n a t därav, att den kontinuerligt avtagande eller ökande porositeten i respektive zon är varierad mellan olika implantat i sortimentet.

20. Arrangemang enligt patentkravet 15 eller 16, k ä n n e t e c k n a t därav, att implantaten i sortimentet har olika kontinuerligt avtagande zoner i implantatets längd- och/eller omkretsriktningar (H, 2b).