Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

RU2332419C2 - Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение - Google Patents

Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение Download PDF

Info

Publication number
RU2332419C2
RU2332419C2 RU2004115329/04A RU2004115329A RU2332419C2 RU 2332419 C2 RU2332419 C2 RU 2332419C2 RU 2004115329/04 A RU2004115329/04 A RU 2004115329/04A RU 2004115329 A RU2004115329 A RU 2004115329A RU 2332419 C2 RU2332419 C2 RU 2332419C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
formula
radical
alkyl
substituted
naphthyl
Prior art date
Application number
RU2004115329/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2004115329A (ru
Inventor
Жизель БОДЕН (CH)
Жизель БОДЕН
Курт ДИТЛИКЕР (CH)
Курт ДИТЛИКЕР
Тун ЮНГ (DE)
Туня ЮНГ
Original Assignee
Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. filed Critical Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк.
Publication of RU2004115329A publication Critical patent/RU2004115329A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2332419C2 publication Critical patent/RU2332419C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D487/04—Ortho-condensed systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

Изобретение относится к новым соединениям формулы I, которые могут использоваться в фотополимеризующейся композиции, отверждаемой в присутствии каталитических количеств оснований, возможно при излучении, и в качестве фотоинициаторов для получения покрытий. В формуле (I)
Figure 00000001
R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С1-С18алкилом, С2-С18алкенилом, С1-С18галоалкилом, NO2, NR10R11, CN, OR12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II
Figure 00000002
или радикал R1 обозначает радикал формулы III
Figure 00000003
R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом; R10, R11 R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или С1-С18алкил; R4 и R6, совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C1-С4алкильными радикалами, или R5 и R7 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкильными радикалами, R15 обозначает H или радикал формулы II. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 4 табл.

Description

Текст описания приведен в факсимильном виде.
Figure 00000007
Figure 00000008
Figure 00000009
Figure 00000010
Figure 00000011
Figure 00000012
Figure 00000013
Figure 00000014
Figure 00000015
Figure 00000016
Figure 00000017
Figure 00000018
Figure 00000019
Figure 00000020
Figure 00000021
Figure 00000022
Figure 00000023
Figure 00000024
Figure 00000025
Figure 00000026
Figure 00000027
Figure 00000028
Figure 00000029
Figure 00000030
Figure 00000031
Figure 00000032
Figure 00000033
Figure 00000034
Figure 00000035
Figure 00000036
Figure 00000037
Figure 00000038
Figure 00000039
Figure 00000040
Figure 00000041
Figure 00000042
Figure 00000043
Figure 00000044
Figure 00000045
Figure 00000046
Figure 00000047
Figure 00000048
Figure 00000049
Figure 00000050
Figure 00000051
Figure 00000052
Figure 00000053
Figure 00000054
Figure 00000055
Figure 00000056
Figure 00000057
Figure 00000058
Figure 00000059
Figure 00000060
Figure 00000061
Figure 00000062
Figure 00000063
Figure 00000064
Figure 00000065
Figure 00000066
Figure 00000067
Figure 00000068

Claims (11)

1. Соединение формулы I
Figure 00000069
в которой R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С1-С18алкилом, C2-С18алкенилом, С1-С18галоалкилом, NO2, NR10R11, CN, OR12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II
Figure 00000070
или радикал R1 обозначает радикал формулы III
Figure 00000071
R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом;
R10, R11, R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или С1-С18алкил;
R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкильными радикалами, или
R5 и R7 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкильными радикалами,
R15 обозначает Н или радикал формулы II;
при условии, что
(I) 11-бензил-1,11-диазабицикло[8,4,0]тетрадекан,
(II) 10-бензил-8-метил-1,10-диазабицикло[7,4,0]тридекан,
(III) 9-бензил-1,9-диазабицикло[6,4,0]додекан,
(IV) 8-бензил-6-метил-1,8-диазабицикло[5,4,0]ундекан,
(V) 8-бензил-1,8-диазабицикло[5,4,0]ундекан,
(VI) 7-бензил-2-метил-1,7-диазабицикло[4,3,0]нонан и
(VII) 7-бензил-2-этил-1,7-диазабицикло[4,3,0]нонан исключаются.
2. Соединение формулы I по п.1, у которого R1 обозначает фенил, нафтил, антрил, антрахинонил, тиантренил, флуоренил или тиоксантил, причем эти радикалы являются незамещенными или замещенными один или несколько раз С1-С4алкилом, С2-С4алкенилом, CN, NR10R11, NO2, CF3, SR12, OR12, атомом галогена или радикалом формулы II, или R1 обозначает радикал формулы III; а R10, R11 и R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C1-С6алкил.
3. Соединение формулы 1 по п.1, у которого
R1 обозначает фенил, нафтил, антрил или антрахинонил, причем эти радикалы являются незамещенными или являются замещенными один или несколько раз атомом галогена, C1-С4алкилом, С2-С4алкенилом, NO2,CN, OR12 или радикалом формулы II, а R12 обозначает водородный атом или С1-С4алкил.
4. Фотополимеризующаяся композиция, включающая
А) по меньшей мере одно соединение формулы I
Figure 00000069
в которой R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными C1-С18алкилом, C2-С18алкенилом, C1-С18галоалкилом, NO2, NR10R11, CN, OR12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II
Figure 00000072
или R1 обозначает радикал формулы III
Figure 00000071
R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом,
R10, R11, R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C1-С18алкил;
R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C1-С4алкильными радикалами;
R5 и R7 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C1-С4алкильными радикалами;
R15 обозначает Н или радикал формулы II; и
Б) по меньшей мере одно органическое соединение, которое способно вступать в катализируемую основаниями реакцию или которое превращают в другую форму катализируемой основанием реакцией, выбранное из группы, состоящей из а) акриловых сополимеров с алкоксисилановыми и/или алкоксисилоксановыми боковыми группами;
б) двухкомпонентных систем, включающих гидроксилсодержащие полиакрилаты, сложные полиэфиры и/или простые полиэфиры и алифатические или ароматические полиизоцианаты;
в) двухкомпонентных систем, включающих полиакрилаты с функциональными группами и полиэпоксид, полиакрилат, содержащий тиоловые, амино-, карбоксильные и/или ангидридные группы;
г) двухкомпонентных систем, включающих модифицированные фтором или модифицированные кремнием гидроксилсодержащие полиакрилаты, сложные полиэфиры и/или простые полиэфиры и алифатические или ароматические полиизоцианаты;
д) двухкомпонентных систем, включающих (поли)кетимины и алифатические или ароматические полиизоцианаты;
е) двухкомпонентных систем, включающих (поли)кетимины и ненасыщенные акриловые смолы или ацетоацетатные смолы или метил-α-акриламидометилгликолят;
з) двухкомпонентных систем, включающих (поли)оксазолидины и полиакрилаты, содержащие ангидридные группы, или ненасыщенные акриловые смолы или полиизоцианаты;
и) двухкомпонентных систем, включающих полиакрилаты с функциональными эпоксигруппами и карбоксилсодержащие или содержащие аминогруппы полиакрилаты;
м) полимеры на основе аллилглицидилового эфира;
н) двухкомпонентных систем, включающих (многоатомный)спирт и/или (поли)тиол и (поли)изоцианат;
о) двухкомпонентных систем, включающих α,β-этиленовоненасыщенное карбонильное соединение и полимер, содержащий активированные группы СН2;
п) двухкомпонентных систем, включающих полимер, содержащий активированные группы СН2, причем эти активированные группы СН2 находятся либо в главной цепи, либо в боковой цепи, либо и в той, и в другой, или полимер, содержащий активированные группы СН2, такой как (поли)ацетоацетаты и (поли)цианоацетаты, и полиальдегидный сшивающий агент.
р) эпоксидной смолы или смеси разных эпоксидных смол.
5. Фотополимеризующаяся композиция по п.4, в которой компонент (А) содержится в количестве от 0,01 до 20 мас.%, в частности от 0,01 до 10 мас.%, в пересчете на компонент (Б).
6. Фотополимеризующаяся композиция по п.4, включающая в дополнение к компонентам (А) и (Б) сенсибилизатор (В).
7. Способ отверждения фотополимеризующейся композиции путем проведения катализируемых основаниями реакций, который включает воздействие на композицию по одному из пп.4-6 излучением, длина волны которого составляет от 200 до 650 нм.
8. Способ по п.7, в котором во время или после воздействия излучением проводят нагревание.
9. Применение соединения формулы I, как оно охарактеризовано в п.4, в качестве фотоинициатора для фотохимически индуцированных, катализированных основаниями реакций полимеризации, присоединения или замещения.
10. Применение соединения формулы I, как оно охарактеризовано в п.4, в качестве фотоинициатора для получения покрытий.
11. Способ отверждения фотополимеризующейся композиции по одному из пп.7 и 8, предназначенный для получения покрытий.
RU2004115329/04A 2001-10-17 2002-10-08 Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение RU2332419C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH19112001 2001-10-17
CH20011911/01 2001-10-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004115329A RU2004115329A (ru) 2005-10-27
RU2332419C2 true RU2332419C2 (ru) 2008-08-27

Family

ID=4566758

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004115329/04A RU2332419C2 (ru) 2001-10-17 2002-10-08 Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение

Country Status (14)

Country Link
US (2) US7538104B2 (ru)
EP (1) EP1436297B1 (ru)
JP (1) JP4454309B2 (ru)
KR (1) KR100938769B1 (ru)
CN (1) CN1571788B (ru)
AT (1) ATE360629T1 (ru)
AU (1) AU2002346968B2 (ru)
BR (1) BR0213354A (ru)
CA (1) CA2459374C (ru)
DE (1) DE60219812T8 (ru)
MX (1) MXPA04003564A (ru)
RU (1) RU2332419C2 (ru)
WO (1) WO2003033500A1 (ru)
ZA (1) ZA200401523B (ru)

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5283303B2 (ja) * 2003-12-25 2013-09-04 Ｄｉｃ株式会社 転写材用硬化性樹脂組成物、転写材および保護層の形成方法
US20050234208A1 (en) 2004-04-14 2005-10-20 Matthias Koch Fast curing polydiorganosiloxanes
BRPI0513709A (pt) * 2004-07-21 2008-05-13 Ciba Sc Holding Ag processo para a fotoativação e uso de um catalisador por um procedimento de dois estágios invertido
DE602007012346D1 (de) * 2006-06-27 2011-03-17 Basf Se Zu langen wellenlängen verschobene benzotriazol-uv-absorber und deren verwendung
JP5345537B2 (ja) * 2006-09-29 2013-11-20 チバ ホールディング インコーポレーテッド ブロックイソシアネートをベースとする系のための光潜在性塩基
JP5606308B2 (ja) * 2007-04-03 2014-10-15 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 光活性窒素塩基
JP4874854B2 (ja) * 2007-04-10 2012-02-15 富士フイルム株式会社 ホログラフィック記録用組成物およびホログラフィック記録媒体
US20080308003A1 (en) * 2007-06-13 2008-12-18 Krol Andrew M UV inkjet resist
WO2008152956A1 (ja) * 2007-06-14 2008-12-18 Sekisui Chemical Co., Ltd. 光硬化型粘接着剤組成物
JP2009126974A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Three Bond Co Ltd 樹脂組成物
JP5697992B2 (ja) * 2008-01-28 2015-04-08 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ ラジカル硬化性配合物のレドックス硬化のための光潜在性アミジン塩基
US8329771B2 (en) 2008-03-31 2012-12-11 San-Apro Limited Photobase generator
DE102008043218A1 (de) 2008-09-24 2010-04-01 Evonik Goldschmidt Gmbh Polymere Werkstoffe sowie daraus bestehende Kleber- und Beschichtungsmittel auf Basis multialkoxysilylfunktioneller Präpolymerer
DE102008049848A1 (de) 2008-10-01 2010-04-08 Tesa Se Mehrbereichsindikator
JP5521999B2 (ja) * 2009-11-26 2014-06-18 住友化学株式会社 化学増幅型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
WO2012003152A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 3M Innovative Properties Company Curable-on-demand composition comprising dual reactive silane functionality
US8841399B2 (en) 2010-06-30 2014-09-23 3M Innovative Properties Company Curable composition comprising dual reactive silane functionality
WO2012003108A1 (en) 2010-06-30 2012-01-05 3M Innovative Properties Company Curable polysiloxane coating composition
WO2013089100A1 (ja) 2011-12-16 2013-06-20 株式会社スリーボンド 硬化性樹脂組成物
CN104470983A (zh) 2011-12-29 2015-03-25 3M创新有限公司 可固化聚硅氧烷组合物
WO2013101742A1 (en) 2011-12-29 2013-07-04 3M Innovative Properties Company Curable-on-demand polysiloxane coating composition
EP2838935A1 (en) 2011-12-29 2015-02-25 3M Innovative Properties Company Curable polysiloxane coating composition
IN2014CN04883A (ru) * 2011-12-29 2015-09-18 3M Innovative Properties Co
US9018322B2 (en) 2012-06-21 2015-04-28 FRC-DeSoto International, Inc. Controlled release amine-catalyzed, Michael addition-curable sulfur-containing polymer compositions
JP6183642B2 (ja) * 2012-08-10 2017-08-23 株式会社リコー 活性光線硬化組成物、並びにこれを用いた活性光線硬化型インクジェット印刷用インク組成物及び活性光線硬化型接着剤組成物
WO2015008709A1 (ja) 2013-07-18 2015-01-22 セメダイン株式会社 光硬化性組成物
US9718999B2 (en) 2013-12-13 2017-08-01 Cemedine Co., Ltd Photocurable composition having adhesive properties
DE102014202609B4 (de) * 2014-02-13 2020-06-04 tooz technologies GmbH Aminkatalysierte Thiolhärtung von Epoxidharzen
US9328275B2 (en) 2014-03-07 2016-05-03 Prc Desoto International, Inc. Phosphine-catalyzed, michael addition-curable sulfur-containing polymer compositions
US9328274B2 (en) * 2014-03-07 2016-05-03 Prc-Desoto International, Inc. Michael acceptor-terminated urethane-containing fuel resistant prepolymers and compositions thereof
CN107148458A (zh) 2014-10-29 2017-09-08 德莎欧洲公司 包含可活化的吸气剂材料的胶粘剂混合物
CN105630255B (zh) * 2014-10-31 2019-01-18 昆山瑞咏成精密设备有限公司 单片式ogs触摸屏及其制作方法
WO2016174192A1 (de) 2015-04-29 2016-11-03 Bsn Medical Gmbh Medizinische badevorrichtung
AU2016256186B2 (en) 2015-04-29 2020-01-16 Bsn Medical Gmbh Multi-step process for no production
BR112017023446A2 (pt) * 2015-04-29 2018-07-31 3M Innovative Properties Co método para a fabricação de uma rede polimérica a partir de um politiol e um poliepóxido
EP3535332A1 (en) 2016-11-03 2019-09-11 3M Innovative Properties Company Method of applying a sealant to an aircraft component
WO2018085190A1 (en) 2016-11-03 2018-05-11 3M Innovative Properties Company Polythiol sealant compositions
EP3535621A1 (en) * 2016-11-03 2019-09-11 3M Innovative Properties Company Compositions including a photolatent amine, camphorquinone, and a coumarin and related methods
WO2018106531A1 (en) 2016-12-05 2018-06-14 Arkema Inc. Initiator blends and photocurable compositions containing such initiator blends useful for 3d printing
JP7416698B2 (ja) 2018-02-02 2024-01-17 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 有機化合物の放出量が少ないポリウレタン
WO2019206416A1 (en) * 2018-04-26 2019-10-31 Henkel Ag & Co. Kgaa A quaternary nitrogen compound for use as a latent catalyst in curable compositions
CN110643286B (zh) 2018-06-27 2021-11-19 3M创新有限公司 Uv固化组合物及包含该组合物的胶膜、胶带和粘结构件
EP3856849A1 (en) 2018-09-27 2021-08-04 3M Innovative Properties Company Composition including amino-functional silanes and method of applying a sealant to a substrate
WO2020202076A1 (en) 2019-04-04 2020-10-08 3M Innovative Properties Company Method of irradiating a composition through a substrate
CN113150714B (zh) 2020-01-07 2023-03-10 3M创新有限公司 聚氨酯基可uv固化组合物及包含其的胶膜、胶带和粘结构件
EP3848179A1 (de) 2020-01-10 2021-07-14 Carl Zeiss Vision International GmbH Inkjet-verfahren zur herstellung eines brillenglases
CN111795960B (zh) * 2020-08-10 2022-08-09 齐齐哈尔大学 一种光谱法和比色法检测不同形式碘的分子平台及其制备方法和应用

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0448154A1 (en) 1990-03-20 1991-09-25 Akzo Nobel N.V. Coating composition including a blocked basic catalyst
JP2654339B2 (ja) * 1992-11-24 1997-09-17 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 感光性レジスト組成物及び基板上にレジスト像を形成する方法
CN1126484A (zh) 1993-05-26 1996-07-10 阿克佐诺贝尔公司 含uv-可脱保护碱性催化剂的涂料组合物
JP3206310B2 (ja) * 1994-07-01 2001-09-10 ダイキン工業株式会社 表面改質されたフッ素樹脂成形品
US5998496A (en) 1995-10-31 1999-12-07 Spectra Group Limited, Inc. Photosensitive intramolecular electron transfer compounds
EP0882072B2 (en) 1996-02-22 2005-10-26 Ciba SC Holding AG Anionic photocatalyst
CN1138777C (zh) * 1997-01-22 2004-02-18 西巴特殊化学品控股有限公司 基于α-氨基酮的可光活化的含氮碱
AU726375B2 (en) 1997-02-26 2000-11-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoactivatable nitrogen-containing bases based on alpha-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
JPH10306141A (ja) 1997-03-06 1998-11-17 Toray Ind Inc 半導体装置およびエポキシ樹脂組成物
KR100527614B1 (ko) 1997-03-18 2005-11-15 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. α-아미노 알켄 화합물, 이의 제조방법 및 당해 화합물을 포함하는 조성물
EP0898202B1 (en) 1997-08-22 2000-07-19 Ciba SC Holding AG Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones
AU5620499A (en) 1998-08-21 2000-03-14 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoactivatable bases containing nitrogen
BR0111020B1 (pt) 2000-05-26 2011-02-22 composição de revestimento fotoativável, processo para produção de uma camada de revestimento, e, uso de uma composição de revestimento.

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
RAYMOND C.F.JONES et al. "Conjugate Addition of Imidazolines: AProtocol For 1,4-Addition To Enones and Other Acceptors "Tetrahedron Letters 1989, v.30, No.39, pp.5361-5364. *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050034614A (ko) 2005-04-14
US7538104B2 (en) 2009-05-26
KR100938769B1 (ko) 2010-01-27
US8252784B2 (en) 2012-08-28
EP1436297A1 (en) 2004-07-14
ATE360629T1 (de) 2007-05-15
CN1571788B (zh) 2012-08-01
ZA200401523B (en) 2004-12-14
AU2002346968B2 (en) 2008-04-10
US20040242867A1 (en) 2004-12-02
RU2004115329A (ru) 2005-10-27
WO2003033500A1 (en) 2003-04-24
JP4454309B2 (ja) 2010-04-21
MXPA04003564A (es) 2004-07-23
US20090076200A1 (en) 2009-03-19
JP2005511536A (ja) 2005-04-28
DE60219812D1 (de) 2007-06-06
CN1571788A (zh) 2005-01-26
DE60219812T2 (de) 2008-01-24
CA2459374C (en) 2011-02-08
DE60219812T8 (de) 2008-05-21
CA2459374A1 (en) 2003-04-24
WO2003033500B1 (en) 2003-12-11
EP1436297B1 (en) 2007-04-25
BR0213354A (pt) 2004-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2332419C2 (ru) Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
US10928728B2 (en) Photoactivable nitrogen bases
TW484034B (en) Photopolymerizable thermosetting resin compositions
DE69807322T2 (de) Fotoaktivierbare stickstoffhaltige basen, die auf alpha-aminoketonen basieren
AU726375B2 (en) Photoactivatable nitrogen-containing bases based on alpha-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
AU2002346968A1 (en) Photoactivable nitrogen bases
WO2006095670A1 (ja) 塩基増殖剤及び塩基反応性硬化性組成物
DE69806739T2 (de) Photoaktivierbare, stickstoff enthaltende basen auf basis von alpha-aminoalkenen
EP1105368B1 (de) Photoaktivierbare stickstoffhaltige basen
WO2011086389A1 (en) Photoinitiated reactions
US6551761B1 (en) Photoactivatable nitrogen-containing bases based on α-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
JPH0583562B2 (ru)
JP2011116869A (ja) 光塩基発生剤
RU2002128750A (ru) Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью
JPS5941312A (ja) 感光性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20111009