Claims (5)
조성식이 Fea Xc Me Cf로 표시되고, X가 Al, Si 중에서 되는 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W 중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, c, e, f가 원자 %로 50a 95 0.2c25 2e25 0.5f25 a+c+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조성이 기본적으로 평균 결정 입경 0.08㎛이하의 미세한 결정립으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition is represented by Fea Xc Me Cf, X is at least one element or a mixture thereof of Al and Si, and M is at least one of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W. Element or a mixture thereof; composition ratios a, c, e, and f are 50% by atom a 95 0.2 c 25 2 e 25 0.5 f While satisfying the relationship of 25 a + c + e + f = 100, the composition is basically fine grains with an average grain size of 0.08 µm or less, and a part thereof contains the crystal phase of the carbide of element M. Soft magnetic alloy film.
조성식이 Fea Xccrd, Me Cf로 표시되고, X가 Al, Si 중에서 되는 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W 중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, c, d, e, f가 원자 %로 50a95, 0.2c0.5f25 a+c+d+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경 0.08㎛이하의 미세한 결정립으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition is represented by Fea Xccrd, Me Cf, X is at least one element of Al and Si, or a mixture thereof, and M is at least one of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W. Is a metal element or a mixture thereof; composition ratios a, c, d, e, f are 50% by atom a 95, 0.2 c 0.5 f While satisfying the relationship of 25 a + c + d + e + f = 100, the structure is basically fine grains having an average grain size of 0.08 µm or less, and a part of which contains the crystal phase of the carbide of element M. Soft magnetic alloy film, characterized in that.
조성식이 FeaTd Xc Me Cf로 표시되고, T는 Co, Ni 중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, X는 Al, Si 중에서 되는 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W 중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, b, c, e, f가 원자 %로 50a95, 0.1b10, 0.2c25, 2e25, 0.5f25, a+b+c+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경 0.08㎛이하의 미세한 결정립으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition formula is represented by FeaTd Xc Me Cf, T is at least one kind of metal element or mixture thereof among Co and Ni, X is at least one kind element or mixture thereof among Al and Si, and M is Ti, Zr, At least one of Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, or a mixture thereof, wherein the composition ratios a, b, c, e, and f are 50% by atom a 95, 0.1 b 10, 0.2 c 25, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + b + c + e + f = 100, the structure basically forms fine grains having an average grain size of 0.08 µm or less, and partly contains the crystal phase of the carbide of element M. Soft magnetic alloy film, characterized in that.
조성식이 FeaTd Xccrd Me Cf로 표시되고, T가 Co, Ni 중에서 되는 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, X은 Al, Si 중 적어도 일종으로 되는 원소 또는 그 혼합물이고, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W 중에서 적어도 일종으로 되는 금속 원소 또는 그 혼합물이고, 조성비 a, b, c, d, e, f는 원자 %로 50a95, 0.1b10, 0.2c25, 0.1d20, 2e25, 0.5f25, a+c+b+e+f=100이 되는 관계를 만족시킴과 함께, 그 조직이 기본적으로 평균 결정 입경 0.08㎛이하의 미세한 결정립으로 되고, 그 일부에 원소 M의 탄화물을 결정상을 함유하는 을 특징으로 하는 연자성 합금막.The composition is represented by FeaTd Xccrd Me Cf, T is at least one metal element or a mixture thereof in Co and Ni, X is at least one element Al or Si, or a mixture thereof, and M is Ti, Zr, At least one of Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W or a mixture thereof, and the composition ratios a, b, c, d, e, and f are 50% by atom a 95, 0.1 b 10, 0.2 c 25, 0.1 d 20, 2 e 25, 0.5 f While satisfying the relationship of 25, a + c + b + e + f = 100, the structure basically forms fine grains having an average grain size of 0.08 µm or less, and contains a carbide phase of element M in a part thereof. Soft magnetic alloy film, characterized in that.
제1항 내지 제4항에 기재한 조직이 평균 결정 입경 0.08㎛이하의 미세한 결정립과 비정질과의 혼재한 조직이고, 미세 결정립의 일부에 원소 M의 탄화물의 결정상을 함유하는 것을 특징으로 하는 연자성 금속막.The structure according to claims 1 to 4 is a mixed structure of fine grains and amorphous particles having an average grain size of 0.08 µm or less, and contains a crystal phase of the carbide of element M in a part of the fine grains. Metal film.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.