Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR900001074A - 가스 레이저장치 - Google Patents

가스 레이저장치 Download PDF

Info

Publication number
KR900001074A
KR900001074A KR1019890007929A KR890007929A KR900001074A KR 900001074 A KR900001074 A KR 900001074A KR 1019890007929 A KR1019890007929 A KR 1019890007929A KR 890007929 A KR890007929 A KR 890007929A KR 900001074 A KR900001074 A KR 900001074A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
discharge
discharge electrodes
gas mixture
gas
electrodes
Prior art date
Application number
KR1019890007929A
Other languages
English (en)
Other versions
KR920010602B1 (ko
Inventor
기요히사 데라이
고오이찌 니시다
Original Assignee
아오이 죠이찌
가부시끼가이샤 도시바
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아오이 죠이찌, 가부시끼가이샤 도시바 filed Critical 아오이 죠이찌
Publication of KR900001074A publication Critical patent/KR900001074A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR920010602B1 publication Critical patent/KR920010602B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0388—Compositions, materials or coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S1/00—Masers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the microwave range
    • H01S1/06—Gaseous, i.e. beam masers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0381—Anodes or particular adaptations thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0382—Cathodes or particular adaptations thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

가스 레이저장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 제1실시예의 가스레이저장치에 사용되는 캐소드의 부분횡단면도,
제2도는 캐소드의 사시도,
제3도는 가스레이저장치의 방전부의 횡단면도.

Claims (8)

  1. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 DC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 상기 방전전극(2,3)의 캐소드(3)는 티티늄을 기재(7)로 하여 형성되며 또한 상기 캐소드(3)의 섬광부분의 표면은 산화티타늄으로 산화되며 섬광부분은 전기방전하는 동안 글로우로 덮히는 부분에 해당하는것이 특징인 가스레이저 장치.
  2. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 DC전압을 걸어서 전기방전을 개사함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 상기 방전전극(2,3)의 캐소드(3)는 몰리브데늄을 기재(10)로 하여 형성한 다음그 캐소드(3)에 티타늄코팅(11)을 도포하고 그다음 상기 캐소드(3)의 섬광부분의 표면을 산화티타늄으로 산화하되,상기 섬광부분은 전기방전하는 동안 글로우로 덮히는 부분에 해당하는 것이 특징인 가스레이저 장치.
  3. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 DC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 상기 방전전극의 캐소드(3)는 티타늄으로 형성하되, 그의 표면은 전기방전하는 동안 산화되는 것이 특징인 가스레인저 장치.
  4. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 DC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 상기 방전전극(2,3)의 캐소드(3)는 몰리브데늄을 기재(7)로 하여 형성한 다음, 그 캐소드(3)에 티타늄 코팅(11)을 도포하고 그다음 상기 티타늄코팅(11)을 전기방전하는 동안 산화시키는 것이 특징인 가스레인저 장치.
  5. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 DC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 상기 방전전극(2,3)은 둘 다 티타늄을 기재로 하여 형성한 다음 상기 방전전극(2,3) 둘 다의 섬광부분의 표면은 산화티타늄으로 산화시키고 상기 각각의 섬광부분은 전기 방전하는 동안 글로우로 덮히는 부분에 해당하는 것이 특징인 가스레이저 장치.
  6. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 AC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 방전전극(2,3) 각각을 몰리브데늄을 기재로 하여 형성한 다음 각각의 방전전극(2,3)에 티타늄 코팅을 도포하고 그다음 각각의 방전전극(2,3)의 섬광부분의 표면은 산화 티타늄으로 산화시키고, 각각의 섬광부분은 전기방전하는 동안 글로우로 덮히는 부분에 해당하는 것을 특징인 가스레이저 장치.
  7. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 AC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 방전전극(2,3) 각각은 티타늄으로 형성하며 각각의 방전전극(2,3)의 표면은 전기방전하는 동안 산화되는 것이 특징인 가스레이저 장치
  8. 레이저 매질인 가스혼합물의 분위기중에 한쌍의 방전전극(2,3)을 배치하고 방전전극(2,3) 양단에 AC전압을 걸어서 전기방전을 개시함으로서 그에 의해 가스혼합물을 여기시키는 가스레이저장치에서 상기 방전전극(2,3)은 몰리브데늄을 기재로 하여 형성한 다음 방전전극(2,3) 각각에 티타늄 코팅을 도포하되, 티타늄 코팅은 전기방전하는 동안 산화되는 것이 특징인 가스레이저 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890007929A 1988-06-10 1989-06-09 가스 레이저 장치 KR920010602B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63143944A JPH021998A (ja) 1988-06-10 1988-06-10 ガスレーザー装置
JP63-143944 1988-06-10
JP88-143944 1988-06-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900001074A true KR900001074A (ko) 1990-01-31
KR920010602B1 KR920010602B1 (ko) 1992-12-10

Family

ID=15350689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019890007929A KR920010602B1 (ko) 1988-06-10 1989-06-09 가스 레이저 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4956847A (ko)
EP (1) EP0345603B1 (ko)
JP (1) JPH021998A (ko)
KR (1) KR920010602B1 (ko)
DE (1) DE68911595T2 (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3874123B2 (ja) * 1996-03-07 2007-01-31 キヤノン株式会社 放電電極並びにエキシマレーザー発振装置及びステッパー
JP3815578B2 (ja) * 1996-07-19 2006-08-30 忠弘 大見 エキシマレーザー発振装置
JP3932207B2 (ja) * 1997-03-14 2007-06-20 デマリア エレクトロオプティックス システムズ アイエヌシー 無線周波数励起導波レーザ
KR20010110722A (ko) * 2000-02-07 2001-12-13 하시모토 쯔토무 전기 전도도계 및 전기 전도도 측정용 전극과 그 제조 방법
US6788722B1 (en) 2000-07-10 2004-09-07 Coherent, Inc. High power waveguide laser
EP1257024A1 (de) * 2001-05-09 2002-11-13 TRUMPF LASERTECHNIK GmbH Gaslaserresonator mit TiO2-beschichteten Laserelektroden
US7050475B2 (en) 2003-05-02 2006-05-23 Litelaser Llc Waveguide laser
US7583717B2 (en) * 2004-08-30 2009-09-01 Videojet Technologies Inc Laser system
US7296359B2 (en) * 2004-10-27 2007-11-20 Videojet Technologies Laser alignment system and method
KR100927435B1 (ko) * 2008-05-21 2009-11-19 조신영 당뇨병 개선 및 완화용 환제 건강식품 및 이의 제조방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3962656A (en) * 1974-11-07 1976-06-08 Hughes Aircraft Company High power flowing gas laser with profiled electron beam excitation
US3991385A (en) * 1975-02-03 1976-11-09 Owens-Illinois, Inc. Gas laser with sputter-resistant cathode
US4639926A (en) * 1980-06-09 1987-01-27 Xerox Corporation Efficient cathode assembly for metal vapor laser
US4574380A (en) * 1982-06-24 1986-03-04 Nam Kyong H Self-optimizing electrode and pulse-stabilized super high power C.W. gas lasers
DE3581779D1 (de) * 1984-10-12 1991-03-28 Hiromi Kawase Metallionenlaser vom hohlkathodentyp.
DE3642749A1 (de) * 1986-12-15 1988-06-23 Eltro Gmbh Oberflaechen fuer elektrische entladungen
CA1272504A (en) * 1986-11-18 1990-08-07 Franz Prein Surface for electric discharge

Also Published As

Publication number Publication date
EP0345603A1 (en) 1989-12-13
DE68911595T2 (de) 1994-04-07
EP0345603B1 (en) 1993-12-22
KR920010602B1 (ko) 1992-12-10
US4956847A (en) 1990-09-11
JPH021998A (ja) 1990-01-08
DE68911595D1 (de) 1994-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69841736D1 (de) Feldemissionselektronenquelle, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung derselben
KR900001074A (ko) 가스 레이저장치
DE69532007D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Elektronen emittierenden Vorrichtung,
KR910005344A (ko) 전기 이중층 콘덴서
JPS55154450A (en) Air-fuel-ratio detector
SU1048994A3 (ru) Электрохромное устройство
DE50004948D1 (de) Verfahren zur modifizierung von holzoberflächen durch elektrische entladung unter atmosphärendruck
DE60210553D1 (de) Flussmittelfreies Löten mit Wasserstoff mittels Zugabe von Elektronen
KR930013208A (ko) 드라이에칭 장치
ATE387008T1 (de) Kalte elektrode für gasentladungen
KR890009091A (ko) 부하단자를 통한 교류 제어용 회로
KR910002055A (ko) 가스레이저 장치
KR880008484A (ko) 코로나 방전처리장치
KR940003072A (ko) 광점호형 트라이액장치 및 그 구동방법
KR900010878A (ko) 플라즈마 표시소자의 구조 및 그 구동 방법
KR950015705A (ko) 박막 정전기 웨이퍼 척
DE3782179D1 (de) Lade- oder entladevorrichtung.
ES2057492T3 (es) Electrodos macizos de carbono poroso activado, su procedimiento de fabricacion y su utilizacion en un condensador con capa electrica doble.
KR890015392A (ko) 반도체장치 제조방법
KR960030454A (ko) 부(負)의 저항온도 특성을 갖는 반도체 세라믹과 이를 사용한 반도체 세라믹 부품
KR890001682A (ko) 비이드 제어방법
KR900019110A (ko) 음극선관의 에미션 에이징 방법
SU1360488A1 (ru) Электронная пушка для свч-прибора типа "о"
Scotti et al. Dynamic characteristics of coated electrodes
JPS5680191A (en) Gas laser device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 19890609

PA0201 Request for examination
PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 19920512

Patent event code: PE09021S01D

G160 Decision to publish patent application
PG1605 Publication of application before grant of patent

Comment text: Decision on Publication of Application

Patent event code: PG16051S01I

Patent event date: 19921111

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 19930308

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 19930517

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 19930517

End annual number: 3

Start annual number: 1

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 19951120

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 19961119

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 19970829

Start annual number: 6

End annual number: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 19971229

Year of fee payment: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 19971229

Start annual number: 7

End annual number: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee