KR890005573A - 감조사성 혼합물 및 이로부터 제조된 재생물질 - Google Patents
감조사성 혼합물 및 이로부터 제조된 재생물질 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (7)
- 필수성분으로서 1,2-퀴논디아지드를 함유하는 감조사성 혼합물에 있어서, 1,2-퀴논디아지드가 일반식(I)의 반복단위를 갖는 중합체임을 특징으로 하는 감조사성 혼합물.상기식에서, R은 수소 또는 할로겐원자이거나, 시아니드 그룹 또는 알킬 그룹이고, R1, R2및 R3은 동일하거나 상이하며, 수소 또는 할로겐원자를 나타내거나, 치환되거나 비치환된 알킬 그룹 또는 알콕시 그룹을 나타내고, A는 단일핵 또는 이핵 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 방향족 환계를 형성하는데 필요한 원자를 나타내며, D는 1,2-퀴논디아지드 그룹을 함유하는 라디칼을 나타내고, n+m은 2 또는 3이다.
- 제1항에 있어서, R이 수소를 나타내거나, 1개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 알킬 그룹을 나타내고, R1, R2및 R3이 수소를 나타내거나, 1개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 치환되거나 비치환된 알킬 또는 알콕시 그룹을 나타내며, A가 카보사이클릭 환계를 나타내고, D가 1,2-나프토퀴논-2-디아지드-4- 또는 -5-설포닐 라디칼을 나타내며, n+m이 2임을 특징으로 하는 혼합물.
- 제1항에 있어서, 1,2-퀴논디아지드가 일반식(II)의 반복단위를 추가로 함유함을 특징으로 하는 혼합물.상기식에서, R4는 수소원자이거나 카복실 그룹이며, R4가 카복실 그룹인 경우에는 R5에 결합되어 산 무수물을 형성할 수 있으며, R5는 알킬, 알콜시, 알킬옥시카보닐, 아실, 아실옥시, 아릴, 포르밀, 시아니드, 카복실, 하이드록실 또는 아미노카보닐 그룹이며, R6은 수소 또는 할로겐원자이거나, 알킬 그룹이다.
- 제3항에 있어서, R5가 1개 내지 4개의 탄소원자를 갖는 알킬 그룹; 1개 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알콕시 그룹; 2개 내지 13개의 탄소원자를 갖는 알콕시카보닐 그룹; 2개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 아실 그룹; 2개 내지 18개의 탄소원자를 갖는 아실옥시 그룹; 또는 6개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 아릴 그룹을 나타내고, R6이 1개 내지 4개의 탄소원자를 갖는 알킬 그룹을 나타냄을 특징으로 하는 혼합물.
- 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 혼합물이 수불용성이지만, 알칼리성 수용액에서는 가용성이거나 적어도 팽윤성인 결합제를 함유함을 특징으로 하는 혼합물.
- 제5항에 있어서, 결합제가 노볼락임을 특징으로 하는 혼합물.
- 층 지지체 및 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에서 청구한 1,2-퀴논디아지드를 함유함을 특징으로 하는 감조사성 혼합물로 이루어진 감조사성 재생물질.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP3731439.4 | 1987-09-18 | ||
DE19873731439 DE3731439A1 (de) | 1987-09-18 | 1987-09-18 | Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes kopiermaterial |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR890005573A true KR890005573A (ko) | 1989-05-15 |
Family
ID=6336339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019880011898A KR890005573A (ko) | 1987-09-18 | 1988-09-15 | 감조사성 혼합물 및 이로부터 제조된 재생물질 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0307828A3 (ko) |
JP (1) | JPH01100538A (ko) |
KR (1) | KR890005573A (ko) |
BR (1) | BR8804797A (ko) |
DE (1) | DE3731439A1 (ko) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4003025A1 (de) * | 1990-02-02 | 1991-08-08 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
DE4106356A1 (de) * | 1991-02-28 | 1992-09-03 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliche polymere mit naphthochinon-2-diazid-4-sulfonyl-gruppen und deren verwendung in einem positiv arbeitenden aufzeichnungsmaterial |
DE4106357A1 (de) * | 1991-02-28 | 1992-09-03 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliche polymere mit 2-diazo-1,3-dicarbonyl-gruppen, verfahren zu deren herstellung und verwendung in einem positiv arbeitenden aufzeichnungsmaterial |
US5362597A (en) * | 1991-05-30 | 1994-11-08 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition comprising an epoxy-containing alkali-soluble resin and a naphthoquinone diazide sulfonic acid ester |
JP4040217B2 (ja) * | 1998-08-14 | 2008-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法および感光性樹脂組成物 |
JP2000347397A (ja) | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物およびその層間絶縁膜への使用 |
JP2006259461A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ |
JP4713262B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-06-29 | 昭和電工株式会社 | 感光性の樹脂組成物 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1005673A (en) * | 1972-12-22 | 1977-02-22 | Constantine C. Petropoulos | Positive printing plate incorporating diazoquinone |
DE3528929A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
DE3528930A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Polymere verbindungen und diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch |
-
1987
- 1987-09-18 DE DE19873731439 patent/DE3731439A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-10 EP EP88114835A patent/EP0307828A3/de not_active Withdrawn
- 1988-09-15 KR KR1019880011898A patent/KR890005573A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-09-16 BR BR8804797A patent/BR8804797A/pt unknown
- 1988-09-19 JP JP63232754A patent/JPH01100538A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8804797A (pt) | 1989-04-25 |
EP0307828A2 (de) | 1989-03-22 |
JPH01100538A (ja) | 1989-04-18 |
DE3731439A1 (de) | 1989-03-30 |
EP0307828A3 (de) | 1990-05-16 |
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