KR830005724A - 고체촬상소자의 제조방법 - Google Patents
고체촬상소자의 제조방법 Download PDFInfo
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2C도, 제 2E도, 제2F도, 제2H도, 제2I도는 본 발명의 고체촬상소자의 제조방법의 실시예를 제조공정순으로 나타낸 개략단면도.
제2D도는 제2C도에 있어서의 배치 평면패턴을 나타낸 평면도.
Claims (6)
- 2차원으로 배열한 스위치소자, 그 스위치 소자를 주사하는 주사 시프트 레지스터를 집적화한 주사용 집적회로의 상부에, 광전하를 발생하는 광전변환용 광도전막 및 투명전극을 적층한 고체촬상소자의 제조방법에 있어서, 광도전성막을 형성하는 영역으로만 개구된 차폐판을 주사용 집적회로의 상부에 밀착한다든가 약간의 간극을 두고 지지하여 광도전물질을 주사용 집적회로상에 퇴적하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 고체촬상소자의 제조방법.
- 특허청구의 범위 제1항의 제조방법에 있어서, 차폐판의 개구부는, 스위치 소자 배열영역에 대응하는 개구부이다.
- 특허청구의 범위 제2항의 제조방법에 있어서, 차폐판의 개구부는 스위치소자 배열 영역보다 작은 개구부이다.
- 특허청구의 범위 제2항의 제조방법에 있어서, 스위치 소자 배열 영역 주변의 그 외의 소자나 회로는 스위치 소자 배열영역으로부터 광도전물질의 퇴적확산이 칫수 이상 떨어져 설치되어 있다.
- 특허청구의 범위 제1,2,3,4항의 제조방법에 있어서, 광도전물질을 퇴적한 후, 차폐판과 동일 또는 개구칫수 및 형상이 약간 다른 차폐판을 사용하여 투명전극의 재료로 이루어지는 물질을 광도전막상에 퇴적하는 공정을 가진다.
- 특허청구의 범위 제1,2,3,4항의 제조방법에 있어서, 상기 광도전물질을 퇴적한 후, 투명전극의 재료로 이루어지는 물질을 광도전막이 설치된 주사용 집적회로상에 퇴적하는 공정 및 포토에칭에 의해 퇴적된 투명전극물질층을 소정 형상의 투명전극막에 가공하는 공정을 가진다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019810000981A KR840001604B1 (ko) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | 고체촬상소자의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019810000981A KR840001604B1 (ko) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | 고체촬상소자의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR830005724A true KR830005724A (ko) | 1983-09-09 |
| KR840001604B1 KR840001604B1 (ko) | 1984-10-11 |
Family
ID=19220520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019810000981A KR840001604B1 (ko) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | 고체촬상소자의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR840001604B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100317214B1 (ko) * | 1998-07-21 | 2001-12-22 | 가네꼬 히사시 | 고체 촬상 장치 |
-
1981
- 1981-03-24 KR KR1019810000981A patent/KR840001604B1/ko active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100317214B1 (ko) * | 1998-07-21 | 2001-12-22 | 가네꼬 히사시 | 고체 촬상 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR840001604B1 (ko) | 1984-10-11 |
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