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KR20230170643A - Substrate with sanding surface, manufacturing method thereof, and tin-plated sheet/chrome-plated sheet - Google Patents

Substrate with sanding surface, manufacturing method thereof, and tin-plated sheet/chrome-plated sheet Download PDF

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KR20230170643A
KR20230170643A KR1020237029818A KR20237029818A KR20230170643A KR 20230170643 A KR20230170643 A KR 20230170643A KR 1020237029818 A KR1020237029818 A KR 1020237029818A KR 20237029818 A KR20237029818 A KR 20237029818A KR 20230170643 A KR20230170643 A KR 20230170643A
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KR
South Korea
Prior art keywords
work roll
substrate
roll
roughness
tin
Prior art date
Application number
KR1020237029818A
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Korean (ko)
Inventor
지우구이 황
웨이 위
홍 구어
Original Assignee
장쑤 샤강 그룹 컴퍼니 리미티드
인스티튜트 오브 리서치 오브 아이론 앤드 스틸, 지앙수 프로빈스/샤-스틸, 씨오. 엘티디 (중국)
장지아강 양쯔 리버 콜드-롤드 시트 컴퍼니 리미티드
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Publication date
Application filed by 장쑤 샤강 그룹 컴퍼니 리미티드, 인스티튜트 오브 리서치 오브 아이론 앤드 스틸, 지앙수 프로빈스/샤-스틸, 씨오. 엘티디 (중국), 장지아강 양쯔 리버 콜드-롤드 시트 컴퍼니 리미티드 filed Critical 장쑤 샤강 그룹 컴퍼니 리미티드
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Abstract

샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법은, 제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하는 조질압연기를 제공하는 단계 - 제1 프레임은 대향 설치된 제1 작업 롤 및 제3 작업 롤을 포함하고, 제2 프레임은 대향 설치된 제2 작업 롤 및 제4 작업 롤을 포함하고, 제1 작업 롤과 제2 작업 롤은 동일 측에 위치하고, 제1 작업 롤은 EDT 롤이고, 제2 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.6 내지 2.2㎛이고, 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.35 내지 0.75㎛임 - ; 및 기판이 제1 작업 롤과 제3 작업 롤 사이, 제2 작업 롤과 제4 작업 롤 사이를 순차적으로 통과하도록 하여, 기판의 제1 표면 상에 샌딩면을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 샌딩면을 갖는 기판은 주석 도금 또는 크롬 도금을 거친 후, 넥킹캔 또는 이지 오픈 뚜껑으로 가공할 때, 넥킹 지점 및 사전 스크라이빙 필름 지점의 도금층이 쉽게 손상되지 않으며, 내식성이 우수하다.A method of manufacturing a substrate having a sanding surface includes providing a temper rolling mill including a first frame and a second frame, wherein the first frame includes opposingly installed first and third work rolls, and the second frame includes: It includes a second work roll and a fourth work roll installed oppositely, wherein the first work roll and the second work roll are located on the same side, the first work roll is an EDT roll, the second work roll is a grounding smooth surface roll, and the second work roll is a grounding smooth surface roll. The roughness of the surface of the first work roll is 1.6 to 2.2㎛, and the roughness of the surface of the second work roll is 0.35 to 0.75㎛; and forming a sanding surface on the first surface of the substrate by sequentially passing the substrate between the first work roll and the third work roll and between the second work roll and the fourth work roll. When the substrate having the sanding surface is processed into a necking can or an easy-open lid after undergoing tin plating or chrome plating, the plating layer at the necking point and the pre-scribing film point is not easily damaged and has excellent corrosion resistance.

Description

샌딩면을 갖는 기판, 이의 제조 방법 및 주석 도금판/크롬 도금판Substrate with sanding surface, manufacturing method thereof, and tin-plated sheet/chrome-plated sheet

본 발명은 금속 재료 가공 기술 분야에 관한 것으로, 보다 상세하게는 샌딩면을 갖는 기판, 이의 제조 방법 및 주석 도금판/크롬 도금판에 관한 것이다.The present invention relates to the field of metal material processing technology, and more specifically, to a substrate having a sanding surface, a manufacturing method thereof, and a tin-plated plate/chrome-plated plate.

주석 도금판/크롬 도금판은 음료 포장에 널리 사용되며, 일반적으로 제철소에서 철강 빌렛을 약 2.0mm의 띠강으로 열간 압연한 후, 산 압연, 어닐링, 조질압연, 주석 도금/크롬 도금, 부동화 등 공정을 수행하여, 주석 도금판/크롬 도금판으로 제작한 다음, 철판 인쇄, 캔 제작 공정을 거쳐 캔을 제작하여, 다양한 음료수를 담는 데 사용한다. 담긴 내용물이 산성이고 고단백질 등 물질이기 때문에, 주석 도금판/크롬 도금판 제품은 높은 내식성을 갖춰야 한다.Tin-plated/chrome-plated plates are widely used in beverage packaging, and are generally hot-rolled at a steel mill from a steel billet into a strip of about 2.0 mm, followed by acid rolling, annealing, temper rolling, tin plating/chrome plating, and passivation. It is manufactured from a tin-plated plate/chrome-plated plate, and then goes through an iron plate printing and can manufacturing process to produce cans, which are used to contain various beverages. Because the contents are acidic and high in protein, tin-plated/chrome-plated plate products must have high corrosion resistance.

현재, 넥킹캔(도면 1) 또는 이지 오픈 뚜껑(도면 2)으로 선택된 주석 도금판/크롬 도금판 표면 형태는 R1(미세한 돌 무늬면)이며, 거칠기 Ra는 0.29 내지 0.55μm이고, 판면 무늬는 돌 무늬 모양이고, 와이어 드로잉 느낌이 일반적이며(육안으로는 얇고 얕고 짧은 스크래치와 유사함), 강한 빛이 조사되면 비교적 가벼운 입자감을 나타낸다. 하지만 이러한 주석 도금판/크롬 도금판으로 제작된 넥킹캔 또는 이지 오픈 뚜껑은 사용 과정에서 넥킹 지점 또는 사전 스크라이빙 필름 지점(이지 오픈 뚜껑 성형 후 목표 개방 부위에 미리 필름을 스크라이빙하여, 뚜껑 개봉 방향을 안내함)이 내용물에 의해 쉽게 부식되어, 내식성 요건을 충족시킬 수 있다.Currently, the tin plate/chrome plate surface type selected for the necking can (Figure 1) or the easy-open lid (Figure 2) is R1 (fine stone pattern surface), the roughness Ra is 0.29 to 0.55 μm, and the plate surface pattern is stone. It has a pattern shape and a general wire-drawing feel (similar to a thin, shallow, short scratch to the naked eye), and when exposed to strong light, it exhibits a relatively light particle feel. However, necking cans or easy-open lids made of these tin-plated/chrome-plated plates are used at the necking point or pre-scribing film point (by scribing the film in advance at the target opening area after molding the easy-open lid, guides the opening direction) is easily corroded by the contents, so it can meet the corrosion resistance requirements.

본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제는 주석 도금판/크롬 도금판을 제공하여, 상기 주석 도금판/크롬 도금판으로 제조한 넥킹캔 또는 이지 오픈 뚜껑이 우수한 내식성을 가져 내용물에 의해 부식되지 않도록 하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention is to provide a tin-plated plate/chrome-plated plate so that necking cans or easy-open lids made from the tin-plated plate/chrome-plated plate have excellent corrosion resistance and are not corroded by the contents. .

상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 하기의 기술적 해결책을 제공한다.In order to solve the above technical problems, the present invention provides the following technical solutions.

본 발명의 제1 양상은 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법을 제공하며, 여기에는 이하의 단계,A first aspect of the invention provides a method for manufacturing a substrate having a sanded surface, comprising the following steps:

제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하는 조질압연기를 제공하고;Providing a temper rolling mill including a first frame and a second frame;

상기 제1 프레임은 대향 설치된 제1 작업 롤 및 제3 작업 롤을 포함하고, 상기 제2 프레임은 대향 설치된 제2 작업 롤 및 제4 작업 롤을 포함하고;The first frame includes a first work roll and a third work roll installed oppositely, and the second frame includes a second work roll and a fourth work roll installed oppositely;

상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤은 동일 측에 위치하고, 상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤은 상기 기판의 제1 표면과 접촉되어 상기 샌딩면을 형성하는 데 사용되고, 여기에서;The first work roll and the second work roll are located on the same side, and the first work roll and the second work roll are used to contact the first surface of the substrate to form the sanding surface, wherein;

상기 제1 작업 롤은 EDT(Electro Discharge Texturing) 롤이고, 상기 제2 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.6 내지 2.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.35 내지 0.75μm이고;The first work roll is an Electro Discharge Texturing (EDT) roll, the second work roll is a grounding smooth surface roll, the roughness of the surface of the first work roll is 1.6 to 2.2 μm, and the roughness of the surface of the second work roll is 0.35 to 0.75 μm;

냉간 압연될 기판을 상기 조질압연기에 이송하여, 상기 기판이 제1 작업 롤과 제3 작업 롤 사이, 제2 작업 롤과 제4 작업 롤 사이를 순차적으로 통과하여, 상기 기판의 제1 표면에 상기 샌딩면을 형성하는 단계;를 포함한다.The substrate to be cold rolled is transferred to the temper rolling mill, so that the substrate sequentially passes between the first work roll and the third work roll and between the second work roll and the fourth work roll, and is attached to the first surface of the substrate. It includes; forming a sanding surface.

더 나아가, 상기 제1 프레임의 압연력은 3500 내지 4500kN이고, 제2 프레임의 압연력은 3500 내지 4000kN이다.Furthermore, the rolling force of the first frame is 3500 to 4500 kN, and the rolling force of the second frame is 3500 to 4000 kN.

더 나아가, 상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤의 롤 교체 주기는 120±20km이고, 압연 톤수는 150±30t이다.Furthermore, the roll replacement cycle of the first work roll and the second work roll is 120 ± 20 km, and the rolling tonnage is 150 ± 30 tons.

더 나아가, 상기 기판의 제2 표면이 광택면일 때, 상기 제3 작업 롤 및 상기 제4 작업 롤이 모두 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.8±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 광택면을 형성한다.Furthermore, when the second surface of the substrate is a glossy surface, both the third work roll and the fourth work roll are ground smooth surface rolls, the roughness of the surface of the first work roll is 1.8 ± 0.2 μm, and the second work roll is a smooth surface. The roughness of the surface of the work roll is 0.70 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 0.70 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.40 ± 0.05 μm, and the rolling force of the first frame is The rolling force of the second frame is 3500 ± 100 kN, and the substrate is cold rolled by a temper rolling mill to form a glossy surface on the second surface.

더 나아가, 상기 기판의 제2 표면이 미세한 돌 무늬면일 때, 상기 제3 작업 롤은 EDT 롤이고, 상기 제4 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 2.0±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 1.2±0.2μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 미세한 돌 무늬면을 형성한다.Furthermore, when the second surface of the substrate is a fine stone surface, the third work roll is an EDT roll, the fourth work roll is a grounding smooth surface roll, and the roughness of the first work roll surface is 2.0 ± 0.2 μm. The roughness of the surface of the second work roll is 0.40 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 1.2 ± 0.2 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.40 ± 0.05 μm, and the roughness of the surface of the first work roll is 0.40 ± 0.05 μm. The rolling force of the frame is 4000 ± 100 kN, and the rolling force of the second frame is 3500 ± 100 kN. After the substrate is cold rolled by a temper rolling mill, a fine stone pattern surface is formed on the second surface.

더 나아가, 상기 기판의 제2 표면이 거친 돌 무늬면일 때, 상기 제3 작업 롤은 EDT 롤이고, 상기 제4 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 2.0±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 1.5±0.2μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 4500±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 거친 돌 무늬면을 형성한다.Furthermore, when the second surface of the substrate is a rough stone surface, the third work roll is an EDT roll, the fourth work roll is a grounding smooth surface roll, and the roughness of the first work roll surface is 2.0 ± 0.2 μm. The roughness of the surface of the second work roll is 0.40 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 1.5 ± 0.2 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.70 ± 0.05 μm, and the roughness of the surface of the first work roll is 0.70 ± 0.05 μm. The rolling force of the frame is 4500 ± 100 kN, and the rolling force of the second frame is 4000 ± 100 kN. After the substrate is cold rolled by a temper rolling mill, a rough stone pattern is formed on the second surface.

본 발명의 제2 양상은 제1 양상에 따른 제조 방법을 사용하여 제조된 샌딩면을 갖는 기판을 제공한다. 상기 기판의 일면은 샌딩면이고, 다른 일면은 비샌딩면이다. 상기 샌딩면은 점 모양의 요철이 있는 음영 무늬 및 일부 상기 음영 무늬 상에 위치한 필라멘트형 라인을 포함한다. 상기 음영 무늬와 상기 필라멘트형 라인은 상기 샌딩면의 거칠기를 0.05 내지 0.80μm가 되도록 분포한다.A second aspect of the invention provides a substrate having a sanded surface manufactured using the manufacturing method according to the first aspect. One side of the substrate is a sanding surface, and the other side is a non-sanding surface. The sanding surface includes a shading pattern with dot-shaped irregularities and some filament-like lines located on the shading pattern. The shaded pattern and the filament-like line are distributed so that the roughness of the sanding surface is 0.05 to 0.80 μm.

더 나아가, 상기 기판의 재질은 MR형, L형 또는 D형 원판강이다.Furthermore, the material of the substrate is MR-type, L-type, or D-type disk steel.

더 나아가, 상기 비샌딩면은 광택면, 미세한 돌 무늬면, 거친 돌 무늬면, 은색 표면, 거친 은색 표면 또는 무광택면이다.Furthermore, the non-sanded surface is a glossy surface, a fine stone surface, a rough stone surface, a silver surface, a rough silver surface, or a matte surface.

본 발명의 제3 양상은 주석 도금판을 제공하며, 상기 주석 도금판은 제2 양상에 따른 기판 표면에 주석 금속 전기도금 및 리플로우(reflow)를 수행하여 획득된 것이다.A third aspect of the present invention provides a tin-plated sheet, which is obtained by performing tin metal electroplating and reflow on the surface of the substrate according to the second aspect.

더 나아가, 주석 금속 전기도금 시, 전기도금액 중 2가 주석의 농도는 20 내지 25g/L이고, 메탄술폰산의 농도는 30 내지 50mL/L이고, 산화방지제의 농도는 35 내지 60mL/L이고, 첨가제의 농도는 20 내지 30 mL/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 38 내지 45℃로, 전류 밀도는 22 내지 28A/mm2로 제어한다.Furthermore, during tin metal electroplating, the concentration of divalent tin in the electroplating solution is 20 to 25 g/L, the concentration of methanesulfonic acid is 30 to 50 mL/L, and the concentration of antioxidant is 35 to 60 mL/L, The concentration of the additive is 20 to 30 mL/L, and during the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is controlled to 38 to 45°C and the current density is controlled to 22 to 28A/mm 2 .

더 나아가, 리플로우 시, 리플로우 설정 온도는 260 내지 290℃이고, 리플로우 피드백 온도는 255 내지 295℃이고, 리플로우 출력 비중은 30% 내지 50%이다.Furthermore, during reflow, the reflow set temperature is 260 to 290°C, the reflow feedback temperature is 255 to 295°C, and the reflow output proportion is 30% to 50%.

더 나아가, 상기 기판의 일면은 샌딩면이며, 다른 일면은 미세한 돌 무늬면이다.Furthermore, one side of the substrate is a sanding surface, and the other side is a fine stone pattern surface.

본 발명의 제4 양상은 크롬 도금판을 제공하며, 상기 크롬 도금판은 제2 양상에 따른 기판 표면에 크롬 금속 및 산화크롬을 전기도금하여 획득된 것이다.A fourth aspect of the present invention provides a chrome plated plate, which is obtained by electroplating chromium metal and chromium oxide on the surface of the substrate according to the second aspect.

더 나아가, 크롬 금속을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산 농도는 140 내지 160g/L이고, 불화암모늄의 농도는 3 내지 4g/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 36 내지 40℃로, 전류 밀도는 50 내지 80A/mm2로, 제1 회수홈 내 무수크롬산의 농도는 ≤50g/L로, 제2 회수홈 내 무수크롬산 농도는 ≤40g/L로 제어한다.Furthermore, when electroplating chromium metal, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 140 to 160 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 3 to 4 g/L, and during the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is 36 to 40°C, the current density is controlled to be 50 to 80A/mm 2 , the concentration of chromic anhydride in the first recovery groove is controlled to ≤50g/L, and the concentration of chromic anhydride in the second recovery groove is controlled to be ≤40g/L.

더 나아가, 산화크롬을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산의 농도는 60 내지 70g/L이고, 불화암모늄의 농도는 1 내지 2g/L, 수산화나트륨의 농도는 8 내지 10g/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 31 내지 35℃로, 전류 밀도는 9 내지 22A/mm2로, 생성되는 산화크롬층의 중량은 8 내지 15g/m2로 제어한다.Furthermore, when electroplating chromium oxide, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 60 to 70 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 1 to 2 g/L, and the concentration of sodium hydroxide is 8 to 10 g/L, During the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is controlled to 31 to 35°C, the current density is controlled to 9 to 22A/mm 2 , and the weight of the generated chromium oxide layer is controlled to 8 to 15 g/m 2 .

더 나아가, 상기 기판의 일면은 샌딩면이며, 다른 일면은 미세한 돌 무늬면이다.Furthermore, one side of the substrate is a sanding surface, and the other side is a fine stone pattern surface.

본 발명의 제5 양상은 넥킹캔을 제공하며, 상기 넥킹캔은 상기 주석 도금판 또는 크롬 도금판으로 제조된 것이다.A fifth aspect of the present invention provides a necking can, wherein the necking can is manufactured from the tin plate or chrome plate.

본 발명의 제6 양상은 이지 오픈 뚜껑을 제공하며, 상기 이지 오픈 뚜껑은 상기 주석 도금판으로 제조된 것이다.A sixth aspect of the present invention provides an easy-open lid, wherein the easy-open lid is manufactured from the tin plate.

종래 기술에 비해, 본 발명의 유익한 효과는 다음과 같다. Compared to the prior art, the beneficial effects of the present invention are as follows.

1. 본 발명은 주석 도금/크롬 도금 기판의 새로운 처리 공정을 창의적으로 제안하여, 기판이 내부와 외부의 2가지 상이한 표면을 갖도록 하며, 캔 내벽의 내표면 상에 새로운 표면 형태인 샌딩면을 형성하는 데 사용된다. 이의 거칠기는 0.50 내지 0.80μm이며, 미관적 형태에는 점 모양의 요철이 있는 음영 무늬 및 일부 음영 무늬 상에 위치한 필라멘트형 라인이 포함된다. 이러한 샌딩면이 있는 기판은 주석 도금 또는 크롬 도금 과정에서, 도금층이 기판 표면에 더욱 균일하게 분포될 수 있다. 따라서, 획득된 주석 도금판/크롬 도금판은 넥킹캔 또는 이지 오픈 뚜껑으로 가공할 때, 넥킹부 지점과 사전 스크라이빙 필름 지점의 도금층이 쉽게 파손되지 않아 내식성이 우수하므로 내용물에 의해 부식되지 않는다. 캔 외벽을 형성하는 데 사용되는 외표면은 원래의 표면 형태를 유지할 수 있으므로, 본 발명에 의해 제조된 주석 도금/크롬 도금 기판이 다양한 캔 패키지를 형성하도록 제작될 때, 종래의 캔 패키지의 시각적 특성을 유지할 수 있다. 따라서 새로운 캔 패키지 변경으로 인한 마케팅 비용 발생을 피할 수 있으므로, 본 발명의 기판은 더 강한 보편성을 갖출 수 있다.1. The present invention creatively proposes a new processing process for tin-plated/chrome-plated substrates, allowing the substrate to have two different surfaces, inner and outer, and forming a new surface type, a sanding surface, on the inner surface of the inner wall of the can. It is used to Its roughness is 0.50 to 0.80 μm, and its aesthetic appearance includes shaded patterns with dot-shaped irregularities and filament-like lines located on some of the shaded patterns. During the tin plating or chrome plating process on a substrate with such a sanding surface, the plating layer can be distributed more evenly on the substrate surface. Therefore, when the obtained tin-plated plate/chrome-plated plate is processed into a necking can or an easy-open lid, the plating layer at the necking point and the pre-scribing film point is not easily damaged and has excellent corrosion resistance, so it is not corroded by the contents. . Since the outer surface used to form the outer wall of the can can maintain its original surface shape, when the tin-plated/chrome-plated substrate manufactured by the present invention is fabricated to form various can packages, the visual characteristics of conventional can packages can be maintained. Therefore, marketing costs due to changes in new can packages can be avoided, and the substrate of the present invention can have stronger universality.

2. 본 발명은 종래의 주석 도금 및 크롬 도금 공정을 개선하였고, 새로운 전기도금 공정은 주석 도금층 및 크롬 도금층의 치밀성 및 합금층 도포의 균일성을 향상시켰으며, 공극 깊이를 감소시켜, 도금층이 기판을 더울 잘 보호할 수 있도록 하였고, 나아가 기판의 내식성을 향상시켰다.2. The present invention improves the conventional tin plating and chrome plating processes, and the new electroplating process improves the density of the tin plating layer and the chrome plating layer and the uniformity of alloy layer application, and reduces the void depth, so that the plating layer is attached to the substrate. It was able to protect the body well from heat and further improved the corrosion resistance of the board.

도 1은 넥킹캔의 구조도이다.
도 2는 이지 오픈 뚜껑의 구조도이다.
도 3은 현미경으로 본 R1면의 판면 무늬이다.
도 4는 현미경으로 본 Rs면의 판면 무늬이다.
도 5는 R1 표면(a)와 Rs 표면(b)의 와이어 드로잉 무늬의 개략도이다.
도 6은 종래의 주석 도금 공정(a)과 본 발명의 주석 도금 공정(b)을 사용하였을 때 기판에서 주석층의 표면 형태도이다.
도 7은 종래의 리플로우 공정(a, b, c)과 본 발명의 주석 도금 공정(d, e, f)을 사용할 때 기판에서 합금층의 표면 형태도이다.
도 8은 본 발명의 크롬 금속 전기도금 공정을 이용하여 획득한 크롬 금속층의 표면 형태도이다.
도 9는 본 발명의 산화크롬 전기도금 공정을 채택하여 획득한 금속 크롬층 및 산화 크롬층의 일체 표면 형태도이다.
Figure 1 is a structural diagram of a necking can.
Figure 2 is a structural diagram of the easy-open lid.
Figure 3 is a plate pattern of the R1 surface as seen under a microscope.
Figure 4 is a plate pattern of the Rs surface as seen under a microscope.
Figure 5 is a schematic diagram of the wire drawing patterns of the R1 surface (a) and the Rs surface (b).
Figure 6 is a diagram showing the surface morphology of the tin layer on the substrate when using the conventional tin plating process (a) and the tin plating process (b) of the present invention.
Figure 7 shows the surface morphology of the alloy layer on the substrate when using the conventional reflow process (a, b, c) and the tin plating process (d, e, f) of the present invention.
Figure 8 is a surface morphology diagram of a chrome metal layer obtained using the chrome metal electroplating process of the present invention.
Figure 9 is a diagram showing the integrated surface morphology of the metal chromium layer and the chromium oxide layer obtained by adopting the chromium oxide electroplating process of the present invention.

이하에서는 당업자가 본 발명을 보다 잘 이해하고 실시할 수 있도록 첨부 도면과 구체적인 실시예를 참조하여 본 발명을 설명하였으나, 나열된 실시예는 본 발명을 제한하지 않는다.Hereinafter, the present invention is described with reference to the accompanying drawings and specific examples so that those skilled in the art can better understand and practice the present invention, but the listed examples do not limit the present invention.

달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에 사용된 모든 기술 및 과학 용어는 본 발명에 속하는 당업자에게 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 본 발명의 명세서에서 사용된 용어는 구체적인 실시예를 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니다. 본원에 사용된 용어 "및/또는"은 하나 이상의 관련하여 나열된 항목의 임의의 모든 조합을 포함한다.Unless otherwise defined, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by a person skilled in the art to which the present invention pertains. The terms used in the specification of the present invention are for describing specific embodiments and are not intended to limit the present invention. As used herein, the term “and/or” includes any and all combinations of one or more associated listed items.

배경기술에 설명된 바와 같이, 현재, 넥킹캔(도면 1) 또는 이지 오픈 뚜껑(도면 2)으로 선택된 주석 도금판/크롬 도금판 표면 형태는 R1(미세한 돌 무늬면)이며, 거칠기 Ra는 0.29 내지 0.55μm이고, 판면 무늬는 돌 무늬 모양이고, 와이어 드로잉 느낌이 일반적이며(육안으로는 얇고 얕고 짧은 스크래치와 유사함), 강한 빛이 조사되면 비교적 가벼운 입자감을 나타낸다. 그러나 이러한 주석 도금판/크롬 도금판으로 제작된 넥킹캔 또는 이지 오픈 뚜껑은 사용 과정에서, 넥킹 지점 또는 사전 스크라이빙 필름 지점이 내용물에 의해 부식되기 쉬워, 내식성 요건을 충족시키지 못한다.As explained in the background art, currently, the tin plated/chrome plated surface type selected for necking cans (Figure 1) or easy open lids (Figure 2) is R1 (fine stony surface), with a roughness Ra of 0.29 to 0.29. It is 0.55μm, the surface pattern is stone-like, has a general wire-drawing feel (similar to a thin, shallow, and short scratch to the naked eye), and exhibits a relatively light particle feel when exposed to strong light. However, necking cans or easy-open lids made of these tin-plated/chrome-plated plates do not meet the corrosion resistance requirements because the necking point or the pre-scribing film point is prone to corrosion by the contents during use.

발명자는 오랜 연구를 통해 넥킹 지점 또는 사전 스크라이빙 필름 지점이 내용물에 의해 부식되기 쉬운 주요 원인이 주석 도금/크롬 도금 기판의 표면 형태임을 발견하였다. 종래 기술에서 기판의 내용물 표면은 미세한 돌 무늬면(R1)이기 때문에, 그 표면은 와이어 드로잉의 형태를 갖는다. 와이어 드로잉의 존재로 인해 기판 표면에 현저한 높이차가 나타나며, 도 3에 도시된 바와 같이, 현미경으로 관찰 시, 와이어 드로잉 부위에 심각한 높이 불균형이 나타나는데, 이는 기판 표면에 골이 분포한 것처럼 보인다.Through long-term research, the inventor discovered that the main reason why necking points or pre-scribed film points are susceptible to corrosion by contents is the surface morphology of the tin-plated/chrome-plated substrate. In the prior art, since the content surface of the substrate is a fine stone pattern surface (R1), the surface has the shape of a wire drawing. Due to the presence of the wire drawing, a significant height difference appears on the substrate surface. As shown in FIG. 3, when observed under a microscope, a serious height imbalance appears at the wire drawing area, which appears as if valleys are distributed on the substrate surface.

주석 도금판을 예로 들면, 이러한 기판 상에 주석이 전기도금되면, 주석 증착량이 일정한 경우, 와이어 드로잉이 존재하기 때문에 기판 상의 돌출 부위의 주석 도금량이 오목한 부위보다 클 수 있으므로, 주석의 균일한 증착에 방해가 된다. 리플로우 과정에서, 기판에 증착된 주석이 용융되어 흐르고, 오목한 부위로 흐른 후, 오목한 부위가 주석 용융물의 추가적 흐름을 방해하여, 주석 용융 후의 평탄화를 방해하고, 궁극적으로 합금층 형성에 영향을 미칠 수 있다. 따라서, 미세한 돌 무늬면 상에 주석을 전기도금하면, 주석층의 분포가 고르지 않고, 와이어 드로잉 부위의 주석 함량이 현저하게 적다. 이로 인해 캔이나 뚜껑을 제작하는 과정에서, 넥킹 변형 또는 뚜껑 사전 스크라이빙 필름 과정에서, 와이어 드로잉 부위 자체의 비교적 적은 주석층이 추가적으로 파손되어, 와이어 드로잉 부위의 기재를 보호할 주석층이 없어, 직접 외부로 노출되므로, 와이어 드로잉 부위의 내식성이 급격히 저하된다.Taking a tin-plated plate as an example, when tin is electroplated on such a substrate, if the tin deposition amount is constant, the tin plating amount in the protruding area on the substrate may be larger than the concave area due to the presence of wire drawing, thereby preventing uniform deposition of tin. It's a hindrance. During the reflow process, the tin deposited on the substrate melts and flows into the concave area, and then the concave area obstructs the further flow of the tin melt, preventing flattening after the tin melting and ultimately affecting the formation of the alloy layer. You can. Therefore, when tin is electroplated on a fine stone pattern surface, the distribution of the tin layer is uneven, and the tin content in the wire drawing area is significantly low. As a result, during the process of manufacturing cans or lids, during necking deformation or lid pre-scribing film, the relatively small tin layer of the wire drawing area itself is additionally damaged, and there is no tin layer to protect the substrate of the wire drawing area, Because it is directly exposed to the outside, the corrosion resistance of the wire drawing area is drastically reduced.

크롬 도금판에도 동일한 상황이 존재한다. 기판 표면에 크롬 금속을 전기도금할 때, 도금층 표면의 공극은 비교적 적지만 깊은 피트 형태이다. 이는 주로 크롬 금속 전기도금층이 체심 입방 구조이기 때문에, 전류 밀도가 변경됨에 따라 결정 격자 선호 방향성 성장에 의해 형성된 것이다. 크롬 도금의 전류 효율은 일반적으로 20% 내지 25%이고, 부반응은 수소 발생 반응이므로, 크롬 금속층이 종방향으로 생성하는 공극을 증가시킨다. 더 나아가 기재의 미세한 돌 무늬면 상에 종향을 따라 와이어 드로잉 스크래치가 존재하여, 종방향 공극이 더욱 깊어지며, 이로 인해 크롬 전기도금 과정에서 와이어 드로잉 골 바닥부 크롬 금속의 증착이 더욱 감소하게 된다. 산화크롬층은 망상, 층상 구조이며, 골 정도가 심해짐에 따라, 크롬 금속층에 대한 보호 기능이 더 저하되어 크롬 도금판의 내식성이 저하된다.The same situation exists for chrome-plated plates. When electroplating chromium metal on the surface of a substrate, the pores on the surface of the plating layer are relatively small but take the form of deep pits. This is mainly because the chromium metal electroplating layer has a body-centered cubic structure, and is formed by preferred directional growth of the crystal lattice as the current density changes. The current efficiency of chrome plating is generally 20% to 25%, and since the side reaction is a hydrogen evolution reaction, the pores created by the chrome metal layer in the longitudinal direction are increased. Furthermore, wire drawing scratches exist along the longitudinal direction on the fine stony surface of the substrate, resulting in deeper longitudinal voids, which further reduces the deposition of chromium metal at the bottom of the wire drawing valley during the chrome electroplating process. The chromium oxide layer has a network and layered structure, and as the degree of corrugation increases, the protective function for the chrome metal layer further deteriorates and the corrosion resistance of the chrome-plated plate deteriorates.

현재, 캔 제조 산업에서, 주석 도금판/크롬 도금판의 기판 표면 형태에는 B(광택면), R1(미세한 돌 무늬면), R2(거친 돌 무늬면), S1(은색 표면), S2(거친 은색 표면), M(무광택면)이 있으며, 각 제품 형태 규격 및 표준은 표 1과 같다.Currently, in the can manufacturing industry, the substrate surface types of tin plated/chrome plated plates include B (glossy surface), R1 (fine stone surface), R2 (rough stone surface), S1 (silver surface), S2 (rough surface). There are silver surface) and M (matte surface), and the specifications and standards for each product type are listed in Table 1.

표 1 종래의 주석 도금판/크롬 도금판 제품의 형태 규격 및 표준Table 1 Shape specifications and standards of conventional tin-plated/chrome-plated plate products

발명자들은 상기 표면 형태가 모두 캔, 뚜껑 재료의 내표면으로 적합하지 않음을 발견했다. 종래 기술에서 주석 도금판/크롬 도금판 부식의 문제를 극복하기 위하여, 발명자는 새로운 주석 도금/크롬 도금 기판의 표면 형태를 연구 및 설계하였으며, 샌딩면으로 정의하고, Rs로 표시하였다. 도 4에 도시된 바와 같이, 현미경으로 관찰할 때, 이러한 Rs 표면은 점 모양의 요철이 있는 음영 무늬 및 일부 상기 음영 무늬 상에 위치한 필라멘트형 라인을 구비한다. 상기 음영 무늬와 상기 필라멘트형 라인은 상기 샌딩면의 거칠기가 0.50 내지 0.80μm가 되도록 분포한다. 일반적인 빛 아래에서 관찰하면, Rs 표면에 입자감이 존재하고, 비교적 미세하며, 강한 빛 조사 하에서는 가볍고 미세한 와이어 드로잉 느낌이 존재하고, 판면 광택도가 약간 옅은 은색을 띠며, 빛 반사 성능이 비교적 떨어진다. 도 5에 도시된 바와 같이, R1면과 비교하여, 본 발명의 Rs면의 드로잉 와이어 무늬는 짧고 얕아서 와이어 드로잉(스크래치)의 정도를 감소시키고, 와이어 드로잉으로 인한 기판 골이 전기도금 주석의 증착 및 리플로우 과정에서 주석의 평탄화에 영향을 미치는 것을 제거하므로, 기판 표면을 주석층과 합금층으로 균일하게 덮는다. 더 나아가 주석이 우수한 확장성을 가지고 있기 때문에, 궁극적으로 캔과 뚜껑을 제작하는 과정에서 변형 영역의 내식성을 증가시킨다.The inventors discovered that not all of the above surface shapes are suitable as inner surfaces of can and lid materials. In order to overcome the problem of tin-plated/chrome-plated plate corrosion in the prior art, the inventor studied and designed the surface form of a new tin-plated/chrome-plated substrate, which was defined as a sanding surface and denoted by Rs. As shown in Figure 4, when observed under a microscope, this Rs surface has shading patterns with dot-like irregularities and some filament-like lines located on the shading patterns. The shaded pattern and the filament-like line are distributed so that the roughness of the sanding surface is 0.50 to 0.80 μm. When observed under general light, there is a feeling of grain on the surface of Rs, which is relatively fine. Under strong light irradiation, there is a feeling of light and fine wire drawing, the gloss of the plate surface is slightly silvery, and the light reflection performance is relatively poor. As shown in FIG. 5, compared to the R1 surface, the drawing wire pattern of the Rs surface of the present invention is shorter and shallower, which reduces the degree of wire drawing (scratches), and the substrate corrugation caused by the wire drawing is used for the deposition and deposition of electroplated tin. In the reflow process, anything affecting the flattening of tin is removed, so the substrate surface is uniformly covered with a tin layer and alloy layer. Furthermore, because tin has excellent expansion properties, it ultimately increases the corrosion resistance of the deformation area during the process of manufacturing cans and lids.

본 발명은 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법을 제공하며, 구체적으로 이하의 단계가 포함된다.The present invention provides a method for manufacturing a substrate with a sanding surface, and specifically includes the following steps.

단계 (1) 조질압연기를 제공한다. 상기 조질압연기는 제1 프레임 및 제2 프레임을 포함한다. 상기 제1 프레임은 대향 설치된 제1 작업 롤 및 제3 작업 롤을 포함한다. 상기 제2 프레임은 대향 설치된 제2 작업 롤 및 제4 작업 롤을 포함한다. 상기 제1 작업 롤과 제2 작업 롤은 동일 측에 위치한다. 상기 제1 작업 롤과 제2 작업 롤은 상기 기판의 제1 표면과 접촉하여 상기 샌딩면을 형성하는 데 사용된다.Step (1) Provide a temper rolling mill. The temper rolling mill includes a first frame and a second frame. The first frame includes a first work roll and a third work roll installed opposite each other. The second frame includes opposingly installed second and fourth work rolls. The first work roll and the second work roll are located on the same side. The first work roll and the second work roll are used to contact the first surface of the substrate to form the sanding surface.

여기에서, 상기 제1 작업 롤은 EDT(Electro Discharge Texturing) 롤이고, 상기 제2 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이다. 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.6 내지 2.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.35 내지 0.75μm이다.Here, the first work roll is an EDT (Electro Discharge Texturing) roll, and the second work roll is a grounding smooth surface roll. The roughness of the surface of the first work roll is 1.6 to 2.2 μm, and the roughness of the surface of the second work roll is 0.35 to 0.75 μm.

단계 (2) 냉간 압연될 기판을 상기 조질압연기에 이송하여, 상기 기판이 제1 작업 롤과 제3 작업 롤 사이, 제2 작업 롤과 제4 작업 롤 사이를 순차적으로 통과하여, 상기 기판의 제1 표면에 상기 샌딩면을 형성하도록 한다.Step (2) Transfer the substrate to be cold rolled to the temper rolling mill, so that the substrate sequentially passes between the first work roll and the third work roll and between the second work roll and the fourth work roll, 1 Form the above sanding surface on the surface.

EDT 롤은 EDT(Electro Discharge Texturing) 기술로 제조된 롤이며, 이는 EDT 방전 원리를 기반으로 롤 표면에 피트 형태의 버(burr)를 생성하고, EDT 롤의 압연에 의해, 기판 표면에 입자상의 형태가 형성될 수 있다. 그라운딩 활면 롤은 그라인딩 공정을 기반으로 롤 표면에 형성되며, 그라운딩 활면 롤의 압연에 의해, 기판 표면에 와이어 드로잉의 형태가 형성될 수 있다. 본 발명에서는, 제1 작업 롤과 제2 작업 롤 표면의 형태 및 거칠기를 제어함으로써, 외부에서 인가되는 압연력의 작용 하에서, 롤면의 형태와 거칠기가 기판의 표면에 인쇄되므로, 기판 표면에 상기 샌딩면 형태가 형성된다. 바람직하게는, 제1 프레임이 제1 작업 롤에 인가하는 압연력은 3500 내지 4500kN이고, 제2 프레임이 제2 작업 롤에 인가하는 압연력은 3500 내지 4000kN이다.The EDT roll is a roll manufactured using EDT (Electro Discharge Texturing) technology, which creates pit-shaped burrs on the roll surface based on the EDT discharge principle, and forms particle shapes on the surface of the substrate by rolling the EDT roll. can be formed. The grounding smooth surface roll is formed on the roll surface based on a grinding process, and the shape of a wire drawing can be formed on the surface of the substrate by rolling the grounding smooth surface roll. In the present invention, by controlling the shape and roughness of the surfaces of the first work roll and the second work roll, the shape and roughness of the roll surface are printed on the surface of the substrate under the action of an externally applied rolling force, so that the sanding is performed on the surface of the substrate. A face shape is formed. Preferably, the rolling force applied by the first frame to the first work roll is 3500 to 4500 kN, and the rolling force applied by the second frame to the second work roll is 3500 to 4000 kN.

제1 작업 롤와 제2 작업 롤은 일정 시간 사용 후 교체해야 하며, 교체가 필요한지 여부는 롤 교체 주기 또는 압연 톤수에 따라 결정할 수 있다. 그 중 롤 교체 주기는 작업 롤이 압연하는 기재의 총 길이를 의미하며, 압연 톤수는 작업 롤이 압연하는 기재의 총 중량을 의미한다. 예를 들어, 롤 교체 주기가 120km라는 것은, 작업 롤이 120km 기재를 압연한 후 작업을 중지하고 롤을 교체해야 함을 의미한다. 마찬가지로 압연 톤수가 150톤인 것은, 작업 롤이 150톤 기재를 압연한 후 작업을 중지하고 롤을 교체해야 함을 의미한다. 본 발명에서, 상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤의 롤 교체 주기는 120±20km이 바람직하고, 압연 톤수는 150±30t이 바람직하다.The first work roll and the second work roll must be replaced after being used for a certain period of time, and whether replacement is necessary can be determined according to the roll replacement cycle or rolling tonnage. Among them, the roll replacement cycle refers to the total length of the substrate rolled by the work roll, and the rolling tonnage refers to the total weight of the substrate rolled by the work roll. For example, a roll replacement cycle of 120 km means that after the work roll has rolled 120 km of substrate, work must be stopped and the roll replaced. Likewise, a rolling tonnage of 150 tons means that after the work rolls have rolled 150 tons of substrate, work must be stopped and the rolls replaced. In the present invention, the roll replacement cycle of the first work roll and the second work roll is preferably 120 ± 20 km, and the rolling tonnage is preferably 150 ± 30 tons.

더 나아가, 발명자는 종래의 양면 R1면의 생산 제조 공정을 포기하고, 새로운 차별화된 표면 형태 제어를 사용하였으며, 캔 외표면은 여전히 원래 R1면을 채택하고, 내표면은 본 발명의 Rs면을 채택하여, 차별화된 형태의 기판 Rs/R1을 획득하였다. 차별화된 형태 제어를 통해(Rs 내용물면/R1 외표면), 기판의 전기도금 과정에서 도금층 커버의 치밀성과 균일성을 향상시켜, 기재가 팽창 및 수축할 때 변형 및 균열이 쉽게 발생하지 않으므로, 캔 내부의 내식성이 향상되는 동시에 캔 외부의 가시성도 보장한다. 이러한 Rs/R1 차별화 형태의 기판은 주석 도금 후, 넥킹캔 또는 이지 오픈 뚜껑 제조에 사용될 수 있으며, 크롬 도금 후 넥킹캔 제조에 사용될 수 있다.Furthermore, the inventor abandoned the production manufacturing process of the conventional double-sided R1 side, used a new differentiated surface shape control, and the outer surface of the can still adopts the original R1 side, and the inner surface adopts the Rs side of the present invention. Thus, a differentiated type of substrate Rs/R1 was obtained. Through differentiated shape control (Rs content surface/R1 outer surface), the density and uniformity of the plating layer cover are improved during the electroplating process of the substrate, and deformation and cracking do not easily occur when the substrate expands and contracts, making the can Internal corrosion resistance is improved while also ensuring visibility outside the can. This Rs/R1 differentiated type substrate can be used to manufacture necking cans or easy-open lids after tin plating, and can be used to manufacture necking cans after chrome plating.

상기 기판은 캔 제조 업계에서 일반적으로 사용하는 기판 재질이며, 바람직하게는 MR형, L형 또는 D형 원판강이다.The substrate is a substrate material commonly used in the can manufacturing industry, and is preferably MR-type, L-type, or D-type disk steel.

상기 Rs/R1 차별화 형태의 기판은 제3 작업 롤, 제4 작업 롤의 종류와 표면 거칠기 및 압연력 제어를 통해 제조하여 얻을 수 있다. 구체적으로, 상기 제3 작업 롤은 EDT 롤이고, 상기 제4 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 2.0±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 1.2±0.2μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 미세한 돌 무늬면을 형성한다(R1).The Rs/R1 differentiated type substrate can be manufactured by controlling the types of the third and fourth work rolls, surface roughness, and rolling force. Specifically, the third work roll is an EDT roll, the fourth work roll is a grounding smooth surface roll, the roughness of the surface of the first work roll is 2.0 ± 0.2 μm, and the roughness of the surface of the second work roll is 0.40 ± 0.40 μm. 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 1.2 ± 0.2 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.40 ± 0.05 μm, the rolling force of the first frame is 4000 ± 100 kN, and the second The rolling force of the frame is 3500 ± 100 kN, and after the substrate is cold rolled by a temper rolling mill, a fine stone pattern is formed on the second surface (R1).

동일한 방법을 통해, 제2 표면이 다른 형태인 차별화된 형태의 기판을 획득할 수 있으며, 예를 들어 Rs/B 기판, Rs/R2 기판 등이 있다.Through the same method, differentiated types of substrates with different second surfaces can be obtained, for example, Rs/B substrates, Rs/R2 substrates, etc.

상기 Rs/B 기판의 제조 방법은 다음과 같다: 상기 제3 작업 롤 및 상기 제4 작업 롤이 모두 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.8±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 광택면을 형성한다(B).The manufacturing method of the Rs/B substrate is as follows: the third work roll and the fourth work roll are both ground smooth rolls, the roughness of the surface of the first work roll is 1.8 ± 0.2 μm, and the second work roll is The roughness of the roll surface is 0.70 ± 0.05 μm, the roughness of the third work roll surface is 0.70 ± 0.05 μm, the roughness of the fourth work roll surface is 0.40 ± 0.05 μm, and the rolling force of the first frame is 3500 ±100kN, the rolling force of the second frame is 3500±100kN, and the substrate is cold rolled by a temper rolling mill to form a glossy surface on the second surface (B).

상기 Rs/R2 기판의 제조 방법은 다음과 같다: 상기 제3 작업 롤은 EDT 롤이고, 상기 제4 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 2.0±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 1.5±0.2μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 거친 돌 무늬면을 형성한다(R2).The manufacturing method of the Rs/R2 substrate is as follows: the third work roll is an EDT roll, the fourth work roll is a grounding smooth surface roll, the roughness of the first work roll surface is 2.0 ± 0.2 μm, and the first work roll is an EDT roll. The roughness of the surface of the 2 work roll is 0.40 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 1.5 ± 0.2 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.70 ± 0.05 μm, and the rolling force of the first frame is 4000 ± 100 kN, the rolling force of the second frame is 4000 ± 100 kN, and the substrate is cold rolled by a temper rolling mill to form a rough stone-patterned surface on the second surface (R2).

표 2는 상기 몇 가지 차별화된 형태의 기판을 제조하는 롤 배치 방식을 상세하게 도시한 것이다.Table 2 shows in detail the roll arrangement method for manufacturing the several differentiated types of substrates.

표 2 차별화 형태의 금속 기판의 조질압연기 롤 배치 방식Table 2 Temper rolling mill roll arrangement method for differentiated types of metal substrates

물론, 다운스트림 사용자의 상이한 요구에 따라, 동일한 방법을 사용하여 기타 여러 차별화 형태의 기판 Rs/S1, Rs/S2s, Rs/M을 제조할 수도 있으며, 구체적인 방법은 여기에서 반복하여 설명하지 않는다.Of course, according to the different needs of downstream users, the same method may be used to manufacture various other differentiated types of substrates Rs/S1, Rs/S2s, and Rs/M, and the specific methods will not be repeated here.

기판의 표면 형태 외에도, 전기도금 공정이 주석 도금판/크롬 도금판의 내식 성능에 미치는 영향도 무시할 수 없다. 따라서, 본 발명은 기판의 주석 전기도금 및 리플로우 공정에 대해 추가로 연구하였다.In addition to the surface shape of the substrate, the effect of the electroplating process on the corrosion resistance performance of the tin-plated sheet/chrome-plated sheet cannot be ignored. Therefore, the present invention further studied the tin electroplating and reflow processes of the substrate.

표 3 종래의 주석 전기도금 공정 매개변수Table 3 Conventional tin electroplating process parameters

주석 도금판 표면을 현미경으로 관찰한 결과, 종래의 주석 전기도금 공정을 이용하여, 기판의 표면에 주석층과 합금층이 모두 조밀하게 덮여 있지 않음을 알 수 있다. 도 6(a)에 도시된 바와 같이, 주석층의 결정립이 조대하고 느슨하며, 결정립과 결정립 사이 간극이 커, 주석 도금판의 내식성이 떨어진다. 따라서, 주석 도금판의 내식성을 향상시키기 위해, 주석층의 치밀성과 합금층의 커버력을 향상시키는 것이 가장 중요한 방법이다.As a result of observing the surface of the tin plating plate under a microscope, it can be seen that both the tin layer and the alloy layer are not densely covered on the surface of the substrate using the conventional tin electroplating process. As shown in Figure 6(a), the crystal grains of the tin layer are coarse and loose, and the gap between the crystal grains is large, so the corrosion resistance of the tin plate is poor. Therefore, in order to improve the corrosion resistance of a tin plated plate, the most important method is to improve the density of the tin layer and the covering power of the alloy layer.

발명자는 종래의 주석 전기도금 공정을 개선하기 위하여, 새로운 주석 전기도금 공정을 제공하였으며, 구체적으로 표 4와 같다. 주석 금속 전기도금 시, 전기도금액 중 2가 주석의 농도는 15 내지 25g/L이고, 메탄술폰산의 농도는 30 내지 50mL/L이고, 산화방지제의 농도는 35 내지 60mL/L이고, 첨가제의 농도는 25 내지 30mL/L이다. 전기도금 과정에서 전기도금액의 온도는 38 내지 45℃로, 전류 밀도는 22 내지 28A/mm2로 제어한다. 바람직하게는, 전기도금액 중 2가 주석의 농도는 20g/L로, 메탄술폰산의 농도는 40mL/L로, 산화방지제의 농도는 45mL/L로, 첨가제의 농도는 25mL/L로 제어하고, 전기도금액의 온도는 42℃로, 전류 밀도는 25A/mm2로 제어한다.In order to improve the conventional tin electroplating process, the inventor provided a new tin electroplating process, specifically as shown in Table 4. During tin metal electroplating, the concentration of divalent tin in the electroplating solution is 15 to 25 g/L, the concentration of methanesulfonic acid is 30 to 50 mL/L, the concentration of antioxidant is 35 to 60 mL/L, and the concentration of additives. is 25 to 30 mL/L. During the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is controlled to 38 to 45°C and the current density is controlled to 22 to 28A/mm 2 . Preferably, the concentration of divalent tin in the electroplating solution is controlled to 20 g/L, the concentration of methanesulfonic acid is controlled to 40 mL/L, the concentration of antioxidant is controlled to 45 mL/L, and the concentration of additives is controlled to 25 mL/L, The temperature of the electroplating solution is controlled at 42°C and the current density is controlled at 25A/mm 2 .

상기 산화방지제는 페놀, 히드로퀴논, 레조르시놀 및 카테콜 중 하나 이상을 포함하되 이에 국한되지 않는, 당업계에서 일반적으로 사용되는 산화제로부터 선택될 수 있다는 점에 유의한다. 본 발명에서, 사용된 산화방지제는 Quaker QUAKERTIN TPMW AOX 산화방지제이다. 상기 첨가제는 계면활성제, 결정립 미세화제 중 하나 이상을 포함하되 이에 국한되지 않는, 당업계에서 일반적으로 사용되는 첨가제를 선택할 수 있다. 본 발명에서, 사용된 첨가제는 Quaker QUAKERTIN Additive 첨가제이다.Note that the antioxidant may be selected from oxidizing agents commonly used in the art, including but not limited to one or more of phenol, hydroquinone, resorcinol, and catechol. In the present invention, the antioxidant used is Quaker QUAKERTIN TPMW AOX antioxidant. The additives may be selected from additives commonly used in the art, including but not limited to one or more of surfactants and grain refiners. In the present invention, the additive used is Quaker QUAKERTIN Additive additive.

표 4 본 발명의 주석 전기도금 공정 매개변수Table 4 Tin electroplating process parameters of the present invention

본 발명의 개선된 전기도금 공정을 채택하여 주석 도금을 수행하며, 기판 상의 주석층의 표면 형태는 도 6(b)에 도시된 바와 같다. 도면에서 알 수 있듯이, 주석층은 결정립이 치밀하고 세밀하며 결정립과 결정립 사이 간격이 작아, 기판을 더욱 잘 보호하고 기판의 내식성을 향상시킬 수 있다.Tin plating is performed by adopting the improved electroplating process of the present invention, and the surface shape of the tin layer on the substrate is as shown in Figure 6(b). As can be seen from the figure, the tin layer has dense and fine crystal grains and the spacing between grains is small, which can better protect the substrate and improve the corrosion resistance of the substrate.

주석 전기도금 후, 리플로우 공정을 통해 주석층을 용융 및 유동시켜 합금층을 획득함으로써, 주석 도금층의 균일성을 향상시킬 수 있다. 표 5는 종래의 주석 전기도금 및 리플로우 공정 매개변수를 나열하였다.After tin electroplating, the uniformity of the tin plating layer can be improved by melting and flowing the tin layer through a reflow process to obtain an alloy layer. Table 5 lists conventional tin electroplating and reflow process parameters.

표 5 종래의 주석 전기도금 및 리플로우 공정 매개변수Table 5 Conventional tin electroplating and reflow process parameters

도 7(a) 내지 (c)에 도시된 바와 같이, 종래의 리플로우 공정을 채택하여 형성된 합금층 결정립은 비교적 미세하므로 내식성도 비교적 떨어진다.As shown in FIGS. 7(a) to 7(c), the crystal grains of the alloy layer formed by adopting a conventional reflow process are relatively fine, and thus the corrosion resistance is also relatively poor.

본 발명은 리플로우 공정도 개선하였으며, 구체적으로 표 6과 같다. 리플로우 시, 사용되는 리플로우 박스 높이는 3.5 내지 5.5m이고, 리플로우 설정 온도는 260 내지 290℃, 리플로우 피드백 온도는 255 내지 295℃, 리플로우 출력 비중은 30% 내지 50%이다. 바람직하게는, 사용되는 리플로우 박스 높이는 4.5m, 리플로우 설정 온도는 270℃, 리플로우 피드백 온도는 275℃, 리플로우 출력 비중은 40%이다.The present invention also improved the reflow process, specifically as shown in Table 6. During reflow, the height of the reflow box used is 3.5 to 5.5 m, the reflow set temperature is 260 to 290 ° C, the reflow feedback temperature is 255 to 295 ° C, and the reflow output proportion is 30% to 50%. Preferably, the height of the reflow box used is 4.5 m, the reflow set temperature is 270°C, the reflow feedback temperature is 275°C, and the reflow output proportion is 40%.

표 6 본 발명의 리플로우 공정 매개변수Table 6 Reflow process parameters of the present invention

본 발명의 리플로우 공정을 채택하여, 획득한 합금층의 표면 형태는 도 7(d) 내지 (f)에 도시된 바와 같다. 도면에서 알 수 있듯이, 합금층 결정립이 조대하고 기둥형이며 연속성이 우수하므로 내식성도 더 우수하다.The surface shape of the alloy layer obtained by adopting the reflow process of the present invention is as shown in Figures 7(d) to (f). As can be seen from the figure, the alloy layer crystal grains are coarse, columnar, and have excellent continuity, so corrosion resistance is also superior.

더 나아가, 본 발명은 기판의 크롬 도금 공정에 대해서도 연구하였다.Furthermore, the present invention also studied the chrome plating process of the substrate.

전술한 바와 같이, 종래의 공정(표 7에 도시된 바와 같음)으로 크롬 금속 전기도금을 수행할 때, 결정 격자 선호 방향성 성장 및 크롬 도금 공정 자체의 특성(전류 효율이 낮으며, 일반적으로 20% 내지 25%이고, 부반응은 수소 발생 반응임)으로 인해, 크롬 금속층이 종방향을 따라 깊은 피트형의 공극을 생성하도록 한다. 따라서 크롬 금속 증착 과정에서 결정립의 치밀성을 향상시키고, 공극 깊이를 감소시키는 것은 크롬 도금판 내식성을 향상시키는 주요한 조치이다.As mentioned above, when performing chromium metal electroplating with conventional processes (as shown in Table 7), the crystal lattice prefers directional growth and the characteristics of the chrome plating process itself (current efficiency is low, typically 20%). to 25%, and the side reaction is a hydrogen evolution reaction), causing the chromium metal layer to create deep pit-shaped pores along the longitudinal direction. Therefore, improving the density of grains and reducing the void depth during the chromium metal deposition process is a major measure to improve the corrosion resistance of chrome plated sheets.

표 7 종래의 크롬 금속 전기도금 공정 매개변수Table 7 Conventional chrome metal electroplating process parameters

본 발명의 크롬 금속 전기도금도 개선하였으며, 이는 표 8과 같다. 크롬 금속을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산 농도는 140 내지 160g/L, 불화암모늄의 농도는 3 내지 4g/L, 제1 회수홈 내 무수크롬산 농도는 ≤50g/L, 제2 회수홈 내 무수크롬산 농도는 ≤40g/L이다. 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 33 내지 43℃, 전류 밀도는 25 내지 100A/mm2로 제어한다. 바람직하게는, 크롬 금속을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산 농도는 150g/L, 불화암모늄의 농도는 3.5g/L, 제1 회수홈 내 무수크롬산 농도는 30g/L, 제2 회수홈 내 무수크롬산 농도는 10g/L이다. 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 38℃, 전류 밀도는 65A/mm2로 제어한다.The chromium metal electroplating of the present invention was also improved, as shown in Table 8. When electroplating chromium metal, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 140 to 160 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 3 to 4 g/L, the concentration of chromic anhydride in the first recovery groove is ≤50 g/L, and the concentration of chromate in the second recovery groove is ≤50 g/L. The concentration of chromate anhydride in the groove is ≤40g/L. During the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is controlled to 33 to 43°C and the current density is controlled to 25 to 100 A/mm 2 . Preferably, when electroplating chromium metal, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 150 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 3.5 g/L, the concentration of chromic anhydride in the first recovery groove is 30 g/L, and the concentration of chromate in the second recovery groove is 30 g/L. The concentration of chromic anhydride in the groove is 10g/L. During the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is controlled to 38°C and the current density is controlled to 65A/mm 2 .

표 8 본 발명의 크롬 금속 전기도금 공정 매개변수Table 8 Chrome metal electroplating process parameters of the present invention

상기 크롬 금속 전기도금 공정을 채택하여, 획득한 크롬 금속층의 표면 형태는 도 8에 도시된 바와 같다. 도면에서 알 수 있듯이, 상기 전기도금 공정을 통해 얕은 피트 깊이와 치밀한 크롬 금속층을 획득할 수 있으며, 이러한 형태의 크롬 금속층은 기판을 더 잘 보호하고 내식성을 향상시킬 수 있다.The surface shape of the chrome metal layer obtained by adopting the above chrome metal electroplating process is as shown in FIG. 8. As can be seen from the figure, a shallow pit depth and a dense chromium metal layer can be obtained through the electroplating process, and this type of chromium metal layer can better protect the substrate and improve corrosion resistance.

크롬 전기도금 과정에서, 크롬 금속과 산화크롬 사이의 작용은 상호적이다. 즉, 크롬 금속이 증착되는 동시에 산화크롬이 생성되고, 산화크롬이 증착되는 동시에 크롬 금속도 생성되어, 서로 함께 교차한다. 표 9에서 알 수 있듯이, 종래의 공정을 채택하여 산화크롬 전기도금을 수행할 때, 생성되는 산화크롬층의 주요 성분은 Cr2O3, CrOOH, Cr(OH)3이며, 표면 공극은 평평하고 미세하다. 이는 망상, 층상 구조이며, 주로 크롬 금속층의 미세한 공극을 차단하는 역할을 한다. 따라서 산화크롬층 망상 구조의 치밀성을 개선하여, 크롬 도금판의 내식성도 향상시킬 수 있다.In the chromium electroplating process, the action between chromium metal and chromium oxide is reciprocal. That is, chromium oxide is produced at the same time that chromium metal is deposited, and chromium metal is also produced at the same time that chromium oxide is deposited, and they intersect with each other. As can be seen in Table 9, when performing chromium oxide electroplating by adopting a conventional process, the main components of the generated chromium oxide layer are Cr 2 O 3 , CrOOH, and Cr(OH) 3 , and the surface pores are flat and Fine. It has a network, layered structure, and mainly serves to block the fine pores in the chromium metal layer. Therefore, by improving the density of the network structure of the chromium oxide layer, the corrosion resistance of the chrome plated plate can also be improved.

표 9 종래의 산화크롬 전기도금 공정 매개변수Table 9 Conventional chromium oxide electroplating process parameters

산화크롬층 망상 구조의 치밀성을 향상시키기 위해, 본 발명은 산화크롬 전기도금 공정을 개선하였으며, 이는 표 10과 같다. 산화크롬을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산의 농도는 60 내지 70g/L, 불화암모늄의 농도는 1 내지 2g/L, 수산화나트륨의 농도는 6 내지 12g/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 27 내지 37℃로, 전류 밀도는 9 내지 22A/mm2로, 생성되는 산화크롬층의 중량은 8 내지 15g/m2로 제어한다. 바람직하게는, 산화크롬을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산의 농도는 65g/L, 불화암모늄의 농도는 1.5g/L, 수산화나트륨의 농도는 9g/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 32℃로, 전류 밀도는 19A/mm2로, 생성되는 산화크롬층의 중량은 ≥10g/m2로 제어한다.In order to improve the density of the chromium oxide layer network structure, the present invention improved the chromium oxide electroplating process, which is shown in Table 10. When electroplating chromium oxide, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 60 to 70 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 1 to 2 g/L, and the concentration of sodium hydroxide is 6 to 12 g/L, and during the electroplating process, , the temperature of the electroplating solution is controlled at 27 to 37°C, the current density is controlled at 9 to 22A/mm 2 , and the weight of the chromium oxide layer produced is controlled at 8 to 15 g/m 2 . Preferably, when electroplating chromium oxide, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 65 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 1.5 g/L, and the concentration of sodium hydroxide is 9 g/L, and during the electroplating process, The temperature of the electroplating solution is controlled to 32°C, the current density is controlled to 19A/mm 2 , and the weight of the generated chromium oxide layer is controlled to ≥10g/m 2 .

표 10 본 발명의 산화크롬 전기도금 공정 매개변수Table 10 Chromium oxide electroplating process parameters of the present invention

상기 산화크롬 전기도금 공정을 채택하여 획득한 금속 크롬층 및 산화 크롬층의 일체 표면 형태는 도 9에 도시된 바와 같다. 도면에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 산화크롬 전기도금 공정은 치밀한 망상 산화크롬층을 형성하여 크롬 도금판의 내식성 향상에 도움이 된다.The integrated surface morphology of the metal chromium layer and the chromium oxide layer obtained by adopting the chromium oxide electroplating process is shown in FIG. 9. As can be seen from the drawing, the chromium oxide electroplating process according to the present invention helps improve the corrosion resistance of the chrome plated plate by forming a dense network chromium oxide layer.

요약하면, 본 발명은 새로운 주석 도금/크롬 도금 기판의 표면 형태 Rs를 제공하며, 이러한 표면 형태를 갖는 기판은 전기도금 과정에서, 도금층의 분포를 더욱 균일하게 하여, 넥킹캔/이지 오픈 뚜껑 제조 과정에서, 넥킹 지점과 사전 스크라이빙 필름 지점의 도금층이 쉽게 변형 파열되지 않아, 넥킹캔/이지 오픈 뚜껑의 내식성이 향상된다. 더 나아가, 본 발명은 주석 도금 및 크롬 도금 공정을 개선하여, 도금층의 치밀성을 향상시켜 넥킹캔/이지 오픈 뚜껑의 내식성을 개선할 수 있다.In summary, the present invention provides a new tin-plated/chrome-plated substrate with a surface shape Rs, and the substrate having this surface shape allows the distribution of the plating layer to be more uniform during the electroplating process, and is used in the necking can/easy-open lid manufacturing process. In this way, the plating layer at the necking point and the pre-scribing film point is not easily deformed or ruptured, improving the corrosion resistance of the necking can/easy open lid. Furthermore, the present invention can improve the corrosion resistance of necking cans/easy-open lids by improving the tin plating and chrome plating processes and improving the density of the plating layer.

상술한 실시예들은 본 발명을 완전하게 설명하기 위한 바람직한 실시예에 불과하며, 본 발명의 보호 범위가 이에 한정되는 것은 아니다. 당업자가 본 발명을 기반으로 수행한 등가의 대체 또는 변형은 모두 본 발명의 보호 범위에 속한다. 본 발명의 보호 범위는 청구범위를 기준으로 한다.The above-described embodiments are only preferred embodiments to completely explain the present invention, and the scope of protection of the present invention is not limited thereto. Any equivalent replacement or modification made by a person skilled in the art based on the present invention shall fall within the protection scope of the present invention. The scope of protection of the present invention is based on the claims.

Claims (20)

샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법에 있어서,
이하의 단계,
제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하는 조질압연기를 제공하고;
상기 제1 프레임은 대향 설치된 제1 작업 롤 및 제3 작업 롤을 포함하고, 상기 제2 프레임은 대향 설치된 제2 작업 롤 및 제4 작업 롤을 포함하고;
상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤은 동일 측에 위치하고, 상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤은 상기 기판의 제1 표면과 접촉되어 상기 샌딩면을 형성하는 데 사용되고, 여기에서;
상기 제1 작업 롤은 EDT(Electro Discharge Texturing) 롤이고, 상기 제2 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고; 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.6 내지 2.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.35 내지 0.75μm이고;
냉간 압연될 기판을 상기 조질압연기에 이송하여, 상기 기판이 제1 작업 롤과 제3 작업 롤 사이, 제2 작업 롤과 제4 작업 롤 사이를 순차적으로 통과하여, 상기 기판의 제1 표면에 상기 샌딩면을 형성하도록 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법.
In the method of manufacturing a substrate having a sanding surface,
The following steps,
Providing a temper rolling mill including a first frame and a second frame;
The first frame includes a first work roll and a third work roll installed oppositely, and the second frame includes a second work roll and a fourth work roll installed oppositely;
The first work roll and the second work roll are located on the same side, and the first work roll and the second work roll are used to contact the first surface of the substrate to form the sanding surface, wherein;
The first work roll is an Electro Discharge Texturing (EDT) roll, and the second work roll is a grounding smoothing roll; The roughness of the surface of the first work roll is 1.6 to 2.2 μm, and the roughness of the surface of the second work roll is 0.35 to 0.75 μm;
The substrate to be cold rolled is transferred to the temper rolling mill, so that the substrate sequentially passes between the first work roll and the third work roll and between the second work roll and the fourth work roll, and is attached to the first surface of the substrate. A method of manufacturing a substrate having a sanding surface, comprising: forming a sanding surface.
제1항에 있어서,
상기 제1 프레임의 압연력은 3500 내지 4500kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500 내지 4000kN인 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법.
According to paragraph 1,
A method of manufacturing a substrate having a sanding surface, characterized in that the rolling force of the first frame is 3500 to 4500 kN, and the rolling force of the second frame is 3500 to 4000 kN.
제1항에 있어서,
상기 제1 작업 롤 및 제2 작업 롤의 롤 교체 주기는 120±20km이고, 압연 톤수는 150±30t인 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법.
According to paragraph 1,
A method of manufacturing a substrate having a sanding surface, characterized in that the roll replacement cycle of the first work roll and the second work roll is 120 ± 20 km, and the rolling tonnage is 150 ± 30 tons.
제1항에 있어서,
상기 기판의 제2 표면이 광택면일 때, 상기 제3 작업 롤 및 상기 제4 작업 롤이 모두 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 1.8±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500±100kN이고; 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 제2 표면에 광택면을 형성하는 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법.
According to paragraph 1,
When the second surface of the substrate is a glossy surface, both the third work roll and the fourth work roll are ground smooth surface rolls, the roughness of the first work roll surface is 1.8 ± 0.2 μm, and the second work roll surface The roughness of the third work roll surface is 0.70 ± 0.05 μm, the roughness of the fourth work roll surface is 0.40 ± 0.05 μm, and the rolling force of the first frame is 3500 ± 100 kN. and the rolling force of the second frame is 3500±100kN; A method of manufacturing a substrate with a sanded surface, characterized in that the substrate is cold rolled by a temper rolling mill and then a glossy surface is formed on the second surface.
제1항에 있어서,
상기 기판의 제2 표면이 미세한 돌 무늬면일 때, 상기 제3 작업 롤은 EDT 롤이고, 상기 제4 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 2.0±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 1.2±0.2μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 3500±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 이의 제2 표면에 미세한 돌 무늬면을 형성하는 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법.
According to paragraph 1,
When the second surface of the substrate is a fine stone surface, the third work roll is an EDT roll, the fourth work roll is a grounding smooth surface roll, the roughness of the first work roll surface is 2.0 ± 0.2 μm, and The roughness of the surface of the second work roll is 0.40 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 1.2 ± 0.2 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.40 ± 0.05 μm, and the rolling of the first frame The force is 4000 ± 100 kN, the rolling force of the second frame is 3500 ± 100 kN, and the substrate is cold rolled by a temper rolling mill, and then a sanding surface characterized in that a fine stone pattern is formed on the second surface. A method of manufacturing a substrate having a.
제1항에 있어서,
상기 기판의 제2 표면이 거친 돌 무늬면일 때, 상기 제3 작업 롤은 EDT 롤이고, 상기 제4 작업 롤은 그라운딩 활면 롤이고, 상기 제1 작업 롤 표면의 거칠기는 2.0±0.2μm이고, 상기 제2 작업 롤 표면의 거칠기는 0.40±0.05μm이고, 상기 제3 작업 롤 표면의 거칠기는 1.5±0.2μm이고, 상기 제4 작업 롤 표면의 거칠기는 0.70±0.05μm이고, 상기 제1 프레임의 압연력은 4500±100kN이고, 상기 제2 프레임의 압연력은 4000±100kN이고, 상기 기판은 조질압연기에 의해 냉간 압연된 후, 이의 제2 표면에 거친 돌 무늬면을 형성하는 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판의 제조 방법.
According to paragraph 1,
When the second surface of the substrate is a rough stone surface, the third work roll is an EDT roll, the fourth work roll is a grounding smooth surface roll, the roughness of the first work roll surface is 2.0 ± 0.2 μm, and The roughness of the surface of the second work roll is 0.40 ± 0.05 μm, the roughness of the surface of the third work roll is 1.5 ± 0.2 μm, the roughness of the surface of the fourth work roll is 0.70 ± 0.05 μm, and the rolling of the first frame The force is 4500 ± 100 kN, the rolling force of the second frame is 4000 ± 100 kN, and the substrate is cold rolled by a temper rolling mill, and then a sanding surface characterized in that a rough stone pattern is formed on the second surface. A method of manufacturing a substrate having a.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 제조 방법을 사용하여 제조된 샌딩면을 갖는 기판에 있어서,
상기 기판의 일면은 샌딩면이고, 다른 일면은 비샌딩면이고, 상기 샌딩면은 점 모양의 요철이 있는 음영 무늬 및 일부 상기 음영 무늬 상에 위치한 필라멘트형 라인을 포함하고, 상기 음영 무늬와 상기 필라멘트형 라인은 상기 샌딩면의 거칠기를 0.05 내지 0.80μm가 되도록 분포하는 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판.
In the substrate having a sanded surface manufactured using the manufacturing method according to any one of claims 1 to 6,
One side of the substrate is a sanding surface, and the other surface is a non-sanding surface, and the sanding surface includes a shaded pattern with point-shaped irregularities and a filament-like line partially located on the shaded pattern, and the shaded pattern and the filament A substrate having a sanding surface, characterized in that the mold line distributes the roughness of the sanding surface to be 0.05 to 0.80 μm.
제7항에 있어서,
상기 기판의 재질은 MR형, L형 또는 D형 원판강인 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판.
In clause 7,
A substrate having a sanding surface, characterized in that the material of the substrate is MR-type, L-type, or D-type disk steel.
제7항에 있어서,
상기 비샌딩면은 광택면, 미세한 돌 무늬면, 거친 돌 무늬면, 은색 표면, 거친 은색 표면 또는 무광택면인 것을 특징으로 하는 샌딩면을 갖는 기판.
In clause 7,
A substrate having a sanding surface, wherein the non-sanding surface is a glossy surface, a fine stone pattern surface, a rough stone pattern surface, a silver surface, a rough silver surface, or a matte surface.
주석 도금판에 있어서,
상기 주석 도금판은 제7항에 따른 기판 표면에 주석 금속 전기도금 및 리플로우(reflow)를 수행하여 획득되는 것을 특징으로 하는 주석 도금판.
In the tin plate,
The tin-plated plate is obtained by performing tin metal electroplating and reflow on the surface of the substrate according to claim 7.
제10항에 있어서,
주석 금속 전기도금 시, 전기도금액 중 2가 주석의 농도는 20 내지 25g/L이고, 메탄술폰산의 농도는 30 내지 50mL/L이고, 산화방지제의 농도는 35 내지 60mL/L이고, 첨가제의 농도는 20 내지 30 mL/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 38 내지 45℃로, 전류 밀도는 22 내지 28A/mm2로 제어하는 것을 특징으로 하는 주석 도금판.
According to clause 10,
During tin metal electroplating, the concentration of divalent tin in the electroplating solution is 20 to 25 g/L, the concentration of methanesulfonic acid is 30 to 50 mL/L, the concentration of antioxidant is 35 to 60 mL/L, and the concentration of additives. is 20 to 30 mL/L, and during the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is controlled to 38 to 45°C and the current density is controlled to 22 to 28A/mm 2 .
제10항에 있어서,
리플로우 시, 리플로우 설정 온도는 260 내지 290℃이고, 리플로우 피드백 온도는 255 내지 295℃이고, 리플로우 출력 비중은 30% 내지 50%인 것을 특징으로 하는 주석 도금판.
According to clause 10,
When reflowing, the reflow set temperature is 260 to 290°C, the reflow feedback temperature is 255 to 295°C, and the reflow output proportion is 30% to 50%.
제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판의 일면은 샌딩면이며, 다른 일면은 미세한 돌 무늬면인 것을 특징으로 하는 주석 도금판.
According to any one of claims 10 to 12,
A tin-plated plate, characterized in that one side of the substrate is a sanding surface, and the other side is a fine stone pattern surface.
크롬 도금판에 있어서,
상기 크롬 도금판은 제7항에 따른 기판 표면에 크롬 금속 및 산화크롬을 전기도금하여 획득되는 것을 특징으로 하는 크롬 도금판.
In the chrome plated plate,
The chrome plated plate is obtained by electroplating chromium metal and chromium oxide on the surface of the substrate according to claim 7.
제14항에 있어서,
크롬 금속을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산 농도는 140 내지 160g/L이고, 불화암모늄의 농도는 3 내지 4g/L이며; 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 36 내지 40℃로, 전류 밀도는 50 내지 80A/mm2로, 제1 회수홈 내 무수크롬산의 농도는 ≤50g/L로, 제2 회수홈 내 무수크롬산 농도는 ≤40g/L로 제어하는 것을 특징으로 하는 크롬 도금판.
According to clause 14,
When electroplating chromium metal, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 140 to 160 g/L, and the concentration of ammonium fluoride is 3 to 4 g/L; In the electroplating process, the temperature of the electroplating solution is 36 to 40℃, the current density is 50 to 80A/mm 2 , the concentration of chromic anhydride in the first recovery groove is ≤50g/L, and the anhydride in the second recovery groove is ≤50g/L. A chrome-plated plate characterized in that the chromic acid concentration is controlled to ≤40g/L.
제14항에 있어서,
산화크롬을 전기도금할 때, 전기도금액 중 무수크롬산의 농도는 60 내지 70g/L이고, 불화암모늄의 농도는 1 내지 2g/L, 수산화나트륨의 농도는 8 내지 10g/L이며, 전기도금 과정에서, 전기도금액의 온도는 31 내지 35℃로, 전류 밀도는 9 내지 22A/mm2로, 생성되는 산화크롬층의 중량은 8 내지 15g/m2로 제어하는 것을 특징으로 하는 크롬 도금판.
According to clause 14,
When electroplating chromium oxide, the concentration of chromic anhydride in the electroplating solution is 60 to 70 g/L, the concentration of ammonium fluoride is 1 to 2 g/L, and the concentration of sodium hydroxide is 8 to 10 g/L, and the electroplating process , the temperature of the electroplating solution is controlled to 31 to 35°C, the current density is controlled to 9 to 22A/mm 2 , and the weight of the resulting chromium oxide layer is controlled to 8 to 15 g/m 2 .
제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판의 일면은 샌딩면이며, 다른 일면은 미세한 돌 무늬면인 것을 특징으로 하는 크롬 도금판.
According to any one of claims 14 to 16,
A chrome-plated plate, characterized in that one side of the substrate is a sanding surface, and the other side is a fine stone pattern surface.
넥킹캔에 있어서,
상기 넥킹캔은 제13항에 따른 주석 도금판으로 제조되는 것을 특징으로 하는 넥킹캔.
In necking cans,
A necking can, characterized in that the necking can is manufactured from the tin plated plate according to claim 13.
넥킹캔에 있어서,
상기 넥킹캔은 제17항에 따른 크롬 도금판으로 제조되는 것을 특징으로 하는 넥킹캔.
In necking cans,
A necking can, characterized in that the necking can is manufactured from the chrome plated plate according to claim 17.
이지 오픈 뚜껑에 있어서,
상기 이지 오픈 뚜껑은 제13항에 따른 주석 도금판으로 제조되는 것을 특징으로 하는 이지 오픈 뚜껑.
For the easy open lid,
The easy-open lid is characterized in that it is manufactured from the tin-plated plate according to claim 13.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117327990B (en) * 2023-10-14 2024-04-26 邯郸市金泰包装材料有限公司 Scratch-resistant corrosion-resistant tin-plated iron for can body and manufacturing method thereof
CN118086781A (en) * 2024-04-22 2024-05-28 江苏省沙钢钢铁研究院有限公司 Scratch-resistant tin-plated steel plate product and manufacturing method thereof

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60133905A (en) * 1983-12-23 1985-07-17 Sumitomo Metal Ind Ltd Cold-rolled steel sheet excellent in coating appearance and its manufacture
JPH0669566B2 (en) * 1987-10-08 1994-09-07 川崎製鉄株式会社 Temper rolling method for steel sheet
US5789066A (en) * 1994-09-16 1998-08-04 Sidmar N.V. Method and device for manufacturing cold rolled metal sheets or strips and metal sheets or strips obtained
CN2344106Y (en) * 1997-02-04 1999-10-20 中国科学院力学研究所 Cold-rolled metal thin plate whose two sides have different surface and roughness
JP3806376B2 (en) * 2002-07-29 2006-08-09 新日本製鐵株式会社 Granular tin-plated steel sheet and method for producing the same
JP4102326B2 (en) * 2004-03-30 2008-06-18 新日本製鐵株式会社 Thin tin-plated steel sheet for welding cans
CN103350107B (en) * 2006-12-18 2016-06-08 杰富意钢铁株式会社 The surface light rolling method of steel band and the manufacture method of high strength cold rolled steel plate
CN102021623A (en) * 2011-01-14 2011-04-20 燕山大学 Bright electrochromism method for cold-rolled steel strip
CN104711474B (en) * 2013-12-12 2017-04-26 上海梅山钢铁股份有限公司 Cold rolled tin-plated steel plate for multiple printing and painting and manufacturing method thereof
CN106544588B (en) * 2015-09-17 2019-03-26 上海梅山钢铁股份有限公司 A kind of one side print applies the tin plate and its manufacturing method of ovenable decoration firing frame print
CN205236672U (en) * 2015-11-26 2016-05-18 江阴科玛金属制品有限公司 Duplex frame levelling machine
CN106917039B (en) * 2015-12-28 2019-09-17 上海梅山钢铁股份有限公司 A kind of flash plating cold rolling tin plate and its manufacturing method
CN107541663B (en) * 2016-06-23 2019-11-19 上海梅山钢铁股份有限公司 A kind of beverage can ferrostan and its production method
CN109013710A (en) * 2018-07-04 2018-12-18 燕山大学 Two-stand Temper Mill group is controlled with finished surface roughness matches roller method for target
CN110743919A (en) * 2019-10-11 2020-02-04 马鞍山钢铁股份有限公司 Surface appearance control method of cold-rolled galvanized product

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