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KR20230082934A - Substrate transfer apparatus - Google Patents

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KR20230082934A
KR20230082934A KR1020210170909A KR20210170909A KR20230082934A KR 20230082934 A KR20230082934 A KR 20230082934A KR 1020210170909 A KR1020210170909 A KR 1020210170909A KR 20210170909 A KR20210170909 A KR 20210170909A KR 20230082934 A KR20230082934 A KR 20230082934A
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organic solvent
hand
wet
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Inventor
신희용
조윤구
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엘에스이 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a substrate transport apparatus. The substrate transport apparatus comprises: a transport robot including a wet hand discharging a first substrate wetted with an organic solvent in a liquid state from a cleaning chamber to insert the first substrate into a drying chamber, a tray positioned on a lower portion of the wet hand and receiving an organic solvent flowing down from the first substrate, a dry hand positioned on an upper portion of the wet hand and driven independently of the wet hand, and a robot arm driving the wet hand, the tray, and the dry hand; and a controller controlling the transport robot. The present invention can prevent the problem in which an organic solvent in a liquid state flows down to create fumes in the process of transporting a substrate wetted with the organic solvent and particles are created in a following process by the fumes to cause process defects and prevent the problem in which, in the process of newly inserting a substrate wetted with an organic solvent in a liquid state discharged from a cleaning chamber into a drying chamber, a newly inserted substrate is not discharged in a previous process to collide with a substrate remaining in the drying chamber.

Description

기판 이송 장치{SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS}Substrate transfer device {SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS}

본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서 유기용제가 아래로 흘러 흄(fume)을 발생시키고, 이 흄에 의해 후속 공정에서 파티클이 생성되어 공정 불량을 유발하는 문제를 방지할 수 있고, 세정 챔버에서 반출되는 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 건조 챔버로 신규 반입하는 과정에서, 신규 반입되는 기판이 이전 공정에서 미반출되어 건조 챔버에 잔류하는 기판과 충돌할 수 있는 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer device. More specifically, in the process of transferring a substrate wetted with a liquid organic solvent, the organic solvent flows downward to generate fumes, and the fumes generate particles in a subsequent process, resulting in process defects. It is possible to prevent the problem caused by the organic solvent in the liquid state carried out from the cleaning chamber, and in the process of new loading of the substrate wetted with the organic solvent into the drying chamber, the newly loaded substrate is not taken out from the previous process and remains in the drying chamber. It relates to a substrate transfer device capable of preventing a problem that may collide with a substrate.

반도체 장치의 제조 공정에는 리소그래피 공정, 에칭 공정, 이온 주입 공정 등의 다양한 공정이 포함되어 있으며, 각 공정의 종료 후, 다음 공정으로 이행하기 전에 기판의 표면에 잔존하는 불순물(impurities)이나 잔류물(residue)을 제거해서 기판의 표면을 청정하게 하기 위한 세정 공정 및 초임계 건조 공정이 수행되고 있다.The semiconductor device manufacturing process includes various processes such as a lithography process, an etching process, an ion implantation process, and the like, and impurities or residues ( A cleaning process and a supercritical drying process are performed to clean the surface of the board by removing residue.

예를 들어, 에칭 공정 후의 기판의 세정 처리에서는 기판의 표면에 세정 처리를 위한 약액이 공급되고, 그 후에 탈이온수(deionized water, DIW)가 공급되어서 린스(rinse) 처리가 수행된다.For example, in a cleaning treatment of a substrate after an etching process, a chemical solution for the cleaning treatment is supplied to the surface of the substrate, and then deionized water (DIW) is supplied to perform a rinse treatment.

린스 처리 후에는 기판의 표면에 남아있는 탈이온수를 제거해서 기판을 건조하는 건조 처리가 수행된다.After the rinse treatment, a drying treatment is performed to dry the substrate by removing deionized water remaining on the surface of the substrate.

예를 들어, 건조 처리를 수행하는 방법으로는 기판 상의 탈이온수를 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol, IPA)로 치환해서 기판을 건조하는 방법이 알려져 있다.For example, as a method of performing the drying treatment, a method of drying the substrate by substituting deionized water on the substrate with isopropyl alcohol (IPA) is known.

그러나 이러한 건조 처리 시에, 액체의 표면 장력에 의해 기판 상에 형성된 패턴이 도괴(collapse)하는 문제가 발생한다.However, during such a drying process, a problem arises in that the pattern formed on the substrate collapses due to the surface tension of the liquid.

이러한 문제를 해결하기 위해서, 표면 장력이 0에 가까운 초임계 건조 공정이 제안되고 있다.In order to solve this problem, a supercritical drying process having a surface tension close to zero has been proposed.

이러한 초임계 건조 공정은 유체의 임계압력(critical pressure) 이상의 특정 조건을 충족시키기 위해 외부로부터 밀폐된 챔버의 내부 공간에서 진행된다.This supercritical drying process proceeds in the inner space of the chamber sealed from the outside to meet a specific condition equal to or higher than the critical pressure of the fluid.

세정 공정에서 탈이온수를 이용한 린스 후 IPA 등의 유기용제가 공급되어 탈이온수가 유기용제로 치환된 후, 기판은 유기용제에 의해 습윤된(wetted) 상태로 이송 유닛이 설치된 이송 챔버를 통해 초임계 건조 공정이 수행되는 건조 챔버로 이송되는 과정이 수행된다.After rinsing with deionized water in the cleaning process, an organic solvent such as IPA is supplied to replace the deionized water with the organic solvent, and the substrate is wetted by the organic solvent through a transfer chamber in which a transfer unit is installed to achieve supercritical A process of transferring to a drying chamber in which a drying process is performed is performed.

이와 같이 세정 챔버와 건조 챔버 사이에서 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서 유기용제가 아래로 흘러 이송 챔버에 흄(fume)을 발생시키고, 이 흄에 의해 후속 공정에서 파티클이 생성되어 반도체 공정 불량을 유발하는 문제점이 있다.In the process of transferring the substrate moistened with the organic solvent between the cleaning chamber and the drying chamber, the organic solvent flows downward to generate fumes in the transfer chamber, and the fumes generate particles in the subsequent process, resulting in semiconductor There is a problem that causes process defects.

또한, 종래 기술에 따르면, 건조 챔버 내부로 기판을 안착시키는 과정에서 이전 공정에서 공정상 문제로 인해 건조 챔버 내부에 남아있을 수 있는 기판의 유무를 판단할 수 있는 방법이 없다.Also, according to the prior art, there is no method for determining whether or not there is a substrate remaining in the drying chamber due to a process problem in a previous process during the process of placing the substrate into the drying chamber.

따라서, 만약 기존에 미반출된 기판이 존재 한다면 새로이 공정을 진행하고자 하는 기판과의 충돌이 발생할 수 있는 문제점이 있다.Therefore, if there is a previously unexported substrate, there is a problem in that a collision with a substrate to be newly processed may occur.

공개특허공보 제10-2011-0053817호(공개일자: 2011년 05월 24일, 명칭: 기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법)Publication No. 10-2011-0053817 (published date: May 24, 2011, name: substrate transfer device, substrate processing device having the same, and processing method thereof) 공개특허공보 제10-2011-0080863호(공개일자: 2011년 07월 13일, 명칭: 웨이퍼 처리 방법, 이를 수행하기 위하여 사용되는 웨이퍼 이송 로봇 및 이의 수행을 위한 웨이퍼 처리 장치)Publication No. 10-2011-0080863 (published date: July 13, 2011, name: wafer processing method, wafer transfer robot used to perform the same, and wafer processing device for the same)

본 발명의 기술적 과제는 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서 유기용제가 아래로 흘러 흄(fume)을 발생시키고, 이 흄에 의해 후속 공정에서 파티클이 생성되어 공정 불량을 유발하는 문제를 해결하는 것이다.The technical problem of the present invention is that in the process of transferring a substrate wetted with a liquid organic solvent, the organic solvent flows downward to generate fume, and the fumes generate particles in a subsequent process, causing process defects. is to solve the problem of

보다 구체적으로, 본 발명의 기술적 과제는 세정 챔버와 건조 챔버 사이에서 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서, 중력 등의 외력에 의해 아래로 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입 등의 방식으로 흡입하여 외부로 배출함으로써, 이송 챔버에 유기용제에 의한 흄(fume)이 발생하는 것을 방지하고, 이 흄이 후속 공정에서 세정 챔버와 건조 챔버 등으로 유입되어 생성되는 파티클에 의해 반도체 공정 불량을 유발하는 문제점을 해결하는 것이다.More specifically, the technical problem of the present invention is to suck the organic solvent flowing down by an external force such as gravity in a method such as vacuum suction in the process of transferring a substrate wet with an organic solvent between a cleaning chamber and a drying chamber. by discharging it to the outside, it prevents fumes from organic solvents from being generated in the transfer chamber, and the fumes flow into cleaning chambers and drying chambers in subsequent processes, causing semiconductor process defects due to particles generated. is to solve the problem.

또한, 본 발명의 기술적 과제는 세정 챔버에서 반출되는 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 건조 챔버로 신규 반입하는 과정에서, 신규 반입되는 기판이 이전 공정에서 미반출되어 건조 챔버에 잔류하는 기판과 충돌할 수 있는 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치를 제공하는 것이다.In addition, a technical problem of the present invention is to transfer a substrate wetted with a liquid organic solvent taken out of the cleaning chamber into the drying chamber, and the substrate newly brought in is not taken out in the previous process and remains in the drying chamber. It is to provide a substrate transfer device capable of preventing problems that may collide with.

보다 구체적으로, 본 발명의 기술적 과제는 건조 챔버 내부에 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 신규 반입하기 전에, 건조 챔버 내부에 미반출된 기판이 존재하는지 여부와 상관없이 로봇 핸드를 이용한 기판 반출 동작을 실시함으로써, 건조 챔버 내부의 미반출 기판의 유무를 판단함과 동시에 기판 충돌 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치를 제공하는 것이다.More specifically, the technical problem of the present invention is to perform a substrate unloading operation using a robot hand, regardless of whether or not there are unexported substrates in the drying chamber, before a substrate wetted with an organic solvent is newly loaded into the drying chamber. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a substrate transfer device capable of determining whether or not there is an unexported substrate in the drying chamber and at the same time preventing a substrate collision problem.

이러한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 기판 이송 장치는 액체 상태의 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 세정 챔버에서 반출하여 건조 챔버로 반입하는 습식 핸드, 상기 습식 핸드의 하부에 위치하며 상기 제1 기판으로부터 흘러내리는 유기용제를 받는 트레이, 상기 습식 핸드의 상부에 위치하며 상기 습식 핸드와 독립적으로 구동되는 건식 핸드 및 상기 습식 핸드와 상기 트레이 및 상기 건식 핸드를 구동하는 로봇 암을 포함하는 이송 로봇 및 상기 이송 로봇을 제어하는 제어기를 포함한다.A substrate transfer device according to the present invention to solve these technical problems is a wet hand that takes out a first substrate wetted with an organic solvent in a liquid state from a cleaning chamber and carries it into a drying chamber, and is located below the wet hand. Transfer including a tray for receiving the organic solvent flowing down from the first substrate, a dry hand positioned above the wet hand and driven independently of the wet hand, and a robot arm that drives the wet hand, the tray, and the dry hand and a controller for controlling the robot and the transfer robot.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 트레이에는 상기 제1 기판으로부터 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입하는 진공 홀이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, a vacuum hole for vacuuming the organic solvent flowing down from the first substrate is formed in the tray.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 트레이에 진공 흡입력을 제공하는 진공 펌프 및 상기 트레이에 형성된 진공 홀을 통해 진공 흡입된 유기용제를 외부로 배출하는 배출구를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate transport apparatus according to the present invention may further include a vacuum pump for providing vacuum suction to the tray and a discharge port for discharging the vacuum-sucked organic solvent to the outside through a vacuum hole formed in the tray.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 트레이의 면적은 상기 제1 기판의 면적보다 큰 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the area of the tray is larger than that of the first substrate.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 로봇 암은 상기 제어기의 제어명령에 따라 상기 건조 챔버에 직전(previous) 공정의 결과물인 제2 기판이 잔류하는지 여부와 무관하게 상기 건조 챔버에 대한 기판 반출 동작 모드가 수행되도록 상기 건식 핸드를 구동하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the robot arm transports the substrate to the drying chamber according to the control command of the controller regardless of whether or not the second substrate, which is a result of a previous process, remains in the drying chamber. and driving the dry hand so that an operating mode is performed.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 제어기는, 상기 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 상기 제2 기판이 상기 건조 챔버로부터 반출되어 상기 건식 핸드에 위치하는 경우, 현재 공정 상태를 상기 건조 챔버에 직전 공정의 결과물인 제2 기판이 잔류하는 기판 잔류 상태인 것으로 판단하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the controller, when the second substrate is unloaded from the drying chamber and placed in the dry hand as a result of performing the substrate unloading operation mode, sets the current process state immediately before the drying chamber. It is characterized in that it is determined that the second substrate, which is a result of the process, is in a remaining substrate state.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 제어기는, 상기 현재 공정 상태가 상기 기판 잔류 상태인 것으로 판단된 경우, 상기 습식 핸드가 상기 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 상기 건조 챔버로 반입하도록 제어하고, 상기 건식 핸드가 상기 건조 챔버에서 반출한 제2 기판을 버퍼부로 반입하도록 제어하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the controller, when it is determined that the current process state is the remaining substrate state, causes the wet hand to transfer the first substrate wetted with the organic solvent into the drying chamber. and controlling the dry hand to carry the second substrate taken out of the drying chamber into the buffer unit.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 제어기는, 상기 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 상기 제2 기판이 상기 건식 핸드에 위치하지 않는 경우, 현재 공정 상태를 상기 건조 챔버에 직전 공정의 결과물인 제2 기판이 잔류하지 않는 기판 미잔류 상태인 것으로 판단하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transport apparatus according to the present invention, the controller, when the second substrate is not located in the dry hand as a result of performing the substrate unloading operation mode, transfers the current process state to the drying chamber as a result of the process immediately before. 2 It is characterized in that it is determined that the substrate is in a non-remaining state in which no substrate remains.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 제어기는, 상기 현재 공정 상태가 상기 기판 미잔류 상태인 것으로 판단된 경우, 상기 습식 핸드가 상기 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 상기 건조 챔버로 반입하도록 제어하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the controller, when it is determined that the current process state is the substrate non-remaining state, the wet hand carries the first substrate wet with the organic solvent into the drying chamber It is characterized by controlling to do.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 제어기는, 상기 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 상기 건조 챔버로 반입하는 과정에서, 상기 로봇 암이 상기 제1 기판이 장착된 습식 핸드와 상기 트레이를 동시에 상기 건조 챔버의 측벽까지 이동시킨 후, 상기 트레이를 정지시킨 상태에서 상기 제1 기판이 장착된 습식 핸드를 상기 건조 챔버 내부로 이동시켜 상기 제1 기판을 상기 건조 챔버의 내부에 반입하도록 제어하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the controller, in the process of carrying the first substrate wet with the organic solvent into the drying chamber, the robot arm moves the wet hand and the tray on which the first substrate is mounted. control to move the first substrate to the inside of the drying chamber by moving the wet hand on which the first substrate is mounted into the drying chamber while the tray is stopped after simultaneously moving the first substrate to the sidewall of the drying chamber It is characterized by doing.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 제어기는, 상기 기판 반출 동작 모드의 수행 이전에, 상기 건식 핸드가 상기 유기용제로 습윤되지 않은 미처리 상태의 제1 기판을 버퍼부에서 반출하여 상기 세정 챔버로 반입하도록 제어하고, 상기 습식 핸드가 상기 세정 챔버에서 수행되는 세정 공정에 따라 상기 유기용제로 습윤된 제1 기판을 상기 세정 챔버에서 반출하도록 제어하는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the controller, before performing the substrate unloading operation mode, the dry hand removes the unprocessed first substrate, which is not wet with the organic solvent, from the buffer unit to remove the first substrate from the cleaning chamber. and controlling the wet hand to take the first substrate wet with the organic solvent out of the cleaning chamber according to the cleaning process performed in the cleaning chamber.

본 발명에 따른 기판 이송 장치에 있어서, 상기 유기용제는 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol, IPA)을 포함하고, 상기 건조 챔버에서는 초임계유체를 이용한 건조 공정이 수행되는 것을 특징으로 한다.In the substrate transfer device according to the present invention, the organic solvent includes isopropyl alcohol (IPA), and a drying process using a supercritical fluid is performed in the drying chamber.

본 발명에 따르면, 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서 유기용제가 아래로 흘러 흄(fume)을 발생시키고, 이 흄에 의해 후속 공정에서 파티클이 생성되어 공정 불량을 유발하는 문제를 해결할 수 있다.According to the present invention, in the process of transferring a substrate wetted with a liquid organic solvent, the organic solvent flows downward to generate fumes, and the fumes generate particles in a subsequent process, causing process defects. can solve the problem

보다 구체적으로, 세정 챔버와 건조 챔버 사이에서 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서, 중력 등의 외력에 의해 아래로 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입 등의 방식으로 흡입하여 외부로 배출함으로써, 이송 챔버에 유기용제에 의한 흄(fume)이 발생하는 것을 방지하고, 이 흄이 후속 공정에서 세정 챔버와 건조 챔버 등으로 유입되어 생성되는 파티클에 의해 반도체 공정 불량을 유발하는 문제점을 해결할 수 있다.More specifically, in the process of transferring the substrate moistened with the organic solvent between the cleaning chamber and the drying chamber, the organic solvent flowing down by an external force such as gravity is sucked by a method such as vacuum suction and discharged to the outside, It is possible to prevent fumes caused by organic solvents from being generated in the transfer chamber, and to solve a problem of causing semiconductor process defects due to particles generated when the fumes flow into cleaning chambers and drying chambers in subsequent processes.

또한, 세정 챔버에서 반출되는 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 건조 챔버로 신규 반입하는 과정에서, 신규 반입되는 기판이 이전 공정에서 미반출되어 건조 챔버에 잔류하는 기판과 충돌할 수 있는 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치가 제공되는 효과가 있다.In addition, in the process of bringing a substrate wet with the liquid organic solvent taken out of the cleaning chamber into the drying chamber, the newly brought in substrate may collide with the substrate that was not taken out from the previous process and remains in the drying chamber. There is an effect that a substrate transfer device capable of preventing the is provided.

보다 구체적으로, 건조 챔버 내부에 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 신규 반입하기 전에, 건조 챔버 내부에 미반출된 기판이 존재하는지 여부와 상관없이 로봇 핸드를 이용한 기판 반출 동작을 실시함으로써, 건조 챔버 내부의 미반출 기판의 유무를 판단함과 동시에 기판 충돌 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치가 제공되는 효과가 있다.More specifically, before a substrate wetted with an organic solvent is newly loaded into the drying chamber, a substrate unloading operation is performed using a robot hand, regardless of whether or not there is an unexported substrate in the drying chamber. There is an effect of providing a substrate transfer device capable of determining the presence or absence of unexported substrates and at the same time preventing substrate collision problems.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 이송 장치를 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 이송 로봇의 예시적인 구성을 개념적으로 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 이송 로봇의 일부 구성의 개념적인 평면도이고,
도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 현재 공정 상태가 기판 잔류 상태로 판단된 경우에 수행되는 공정 절차를 예시적으로 나타낸 도면이고,
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 현재 공정 상태가 기판 미잔류 상태로 판단된 경우에 수행되는 공정 절차를 예시적으로 나타낸 도면이다.1 is a view showing a substrate transfer device according to an embodiment of the present invention,
2 is a diagram conceptually showing an exemplary configuration of a transfer robot according to an embodiment of the present invention;
3 is a conceptual plan view of some components of a transfer robot according to an embodiment of the present invention;
4 and 5 are diagrams illustratively illustrating a process procedure performed when the current process state is determined to be a substrate remaining state as a result of performing a substrate unloading operation mode according to an embodiment of the present invention;
6 and 7 are diagrams illustratively illustrating a process procedure performed when a current process state is determined to be a non-remaining substrate state as a result of performing a substrate unloading operation mode according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에 개시된 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification are only exemplified for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiments according to the concept of the present invention may take various forms. It can be implemented as and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Embodiments according to the concept of the present invention can apply various changes and have various forms, so the embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in this specification. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosure forms, and includes all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 나타낸다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의된 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and are not interpreted in an ideal or overly formal sense unless explicitly defined herein. .

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 이송 장치를 나타낸 도면이고, 도 2는 이송 로봇의 예시적인 구성을 개념적으로 나타낸 도면이고, 도 3은 이송 로봇의 일부 구성의 개념적인 평면도이다.1 is a diagram showing a substrate transfer device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram conceptually showing an exemplary configuration of a transfer robot, and FIG. 3 is a conceptual plan view of some configurations of the transfer robot.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 이송 장치(5)는 이송 로봇(10) 및 제어기(20)를 포함한다.1 to 3, a substrate transfer device 5 according to an embodiment of the present invention includes a transfer robot 10 and a controller 20.

이하의 설명에서, 제1 기판(W1)은 현재 공정의 대상이 되는 기판이고, 제2 기판(W2)은 현재 공정에 선행하는 직전(previous) 공정의 결과물로서 건조 챔버(3)에 잔류할 수도 있는 기판이다. 또한, 건조 챔버(3)는 초임계 건조 방식에 따른 기판 건조가 수행되는 챔버이고, 유기용제는 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol, IPA)일 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다.In the following description, the first substrate W1 is a substrate to be subjected to the current process, and the second substrate W2 may remain in the drying chamber 3 as a result of a previous process preceding the current process. It is a substrate with In addition, the drying chamber 3 is a chamber in which substrate drying is performed according to a supercritical drying method, and the organic solvent may be isopropyl alcohol (IPA), but is not limited thereto.

이송 로봇(10)은 제어기(20)의 제어에 따라 기판(W)을 이송하는 구성요소이다.The transfer robot 10 is a component that transfers the substrate W under the control of the controller 20 .

구체적으로, 이송 로봇(10)은 리소그래피, 에칭, 이온주입 등의 다양한 공정을 통해 패턴이 형성된 기판(W)을 버퍼부(1)에서 반출하여 세정 챔버(2)로 반입하고, 세정 챔버(2)에서 수행되는 세정공정에 의해 유기용제로 습윤된 기판(W)을 반출하여 건조 챔버(3)로 반입하고, 건조 챔버(3)에서 수행되는 건조공정에 의해 건조된 기판(W)을 반출하여 버퍼부(1)로 반입하는 구성요소이다.Specifically, the transfer robot 10 takes out the substrate W on which patterns are formed through various processes such as lithography, etching, and ion implantation from the buffer unit 1 and carries it into the cleaning chamber 2, and carries it into the cleaning chamber 2 The substrate W wet with the organic solvent by the cleaning process performed in ) is taken out and brought into the drying chamber 3, and the substrate W dried by the drying process performed in the drying chamber 3 is taken out to It is a component carried into the buffer unit 1.

기판(W)이 세정 챔버(2)로 반입된 후, 세정 챔버(2)에서는 정해진 세정 레시피에 따라 기판(W)에 대한 세정공정이 수행된다. 예를 들어, 세정 챔버(2)에서는 기판(W)의 표면에 세정 처리를 위한 약액이 공급되는 공정, 탈이온수(deionized water, DIW)가 공급되어 린스(rinse) 처리가 수행되는 공정, 린스 처리 후 기판(W)의 표면에 남아있는 탈이온수를 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol, IPA)과 같은 유기용제로 치환하는 공정이 순차적으로 수행될 수 있다. 물론, 세정 챔버(2)에서 수행될 수 있는 구체적인 공정이 이에 한정되지는 않는다.After the substrate W is loaded into the cleaning chamber 2, a cleaning process for the substrate W is performed in the cleaning chamber 2 according to a predetermined cleaning recipe. For example, in the cleaning chamber 2, a process of supplying a chemical liquid for cleaning treatment to the surface of the substrate W, a process of supplying deionized water (DIW) to perform a rinse treatment, and a rinse treatment A process of replacing the deionized water remaining on the surface of the post substrate W with an organic solvent such as isopropyl alcohol (IPA) may be sequentially performed. Of course, specific processes that can be performed in the cleaning chamber 2 are not limited thereto.

기판(W)이 건조 챔버(3)로 반입된 후, 건조 챔버(3)에서는 정해진 건조 레시피에 따라 기판(W)에 대한 건조공정이 수행된다. 예를 들어, 건조 챔버(3)에서는 초임계상태의 이산화탄소를 이용하여 기판(W)에 습윤된 유기용제를 용해하여 외부로 배출하는 방식으로 기판(W)을 건조할 수 있으나, 건조 챔버(3)에서 수행될 수 있는 구체적인 공정이 이에 한정되지는 않는다.After the substrate W is loaded into the drying chamber 3, a drying process for the substrate W is performed in the drying chamber 3 according to a predetermined drying recipe. For example, in the drying chamber 3, the substrate W can be dried by dissolving the organic solvent wet on the substrate W using carbon dioxide in a supercritical state and discharging it to the outside, but the drying chamber 3 ) The specific process that can be performed in is not limited thereto.

이송 로봇(10)은 습식 핸드(110), 트레이(120), 건식 핸드(130) 및 로봇 암(140)을 포함하여 구성된다.The transfer robot 10 includes a wet hand 110 , a tray 120 , a dry hand 130 and a robot arm 140 .

습식 핸드(110)는 액체 상태의 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 세정 챔버(2)에서 반출하여 건조 챔버(3)로 반입하는 구성요소이다. 예를 들어, 습식 핸드(110)는 건식 핸드(130)의 하부에 위치하도록 구성될 수 있다.The wet hand 110 is a component that carries the first substrate W1 wet with the liquid organic solvent out of the cleaning chamber 2 and into the drying chamber 3 . For example, the wet hand 110 may be positioned below the dry hand 130 .

제1 기판(W1)을 이송하는 과정에서, 습식 핸드(110)에는 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 제1 기판(W1)이 장착된다. 제1 기판(W1)이 습식 핸드(110)에 장착되는 방식은 공지의 다양한 방식이 적용될 수 있으며, 예를 들어, 습식 핸드(110)는 "ㄷ" 형상을 갖는 플레이트로 구성되고, 이 습식 핸드(110)가 제1 기판(W1)의 하면으로 이동한 후 제1 기판(W1)을 들어 올리면 제1 기판(W1)은 자신의 하중에 의해 습식 핸드(110)에서 이탈되지 않도록 지지되는 방식으로 장착될 수 있다.In the process of transferring the first substrate W1, the wet hand 110 is loaded with the first substrate W1 wetted with a liquid organic solvent. Various well-known methods may be applied to the method in which the first substrate W1 is mounted on the wet hand 110. For example, the wet hand 110 is composed of a plate having a “c” shape, and the wet hand When the first substrate (W1) is lifted after the 110 moves to the lower surface of the first substrate (W1), the first substrate (W1) is supported so as not to be separated from the wet hand 110 by its own load. can be fitted

트레이(120)는 제1 기판(W1)이 장착되어 있는 습식 핸드(110)의 하부에 위치하도록 로봇 암(140)에 결합되어 있으며 제1 기판(W1)으로부터 흘러내리는 유기용제를 받는 기능을 수행한다.The tray 120 is coupled to the robot arm 140 so as to be positioned below the wet hand 110 on which the first substrate W1 is mounted, and functions to receive the organic solvent flowing down from the first substrate W1 do.

예를 들어, 세정 챔버(2)에서 수행되는 세정 공정에서 탈이온수를 이용한 린스 후 IPA 등의 유기용제가 공급되어 탈이온수가 유기용제로 치환된 후, 제1 기판(W1)은 유기용제에 의해 습윤된(wetted) 상태로 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 이송 장치(5)를 통해 초임계 건조 공정이 수행되는 건조 챔버(3)로 이송되는 과정이 수행될 수 있다.For example, in the cleaning process performed in the cleaning chamber 2, after rinsing with deionized water, an organic solvent such as IPA is supplied to replace the deionized water with the organic solvent, and then the first substrate W1 is cleaned by the organic solvent. A process of transferring the substrate in a wet state to the drying chamber 3 where a supercritical drying process is performed through the substrate transfer device 5 according to an embodiment of the present invention may be performed.

이와 같이 세정 챔버(2)와 건조 챔버(3) 사이에서 유기용제가 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 이송하는 과정에서 유기용제가 아래로 흘러 흄(fume)을 발생시키고, 이 흄에 의해 후속 공정에서 파티클(particle)이 생성되어 반도체 공정 불량을 유발할 가능성이 있다.In the process of transferring the first substrate W1 moistened with the organic solvent between the cleaning chamber 2 and the drying chamber 3 as described above, the organic solvent flows downward to generate a fume, which Particles are generated in a subsequent process, which may cause semiconductor process defects.

본 발명의 일 실시 예의 주요 구성요소 중의 하나인 트레이(120)는 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 제1 기판(W1)으로부터 흘러내리는 유기용제를 받고 이 유기용제가 외부로 배출되도록 함으로써 흄 및 이 흄에 의한 파티클 발생의 위험을 원천적으로 차단하는 기능을 수행한다.The tray 120, which is one of the main components of an embodiment of the present invention, is intended to solve this problem, and receives the organic solvent flowing down from the first substrate W1 and discharges the organic solvent to the outside, thereby removing fume and It performs the function of fundamentally blocking the risk of particle generation by fume.

보다 구체적으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 이송 장치(5)는 세정 챔버(2)와 건조 챔버(3) 사이에서 유기용제가 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 이송하는 과정에서, 트레이(120), 진공 펌프(150), 배출구(160)의 결합 구성을 통하여 중력 등의 외력에 의해 아래로 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입 등의 방식으로 흡입하여 외부로 배출함으로써, 유기용제에 의한 흄(fume)이 발생하는 것을 방지하고, 이 흄이 후속 공정에서 세정 챔버(2)와 건조 챔버(3) 등으로 유입되어 생성되는 파티클에 의해 반도체 공정 불량을 유발하는 문제점을 근본적으로 해결할 수 있다.More specifically, in the process of transferring the first substrate W1 moistened with the organic solvent between the cleaning chamber 2 and the drying chamber 3, the substrate transfer device 5 according to an embodiment of the present invention is transferred. Through the combined configuration of the tray 120, the vacuum pump 150, and the outlet 160, the organic solvent flowing down by an external force such as gravity is sucked and discharged to the outside by vacuum suction, etc. It is possible to fundamentally solve the problem of preventing fumes from being generated and causing semiconductor process defects due to particles generated when the fumes flow into the cleaning chamber 2 and the drying chamber 3 in subsequent processes. .

이를 위한 구성으로서, 예를 들어, 트레이(120)에는 제1 기판(W1)으로부터 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입하는 복수의 진공 홀(125)이 형성되도록 구성될 수 있다.As a configuration for this purpose, for example, a plurality of vacuum holes 125 may be formed in the tray 120 to vacuum the organic solvent flowing down from the first substrate W1.

또한, 예를 들어, 유기용제가 트레이(120) 이외의 다른 영역으로 흘러내리지 않도록 트레이(120)의 면적을 제1 기판(W1)의 면적보다 크게, 트레이(120)가 제1 기판(W1)의 하면보다 넓은 영역을 커버하도록 구성될 수 있다.In addition, for example, the area of the tray 120 is larger than the area of the first substrate W1 so that the organic solvent does not flow down to areas other than the tray 120, so that the tray 120 is placed on the first substrate W1. It may be configured to cover a wider area than the lower surface of.

진공 펌프(150)는 트레이(120)에 진공 흡입력을 제공하는 구성요소이고, 배출구(160)는 트레이(120)에 형성된 진공 홀(125)을 통해 진공 흡입된 유기용제가 외부로 배출되는 통로를 제공한다.The vacuum pump 150 is a component that provides a vacuum suction force to the tray 120, and the outlet 160 provides a passage through which the vacuum sucked organic solvent is discharged to the outside through the vacuum hole 125 formed in the tray 120. to provide.

건식 핸드(130)는 습식 핸드(110)의 상부에 위치하며 습식 핸드(110)와 독립적으로 구동되는 구성요소로서, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.The dry hand 130 is a component located above the wet hand 110 and driven independently of the wet hand 110, and a detailed description thereof will be described later.

로봇 암(140)은 제어기(20)로부터의 제어명령에 따라 습식 핸드(110)와 트레이(120) 및 건식 핸드(130)를 구동하는 구성요소이다.The robot arm 140 is a component that drives the wet hand 110, the tray 120, and the dry hand 130 according to a control command from the controller 20.

이러한 로봇 암(140)은 제어기(20)의 제어명령에 따라 건조 챔버(3)에 직전(previous) 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는지 여부와 무관하게 건조 챔버(3)에 대한 기판 반출 동작 모드가 수행되도록 건식 핸드(130)를 구동한다.The robot arm 140 controls the drying chamber 3 according to the control command of the controller 20 regardless of whether or not the second substrate W2, which is the result of the previous process, remains in the drying chamber 3. The dry hand 130 is driven so that the substrate unloading operation mode is performed.

구체적으로, 로봇 암(140)은 건식 핸드(130)와 습식 핸드(110) 및 트레이(120)의 위치와 자세 등을 제어함으로써 기판이 목표 위치로 이송되도록 한다.Specifically, the robot arm 140 controls the positions and attitudes of the dry hand 130, the wet hand 110, and the tray 120 so that the substrate is transferred to the target position.

예를 들어, 로봇 암(140)은 건식 핸드(130)를 구동하여 버퍼부(1)에서 세정 챔버(2)로 처리되지 않은 제1 기판(W1)을 반입하고, 습식 핸드(110)와 트레이(120)를 구동하여 세정 후 액체 상태의 유기용제로 습윤된 제1 기판(W1)을 세정 챔버(2)에서 반출하고, 건식 핸드(130)를 구동하여 건조 챔버(3)에 직전(previous) 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는지 여부와 무관하게 건조 챔버(3)에 대한 기판 반출 동작 모드가 수행되도록 하고, 기판 반출 동작 모드가 수행된 후 습식 핸드(110)와 트레이(120)를 구동하여 유기용제로 습윤된 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하고, 초임계 건조가 끝난 후 건식 핸드(130)를 구동하여 건조 챔버(3)에서 제1 기판(W1)을 반출하여 버퍼부(1)로 반입하도록 구성될 수 있다.For example, the robot arm 140 drives the dry hand 130 to transfer the unprocessed first substrate W1 from the buffer unit 1 to the cleaning chamber 2, and transfers the wet hand 110 to the tray. 120 is driven to take out the first substrate (W1) wetted with the liquid organic solvent after cleaning from the cleaning chamber (2), and the dry hand (130) is driven to transfer the first substrate (W1) to the drying chamber (3). Regardless of whether or not the second substrate W2, which is the result of the process, remains, the substrate unloading operation mode for the drying chamber 3 is performed, and after the substrate unloading operation mode is performed, the wet hand 110 and the tray 120 ) to bring the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3, and after supercritical drying is completed, the dry hand 130 is driven to dry the first substrate W1 in the drying chamber 3 ) may be taken out and brought into the buffer unit 1.

예를 들어, 제어기(20)는 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 직전 공정의 결과물로 건조 챔버(3)에 잔류하던 제2 기판(W2)이 건조 챔버(3)로부터 반출되어 건식 핸드(130)에 위치하는 경우, 현재 공정 상태를 건조 챔버(3)에 직전 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는 기판 잔류 상태인 것으로 판단하도록 구성될 수 있다.For example, as a result of performing the substrate unloading operation mode, the controller 20 removes the second substrate W2 remaining in the drying chamber 3 as a result of the immediately preceding process and carries it out from the drying chamber 3 to the dry hand 130. position, it may be configured to determine the current process state as a substrate remaining state in which the second substrate W2, which is a result of the previous process, remains in the drying chamber 3.

현재 공정 상태가 기판 잔류 상태인 것으로 판단된 경우, 제어기(20)는 습식 핸드(110)가 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하도록 제어하고, 건식 핸드(130)가 건조 챔버(3)에서 반출한 제2 기판(W2)을 버퍼부(1)로 반입하도록 제어할 수 있다.When it is determined that the current process state is the remaining substrate state, the controller 20 controls the wet hand 110 to transfer the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3, and the dry hand 130 may control the second substrate W2 taken out of the drying chamber 3 to be carried into the buffer unit 1 .

또한, 예를 들어, 제어기(20)는 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 제2 기판(W2)이 건식 핸드(130)에 위치하지 않는 경우, 현재 공정 상태를 건조 챔버(3)에 직전 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하지 않는 기판 미잔류 상태인 것으로 판단하도록 구성될 수 있다.Also, for example, when the second substrate W2 is not located in the dry hand 130 as a result of performing the substrate unloading operation mode, the controller 20 transfers the current process state to the drying chamber 3 as a result of the previous process. It may be configured to determine that the phosphorus second substrate W2 is in a non-remaining substrate state.

현재 공정 상태가 기판 미잔류 상태인 것으로 판단된 경우, 제어기(20)는 습식 핸드(110)가 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하도록 제어할 수 있다.When it is determined that the current process state is a substrate non-remaining state, the controller 20 may control the wet hand 110 to transfer the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3. .

예를 들어, 제어기(20)는, 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하는 과정에서, 로봇 암(140)이 제1 기판(W1)이 장착된 습식 핸드(110)와 트레이(120)를 동시에 건조 챔버(3)의 측벽까지 이동시킨 후, 트레이(120)를 정지시킨 상태에서 1 기판(W1)이 장착된 습식 핸드(110)를 건조 챔버(3) 내부로 이동시켜 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)의 내부에 반입하도록 제어할 수 있다.For example, in the process of carrying the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3, the controller 20 moves the robot arm 140 to the wet substrate W1 on which the first substrate W1 is mounted. After moving the hand 110 and the tray 120 to the sidewall of the drying chamber 3 at the same time, the wet hand 110 equipped with the first substrate W1 is placed in the drying chamber 3 while the tray 120 is stopped. ), so that the first substrate W1 is brought into the drying chamber 3 .

예를 들어, 제어기(20)는, 기판 반출 동작 모드의 수행 이전에, 건식 핸드(130)가 유기용제로 습윤되지 않은 미처리 상태의 제1 기판(W1)을 버퍼부(1)에서 반출하여 세정 챔버(2)로 반입하도록 제어하고, 습식 핸드(110)가 세정 챔버(2)에서 수행되는 세정 공정에 따라 유기용제로 습윤된 제1 기판(W1)을 세정 챔버(2)에서 반출하도록 제어할 수 있다.For example, before performing the substrate unloading operation mode, the controller 20 removes the unprocessed first substrate W1, which is not wet with the organic solvent, from the buffer unit 1 and cleans the dry hand 130. The wet hand 110 is controlled to take the first substrate W1 wet with the organic solvent out of the cleaning chamber 2 according to the cleaning process performed in the cleaning chamber 2. can

이하에서는, 도 4 내지 도 7을 추가로 참조하여, 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 현재 공정 상태가 기판 잔류 상태로 판단된 경우 및 기판 미잔류 상태로 판단된 경우에 수행되는 공정 절차를 구체적이고 예시적으로 설명한다.Hereinafter, with further reference to FIGS. 4 to 7 , as a result of performing the substrate unloading operation mode, a process procedure performed when the current process state is determined to be a substrate remaining state or a substrate non-remaining state is specifically and exemplified. explain negatively.

도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 현재 공정 상태가 기판 잔류 상태로 판단된 경우에 수행되는 공정 절차를 예시적으로 나타낸 도면이다.4 and 5 are diagrams illustratively illustrating a process procedure performed when a current process state is determined to be a substrate remaining state as a result of performing a substrate unloading operation mode according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 4를 참조하면, 로봇 암(140)이 제어기(20)의 제어명령에 따라 건조 챔버(3)에 직전(previous) 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는지 여부와 무관하게 건조 챔버(3)에 대한 기판 반출 동작 모드가 수행되도록 건식 핸드(130)를 구동한다. 이때, 건조 챔버(3)를 구성하는 상부 하우징(31)과 하부 하우징(32) 중에서 하나가 상방 또는 하방으로 이동하도록 구동됨으로써, 건조 챔버(3)는 로봇 암(140)이 진입 및 진출할 수 있는 개방 상태가 된다.First, referring to FIG. 4 , the robot arm 140 controls the drying chamber 3 according to the control command of the controller 20 regardless of whether or not the second substrate W2, which is the result of the previous process, remains in the drying chamber 3. The dry hand 130 is driven so that the substrate unloading operation mode for the drying chamber 3 is performed. At this time, one of the upper housing 31 and the lower housing 32 constituting the drying chamber 3 is driven to move upward or downward, so that the robot arm 140 can enter and exit the drying chamber 3. becomes an open state.

도 4에 개시된 예는 건조 챔버(3)에 직전 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는 케이스이며, 제어기(20)는 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 직전 공정의 결과물로 건조 챔버(3)에 잔류하던 제2 기판(W2)이 건조 챔버(3)로부터 반출되어 건식 핸드(130)에 위치하는 경우, 현재 공정 상태를 건조 챔버(3)에 직전 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는 기판 잔류 상태인 것으로 판단한다.The example disclosed in FIG. 4 is a case in which the second substrate W2, which is the result of the previous process, remains in the drying chamber 3, and the controller 20 controls the drying chamber 3 as the result of the immediately preceding process as a result of performing the substrate unloading operation mode. ) When the second substrate W2 remaining in the drying chamber 3 is carried out from the drying chamber 3 and placed in the dry hand 130, the current process state is transferred to the drying chamber 3 with the second substrate W2, which is the result of the previous process. It is determined that the remaining substrate is in a remaining state.

다음으로, 도 5를 참조하면, 현재 공정 상태가 기판 잔류 상태인 것으로 판단되었으므로, 제어기(20)는 습식 핸드(110)가 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하도록 제어하고, 건식 핸드(130)가 건조 챔버(3)에서 반출한 제2 기판(W2)을 버퍼부(1)로 반입하도록 제어한다.Next, referring to FIG. 5 , since it is determined that the current process state is the remaining substrate state, the controller 20 moves the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3 with the wet hand 110. , and the dry hand 130 controls to carry the second substrate W2 taken out of the drying chamber 3 into the buffer unit 1 .

이 과정 즉, 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하는 과정에서, 제어기(20)는 로봇 암(140)이 제1 기판(W1)이 장착된 습식 핸드(110)와 트레이(120)를 동시에 건조 챔버(3)의 측벽까지 이동시킨 후, 트레이(120)를 정지시킨 상태에서 1 기판(W1)이 장착된 습식 핸드(110)를 건조 챔버(3) 내부로 이동시켜 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)의 내부에 반입하도록 제어할 수 있다.In this process, that is, in the process of carrying the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3, the controller 20 moves the robot arm 140 to the wet hand on which the first substrate W1 is mounted. After moving the tray 110 and the tray 120 to the sidewall of the drying chamber 3 at the same time, the wet hand 110 equipped with the first substrate W1 is placed in the drying chamber 3 while the tray 120 is stopped. It can be controlled to move the first substrate W1 into the drying chamber 3 by moving it inside.

도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 현재 공정 상태가 기판 미잔류 상태로 판단된 경우에 수행되는 공정 절차를 예시적으로 나타낸 도면이다.6 and 7 are diagrams illustratively illustrating a process procedure performed when a current process state is determined to be a non-remaining substrate state as a result of performing a substrate unloading operation mode according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 6을 참조하면, 로봇 암(140)이 제어기(20)의 제어명령에 따라 건조 챔버(3)에 직전(previous) 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하는지 여부와 무관하게 건조 챔버(3)에 대한 기판 반출 동작 모드가 수행되도록 건식 핸드(130)를 구동한다.First, referring to FIG. 6 , the robot arm 140 controls the drying chamber 3 according to the control command of the controller 20 regardless of whether or not the second substrate W2, which is the result of the previous process, remains. The dry hand 130 is driven so that the substrate unloading operation mode for the drying chamber 3 is performed.

도 6에 개시된 예는 건조 챔버(3)에 직전 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하지 않는 케이스이며, 제어기(20)는 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 제2 기판(W2)이 건식 핸드(130)에 위치하지 않는 경우, 현재 공정 상태를 건조 챔버(3)에 직전 공정의 결과물인 제2 기판(W2)이 잔류하지 않는 기판 미잔류 상태인 것으로 판단한다.The example disclosed in FIG. 6 is a case in which the second substrate W2, which is the result of the previous process, does not remain in the drying chamber 3, and the controller 20, as a result of performing the substrate unloading operation mode, transfers the second substrate W2 to a dry state. When it is not located in the hand 130, it is determined that the current process state is a non-remaining substrate state in which the second substrate W2, which is the result of the previous process, does not remain in the drying chamber 3.

다음으로, 도 7을 참조하면, 현재 공정 상태가 기판 미잔류 상태인 것으로 판단되었으므로, 제어기(20)는 습식 핸드(110)가 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하도록 제어한다.Next, referring to FIG. 7 , since it is determined that the current process state is a substrate non-remaining state, the controller 20 moves the wet hand 110 to the first substrate W1 wet with the organic solvent in the drying chamber 3 ) to be imported.

이 과정 즉, 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)로 반입하는 과정에서, 제어기(20)는 로봇 암(140)이 제1 기판(W1)이 장착된 습식 핸드(110)와 트레이(120)를 동시에 건조 챔버(3)의 측벽까지 이동시킨 후, 트레이(120)를 정지시킨 상태에서 1 기판(W1)이 장착된 습식 핸드(110)를 건조 챔버(3) 내부로 이동시켜 제1 기판(W1)을 건조 챔버(3)의 내부에 반입하도록 제어할 수 있다.In this process, that is, in the process of carrying the first substrate W1 wet with the organic solvent into the drying chamber 3, the controller 20 moves the robot arm 140 to the wet hand on which the first substrate W1 is mounted. After moving the tray 110 and the tray 120 to the sidewall of the drying chamber 3 at the same time, the wet hand 110 equipped with the first substrate W1 is placed in the drying chamber 3 while the tray 120 is stopped. It can be controlled to move the first substrate W1 into the drying chamber 3 by moving it inside.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서 유기용제가 아래로 흘러 흄(fume)을 발생시키고, 이 흄에 의해 후속 공정에서 파티클이 생성되어 공정 불량을 유발하는 문제를 해결할 수 있다.As described in detail above, according to the present invention, in the process of transferring the substrate wetted with the organic solvent in liquid state, the organic solvent flows downward to generate fume, and particles are generated in the subsequent process by this fume. This can solve problems that cause process defects.

보다 구체적으로, 세정 챔버(2)와 건조 챔버(3) 사이에서 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 이송하는 과정에서, 중력 등의 외력에 의해 아래로 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입 등의 방식으로 흡입하여 외부로 배출함으로써, 이송 챔버에 유기용제에 의한 흄(fume)이 발생하는 것을 방지하고, 이 흄이 후속 공정에서 세정 챔버(2)와 건조 챔버(3) 등으로 유입되어 생성되는 파티클에 의해 반도체 공정 불량을 유발하는 문제점을 해결할 수 있다.More specifically, in the process of transferring the substrate moistened with the organic solvent between the cleaning chamber 2 and the drying chamber 3, the organic solvent flowing down by an external force such as gravity is sucked by a method such as vacuum suction. By discharging it to the outside, it prevents fumes caused by organic solvents from being generated in the transfer chamber, and the fumes are introduced into the cleaning chamber 2 and drying chamber 3 in the subsequent process and generated by particles. It is possible to solve problems that cause semiconductor process defects.

또한, 세정 챔버(2)에서 반출되는 액체 상태의 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 건조 챔버(3)로 신규 반입하는 과정에서, 신규 반입되는 기판이 이전 공정에서 미반출되어 건조 챔버(3)에 잔류하는 기판과 충돌할 수 있는 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치(5)가 제공되는 효과가 있다.In addition, in the process of new loading of the substrate moistened with the organic solvent in the liquid state carried out from the cleaning chamber 2 into the drying chamber 3, the newly loaded substrate is not taken out in the previous process and is transferred to the drying chamber 3. There is an effect of providing a substrate transfer device 5 capable of preventing a problem that may collide with a remaining substrate.

보다 구체적으로, 건조 챔버(3) 내부에 유기용제가 습윤되어 있는 기판을 신규 반입하기 전에, 건조 챔버(3) 내부에 미반출된 기판이 존재하는지 여부와 상관없이 로봇 핸드를 이용한 기판 반출 동작을 실시함으로써, 건조 챔버(3) 내부의 미반출 기판의 유무를 판단함과 동시에 기판 충돌 문제를 방지할 수 있는 기판 이송 장치(5)가 제공되는 효과가 있다.More specifically, before a substrate wetted with an organic solvent is newly loaded into the drying chamber 3, regardless of whether or not there is an unexported substrate in the drying chamber 3, the substrate carrying operation using the robot hand is performed. By doing so, there is an effect of providing the substrate transfer device 5 capable of determining whether or not there is an untransported substrate inside the drying chamber 3 and at the same time preventing a substrate collision problem.

1: 버퍼부
2: 세정 챔버
3: 건조 챔버
5: 기판 이송 장치
10: 이송 로봇
20: 제어기
110: 습식 핸드(wet hand)
120: 트레이(tray)
125: 진공 홀(vacuum hole)
130: 건식 핸드(dry hand)
140: 로봇 암
150: 진공 펌프(vacuum pump)
160: 배출구
W: 기판
W1: 제1 기판
W2: 제2 기판1: buffer part
2: cleaning chamber
3: drying chamber
5: substrate transfer device
10: transfer robot
20: controller
110: wet hand
120: tray
125: vacuum hole
130: dry hand
140: robot arm
150: vacuum pump
160: outlet
W: substrate
W1: first substrate
W2: second substrate

Claims (12)

기판 이송 장치로서,
액체 상태의 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 세정 챔버에서 반출하여 건조 챔버로 반입하는 습식 핸드, 상기 습식 핸드의 하부에 위치하며 상기 제1 기판으로부터 흘러내리는 유기용제를 받는 트레이, 상기 습식 핸드의 상부에 위치하며 상기 습식 핸드와 독립적으로 구동되는 건식 핸드 및 상기 습식 핸드와 상기 트레이 및 상기 건식 핸드를 구동하는 로봇 암을 포함하는 이송 로봇; 및
상기 이송 로봇을 제어하는 제어기를 포함하는, 기판 이송 장치.
As a substrate transport device,
A wet hand for taking the first substrate wet with the liquid organic solvent out of the cleaning chamber and carrying it into the drying chamber, a tray located under the wet hand and receiving the organic solvent flowing down from the first substrate, the wet hand a transfer robot including a dry hand located on the top and driven independently of the wet hand and a robot arm that drives the wet hand, the tray, and the dry hand; and
A substrate transfer device including a controller for controlling the transfer robot.
 제1항에 있어서,
상기 트레이에는 상기 제1 기판으로부터 흘러내리는 유기용제를 진공 흡입하는 진공 홀이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 1,
The tray is characterized in that a vacuum hole for vacuum suction of the organic solvent flowing down from the first substrate is formed, the substrate transfer device.
 제2항에 있어서,
상기 트레이에 진공 흡입력을 제공하는 진공 펌프; 및
상기 트레이에 형성된 진공 홀을 통해 진공 흡입된 유기용제를 외부로 배출하는 배출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 2,
a vacuum pump providing a vacuum suction force to the tray; and
Characterized in that, the substrate transfer device further comprises a discharge port for discharging the vacuum sucked organic solvent to the outside through the vacuum hole formed in the tray.
 제1항에 있어서,
상기 트레이의 면적은 상기 제1 기판의 면적보다 큰 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 1,
Characterized in that the area of the tray is larger than the area of the first substrate, the substrate transfer device.
 제1항에 있어서,
상기 로봇 암은 상기 제어기의 제어명령에 따라 상기 건조 챔버에 직전(previous) 공정의 결과물인 제2 기판이 잔류하는지 여부와 무관하게 상기 건조 챔버에 대한 기판 반출 동작 모드가 수행되도록 상기 건식 핸드를 구동하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 1,
The robot arm drives the dry hand according to a control command of the controller so that the substrate unloading operation mode for the drying chamber is performed regardless of whether or not the second substrate, which is the result of the previous process, remains in the drying chamber. Characterized in that, the substrate transfer device.
 제5항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 상기 제2 기판이 상기 건조 챔버로부터 반출되어 상기 건식 핸드에 위치하는 경우,
현재 공정 상태를 상기 건조 챔버에 직전 공정의 결과물인 제2 기판이 잔류하는 기판 잔류 상태인 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 5,
The controller,
When the substrate unloading operation mode is performed, the second substrate is unloaded from the drying chamber and placed in the dry hand;
Characterized in that, the current process state is determined to be a substrate remaining state in which the second substrate, which is a result of the previous process, remains in the drying chamber.
 제6항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 현재 공정 상태가 상기 기판 잔류 상태인 것으로 판단된 경우, 상기 습식 핸드가 상기 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 상기 건조 챔버로 반입하도록 제어하고,
상기 건식 핸드가 상기 건조 챔버에서 반출한 제2 기판을 버퍼부로 반입하도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 6,
The controller,
When it is determined that the current process state is the remaining substrate state, the wet hand is controlled to carry the first substrate wetted with the organic solvent into the drying chamber;
The substrate transfer device characterized in that the dry hand is controlled to carry the second substrate taken out from the drying chamber into the buffer unit.
 제5항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 기판 반출 동작 모드의 수행 결과 상기 제2 기판이 상기 건식 핸드에 위치하지 않는 경우,
현재 공정 상태를 상기 건조 챔버에 직전 공정의 결과물인 제2 기판이 잔류하지 않는 기판 미잔류 상태인 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 5,
The controller,
When the second substrate is not located in the dry hand as a result of performing the substrate unloading operation mode,
Characterized in that, the current process state is determined as a substrate non-remaining state in which the second substrate, which is a result of the previous process, does not remain in the drying chamber.
 제8항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 현재 공정 상태가 상기 기판 미잔류 상태인 것으로 판단된 경우,
상기 습식 핸드가 상기 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 상기 건조 챔버로 반입하도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 8,
The controller,
When it is determined that the current process state is the substrate non-remaining state,
The substrate transport apparatus of claim 1 , wherein the wet hand is controlled to transfer the first substrate wetted with the organic solvent into the drying chamber.
 제7항 또는 제9항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 유기용제로 습윤되어 있는 제1 기판을 상기 건조 챔버로 반입하는 과정에서,
상기 로봇 암이 상기 제1 기판이 장착된 습식 핸드와 상기 트레이를 동시에 상기 건조 챔버의 측벽까지 이동시킨 후, 상기 트레이를 정지시킨 상태에서 상기 제1 기판이 장착된 습식 핸드를 상기 건조 챔버 내부로 이동시켜 상기 제1 기판을 상기 건조 챔버의 내부에 반입하도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
The method of claim 7 or 9,
The controller,
In the process of carrying the first substrate wetted with the organic solvent into the drying chamber,
After the robot arm simultaneously moves the wet hand on which the first substrate is mounted and the tray to the sidewall of the drying chamber, the wet hand on which the first substrate is mounted is moved into the drying chamber while the tray is stopped. characterized in that the substrate transfer device is controlled to transfer the first substrate into the drying chamber by moving the first substrate.
 제1항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 기판 반출 동작 모드의 수행 이전에,
상기 건식 핸드가 상기 유기용제로 습윤되지 않은 미처리 상태의 제1 기판을 버퍼부에서 반출하여 상기 세정 챔버로 반입하도록 제어하고,
상기 습식 핸드가 상기 세정 챔버에서 수행되는 세정 공정에 따라 상기 유기용제로 습윤된 제1 기판을 상기 세정 챔버에서 반출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 1,
The controller,
Prior to performing the substrate unloading operation mode,
controlling the dry hand to take the unprocessed first substrate that is not wet with the organic solvent out of the buffer unit and into the cleaning chamber;
The wet hand is controlled to take the first substrate wet with the organic solvent out of the cleaning chamber according to the cleaning process performed in the cleaning chamber.
 제1항에 있어서,
상기 유기용제는 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol, IPA)을 포함하고,
상기 건조 챔버에서는 초임계유체를 이용한 건조 공정이 수행되는 것을 특징으로 하는, 기판 이송 장치.
According to claim 1,
The organic solvent includes isopropyl alcohol (IPA),
In the drying chamber, a drying process using a supercritical fluid is performed, the substrate transfer device.
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