KR20200079735A - Display Device Having Mirror Function - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 49
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
- 239000004983 Polymer Dispersed Liquid Crystal Substances 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 70
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 17
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 16
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 11
- 102100031102 C-C motif chemokine 4 Human genes 0.000 description 10
- 101000777470 Mus musculus C-C motif chemokine 4 Proteins 0.000 description 10
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 10
- 102100026620 E3 ubiquitin ligase TRAF3IP2 Human genes 0.000 description 9
- 101710140859 E3 ubiquitin ligase TRAF3IP2 Proteins 0.000 description 9
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 102100025961 Glutaminase liver isoform, mitochondrial Human genes 0.000 description 6
- 101000856993 Homo sapiens Glutaminase liver isoform, mitochondrial Proteins 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 101100060179 Drosophila melanogaster Clk gene Proteins 0.000 description 4
- 101150038023 PEX1 gene Proteins 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 101150014555 pas-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 101100016388 Arabidopsis thaliana PAS2 gene Proteins 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 102100026278 Cysteine sulfinic acid decarboxylase Human genes 0.000 description 3
- 101100297150 Komagataella pastoris PEX3 gene Proteins 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 3
- 101100315760 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) PEX4 gene Proteins 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108010064775 protein C activator peptide Proteins 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 102100025960 Glutaminase kidney isoform, mitochondrial Human genes 0.000 description 2
- 101000856990 Homo sapiens Glutaminase kidney isoform, mitochondrial Proteins 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical class C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
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- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
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- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/22—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources
- G09G3/30—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels
- G09G3/32—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED]
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Abstract
Description
본 발명은 미러 겸용 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a mirror combined display device.
다양한 표시장치가 개발 및 시판되고 있다. 그 중에서 유기발광표시장치는 스스로 발광하는 자발광 장치로서 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. 특히, 유기발광표시장치는 유연한(flexible) 플렉서블 기판 위에도 형성할 수 있을 뿐 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)이나 무기 전계발광(EL) 디스플레이에 비해 낮은 전압에서 구동 가능하고 전력 소모가 비교적 적으며, 색감이 뛰어나다는 장점이 있다.Various display devices have been developed and marketed. Among them, the organic light emitting display device is a self-emission device that emits light by itself, and has an advantage of high response speed, high luminous efficiency, brightness, and viewing angle. In particular, the organic light emitting display device can be formed on a flexible flexible substrate as well as can be driven at a lower voltage than a plasma display panel or an inorganic electroluminescent (EL) display and consumes less power. It has the advantage of excellent color.
유기발광표시장치의 표시면에서 미러 기능을 구현하는 기술이 알려져 있다. 하지만, 기존의 미러 겸용 표시장치는 반사율이 높고 영상의 대비비가 낮아 화질이 저하되는 문제가 있다.A technique for realizing a mirror function on a display surface of an organic light emitting display device is known. However, the conventional mirror combined display device has a problem that the reflectivity is high and the contrast ratio of the image is low, thereby deteriorating the image quality.
따라서, 본 발명은 미러 기능을 유지하면서도 화질을 향상시킬 수 있는 미러 겸용 표시장치를 제공한다.Accordingly, the present invention provides a mirror combined display device capable of improving image quality while maintaining a mirror function.
본 발명의 일 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치는 복수의 픽셀들이 구비되고, 각 픽셀은 발광 영역과 비발광 영역을 가지며, 상기 비발광 영역에는 데이터전압에 따라 구동전류를 생성하는 구동 트랜지스터가 위치하는 표시패널; 및 상기 표시패널 일면에 배치된 광 제어패널을 포함한다. 상기 광 제어패널은, 상기 각 픽셀의 발광 영역에 대응되게 위치하며 상기 데이터전압에 따라 구동되어 상기 발광 영역에서 생성된 내부광을 외부로 방출하는 영상 투과부와, 상기 각 픽셀의 비발광 영역에 대응되게 위치하며 미러 전원에 따라 구동되어 외부광을 반사시키거나 또는 차단하는 미러부를 갖는다.A mirror combined display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of pixels, each pixel has a light emitting area and a non-light emitting area, and a driving transistor generating a driving current according to a data voltage is located in the non-light emitting area Display panel; And a light control panel disposed on one surface of the display panel. The light control panel is positioned to correspond to the light emitting area of each pixel, and is driven according to the data voltage to transmit an internal light generated in the light emitting area to the outside and a non-light emitting area of each pixel. It is located and has a mirror part that is driven according to the power of the mirror to reflect or block external light.
본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치는 데이터전압에 따라 투광/차광 모드로 동작하는 영상 투과부와, 미러 전원에 따라 투광/차광 모드로 동작하는 미러부를 포함한 광 제어패널을 이용하여, 미러 기능을 유지하면서도 표시 영상의 대비비를 높여 표시 품위를 획기적으로 향상시킬 수 있다. A mirror combined display device according to an embodiment of the present invention uses a light control panel including an image transmitting unit operating in a light transmitting/shielding mode according to a data voltage and a mirror unit operating in a light transmitting/shielding mode according to a mirror power source, thereby providing a mirror function. While maintaining, it is possible to dramatically improve the display quality by increasing the contrast ratio of the display image.
본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치는 대비비를 높여야 할 경우 미러부를 차광 모드로 동작시킴으로써 고화질 영상을 구현할 수 있고 다양한 어플리케이션으로의 확장이 용이하다.The display device for a mirror according to an embodiment of the present invention can realize a high-quality image by operating the mirror unit in a light-shielding mode when the contrast ratio needs to be increased, and is easy to expand to various applications.
본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치는 각 픽셀의 구동 트랜지스터의 게이트전극을 영상 투과부의 일측 전극에 연결함으로써, 영상 표시용 데이터전압에 따라 영상 투과부를 픽셀 단위로 간편하게 제어할 수 있다. In the mirror combined display device according to an exemplary embodiment of the present invention, by connecting the gate electrode of the driving transistor of each pixel to one electrode of the image transmission unit, the image transmission unit can be easily controlled in units of pixels according to the data voltage for image display.
본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치의 개략적인 블록도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치의 일 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 등가회로도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 광 제어패널의 전극 구성도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 제1 전극을 보여주는 평면도이다.
도 5는 도 4의 절취선 A-B에 따른 단면도이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 동작을 설명하기 위한 도면들이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 제1 전극을 보여주는 평면도이다.
도 8은 도 7의 절취선 A-B에 따른 단면도이다.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 동작을 설명하기 위한 도면들이다.1 is a schematic block diagram of a display device for a mirror according to an embodiment of the present invention.
2 is an equivalent circuit diagram of one pixel of a mirror combined display device according to an embodiment of the present invention and an optical control panel connected thereto.
3 is a diagram illustrating an electrode configuration of an optical control panel according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view showing a pixel and a first electrode of a light control panel connected thereto according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view taken along the cutting line AB in FIG. 4.
6A to 6C are diagrams for describing an operation of a pixel and a light control panel connected thereto according to an embodiment of the present invention.
7 is a plan view showing a pixel and a first electrode of a light control panel connected thereto according to another embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view along the cutting line AB in FIG. 7.
9A to 9C are diagrams for describing an operation of a pixel and a light control panel connected thereto according to another embodiment of the present invention.
본 명세서의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 명세서는 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 명세서의 개시가 완전하도록 하며, 본 명세서가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 명세서는 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present specification, and a method of achieving them will be apparent with reference to embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present specification is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only the embodiments allow the disclosure of the present specification to be complete, and common knowledge in the art to which this specification belongs It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, and this specification is only defined by the scope of the claims.
본 명세서의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 명세서가 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 ' ~ 만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present specification are exemplary, and the present specification is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same components throughout the specification. When'include','have','consist of', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless'~ only' is used. When a component is expressed as a singular number, the plural number is included unless otherwise specified.
구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is interpreted as including the error range even if there is no explicit description.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, ' ~ 상에', ' ~ 상부에', ' ~ 하부에', ' ~ 옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of the description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of the two parts is described as'~ on','~ on top','~ on the bottom','~ next to', etc.,'right' Alternatively, one or more other parts may be located between the two parts unless'direct' is used.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용될 수 있으나, 이 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 명세서의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. may be used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present specification.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예를 상세히 설명한다. 이하의 설명에서, 본 명세서와 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 명세서의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다. Hereinafter, embodiments of the present specification will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, when it is determined that a detailed description of known functions or configurations related to the present specification may unnecessarily obscure the subject matter of the present specification, the detailed description is omitted.
본 발명에 따른 미러 겸용 표시장치는 유리 기판 또는 플렉서블 기판 상에 발광 소자가 형성된 것이다. 발광 소자는 유기발광 다이오드로 구현될 수 있지만, 그에 한정되지 않고 다양한 변형이 가능하다. 본 발명의 실시예에서는 편의상 발광 소자를 유기발광 다이오드로 예시한다. 유기발광 다이오드는 애노드전극과 캐소드전극 사이에 유기물로 이루어진 유기화합물층을 포함한다. 유기발광 다이오드는 애노드전극으로부터 공급받는 정공과 캐소드전극으로부터 공급받는 전자가 유기화합물층 내에서 결합하여 정공-전자쌍인 여기자(exciton)를 형성하고, 여기자가 바닥상태로 돌아오면서 발생하는 에너지에 의해 발광한다. In the mirror combined display device according to the present invention, a light emitting element is formed on a glass substrate or a flexible substrate. The light emitting device may be implemented as an organic light emitting diode, but is not limited thereto, and various modifications are possible. In an embodiment of the present invention, a light emitting device is illustrated as an organic light emitting diode for convenience. The organic light emitting diode includes an organic compound layer made of an organic material between the anode electrode and the cathode electrode. In the organic light emitting diode, holes supplied from the anode electrode and electrons supplied from the cathode electrode are combined in an organic compound layer to form excitons, which are hole-electron pairs, and emit light by energy generated when the excitons return to the ground state. .
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치의 개략적인 블록도이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치의 일 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 등가회로도이다. 그리고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 광 제어패널의 전극 구성도이다.1 is a schematic block diagram of a display device for a mirror according to an embodiment of the present invention. 2 is an equivalent circuit diagram of one pixel of a mirror combined display device according to an embodiment of the present invention and an optical control panel connected thereto. And, Figure 3 is an electrode configuration of the light control panel according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 미러 겸용 표시장치(100)는 영상 처리부(110), 타이밍 제어부(120), 데이터 구동부(130), 스캔 구동부(140), 표시 패널(150), 및 광 제어패널(200)을 구비한다.Referring to FIG. 1, the mirror combined
영상 처리부(110)는 영상 소스인 데이터 신호(DATA)와 더불어 타이밍 신호인 데이터 인에이블 신호(DE) 등을 출력한다. 영상 처리부(110)는 데이터 인에이블 신호(DE) 외에도 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭신호 중 적어도 하나 이상의 타이밍 신호를 더 출력할 수 있다.The
타이밍 제어부(120)는 영상 처리부(110)로부터 타이밍 신호와 더불어 데이터 신호(DATA)를 공급받는다. 타이밍 제어부(120)는 타이밍 신호에 기초하여 스캔 구동부(140)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호(GDC)와 데이터 구동부(130)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 타이밍 제어신호(DDC)를 출력한다.The
데이터 구동부(130)는 타이밍 제어부(120)로부터 공급된 데이터 타이밍 제어신호(DDC)에 응답하여 타이밍 제어부(120)로부터 공급되는 데이터 신호(DATA)를 아날로그 데이터전압으로 변환한다. 데이터 구동부(130)는 표시 패널(150)의 데이터 라인들(DL)을 통해 데이터전압을 출력한다. 데이터 구동부(130)는 IC(Integrated Circuit) 형태로 형성된 후, 전도성 필름을 통해 데이터 라인들(DL)에 접합될 수 있다.The
스캔 구동부(140)는 타이밍 제어부(120)로부터 공급된 게이트 타이밍 제어신호(GDC)에 응답하여 스캔 신호를 생성한 후, 표시 패널(150)의 게이트 라인들(GL)을 통해 스캔 신호를 출력한다. 스캔 구동부(140)는 IC 형태로 형성된 후, 전도성 필름을 통해 게이트라인들(GL)에 접합될 수 있다. 또한, 스캔 구동부(140)는 게이트 인 패널(Gate In Panel) 방식으로 표시 패널(150)의 비 표시영역(베젤 영역)에 직접 형성될 수 있다.The
표시 패널(150)은 데이터 구동부(130) 및 스캔 구동부(140)로부터 공급된 데이터 신호(DATA) 및 스캔 신호에 대응하여 영상을 표시한다. 표시패널(150)에는 다수의 데이터라인들(DL)과, 다수의 게이트라인들(GL)이 교차되고, 이 교차영역마다 픽셀들(SP)이 매트릭스 형태로 배치된다. 픽셀들(SP)은 R 컬러 필터를 포함한 R 픽셀들, G 컬러 필터를 포함한 G 픽셀들, 및 B 컬러 필터를 포함한 B 픽셀들을 포함할 수 있다. 픽셀들(SP)은 컬러 필터가 없는 W 픽셀들을 더 포함할 수 있다. R 픽셀, G 픽셀, B 픽셀, 및 W 픽셀이 하나의 단위 픽셀을 구성할 수 있다. R 픽셀, G 픽셀, B 픽셀, 및 W 픽셀의 발광 영역들은 발광 특성에 따라 적어도 하나 이상이 다를 수 있다. The
픽셀(SP) 각각은 전원 생성부로부터 고전위 픽셀전압(EVDD)과 저전위 픽셀전압(EVSS)을 공급받아, 데이터전압에 비례하는 밝기로 발광한다. 이를 위해, 픽셀(SP) 각각은 데이터전압(Vdata)에 대응되는 구동 전류를 생성하는 구동 소자와 구동 전류에 비례하는 밝기로 발광하는 발광 소자를 포함한다. 본 발명의 픽셀(SP)은 발광 영역과 비발광 영역을 갖는다. 발광 영역은 발광 소자를 구성하는 애노드전극과 캐소드전극과 유기화합물층이 콘택되는 영역으로서, 컬러 필터를 통해 내부광이 방출되는 영역이다. 발광 영역 이외의 영역은 비발광 영역이 된다. 비발광 영역에는 구동 소자와 스위칭 소자와 스토리지 소자를 포함한 회로부가 위치한다.Each of the pixels SP receives the high potential pixel voltage EVDD and the low potential pixel voltage EVSS from the power generator, and emits light with a brightness proportional to the data voltage. To this end, each pixel SP includes a driving element that generates a driving current corresponding to the data voltage Vdata, and a light emitting element that emits light with a brightness proportional to the driving current. The pixel SP of the present invention has a light emitting area and a non-light emitting area. The light-emitting region is a region in which the anode electrode, the cathode electrode, and the organic compound layer constituting the light-emitting element are contacted, and is the region in which internal light is emitted through a color filter. Areas other than the light emitting area are non-light emitting areas. A circuit unit including a driving element, a switching element, and a storage element is positioned in the non-emission area.
한편, 본 발명의 픽셀(SP)은 구동 시간 경과 및/또는 패널 온도 등의 환경 조건에 따른 구동 소자 및/또는 발광 소자의 열화를 센싱하는 데 적합한 회로 구조를 가질 수 있다. 픽셀(SP) 회로의 구성은 다양한 변형이 가능하다. 예컨대, 픽셀(SP)은 발광 소자와 구동 소자 이외에, 복수의 스위칭 소자들과 적어도 하나 이상의 스토리지 소자를 포함할 수 있다. Meanwhile, the pixel SP of the present invention may have a circuit structure suitable for sensing deterioration of a driving element and/or a light emitting element according to environmental conditions such as driving time lapse and/or panel temperature. The configuration of the pixel (SP) circuit can be variously modified. For example, the pixel SP may include a plurality of switching elements and at least one storage element in addition to the light emitting element and the driving element.
광 제어패널(200)은 표시 패널(150)의 일면, 구체적으로 표시 패널(150)의 화면에 배치될 수 있다. 광 제어패널(200)은 각 픽셀(SP)의 발광 영역에 대응되게 위치하는 영상 투과부(210)와, 각 픽셀(SP)의 비발광 영역에 대응되게 위치하는 미러부(220)를 포함한다. 영상 투과부(210)는 데이터전압에 따라 구동되어 발광 영역에서 생성된 내부광을 외부로 방출한다. 영상 투과부(210)의 동작은 데이터전압에 연동되기 때문에 별도의 구동 전원이 필요없다. 미러부(220)는 미러 전원에 따라 구동되어 외부광을 반사시키거나 또는 차단한다. 영상의 대비비를 높일 필요가 있는 경우 미러 전원은 비활성화되어 외부광을 차단하기 때문에, 영상이 화질이 향상될 수 있다. The
도 2를 참조하여 각 픽셀(SP)의 구성과 그에 연결된 광 제어패널(200)의 구성을 부연 설명하면 다음과 같다.The configuration of each pixel SP and the configuration of the
각 픽셀(SP)은 스위칭 트랜지스터(ST), 구동 트랜지스터(DT), 스토리지 커패시터(Cst), 및 유기 발광다이오드(OLED)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Each pixel SP may include a switching transistor ST, a driving transistor DT, a storage capacitor Cst, and an organic light emitting diode OLED, but is not limited thereto.
스위칭 트랜지스터(ST)는 게이트 라인(GL)을 통해 공급된 스캔신호(SCAN)에 따라 온 되어, 데이터 라인(DL) 상의 데이터전압(Vdata)을 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극에 인가하는 스위칭 소자이다. 스위칭 트랜지스터(ST)의 게이트전극은 게이트 라인(GL)에 접속되고, 스위칭 트랜지스터(ST)의 드레인전극은 데이터 라인(DL)에 접속되며, 스위칭 트랜지스터(ST)의 소스전극은 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극에 접속된다. The switching transistor ST is turned on according to the scan signal SCAN supplied through the gate line GL, and is a switching element that applies the data voltage Vdata on the data line DL to the gate electrode of the driving transistor DT. to be. The gate electrode of the switching transistor ST is connected to the gate line GL, the drain electrode of the switching transistor ST is connected to the data line DL, and the source electrode of the switching transistor ST is the driving transistor DT. It is connected to the gate electrode.
구동 트랜지스터(DT)는 데이터전압(Vdata)에 비례하는 구동 전류를 생성하는 구동 소자이다. 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극은 스위칭 트랜지스터(ST)의 소스전극에 접속되고, 구동 트랜지스터(DT)의 드레인전극은 고전위 픽셀전압(EVDD)이 인가되는 전원 라인(PL)에 접속되며, 구동 트랜지스터(DT)의 소스전극은 유기발광 다이오드(OLED)의 애노드전극에 접속된다.The driving transistor DT is a driving element that generates a driving current proportional to the data voltage Vdata. The gate electrode of the driving transistor DT is connected to the source electrode of the switching transistor ST, and the drain electrode of the driving transistor DT is connected to the power line PL to which the high potential pixel voltage EVDD is applied, and is driven. The source electrode of the transistor DT is connected to the anode electrode of the organic light emitting diode (OLED).
유기발광 다이오드(OLED)는 구동 전류에 대응되는 밝기로 발광하는 발광 소자이다. 유기발광 다이오드(OLED)의 애노드전극은 구동 트랜지스터(DT)의 소스전극에 접속되고, 유기발광 다이오드(OLED)의 캐소드전극은 저전위 픽셀전압(EVSS)의 입력단에 접속된다. The organic light emitting diode (OLED) is a light emitting device that emits light at a brightness corresponding to a driving current. The anode electrode of the organic light emitting diode (OLED) is connected to the source electrode of the driving transistor DT, and the cathode electrode of the organic light emitting diode (OLED) is connected to the input terminal of the low potential pixel voltage (EVSS).
스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극과 소스전극에 접속되어 데이터전압(Vdata)을 일정 시간 동안 저장하는 스토리지 소자이다. 스토리지 커패시터(Cst)는 스토리지 상부 전극과 스토리지 하부 전극, 및 그들 사이에 협지된 적어도 하나 이상의 절연막을 포함한다.The storage capacitor Cst is a storage element connected to the gate electrode and the source electrode of the driving transistor DT to store the data voltage Vdata for a predetermined time. The storage capacitor Cst includes a storage upper electrode and a storage lower electrode, and at least one insulating film sandwiched between them.
이러한 각 픽셀(SP)에는 광 제어패널(200)에 포함된 제1 커패시터들(PCAP) 중 어느 하나가 연결된다. 제1 커패시터(PCAP)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극에 접촉되어 데이터전압(Vdata)을 인가받는 제1 전극(EC1)과, 공통전압(COM)이 인가되는 제2 전극(EC2)과, 상기 제1 및 제2 전극들(EC1,EC2) 사이에 협지된 제1 전기 거동 물질(EBM1)을 포함한다. 제1 및 제2 전극들(EC1,EC2)은 각 픽셀(SP)의 발광 영역에 중첩된다. 제1 및 제2 전극들(EC1,EC2)은 도 3과 같이 각 픽셀(SP) 단위로 패터닝될 수 있다. 제1 커패시터들(PCAP)을 구성하는 제1 전극들(EC1)은 개별적으로 데이터전압(Vdata)을 공급받는 데 반해, 제2 전극들(EC2)은 공통으로 공통전압(COM)을 공급받는다. 공통전압(COM)은 기저 전압(그라운드 전압)일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.One of the first capacitors PCAP included in the
광 제어패널(200)에는 제2 커패시터들(RCAP)이 더 포함된다. 제2 커패시터(RCAP)는 미러 전원(Vdrv)의 고전압 단자(+)에 연결된 제1 미러 전극(EP1)과, 미러 전원(Vdrv)의 저전압 단자(-)에 연결된 제2 미러 전극(EP2)과, 상기 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2) 사이에 협지된 제2 전기 거동 물질(EBM2)을 포함한다. 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)은 각 픽셀(SP)의 비발광 영역에 중첩된다. 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)은 도 3과 같이 복수의 픽셀들 단위로 패터닝되어 스트라이프 형태를 가질 수 있다. The second capacitors RCAP are further included in the
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 제1 전극을 보여주는 평면도이다. 그리고, 도 5는 도 4의 절취선 A-B에 따른 단면도이다. 4 is a plan view showing a pixel and a first electrode of a light control panel connected thereto according to an embodiment of the present invention. And, Fig. 5 is a cross-sectional view taken along line A-B of Fig. 4.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 픽셀(SP)은 코플라나(coplanar) 구조로 구현되는 트랜지스터들을 포함한다. 코플라나 구조의 픽셀(SP)에서, 구동 트랜지스터(DT)와 스위칭 트랜지스터(ST) 각각은 액티브층의 위에 위치한 게이트전극을 갖는다.4 and 5, the pixel SP according to an embodiment of the present invention includes transistors implemented in a coplanar structure. In the pixel SP of the coplanar structure, each of the driving transistor DT and the switching transistor ST has a gate electrode located on the active layer.
코플라나 구조의 픽셀(SP)은 발광 영역과 비발광 영역을 포함한다.The coplanar structure pixel SP includes a light emitting area and a non-light emitting area.
발광 영역에서는 유기발광다이오드(OLED)를 구성하는 애노드전극(AND)과 캐소드전극(CAT)과 유기화합물층(EL)이 콘택된다. 비발광 영역에는 데이터라인(DL), 게이트라인(GL), 전원 라인(PL), 구동 트랜지스터(DT), 스토리지 커패시터(Cst), 및 스위칭 트랜지스터(ST)가 배치된다.In the emission region, the anode electrode (AND), the cathode electrode (CAT), and the organic compound layer (EL) constituting the organic light emitting diode (OLED) are contacted. The data line DL, the gate line GL, the power line PL, the driving transistor DT, the storage capacitor Cst, and the switching transistor ST are disposed in the non-emission area.
픽셀(SP)의 구성을 자세히 설명하면, 제2 기판(GLS2) 상에 스위칭 트랜지스터(ST)의 제1 반도체층(ACT1)과 구동 트랜지스터(DT)의 제2 반도체층(ACT2)이 위치한다. 제1 및 제2 반도체층들(ACT1,ACT2)은 실리콘 반도체나 산화물 반도체로 이루어질 수 있다. 실리콘 반도체는 비정질 실리콘 또는 결정화된 다결정 실리콘을 포함할 수 있다. 여기서, 다결정 실리콘은 이동도가 높아(100㎠/Vs 이상), 에너지 소비 전력이 낮고 신뢰성이 우수하여 구동 트랜지스터(DT)에 적용될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 한편, 산화물 반도체는 오프-전류가 낮으므로, 온(On) 시간이 짧고 오프(Off) 시간을 길게 유지하는 스위칭 트랜지스터(ST)에 적용될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 제1 및 제2 반도체층들(ACT1,ACT2)은 p형 또는 n형의 불순물을 포함하는 드레인 영역 및 소스 영역을 포함하고 이들 사이에 형성된 채널을 포함한다. When the configuration of the pixel SP is described in detail, the first semiconductor layer ACT1 of the switching transistor ST and the second semiconductor layer ACT2 of the driving transistor DT are positioned on the second substrate GLS2. The first and second semiconductor layers ACT1 and ACT2 may be made of a silicon semiconductor or an oxide semiconductor. The silicon semiconductor may include amorphous silicon or crystallized polycrystalline silicon. Here, polycrystalline silicon has a high mobility (100 cm 2 /Vs or more), has low energy consumption, and has excellent reliability, and thus may be applied to the driving transistor DT, but is not limited thereto. Meanwhile, since the oxide semiconductor has a low off-current, it may be applied to a switching transistor ST having a short on time and a long off time, but is not limited thereto. The first and second semiconductor layers ACT1 and ACT2 include a drain region and a source region including p-type or n-type impurities, and a channel formed therebetween.
제1 및 제2 반도체층들(ACT1,ACT2) 상에 게이트 절연막(GI)이 위치한다. 게이트 절연막(GI)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다. 게이트 절연막(GI)은 기판 전체에 형성될 수도 있으나 반도체층들(ACT1,ACT2)의 일부에만 패턴되어 형성될 수도 있다. The gate insulating layer GI is positioned on the first and second semiconductor layers ACT1 and ACT2. The gate insulating layer GI may be silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or multiple layers thereof. The gate insulating layer GI may be formed on the entire substrate, but may also be formed by patterning only a portion of the semiconductor layers ACT1 and ACT2.
게이트 절연막(GI) 상에서 반도체층들(ACT1,ACT2)의 채널과 대응되게 스위칭 트랜지스터(ST)의 게이트전극(SG)과 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)이 위치한다. 게이트전극들(SG,DG)은 게이트라인(GL)에 연결된다. 게이트라인(GL)과 동일층 상에 스토리지 커패시터(Cst)의 하부전극이 위치한다. 게이트라인(GL)과 게이트전극들(SG,DG)과 스토리지 커패시터(Cst)의 하부전극을 포함한 게이트 금속 패턴은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 형성된다. 또한, 게이트라인(GL)과 게이트전극들(SG,DG)과 스토리지 커패시터(Cst)의 하부전극은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 다중층일 수 있다. The gate electrode SG of the switching transistor ST and the gate electrode DG of the driving transistor DT are positioned on the gate insulating layer GI to correspond to the channels of the semiconductor layers ACT1 and ACT2. The gate electrodes SG and DG are connected to the gate line GL. The lower electrode of the storage capacitor Cst is positioned on the same layer as the gate line GL. The gate metal pattern including the gate line GL and the lower electrodes of the gate electrodes SG and DG and the storage capacitor Cst are molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), and titanium. (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). In addition, the lower electrodes of the gate lines GL, the gate electrodes SG, DG, and the storage capacitor Cst are molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), and titanium (Ti). , Nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu).
게이트 금속 패턴 상에 층간 절연막(ILD)이 위치한다. 층간 절연막(ILD)은 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다.An interlayer insulating layer (ILD) is positioned on the gate metal pattern. The interlayer insulating film ILD may be a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), or multiple layers thereof.
층간 절연막(ILD) 상에 데이터라인(DL), 전원라인(PL), 스위칭 트랜지스터(ST)의 드레인전극(SD)과 소스전극(SS), 구동 트랜지스터(DT)의 드레인전극(DD)과 소스전극(DS), 및 스토리지 커패시터(Cst)의 상부전극을 포함한 데이터 금속 패턴이 위치한다. 이러한 데이터 금속 패턴은 단일층 또는 다중층으로 이루어질 수 있다. 단일층일 경우 데이터 금속 패턴은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 또한, 다중층일 경우 데이터 금속 패턴은 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴의 2중층, 티타늄/알루미늄/티타늄, 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴 또는 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴/몰리브덴의 3중층으로 이루어질 수 있다. Data line DL, power line PL, drain electrode SD and source electrode SS of switching transistor ST, drain electrode DD and source of driving transistor DT on interlayer insulating film ILD A data metal pattern including an electrode DS and an upper electrode of the storage capacitor Cst is positioned. The data metal pattern may be formed of a single layer or multiple layers. In the case of a single layer, the data metal pattern is from the group consisting of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd) and copper (Cu). It can be made of any one selected or alloys thereof. In addition, in the case of a multi-layer, the data metal pattern may consist of a double layer of molybdenum/aluminum-neodymium, a triple layer of titanium/aluminum/titanium, molybdenum/aluminum/molybdenum or molybdenum/aluminum-neodymium/molybdenum.
스위칭 트랜지스터(ST)의 드레인전극(SD)과 소스전극(SS)은 각각 층간 절연막(ILD)을 관통하는 제1 콘택홀(CH1)과 제2 콘택홀(CH2)을 통해 제1 반도체층(ACT1)에 연결된다. 구동 트랜지스터(DT)의 드레인전극(DD)과 소스전극(DS)은 각각 층간 절연막(ILD)을 관통하는 제4 콘택홀(CH4)과 제5 콘택홀(CH5)을 통해 제2 반도체층(ACT2)에 연결된다. 스위칭 트랜지스터(ST)의 소스전극(SS)과 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)은 층간 절연막(ILD)을 관통하는 제3 콘택홀(CH3)을 통해 연결된다. The drain electrode SD and the source electrode SS of the switching transistor ST respectively pass through the first contact hole CH1 and the second contact hole CH2 penetrating the interlayer insulating layer ILD, respectively. ). The drain electrode DD and the source electrode DS of the driving transistor DT are respectively formed through the second semiconductor layer ACT2 through the fourth contact hole CH4 and the fifth contact hole CH5 passing through the interlayer insulating layer ILD. ). The source electrode SS of the switching transistor ST and the gate electrode DG of the driving transistor DT are connected through a third contact hole CH3 passing through the interlayer insulating layer ILD.
데이터 금속 패턴 상에 패시베이션 막(PAS)이 위치한다. 패시베이션 막(PAS)은 하부의 트랜지스터들(ST,DT)을 보호하는 절연막으로, 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다.A passivation film (PAS) is positioned on the data metal pattern. The passivation film PAS is an insulating film protecting the lower transistors ST and DT, and may be a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), or multiple layers thereof.
패시베이션 막(PAS) 상에 컬러 필터(CF)가 위치한다. 컬러 필터(CF)는 발광층에서 생성된 백색광의 색을 변환시키는 것으로 발광 영역에 위치한다. 컬러 필터(CF)는 R 컬러 필터, G 컬러 필터, B 컬러 필터 중 어느 하나일 수 있다. The color filter CF is positioned on the passivation film PAS. The color filter CF converts the color of white light generated in the light emitting layer and is located in the light emitting area. The color filter CF may be any one of an R color filter, a G color filter, and a B color filter.
컬러 필터(CF) 상에 평탄화 막(OC)이 위치한다. 평탄화 막(OC)은 하부 구조의 단차를 완화시키기 위한 것으로, 폴리이미드(polyimide), 벤조사이클로부틴계 수지(benzocyclobutene series resin), 아크릴레이트(acrylate) 등의 유기물로 이루어진다. 평탄화 막(OC)은 상기 유기물을 액상 형태로 코팅한 다음 경화시키는 SOG(spin on glass)와 같은 방법으로 형성될 수 있다. 평탄화 막(OC)의 일부 영역에는 패시베이션 막(PAS)을 관통하여 구동 트랜지스터(DT)의 소스전극(DS)을 노출시키는 제6 콘택홀(CH6)이 위치한다.The planarization film OC is positioned on the color filter CF. The planarization film (OC) is for alleviating the step difference of the lower structure, and is made of organic materials such as polyimide, benzocyclobutene series resin, and acrylate. The planarization film (OC) may be formed by a method such as spin on glass (SOG) for coating the organic material in a liquid form and then curing. A sixth contact hole CH6 exposing the source electrode DS of the driving transistor DT through the passivation film PAS is positioned in a portion of the planarization film OC.
평탄화 막(OC) 상에 화소 전극으로 기능하는 애노드전극(AND)이 위치한다. 애노드전극(AND)은 제6 콘택홀(CH6)을 통해 구동 트랜지스터(DT)의 소스전극(DS)에 연결된다. 애노드전극(AND)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide) 등의 투명도전물질로 이루어질 수 있다.The anode electrode AND serving as a pixel electrode is positioned on the planarization film OC. The anode electrode AND is connected to the source electrode DS of the driving transistor DT through the sixth contact hole CH6. The anode electrode (AND) may be made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide (ZnO).
애노드전극(AND) 상에 각 픽셀의 발광 영역을 구획하는 뱅크 패턴(BNK)이 위치한다. 뱅크 패턴(BNK)은 폴리이미드(polyimide), 벤조사이클로부틴계 수지(benzocyclobutene series resin), 아크릴레이트(acrylate) 등의 유기물로 이루어진다. 뱅크 패턴(BNK)은 발광 영역에서 애노드전극(AND)을 노출한다.On the anode electrode AND, a bank pattern BNK partitioning a light emitting region of each pixel is positioned. The bank pattern (BNK) is made of organic materials such as polyimide, benzocyclobutene series resin, and acrylate. The bank pattern BNK exposes the anode electrode AND in the emission region.
뱅크 패턴(BNK) 상에 유기화합물층(EL)이 위치한다. 유기화합물층(EL)은 전자와 정공이 결합하여 발광하는 발광층을 포함하며, 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층 또는 전자주입층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. 유기화합물층(EL)은 발광 영역에서 뱅크 패턴(BNK)에 의해 노출된 애노드전극(AND)에 콘택된다.The organic compound layer EL is positioned on the bank pattern BNK. The organic compound layer EL includes a light emitting layer in which electrons and holes are combined to emit light, and may further include at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer. The organic compound layer EL is in contact with the anode electrode AND exposed by the bank pattern BNK in the emission region.
유기화합물층(EL) 상에 캐소드전극(CAT)이 위치한다. 캐소드전극(CAT)은 일함수가 낮은 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. The cathode electrode CAT is positioned on the organic compound layer EL. The cathode electrode CAT may be formed of magnesium (Mg), calcium (Ca), aluminum (Al), silver (Ag), or an alloy thereof having a low work function.
캐소드전극(CAT) 상에 봉지(encapsulation)층(SUS)이 위치한다. 봉지층(ENC)은 픽셀 내부로 유입될 수 있는 수분이나 산소를 차단하기 위해, 픽셀 어레이를 덮도록 구비된다. 봉지층(ENC)은 금속 물질을 포함할 수 있다. 이 경우, 봉지층(ENC)은, 열 팽창계수가 낮은 철(Fe), 니켈(Ni) 합금인 인바(invar), 또는 SUS(Steel Use Stainless)로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 봉지층(ENC)은 유기 물질과 무기 물질을 포함할 수 있다. 이 경우, 봉지층(ENC)은 유기 물질과 무기 물질이 교번하여 적층된 다중 층일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.An encapsulation layer SUS is positioned on the cathode electrode CAT. The encapsulation layer ENC is provided to cover the pixel array to block moisture or oxygen that may be introduced into the pixel. The encapsulation layer ENC may include a metal material. In this case, the encapsulation layer ENC may be made of iron (Fe), a nickel (Ni) alloy, invar, or steel use stainless (SUS), but is not limited thereto. In addition, the encapsulation layer ENC may include an organic material and an inorganic material. In this case, the encapsulation layer ENC may be a multi-layer in which organic materials and inorganic materials are alternately stacked, but is not limited thereto.
캐소드전극(CAT)와 봉지층(ENC) 사이에는 평탄화용 접착제(AHS)가 위치될 수 있다.A flattening adhesive (AHS) may be positioned between the cathode electrode CAT and the encapsulation layer ENC.
도 4 및 도 5를 참조하면, 전술한 코플라나 구조의 픽셀(SP) 앞(내부광 방출 방향)에는 광 제어패널(200)이 위치한다. 4 and 5, the
광 제어패널(200)은 픽셀(SP)의 발광 영역에 대응되게 위치하는 영상 투과부(210)와, 픽셀(SP)의 비발광 영역에 대응되게 위치하는 미러부(220)를 포함한다.The
광 제어패널(200)의 구성을 자세히 설명하면, 제1 기판(GLS1) 상에 영상 투과부(210)의 제2 전극(EC2)과 미러부(220)의 제2 미러 전극(EP2)이 위치한다. 제2 전극(EC2)과 제2 미러 전극(EP2)은 투명한 금속 산화물을 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 전극(EC2)과 제2 미러 전극(EP2)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide)로 구현될 수 있다.When the configuration of the
제2 전극(EC2)과 제2 미러 전극(EP2) 상에 영상 투과부(210)의 제1 전기 거동 물질(EBM1)과 미러부(220)의 제2 전기 거동 물질(EBM2)이 위치할 수 있다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)과 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 동일하게 구성될 수 있다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)과 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 고분자 분산형 박막 액정(Polymer Dispersed Liquid Crystal), 전기 영동 물질(Electro-Phoretic Material), 전기 변색 물질(Electrochromic Material), 부유 입자 디바이스(Suspended Particle Device) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다. 고분자 분산형 박막 액정은 전압에 따른 굴절율 차이로 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. 전기 영동 물질은 전계에 의해 움직이는 흑색 입자와 백색 입자를 포함하여 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. 전기 변색 물질은 전극 물질에서 전기화학적으로 산화 또는 환원 반응이 일어날 때 가역적으로 색변화를 일으켜 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. 부유 입자 디바이스는 전압에 따라 부유 입자의 배열이나 방향성을 조절하여 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. The first electrical behavior material EBM1 of the
제1 전기 거동 물질(EBM1)과 제2 전기 거동 물질(EBM2) 상에 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)과 미러부(220)의 제1 미러 전극(EP1)이 위치한다. 제1 전극(EC1)은 투명한 금속 산화물을 포함할 수 있다. 제1 미러 전극(EP1)은 반사율이 높은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 미러 전극(EP1)은 반사율이 높은 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. The first electrode EC1 of the
영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)과 픽셀(SP)의 구동 트랜지스터(DT) 사이에는 제2 기판(GLS2)이 위치한다. 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)은 제2 기판(GLS2)에 형성된 기판 관통홀(GCH)을 통해 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)에 접촉된다. 따라서, 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)은 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)에 인가된 데이터전압(Vdata)에 따라 구동될 수 있다. The second substrate GLS2 is positioned between the first electrode EC1 of the
도 6a 내지 도 6c를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 동작을 설명하면 다음과 같다. 도 6a 내지 도 6c에서 연결부는 기판 관통홀(GCH)을 통해 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)이 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)에 접촉되는 영역을 의미한다.Referring to FIGS. 6A to 6C, the operation of the pixel and the optical control panel connected thereto according to an embodiment of the present invention will be described as follows. 6A to 6C, the connection part refers to an area in which the first electrode EC1 of the
도 6a는 영상 표시 없이 미러 상태로만 동작되는 경우를 보여준다. 도 6a를 참조하면, 데이터전압(Vdata)이 미리 설정된 기준값보다 작을 때(즉, 표시 영상이 블랙에 가까울 때), 영상 투과부(220)는 발광 영역의 내부광이 외부로 방출되는 것을 차단한다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)은 제1 전극(EC1)에 인가되는 데이터전압(Vdata)과 제2 전극(EC2)에 인가되는 공통전압(COM)에 의해 차광 모드로 구동된다. 6A shows a case in which only the mirror state is operated without displaying the image. Referring to FIG. 6A, when the data voltage Vdata is smaller than a preset reference value (that is, when the display image is close to black), the
이때, 미러부(220)는 활성화된 미러 전원(Vdrv)에 따라 외부광을 반사시켜 미러 기능을 구현한다. 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)에 인가된 활성 미러 전원(Vdrv)에 의해 투광 모드로 구동되고, 제1 미러 전극(EP1)은 반사 전극 역할을 한다.At this time, the
도 6b는 미러 기능을 오프시켜 표시 영상의 대비비를 높이기 위한 동작을 보여준다. 도 6b를 참조하면, 데이터전압(Vdata)이 미리 설정된 기준값과 같거나 그보다 클 때(즉, 표시 영상이 화이트에 가까울 때), 영상 투과부(220)는 발광 영역의 내부광을 외부로 방출한다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)은 제1 전극(EC1)에 인가되는 데이터전압(Vdata)과 제2 전극(EC2)에 인가되는 공통전압(COM)에 의해 투광 모드로 구동된다. 6B shows an operation for increasing the contrast ratio of the display image by turning off the mirror function. Referring to FIG. 6B, when the data voltage Vdata is equal to or greater than a preset reference value (that is, when the display image is close to white), the
이때, 미러부(220)는 비활성화된 미러 전원(Vdrv)에 따라 외부광을 차단시킴으로써, 표시 영상(즉, 영상 투과부(220)에서 방출되는 내부광으로 표현되는 영상)의 대비비를 높일 수 있다. 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)에 인가된 비활성 미러 전원(Vdrv)에 의해 차광 모드로 구동된다. 미러부(220)로 입사된 외부광은 제2 전기 거동 물질(EBM2)에 의해 외부로 반사되지 못한다.In this case, the
도 6c는 영상 표시와 미러 기능을 동시하는 구현하는 동작을 보여준다. 도 6c를 참조하면, 데이터전압(Vdata)이 미리 설정된 기준값과 같거나 그보다 클 때(즉, 표시 영상이 화이트에 가까울 때), 영상 투과부(220)는 발광 영역의 내부광을 외부로 방출한다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)은 제1 전극(EC1)에 인가되는 데이터전압(Vdata)과 제2 전극(EC2)에 인가되는 공통전압(COM)에 의해 투광 모드로 구동된다. 6C shows an operation of simultaneously implementing an image display and a mirror function. Referring to FIG. 6C, when the data voltage Vdata is equal to or greater than a preset reference value (that is, when the display image is close to white), the
이때, 미러부(220)는 활성화된 미러 전원(Vdrv)에 따라 외부광을 반사시켜 미러 기능을 구현할 수 있다. 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)에 인가된 활성 미러 전원(Vdrv)에 의해 투광 모드로 구동되고, 제1 미러 전극(EP1)은 반사 전극 역할을 한다.In this case, the
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 제1 전극을 보여주는 평면도이다. 그리고, 도 8은 도 7의 절취선 A-B에 따른 단면도이다.7 is a plan view showing a pixel and a first electrode of a light control panel connected thereto according to another embodiment of the present invention. And, Fig. 8 is a cross-sectional view taken along line A-B of Fig. 7.
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 픽셀(SP)은 에치 스토퍼(Etch Stopper) 구조로 구현되는 트랜지스터들을 포함한다. 에치 스토퍼 구조의 픽셀(SP)에서, 구동 트랜지스터(DT)와 스위칭 트랜지스터(ST) 각각은 액티브층의 아래에 위치한 게이트전극을 갖는다. 7 and 8, a pixel SP according to another embodiment of the present invention includes transistors implemented in an etch stopper structure. In the pixel SP of the etch stopper structure, each of the driving transistor DT and the switching transistor ST has a gate electrode located under the active layer.
에치 스토퍼 구조의 픽셀(SP)은 발광 영역과 비발광 영역을 포함한다.The pixel SP of the etch stopper structure includes a light emitting area and a non-light emitting area.
발광 영역에서는 유기발광다이오드(OLED)를 구성하는 애노드전극(AND)과 캐소드전극(CAT)과 유기화합물층(EL)이 콘택된다. 비발광 영역에는 데이터라인(DL), 게이트라인(GL), 전원 라인(PL), 구동 트랜지스터(DT), 스토리지 커패시터(Cst), 및 스위칭 트랜지스터(ST)가 배치된다.In the emission region, the anode electrode (AND), the cathode electrode (CAT), and the organic compound layer (EL) constituting the organic light emitting diode (OLED) are contacted. The data line DL, the gate line GL, the power line PL, the driving transistor DT, the storage capacitor Cst, and the switching transistor ST are disposed in the non-emission area.
픽셀(SP)의 구성을 자세히 설명하면, 제2 기판(GLS2) 상에 스위칭 트랜지스터(ST)의 게이트전극(SG)과 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)과 게이트라인(GL)과 스토리지 커패시터(Cst)의 하부전극을 포함한 게이트 금속 패턴이 위치한다. When the configuration of the pixel SP is described in detail, the gate electrode SG of the switching transistor ST and the gate electrode DG of the driving transistor DT and the gate line GL and storage on the second substrate GLS2. The gate metal pattern including the lower electrode of the capacitor Cst is positioned.
게이트 금속 패턴 상에 게이트 절연막(GI)이 위치한다. The gate insulating layer GI is positioned on the gate metal pattern.
게이트 절연막(GI) 상에 스위칭 트랜지스터(ST)의 제1 반도체층(ACT1)과 구동 트랜지스터(DT)의 제2 반도체층(ACT2)이 위치한다. The first semiconductor layer ACT1 of the switching transistor ST and the second semiconductor layer ACT2 of the driving transistor DT are positioned on the gate insulating layer GI.
제1 및 제2 반도체층들(ACT1,ACT2) 상에 에치 스토퍼 패턴(ESL)이 위치한다. 에치 스토퍼 패턴(ESL)은 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)과 중첩되며 그보다 더 넓은 면적으로 위치할 수 있다. The etch stopper pattern ESL is positioned on the first and second semiconductor layers ACT1 and ACT2. The etch stopper pattern ESL overlaps the gate electrode DG of the driving transistor DT and may be positioned with a larger area.
에치 스토퍼 패턴(ESL) 상에 데이터라인(DL), 전원라인(PL), 스위칭 트랜지스터(ST)의 드레인전극(SD)과 소스전극(SS), 구동 트랜지스터(DT)의 드레인전극(DD)과 소스전극(DS), 및 스토리지 커패시터(Cst)의 상부전극을 포함한 데이터 금속 패턴이 위치한다.On the etch stopper pattern ESL, the data line DL, the power line PL, the drain electrode SD and the source electrode SS of the switching transistor ST, and the drain electrode DD of the driving transistor DT, A data metal pattern including a source electrode DS and an upper electrode of the storage capacitor Cst is positioned.
스위칭 트랜지스터(ST)의 드레인전극(SD)과 소스전극(SS)은 제1 반도체층(ACT1)에 직접 연결된다. 구동 트랜지스터(DT)의 드레인전극(DD)과 소스전극(DS)은 제2 반도체층(ACT2)에 직접 연결된다. 스위칭 트랜지스터(ST)의 소스전극(SS)과 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)은 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제3 콘택홀(CH3)을 통해 연결된다. The drain electrode SD and the source electrode SS of the switching transistor ST are directly connected to the first semiconductor layer ACT1. The drain electrode DD and the source electrode DS of the driving transistor DT are directly connected to the second semiconductor layer ACT2. The source electrode SS of the switching transistor ST and the gate electrode DG of the driving transistor DT are connected through a third contact hole CH3 passing through the gate insulating layer GI.
데이터 금속 패턴 상에 제1 패시베이션 막(PAS1)이 위치한다. 제1 패시베이션 막(PAS1)은 하부의 트랜지스터들(ST,DT)을 보호한다.The first passivation film PAS1 is positioned on the data metal pattern. The first passivation film PAS1 protects the lower transistors ST and DT.
제1 패시베이션 막(PAS1) 상에 컬러 필터(CF)가 위치한다. 컬러 필터(CF)는 발광층에서 생성된 백색광의 색을 변환시키는 것으로 발광 영역에 위치한다. 컬러 필터(CF)는 R 컬러 필터, G 컬러 필터, B 컬러 필터 중 어느 하나일 수 있다. The color filter CF is positioned on the first passivation film PAS1. The color filter CF converts the color of white light generated in the light emitting layer and is located in the light emitting area. The color filter CF may be any one of an R color filter, a G color filter, and a B color filter.
컬러 필터(CF) 상에 평탄화 막(OC)이 위치한다. 평탄화 막(OC)은 하부 구조의 단차를 완화시킨다. 그리고, 평탄화 막(OC) 상에 제2 패시베이션 막(PAS2)이 위치한다. 제2 패시베이션 막(PAS2)와 평탄화 막(OC)과 제1 패시베이션 막(PAS1)을 관통하여 구동 트랜지스터(DT)의 소스전극(DS)을 노출시키는 제6 콘택홀(CH6)이 위치한다.The planarization film OC is positioned on the color filter CF. The planarization film (OC) alleviates the step difference of the underlying structure. Then, the second passivation film PAS2 is positioned on the planarization film OC. A sixth contact hole CH6 exposing the source electrode DS of the driving transistor DT is positioned through the second passivation film PAS2, the planarization film OC, and the first passivation film PAS1.
제2 패시베이션 막(PAS2) 상에 화소 전극으로 기능하는 애노드전극(AND)이 위치한다. 애노드전극(AND)은 제6 콘택홀(CH6)을 통해 구동 트랜지스터(DT)의 소스전극(DS)에 연결된다.An anode electrode AND serving as a pixel electrode is positioned on the second passivation film PAS2. The anode electrode AND is connected to the source electrode DS of the driving transistor DT through the sixth contact hole CH6.
애노드전극(AND) 상에 각 픽셀의 발광 영역을 구획하는 뱅크 패턴(BNK)이 위치한다. 뱅크 패턴(BNK)은 발광 영역에서 애노드전극(AND)을 노출한다.On the anode electrode AND, a bank pattern BNK partitioning a light emitting region of each pixel is positioned. The bank pattern BNK exposes the anode electrode AND in the emission region.
뱅크 패턴(BNK) 상에 유기화합물층(EL)이 위치한다. 유기화합물층(EL)은 전자와 정공이 결합하여 발광하는 발광층을 포함하며, 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층 또는 전자주입층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. 유기화합물층(EL)은 발광 영역에서 뱅크 패턴(BNK)에 의해 노출된 애노드전극(AND)에 콘택된다.The organic compound layer EL is positioned on the bank pattern BNK. The organic compound layer EL includes a light emitting layer in which electrons and holes are combined to emit light, and may further include at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer. The organic compound layer EL is in contact with the anode electrode AND exposed by the bank pattern BNK in the emission region.
유기화합물층(EL) 상에 캐소드전극(CAT)이 위치한다. 캐소드전극(CAT)은 광을 반사할 수 있는 반사 전극일 수 있다.The cathode electrode CAT is positioned on the organic compound layer EL. The cathode electrode CAT may be a reflective electrode capable of reflecting light.
캐소드전극(CAT) 상에 봉지층(SUS)이 위치한다. 봉지층(ENC)은 픽셀 내부로 유입될 수 있는 수분이나 산소를 차단하기 위해, 픽셀 어레이를 덮도록 구비된다. The encapsulation layer SUS is positioned on the cathode electrode CAT. The encapsulation layer ENC is provided to cover the pixel array to block moisture or oxygen that may be introduced into the pixel.
캐소드전극(CAT)와 봉지층(ENC) 사이에는 캡핑층(CPL)과 평탄화용 접착제(AHS)가 더 위치될 수 있다. 캡핑층(CPL)은 캐소드전극(CAT) 상부에 위치하여 캐소드전극(CAT)을 보호하고 외부 광효율을 향상시키는 기능을 한다. 캡핑층(CPL)은 유기막 또는 무기막으로 형성될 수 있다.A capping layer CPL and an adhesive for planarization (AHS) may be further disposed between the cathode electrode CAT and the encapsulation layer ENC. The capping layer CPL is positioned on the cathode electrode CAT to protect the cathode electrode CAT and improve external light efficiency. The capping layer CPL may be formed of an organic layer or an inorganic layer.
도 7 및 도 8을 참조하면, 전술한 에치 스토퍼 구조의 픽셀(SP) 앞(내부광 방출 방향)에는 광 제어패널(200)이 위치한다. Referring to FIGS. 7 and 8, the
광 제어패널(200)은 픽셀(SP)의 발광 영역에 대응되게 위치하는 영상 투과부(220)와, 픽셀(SP)의 비발광 영역에 대응되게 위치하는 미러부(220)를 포함한다.The
광 제어패널(200)의 구성을 자세히 설명하면, 제1 기판(GLS1) 상에 영상 투과부(210)의 제2 전극(EC2)과 미러부(220)의 제2 미러 전극(EP2)이 위치한다. 제2 전극(EC2)과 제2 미러 전극(EP2)은 투명한 금속 산화물을 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 전극(EC2)과 제2 미러 전극(EP2)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide)로 구현될 수 있다.When the configuration of the
제2 전극(EC2)과 제2 미러 전극(EP2) 상에 영상 투과부(210)의 제1 전기 거동 물질(EBM1)과 미러부(220)의 제2 전기 거동 물질(EBM2)이 위치할 수 있다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)과 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 동일하게 구성될 수 있다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)과 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 고분자 분산형 박막 액정(Polymer Dispersed Liquid Crystal), 전기 영동 물질(Electro-Phoretic Material), 전기 변색 물질(Electrochromic Material), 부유 입자 디바이스(Suspended Particle Device) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다. 고분자 분산형 박막 액정은 전압에 따른 굴절율 차이로 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. 전기 영동 물질은 전계에 의해 움직이는 흑색 입자와 백색 입자를 포함하여 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. 전기 변색 물질은 전극 물질에서 전기화학적으로 산화 또는 환원 반응이 일어날 때 가역적으로 색변화를 일으켜 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. 부유 입자 디바이스는 전압에 따라 부유 입자의 배열이나 방향성을 조절하여 투광 모드와 차광 모드를 구현한다. The first electrical behavior material EBM1 of the
제1 전기 거동 물질(EBM1)과 제2 전기 거동 물질(EBM2) 상에 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)과 미러부(220)의 제1 미러 전극(EP1)이 위치한다. 제1 전극(EC1)은 투명한 금속 산화물을 포함할 수 있다. 제1 미러 전극(EP1)은 반사율이 높은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 미러 전극(EP1)은 반사율이 높은 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. The first electrode EC1 of the
영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)과 픽셀(SP)의 구동 트랜지스터(DT) 사이에는 제2 기판(GLS2)이 위치한다. 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)은 제2 기판(GLS2)에 형성된 기판 관통홀(GCH)을 통해 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)에 접촉된다. 따라서, 영상 투과부(210)의 제1 전극(EC1)은 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극(DG)에 인가된 데이터전압(Vdata)에 따라 구동될 수 있다. The second substrate GLS2 is positioned between the first electrode EC1 of the
도 9a 내지 도 9c를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 픽셀과 그에 연결된 광 제어패널의 동작을 설명하면 다음과 같다. Referring to FIGS. 9A to 9C, an operation of a pixel and a light control panel connected thereto according to another embodiment of the present invention will be described as follows.
도 9a는 영상 표시 없이 미러 상태로만 동작되는 경우를 보여준다. 도 9a를 참조하면, 데이터전압(Vdata)이 미리 설정된 기준값보다 작을 때(즉, 표시 영상이 블랙에 가까울 때), 영상 투과부(220)는 발광 영역의 내부광이 외부로 방출되는 것을 차단한다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)은 제1 전극(EC1)에 인가되는 데이터전압(Vdata)과 제2 전극(EC2)에 인가되는 공통전압(COM)에 의해 차광 모드로 구동된다. 9A shows a case where only the mirror state is operated without displaying the image. Referring to FIG. 9A, when the data voltage Vdata is smaller than a preset reference value (that is, when the display image is close to black), the
이때, 미러부(220)는 활성화된 미러 전원(Vdrv)에 따라 외부광을 반사시켜 미러 기능을 구현한다. 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)에 인가된 활성 미러 전원(Vdrv)에 의해 투광 모드로 구동되고, 제1 미러 전극(EP1)은 반사 전극 역할을 한다.At this time, the
도 9b는 미러 기능을 오프시켜 표시 영상의 대비비를 높이기 위한 동작을 보여준다. 도 9b를 참조하면, 데이터전압(Vdata)이 미리 설정된 기준값과 같거나 그보다 클 때(즉, 표시 영상이 화이트에 가까울 때), 영상 투과부(220)는 발광 영역의 내부광을 외부로 방출한다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)은 제1 전극(EC1)에 인가되는 데이터전압(Vdata)과 제2 전극(EC2)에 인가되는 공통전압(COM)에 의해 투광 모드로 구동된다. 9B shows an operation for increasing the contrast ratio of the display image by turning off the mirror function. Referring to FIG. 9B, when the data voltage Vdata is equal to or greater than a preset reference value (that is, when the display image is close to white), the
이때, 미러부(220)는 비활성화된 미러 전원(Vdrv)에 따라 외부광을 차단시킴으로써, 표시 영상(즉, 영상 투과부(220)에서 방출되는 내부광으로 표현되는 영상)의 대비비를 높일 수 있다. 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)에 인가된 비활성 미러 전원(Vdrv)에 의해 차광 모드로 구동된다. 미러부(220)로 입사된 외부광은 제2 전기 거동 물질(EBM2)에 의해 외부로 반사되지 못한다.In this case, the
도 9c는 영상 표시와 미러 기능을 동시하는 구현하는 동작을 보여준다. 도 9c를 참조하면, 데이터전압(Vdata)이 미리 설정된 기준값과 같거나 그보다 클 때(즉, 표시 영상이 화이트에 가까울 때), 영상 투과부(220)는 발광 영역의 내부광을 외부로 방출한다. 제1 전기 거동 물질(EBM1)은 제1 전극(EC1)에 인가되는 데이터전압(Vdata)과 제2 전극(EC2)에 인가되는 공통전압(COM)에 의해 투광 모드로 구동된다. 9C shows an operation of simultaneously implementing an image display and a mirror function. Referring to FIG. 9C, when the data voltage Vdata is equal to or greater than a preset reference value (that is, when the display image is close to white), the
이때, 미러부(220)는 활성화된 미러 전원(Vdrv)에 따라 외부광을 반사시켜 미러 기능을 구현할 수 있다. 제2 전기 거동 물질(EBM2)은 제1 및 제2 미러 전극들(EP1,EP2)에 인가된 활성 미러 전원(Vdrv)에 의해 투광 모드로 구동되고, 제1 미러 전극(EP1)은 반사 전극 역할을 한다.In this case, the
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 명세서의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 명세서의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Through the above description, those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical idea of the present specification. Therefore, the technical scope of the present specification is not limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be determined by the scope of the claims.
150 : 표시패널 200 : 광 제어패널150: display panel 200: optical control panel
Claims (14)
상기 표시패널 일면에 배치된 광 제어패널을 포함하고,
상기 광 제어패널은,
상기 각 픽셀의 발광 영역에 대응되게 위치하며 상기 데이터전압에 따라 구동되어 상기 발광 영역에서 생성된 내부광을 외부로 방출하는 영상 투과부와,
상기 각 픽셀의 비발광 영역에 대응되게 위치하며 미러 전원에 따라 구동되어 외부광을 반사시키거나 또는 차단하는 미러부를 갖는 미러 겸용 표시장치.A display panel in which a plurality of pixels are provided, each pixel has a light emitting area and a non-light emitting area, and a driving transistor generating a driving current according to a data voltage is located in the non-light emitting area; And
It includes a light control panel disposed on one surface of the display panel,
The light control panel,
An image transmissive unit positioned to correspond to the emission region of each pixel and driven according to the data voltage to emit internal light generated in the emission region to the outside;
A display device for a mirror positioned to correspond to the non-emission area of each pixel and driven by a mirror power source to have a mirror unit that reflects or blocks external light.
상기 영상 투과부는,
상기 발광 영역에 중첩되며, 상기 비발광 영역으로 부분적으로 돌출되어 상기 데이터전압이 인가되는 상기 구동 트랜지스터의 게이트 전극에 접촉되는 제1 전극;
상기 발광 영역에 중첩되며, 공통 전압이 인가되는 제2 전극; 및
상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 위치하는 제1 전기 거동 물질을 포함한 미러 겸용 표시장치.According to claim 1,
The image transmission unit,
A first electrode overlapping the emission region and partially protruding into the non-emission region to contact a gate electrode of the driving transistor to which the data voltage is applied;
A second electrode overlapping the emission region and to which a common voltage is applied; And
A mirror combined display device comprising a first electrical behavior material positioned between the first electrode and the second electrode.
상기 제1 전극과 상기 구동 트랜지스터 사이에는 기판이 위치하고,
상기 구동 트랜지스터의 게이트전극은 상기 기판을 관통하여 상기 제1 전극에 접촉된 미러 겸용 표시장치.According to claim 2,
A substrate is positioned between the first electrode and the driving transistor,
The gate electrode of the driving transistor is a display device for a mirror that penetrates the substrate and contacts the first electrode.
상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 각 픽셀 단위로 패터닝 된 미러 겸용 표시장치.According to claim 2,
The first electrode and the second electrode are mirrored display devices patterned in units of pixels.
상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 투명한 금속 산화물을 포함한 미러 겸용 표시장치.According to claim 2,
The first electrode and the second electrode are mirrored display devices including a transparent metal oxide.
상기 제1 전기 거동 물질은
상기 데이터전압이 미리 설정된 기준값보다 크거나 같을 때 투광 모드로 구동되어 상기 발광 영역의 내부광을 외부로 방출하는 미러 겸용 표시장치.According to claim 2,
The first electrical behavior material
When the data voltage is greater than or equal to a preset reference value, the display device is a mirror display that is driven in a light emitting mode and emits internal light in the light emitting area to the outside.
상기 제1 전기 거동 물질은
상기 데이터전압이 미리 설정된 기준값보다 작을 때 차광 모드로 구동되어 상기 발광 영역의 내부광이 외부로 방출되는 것을 차단하는 미러 겸용 표시장치.According to claim 2,
The first electrical behavior material
When the data voltage is smaller than a preset reference value, the display device is a mirror and is driven in a light blocking mode to block the emission of the internal light in the light emitting area to the outside.
상기 미러부는,
상기 비발광 영역에 중첩되며, 상기 미러 전원의 고전압 단자에 연결된 제1 미러 전극;
상기 비발광 영역에 중첩되며, 상기 미러 전원의 저전압 단자에 연결된 제2 미러 전극; 및
상기 제1 미러 전극과 상기 제2 미러 전극 사이에 위치하는 제2 전기 거동 물질을 포함한 미러 겸용 표시장치.According to claim 1,
The mirror portion,
A first mirror electrode overlapping the non-emission region and connected to a high voltage terminal of the mirror power source;
A second mirror electrode overlapping the non-emission region and connected to a low voltage terminal of the mirror power source; And
A display device for a mirror including a second electrical behavior material positioned between the first mirror electrode and the second mirror electrode.
상기 제1 미러 전극과 상기 제2 미러 전극은 복수의 픽셀들 단위로 패터닝 된 미러 겸용 표시장치.The method of claim 8,
The first mirror electrode and the second mirror electrode are a mirror combined display device patterned in units of a plurality of pixels.
상기 제1 미러 전극은 반사율이 높은 금속 물질을 포함하고,
상기 제2 미러 전극은 투명한 금속 산화물을 포함한 미러 겸용 표시장치.The method of claim 8,
The first mirror electrode includes a metal material having high reflectance,
The second mirror electrode is a mirror combined display device including a transparent metal oxide.
상기 제2 전기 거동 물질은
상기 미러 전원이 활성화될 때 투광 모드로 구동되어 상기 외부광을 통과시키고,
상기 미러 전원이 비활성화될 때 차단 모드로 구동되어 상기 외부광을 차단하는 미러 겸용 표시장치.The method of claim 8,
The second electrical behavior material
When the mirror power is activated, it is driven in a transmissive mode to pass the external light,
A mirror combined display device driven in a blocking mode when the mirror power is deactivated to block the external light.
상기 제1 전기 거동 물질과 상기 제2 전기 거동 물질은,
고분자 분산형 박막 액정(Polymer Dispersed Liquid Crystal), 전기 영동 물질(Electro-Phoretic Material), 전기 변색 물질(Electrochromic Material), 부유 입자 디바이스(Suspended Particle Device) 중 어느 하나로 이루어진 미러 겸용 표시장치.The method of claim 2 or 8,
The first electrical behavior material and the second electrical behavior material,
A mirror combined display device made of any one of Polymer Dispersed Liquid Crystal, Electro-Phoretic Material, Electrochromic Material, and Suspended Particle Device.
상기 각 픽셀은,
상기 구동 트랜지스터와, 상기 구동 트랜지스터의 게이트전극에 상기 데이터전압을 인가하는 스위칭 트랜지스터를 포함하고,
상기 구동 트랜지스터와 상기 스위칭 트랜지스터 각각은 게이트전극이 액티브층의 위에 위치하는 코플라나 구조로 구현된 미러 겸용 표시장치.According to claim 1,
Each pixel,
And a switching transistor for applying the data voltage to the driving transistor and the gate electrode of the driving transistor,
Each of the driving transistor and the switching transistor is a mirror combined display device implemented with a coplanar structure in which a gate electrode is positioned on an active layer.
상기 각 픽셀은,
상기 구동 트랜지스터와, 상기 구동 트랜지스터의 게이트전극에 상기 데이터전압을 인가하는 스위칭 트랜지스터를 포함하고,
상기 구동 트랜지스터와 상기 스위칭 트랜지스터 각각은 게이트전극이 액티브층의 아래에 위치하는 에치 스토퍼 구조로 구현된 미러 겸용 표시장치.According to claim 1,
Each pixel,
And a switching transistor for applying the data voltage to the driving transistor and the gate electrode of the driving transistor,
Each of the driving transistor and the switching transistor is a mirror combined display device implemented with an etch stopper structure in which a gate electrode is positioned under the active layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180169190A KR102657279B1 (en) | 2018-12-26 | 2018-12-26 | Display Device Having Mirror Function |
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CN114975537A (en) * | 2022-04-25 | 2022-08-30 | 上海天马微电子有限公司 | Display panel, display device and control method of display panel |
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---|---|---|---|---|
JP2006308897A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Optrex Corp | Organic el display device |
KR20160124362A (en) * | 2015-04-17 | 2016-10-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | Mirror display device |
KR20170049653A (en) * | 2015-10-27 | 2017-05-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus for Both Mirror and Display |
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