KR20190109267A - 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

광학 필름, 제1 접착제 경화층, 제1 액정층, 접착층 및 제2 액정층이 이 순서로 적층된 광학 적층체의 제조 방법은, 제1 접착제 경화층을 통해 기재층 구비 제1 액정층의 제1 액정층 측에 광학 필름을 적층하여 기재층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과, 기재층 구비 제1 액정층 적층체로부터 제1 기재층을 박리하여 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과, 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 제1 액정층 적층체의 제1 노출면 측과 제2 액정층이 상기 접착층을 통해 대향하도록 제1 액정층 적층체와 기재층 구비 제2 액정층을 적층하여 제2 액정층 적층체를 얻는 공정을 포함한다. 접착층은 제1 점착층 또는 제2 접착제 경화층이다.

Description

광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL LAMINATE AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL LAMINATE WITH ADHESIVE LAYER}

본 발명은 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.

유기 발광 다이오드(OLED)를 이용한 유기 EL 표시 장치는, 액정 표시 장치 등과 비교하여 경량화나 박형화가 가능할 뿐만 아니라, 폭넓은 시야각, 빠른 응답 속도, 높은 콘트라스트 등의 고화질을 실현할 수 있기 때문에, 스마트폰이나 텔레비전, 디지털 카메라 등, 다양한 분야에서 이용되고 있다. 또한 유기 EL 표시 장치에서는, 박형이며 백라이트를 이용하지 않고서 표시할 수 있으므로, 접어 구부러지거나 돌돌 감기는 장치 형상도 제안되어 있다. 유기 EL 표시 장치에서는, 외광의 반사에 의한 시인성(視認性) 저하를 억제하기 위해서, 원편광판 등을 이용하여 반사 방지 성능을 향상시키는 것이 알려져 있다.

예컨대 특허문헌 1 및 2에는, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 패널에 적용되는 필름으로서 반사 방지 기능을 갖는 광학 필름이 기재되어 있고, 이 광학 필름은 액정 재료를 이용하여 형성된 위상차층을 갖는다는 것이 기재되어 있다.

특허문헌 1: 일본 특허공개 2015-230386호 공보 특허문헌 2: 일본 특허공개 2015-79256호 공보

상기와 같은 광학 필름에는, 표시 장치의 특징인 경량화·박형화를 해치지 않도록 종래 이상의 박형화, 절곡성이 요구되고 있다. 또한, 상기 광학 필름은 광학 표시 소자에 접합하여 사용되는데, 광학 필름에, 광학 표시 소자에 접합하는 쪽이 오목으로 되도록 컬되는 소위 역컬이 생기면, 광학 필름과 광학 표시 소자를 접합시킬 때에 기포가 혼입되거나 혹은 주름이 들어감으로써 얼룩으로 시인되는 등의 문제점이 생기기 쉽게 되는 경향이 있다. 이러한 문제점은, 화상 표시 패널 불량의 원인이 되기 때문에, 광학 필름의 역컬을 억제할 것이 요구되고 있다.

본 발명은, 역컬이 억제된 광학 적층체 및 점착층 구비 광학 적층체를 제조할 수 있는 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 이하에 나타내는 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다.

[1] 광학 필름, 제1 접착제 경화층, 제1 액정층, 접착층 및 제2 액정층이 이 순서로 적층된 광학 적층체의 제조 방법으로서,

상기 접착층은 제1 점착층 또는 제2 접착제 경화층이고,

제1 기재층과, 상기 제1 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 상기 제1 액정층을 갖는 기재층 구비 제1 액정층을 준비하는 공정과,

제2 기재층과, 상기 제2 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 상기 제2 액정층을 갖는 기재층 구비 제2 액정층을 준비하는 공정과,

상기 제1 접착제 경화층을 통해 상기 기재층 구비 제1 액정층의 상기 제1 액정층 측에 상기 광학 필름을 적층하여 기재층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과,

상기 기재층 구비 제1 액정층 적층체로부터 상기 제1 기재층을 박리하여 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과,

상기 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 상기 제1 액정층 적층체의 제1 노출면 측과 상기 제2 액정층이 상기 접착층을 통해 대향하도록 상기 제1 액정층 적층체와 상기 기재층 구비 제2 액정층을 적층하여 제2 액정층 적층체를 얻는 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.

[2] 상기 기재층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정은,

상기 광학 필름 및 상기 기재층 구비 제1 액정층의 상기 제1 액정층 측의 적어도 한쪽에, 상기 제1 접착제 경화층을 형성하기 위한 제1 접착제 조성물을 포함하는 제1 접착제 조성물층을 형성하는 공정과,

상기 제1 접착제 조성물층을 통해 상기 기재층 구비 제1 액정층의 상기 제1 액정층 측에 상기 광학 필름을 적층한 후, 상기 제1 접착제 조성물층을 경화하여 상기 제1 접착제 경화층을 형성하는 공정을 포함하는 [1]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[3] 상기 접착층은 상기 제1 점착층이고,

상기 제2 액정층 적층체를 얻는 공정은,

상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면 상에 상기 제1 점착층을 형성하여 점착층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과,

상기 점착층 구비 제1 액정층 적층체의 상기 제1 점착층과 상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층을 접합하는 공정을 포함하는 [1] 또는 [2]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[4] 상기 점착층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정은,

상기 제1 점착층과 제1 박리층이 적층된 박리층 구비 제1 점착층을 준비하는 공정과,

상기 박리층 구비 제1 점착층의 상기 제1 점착층과 상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면을 접합한 후, 상기 제1 박리층을 박리하는 공정을 포함하는 [3]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[5] 상기 접착층은 상기 제1 점착층이고,

상기 제2 액정층 적층체를 얻는 공정은,

상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층 상에 상기 제1 점착층을 형성하여 점착층 구비 제2 액정층을 얻는 공정과,

상기 점착층 구비 제2 액정층의 상기 제1 점착층과 상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면을 접합하는 공정을 포함하는 [1] 또는 [2]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[6] 상기 점착층 구비 제2 액정층을 얻는 공정은,

상기 제1 점착층과 제1 박리층이 적층된 박리층 구비 제1 점착층을 준비하는 공정과,

상기 박리층 구비 제1 점착층의 상기 제1 점착층과 상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층을 접합한 후, 상기 제1 박리층을 박리하는 공정을 포함하는 [5]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[7] 상기 접착층은 상기 제2 접착제 경화층이고,

상기 제2 액정층 적층체를 얻는 공정은,

상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면 측 및 상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층 측 중의 적어도 한쪽에, 상기 제2 접착제 경화층을 형성하기 위한 제2 접착제 조성물을 포함하는 제2 접착제 조성물층을 형성하는 공정과,

상기 제2 접착제 조성물층을 통해 상기 제1 노출면과 상기 제2 액정층이 대향하도록 상기 제1 액정층 적층체와 상기 기재층 구비 제2 액정층을 적층한 후, 상기 제2 접착제 조성물층을 경화하여 상기 제2 접착제 경화층을 형성하는 공정을 포함하는 [1] 또는 [2]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[8] 상기 광학 필름은 편광판을 포함하는 [1]∼[7]의 어느 것에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[9] 상기 광학 필름은, 편광판의 적어도 한 면에 프로텍트 필름이 적층된 프로텍트 필름 구비 편광판을 포함하는 [1]∼[8]의 어느 것에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[10] 상기 제2 액정층 적층체로부터 상기 제2 기재층을 박리하는 공정을 추가로 포함하는 [1]∼[9]의 어느 것에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[11] 광학 필름, 제1 접착제 경화층, 제1 액정층, 접착층, 제2 액정층 및 제2 점착층이 이 순서로 적층된 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법으로서,

상기 [10]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로 제조된 광학 적층체를 준비하는 공정과,

상기 제2 기재층을 박리함으로써 노출된 상기 광학 적층체의 제2 노출면 측에 상기 제2 점착층을 적층하는 공정을 포함하는 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법.

[12] 상기 제2 점착층을 적층하는 공정은,

상기 제2 점착층과 제2 박리층이 적층된 박리층 구비 제2 점착층을 준비하는 공정과,

상기 박리층 구비 제2 점착층의 상기 제2 점착층과 상기 광학 적층체의 상기 제2 노출면을 접합하는 공정을 포함하는 [11]에 기재한 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법.

본 발명에 의하면, 역컬이 억제된 광학 적층체 및 점착층 구비 광학 적층체를 제조할 수 있다.

도 1의 (a)∼(d)는 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 2의 (a) 및 (b)는 도 1에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 3의 (a) 및 (b)는 도 2에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 4의 (a)∼(c)는 도 3에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 5의 (a)∼(d)는 본 발명의 다른 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 6의 (a) 및 (b)는 본 발명의 점착층 구비 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 7의 (a)∼(e)는 본 발명과는 다른 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 8의 (a)∼(d)는 도 7에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법의 바람직한 실시형태에 관해서 설명한다.

[실시형태 1 (광학 적층체의 제조 방법)]

도 1∼도 4는 본 실시형태의 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다. 도면에서 W는 폭 방향을 나타낸다. 본 실시형태의 광학 적층체(70x)의 제조 방법에 의해서 제조되는 광학 적층체(70x)는, 도 4(c)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12), 제1 점착층(32x)(접착층) 및 제2 액정층(22)이 이 순서로 적층된 것이다.

광학 적층체(70x)의 제조 방법은, 도 1(a)에 도시하는 기재층 구비 제1 액정층(10)과, 도 1(b)에 도시하는 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정을 포함한다. 기재층 구비 제1 액정층(10)은, 제1 기재층(11)과, 제1 기재층(11) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 제1 액정층(12)을 갖는 것이며, 기재층 구비 제2 액정층(20)은, 제2 기재층(21)과, 제2 기재층(21) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 제2 액정층(22)을 갖는 것이다.

기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비하는 공정은, 제1 기재층(11) 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포하여 건조하고, 자외선 등의 활성 에너지선 조사에 의해 중합성 액정 화합물을 중합하여 경화시킨 제1 액정층(12)을 형성하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 마찬가지로, 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정은, 제2 기재층(21) 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포하여 건조하고, 자외선 등의 활성 에너지선 조사에 의해 중합성 액정 화합물을 중합하여 경화시킨 제2 액정층(22)을 형성하는 공정을 포함하고 있어도 좋다.

이어서, 광학 필름(60)에, 제1 접착제 경화층(31)을 형성하기 위한 제1 접착제 조성물을 포함하는 제1 접착제 조성물층(31a)을 형성하는 공정을 행한다. 이 공정에 의해, 조성물층 구비 광학 필름(61)을 얻을 수 있다(도 1(c)). 조성물층 구비 광학 필름(61)은, 도 1(c)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60)과 제1 접착제 조성물층(31a)을 적층한 것이다. 제1 접착제 조성물층(31a)을 형성하는 공정은, 광학 필름(60)의 표면에 제1 접착제 조성물을 도포하는 공정을 포함하고 있어도 좋다.

얻어진 조성물층 구비 광학 필름(61)의 제1 접착제 조성물층(31a)과, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12)을 적층한 후(도 1(d)), 제1 접착제 조성물층(31a)을 경화하여 제1 접착제 경화층(31)을 형성함으로써, 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)를 얻는다(도 2(a)). 제1 접착제 조성물층(31a)을 경화시키는 방법은, 제1 접착제 조성물의 종류 등에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대 활성 에너지선 조사, 가열 처리, 경화제의 첨가 등을 들 수 있다. 제1 접착제 조성물의 종류나 그 경화 방법에 관해서는 후술한다. 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)는, 도 2(a)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12) 및 제1 기재층(11)이 이 순서로 적층된 것이다. 이 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)로부터 제1 기재층(11)을 박리하여 제1 액정층 적층체(66)를 얻는다(도 2(b)). 제1 액정층 적층체(66)는, 도 2(b)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31) 및 제1 액정층(12)이 이 순서로 적층된 것이다.

이어서, 제1 박리층(52) 상에 제1 점착층(32x)이 형성된 박리층 구비 제1 점착층(57)을 준비한다(도 3(a)). 점착층 구비 제1 점착층(57)을 준비하는 공정은, 제1 박리층(52) 상에, 점착제 조성물의 도포, 건조 등을 하여 제1 점착층(32x)을 형성하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 또한, 필요에 따라서 제1 점착층(32x)의 제1 박리층(52)과는 반대쪽의 면을 다른 박리층으로 피복하는 공정을 두어도 좋다. 준비한 박리층 구비 제1 점착층(57)의 제1 점착층(32x)과, 제1 기재층(11)을 박리함으로써 노출된 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12)(제1 노출면)을 접합한 후(도 3(b)), 제1 박리층(52)을 박리하여 점착층 구비 제1 액정층 적층체(67)를 얻는다(도 4(a)). 점착층 구비 제1 액정층 적층체(67)는, 도 4(a)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12) 및 제1 점착층(32x)이 이 순서로 적층된 것이다.

도 4(a)에 도시하는 점착층 구비 제1 액정층 적층체(67)의 제1 점착층(32x)과, 도 1(b)에 도시하는 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22)을 접합하여, 도 4(b)에 도시하는 제2 액정층 적층체(71x)(광학 적층체)를 얻는다. 제2 액정층 적층체(71x)는, 도 4(b)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12), 제1 점착층(32x), 제2 액정층(22), 제2 기재층(21)이 이 순서로 적층된 것이다. 얻어진 제2 액정층 적층체(71x)로부터 제2 기재층(21)을 박리함으로써 광학 적층체(70x)를 얻을 수 있다(도 4(c)).

상기한 광학 적층체(70x)의 제조 방법에서는, 제1 기재층(11)이나 제2 기재층(21)(이하, 양자를 통합하여 「기재층」이라고 하는 경우가 있다.) 상에서 중합성 화합물을 중합하여 경화시킨 기재층 구비 제1 액정층(10)이나 기재층 구비 제2 액정층(20)(이하, 양자를 통합하여 「기재층 구비 액정층」이라고 하는 경우가 있다.)을 이용하고 있다. 기재층 구비 액정층에서는, 통상 기재층 상에 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포하여 건조하고, 자외선 등의 활성 에너지선 조사에 의해 중합성 액정 화합물을 중합시켜 경화시킴으로써, 제1 액정층(12)이나 제2 액정층(22)(이하, 양자를 통합하여 「액정층」이라고 하는 경우가 있다.)이 형성될 수 있다. 상기한 도포, 건조, 중합, 경화 등의 공정을 거쳐 형성된 액정층에는, 도포된 액정층 형성용 조성물의 건조나 중합성 액정 화합물의 중합에 따른 경화 시에 생긴 수축 응력이 잔류하고 있다고 추측된다. 액정층이 기재층 상에 존재하고 있는 기재층 구비 액정층의 상태에서는, 상기한 수축 응력은 기재층에 의해서 억제되고 있지만, 상기한 것과 같이, 기재층은 광학 적층체(70x)를 제조하는 공정에서 박리되기 때문에, 기재층의 박리에 의해 액정층의 수축 응력이 해방된다고 생각된다. 이 때, 액정층이 광학 필름에 접합되어 있으면, 기재층을 박리함으로써 해방된 수축 응력에 의해, 광학 필름과 액정층의 적층체에는, 액정층 측을 내측으로 하여 활처럼 휘는 변형(이하, 「역컬」이라고 하는 경우가 있다.)이 발생하는 경우가 있다.

이러한 컬의 발생은, 광학 필름(60)과 액정층을 적층할 때에, 접착제 경화층과 비교하여 강성이 낮아 변형되기 쉬운 점착층을 이용한 경우에 생기기 쉽다고 생각된다. 예컨대 도 7 및 도 8에 도시하는 것과 같이, 광학 필름에, 점착층을 통해 액정층을 순차 적층하여 광학 적층체를 제조하는 경우에는, 기재층을 박리함으로써 해방된 액정층의 수축 응력의 영향을 받아, 점착층이나 광학 필름이 변형되기 쉽고, 광학 적층체에 역컬이 생기기 쉽다고 추측된다. 도 7 및 도 8은, 도 1∼도 4에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정과는 다른 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.

도 8(d)에 도시하는 광학 적층체(70p)의 제조 방법에서는, 우선 광학 필름(60p)과 제1' 점착층(31p)을 적층한 점착층 구비 광학 필름(61p)의 제1' 점착층(31p)(도 7(a))에, 제1 기재층(11p) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 제1 액정층(12p)을 갖는 기재층 구비 제1 액정층(10p)(도 7(b))의 제1 액정층(12p) 측을 접합한다(도 7(c)). 그 후, 제1 기재층(11p)을 박리하고(도 7(d)), 이 박리에 의해서 노출된 제1 액정층(12p)과, 제2 박리층(52p) 상에 형성된 제2' 점착층(32p)을 접합하고(도 7(e)), 제2 박리층(52p)을 박리한다(도 8(a)). 이어서, 제2 기재층(21p) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 제2 액정층(22p)을 갖는 기재층 구비 제2 액정층(20p)(도 8(b))의 제2 액정층(20p) 측을, 제2' 점착층(32p)에 접합하여 기재층 구비 광학 적층체(71p)를 얻는다(도 8(c)). 이 기재층 구비 광학 적층체(71p)로부터 제2 기재층(21p)을 박리하여, 광학 적층체(70p)(도 8(d))를 얻는다.

이와 같이 도 7 및 도 8에 도시하는 제조 공정에서는, 광학 필름(60p)에 제1' 점착층(31p)을 통해 제1 액정층(12p)을 적층한 후에 제1 기재층(11p)을 박리하고, 제1 액정층(12p) 상에 제2' 점착층(32p)을 통해 제2 액정층(22p)을 적층한 후에 제2 기재층(21p)을 박리하고 있다. 그 때문에, 제1 기재층(11p) 및 제2 기재층(21p)을 박리하는 각 공정에 있어서, 제1 액정층(12p) 및 제2 액정층(22p)의 수축 응력이 각각 해방된다고 추측된다. 이 해방된 수축 응력의 영향을 받아, 제1' 점착층(31p)이나 제2' 점착층(32p), 광학 필름(60p)이 변형되기 쉽고, 광학 적층체(70p)에 역컬이 발생하기 쉽다고 생각된다.

이에 대하여, 도 1∼도 4에 도시하는 본 실시형태의 광학 적층체(70x)의 제조 방법에서는, 광학 필름(60)과 제1 액정층(12)이 제1 접착제 경화층(31)을 통해 적층되어 있다. 제1 접착제 경화층(31)은, 제1' 점착층(31p)과 비교하면 강성이 높아 변형되기 어렵다. 그 때문에, 도 2(a)에 도시하는 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)로부터 제1 기재층(11)을 박리하더라도, 제1 접착제 경화층(31)에 의해서, 제1 액정층(12)의 수축 응력을 억제한 상태로 유지하기 쉽다고 추측된다. 그러므로, 도 1∼도 4에 도시하는 광학 적층체(70x)의 제조 방법에서는, 광학 적층체(70x)에 발생하는 역컬을, 도 7 및 도 8에 도시하는 제조 공정에서 얻어진 광학 적층체(70p)와 비교하여 저감할 수 있다고 생각된다. 광학 적층체(70x)에 발생하는 역컬을 저감함으로써, 이 광학 적층체(70x)를 이용하여 얻어지는 점착층 구비 광학 적층체(후술)를 광학 표시 소자에 접합할 때에, 점착층 구비 광학 적층체와 광학 표시 소자의 사이에 기포가 혼입되거나 주름이 생기거나 접합 미스가 생기거나 하는 문제점을 억제할 수 있다.

광학 적층체에 발생하는 역컬은, 광학 적층체에 포함되는 광학 필름(60)의 두께나 강성이 작을수록 액정층에 의한 수축 응력 해방의 영향을 받기 쉽다고 생각된다. 또한, 기재층의 두께나 강성이 클수록 액정층에 잔류하는 수축 응력이 커지기 때문에, 기재층을 박리했을 때에 해방되는 수축 응력의 영향을 받기 쉽다고 생각된다. 그 때문에, 본 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법은, 광학 필름(60)의 두께가 2 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하인 경우에 적합하다. 광학 필름(60)의 두께는 10 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한 350 ㎛ 이하라도 좋고, 200 ㎛ 이하라도 좋고, 150 ㎛ 이하라도 좋다.

또한, 본 실시형태에 있어서 광학 적층체를 제조하기 위해서 이용되는, 기재층 구비 제1 액정층(10), 기재층 구비 제2 액정층(20), 박리층 구비 제1 점착층(57), 광학 필름(60), 조성물층 구비 광학 필름(61) 등의 필름 형상물은, 모두 장척의 필름 형상물인 것이 바람직하고, 이들을 연속적으로 반송하면서 각 공정을 행하는 것이 바람직하다. 폭 방향(W)은 필름 형상물의 길이 방향에 직교하는 방향이다.

본 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법은 이하에 나타내는 변형예와 같이 변경되어도 좋다. 또한, 상기한 실시형태 및 하기에 나타내는 변형예를 임의로 조합하여도 좋다.

(실시형태 1의 변형예 1)

상기에서는, 광학 필름(60)에 제1 접착제 조성물층(31a)을 마련하여 조성물층 구비 광학 필름(61)을 얻고, 이 조성물층 구비 광학 필름(61)의 제1 접착제 조성물층(31a) 상에 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12)을 적층하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 제1 접착제 조성물층(31a)을 통해 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측에 광학 필름(60)을 적층하여, 도 2(a)에 도시하는 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)를 얻을 수 있으면, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측에 제1 접착제 조성물층(31a)을 마련하고, 이 제1 접착제 조성물층(31a) 상에 광학 필름(60)을 적층한 후, 제1 접착제 조성물층(31a)을 경화하여 제1 접착제 경화층(31)을 형성하여도 좋다.

(실시형태 1의 변형예 2)

상기에서는, 도 3(a)에 도시하는 박리층 구비 제1 점착층(57)을 이용하여, 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12) 상에 제1 점착층(32x)을 마련하고, 이 제1 점착층(32x) 상에 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22)을 적층하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12)과 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22)을, 제1 점착층(32x)을 통해 적층할 수 있으면, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대 도 3(a)에 도시하는 박리층 구비 제2 점착층(57)을 이용하여, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 제1 점착층(32x)을 마련하고, 이 제1 점착층(32x)과 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12)을 접합하여도 좋다.

[실시형태 2 (광학 적층체의 제조 방법)]

도 5의 (a)∼(d)는 본 실시형태의 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다. 도면에서 W는 폭 방향을 나타낸다. 본 실시형태의 광학 적층체(70y)의 제조 방법에 의해서 제조되는 광학 적층체(70y)는, 도 5(d)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12), 제2 접착제 경화층(32y)(접착층) 및 제2 액정층(22)이 이 순서로 적층된 것이다. 또한 이하에서는, 앞의 실시형태에서 설명한 부재와 동일한 부재에 관해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 생략한다.

광학 적층체(70y)의 제조 방법에서는, 앞의 실시형태에서 설명한 제조 방법과 마찬가지로, 도 1(a)에 도시하는 기재층 구비 제1 액정층(10)과, 도 1(b)에 도시하는 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정을 포함한다. 또한, 광학 필름(60)에, 제1 접착제 경화층(31)을 형성하기 위한 제1 접착제 조성물을 포함하는 제1 접착제 조성물층(31a)을 형성하는 공정을 행하여, 도 1(c)에 도시하는 조성물층 구비 광학 필름(61)을 얻는다. 조성물층 구비 광학 필름(61)과 기재층 구비 제1 액정층(10)을 이용하여, 도 2(a)에 도시하는 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)를 얻은 후, 제1 기재층(11)을 박리하여 제1 액정층 적층체(66)를 얻는다(도 2(b)). 기재층 구비 제1 액정층(10) 및 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정, 조성물층 구비 광학 필름(61), 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65) 및 제1 액정층 적층체(66)를 얻는 공정에 관해서는, 앞의 실시형태에서 설명한 것과 같기 때문에, 그 설명을 생략한다.

이어서, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측의 표면에, 제2 접착제 경화층(32y)을 형성하기 위한 접착제 조성물을 포함하는 제2 접착제 조성물층(32a)을 형성하는 공정을 행한다. 이 공정에 의해 조성물층 구비 제2 액정층(25)을 얻을 수 있다(도 5(a)). 조성물층 구비 제2 액정층(25)은, 도 5(a)에 도시하는 것과 같이, 제2 접착제 조성물층(32a), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)이 이 순서로 적층된 것이다. 제2 접착제 조성물층(32a)을 형성하는 공정은, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측의 표면에 접착제 조성물을 도포하는 공정을 포함하고 있어도 좋다.

얻어진 조성물층 구비 제2 액정층(25)의 제2 접착제 조성물층(32a)과 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12)을 적층한 후(도 5(b)), 제2 접착제 조성물층(32a)을 경화하여 제2 접착제 경화층(32y)을 형성하여, 제2 액정층 적층체(71y)를 얻는다(도 5(c)). 제2 접착제 조성물층(32a)을 경화시키는 방법은, 제2 접착제 조성물의 종류 등에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대 활성 에너지선 조사, 가열 처리, 경화제의 첨가 등을 들 수 있다. 제2 접착제 조성물의 종류나 그 경화 방법에 관해서는 후술한다. 제2 액정층 적층체(71y)은, 도 5(c)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12), 제2 접착제 경화층(32y), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)이 이 순서로 적층된 것이다. 얻어진 제2 액정층 적층체(71y)로부터 제2 기재층(21)을 박리함으로써 광학 적층체(70y)를 얻을 수 있다(도 5(d)).

상기한 광학 적층체(70y)의 제조 방법에서는, 앞의 실시형태와 마찬가지로, 제1 기재층(11)이나 제2 기재층(21)(이하, 양자를 통합하여 「기재층」이라고 하는 경우가 있다.) 상에서 중합성 화합물을 중합하여 경화한 기재층 구비 제1 액정층(10)이나 기재층 구비 제2 액정층(20)(이하, 양자를 통합하여 「기재층 구비 액정층」이라고 하는 경우가 있다.)을 이용하고 있다. 그 때문에, 앞의 실시형태에서 설명한 것과 같이, 광학 필름과 액정층의 적층체에는, 기재층의 박리에 의해, 액정층 측을 내측으로 하여 활처럼 휘는 역컬이 발생하는 경우가 있다.

본 실시형태의 광학 적층체(70y)에서는, 광학 필름(60)과 제1 액정층(12)이 제1 접착제 경화층(31)을 통해 적층되어 있고, 제1 액정층(12)과 제2 액정층(22)이 제2 접착제 경화층(32)을 통해 적층되어 있다. 제1 접착제 경화층(31) 및 제2 접착제 경화층(32)은, 도 7 및 도 8에 도시하는 제조 공정에서 얻어진 광학 적층체(70p)의 제1' 점착층(31p) 및 제2' 점착층(32p)과 비교하면, 강성이 높아 변형하기 어렵다. 그 때문에, 도 2(a)에 도시하는 기재층 구비 제1 액정층 적층체(65)로부터 제1 기재층(11)을 박리하고, 도 5(c)에 도시하는 제2 액정층 적층체(71y)로부터 제2 기재층(21)을 박리하더라도, 제1 접착제 경화층(31) 및 제2 접착제 경화층(32)에 의해서, 제1 액정층(12) 및 제2 액정층(22)의 수축 응력을 억제한 상태로 유지하기 쉽다고 추측된다. 그러므로, 본 실시형태의 광학 적층체(70y)의 제조 방법에서는, 광학 적층체(70y)에 발생하는 역컬을, 도 7 및 도 8에 도시하는 제조 공정에서 얻어진 광학 적층체(70p)와 비교하여 저감할 수 있다고 생각된다. 광학 적층체(70y)에 발생하는 역컬을 저감함으로써, 이 광학 적층체(70y)를 이용하여 얻어지는 점착층 구비 광학 적층체(후술)를 광학 표시 소자에 접합할 때에, 점착층 구비 광학 적층체와 광학 표시 소자 사이에 기포가 혼입되거나 주름이 들어가거나 접합 미스가 생기거나 하는 문제점을 억제할 수 있다.

또한, 본 실시형태에 있어서 광학 적층체를 제조하기 위해서 이용되는, 기재층 구비 제1 액정층(10), 기재층 구비 제2 액정층(20), 조성물층 구비 제2 액정층(25), 광학 필름(60), 조성물층 구비 광학 필름(61) 등의 필름 형상물은, 모두 장척의 필름 형상물인 것이 바람직하고, 이들을 연속적으로 반송하면서 각 공정을 행하는 것이 바람직하다. 폭 방향(W)은 필름 형상물의 길이 방향에 직교하는 방향이다.

(실시형태 2의 변형예 1)

앞의 실시형태에서도 설명한 것과 같이, 광학 필름(60) 상에 제1 접착제 조성물층(31a)을 마련하는 대신에, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측에 제1 접착제 조성물층(31a)을 마련하여도 좋다. 이 경우, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측에 형성한 제1 접착제 조성물층(31a) 상에 광학 필름(60)을 적층한 후, 제1 접착제 조성물층(31a)을 경화하여 제1 접착제 경화층(31)을 형성하여도 좋다.

(실시형태 2의 변형예 2)

상기에서는, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 제2 접착제 조성물층(32a)을 마련하여 조성물층 구비 제2 액정층(25)을 얻고, 이 조성물층 구비 제2 액정층(25)의 제2 접착제 조성물층(32a)과 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12)을 적층하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22)과 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12)을, 제2 접착제 경화층(32)을 통해 적층한 제2 액정층 적층체(71y)(도 5(c))를 얻을 수 있으면, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12) 측에 제2 접착제 조성물층(32a)을 마련하고, 이 제2 접착제 조성물층(32a)과 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22)을 적층한 후, 제2 접착제 조성물층(32a)을 경화하여 제2 접착제 경화층(32y)을 형성하여도 좋다. 또한, 제1 액정층 적층체(66)의 제1 액정층(12) 측 및 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측 양쪽에 제2 접착제 조성물층(32a)을 형성하도록 하여도 좋다.

[실시형태 3 (점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법)]

도 6(a) 및 도 6(b)은 본 실시형태의 점착층 구비 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다. 도면에서 W는 폭 방향을 나타낸다. 본 실시형태의 점착층 구비 광학 적층체(80)의 제조 방법에 의해서 제조되는 점착층 구비 광학 적층체(80)는, 도 5(b)에 도시하는 것과 같이, 광학 필름(60), 제1 접착제 경화층(31), 제1 액정층(12), 접착층(32), 제2 액정층(22) 및 제2 점착층(33)이 이 순서로 적층된 것이다. 제2 점착층(33)의 제2 액정층(22)과는 반대쪽에 제2 박리층(53)을 갖고 있어도 좋다. 접착층(32)은 제1 점착층(32x) 또는 제2 접착제 경화층(32y)이다.

점착층 구비 광학 적층체(80)의 제조 방법은, 도 4(c)에 도시하는 광학 적층체(70x) 또는 도 5(d)에 도시하는 광학 적층체(70y)(이하, 양자를 「광학 적층체(70)」라고 하는 경우가 있다.)를 준비하는 공정과, 도 6(a)에 도시하는 것과 같이, 제2 박리층(53)과 제2 점착층(33)이 적층된 박리층 구비 제2 점착층(58)을 준비하는 공정을 포함한다. 박리층 구비 제2 점착층(58)을 준비하는 공정은, 제2 박리층(53) 상에, 점착제 조성물의 도포, 건조 등을 하여 제2 점착층(33)을 형성하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 또한 필요에 따라서, 제2 점착층(33)의 제2 박리층(53)과는 반대쪽의 면을 다른 박리층으로 피복하는 공정을 두어도 좋다.

준비한 박리층 구비 제2 점착층(58)의 제2 점착층(33)과, 제2 기재층(21)을 박리함으로써 노출된 광학 적층체(70)의 제2 액정층(22)(제2 노출면)을 접합하여, 점착층 구비 광학 적층체(80)를 얻는다(도 6(b)). 이 때 얻어진 점착층 구비 광학 적층체(80)는 제2 박리층(53)을 갖고 있다. 이 점착층 구비 광학 적층체(80)를 광학 표시 소자에 적층하는 경우에는, 제2 박리층(53)을 박리하고, 제2 점착층(33)과 광학 표시 소자를 접합하여 화상 표시 패널로 할 수 있다.

점착층 구비 광학 적층체(80)는, 제2 점착층(33)이 광학 표시 소자에 접합되어 이용할 수 있다. 상기한 점착층 구비 광학 적층체(80)의 제조 방법에서는, 앞의 실시형태에서 설명한 역컬이 억제된 광학 적층체(70)를 이용하고 있기 때문에, 점착층 구비 광학 적층체(80)의 제2 점착층(33) 측이 오목으로 되도록 컬되는 소위 역컬을 억제할 수 있다. 이에 따라, 점착층 구비 광학 적층체(80)를 광학 표시 소자에 접합할 때에, 광학 적층체와 광학 표시 소자 사이에 기포가 혼입되거나, 접합 미스가 생기거나 하는 등의 문제점을 억제할 수 있다.

또한, 본 실시형태에 있어서 점착층 구비 광학 적층체를 제조하기 위해서 이용되는, 광학 적층체(70)나 박리층 구비 제2 점착층(58) 등의 필름 형상물은, 장척의 필름 형상물인 것이 바람직하고, 이들을 연속적으로 반송하면서 각 공정을 행하는 것이 바람직하다. 폭 방향(W)은 필름 형상물의 길이 방향에 직교하는 방향이다.

이상, 본 발명의 실시형태 및 그 변형예에 관해서 설명했지만, 본 발명은 이들 실시형태 및 그 변형예에 한정되지 않으며, 예컨대 상기 실시형태 및 그 변형예의 각 공정을 조합하여 실시할 수도 있다. 이하, 모든 실시형태 및 그 변형예에 있어서 공통되는 각 공정에 관해서 상세히 설명한다.

(광학 필름)

광학 필름은, 편광자, 편광자의 적어도 한 면에 보호층이 형성된 편광판, 편광판의 적어도 한 면에 프로텍트 필름이 적층된 프로텍트 필름 구비 편광판, 반사필름, 반투과형 반사 필름, 휘도 향상 필름, 광학 보상 필름, 방현 기능 구비 필름 등일 수 있다. 광학 필름은 1층 구조라도 좋고, 2층 이상의 다층 구조의 적층 광학 필름이라도 좋다. 본 명세서에 있어서 「편광자」란, 무편광의 빛을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 갖는 직선편광을 투과시키는 성질을 갖는 층을 말한다.

(편광자)

편광자로서는 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 본 명세서에 있어서 「편광자」란, 무편광의 빛을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 갖는 직선편광을 투과시키는 성질을 갖는 직선편광자를 말한다. 예컨대, 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이라도 좋고, 2층 이상의 적층 필름이라도 좋다. 편광자는, 중합성 액정 화합물에 2색성 색소를 배향시켜, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막이라도 좋다.

단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체적인 예로서는, 폴리비닐알코올(이하, 「PVA」라고 약칭하는 경우도 있다.)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2색성 염료 등의 2색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 광학 특성이 우수하므로, PVA계 필름을 요오드로 염색하고 일축 연신하여 얻어진 편광자를 이용하는 것이 바람직하다.

폴리비닐알코올계 수지는 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 제조할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체일 수도 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복시산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류 등을 들 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는 통상 85∼100 몰% 정도이며, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋으며, 예컨대 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용 가능하다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는 통상 1,000∼10,000 정도이며, 바람직하게는 1,500∼5,000 정도이다.

이러한 폴리비닐알코올계 수지를 제막한 것이 편광자의 원반 필름으로서 이용된다. 폴리비닐알코올계 수지를 제막하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지 원반 필름의 막 두께는 예컨대 10∼100 ㎛ 정도, 바람직하게는 10∼60 ㎛ 정도, 보다 바람직하게는 15∼30 ㎛ 정도이다.

그 밖의 편광자의 제조 방법으로서는, 우선 기재 필름을 준비하고, 기재 필름 상에 폴리비닐알코올계 수지 등의 수지의 용액을 도포하고, 용매를 제거하는 건조 등을 행하여 기재 필름 상에 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 들 수 있다. 또한, 기재 필름의 수지층이 형성되는 면에는 미리 프라이머층을 형성할 수 있다. 기재 필름으로서는 PET 등의 수지 필름을 사용할 수 있다. 프라이머층의 재료로서는, 편광자에 이용되는 친수성 수지를 가교한 수지 등을 들 수 있다.

이어서, 필요에 따라서 수지층의 수분 등의 용매량을 조정하고, 그 후, 기재 필름 및 수지층을 일축 연신하고, 이어서, 수지층을 요오드 등의 2색성 색소로 염색하여 2색성 색소를 수지층에 흡착 배향시킨다. 계속해서, 필요에 따라서 2색성 색소가 흡착 배향된 수지층을 붕산 수용액으로 처리하고, 붕산 수용액을 씻어내는 세정 공정을 행한다. 이에 따라, 2색성 색소가 흡착 배향된 수지층, 즉 편광자의 필름이 제조된다. 각 공정에는 공지된 방법을 채용할 수 있다.

기재 필름 및 수지층의 일축 연신은, 염색 전에 행하여도 좋고, 염색 중에 행하여도 좋고, 염색 후의 붕산 처리 중에 행하여도 좋으며, 이들의 복수의 단계에서 각각 일축 연신을 행하여도 좋다. 기재 필름 및 수지층은, MD 방향(필름 반송 방향)으로 일축 연신하여도 좋으며, 이 경우, 원주 속도가 다른 롤 사이에서 일축으로 연신하여도 좋고, 열 롤을 이용하여 일축으로 연신하여도 좋다. 또한, 기재 필름 및 수지층은, TD 방향(필름 반송 방향에 수직인 방향)으로 일축 연신하여도 좋으며, 이 경우, 소위 텐터법을 사용할 수 있다. 또한, 기재 필름 및 수지층의 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신이라도 좋고, 용제로 수지층을 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신이라도 좋다. 편광자의 성능을 발현하기 위해서는 연신 배율은 4배 이상이며, 5배 이상인 것이 바람직하고, 특히 5.5배 이상이 바람직하다. 연신 배율의 상한은 특별히 없지만, 파단 등을 억제한다는 관점에서 8배 이하가 바람직하다.

상기 방법으로 제작한 편광자는 후술하는 보호층을 적층한 후에 기재 필름을 박리함으로써 얻을 수 있다. 이 방법에 의하면, 편광자의 한층 더한 박막화가 가능하게 된다.

중합성 액정 화합물에 2색성 색소를 배향시켜, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막인 편광자의 제조 방법으로서는, 기재 필름 상에, 중합성 액정 화합물 및 2색성 색소를 포함하는 편광자 형성용 조성물을 도포하고, 중합성 액정 화합물을 액정 상태를 유지한 채로 중합하여 경화시켜 편광자를 형성하는 방법을 들 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 편광자는, 기재 필름에 적층된 상태에 있으며, 기재 필름 구비 편광자를 광학 필름으로서 이용하여도 좋다. 혹은, 제1 접착제 경화층을 통해 기재 필름 구비 편광자와 액정층 적층체를 적층한 후, 기재 필름을 박리하여, 편광자를 광학 필름으로서 이용하여도 좋다.

2색성 색소로서는, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 다른 성질을 갖는 색소를 이용할 수 있으며, 예컨대 300∼700 nm의 범위에 흡수 극대 파장(λmax)을 갖는 색소가 바람직하다. 이러한 2색성 색소로서는, 예컨대, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소, 안트라퀴논 색소 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 아조 색소가 바람직하다. 아조 색소로서는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소, 스틸벤아조 색소 등을 들 수 있고, 비스아조 색소, 트리스아조 색소가 보다 바람직하다.

편광자 형성용 조성물은, 용제, 광중합개시제 등의 중합개시제, 광증감제, 중합금지제 등을 포함할 수 있다. 편광자 형성용 조성물에 포함되는, 중합성 액정 화합물, 2색성 색소, 용제, 중합개시제, 광증감제, 중합금지제 등에 관해서는 공지된 것을 이용할 수 있으며, 예컨대 일본 특허공개 2017-102479호 공보, 일본 특허공개 2017-83843호 공보에 예시되어 있는 것을 이용할 수 있다. 또한, 중합성 액정 화합물은, 후술하는 제1 액정층 및 제2 액정층을 얻기 위해서 이용한 중합성 액정 화합물로서 예시한 화합물과 같은 것을 이용하여도 좋다. 편광자 형성용 조성물을 이용하여 편광자를 형성하는 방법에 관해서도 상기 공보에 예시된 방법을 채용할 수 있다.

편광자의 두께는 2 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 3 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 편광자의 두께는 25 ㎛ 이하이며, 15 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 13 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 7 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상술한 상한치 및 하한치는 임의로 조합할 수 있다. 편광자의 두께가 얇아질수록 강성이 작아지고, 제1 액정층이나 제2 액정층의 수축 응력의 영향을 받기 쉽게 되기 때문에, 두께가 작은 편광자를 광학 필름으로서 이용하는 경우에, 상기 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법을 적합하게 이용할 수 있다.

(편광판)

편광자는 그 한 면 또는 양면에, 공지된 점착층 또는 접착층을 통해 보호층을 적층하여 편광판으로 할 수 있다. 이 편광판은 소위 직선편광판이다. 편광자의 한 면 또는 양면에 적층할 수 있는 보호층으로서는, 예컨대 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성, 연신성 등이 우수한 열가소성 수지로 형성된 필름이 이용된다. 이러한 열가소성 수지의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지; 폴리에테르술폰 수지; 폴리술폰 수지; 폴리카보네이트 수지; 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드 수지; 폴리이미드 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 수지; 시클로계 및 노르보르넨 구조를 갖는 환상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지라고도 한다); (메트)아크릴 수지; 폴리아릴레이트 수지; 폴리스티렌 수지; 폴리비닐알코올 수지, 그리고 이들의 혼합물을 들 수 있다. 편광자의 양면에 보호층이 적층되어 있는 경우, 2개의 보호층의 수지 조성은 동일하여도 좋고, 다르더라도 좋다. 상기 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법은, 박형화의 관점에서 편광자의 한 면에만 보호층이 적층된 편광판을 광학 필름으로서 이용한 경우에도 역컬을 억제할 수 있기 때문에 적합하다. 또한, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 또는 메타크릴의 어느 것이라도 좋다는 것을 의미한다. (메트)아크릴레이트 등의 「(메트)」도 마찬가지의 의미이다.

열가소성 수지로 형성된 필름은, PVA계 수지 및 2색성 물질로 이루어지는 편광자와의 밀착성을 향상시키기 위해서, 표면 처리(예컨대 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 좋고, 프라이머층(하도층이라고도 한다) 등의 박층이 형성되어 있어도 좋다.

보호층은, 온도 40℃, 습도 90% RH에서의 투습도가 1∼1500 g/㎡·24 hr인 것이 바람직하다. 보호층의 투습도가 1500 g/㎡·24 hr를 넘으면, 고온 고습 환경에 있어서, 편광판의 시간 경과에 따른 컬 변화가 발생하기 쉽게 되는 경우가 있다. 보호층의 투습도가 낮을수록 편광판의 컬의 시간 경과에 따른 변화를 억제할 수 있는 효과를 얻기 쉽게 된다. 보호층의 온도 40℃, 습도 90% RH에서의 투습도는 1000 g/㎡·24 hr 이하인 것이 보다 바람직하고, 100 g/㎡·24 hr 이하인 것이 더욱 바람직하고, 10 g/㎡·24 hr 이하인 것이 보다 더욱 바람직하다. 투습도는 JIS Z 0208:1976에 준거하여 측정할 수 있다.

또한, 편광자의 양면에 보호층이 적층되는 경우, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체가 광학 표시 소자에 접합되었을 때의 시인 측에 적층되는 외측 보호층의 투습도와, 제1 점착층 측에 적층되는 내측 보호층의 투습도는, 상호 동일하거나, 내측 보호층보다도 외측 보호층 쪽이 작게 되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 특히 편광판의 보관 중에 수분이 가해졌을 때에, 플랫 형상을 유지하거나, 혹은 내측 보호층이 팽윤됨으로써 편광판을 정컬 측으로 컬한 상태로 할 수 있어, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체를 정컬 측으로 컬한 상태로 하기 쉽다. 또한, 외측 보호층의 투습도는 10 g/㎡·24 hr 이하인 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 편광자의 한 면만에 보호층이 적층된 편광판이라도, 컬 제어가 가능하고, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체가 광학 표시 소자에 접합된 후에도, 시간 경과에 따른 치수 변화(변형)를 억제할 수 있다.

더욱이, 제1 액정층이나 제2 액정층의 수축 응력의 영향을 더한층 저감하여, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체에 생기는 정컬을 억제하기 위해서는, 광학 필름으로서 이용하는 편광판에 있어서, 편광자에 적층되는 보호층의 강성을 높이는 것이 바람직하다. 여기서 강성이란, 보호층에 이용하는 필름의 실온(23℃) 하에서의 인장 탄성률(이하, 「23℃ 탄성률」이라고 하는 경우가 있다.)에 막 두께를 곱셈한 것으로서 정의된다. 예컨대, 트리아세틸셀룰로오스로 대표되는 셀룰로오스계 폴리머를 이용한 보호층은, 23℃ 탄성률이 3000∼5000 MPa의 범위인 것이 바람직하고, 폴리메틸메타크릴레이트로 대표되는 아크릴계 폴리머를 이용한 보호층은, 23℃ 탄성률이 2000∼4000 MPa의 범위인 것이 바람직하고, 노르보르넨 구조를 갖는 시클로올레핀계 폴리머를 이용한 보호층은, 23℃ 탄성률이 2000∼4000 MPa의 범위인 것이 바람직하다. 외측 보호층에는, 상기 투습도와 강성의 관점에서 아크릴계 폴리머나 폴리올레핀계 폴리머가 적합하게 이용되고, 특히 시클로올레핀계 폴리머를 이용하는 것이 바람직하다.

보호층은, 예컨대 상술한 열가소성 수지를 연신한 것이라도 좋고, 연신되어 있지 않은 것이라도 좋다(이하, 「미연신 수지」라고 하는 경우가 있다.). 연신 처리로서는 일축 연신이나 이축 연신 등을 들 수 있다.

연신 처리에 있어서의 연신 방향은, 미연신 수지의 길이 방향이라도 좋고, 길이 방향에 직교하는 방향이라도 좋고, 길이 방향에 대하여 사교하는 방향이라도 좋다. 일축 연신의 경우는, 이들 방향 중 어느 한 방향으로 미연신 수지를 연신하면 된다. 이축 연신은, 이들 방향 중 2개의 연신 방향으로 동시에 연신하는 동시 이축 연신이라도 좋고, 소정의 방향으로 연신한 후에 다른 방향으로 연신하는 축차 이축 연신이라도 좋다.

연신 처리는, 예컨대 하류 측의 원주 속도를 크게 한 2 쌍 이상의 닙 롤을 이용하여 길이 방향으로 연신하거나, 또는 미연신 수지의 양측 끝을 척으로 파지하여 길이 방향에 직교하는 방향으로 연신하는 등에 의해서 행할 수 있다. 이 때, 연신 후의 열가소성 수지의 두께를 조정하거나 연신 배율을 조정하거나 함으로써, 원하는 위상차치 및 파장 분산을 제어할 수 있다.

연신된 열가소성 수지는 하기 식을 만족하는 것이 바람직하다.

(1) 80 nm≤Re(590)≤180 nm

(2) 0.5<Rth(590)/Re(590)≤0.8

(3) 0.85≤Re(450)/Re(550)<1.00

식 중, Re(590), Re(450), Re(550)은 각각 측정 파장 590 nm, 450 nm, 550 nm에 있어서의 면내 위상차치를 나타내고, Rth(590)는 측정 파장 590 nm에 있어서의 두께 방향 위상차치를 나타낸다. 이들 면내 위상차치 및 두께 방향 위상차치는, 온도 23℃, 상대습도 55%의 환경 하에서 측정된 값을 말한다.

면내 위상차치 Re, 두께 방향 위상차치 Rth는, 면내 지상축 방향의 굴절률을 nx, 면내 진상축 방향(면내 지상축 방향와 직교하는 방향)의 굴절률을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz, 연신된 열가소성 수지의 두께를 d로 할 때, 하기 식(S1), 식(S2)으로 정의된다.

(S1) Re=(nx-ny)×d

(S2) Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d

상기한 외측 보호층은, 상기 식(1)∼식(3)을 만족하는 연신된 열가소성 수지인 것이 바람직하다. 또한, 상기한 외측 보호층은, 편광자의 흡수축에 대하여 사교하는 방향으로 지상축을 갖도록 편광자에 접합시키는 것이 바람직하고, 예컨대 외측 보호층의 지상축의 각도가 편광자의 흡수축에 대하여 45±10°또는 135±10°가 되도록 외측 보호층과 편광자를 접합시키는 것이 바람직하다. 지상축의 각도가 상기 범위임으로써, 진상축 방향에 있어서의 빛의 위상과 지상축 방향에 있어서의 빛의 위상 사이에 차가 생기기 때문에, 본 실시형태의 광학 적층체를 광학 표시 소자에 적용하면, 광학 적층체를 통과하여 출사한 빛을 원편광으로 할 수 있다. 그 때문에, 본 실시형태의 광학 적층체를 광학 표시 소자에 적용한 표시 장치는, 편광 선글라스 너머로 표시 화상 등을 본 경우에도 시인성이 우수한 것으로 될 수 있다.

보호층의 두께는 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 보호층의 두께는 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 30 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상술한 상한치 및 하한치는 임의로 조합할 수 있다. 편광판의 두께가 얇아질수록 강성이 작아져, 제1 액정층이나 제2 액정층의 수축 응력의 영향을 받기 쉽기 때문에, 두께가 작은 편광판을 광학 필름으로서 이용하는 경우에, 상기 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법을 적합하게 이용할 수 있다.

보호층의 편광자와는 반대쪽의 표면은 표면처리층을 갖고 있어도 좋으며, 예컨대 하드코트층, 반사방지층, 스티킹방지층, 안티글래어층, 확산층 등을 갖고 있어도 좋다. 표면처리층은, 보호층 상에 적층되는 별도의 층이라도 좋고, 보호층 표면에 표면 처리가 실시되어 형성된 것이라도 좋다.

하드코트층은, 편광판 표면의 흠집 방지 등을 목적으로 하는 것이며, 예컨대 아크릴계, 실리콘계 등의 자외선 경화형 수지에 의한 경도나 미끄러짐 특성 등이 우수한 경화 피막을 보호층의 표면에 부가하는 방식 등으로 형성할 수 있다. 반사방지층은, 편광판 표면에서의 외광의 반사 방지를 목적으로 하는 것이며, 종래에 준한 반사방지막 등의 형성에 의해 달성할 수 있다. 또한, 스티킹방지층은 인접층과의 밀착 방지를 목적으로 하는 것이다.

안티글래어층은, 편광판의 표면에서 외광이 반사하여, 편광판의 투과광의 시인을 저해하는 것을 방지하는 것 등을 목적으로 하는 것으로, 예컨대 샌드 블라스트 방식이나 엠보스 가공 방식에 의한 조면화 방식이나 투명 미립자의 배합 방식 등의 방식에 의해, 보호층의 표면에 미세 요철 구조를 부여하여 형성할 수 있다. 보호층의 표면에 미세 요철 구조를 부여하기 위해서 이용하는 투명 미립자로서는, 예컨대 평균 입경이 0.5∼50 ㎛인 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 산화안티몬 등의 도전성을 가질 수 있는 무기계 미립자, 가교 또는 미가교의 폴리머 등의 유기계 미립자 등의 미립자를 들 수 있다. 투명 미립자의 함유량은, 미세 요철 구조를 형성하는 층을 이루는 수지 100 질량부에 대하여 일반적으로 2∼50 질량부이며, 5∼25 질량부가 바람직하다. 안티글래어층은, 편광판의 투과광을 확산하여 시각 등을 확대하기 위한 확산층(시각 확대 기능 등)을 겸하는 것이라도 좋다.

표면처리층이 편광판의 보호층 상에 적층되는 별도의 층인 경우, 표면처리층의 두께는 0.5 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 1 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 8 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 두께가 0.5 ㎛ 미만이면, 편광판 표면의 흠집을 유효하게 방지하기 어렵게 되는 경향이 있다. 또한, 두께가 10 ㎛를 넘으면, 경화 수축이 커지는 등에 의해, 편광판의 역컬이 억제되기 어렵게 되는 경우가 있다.

상기 실시형태의 광학 적층체 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법은, 편광판의 두께가 2 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하인 경우에 적합하다. 편광판의 두께는, 10 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한 150 ㎛ 이하라도 좋고, 120 ㎛ 이하라도 좋고, 80 ㎛ 이하라도 좋다.

편광판은, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정되는 프로텍트 필름 구비 편광판으로부터 프로텍트 필름을 박리한 편광판의 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치가 각각 독립적으로 -40 mm 이상 40 mm 이하의 범위에 있는 것이 바람직하고, -30 mm 이상 35 mm 이하의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, -20 mm 이상 30 mm 이하의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다. 상기 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치가 상기한 범위 밖으로 되면, 편광판이 통 형상으로 되기 쉬운 경향이 있어, 컬 형상을 얻기 어렵게 되는 경향이 있다. 또한, 후술하는 프로텍트 필름 구비 편광판의 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치와, 편광판의 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치가 괴리되어 있으면, 프로텍트 필름과 편광판 사이에 들뜸이 발생하거나, 프로텍트 필름과 편광판 사이에 간극이 생기는 터널링이 발생하거나 하기 때문에, 바람직하지 못하다.

(프로텍트 필름 구비 편광판)

편광판은, 통상 그 한 면에 프로텍트 필름을 적층함으로써 프로텍트 필름 구비 편광판으로 할 수 있다. 프로텍트 필름은, 프로텍트 필름용 수지 필름과, 그 위에 적층되는 프로텍트 필름용 점착층을 포함한다. 프로텍트 필름의 두께는 예컨대 30∼200 ㎛일 수 있고, 바람직하게는 40∼150 ㎛이며, 보다 바람직하게는 50∼120 ㎛이다.

프로텍트 필름용 수지 필름을 구성하는 수지로서는, 예컨대 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지와 같은 폴리올레핀계 수지; 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트와 같은 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; (메트)아크릴계 수지 등을 들 수 있다. 이 중, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지가 바람직하다. 프로텍트 필름용 수지 필름은, 1층 구조라도 좋지만, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다.

프로텍트 필름용 점착층을 구성하는 점착제로서는, 후술하는 점착층을 구성하는 점착제와 같은 것을 이용할 수 있다. 또한, 프로텍트 필름은, 프로텍트 필름용 수지 필름면 상에, 점착제 조성물의 도포, 건조 등을 함으로써 점착층을 형성할 수 있다. 필요에 따라서, 프로텍트 필름용 수지 필름의 점착제 도포면에는 밀착성을 향상하기 위해서, 표면 처리(예컨대 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 좋고, 프라이머층(하도층이라고도 한다) 등의 박층이 형성되어 있어도 좋다. 또한, 필요에 따라서, 프로텍트 필름용 점착층의, 프로텍트 필름용 수지 필름 측과는 반대쪽의 표면을 피복하여 보호하기 위한 박리층을 갖고 있어도 좋다. 이 박리층은, 편광판과 접합시킬 때의 적절한 타이밍에 박리할 수 있다.

편광판에 프로텍트 필름을 접합시키는 프로텍트 필름 구비 편광판의 제작 공정에서는, 장력의 차나 원주 속도의 차를 부여함으로써, 프로텍트 필름 구비 편광판의 길이 방향으로 정컬을 부여할 수도 있다. 그 때문에, 상기 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법에 있어서, 광학 필름으로서 프로텍트 필름 구비 편광판을 이용하는 경우, 프로텍트 필름 구비 편광판의 제작 공정에서 프로텍트 필름 구비 편광판에 정컬을 부여함으로써, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체의 역컬을 보다 억제하기 쉽게 하는 것을 기대할 수 있다.

프로텍트 필름 구비 편광판은, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정되는 프로텍트 필름 구비 편광판의 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치가 각각 독립적으로 -40 mm 이상 40 mm 이하의 범위에 있는 것이 바람직하고, -30 mm 이상 35 mm 이하의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, -20 mm 이상 30 mm 이하의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다. 상기 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치가 상기한 범위 밖으로 되면, 프로텍트 필름 구비 편광판이 통 형상으로 되기 쉬운 경향이 있어, 컬 형상을 얻기 어렵게 되는 경향이 있다. 또한, 프로텍트 필름 구비 편광판을 소정의 사이즈로 가공하여 광학 표시 소자에 접합할 때에, 접합 장치의 흡인 기구 등으로 적절하게 유지하기가 어렵게 된다, 접합할 때 기포가 혼입되거나 주름이 발생하거나 하는 등의 경향이 있기 때문에, 바람직하지 못하다.

프로텍트 필름 구비 편광판의 두께가 얇아질수록 강성이 작아져, 제1 액정층이나 제2 액정층의 수축 응력의 영향을 받기 쉽게 되기 때문에, 두께가 작은 편광판을 광학 필름으로서 이용하는 경우에, 상기 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법을 적합하게 이용할 수 있다. 상기 실시형태에 있어서의 광학 필름(60)이 프로텍트 필름 구비 편광판인 경우, 상기 실시형태의 광학 적층체 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법은, 프로텍트 필름 구비 편광판의 두께가 32 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하인 경우에 적합하다. 프로텍트 필름 구비 편광판의 두께는 40 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한 350 ㎛ 이하라도 좋고, 200 ㎛ 이하라도 좋고, 150 ㎛ 이하라도 좋다.

(점착층)

제1 점착층 및 제2 점착층(이하, 이들을 통합하여 「점착층」이라고 하는 경우가 있다.)은 점착제로 구성된 층을 말한다. 본 명세서에 있어서 「점착제」란, 유연한 고무형이며, 그 자체를 광학 필름이나 액정층 등의 피착체에 붙임으로써 접착성을 발현하는 것으로, 소위 감압형 접착제라고 불리는 것이다. 또한, 후술하는 활성 에너지선 경화형 점착제는, 에너지선을 조사함으로써 가교도나 접착력을 조정할 수 있다.

점착제로서는, 종래 공지된 광학적인 투명성이 우수한 점착제를 특별히 제한 없이 이용할 수 있으며, 예컨대 아크릴계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제를 이용할 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화형 점착제, 열경화형 점착제 등이라도 좋다. 이들 중에서도 투명성, 점착력, 재박리성(이하, 리워크성이라고도 한다.), 내후성, 내열성 등이 우수한 아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 한 점착제가 적합하다. 점착층은, (메트)아크릴계 수지(1), 가교제(2), 실란 화합물(3)을 포함하는 점착제 조성물의 반응 생성물로 구성되는 것이 바람직하고, 그 밖의 성분(4)을 포함하고 있어도 좋다.

((메트)아크릴계 수지(1))

점착제 조성물에 포함되는 (메트)아크릴계 수지(1)는, 하기 식(I)으로 표시되는 (메트)아크릴산알킬에스테르에서 유래하는 구조 단위(이하, 「구조 단위(I)」라고도 한다.)를 주성분(예컨대, 이것을 50 질량% 이상 포함한다.)로 하는 중합체(이하, 「(메트)아크릴산에스테르 중합체」라고도 말한다.)인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 「유래」란, (메트)아크릴산알킬에스테르 등의 화합물이 중합하기 때문에 화학 구조가 변화되는 것을 의미한다.

[식 중, R¹⁰은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R²⁰은 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기는 직쇄상, 분기상 또는 환상의 어느 구조를 갖고 있어도 좋으며, 상기 알킬기의 수소 원자는 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.]

식(I)으로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예컨대 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, i-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, i-헥실(메트)아크릴레이트, n-헵틸(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, i-옥틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n- 및 i-노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, i-데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보로닐(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 알콕시기 함유 알킬아크릴레이트의 구체예로서는, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 에톡시메틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 n-부틸(메트)아크릴레이트 또는 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하고, 특히 n-부틸(메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하다.

(메트)아크릴산에스테르 중합체는, 구조 단위(I) 이외의 다른 단량체에서 유래하는 구성 단위를 포함하고 있어도 좋다. 다른 단량체에서 유래하는 구조 단위는, 1종이라도 좋고, 2종 이상이라도 좋다. (메트)아크릴산에스테르 중합체가 포함할 수 있는 다른 단량체로서는, 극성 작용기를 갖는 단량체, 방향족기를 갖는 단량체, 아크릴아미드계 단량체를 들 수 있다.

극성 작용기를 갖는 단량체로서는, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 극성 작용기로서는, 히드록시기, 카르복시기, 치환 아미노기, 무치환 아미노기 등을 들 수 있다. 극성 작용기로서는 에폭시기 등의 복소환기 등도 예로 들 수 있다.

(메트)아크릴산에스테르 중합체 중의 극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴산에스테르 중합체의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하이다.

방향족기를 갖는 단량체로서는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일기와 1개 이상의 방향환(예컨대, 벤젠환, 나프탈렌환 등)을 가지고, 페닐기, 페녹시에틸기, 또는 벤질기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.

(메트)아크릴산에스테르 중합체 중의 방향족기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴산에스테르 중합체의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 50 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 50 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 25 질량부 이하이다.

아크릴아미드계 단량체로서는, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 이들 구조 단위를 포함함으로써, 후술하는 대전방지제 등의 첨가제의 블리드아웃을 억제할 수 있다.

추가로, 구조 단위(I) 이외의 다른 단량체에서 유래하는 구조 단위로서, 스티렌계 단량체에서 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에서 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위 등이 포함되어 있어도 좋다.

(메트)아크릴계 수지(1)의 중량 평균 분자량(이하, 단순히 「Mw」이라고도 한다.)은 50만∼250만인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 고습 환경 하에 있어서의 점착층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 점착제 조성물을 함유하는 도공액을 도공할 때의 조작성이 양호하게 된다. 중량 평균 분자량(Mw)과 수평균 분자량(이하, 단순히 「Mn」이라고도 한다.)의 비로 나타내어지는 분자량 분포(Mw/Mn)는 통상 2∼10이다. 본 명세서에 있어서 「중량 평균 분자량」 및 「수평균 분자량」이란, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산치이다.

(메트)아크릴계 수지(1)는, 아세트산에틸에 용해시켜 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가 20 Pa·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 Pa·s인 것이 보다 바람직하다. (메트)아크릴 수지(1)의 25℃에 있어서의 점도가 상기 범위 내이면, 리워크성 등에 기여한다. 상기 점도는 브룩필드 점도계에 의해서 측정할 수 있다.

점착성 및 내구성의 양립이라는 관점에서, (메트)아크릴계 수지(1)의 유리 전이 온도는 바람직하게는 -10℃∼-60℃이다. 또한, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.

(메트)아크릴계 수지(1)는, 2종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 중합체를 포함하여도 좋다. 그와 같은 (메트)아크릴산에스테르 중합체로서는, 예컨대 상기 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위(I)를 주성분으로 하는 것으로, 중량 평균 분자량이 5만∼30만의 범위에 있는 것과 같은 비교적 저분자량의 (메트)아크릴산에스테르 중합체를 들 수 있다.

(가교제(2))

점착층을 형성하는 점착제 조성물은 가교제(2)를 포함하는 것이 바람직하다. 가교제(2)로서는, 관용의 가교제(예컨대, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 과산화물 등)를 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트 라이프나 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 화합물인 것이 바람직하다.

이소시아네이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트), 수첨 크실릴렌디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트, 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한, 가교제(2)는, 상기 이소시아네이트 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체라도 좋다. 가교제(2)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 내구성의 관점에서 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 및 이들의 다가 알코올 화합물 또는 이들의 이소시아누레이트 화합물이 바람직하다.

가교제(2)의 비율은, (메트)아크릴계 수지(1) 100 질량부에 대하여, 예컨대 0.01∼10 질량부, 바람직하게는 0.1∼3 질량부, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 질량부라도 좋다. 상기한 상한치 이하라면, 내구성의 향상에 유리하고, 상기한 하한치 이상이라면, 가스의 발생을 억제하고, 리워크성의 향상에 유리하다.

(실란 화합물(3))

점착제 조성물은 실란 화합물(3)을 함유한다. 실란 화합물(3)을 함유함으로써, 점착층과 적층되는 층의 밀착성을 높일 수 있다. 2종 이상의 실란 화합물(3)을 사용하여도 좋다.

실란 화합물(3)로서는, 예컨대 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시디실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.

또한, 실란 화합물(3)은 상기 실란 화합물(3)에서 유래하는 올리고머를 포함할 수 있다.

점착제 조성물에 있어서의 실란 화합물(3)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(1) 100 질량부에 대하여, 통상 0.01∼10 질량부이며, 바람직하게는 0.03∼5 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.05∼2 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 질량부이다. 실란 화합물(3)의 함유량이 0.01 질량부 이상이면, 점착층과 광학 필름이나 액정층 등의 피착체와의 밀착성이 향상되기 쉽다. 함유량이 10 질량부 이하이면, 점착층으로부터의 실란 화합물(3)의 블리드아웃을 억제할 수 있다.

(그 밖의 성분(4))

점착층을 형성하는 점착제 조성물은, 그 밖의 성분(4)으로서, 이온성 화합물 등을 이용한 대전방지제, 용매, 가교 촉매, 점착 부여 수지(택키파이어), 가소제, 내후안정제, 연화제, 염료, 안료, 무기 필러, 아크릴 수지 이외의 수지 등의 첨가제를 단독 또는 2종 이상 포함할 수 있다.

(활성 에너지선 경화형 점착제)

점착제 조성물에, 다작용성 아크릴레이트 등의 자외선 경화성 화합물을 배합하고, 점착층을 형성한 후에 자외선을 조사하여 경화시켜, 보다 딱딱한 점착층으로 하는 것도 유용하며, 활성 에너지선 경화형 점착제를 이용할 수 있다. 「활성 에너지선 경화형 점착제」는, 자외선이나 전자선 등의 에너지선의 조사를 받아 경화하는 성질을 갖고 있다. 활성화 에너지선 경화형 점착제는, 에너지선 조사 전에도 점착성을 갖고 있기 때문에, 광학 필름이나 액정층 등의 피착체에 밀착하고, 에너지선의 조사에 의해 경화하여 밀착력을 조정할 수 있는 성질을 갖는 점착제이다.

활성 에너지선 경화형 점착제는, 일반적으로는 아크릴계 점착제와 에너지선 중합성 화합물을 주성분으로서 포함한다. 통상은 추가로 가교제가 배합되어 있으며, 또한 필요에 따라서 광중합개시제나 광증감제 등을 배합할 수도 있다.

점착층은, 그 저장 탄성률이 23℃에 있어서 0.10∼10.0 MPa인 것이 바람직하고, 0.15∼5.0 MPa인 것이 보다 바람직하다. 23℃에 있어서의 저장 탄성률이 0.10 MPa 이상이면, 온도 변화가 생겼을 때에 벗겨짐 등의 문제점을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 10.0 MPa 이하이면, 점착력의 저하에 의한 내구성 저하가 일어나기 어렵기 때문에 바람직하다. 또한, 점착층의 저장 탄성률은, 시판되는 점탄성 측정 장치, 예컨대 REOMETRIC사 제조의 점탄성 측정 장치 "DYNAMIC ANALYZER RDA II"에 의해 측정할 수 있다.

점착층의 두께는 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 점착층의 두께는 40 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 30 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상술한 상한치 및 하한치는 임의로 조합할 수 있다.

(접착제 경화층)

제1 접착제 경화층 및 제2 접착제 경화층(이하, 이들을 통합하여 「접착제 경화층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 접착제 조성물 중의 경화성 성분을 경화시킴으로써 형성되는 층을 말한다. 접착제 경화층을 형성하기 위한 접착제 조성물로서는, 감압형 접착제(점착제) 이외의 접착제이며, 예컨대 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제를 들 수 있다. 수계 접착제로서는, 예컨대 폴리비닐알코올계 수지를 물에 용해 또는 분산시킨 접착제를 들 수 있다. 활성 에너지선 경화성 접착제로서는, 예컨대 자외선, 가시광, 전자선, X선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해서 경화하는 경화성 화합물을 포함하는 무용제형의 활성 에너지선 경화성 접착제를 들 수 있다. 무용제형의 활성 에너지선 경화성 접착제를 이용함으로써, 층 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 이에 대하여, 활성 에너지선 경화성 접착제에 용제(특히 유기 용제)가 포함되어 있으면, 접착제 중에 포함되는 경화성 성분이 동일하여도 충분한 밀착성을 얻을 수 없고, 광학 적층체를 소정의 사이즈로 재단했을 때, 그 단부에 있어서 박리되는 등의 문제점을 일으키기 쉽다. 또한, 용제를 건조하는 공정이 추가되기 때문에, 열에 의한 추가적인 수축 응력이 걸려, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체에 역컬이 발생하기 쉽게 될 우려가 있다.

활성 에너지선의 조사에 의해서 경화하는 경화성 화합물을 포함하는 무용제형의 활성 에너지선 경화성 접착제를 이용한 경우, 경화 후의 활성화 에너지선 경화성 접착제의 경도를 나타내는 지표인 저장 탄성률에 두께를 곱셈한 강성은, 경화 후의 수계 접착제의 강성보다도 높은 경우가 많다. 제1 액정층과 제2 액정층의 사이에 설치되는 접착제 경화층의 강성이 높으면, 기재 박리 시의 수축 응력에 의한 컬의 진행을 막을 수 있기 때문에, 무용제형의 활성화 에너지선 경화성 접착제를 사용하는 것이 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 접착제로서는, 양호한 접착성을 보이므로, 양이온 중합성의 경화성 화합물, 라디칼 중합성의 경화성 화합물의 어느 한쪽 또는 양쪽을 포함하는 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 접착제는, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 시작하게 하기 위한 양이온 중합개시제 또는 라디칼 중합개시제를 추가로 포함할 수 있다.

양이온 중합성의 경화성 화합물로서는, 예컨대 에폭시계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물)이나, 옥세탄계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 옥세탄환을 갖는 화합물), 또는 이들의 조합을 들 수 있다.

라디칼 중합성의 경화성 화합물로서는, 예컨대 (메트)아크릴계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물), 라디칼 중합성의 이중 결합을 갖는 그 밖의 비닐계 화합물, 또는 이들의 조합을 들 수 있다.

활성 에너지선 경화형 접착제는 필요에 따라서 증감제를 함유할 수 있다. 증감제를 사용함으로써, 반응성이 향상되어, 접착층의 기계 강도나 접착 강도를 더욱 향상시킬 수 있다. 증감제로서는 공지된 것을 적절하게 적용할 수 있다. 증감제를 배합하는 경우, 그 배합량은 활성 에너지선 경화형 접착제의 총량 100 질량부에 대하여 0.1∼20 질량부의 범위로 하는 것이 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 접착제는, 필요에 따라서 이온트랩제, 산화방지제, 연쇄이동제, 점착부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동조정제, 가소제, 소포제, 대전방지제, 레벨링제, 용매 등의 첨가제를 함유할 수 있다.

접착제 조성물을 기재층 구비 제1 액정층이나 기재층 구비 제2 액정층의 접합면에 도포함으로써 접착제 조성물층을 형성하여도 좋다. 도포 방법으로서는, 다이 코터, 콤마 코터, 리버스 롤 코터, 그라비아 코터, 로드 코터, 와이어 바 코터, 닥터 블레이드 코터, 에어 닥터 코터 등을 이용한 통상의 코팅 기술을 채용하면 된다.

수계 접착제를 이용한 경우의 건조 방법에 관해서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 열풍 건조기나 적외선 건조기를 이용하여 건조하는 방법을 채용할 수 있다.

활성 에너지선 경화성 접착제를 이용한 경우는, 자외선, 가시광, 전자선, X선과 같은 활성 에너지선을 조사하여, 접착제 조성물층을 경화시켜 접착제 경화층을 형성할 수 있다. 활성 에너지선으로서는 자외선이 바람직하고, 이 경우의 광원으로서는, 저압수은등, 중압수은등, 고압수은등, 초고압수은등, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로 웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 이용할 수 있다.

자외선 조사에 의해 접착제 조성물층을 경화시키는 경우, 자외선의 빛 조사 강도는, 접착제 조성물의 조성마다 결정되는 것이며, 특별히 한정되지 않지만, 10∼1,000 mW/㎠인 것이 바람직하고, 100∼600 mW/㎠인 것이 보다 바람직하다. 수지 조성물에의 빛 조사 강도가 10 mW/㎠ 미만이면, 반응 시간이 지나치게 길어지고, 1,000 mW/㎠를 넘으면, 광원으로부터 복사되는 열 및 접착제 조성물의 중합 시의 발열에 의해, 얻어지는 접착제 경화층에 황변을 일으킬 가능성이 있다. 또한, 광원으로부터 복사되는 열에 의해 한층 더 수축 응력을 생기게 할 가능성도 있다. 조사 강도는, 중합개시제, 바람직하게는 광양이온 중합개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에 있어서의 강도이며, 보다 바람직하게는 파장 400 nm 이하의 파장 영역에 있어서의 강도이고, 더욱 바람직하게는 파장 280∼320 nm의 파장 영역에 있어서의 강도이다. 이러한 빛 조사 강도로 한 번 혹은 여러 번 조사하여, 그 적산 광량이 10 mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 100∼1,000 mJ/㎠, 보다 바람직하게는 200∼600 mJ/㎠가 되도록 설정하는 것이 바람직하다. 접착제 조성물층에의 적산 광량이 10 mJ/㎠ 미만이면, 중합개시제 유래의 활성종의 발생이 충분하지 않아, 접착제 조성물층의 경화가 불충분하게 된다. 적산 광량이 1,000 mJ/㎠를 넘으면, 조사 시간이 매우 길어져 생산성 향상에는 불리한 것으로 된다. 또한, 광원으로부터 복사되는 열에 의해 한층 더 수축 응력을 생기게 할 가능성도 있다. 제1 기재층, 제2 기재층, 제1 액정층, 제2 액정층 등의 종류나 접착제 조성물 중의 성분의 조합 등에 따라서, 빛 조사 시의 파장(UVA(320∼390 nm)이나 UVB(280∼320 nm) 등)은 다르며, 빛 조사 시의 파장에 따라서 필요하게 되는 적산 광량도 변화된다.

활성 에너지선 경화형 접착제의 점도로서는, 임의의 도포 방법으로 도공할 수 있도록 선정하면 되는데, 온도 25℃에 있어서의 점도가 10∼1,000 mPa·sec의 범위에 있는 것이 바람직하고, 20∼500 mPa·sec의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 점도가 너무 작으면, 원하는 두께의 접착제 경화층을 형성하기 어렵게 되는 경향이 있다. 한편, 점도가 너무 크면, 도공 시에 활성 에너지선 경화형 접착제가 유동하기 어렵게 되어, 얼룩 없는 균질한 도막을 얻기 어렵게 되는 경향이 있다. 여기서 말하는 점도는, E형 점도계를 이용하여 그 접착제를 25℃로 온도 조절한 후, 10 rps로 측정되는 값이다.

접착제 경화층의 온도 30℃에 있어서의 저장 탄성률은, 광학 필름인 편광판의 내구성이나 역컬의 억제라는 관점에서, 바람직하게는 100 MPa 이상, 더욱 바람직하게는 1000 MPa 이상, 보다 바람직하게는 1500 MPa 이상, 특히 바람직하게는 2000 MPa 이상이다. 한편, 접착제 경화층의 저장 탄성률이 지나치게 크면, 접착제 경화층이 지나치게 딱딱하게 되어, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체를 소정의 크기로 하기 위한 펀칭 가공 등을 행할 때의 가공성이 저하하는 경우가 있다. 이 때문에, 접착제 경화층의 온도 30℃에 있어서의 저장 탄성률은, 바람직하게는 10000 MPa 이하, 보다 바람직하게는 8000 MPa 이하, 더욱 바람직하게는 5000 MPa 이하이다.

접착제 경화층의 온도 30℃에 있어서의 저장 탄성률은 다음 수순으로 산출할 수 있다. 두께 50 ㎛의 환상 폴리올레핀계 수지 필름의 한 면에, 도공기〔바 코터, 다이이치리카(주) 제조〕를 이용하여, 상술한 활성 에너지선 경화성 접착제를 도공하고, 그 도공면에 추가로 두께 50 ㎛의 환상 폴리올레핀계 수지 필름을 적층한다. 이어서, 퓨젼UV시스템즈사 제조의 「D 벌브」에 의해, 적산 광량이 1500 mJ/㎠(UVB)가 되도록 자외선을 조사하여, 접착제 조성물층을 경화시킨다. 이것을 5 mm×30 mm의 크기로 재단하고, 한쪽의 환상 폴리올레핀계 수지 필름을 박리하여, 수지 필름 구비 접착제 경화층을 얻는다. 이 수지 필름 구비 접착제 경화층을 그 긴 변이 인장 방향이 되도록, 아이티게이소쿠세이교(주) 제조의 동적 점탄성 측정 장치 「DVA-220」를 이용하여 그립퍼 간격 2 cm로 파지하고, 인장과 수축의 주파수를 10 Hz, 승온 속도를 10℃/분으로 설정하여 승온해 나가, 온도 30℃에 있어서의 저장 탄성률을 구한다.

접착제 경화층의 두께는 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 2 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 0.1 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 나아가서는 1 ㎛ 이상인 것이 바람직하다. 접착제 경화층의 두께가 하한치 이상임으로써, 강성이 높아져, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체에 있어서의 컬 억제 효과를 향상시킬 수 있다. 한편, 접착제 경화층의 두께를 상한치 이내로 함으로써, 기포가 맞물려 들어가는 등의 도공 불량을 막을 수 있다.

(박리층 구비 점착층)

박리층 구비 제1 점착층 및 박리층 구비 제2 점착층(이하, 이들을 통합하여 「박리층 구비 점착층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 예컨대 박리층의 이형 처리면 상에 점착제 조성물의 도포, 건조 등을 함으로써 점착층을 형성하여 얻을 수 있다. 박리층 구비 점착층은, 필요에 따라서, 점착층의 박리층 측과는 반대쪽의 표면을 피복하여 보호하기 위한 다른 박리층을 갖고 있어도 좋다. 박리층 및 다른 박리층은 적절한 타이밍에 박리할 수 있다.

(박리층)

제1 박리층 및 제2 박리층(이하, 이들을 통합하여 「박리층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 점착층에 대하여 박리 가능하며, 박리층 상에 형성되는 점착층을 지지하고, 점착층을 보호하는 기능을 갖는다. 박리층은 공지된 박리 필름이나 박리지를 이용할 수 있지만, 예컨대 후술하는 기재층으로서 예시한 수지 재료로 형성된 필름에, 실리콘 코팅 등의 이형 처리를 실시한 것이라도 좋다. 다른 박리층에 관해서도 박리층과 같은 재료를 이용할 수 있다.

박리층은 점착층에 대하여 박리 가능하며, 박리층과 점착층 사이의 박리력의 크기는, 박리층을 박리하는 순서를 고려하여 결정할 필요가 있다. 상기 박리력은, 박리층 상에 점착층을 갖는 측정용 시험편(길이 200 mm, 폭 25 mm의 크기)을 준비하여, 적당한 크기의 유리에 접합하고, 시마즈세이사쿠쇼 제조 오토그라프(AGS-50 NX)를 이용하여, 박리 시작점을 형성하도록 부분적으로 박리한 박리층과 유리를 각각 척킹하여, 300 mm/분의 속도로 180°의 방향으로 박리층을 박리했을 때에 측정된 박리 강도를 박리력으로 할 수 있다. 박리층과 점착층 사이의 박리력은, 0.01∼0.20 N/25 mm인 것이 바람직하고, 0.02∼0.10 N/25 mm인 것이 보다 바람직하고, 0.02∼0.06 N/25 mm인 것이 더욱 바람직하다. 0.01 N/25 mm를 밑돌면, 반송 도중에 박리층과 점착층의 사이에서 들뜸이 생겨 버릴 우려가 있다. 또한, 0.20 N/25 mm를 넘으면, 박리층과 점착층의 밀착성이 높아 박리층이 점착층으로부터 박리되기 어렵게 되고 있기 때문에, 박리층을 박리하면 점착층이 파단되어, 박리한 박리층에 점착층의 일부가 부착된 상태가 되거나, 의도하지 않는 층 사이에서의 박리(예컨대, 점착층의 박리층과는 반대쪽에서 접합하고 있는 층과 점착층 사이에서의 박리)가 생기거나 할 우려가 있다.

(액정층)

제1 액정층 및 제2 액정층(이하, 양자를 통합하여 「액정층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 경화층이며, 위상차층이라도 좋다. 액정층의 광학 특성은, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 의해 조정할 수 있다.

본 명세서에서는, 중합성 액정 화합물의 광축이 기재층 평면에 대하여 수평으로 배향한 것을 수평 배향, 중합성 액정 화합물의 광축이 기재층 평면에 대하여 수직으로 배향한 것을 수직 배향이라고 정의한다. 광축이란, 중합성 액정 화합물의 배향에 의해 형성되는 굴절률 타원체에 있어서, 광축에 직교하는 방향에서 잘라낸 단면이 원으로 되는 방향, 즉 2 방향의 굴절률이 같아지는 방향을 의미한다.

중합성 액정 화합물로서는, 막대형의 중합성 액정 화합물이나 원반형의 중합성 액정 화합물을 들 수 있다. 막대형의 중합성 액정 화합물이 기재층에 대하여 수평 배향 또는 수직 배향한 경우는, 이 중합성 액정 화합물의 광축은 이 중합성 액정 화합물의 장축 방향과 일치한다. 원반형의 중합성 액정 화합물이 배향한 경우는, 이 중합성 액정 화합물의 광축은 이 중합성 액정 화합물의 원반면에 대하여 직교하는 방향에 존재한다.

중합성 액정 화합물을 중합함으로써 형성되는 액정층이 면내 위상차를 발현하기 위해서는, 중합성 액정 화합물을 알맞은 방향으로 배향시키면 된다. 중합성 액정 화합물이 막대형인 경우는, 이 중합성 액정 화합물의 광축을 기재층 평면에 대하여 수평으로 배향시킴으로써 면내 위상차가 발현되고, 이 경우, 광축 방향과 지상축 방향은 일치한다. 중합성 액정 화합물이 원반형인 경우는, 이 중합성 액정 화합물의 광축을 기재층 평면에 대하여 수평으로 배향시킴으로써 면내 위상차가 발현되고, 이 경우, 광축과 지상축은 직교한다. 중합성 액정 화합물의 배향 상태는, 배향막과 중합성 액정 화합물의 조합에 의해서 조정할 수 있다.

중합성 액정 화합물은, 중합성기를 가지며 또한 액정성을 갖는 화합물이다. 중합성기란, 중합 반응에 관여하는 기를 의미하고, 광중합성기인 것이 바람직하다. 여기서, 광중합성기란, 후술하는 광중합개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해서 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 중합성기로서는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물이 갖는 액정성은 서모트로픽성 액정이라도 리오트로픽 액정이라도 좋으며, 서모트로픽 액정을 질서도로 분류하면, 네마틱 액정이라도 스멕틱 액정이라도 좋다.

막대형의 중합성 액정 화합물이나 원반형의 중합성 액정 화합물로서는 공지된 것을 이용할 수 있으며, 예컨대 일본 특허공개 2015-163937호 공보, 일본 특허공개 2016-42185호 공보, 국제공개 제2016/158940호, 일본 특허공개 2016-224128호 공보에 예시되어 있는 것을 이용할 수 있다.

액정층은 1층 구조이라도 좋고, 2층 이상의 다층 구조라도 좋다. 2층 이상의 다층 구조를 갖는 경우에는, 후술하는 기재층 구비 액정층을 준비할 때에, 기재층 상에 2층 이상의 다층 구조의 액정층을 형성하면 된다. 액정층이 1층 구조인 경우, 액정층의 두께는 0.3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 1 ㎛ 이상이라도 좋으며, 통상 10 ㎛ 이하이고, 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 액정층이 2층 이상의 다층 구조인 경우, 액정층의 두께는 0.5 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 1 ㎛ 이상이라도 좋으며, 통상 10 ㎛ 이하이고, 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 편광판 전체의 박형화에 기여하고, 생길 수 있는 역컬을 효과적으로 억제한다는 관점에서, 액정층의 두께는 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 액정층의 두께가 0.3 ㎛ 미만인 경우, 역컬의 정도는 경미한 경향이 있기 때문에, 상기 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법 및 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법을 이용할 필요성이 작다.

(기재층 구비 액정층)

기재층 구비 제1 액정층 및 기재층 구비 제2 액정층(이하, 양자를 통합하여 「기재층 구비 액정층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 기재층 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포, 건조하여, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 경화층인 액정층을 형성함으로써 얻을 수 있다. 액정층 형성용 조성물은, 기재층 상에 후술하는 배향층이 형성되어 있는 경우는, 배향층 상에 도포하면 되고, 액정층이 2층 이상의 다층 구조인 경우에는, 액정층 형성용 조성물을 순차 도포하거나 함으로써 다층 구조를 형성하면 된다.

액정층 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물에 더하여 통상 용제를 포함한다. 액정층 형성용 조성물은, 추가로 중합개시제, 반응성 첨가제, 중합금지제 등을 포함하고 있어도 좋다. 용제, 중합개시제, 반응성 첨가제, 중합금지제 등에 관해서는, 일본 특허공개 2015-163937호 공보, 일본 특허공개 2016-42185호 공보, 국제공개 제2016/158940호, 일본 특허공개 2016-224128호 공보에 예시되어 있는 것을 이용할 수 있다.

액정층 형성용 조성물은, 예컨대 스핀코팅법, 익스트루전법, 그라비아코팅법, 다이코팅법, 슬릿코팅법, 바코팅법, 애플리케이터법 등의 도포법이나, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법에 의해서 도포할 수 있다. 액정층 형성용 조성물의 도포를 행한 후에는, 도포층 중에 포함되는 중합성 액정 화합물이 중합하지 않는 조건으로 용제를 제거하는 것이 바람직하다. 건조 방법으로서는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조, 감압 건조법 등을 들 수 있다.

도포층의 건조 후에 행하는 중합성 액정 화합물의 중합은, 중합성 작용기를 갖는 화합물을 중합시키는 공지된 방법에 의해서 행할 수 있다. 중합 방법으로서는 예컨대 열중합이나 광중합 등을 들 수 있고, 중합 용이성의 관점에서 광중합인 것이 바람직하다. 광중합에 의해 중합성 액정 화합물을 중합시키는 경우, 액정층 형성용 조성물로서 광중합개시제를 함유하는 것을 이용하고, 이 액정층 형성용 조성물을 도포, 건조하고, 건조 후의 건조 피막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물을 액정 배향시키고, 이 액정 배향 상태를 유지한 채로 광중합을 행하는 것이 바람직하다.

광중합은, 건조 피막 중의 액정 배향시킨 중합성 액정 화합물에 대하여 활성 에너지선을 조사함으로써 행할 수 있다. 조사하는 활성 에너지선으로서는, 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기의 종류 및 그 양, 광중합개시제의 종류 등에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대 가시광선, 자외선, 레이저광, X선, α선, β선 및 γ선으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 활성 에너지선을 들 수 있다. 이 중, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉽고, 광중합 장치로서 해당 분야에서 광범위하게 이용되고 있는 것을 사용할 수 있다고 하는 점에서, 자외선이 바람직하고, 자외선에 의해서 광중합 가능하도록 중합성 액정 화합물이나 광중합개시제의 종류를 선택하는 것이 바람직하다. 광중합함에 있어서는, 적절한 냉각 수단에 의해 건조 피막을 냉각하면서 활성 에너지선을 조사함으로써 중합 온도를 제어할 수도 있다.

(기재층)

제1 기재층 및 제2 기재층(이하, 양자를 통합하여 「기재층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 이들 기재층 상에 형성되는 후술하는 제1 배향층 및 제2 배향층, 그리고 제1 액정층 및 제2 액정층을 지지하는 지지층으로서의 기능을 갖는다. 기재층은 수지 재료로 형성된 필름인 것이 바람직하다.

수지 재료로서는, 예컨대 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료가 이용된다. 구체적으로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알코올, 폴리아세트산비닐 등의 비닐알코올계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥사이드계 수지 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다. 이들 수지 중, 환상 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 및 (메트)아크릴산계 수지의 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다.

기재층은, 수지 1 종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이라도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지는 상호 동일하더라도 다르더라도 좋으며, 하드코트층과 같은 도포·경화물층이라도 좋다.

수지 재료로 형성된 필름을 이루는 수지 재료에는 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대 자외선흡수제, 산화방지제, 윤활제, 가소제, 이형제, 착색방지제, 난연제, 핵제, 대전방지제, 안료 및 착색제 등을 들 수 있다.

제1 기재층 및 제2 기재층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 1∼300 ㎛인 것이 바람직하고, 10∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 30∼120 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.

기재층 구비 제1 액정층이 후술하는 제1 배향층을 갖는 경우나, 기재층 구비 제2 액정층이 후술하는 제2 배향층을 갖는 경우, 제1 기재층과 제1 배향층의 밀착성 및 제2 기재층과 제2 배향층의 밀착성을 향상시키기 위해서, 적어도 제1 기재층의 제1 배향층이 형성되는 측의 표면 및 적어도 제2 기재층의 제2 배향층이 형성되는 측의 표면에, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행하여도 좋고, 프라이머층 등을 형성하여도 좋다.

기재층은, 액정층 또는 후술하는 배향층(제1 배향층 또는 제2 배향층)에 대하여 박리 가능하며, 기재층과 액정층 또는 배향층 사이의 박리력의 크기는, 기재층을 박리하는 순서에 따라서 고려할 필요가 있다. 박리력은, 기재층 상에 액정층을 갖는 측정용 시험편, 또는 기재층 상에 배향층 및 액정층을 갖는 측정용 시험편을 이용하는 것 이외에는, 박리층과 점착층 사이의 박리력을 측정하는 방법과 같은 식으로 측정할 수 있다. 기재층과 액정층 또는 배향층 사이의 박리력은, 0.01∼0.50 N/25 mm인 것이 바람직하고, 0.03∼0.20 N/25 mm인 것이 보다 바람직하고, 0.05∼0.18 N/25 mm인 것이 더욱 바람직하다. 박리력이 상기한 하한치를 밑돌면, 반송 도중에 기재층과 액정층 또는 배향층의 사이에서 들뜸이 생겨 버릴 우려가 있다. 또한, 박리력이 상기한 상한치를 넘으면, 밀착성이 지나치게 높기 때문에, 액정층, 또는 액정층 및 배향층을 다른 쪽의 액정층이나 광학 필름 등에 전사할 수 없거나, 광학 적층체나 점착층 구비 광학 적층체를 제조하는 공정에서 각 부재가 반송되는 도중에 박리 계면이 변해 버리는 등의 우려가 있다.

제1 기재층과 제1 액정층 또는 후술하는 제1 배향층 사이의 박리력(이하, 「제1 박리력」이라고 하는 경우가 있다.)과, 제2 기재층과 제2 액정층 또는 후술하는 제2 배향층 사이의 박리력(이하, 「제2 박리력」이라고 하는 경우가 있다.)의 차는, 0.01 N/25 mm 이상인 것이 바람직하고, 0.03 N/25 mm 이상인 것이 보다 바람직하다. 기재층 구비 액정층 적층체로부터 먼저 제1 기재층을 박리하는 경우에는, 제2 박리력이 제1 박리력보다도 큰 것이 바람직하고, 기재층 구비 액정층 적층체로부터 먼저 제2 기재층을 박리하는 경우에는, 제1 박리력이 제2 박리력보다도 큰 것이 바람직하다. 또한, 기재층 구비 액정층 적층체로부터 먼저 제1 기재층을 박리하는 경우에는, 장척 가공의 관점에서, 제2 박리층과 제2 점착층 사이의 박리력<제1 박리력<제2 박리력의 관계에 있는 것이 바람직하다.

(배향층)

기재층 구비 제1 액정층은, 제1 기재층과 제1 액정층 사이에 제1 배향층을 포함하고 있어도 좋다. 또한, 기재층 구비 제2 액정층은, 제2 기재층과 제2 액정층 사이에 제2 배향층을 포함하고 있어도 좋다.

제1 배향층 및 제2 배향층은, 이들 배향층 상에 형성되는 제1 액정층 및 제2 액정층에 포함되는 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 제1 배향층 및 제2 배향층으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향성 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있으며, 제1 배향층과 제2 배향층은 동일한 종류의 층이라도 좋고, 다른 종류의 층이라도 좋다. 제1 배향층 및 제2 배향층의 두께는 통상 10∼4000 nm이며, 50∼3000 nm인 것이 바람직하다.

배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라서 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층이라면, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 의해서 임의로 조정할 수 있다.

광배향성 폴리머층은, 광반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 도포하고, 자외선 등의 빛을 조사함으로써 형성할 수 있다. 특히 수평 방향으로 배향 규제력을 발현하는 경우 등에 있어서는, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향성 폴리머층이라면, 광배향성 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 의해서 임의로 조정할 수 있다.

그루브 배향층은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층을 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 전사하여 경화하는 방법, 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤 형상의 원반을 밀어붙이는 등에 의해 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해서 형성할 수 있다.

기재층 구비 제1 액정층이 제1 배향층을 포함하는 경우, 제1 기재층을 박리할 때에, 제1 기재층과 함께 제1 배향층을 박리하여도 좋고, 제1 액정층 상에 제1배향층이 잔존하여도 좋다. 기재층 구비 제2 액정층이 제2 배향층을 포함하는 경우, 제2 기재층을 박리할 때에, 제2 기재층과 함께 제2 배향층을 박리하여도 좋고, 제2 액정층 상에 제2 배향층이 잔존하여도 좋다. 또한, 제1 배향층이 제1 기재층과 함께 박리될지, 제1 액정층에 잔존할지는, 각 층 사이의 밀착력의 관계를 조정함으로써 설정할 수 있으며, 예컨대 제1 기재층에 대하여 행해지는, 상기한 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리, 프라이머층 등의 표면 처리나, 제1 액정층을 형성하기 위해서 이용하는 액정층 형성용 조성물의 성분 등에 의해서 조정할 수 있다. 마찬가지로, 제2 기재층에 대하여 행해지는 표면 처리에 의해서, 제2 배향층을 제2 기재층과 함께 박리하도록 하여도 좋고, 제2 액정층에 잔존시키도록 하여도 좋다.

제1 액정층 상에 제1 배향층이 잔존한 경우, 제1 접착제 경화층은 제1 배향층 상에 마련할 수 있다. 또한, 제2 액정층 상에 제2 배향층이 잔존한 경우, 제2 점착층은 제2 배향층 상에 마련할 수 있다.

(원편광판)

본 실시형태의 광학 적층체는 원편광판으로서 이용할 수 있다. 도 4(b)에 도시하는 광학 적층체(70)를 원편광판으로서 이용하는 경우, 광학 필름(60)을, 편광자, 편광판 또는 프로텍트 필름 구비 편광판으로 하고, 제1 액정층(12)을 1/2 파장 위상차층으로 하고, 제2 액정층(22)을 1/4 파장 위상차층으로 하여도 좋다. 혹은 상기와 마찬가지로, 광학 필름(60)을, 편광자, 편광판 또는 프로텍트 필름 구비 편광판으로 한 다음에, 제1 액정층(12)을 역파장 분산성의 1/4 파장 위상차층으로 하고, 제2 액정층(22)을 포지티브 C 플레이트로 함에 의해서도 원편광판을 얻을 수 있다.

[실시예]

이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해서 한정되는 것은 아니다. 실시예, 비교예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부이다.

〔컬의 측정(1)〕

각 실시예, 각 비교예에서 얻어진 점착층 구비 광학 적층체로부터, 한 변의 길이가 100 mm인 능형 형상으로 되고, 그 대각선이 MD 방향 및 TD 방향 각각에 평행하게 되도록 잘라낸 컷팅 조각을, 온도 23℃, 상대습도 55%의 환경 하에서 24시간 방치한 후, 제1 세퍼레이터를 박리하여 시험편으로 했다. 이 시험편을 충분히 제전(除電)한 후, 시험편의 오목면을 위로 하여 기준면(수평의 대) 위에 놓고, 시험편의 4개의 모퉁이 각각에 대해서 기준면으로부터의 높이를 측정했다. 측정치는, 프로텍트 필름 측이 상측이 되도록 시험편을 기준면에 두면, 시험편의 모퉁이가 떠오르는 경우, 이 컬을 정컬로 하여, 기준면으로부터의 모퉁이의 높이를 플러스의 수치로 나타냈다. 한편, 프로텍트 필름 측이 하측이 되도록 시험편을 기준면에 두면, 시험편의 모퉁이가 떠오르는 경우, 이 컬을 역컬로 하여, 기준면으로부터의 모퉁이의 높이를 마이너스의 수치로 나타냈다.

점착층 구비 광학 적층체로부터의 시험편에 관해서 얻어진 측정치에 관해서, MD 방향에 평행한 대각선 상에 있는 2개의 모퉁이의 기준면으로부터의 높이의 측정치를 평균한 값을 실측 MD 컬치로서, TD 방향에 평행한 대각선 상에 있는 2개의 모퉁이의 기준면으로부터의 높이의 측정치를 평균한 값을 실측 TD 컬치로서 산출했다.

또한, 각 실시예, 각 비교예에서 이용하는 프로텍트 필름 구비 편광판에 관해서도 상기와 같은 수순으로 잘라낸 시험편의 4개의 모퉁이 각각에 관해서 기준면으로부터의 높이를 측정하고, 상기와 같은 수순으로 측정치를 평균하여, 프로텍트 필름 구비 편광판에 관해서, 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치를 산출했다.

얻어진 프로텍트 필름 구비 편광판의 실측 MD 컬치로부터, 점착층 구비 광학 적층체의 실측 MD 컬치를 뺀 값을, 프로텍트 필름이 있는 경우의 점착층 구비 광학 적층체의 MD 컬치로 했다. 마찬가지로, 얻어진 프로텍트 필름 구비 편광판의 실측 TD 컬치로부터, 점착층 구비 광학 적층체의 실측 TD 컬치를 뺀 값을, 프로텍트 필름이 있는 경우의 점착층 구비 광학 적층체의 TD 컬치로 했다.

〔컬의 측정(2)〕

각 실시예, 각 비교예에서 얻어진 점착층 구비 광학 적층체로부터 잘라낸 컷팅 조각으로부터 제1 세퍼레이터와 함께 프로텍트 필름을 박리한 것을 시험편으로 한 것 이외에는, 상기 컬의 측정(1)과 같은 수순으로 프로텍트 필름을 박리한 광학 적층체의 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치를 산출했다. 또한, 측정치는, 편광판 측이 상측이 되도록 시험편을 기준면에 두면 시험편의 모퉁이가 떠오르는 경우, 이 컬을 정컬로 하여, 기준면으로부터의 모퉁이의 높이를 플러스의 수치로 나타냈다. 한편, 편광판 측이 하측이 되도록 시험편을 기준면에 두면 시험편의 모퉁이가 떠오르는 경우, 이 컬을 역컬로 하여, 기준면으로부터의 모퉁이의 높이를 마이너스의 수치로 나타냈다.

또한, 각 실시예, 각 비교예에서 이용하는 프로텍트 필름 구비 편광판으로부터 잘라낸 컷팅 조각으로부터 프로텍트 필름을 박리한 편광판에 관해서도, 상기와 같은 수순으로 잘라낸 시험편의 4개의 모퉁이 각각에 관해서 기준면으로부터의 높이를 측정하고, 상기와 같은 수순으로 측정치를 평균하여, 프로텍트 필름을 박리한 편광판의 실측 MD 컬치 및 실측 TD 컬치를 산출했다.

프로텍트 필름을 박리한 편광판의 실측 MD 컬치로부터, 프로텍트 필름을 박리한 광학 적층체의 실측 MD 컬치를 뺀 값을, 프로텍트 필름이 없는 경우의 점착층 구비 광학 적층체의 MD 컬치로 했다. 마찬가지로, 프로텍트 필름을 박리한 편광판의 실측 TD 컬치로부터, 프로텍트 필름을 박리한 광학 적층체의 실측 TD 컬치를 뺀 값을, 프로텍트 필름이 없는 경우의 점착층 구비 광학 적층체의 TD 컬치로 했다.

상기 컬의 측정(1) 및 측정(2)에서 얻어진 MD 컬치 및 TD 컬치는, 그 값이 플러스 또는 0이면 역컬이 억제되고 있음을 나타내고, 또한 그 값이 마이너스인 경우는 그 절대치가 클수록 역컬이 진행되고 있음을 나타낸다.

〔양면 세퍼레이터 구비 점착층의 준비〕

점착제를 다음 방법에 의해 제조했다. 교반기, 온도계, 환류냉각기, 적하 장치 및 질소 도입관을 갖춘 반응 용기에, 아크릴산n-부틸 97.0 부, 아크릴산 1.0 부, 아크릴산2-히드록시에틸 0.5 부, 아세트산에틸 200 부 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.08 부를 넣고, 상기 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환했다. 질소 분위기 하에서 교반하면서, 반응 용액을 60℃로 승온하여, 6시간 반응시킨 후, 실온까지 냉각했다. 얻어진 용액의 일부의 중량 평균 분자량을 측정한 바, 180만의 (메트)아크릴산에스테르 중합체를 얻었음을 확인했다.

상기에서 얻어진 (메트)아크릴산에스테르 중합체 100 부(고형분 환산치; 이하 동일하다)와, 이소시아네이트계 가교제로서 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트(도소가부시키가이샤 제조, 상품명 「코로네이트 L」) 0.30 부와, 실란커플링제로서 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠카가쿠고교가부시키가이샤 제조, 상품명 「KBM403」) 0.30 부를 혼합하고, 충분히 교반하여, 아세트산에틸로 희석함으로써 점착제 조성물의 도공 용액을 얻었다.

박리층을 이루는 제1 세퍼레이터(린테크가부시키가이샤 제조: SP-PLR382190)의 이형 처리면(박리면)에, 애플리케이터에 의해, 건조 후의 두께가 25 ㎛가 되도록 상기 점착제 조성물의 도공 용액을 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조하여 점착층을 형성하고, 점착층의 세퍼레이터가 접합된 면과는 반대의 면에, 또 한 장의 제2 세퍼레이터(린테크사 제조: SP-PLR381031)를 접합하여, 양면 세퍼레이터 구비 점착층을 얻었다.

〔접착제 조성물의 준비〕

하기에 나타내는 양이온 경화성 성분 a1∼a3 및 양이온 중합개시제를 혼합한 후, 하기에 나타내는 양이온 중합개시제 및 증감제를 추가로 혼합한 후, 탈포하여, 광경화형의 접착제 조성물을 조제했다. 여기서, 하기의 배합량은 고형분량에 기초한다.

·양이온 경화성 성분 a1 (70 부):

3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명: CEL2021P, 가부시키가이샤다이셀 제조)

·양이온 경화성 성분 a2 (20 부):

네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(상품명: EX-211, 나가세켐텍스가부시키가이샤 제조)

·양이온 경화성 성분 a3 (10 부):

2-에틸헥실글리시딜에테르(상품명: EX-121, 나가세켐텍스가부시키가이샤 제조)

·양이온 중합개시제 (2.25 부(고형분량)):

상품명: CPI-100(산아프로가부시키가이샤 제조)의 50% 프로필렌카보네이트 용액

·증감제(2 부):

1,4-디에톡시나프탈렌

〔프로텍트 필름 구비 편광판(1)의 준비〕

두께 20 ㎛의 폴리비닐알코올 필름(평균 중합도 약 2,400, 비누화도 99.9 몰% 이상)을, 건식 연신에 의해 약 5배로 일축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로 60℃의 순수에 1분간 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 질량비가 0.05/5/100인 수용액에 28℃에서 60초간 침지했다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 8.5/8.5/100인 수용액에 72℃에서 300초간 침지했다. 이어서 26℃의 순수로 20초간 세정한 후, 65℃에서 건조하여, 폴리비닐알코올 필름에 요오드가 흡착 배향된 두께 7 ㎛의 편광자를 얻었다.

이어서, 이 편광자의 한쪽 측에, 물 100 부에 대하여, 카르복시기 변성 폴리비닐알코올((주)쿠라레에서 입수한 상품명 "KL-318")을 3 부 용해하고, 그 수용액에 수용성 에폭시 수지인 폴리아미드에폭시계 첨가제(다오카카가쿠고교(주)로부터 입수한 상품명 "스미레즈레진 650(30)", 고형분 농도 30%의 수용액)를 1.5 부 첨가한 에폭시계 접착제를 도공하고, 보호층으로서 두께 13 ㎛의 투명한 노르보르넨계 수지 필름을 접합시켰다. 이와 같이 하여, 편광자의 한 면에 보호층이 적층된 편광판을 얻었다. 또한 노르보르넨계 수지 필름의 편광자와는 반대쪽의 표면에 두께 38 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 15 ㎛의 아크릴계 점착층이 형성된 프로텍트 필름을 접합하여, 두께 73 ㎛의 프로텍트 필름 구비 편광판(1)을 얻었다. 이 프로텍트 필름 구비 편광판의 실측 MD 컬치는 -20 mm, 실측 TD 컬치는 1 mm였다. 또한, 프로텍트 필름을 박리한 편광판의 실측 MD 컬치는 4 mm, 실측 TD 컬치는 -1 mm였다.

〔기재층 구비 제1 액정층 및 기재층 구비 제2 액정층의 준비〕

(광배향층 형성용 조성물(1)의 조제)

하기의 성분을 혼합하여, 얻어진 혼합물을 온도 80℃에서 1시간 교반함으로써 광배향층 형성용 조성물(1)을 얻었다.

·광배향성 재료(5 부):

·용제(95 부): 시클로펜타논

(배향층 형성용 조성물(2)의 조제)

시판되는 배향성 폴리머인 산에바 SE-610(닛산카가쿠고교가부시키가이샤 제조)에 2-부톡시에탄올을 가하여 배향층 형성용 조성물(2)을 얻었다. 얻어진 배향층 형성용 조성물(2)은, 그 조성물 전량에 대한 고형분의 함유 비율이 1%이고, 이 조성물 전량에 대한 용제의 함유 비율이 99%였다. 산에바 SE-610의 고형분량은 납품사양서에 기재된 농도로부터 환산했다.

(액정층 형성용 조성물(A-1)의 조제)

하기의 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써, 액정층 형성용 조성물(A-1)을 얻었다. 중합성 액정 화합물 A1 및 중합성 액정 화합물 A2는 일본 특허공개 2010-31223호 공보에 기재된 방법으로 합성했다.

·중합성 액정 화합물 A1(80 부):

·중합성 액정 화합물 A2(20 부):

·중합개시제(6 부):

2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(이르가큐어 369; 치바스페살티케미칼즈사 제조)

·용제(400 부): 시클로펜타논

(액정층 형성용 조성물(B-1)의 조제)

하기의 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여 액정층 형성용 조성물(B-1)을 얻었다.

·중합성 액정 화합물 LC242(BASF사 제조)(19.2%):

·중합개시제(0.5%):

이르가큐어(등록상표) 907(BASF재팬사 제조)

·반응 첨가제(1.1%):

Laromer(등록상표) LR-9000(BASF재팬사 제조)

·용제(79.1%): 프로필렌글리콜1-모노메틸에테르2-아세테이트

(기재층 구비 제1 액정층의 제조)

두께 100 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을, 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 광배향층 형성용 조성물(1)을 바 코터 도포하여, 80℃에서 1분간 건조하고, 편광 UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 100 mJ/㎠의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시하여, 광배향층을 얻었다. 얻어진 광배향층의 두께를 레이저 현미경(LEXT, 올림푸스가부시키가이샤 제조)으로 측정한 바, 100 nm였다. 제1 액정층의 두께는 2 ㎛였다.

이어서, 광배향층 상에 액정층 형성용 조성물(A-1)을, 바 코터를 이용하여 도포하고, 120℃에서 1분간 건조한 후, 고압수은램프(유니큐어 VB-15201BY-A, 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 자외선을 조사(질소 분위기 하, 파장: 365 nm, 파장 365 nm에서의 적산 광량: 1000 mJ/㎠)함으로써, 위상차층으로서의 제1 액정층을 형성하여, 기재층 구비 제1 액정층을 얻었다.

(기재층 구비 제2 액정층의 제조)

두께 38 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을, 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 배향층 형성용 조성물(2)을 바 코터 도포하고, 90℃에서 1분간 건조하여, 배향층을 얻었다. 얻어진 배향층의 두께를 레이저 현미경(LEXT, 올림푸스가부시키가이샤 제조)으로 측정한 바, 34 nm였다.

이어서, 배향층 상에 액정층 형성용 조성물(B-1)을, 바 코터를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조한 후, 고압수은램프(유니큐어 VB-15201BY-A, 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 자외선을 조사(질소 분위기 하, 파장: 365 nm, 파장 365 nm에서의 적산 광량: 1000 mJ/㎠)함으로써, 위상차층으로서의 제2 액정층을 형성하여, 기재층 구비 제2 액정층을 얻었다. 제2 액정층의 두께는 1 ㎛였다.

〔실시예 1〕

상기에서 준비한 기재층 구비 제1 액정층, 기재층 구비 제2 액정층 및 양면 세퍼레이터 구비 점착층을 이용하여, 도 1∼도 4 및 도 6에 도시하는 공정에서 점착층 구비 광학 적층체를 얻었다. 구체적으로는 다음과 같이 행했다.

상기에서 준비한 프로텍트 필름 구비 편광판(1)(MD 방향 길이 300 mm×TD 방향 길이 200 mm)의 프로텍트 필름 측과는 반대쪽(편광자 측)의 면에 코로나 처리(800 W, 10 m/min, 바 폭 700 mm, 1 Pass)를 실시했다. 상기에서 준비한 접착제 조성물을, 도공기(다이이치리카(주) 제조의 바 코터)를 이용하여, 접착제 경화층의 두께가 1 ㎛가 되도록 도공하고, 접착제 조성물층을 형성하여, 조성물층 구비 편광판을 얻었다(도 1(c) 참조).

얻어진 조성물층 구비 편광판의 접착제 조성물층과 상기에서 준비한 기재층 구비 제1 액정층의 제1 액정층을, 접합 장치(후지플라스틱(주) 제조의 "LPA3301")를 이용하여 접합한 후(도 1(d) 참조), 조성물층 구비 편광판의 프로텍트 필름 측으로부터, 벨트 컨베이어 구비 자외선 조사 장치(램프는, 퓨젼UV시스템즈사 제조의 "H 벌브" 사용)에 의해, UVA 영역에서는 조사 강도가 390 mW/㎠, 적산 광량이 420 mJ/㎠가 되도록, UVB 영역에서는 400 mW/㎠, 적산 광량이 400 mJ/㎠가 되도록 자외선을 조사하여 접착제 조성물을 경화시켜, 기재층 구비 제1 액정층 적층체를 얻었다(도 2(a) 참조). 또한, 상기 접착제 조성물층이 경화한 접착제 경화층의 실온에서의 저장 탄성률을 상기한 산출 방법으로 산출하면, 약 3000 MPa였다.

이어서, 기재층 구비 제1 액정층 적층체로부터 기재층 구비 제1 액정층의 PET 필름(두께 100 ㎛)을 박리하여, 제1 액정층 적층체를 얻었다(도 2(b) 참조). 또한, 상기에서 준비한 양면 세퍼레이터 구비 점착층(300 mm×200 mm)로부터 제2 세퍼레이터를 박리했다. 자동접합기 HALTEC를 이용하여, PET 필름(두께 100 ㎛)을 박리하여 노출된 제1 액정층 적층체의 면(제1 액정층 측의 면)과, 양면 세퍼레이터 구비 점착층으로부터 제2 세퍼레이터를 박리하여 노출한 점착층의 매엽 접합을 행한 후, 제1 세퍼레이터를 박리하여 점착층 구비 제1 액정층 적층체를 얻었다(도 3(b) 참조).

제1 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층 구비 제1 액정층 적층체의 점착층과, 상기에서 준비한 기재층 구비 제2 액정층의 제2 액정층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합하여, 제2 액정층 적층체를 얻었다(도 4(b) 참조). 얻어진 제2 액정층 적층체로부터 기재층 구비 제2 액정층의 PET 필름(두께 38 ㎛)를 박리하여 노출된 면(제2 액정층 측의 면)과, 상기에서 준비한 양면 세퍼레이터 구비 점착층(300 mm×200 mm)으로부터 제2 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합하여, 점착층 구비 광학 적층체(1)를 얻었다(도 6(b) 참조). 얻어진 점착층 구비 광학 적층체(1)에 관해서 컬의 측정(1) 및 측정(2)을 행하여, 점착층 구비 광학 적층체(1)의 MD 컬치 및 TD 컬치를 산출했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.

〔실시예 2〕

상기 실시예 1과 같은 수순으로 제1 액정층 적층체를 얻고(도 2(b) 참조), PET 필름(두께 100 ㎛)을 박리하여 노출된 제1 액정층 적층체의 면(제1 액정층 측의 면)에, 코로나 처리(800 W, 10 m/min, 바 폭 700 mm, 1 Pass)를 실시했다. 이 코로나 처리면에, 상기에서 준비한 접착제 조성물을, 도공기(다이이치리카(주) 제조의 바 코터)를 이용하여, 접착제 경화층의 두께가 1 ㎛가 되도록 도공하여, 접착제 조성물층을 형성했다. 제1 액정층 적층체의 제1 액정층 상에 형성된 접착제 조성물층과, 상기에서 준비한 기재층 구비 제2 액정층의 제2 액정층을, 접합 장치(후지플라스틱(주) 제조의 "LPA3301")를 이용하여 접합한 후, 기재층 구비 제2 액정층 측으로부터, 벨트 컨베이어 구비 자외선 조사 장치(램프는, 퓨젼UV시스템즈사 제조의 "H 벌브" 사용)에 의해, UVA 영역에서는 조사 강도가 390 mW/㎠, 적산 광량이 420 mJ/㎠가 되도록, UVB 영역에서는 400 mW/㎠, 적산 광량이 400 mJ/㎠가 되도록 자외선을 조사하여 접착제 조성물을 경화시켜, 제2 액정층 적층체를 얻었다(도 5(c) 참조).

얻어진 제2 액정층 적층체로부터 기재층 구비 제2 액정층의 PET 필름(두께 38 ㎛)을 박리하여 노출된 면(제2 액정층 측의 면)과, 상기에서 준비한 양면 세퍼레이터 구비 점착층(300 mm×200 mm)으로부터 제2 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합하여, 점착층 구비 광학 적층체(2)를 얻었다(도 6(b) 참조). 얻어진 점착층 구비 광학 적층체(1)에 관해서 컬의 측정(1) 및 측정(2)을 행하여, 점착층 구비 광학 적층체(1)의 MD 컬치 및 TD 컬치를 산출했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.

〔비교예 1〕

상기에서 준비한 기재층 구비 제1 액정층, 기재층 구비 제2 액정층 및 양면 세퍼레이터 구비 점착층을 이용하여, 도 7∼도 8에 도시하는 공정에서 점착층 구비 광학 적층체를 얻었다. 구체적으로는 다음과 같이 행했다.

상기에서 준비한 프로텍트 필름 구비 편광판(1)(MD 방향 길이 300 mm×TD 방향 길이 200 mm)의 프로텍트 필름 측과는 반대쪽(편광자 측)의 면에 코로나 처리(800 W, 10 m/min, 바 폭 700 mm, 1 Pass)를 실시했다. 또한, 상기에서 준비한 양면 세퍼레이터 구비 점착층(300 mm×200 mm)으로부터 제2 세퍼레이터를 박리했다. 자동접합기 HALTEC를 이용하여, 프로텍트 필름 구비 편광판(1)의 코로나 처리면과 양면 세퍼레이터 구비 점착층으로부터 제2 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층의 매엽 접합을 행하여 점착층 구비 편광판을 얻었다(도 7(a) 참조).

상기 점착층 구비 편광판으로부터 제1 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층과, 상기에서 준비한 기재층 구비 제1 액정층(MD 방향 길이 300 mm×TD 방향 길이 200 mm)의 제1 액정층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합했다(도 7(c) 참조).

이어서, 프로텍트 필름 구비 편광판(2)과 접합한 기재층 구비 제1 액정층의 PET 필름(두께 100 ㎛)을 박리하여 노출된 면(제1 액정층 측의 면)과, 상기에서 준비한 양면 세퍼레이터 구비 점착층(300 mm×200 mm)으로부터 제2 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합한 후, 또한 제1 세퍼레이터를 박리했다(도 8(a) 참조). 제1 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층과, 상기에서 준비한 기재층 구비 제2 액정층(MD 방향 길이 300 mm×TD 방향 길이 200 mm)의 제2 액정층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합하여, 기재층 구비 광학 적층체를 얻었다(도 8(c)).

얻어진 기재층 구비 광학 적층체로부터 기재층 구비 제2 액정층의 PET 필름(두께 38 ㎛)을 박리하여 노출된 면(제2 액정층 측의 면)과, 상기에서 준비한 양면 세퍼레이터 구비 점착층(300 mm×200 mm)으로부터 제2 세퍼레이터를 박리하여 노출된 점착층을, 자동접합기 HALTEC를 이용하여 매엽 접합하여, 점착층 구비 광학 적층체(3)를 얻었다. 얻어진 점착층 구비 광학 적층체(3)에 관해서 컬의 측정(1) 및측정(2)을 행하여, 점착층 구비 광학 적층체(3)의 MD 컬치 및 TD 컬치를 산출했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.

표 1에 나타내는 것과 같이, 실시예 1 및 2에서 얻은 점착층 구비 광학 적층체는, 비교예 1에서 얻은 점착층 구비 광학 적층체와 비교하여 역컬이 억제되어 있어, 상기 실시형태에서 설명한 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법에 의하면 역컬을 억제할 수 있다는 것을 알 수 있다.

10, 10p: 기재층 구비 제1 액정층, 11, 11p: 제1 기재층, 12, 12p: 제1 액정층, 20, 20p: 기재층 구비 제2 액정층, 21, 21p: 제2 기재층, 22, 22p: 제2 액정층, 31: 제1 접착제 경화층, 31a: 제1 접착제 조성물층, 31p: 제1' 점착층, 32a: 제2 접착제 조성물층, 32x: 제1 점착층, 32y: 제2 접착제 경화층, 32p: 제2' 점착층, 33: 제2 점착층, 33p: 제3' 점착층, 52: 제1 박리층, 52p: 제2' 박리층, 53: 제2 박리층, 53p: 제3' 박리층, 57: 박리층 구비 제1 점착층, 58: 박리층 구비 제2 점착층, 60, 60p: 광학 필름, 61: 조성물층 구비 광학 필름, 65: 기재층 구비 제1 액정층 적층체, 66: 제1 액정층 적층체, 67: 점착층 구비 제1 액정층 적층체, 70, 70x, 70y, 70p: 광학 적층체, 71, 71x, 71y, 71p: 기재층 구비 광학 적층체(광학 적층체), 80, 81: 점착층 구비 광학 적층체.

Claims (12)

1. 광학 필름, 제1 접착제 경화층, 제1 액정층, 접착층 및 제2 액정층이 이 순서로 적층된 광학 적층체의 제조 방법으로서,
   상기 접착층은 제1 점착층 또는 제2 접착제 경화층이고,
   제1 기재층과, 상기 제1 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 상기 제1 액정층을 갖는 기재층 구비 제1 액정층을 준비하는 공정과,
   제2 기재층과, 상기 제2 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성한 상기 제2 액정층을 갖는 기재층 구비 제2 액정층을 준비하는 공정과,
   상기 제1 접착제 경화층을 통해 상기 기재층 구비 제1 액정층의 상기 제1 액정층 측에 상기 광학 필름을 적층하여 기재층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과,
   상기 기재층 구비 제1 액정층 적층체로부터 상기 제1 기재층을 박리하여 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과,
   상기 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 상기 제1 액정층 적층체의 제1 노출면 측과 상기 제2 액정층이 상기 접착층을 통해 대향하도록 상기 제1 액정층 적층체와 상기 기재층 구비 제2 액정층을 적층하여 제2 액정층 적층체를 얻는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 기재층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정은,
   상기 광학 필름 및 상기 기재층 구비 제1 액정층의 상기 제1 액정층 측의 적어도 한쪽에, 상기 제1 접착제 경화층을 형성하기 위한 제1 접착제 조성물을 포함하는 제1 접착제 조성물층을 형성하는 공정과,
   상기 제1 접착제 조성물층을 통해 상기 기재층 구비 제1 액정층의 상기 제1 액정층 측에 상기 광학 필름을 적층한 후, 상기 제1 접착제 조성물층을 경화하여 상기 제1 접착제 경화층을 형성하는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접착층은 상기 제1 점착층이고,
   상기 제2 액정층 적층체를 얻는 공정은,
   상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면 상에 상기 제1 점착층을 형성하여 점착층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정과,
   상기 점착층 구비 제1 액정층 적층체의 상기 제1 점착층과 상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층을 접합하는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
4. 제3항에 있어서, 상기 점착층 구비 제1 액정층 적층체를 얻는 공정은,
   상기 제1 점착층과 제1 박리층이 적층된 박리층 구비 제1 점착층을 준비하는 공정과,
   상기 박리층 구비 제1 점착층의 상기 제1 점착층과 상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면을 접합한 후, 상기 제1 박리층을 박리하는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접착층은 상기 제1 점착층이고,
   상기 제2 액정층 적층체를 얻는 공정은,
   상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층 상에 상기 제1 점착층을 형성하여 점착층 구비 제2 액정층을 얻는 공정과,
   상기 점착층 구비 제2 액정층의 상기 제1 점착층과 상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면을 접합하는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 점착층 구비 제2 액정층을 얻는 공정은,
   상기 제1 점착층과 제1 박리층이 적층된 박리층 구비 제1 점착층을 준비하는 공정과,
   상기 박리층 구비 제1 점착층의 상기 제1 점착층과 상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층을 접합한 후, 상기 제1 박리층을 박리하는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접착층은 상기 제2 접착제 경화층이고,
   상기 제2 액정층 적층체를 얻는 공정은,
   상기 제1 액정층 적층체의 상기 제1 노출면 측 및 상기 기재층 구비 제2 액정층의 상기 제2 액정층 측 중의 적어도 한쪽에, 상기 제2 접착제 경화층을 형성하기 위한 제2 접착제 조성물을 포함하는 제2 접착제 조성물층을 형성하는 공정과,
   상기 제2 접착제 조성물층을 통해 상기 제1 노출면과 상기 제2 액정층이 대향하도록 상기 제1 액정층 적층체와 상기 기재층 구비 제2 액정층을 적층한 후, 상기 제2 접착제 조성물층을 경화하여 상기 제2 접착제 경화층을 형성하는 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 필름은 편광판을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 필름은, 편광판의 적어도 한 면에 프로텍트 필름이 적층된 프로텍트 필름 구비 편광판을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액정층 적층체로부터 상기 제2 기재층을 박리하는 공정을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
11. 광학 필름, 제1 접착제 경화층, 제1 액정층, 접착층, 제2 액정층 및 제2 점착층이 이 순서로 적층된 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    제10항에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로 제조된 광학 적층체를 준비하는 공정과,
    상기 제2 기재층을 박리함으로써 노출된 상기 광학 적층체의 제2 노출면 측에 상기 제2 점착층을 적층하는 공정을 포함하는, 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 제2 점착층을 적층하는 공정은,
    상기 제2 점착층과 제2 박리층이 적층된 박리층 구비 제2 점착층을 준비하는 공정과,
    상기 박리층 구비 제2 점착층의 상기 제2 점착층과 상기 광학 적층체의 상기 제2 노출면을 접합하는 공정을 포함하는, 점착층 구비 광학 적층체의 제조 방법.

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