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KR20190018926A - Display device using semiconductor light emitting device - Google Patents

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KR20190018926A
KR20190018926A KR1020170103696A KR20170103696A KR20190018926A KR 20190018926 A KR20190018926 A KR 20190018926A KR 1020170103696 A KR1020170103696 A KR 1020170103696A KR 20170103696 A KR20170103696 A KR 20170103696A KR 20190018926 A KR20190018926 A KR 20190018926A
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color conversion
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이성환
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엘지전자 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a display device and, specifically, to a display device using a semiconductor light emitting element. According to the present invention, the display device is a display device wherein light is emitted from both sides. According to the present invention, the display device comprises: a base substrate having a first surface and a second surface opposite to each other; a first color conversion part disposed on the first surface of the base substrate to convert a color; a second color conversion part disposed on the second surface of the base substrate to convert a color; and semiconductor light emitting elements disposed between the first surface of the base substrate and the first color conversion part. In detail, the base substrate is provided with a through hole through which light emitted from the semiconductor light emitting elements passes. The through holes may include a filter for filtering light converted by the first and the second color conversion part to prevent the colors from mixing.

Description

반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치{DISPLAY DEVICE USING SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE}Technical Field [0001] The present invention relates to a display device using a semiconductor light-

본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로 특히, 반도체 발광 소자를 이용한 양면 광원 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a double-sided light source device using a semiconductor light emitting device.

최근에는 디스플레이 기술분야에서 박형, 플렉서블 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치가 개발되고 있다. 이에 반해, 현재 상용화된 주요 디스플레이는 LCD(Liguid Crystal Display)와 AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes)로 대표되고 있다.In recent years, display devices having excellent characteristics such as a thin shape and a flexible shape in the field of display technology have been developed. On the other hand, major displays that are commercialized today are represented by LCD (Liguid Crystal Display) and AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes).

그러나, LCD의 경우에 빠르지 않은 반응 시간과, 플렉서블의 구현이 어렵다는 문제점이 존재하고, AMOLED의 경우에 수명이 짧고, 양산 수율이 좋지 않다는 취약점이 존재한다.However, in the case of an LCD, there is a problem that the reaction time is not fast and the implementation of the flexible is difficult. In the case of the AMOLED, there is a weak point that the life span is short and the mass production yield is not good.

한편, 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 전류를 빛으로 변환시키는 잘 알려진 반도체 발광 소자로서, 1962년 GaAsP 화합물 반도체를 이용한 적색 LED가 상품화된 것을 시작으로 GaP:N 계열의 녹색 LED와 함께 정보 통신기기를 비롯한 전자장치의 표시 화상용 광원으로 이용되어 왔다. 따라서, 상기 반도체 발광 소자를 이용하여 디스플레이를 구현하여, 상기의 문제점을 해결하는 방안이 제시될 수 있다.Light emitting diodes (LEDs) are well-known semiconductor light emitting devices that convert current into light. In 1962, red LEDs using GaAsP compound semiconductors were commercialized, Has been used as a light source for a display image of an electronic device including a communication device. Accordingly, a method of solving the above problems by implementing a display using the semiconductor light emitting device can be presented.

상기 반도체 발광 소자는 소형조명, 자동차 조명, 실내 조명으로 활용될 수 있으며, 나아가 옥외 간판 및 옥외 조명 같은 광원으로도 활용될 수 있다. 이에, 상기 반도체 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치에서는 양면에서 광원을 방출하는 것이 요구될 수 있다.The semiconductor light emitting device can be utilized as a small-sized lighting, an automobile lighting, an indoor lighting, and can be utilized as a light source such as an outdoor signboard and an outdoor lighting. Therefore, in a display device including the semiconductor light emitting device, it may be required to emit a light source on both sides.

이와 같이 반도체 발광 소자를 포함하는 양면 광원 디스플레이 장치는 구성이 복잡해지고, 반도체 발광 소자가 양면으로 배치되어 디스플레이 장치의 구성에 사용되는 반도체 발광 소자의 개수가 증가한다. 따라서, 제작 비용이 증가되는 문제점이 있다. 이에, 본 발명에서는 양면 광원 디스플레이 장치를 구현하면서도 제작비용을 절감할 수 있는 디스플레이 장치 구조에 대하여 제시한다.As described above, the double-sided light source display device including the semiconductor light emitting device has a complicated structure, and the number of the semiconductor light emitting devices used in the construction of the display device increases because the semiconductor light emitting devices are disposed on both sides. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost is increased. Accordingly, the present invention provides a display device structure capable of reducing manufacturing costs while implementing a double-sided light source display device.

본 발명의 일 목적은 제조원가를 절감할 수 있는 양면 광원 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다. It is an object of the present invention to provide a double-sided light source display device capable of reducing manufacturing costs.

본 발명의 다른 일 목적은 양면 광원 디스플레이 장치에서 서로 다른 면에서 다른 색상을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide different colors in different aspects in a double-sided light source display device.

본 발명에 따른 디스플레이 장치는 서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 베이스 기판과 상기 베이스 기판의 제1면에 배치되어 색상을 변환하는 제1 색상 변환부를 포함한다. 또한, 상기 베이스 기판의 제2면에 배치되어 색상을 변환하는 제2 색상 변환부와 상기 베이스 기판의 제1면과 상기 제1 색상 변환부의 사이에 배치되는 반도체 발광 소자들을 포함한다. 상세하게, 상기 베이스 기판에는 상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛이 통과하는 관통홀이 형성되고, 상기 관통홀에는 상기 제1 및 제2 색상 변환부에서 변환된 빛을 필터링하는 필터가 구비되는 것을 특징으로 한다. A display device according to the present invention includes a base substrate having a first surface and a second surface opposite to each other, and a first color conversion unit disposed on a first surface of the base substrate to convert color. A second color conversion unit is disposed on a second surface of the base substrate to convert hue, and semiconductor light emitting devices are disposed between the first surface of the base substrate and the first hue conversion unit. In detail, the base substrate is provided with a through hole through which the light emitted from the semiconductor light emitting devices passes, and the through hole is provided with a filter for filtering the light converted by the first and second color conversion units .

실시예에 있어서, 상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛의 적어도 일부는 상기 제1 색상 변환부에 조사되어 제1 색상의 광원으로 방출되도록 형성된다. 또한, 상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛의 적어도 다른 일부는 상기 관통홀 및 상기 필터를 통과하여 상기 제2 색상 변환부에 조사되어 제2 색상의 광원으로 방출되도록 형성된다. In an embodiment, at least a part of the light emitted from the semiconductor light emitting devices is formed to be emitted to the first color light source by being irradiated to the first color conversion unit. At least another portion of the light emitted from the semiconductor light emitting devices passes through the through hole and the filter and is irradiated to the second color conversion unit to be emitted to the light source of the second color.

실시예에 있어서, 상기 제1 색상 변환부는 상기 반도체 발광 소자에서 방출되는 빛을 상기 제1 색상으로 변환하는 제1 형광체 및 상기 제1 형광체 상에 적층된 색순도 향상층을 더 포함한다. The first color conversion unit may further include a first phosphor for converting light emitted from the semiconductor light emitting device into the first color and a color purity enhancement layer stacked on the first phosphor.

실시예에 있어서, 상기 제2 색상 변환부는 상기 반도체 발광 소자에서 방출되는 빛을 상기 제2 색상으로 변환하는 제2 형광체 및 상기 제2 형광체 상에 적층된 색순도 향상층을 더 포함한다. The second color conversion unit may further include a second phosphor for converting the light emitted from the semiconductor light emitting device into the second color, and a color purity enhancement layer stacked on the second phosphor.

실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 색상 변환부는 상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛을 서로 다른 색상으로 변환하도록 서로 다른 형광체를 포함한다.In an exemplary embodiment, the first and second color conversion units include different phosphors to convert light emitted from the semiconductor light emitting devices into different colors.

실시예에 있어서, 상기 관통홀은 상기 반도체 발광 소자들 사이에 형성된다.In an embodiment, the through holes are formed between the semiconductor light emitting elements.

실시예에 있어서, 상기 베이스 기판의 제1면과 제1 색상 변환부 사이에 갭이 배치되고, 상기 베이스 기판의 제2면과 제2 색상 변환부 사이에 갭이 배치된다. In an embodiment, a gap is disposed between the first surface of the base substrate and the first color conversion portion, and a gap is disposed between the second surface of the base substrate and the second color conversion portion.

실시예에 있어서, 상기 베이스 기판은 서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 절연 기판과 상기 절연 기판의 제1면과 제2면을 각각 덮도록 형성되는 금속층 및 상기 금속층의 표면에 각각 적층된 반사층을 포함한다. 나아가, 상기 반사층은 금속으로 이루어진다.In one embodiment of the present invention, the base substrate includes an insulating substrate having a first surface and a second surface opposite to each other, a metal layer formed to cover the first surface and the second surface of the insulating substrate, And a reflective layer stacked on top of each other. Further, the reflective layer is made of metal.

본 발명에 따른 디스플레이 장치에서는, 반도체 발광 소자가 베이스 기판과 상기 제1 색상 변환부의 사이에 배치되어, 양면 광원 디스플레이 장치가 구현되는데 소모되는 반도체 발광 소자의 개수가 감소될 수 있다. 이에, 제조원가가 절감된 디스플레이 장치가 제공될 수 있다. In the display device according to the present invention, the number of semiconductor light emitting devices consumed for realizing the double-sided light source display device may be reduced because the semiconductor light emitting device is disposed between the base substrate and the first color converting unit. Accordingly, a display device with reduced manufacturing cost can be provided.

또한, 본 발명에 의하면, 빛의 색상을 변환하는 제1 및 제2 색상 변환부가 디스플레이 장치의 양측에 각각 배치되어 서로 다른 면에서 다른 색상으로 빛이 방출될 수 있다.In addition, according to the present invention, the first and second color conversion units for converting the color of light may be disposed on both sides of the display device, and light may be emitted in different colors on different surfaces.

도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 실시예를 나타내는 개념도이다.
도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이다.
도 4는 도 3의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.
도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.
도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.
도 7은 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이다.
도 9는 도 8의 수직형 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예의 디스플레이 장치를 설명하기 위한, 도 1의 A부분 확대도이다.
도 11은 도 10의 E-E를 따라 취한 단면도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 디스플레이 장치의 단면도이다.
도 13는 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 디스플레이 장치의 단면도이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 디스플레이 장치의 단면도이다.
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예의 디스플레이 장치를 설명하기 위한, 도 1의 A부분 확대도이다.
도 16은 도 15의 F-F를 따라 취한 단면도이다.
1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using the semiconductor light emitting element of the present invention.
Fig. 2 is a partially enlarged view of part A of Fig. 1, and Figs. 3a and 3b are cross-sectional views taken along line BB and CC of Fig.
4 is a conceptual diagram showing a flip chip type semiconductor light emitting device of FIG.
FIGS. 5A to 5C are conceptual diagrams showing various forms of implementing a color in relation to a flip chip type semiconductor light emitting device.
6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
8 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG.
9 is a conceptual diagram showing a vertical semiconductor light emitting device of FIG.
Fig. 10 is an enlarged view of a portion A in Fig. 1 for explaining a display device according to another embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view taken along line EE in Fig.
12 is a cross-sectional view of a display device for explaining another embodiment of the present invention.
13 is a cross-sectional view of a display device for explaining another embodiment of the present invention.
14 is a cross-sectional view of a display device for explaining another embodiment of the present invention.
Fig. 15 is an enlarged view of a portion A of Fig. 1 for explaining a display device according to another embodiment of the present invention. Fig.
16 is a cross-sectional view taken along line FF of Fig.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 됨을 유의해야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals are used to designate identical or similar elements, and redundant description thereof will be omitted. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of related arts will be omitted when it is determined that the gist of the embodiments disclosed herein may be blurred. In addition, it should be noted that the attached drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and should not be construed as limiting the technical idea disclosed in the present specification by the attached drawings.

또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 "상(on)"에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 중간 요소가 존재할 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It is also to be understood that when an element such as a layer, region or substrate is referred to as being present on another element "on," it is understood that it may be directly on the other element or there may be an intermediate element in between There will be.

본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 노트북 컴퓨터(laptop computer), 디지털방송용 단말기, PDA(personal digital assistants), PMP(portable multimedia player), 네비게이션, 슬레이트 피씨(Slate PC), Tablet PC, Ultra Book, 디지털 TV, 데스크탑 컴퓨터 등이 포함될 수 있다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시 예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태이라도, 디스플레이가 가능한 장치에는 적용될 수도 있음을 본 기술분야의 당업자라면 쉽게 알 수 있을 것이다.The display device described in this specification includes a mobile phone, a smart phone, a laptop computer, a digital broadcasting terminal, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), a navigation device, a slate PC, , A Tablet PC, an Ultra Book, a digital TV, a desktop computer, and the like. However, it will be readily apparent to those skilled in the art that the configuration according to the embodiments described herein may be applied to a device capable of being displayed, even in the form of a new product to be developed in the future.

도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.

도시에 의하면, 디스플레이 장치(100)의 제어부에서 처리되는 정보는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 이용하여 표시될 수 있다. According to the illustrated example, the information processed in the control unit of the display device 100 may be displayed using a flexible display.

플렉서블 디스플레이는 외력에 의하여 휘어질 수 있는, 구부러질 수 있는, 비틀어질 수 있는, 접힐 수 있는, 말려질 수 있는 디스플레이를 포함한다. 예를 들어, 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 디스플레이 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나, 구부리거나, 접을 수 있거나 말 수 있는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 디스플레이가 될 수 있다.The flexible display includes a display that can be bent, twistable, collapsible, and curlable, which can be bent by an external force. For example, a flexible display can be a display made on a thin, flexible substrate that can be bent, bent, folded or rolled like paper while maintaining the display characteristics of conventional flat panel displays.

상기 플렉서블 디스플레이가 휘어지지 않는 상태(예를 들어, 무한대의 곡률반경을 가지는 상태, 이하 제1상태라 한다)에서는 상기 플렉서블 디스플레이의 디스플레이 영역이 평면이 된다. 상기 제1상태에서 외력에 의하여 휘어진 상태(예를 들어, 유한의 곡률반경을 가지는 상태, 이하, 제2상태라 한다)에서는 상기 디스플레이 영역이 곡면이 될 수 있다. 도시와 같이, 상기 제2상태에서 표시되는 정보는 곡면상에 출력되는 시각 정보가 될 수 있다. 이러한 시각 정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(sub-pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현된다. 상기 단위 화소는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다.In a state where the flexible display is not bent (for example, a state having an infinite radius of curvature, hereinafter referred to as a first state), the display area of the flexible display is flat. In the first state, the display area may be a curved surface in a state of being bent by an external force (for example, a state having a finite radius of curvature, hereinafter referred to as a second state). As shown in the figure, the information displayed in the second state may be time information output on the curved surface. Such visual information is realized by independently controlling the emission of a sub-pixel arranged in a matrix form. The unit pixel means a minimum unit for implementing one color.

상기 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 반도체 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 본 발명에서는 전류를 빛으로 변환시키는 반도체 발광 소자의 일 종류로서 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)를 예시한다. 상기 발광 다이오드는 작은 크기로 형성되며, 이를 통하여 상기 제2상태에서도 단위 화소의 역할을 할 수 있게 된다.The unit pixel of the flexible display may be implemented by a semiconductor light emitting device. In the present invention, a light emitting diode (LED) is exemplified as one type of semiconductor light emitting device for converting a current into light. The light emitting diode is formed in a small size, so that it can serve as a unit pixel even in the second state.

이하, 상기 발광 다이오드를 이용하여 구현된 플렉서블 디스플레이에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a flexible display implemented using the light emitting diode will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이며, 도 4는 도 3a의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이고, 도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.FIG. 2 is a partial enlarged view of a portion A of FIG. 1, FIGS. 3 A and 3B are cross-sectional views taken along lines BB and CC of FIG. 2, FIG. 4 is a conceptual view of a flip chip type semiconductor light emitting device of FIG. FIGS. 5A to 5C are conceptual diagrams showing various forms of implementing a color in relation to a flip chip type semiconductor light emitting device.

도 2, 도 3a 및 도 3b의 도시에 의하면, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)를 예시한다. 다만, 이하 설명되는 예시는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광 소자에도 적용 가능하다.Referring to FIGS. 2, 3A and 3B, a display device 100 using a passive matrix (PM) semiconductor light emitting device as a display device 100 using a semiconductor light emitting device is illustrated. However, the example described below is also applicable to an active matrix (AM) semiconductor light emitting device.

상기 디스플레이 장치(100)는 기판(110), 제1전극(120), 전도성 접착층(130), 제2전극(140) 및 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함한다.The display device 100 includes a substrate 110, a first electrode 120, a conductive adhesive layer 130, a second electrode 140, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150.

기판(110)은 플렉서블 기판일 수 있다. 예를 들어, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 기판(110)은 유리나 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면, 예를 들어 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등 어느 것이라도 사용될 수 있다. 또한, 상기 기판(110)은 투명한 재질 또는 불투명한 재질 어느 것이나 될 수 있다.The substrate 110 may be a flexible substrate. For example, to implement a flexible display device, the substrate 110 may comprise glass or polyimide (PI). In addition, any insulating material such as PEN (polyethylene naphthalate) and PET (polyethylene terephthalate) may be used as long as it is insulating and flexible. In addition, the substrate 110 may be either a transparent material or an opaque material.

상기 기판(110)은 제1전극(120)이 배치되는 배선기판이 될 수 있으며, 따라서 상기 제1전극(120)은 기판(110) 상에 위치할 수 있다.The substrate 110 may be a wiring substrate on which the first electrode 120 is disposed, so that the first electrode 120 may be positioned on the substrate 110.

도시에 의하면, 절연층(160)은 제1전극(120)이 위치한 기판(110) 상에 배치될 수 있으며, 상기 절연층(160)에는 보조전극(170)이 위치할 수 있다. 이 경우에, 상기 기판(110)에 절연층(160)이 적층된 상태가 하나의 배선기판이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연층(160)은 폴리이미드(PI, Polyimide), PET, PEN 등과 같이 절연성이 있고, 유연성 있는 재질로, 상기 기판(110)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수 있다.The insulating layer 160 may be disposed on the substrate 110 on which the first electrode 120 is located and the auxiliary electrode 170 may be disposed on the insulating layer 160. In this case, a state in which the insulating layer 160 is laminated on the substrate 110 may be one wiring substrate. More specifically, the insulating layer 160 is formed of a flexible material such as polyimide (PI), polyimide (PET), or PEN, and is integrally formed with the substrate 110 to form a single substrate.

보조전극(170)은 제1전극(120)과 반도체 발광 소자(150)를 전기적으로 연결하는 전극으로서, 절연층(160) 상에 위치하고, 제1전극(120)의 위치에 대응하여 배치된다. 예를 들어, 보조전극(170)은 닷(dot) 형태이며, 절연층(160)을 관통하는 전극홀(171)에 의하여 제1전극(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전극홀(171)은 비아 홀에 도전물질이 채워짐에 의하여 형성될 수 있다.The auxiliary electrode 170 is an electrode that electrically connects the first electrode 120 and the semiconductor light emitting device 150 and is disposed on the insulating layer 160 and corresponds to the position of the first electrode 120. For example, the auxiliary electrode 170 may be in the form of a dot and may be electrically connected to the first electrode 120 by an electrode hole 171 passing through the insulating layer 160. The electrode hole 171 may be formed by filling a via hole with a conductive material.

본 도면들을 참조하면, 절연층(160)의 일면에는 전도성 접착층(130)이 형성되나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 절연층(160)과 전도성 접착층(130)의 사이에 특정 기능을 수행하는 레이어가 형성되거나, 절연층(160)이 없이 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조도 가능하다. 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조에서는 전도성 접착층(130)이 절연층의 역할을 할 수 있다.Referring to these drawings, the conductive adhesive layer 130 is formed on one surface of the insulating layer 160, but the present invention is not limited thereto. For example, a layer having a specific function may be formed between the insulating layer 160 and the conductive adhesive layer 130, or a structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate 110 without the insulating layer 160 It is also possible. In the structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate 110, the conductive adhesive layer 130 may serve as an insulating layer.

상기 전도성 접착층(130)은 접착성과 전도성을 가지는 층이 될 수 있으며, 이를 위하여 상기 전도성 접착층(130)에서는 전도성을 가지는 물질과 접착성을 가지는 물질이 혼합될 수 있다. 또한 전도성 접착층(130)은 연성을 가지며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 플렉서블 기능을 가능하게 한다.The conductive adhesive layer 130 may be a layer having adhesiveness and conductivity. To this end, the conductive adhesive layer 130 may be mixed with a substance having conductivity and a substance having adhesiveness. Also, the conductive adhesive layer 130 has ductility, thereby enabling the flexible function in the display device.

이러한 예로서, 전도성 접착층(130)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 상기 전도성 접착층(130)은 두께를 관통하는 Z 방향으로는 전기적 상호 연결을 허용하나, 수평적인 X-Y 방향으로는 전기절연성을 가지는 레이어로서 구성될 수 있다. 따라서 상기 전도성 접착층(130)은 Z축 전도층으로 명명될 수 있다(다만, 이하 '전도성 접착층'이라 한다).As an example, the conductive adhesive layer 130 may be an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing conductive particles, or the like. The conductive adhesive layer 130 may be formed as a layer having electrical insulation in the horizontal X-Y direction while permitting electrical interconnection in the Z direction passing through the thickness. Accordingly, the conductive adhesive layer 130 may be referred to as a Z-axis conductive layer (hereinafter, referred to as a conductive adhesive layer).

상기 이방성 전도성 필름은 이방성 전도매질(anisotropic conductive medium)이 절연성 베이스부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정 부분만 이방성 전도매질에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이하, 상기 이방성 전도성 필름에는 열 및 압력이 가해지는 것으로 설명하나, 상기 이방성 전도성 필름이 부분적으로 전도성을 가지기 위하여 다른 방법도 가능하다. 이러한 방법은, 예를 들어 상기 열 및 압력 중 어느 하나만이 가해지거나 UV 경화 등이 될 수 있다.The anisotropic conductive film is a film in which an anisotropic conductive medium is mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, only a specific part of the anisotropic conductive film has conductivity due to the anisotropic conductive medium. Hereinafter, the anisotropic conductive film is described as being subjected to heat and pressure, but other methods may be used to partially conduct the anisotropic conductive film. In this method, for example, either the heat or the pressure may be applied, or UV curing may be performed.

또한, 상기 이방성 전도매질은 예를 들어, 도전볼이나 전도성 입자가 될 수 있다. 도시에 의하면, 본 예시에서 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정부분만 도전볼에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이방성 전도성 필름은 전도성 물질의 코어가 폴리머 재질의 절연막에 의하여 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있으며, 이 경우에 열 및 압력이 가해진 부분이 절연막이 파괴되면서 코어에 의하여 도전성을 가지게 된다. 이때, 코어의 형태는 변형되어 필름의 두께방향으로 서로 접촉하는 층을 이룰 수 있다. 보다 구체적인 예로서, 열 및 압력은 이방성 전도성 필름에 전체적으로 가해지며, 이방성 전도성 필름에 의하여 접착되는 상대물의 높이차에 의하여 Z축 방향의 전기적 연결이 부분적으로 형성된다.In addition, the anisotropic conduction medium can be, for example, a conductive ball or a conductive particle. According to the example, in the present example, the anisotropic conductive film is a film in which conductive balls are mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, only specific portions are conductive by the conductive balls. The anisotropic conductive film may be a state in which a plurality of particles coated with an insulating film made of a polymer material are contained in the core of the conductive material. In this case, the insulating film is broken by heat and pressure, . At this time, the shape of the core may be deformed to form a layer in contact with each other in the thickness direction of the film. As a more specific example, heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film as a whole, and the electrical connection in the Z-axis direction is partially formed by the height difference of the mating member adhered by the anisotropic conductive film.

다른 예로서, 이방성 전도성 필름은 절연 코어에 전도성 물질이 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있다. 이 경우에는 열 및 압력이 가해진 부분이 전도성 물질이 변형되어(눌러 붙어서) 필름의 두께방향으로 전도성을 가지게 된다. 또 다른 예로서, 전도성 물질이 Z축 방향으로 절연성 베이스 부재를 관통하여 필름의 두께방향으로 전도성을 가지는 형태도 가능하다. 이 경우에, 전도성 물질은 뽀족한 단부를 가질 수 있다.As another example, the anisotropic conductive film may be in a state in which a plurality of particles coated with a conductive material are contained in the insulating core. In this case, the conductive material is deformed (pressed) to the portion where the heat and the pressure are applied, so that the conductive material becomes conductive in the thickness direction of the film. As another example, it is possible that the conductive material penetrates the insulating base member in the Z-axis direction and has conductivity in the thickness direction of the film. In this case, the conductive material may have a pointed end.

도시에 의하면, 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재의 일면에 삽입된 형태로 구성되는 고정배열 이방성 전도성 필름(fixed array ACF)가 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연성 베이스부재는 접착성을 가지는 물질로 형성되며, 도전볼은 상기 절연성 베이스부재의 바닥부분에 집중적으로 배치되며, 상기 베이스부재에서 열 및 압력이 가해지면 상기 도전볼과 함께 변형됨에 따라 수직방향으로 전도성을 가지게 된다.According to the present invention, the anisotropic conductive film may be a fixed array anisotropic conductive film (ACF) in which conductive balls are inserted into one surface of an insulating base member. More specifically, the insulating base member is formed of a material having adhesiveness, and the conductive ball is concentrated on the bottom portion of the insulating base member, and is deformed together with the conductive ball when heat and pressure are applied to the base member So that they have conductivity in the vertical direction.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 이방성 전도성 필름은 절연성 베이스부재에 도전볼이 랜덤하게 혼입된 형태나, 복수의 층으로 구성되며 어느 한 층에 도전볼이 배치되는 형태(double-ACF) 등이 모두 가능하다.However, the present invention is not limited thereto. The anisotropic conductive film may be formed by randomly mixing conductive balls into an insulating base member or by forming a plurality of layers in which a conductive ball is placed in a double- ACF) are all available.

이방성 전도 페이스트는 페이스트와 도전볼의 결합형태로서, 절연성 및 접착성의 베이스 물질에 도전볼이 혼합된 페이스트가 될 수 있다. 또한, 전도성 입자를 함유한 솔루션은 전도성 particle 혹은 nano 입자를 함유한 형태의 솔루션이 될 수 있다.The anisotropic conductive paste is a combination of a paste and a conductive ball, and may be a paste in which a conductive ball is mixed with an insulating and adhesive base material. In addition, solutions containing conductive particles can be solutions in the form of conductive particles or nanoparticles.

다시 도면을 참조하면, 제2전극(140)은 보조전극(170)과 이격하여 절연층(160)에 위치한다. 즉, 상기 전도성 접착층(130)은 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치하는 절연층(160) 상에 배치된다.Referring again to FIG. 5, the second electrode 140 is located in the insulating layer 160, away from the auxiliary electrode 170. That is, the conductive adhesive layer 130 is disposed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are disposed.

절연층(160)에 보조전극(170)과 제2전극(140)이 위치된 상태에서 전도성 접착층(130)을 형성한 후에, 반도체 발광 소자(150)를 열 및 압력을 가하여 플립 칩 형태로 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(150)는 제1전극(120) 및 제2전극(140)과 전기적으로 연결된다. After the conductive adhesive layer 130 is formed in a state where the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are positioned in the insulating layer 160, the semiconductor light emitting device 150 is connected to the semiconductor light emitting device 150 in a flip chip form The semiconductor light emitting device 150 is electrically connected to the first electrode 120 and the second electrode 140.

도 4를 참조하면, 상기 반도체 발광 소자는 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 될 수 있다.Referring to FIG. 4, the semiconductor light emitting device may be a flip chip type light emitting device.

예를 들어, 상기 반도체 발광 소자는 p형 전극(156), p형 전극(156)이 형성되는 p형 반도체층(155), p형 반도체층(155) 상에 형성된 활성층(154), 활성층(154) 상에 형성된 n형 반도체층(153) 및 n형 반도체층(153) 상에서 p형 전극(156)과 수평방향으로 이격 배치되는 n형 전극(152)을 포함한다. 이 경우, p형 전극(156)은 보조전극(170)과 전도성 접착층(130)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, n형 전극(152)은 제2전극(140)과 전기적으로 연결될 수 있다. For example, the semiconductor light emitting device includes a p-type semiconductor layer 155 in which a p-type electrode 156, a p-type electrode 156 are formed, an active layer 154 formed on the p-type semiconductor layer 155, And an n-type electrode 152 disposed on the n-type semiconductor layer 153 and the p-type electrode 156 on the n-type semiconductor layer 153 and 154 in the horizontal direction. In this case, the p-type electrode 156 may be electrically connected to the auxiliary electrode 170 by the conductive adhesive layer 130, and the n-type electrode 152 may be electrically connected to the second electrode 140.

다시 도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 보조전극(170)은 일방향으로 길게 형성되어, 하나의 보조전극이 복수의 반도체 발광 소자(150)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 보조전극을 중심으로 좌우의 반도체 발광 소자들의 p형 전극들이 하나의 보조전극에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring again to FIGS. 2, 3A and 3B, the auxiliary electrode 170 is elongated in one direction, and one auxiliary electrode may be electrically connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 150. For example, the p-type electrodes of the right and left semiconductor light emitting elements may be electrically connected to one auxiliary electrode around the auxiliary electrode.

보다 구체적으로, 열 및 압력에 의하여 전도성 접착층(130)의 내부로 반도체 발광 소자(150)가 압입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150)의 p형 전극(156)과 보조전극(170) 사이의 부분과, 반도체 발광 소자(150)의 n형 전극(152)과 제2전극(140) 사이의 부분에서만 전도성을 가지게 되고, 나머지 부분에서는 반도체 발광 소자의 압입이 없어 전도성을 가지지 않게 된다. 이와 같이, 전도성 접착층(130)은 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 사이 및 반도체 발광 소자(150)와 제2전극(140) 사이를 상호 결합시켜줄 뿐만 아니라 전기적 연결까지 형성시킨다.More specifically, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the conductive adhesive layer 130 by heat and pressure, and the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the conductive adhesive layer 130 through the p- And only the portion between the n-type electrode 152 and the second electrode 140 of the semiconductor light emitting device 150 has conductivity and the semiconductor light emitting device does not have a conductive property because the semiconductor light emitting device is not press- The conductive adhesive layer 130 not only couples the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the semiconductor light emitting device 150 and the second electrode 140 but also forms an electrical connection.

또한, 복수의 반도체 발광 소자(150)는 발광 소자 어레이(array)를 구성하며, 발광 소자 어레이에는 형광체층(180)이 형성된다. In addition, the plurality of semiconductor light emitting devices 150 constitute a light emitting element array, and the phosphor layer 180 is formed in the light emitting element array.

발광 소자 어레이는 자체 휘도값이 상이한 복수의 반도체 발광 소자들을 포함할 수 있다. 각각의 반도체 발광 소자(150)는 단위 화소를 구성하며, 제1전극(120)에 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 제1전극(120)은 복수 개일 수 있고, 반도체 발광 소자들은 예컨대 수 열로 배치되며, 각 열의 반도체 발광 소자들은 상기 복수 개의 제1전극 중 어느 하나에 전기적으로 연결될 수 있다.The light emitting element array may include a plurality of semiconductor light emitting elements having different brightness values. Each of the semiconductor light emitting devices 150 constitutes a unit pixel and is electrically connected to the first electrode 120. For example, the first electrodes 120 may be a plurality of semiconductor light emitting devices, and the semiconductor light emitting devices may be electrically connected to any one of the plurality of first electrodes.

또한, 반도체 발광 소자들이 플립 칩 형태로 접속되므로, 투명 유전체 기판에 성장시킨 반도체 발광 소자들을 이용할 수 있다. 또한, 상기 반도체 발광 소자들은 예컨대 질화물 반도체 발광 소자일 수 있다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다.Also, since the semiconductor light emitting devices are connected in a flip chip form, the semiconductor light emitting devices grown on the transparent dielectric substrate can be used. The semiconductor light emitting devices may be, for example, a nitride semiconductor light emitting device. Since the semiconductor light emitting device 150 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size.

도시에 의하면, 반도체 발광 소자(150)의 사이에 격벽(190)이 형성될 수 있다. 이 경우, 격벽(190)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 전도성 접착층(130)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(150)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다. According to the structure, the barrier ribs 190 may be formed between the semiconductor light emitting devices 150. In this case, the barrier ribs 190 may separate the individual unit pixels from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 130. For example, by inserting the semiconductor light emitting device 150 into the anisotropic conductive film, the base member of the anisotropic conductive film can form the partition.

또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(190)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.Also, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier 190 may have a reflection characteristic and a contrast may be increased without a separate black insulator.

다른 예로서, 상기 격벽(190)으로 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 이 경우에, 상기 격벽(190)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다. 화이트 절연체의 격벽을 이용할 경우 반사성을 높이는 효과가 있을 수 있고, 블랙 절연체의 격벽을 이용할 경우, 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)를 증가시킬 수 있다.As another example, the barrier ribs 190 may be provided separately from the reflective barrier ribs. In this case, the barrier rib 190 may include a black or white insulation depending on the purpose of the display device. When a barrier of a white insulator is used, an effect of enhancing reflectivity may be obtained. When a barrier of a black insulator is used, a contrast characteristic may be increased while having a reflection characteristic.

형광체층(180)은 반도체 발광 소자(150)의 외면에 위치할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자이고, 형광체층(180)은 상기 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키는 기능을 수행한다. 상기 형광체층(180)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(181) 또는 녹색 형광체(182)가 될 수 있다. The phosphor layer 180 may be located on the outer surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and the phosphor layer 180 converts the blue (B) light into the color of a unit pixel. The phosphor layer 180 may be a red phosphor 181 or a green phosphor 182 constituting an individual pixel.

즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자(151) 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(181)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자(151) 상에 청색 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(182)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자(151)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다. 보다 구체적으로, 제1전극(120)의 각 라인을 따라 하나의 색상의 형광체가 적층될 수 있다. 따라서, 제1전극(120)에서 하나의 라인은 하나의 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 즉, 제2전극(140)을 따라서, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 이를 통하여 단위 화소가 구현될 수 있다.That is, a red phosphor 181 capable of converting blue light into red (R) light can be laminated on the blue semiconductor light emitting element 151 at a position forming a red unit pixel, A green phosphor 182 capable of converting blue light into green (G) light may be laminated on the blue semiconductor light emitting element 151. [ In addition, only the blue semiconductor light emitting element 151 can be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) can form one pixel. More specifically, phosphors of one color may be stacked along each line of the first electrode 120. Accordingly, one line in the first electrode 120 may be an electrode for controlling one color. In other words, red (R), green (G), and blue (B) may be arranged in order along the second electrode 140, thereby realizing a unit pixel.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 형광체 대신에 반도체 발광 소자(150)와 퀀텀닷(QD)이 조합되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들을 구현할 수 있다.(R), green (G), and blue (B) unit pixels may be implemented by combining the semiconductor light emitting device 150 and the quantum dot QD instead of the fluorescent material. have.

또한, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체층들의 사이에는 블랙 매트릭스(191)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(191)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. In addition, a black matrix 191 may be disposed between each of the phosphor layers to improve contrast. That is, the black matrix 191 can improve the contrast of light and dark.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied.

도 5a를 참조하면, 각각의 반도체 발광 소자(150)는 질화 갈륨(GaN)을 주로 하여, 인듐(In) 및/또는 알루미늄(Al)이 함께 첨가되어 청색을 비롯한 다양한 빛을 발광하는 고출력의 발광 소자로 구현될 수 있다.5A, each of the semiconductor light emitting devices 150 includes gallium nitride (GaN), indium (In) and / or aluminum (Al) are added together to form a high output light Device.

이 경우, 반도체 발광 소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자일 수 있다. 예컨대, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자(R, G, B)가 교대로 배치되고, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자에 의하여 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)의 단위 화소들이 하나의 화소(pixel)를 이루며, 이를 통하여 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.In this case, the semiconductor light emitting device 150 may be a red, green, and blue semiconductor light emitting device to form a unit pixel (sub-pixel), respectively. For example, red, green, and blue semiconductor light emitting elements R, G, and B are alternately arranged, and red, green, and blue unit pixels Form a single pixel, through which a full color display can be implemented.

도 5b를 참조하면, 반도체 발광 소자는 황색 형광체층이 개별 소자마다 구비된 백색 발광 소자(W)를 구비할 수 있다. 이 경우에는, 단위 화소를 이루기 위하여, 백색 발광 소자(W) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182), 및 청색 형광체층(183)이 구비될 수 있다. 또한, 이러한 백색 발광 소자(W) 상에 적색, 녹색, 및 청색이 반복되는 컬러 필터를 이용하여 단위 화소를 이룰 수 있다.Referring to FIG. 5B, the semiconductor light emitting device may include a white light emitting device W having a yellow phosphor layer for each individual device. In this case, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the white light emitting element W to form a unit pixel. Further, a unit pixel can be formed by using a color filter in which red, green, and blue are repeated on the white light emitting element W.

도 5c를 참조하면, 자외선 발광 소자(UV) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182), 및 청색 형광체층(183)이 구비되는 구조도 가능하다. 이와 같이, 반도체 발광 소자는 가시광선뿐만 아니라 자외선(UV)까지 전영역에 사용가능하며, 자외선(UV)이 상부 형광체의 여기원(excitation source)으로 사용가능한 반도체 발광 소자의 형태로 확장될 수 있다.Referring to FIG. 5C, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the ultraviolet light emitting element UV. As described above, the semiconductor light emitting device can be used not only for visible light but also for ultraviolet (UV), and can be extended to a form of a semiconductor light emitting device in which ultraviolet (UV) can be used as an excitation source of the upper phosphor .

본 예시를 다시 살펴보면, 반도체 발광 소자(150)는 전도성 접착층(130) 상에 위치되어, 디스플레이 장치에서 단위 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(150)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20X80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.The semiconductor light emitting device 150 is disposed on the conductive adhesive layer 130 and constitutes a unit pixel in the display device. Since the semiconductor light emitting device 150 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be 80 mu m or less on one side and may be a rectangular or square device. In the case of a rectangle, the size may be 20 X 80 μm or less.

또한, 한 변의 길이가 10㎛인 정사각형의 반도체 발광 소자(150)를 단위 화소로 이용하여도 디스플레이 장치를 이루기 위한 충분한 밝기가 나타난다. 따라서, 단위 화소의 크기가 한 변이 600㎛, 나머지 한변이 300㎛인 직사각형 화소인 경우를 예로 들면, 반도체 발광 소자의 거리가 상대적으로 충분히 크게 된다. 따라서, 이러한 경우, HD화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있게 된다.Also, even if a square semiconductor light emitting device 150 having a length of 10 m on one side is used as a unit pixel, sufficient brightness for forming a display device appears. Accordingly, when the unit pixel is a rectangular pixel having a side of 600 mu m and the other side of 300 mu m as an example, the distance of the semiconductor light emitting element becomes relatively large. Accordingly, in such a case, it becomes possible to implement a flexible display device having HD picture quality.

상기에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는 새로운 형태의 제조방법에 의하여 제조될 수 있다. 이하, 도 6을 참조하여 상기 제조방법에 대하여 설명한다.The display device using the semiconductor light emitting device described above can be manufactured by a novel manufacturing method. Hereinafter, the manufacturing method will be described with reference to FIG.

도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.

본 도면을 참조하면, 먼저, 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치된 절연층(160) 상에 전도성 접착층(130)을 형성한다. 제1기판(110)에 절연층(160)이 적층되어 하나의 기판(또는 배선기판)을 형성하며, 상기 배선기판에는 제1전극(120), 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 배치된다. 이 경우에, 제1전극(120)과 제2전극(140)은 상호 직교 방향으로 배치될 수 있다. 또한, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 제1기판(110) 및 절연층(160)은 각각 유리 또는 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. The conductive adhesive layer 130 is formed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are disposed. A first electrode 120, an auxiliary electrode 170, and a second electrode 140 are formed on the wiring substrate, and the insulating layer 160 is formed on the first substrate 110 to form a single substrate (or a wiring substrate) . In this case, the first electrode 120 and the second electrode 140 may be arranged in mutually orthogonal directions. In addition, the first substrate 110 and the insulating layer 160 may include glass or polyimide (PI), respectively, in order to implement a flexible display device.

상기 전도성 접착층(130)은 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 의하여 구현될 수 있으며, 이를 위하여 절연층(160)이 위치된 기판에 이방성 전도성 필름이 도포될 수 있다.The conductive adhesive layer 130 may be formed, for example, by an anisotropic conductive film, and an anisotropic conductive film may be applied to the substrate on which the insulating layer 160 is disposed.

다음에, 보조전극(170) 및 제2전극(140)들의 위치에 대응하고, 개별 화소를 구성하는 복수의 반도체 발광 소자(150)가 위치된 제2기판(112)을 상기 반도체 발광 소자(150)가 보조전극(170) 및 제2전극(140)와 대향하도록 배치한다.A second substrate 112 corresponding to the positions of the auxiliary electrode 170 and the second electrodes 140 and having a plurality of semiconductor light emitting elements 150 constituting individual pixels is disposed on the semiconductor light emitting element 150 Are arranged so as to face the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140.

이 경우에, 제2기판(112)은 반도체 발광 소자(150)를 성장시키는 성장 기판으로서, 사파이어(spire) 기판 또는 실리콘(silicon) 기판이 될 수 있다.In this case, the second substrate 112 is a growth substrate for growing the semiconductor light emitting device 150, and may be a spire substrate or a silicon substrate.

상기 반도체 발광 소자는 웨이퍼(wafer) 단위로 형성될 때, 디스플레이 장치를 이룰 수 있는 간격 및 크기를 가지도록 함으로써, 디스플레이 장치에 효과적으로 이용될 수 있다.When the semiconductor light emitting device is formed in units of wafers, the semiconductor light emitting device can be effectively used in a display device by having an interval and a size at which a display device can be formed.

그 다음에, 배선기판과 제2기판(112)을 열압착한다. 예를 들어, 배선기판과 제2기판(112)은 ACF press head 를 적용하여 열압착될 수 있다. 상기 열압착에 의하여 배선기판과 제2기판(112)은 본딩(bonding)된다. 열압착에 의하여 전도성을 갖는 이방성 전도성 필름의 특성에 의해 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 및 제2전극(140)의 사이의 부분만 전도성을 가지게 되며, 이를 통하여 전극들과 반도체 발광 소자(150)는 전기적으로 연결될 수 있다. 이 때에, 반도체 발광 소자(150)가 상기 이방성 전도성 필름의 내부로 삽입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150) 사이에 격벽이 형성될 수 있다.Then, the wiring substrate and the second substrate 112 are thermally bonded. For example, the wiring board and the second substrate 112 may be thermocompression-bonded using an ACF press head. The wiring substrate and the second substrate 112 are bonded by the thermocompression bonding. Only the portion between the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 has conductivity due to the characteristics of the anisotropic conductive film having conductivity by thermocompression, The device 150 may be electrically connected. At this time, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the anisotropic conductive film, and partition walls may be formed between the semiconductor light emitting devices 150.

그 다음에, 상기 제2기판(112)을 제거한다. 예를 들어, 제2기판(112)은 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off, LLO) 또는 화학적 리프트 오프법(Chemical Lift-off, CLO)을 이용하여 제거할 수 있다.Then, the second substrate 112 is removed. For example, the second substrate 112 may be removed using a laser lift-off method (LLO) or a chemical lift-off method (CLO).

마지막으로, 상기 제2기판(112)을 제거하여 반도체 발광 소자들(150)을 외부로 노출시킨다. 필요에 따라, 반도체 발광 소자(150)가 결합된 배선기판 상을 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 코팅하여 투명 절연층(미도시)을 형성할 수 있다. Finally, the second substrate 112 is removed to expose the semiconductor light emitting devices 150 to the outside. If necessary, a transparent insulating layer (not shown) may be formed by coating a wiring substrate on which the semiconductor light emitting device 150 is coupled with silicon oxide (SiOx) or the like.

또한, 상기 반도체 발광 소자(150)의 일면에 형광체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 적색 형광체 또는 녹색 형광체가 상기 청색 반도체 발광 소자의 일면에 레이어를 형성할 수 있다.Further, the method may further include forming a phosphor layer on one surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and a red phosphor or a green phosphor for converting the blue (B) A layer can be formed on one surface of the device.

이상에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법이나 구조는 여러가지 형태로 변형될 수 있다. 그 예로서, 상기에서 설명된 디스플레이 장치에는 수직형 반도체 발광 소자도 적용될 수 있다. 이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 수직형 구조에 대하여 설명한다.The manufacturing method and structure of the display device using the semiconductor light emitting device described above can be modified into various forms. For example, a vertical semiconductor light emitting device may be applied to the display device described above. Hereinafter, the vertical structure will be described with reference to Figs. 5 and 6. Fig.

또한, 이하 설명되는 변형예 또는 실시예에서는 앞선 예와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 동일, 유사한 참조번호가 부여되고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음된다. In the modifications or embodiments described below, the same or similar reference numerals are given to the same or similar components as those of the previous example, and the description is replaced with the first explanation.

도 7은 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이고, 도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이며, 도 9은 도 8의 수직형 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 7, and FIG. 9 is a conceptual view illustrating a vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8. FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention, to be.

본 도면들을 참조하면, 디스플레이 장치는 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 수직형 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치가 될 수 있다.Referring to these drawings, the display device may be a display device using a passive matrix (PM) vertical semiconductor light emitting device.

상기 디스플레이 장치는 기판(210), 제1전극(220), 전도성 접착층(230), 제2전극(240) 및 복수의 반도체 발광 소자(250)를 포함한다.The display device includes a substrate 210, a first electrode 220, a conductive adhesive layer 230, a second electrode 240, and a plurality of semiconductor light emitting devices 250.

기판(210)은 제1전극(220)이 배치되는 배선기판으로서, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면 어느 것이라도 사용 가능할 것이다.The substrate 210 is a wiring substrate on which the first electrode 220 is disposed. The substrate 210 may include polyimide (PI) to implement a flexible display device. In addition, any insulating and flexible material may be used.

제1전극(220)은 기판(210) 상에 위치하며, 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 상기 제1전극(220)은 데이터 전극의 역할을 하도록 이루어질 수 있다.The first electrode 220 is disposed on the substrate 210 and may be formed as a long bar electrode in one direction. The first electrode 220 may serve as a data electrode.

전도성 접착층(230)은 제1전극(220)이 위치하는 기판(210)상에 형성된다. 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치와 같이, 전도성 접착층(230)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 다만, 본 실시예에서도 이방성 전도성 필름에 의하여 전도성 접착층(230)이 구현되는 경우를 예시한다.A conductive adhesive layer 230 is formed on the substrate 210 on which the first electrode 220 is located. The conductive adhesive layer 230 may be formed of an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing a conductive particle, or the like, as in a display device using a flip chip type light emitting device. ) And the like. However, the present embodiment also exemplifies the case where the conductive adhesive layer 230 is realized by the anisotropic conductive film.

기판(210) 상에 제1전극(220)이 위치하는 상태에서 이방성 전도성 필름을 위치시킨 후에, 반도체 발광 소자(250)를 열 및 압력을 가하여 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(250)가 제1전극(220)과 전기적으로 연결된다. 이 때, 상기 반도체 발광 소자(250)는 제1전극(220) 상에 위치되도록 배치되는 것이 바람직하다.If the semiconductor light emitting device 250 is connected to the semiconductor light emitting device 250 by applying heat and pressure after the anisotropic conductive film is positioned in a state where the first electrode 220 is positioned on the substrate 210, And is electrically connected to the electrode 220. In this case, the semiconductor light emitting device 250 may be disposed on the first electrode 220.

상기 전기적 연결은 전술한 바와 같이, 이방성 전도성 필름에서 열 및 압력이 가해지면 부분적으로 두께방향으로 전도성을 가지기 때문에 생성된다. 따라서, 이방성 전도성 필름에서는 두께방향으로 전도성을 가지는 부분(231)과 전도성을 가지지 않는 부분(232)으로 구획된다.As described above, the electrical connection is generated because heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film to partially conduct in the thickness direction. Therefore, in the anisotropic conductive film, it is divided into a portion 231 having conductivity in the thickness direction and a portion 232 having no conductivity.

또한, 이방성 전도성 필름은 접착 성분을 함유하기 때문에, 전도성 접착층(230)은 반도체 발광 소자(250)와 제1전극(220) 사이에서 전기적 연결뿐만 아니라 기계적 결합까지 구현한다.In addition, since the anisotropic conductive film contains an adhesive component, the conductive adhesive layer 230 realizes electrical connection as well as mechanical bonding between the semiconductor light emitting element 250 and the first electrode 220.

이와 같이, 반도체 발광 소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(250)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(250)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20X80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.Thus, the semiconductor light emitting device 250 is positioned on the conductive adhesive layer 230, thereby forming individual pixels in the display device. Since the semiconductor light emitting device 250 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 250 may be 80 μm or less on one side and may be a rectangular or square device. In the case of a rectangle, the size may be 20 X 80 μm or less.

상기 반도체 발광 소자(250)는 수직형 구조가 될 수 있다.The semiconductor light emitting device 250 may have a vertical structure.

수직형 반도체 발광 소자들의 사이에는, 제1전극(220)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 배치되고, 수직형 반도체 발광 소자(250)와 전기적으로 연결된 복수의 제2전극(240)이 위치한다.A plurality of second electrodes 240 electrically connected to the vertical semiconductor light emitting device 250 are disposed between the vertical semiconductor light emitting devices in a direction crossing the longitudinal direction of the first electrode 220.

도 9를 참조하면, 이러한 수직형 반도체 발광 소자는 p형 전극(256), p형 전극(256) 상에 형성된 p형 반도체층(255), p형 반도체층(255) 상에 형성된 활성층(254), 활성층(254)상에 형성된 n형 반도체층(253) 및 n형 반도체층(253) 상에 형성된 n형 전극(252)을 포함한다. 이 경우, 하부에 위치한 p형 전극(256)은 제1전극(220)과 전도성 접착층(230)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, 상부에 위치한 n형 전극(252)은 후술하는 제2전극(240)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 수직형 반도체 발광 소자(250)는 전극을 상/하로 배치할 수 있으므로, 칩 사이즈를 줄일 수 있다는 큰 강점을 가지고 있다.9, the vertical type semiconductor light emitting device includes a p-type electrode 256, a p-type semiconductor layer 255 formed on the p-type electrode 256, an active layer 254 formed on the p-type semiconductor layer 255 An n-type semiconductor layer 253 formed on the active layer 254 and an n-type electrode 252 formed on the n-type semiconductor layer 253. In this case, the p-type electrode 256 located at the bottom may be electrically connected to the first electrode 220 by the conductive adhesive layer 230, and the n-type electrode 252 located at the top may be electrically connected to the second electrode 240 As shown in FIG. Since the vertical semiconductor light emitting device 250 can arrange the electrodes up and down, it has a great advantage that the chip size can be reduced.

다시 도 8을 참조하면, 상기 반도체 발광 소자(250)의 일면에는 형광체층(280)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(250)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자(251)이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 형광체층(280)이 구비될 수 있다. 이 경우에, 형광체층(280)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(281) 및 녹색 형광체(282) 일 수 있다.Referring to FIG. 8 again, a phosphor layer 280 may be formed on one side of the semiconductor light emitting device 250. For example, the semiconductor light emitting device 250 is a blue semiconductor light emitting device 251 that emits blue (B) light, and a phosphor layer 280 for converting the blue (B) . In this case, the phosphor layer 280 may be a red phosphor 281 and a green phosphor 282 constituting individual pixels.

즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자(251) 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(281)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자(251) 상에 청색 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(282)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자(251)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다.That is, a red phosphor 281 capable of converting blue light into red (R) light can be laminated on the blue semiconductor light emitting element 251 at a position forming a red unit pixel, A green phosphor 282 capable of converting blue light into green (G) light may be laminated on the blue semiconductor light emitting element 251. In addition, only the blue semiconductor light emitting element 251 can be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) can form one pixel.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치에서 전술한 바와 같이, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied to a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, as described above.

다시 본 실시예를 살펴보면, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치하고, 반도체 발광 소자들(250)과 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 반도체 발광 소자들(250)은 복수의 열로 배치되고, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250)의 열들 사이에 위치할 수 있다. The second electrode 240 is located between the semiconductor light emitting devices 250 and electrically connected to the semiconductor light emitting devices 250. For example, the semiconductor light emitting devices 250 may be disposed in a plurality of rows, and the second electrode 240 may be disposed between the columns of the semiconductor light emitting devices 250.

개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250) 사이의 거리가 충분히 크기 때문에 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치될 수 있다. The second electrode 240 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250 because the distance between the semiconductor light emitting devices 250 forming the individual pixels is sufficiently large.

제2전극(240)은 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있으며, 제1전극과 상호 수직한 방향으로 배치될 수 있다.The second electrode 240 may be formed as a long bar-shaped electrode in one direction and may be disposed in a direction perpendicular to the first electrode.

또한, 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)는 제2전극(240)에서 돌출된 연결 전극에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 연결 전극이 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 될 수 있다. 예를 들어, n형 전극은 오믹(ohmic) 접촉을 위한 오믹 전극으로 형성되며, 상기 제2전극은 인쇄 또는 증착에 의하여 오믹 전극의 적어도 일부를 덮게 된다. 이를 통하여 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 전기적으로 연결될 수 있다.The second electrode 240 and the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected by a connection electrode protruding from the second electrode 240. More specifically, the connection electrode may be an n-type electrode of the semiconductor light emitting device 250. For example, the n-type electrode is formed as an ohmic electrode for ohmic contact, and the second electrode covers at least a part of the ohmic electrode by printing or vapor deposition. Accordingly, the second electrode 240 and the n-type electrode of the semiconductor light emitting device 250 can be electrically connected.

도시에 의하면, 상기 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 상에 위치될 수 있다. 경우에 따라, 반도체 발광 소자(250)가 형성된 기판(210) 상에 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 포함하는 투명 절연층(미도시)이 형성될 수 있다. 투명 절연층이 형성된 후에 제2전극(240)을 위치시킬 경우, 상기 제2전극(240)은 투명 절연층 상에 위치하게 된다. 또한, 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 또는 투명 절연층에 이격되어 형성될 수도 있다.According to the example, the second electrode 240 may be disposed on the conductive adhesive layer 230. A transparent insulating layer (not shown) containing silicon oxide (SiOx) or the like may be formed on the substrate 210 on which the semiconductor light emitting device 250 is formed. When the second electrode 240 is positioned after the transparent insulating layer is formed, the second electrode 240 is positioned on the transparent insulating layer. In addition, the second electrode 240 may be formed spaced apart from the conductive adhesive layer 230 or the transparent insulating layer.

만약 반도체 발광 소자(250) 상에 제2전극(240)을 위치시키기 위하여는 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전극을 사용한다면, ITO 물질은 n형 반도체층과는 접착성이 좋지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 반도체 발광 소자(250) 사이에 제2전극(240)을 위치시킴으로써, ITO와 같은 투명 전극을 사용하지 않아도 되는 이점이 있다. 따라서, 투명한 재료 선택에 구속되지 않고, n형 반도체층과 접착성이 좋은 전도성 물질을 수평 전극으로 사용하여 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.If a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) is used for positioning the second electrode 240 on the semiconductor light emitting device 250, the problem that the ITO material has poor adhesion with the n-type semiconductor layer have. Accordingly, the present invention has an advantage in that the second electrode 240 is positioned between the semiconductor light emitting devices 250, so that a transparent electrode such as ITO is not used. Therefore, the light extraction efficiency can be improved by using a conductive material having good adhesiveness with the n-type semiconductor layer as a horizontal electrode without being bound by transparent material selection.

도시에 의하면, 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 위치할 수 있다. 즉, 개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250)를 격리시키기 위하여 수직형 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 배치될 수 있다. 이 경우, 격벽(290)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 상기 전도성 접착층(230)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(250)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다. According to the structure, the barrier ribs 290 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250. That is, the barrier ribs 290 may be disposed between the vertical semiconductor light emitting devices 250 to isolate the semiconductor light emitting devices 250 forming the individual pixels. In this case, the barrier ribs 290 may separate the individual unit pixels from each other, and may be formed integrally with the conductive adhesive layer 230. For example, by inserting the semiconductor light emitting device 250 into the anisotropic conductive film, the base member of the anisotropic conductive film can form the partition.

또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(290)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.Also, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier ribs 290 may have a reflection characteristic and a contrast may be increased without a separate black insulator.

다른 예로서, 상기 격벽(190)으로서, 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 격벽(290)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다.As another example, as the partition 190, a reflective barrier may be separately provided. The barrier ribs 290 may include black or white insulators depending on the purpose of the display device.

만일 제2전극(240)이 반도체 발광 소자(250) 사이의 전도성 접착층(230) 상에 바로 위치된 경우, 격벽(290)은 수직형 반도체 발광 소자(250) 및 제2전극(240)의 사이사이에 위치될 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자(250)를 이용하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있고, 반도체 발광 소자(250)의 거리가 상대적으로 충분히 크게 되어 제2전극(240)을 반도체 발광 소자(250) 사이에 위치시킬 수 있고, HD 화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있는 효과가 있게 된다.If the second electrode 240 is directly disposed on the conductive adhesive layer 230 between the semiconductor light emitting devices 250, the barrier ribs 290 may be formed between the vertical semiconductor light emitting device 250 and the second electrode 240 As shown in FIG. Therefore, individual unit pixels can be formed with a small size by using the semiconductor light emitting device 250, and the distance between the semiconductor light emitting device 250 can be relatively large enough so that the second electrode 240 can be electrically connected to the semiconductor light emitting device 250 ), And it is possible to realize a flexible display device having HD picture quality.

또한, 도시에 의하면, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체 사이에는 블랙 매트릭스(291)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(291)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. In addition, according to the present invention, a black matrix 291 may be disposed between the respective phosphors to improve the contrast. That is, this black matrix 291 can improve the contrast of light and dark.

상기 설명과 같이, 반도체 발광 소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(250)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자에 의하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이루는 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.As described above, the semiconductor light emitting device 250 is disposed on the conductive adhesive layer 230, thereby forming individual pixels in the display device. Since the semiconductor light emitting device 250 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. Therefore, a full color display in which red (R), green (G), and blue (B) unit pixels form one pixel can be realized by the semiconductor light emitting device.

상기에서 디스플레이 장치는 디스플레이 장치의 일면으로만 광원이 방출되는 구조에 대하여 설명하였다. 소형 조명, 자동차 조명, 실내 조명, 옥외 간판 및 옥외 조명과 같은 광원으로 디스플레이 장치의 활용이 확대되면서 디스플레이 장치의 양면에서 광원이 방출되는 디스플레이 장치가 요구될 수 있다.In the above description, the structure in which the light source is emitted only to one side of the display device has been described. A display device in which a light source is emitted from both sides of a display device may be required as the use of the display device is expanded by a light source such as a miniature lighting, an automobile lighting, an indoor lighting, an outdoor signboard, and an outdoor lighting.

본 발명에서는 광원이 디스플레이 장치의 양면에서 방출되는 디스플레이 장치를 제시한다. 상세하게, 본 발명에서는 반도체 발광 소자가 베이스 기판과 상기 제1 색상 변환부의 사이에 배치되어, 양면 광원 디스플레이 장치가 구현되는데 소모되는 반도체 발광 소자의 개수가 감소되어 제조원가가 절감된 디스플레이 장치가 제공될 수 있다. 또한, 빛의 색상을 변환하는 제1 및 제2 색상 변환부가 디스플레이 장치의 양측에 각각 배치되어 서로 다른 면에서 다른 색상으로 빛이 방출되어 다양한 응용장치에 활용될 수 있다.In the present invention, a display device in which a light source is emitted from both sides of a display device is presented. In detail, in the present invention, a display device is provided in which a semiconductor light emitting device is disposed between a base substrate and the first color converting unit, and the number of semiconductor light emitting devices consumed for realizing a two-sided light source display device is reduced, thereby reducing manufacturing costs . In addition, the first and second color conversion units for converting the color of light are respectively disposed on both sides of the display device, and light is emitted in different colors on different surfaces, so that it can be utilized in various application devices.

이하, 제1 및 제2 색상 변환부를 포함하는 디스플레이 장치의 양면에서 광원이 방출되는 디스플레이 장치에 대하여 설명한다. Hereinafter, a display device in which a light source is emitted from both sides of a display device including first and second color conversion parts will be described.

도 10은 새로운 구조의 디스플레이 장치의 본 발명의 다른 실시예를 설명하기 위한, 도 1의 A부분 확대도이다. 도 11은 도 10의 E-E를 따라 취한 단면도이다.Fig. 10 is an enlarged view of a portion A of Fig. 1 for explaining another embodiment of the present invention of a display device of a new structure. 11 is a cross-sectional view taken along the line E-E in Fig.

도 10과 도 11의 도시에 의하면, 반도체 발광 소자를 이용한 조명 또는 광원으로 적용 가능한 디스플레이 장치(1000)를 예시한다. 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(1000)의 예시로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(1000) 또는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광 소자에도 적용 가능하다.10 and 11, a display device 1000 applicable as an illumination or light source using a semiconductor light emitting device is illustrated. The present invention can be applied to a display device 1000 using a passive matrix (PM) semiconductor light emitting device or an active matrix (AM) semiconductor light emitting device as an example of a display device 1000 using a semiconductor light emitting device Do.

디스플레이 장치(1000)는 서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 베이스 기판(1010), 베이스 기판(1010)의 제1면에 배치되어 색상을 변환하는 제1 색상 변환부(1080), 베이스 기판(1010)의 제2면에 배치되어 색상을 변환하는 제2 색상 변환부(1090) 및 베이스 기판(1010)의 제1면과 상기 제1 색상 변환부(1080)의 사이에 배치되는 반도체 발광 소자(1050)들을 포함한다. The display device 1000 includes a base substrate 1010 having a first surface and a second surface opposite to each other, a first color conversion unit 1080 arranged on the first surface of the base substrate 1010 to convert color, A second color conversion unit 1090 disposed on the second surface of the base substrate 1010 to convert color and a second color conversion unit 1040 disposed between the first surface of the base substrate 1010 and the first color conversion unit 1080 And semiconductor light emitting elements 1050.

또한, 디스플레이 장치(1000)의 최외각은 보호필름(1001)로 둘러쌓여 외부의 습기, 오염 또는 충격으로부터 보호될 수 있다. 보호필름(1001)은 디스플레이 장치(1000)에서 방출되는 광원의 손실을 최소한으로 하는 소재라면 어느 것이라도 사용될 수 있다.In addition, the outermost angle of the display device 1000 can be surrounded by the protective film 1001 to be protected from moisture, contamination or impact from the outside. The protective film 1001 can be any material that minimizes the loss of the light source emitted from the display device 1000.

실시예에서, 베이스 기판(1010)에는 반도체 발광 소자(1050)들에서 방출되는 빛이 통과하는 관통홀(1014)이 형성된다. 관통홀(1014)에는 빛을 필터링하는 필터(1015)가 구비되어 제1 색상 변환부(1080) 및 제2 색상 변환부(1090)에서 변환된 빛이 혼색되는 것을 방지할 수 있다. In the embodiment, the base substrate 1010 is formed with a through hole 1014 through which the light emitted from the semiconductor light emitting devices 1050 passes. The through hole 1014 is provided with a filter 1015 for filtering light so that the converted light from the first color converting unit 1080 and the second color converting unit 1090 can be prevented from being mixed.

상세하게 반도체 발광 소자(1050)는 전술된 수직형 반도체 발광 소자일 수 있다. 반도체 발광 소자(1050)는 미도시된 제1도전형 반도체층, 활성층, 제2도전형 반도체층이 적층된 형태일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1도전형 반도체층은 p형 반도체층이 될 수 있으며, 상기 제2도전형 반도체층은 n형 반도체층이 될 수 있다. 다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 제1도전형이 n형이 되고 제2도전형이 p형이 되는 예시도 가능하다.In detail, the semiconductor light emitting element 1050 may be the vertical semiconductor light emitting element described above. The semiconductor light emitting device 1050 may have a stacked structure of a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer (not shown). More specifically, the first conductive semiconductor layer may be a p-type semiconductor layer, and the second conductive semiconductor layer may be an n-type semiconductor layer. However, the present invention is not limited thereto, and the first conductivity type may be n-type and the second conductivity type may be p-type.

각각의 반도체 발광 소자(1050)는 단위 화소를 구성하며, 제1전극(1020)에 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 제1전극(1020)은 복수 개일 수 있고, 반도체 발광 소자(1050)들은 예컨대 수 열로 배치되며, 각 열의 반도체 발광 소자들은 상기 복수 개의 제1전극 중 어느 하나에 전기적으로 연결될 수 있다.Each semiconductor light emitting element 1050 constitutes a unit pixel and is electrically connected to the first electrode 1020. For example, the first electrode 1020 may be a plurality of semiconductor light emitting devices 1050, and the semiconductor light emitting devices of each column may be electrically connected to any one of the plurality of first electrodes .

일 실시예에서, 제1전극(1020)은 반도체 발광 소자(1050)와 베이스 기판(1010) 사이에 배치되며, 반도체 발광 소자(1050)의 하부에서 라인형태로 형성되어, 복수의 반도체 발광 소자(1050)와 전기적으로 연결될 수 있다. In one embodiment, the first electrode 1020 is disposed between the semiconductor light emitting device 1050 and the base substrate 1010 and is formed in a line shape below the semiconductor light emitting device 1050, 1050, respectively.

또한, 적색, 녹색 및 청색 (R, G, B)가 교대로 배치될 필요가 없이 단색의 빛을 방출하는 조명과 같은 응용장치에서 제1전극(1020)은 면전극의 형태로 형성될 수도 있다. 나아가, 도 10 및 도 11의 도시와 같이 제1전극(1020)은 반도체 발광 소자(1050)의 하부에 대응되는 형태로 베이스 기판(1010) 사이에 서로 단절되게 배치될 수도 있다. 이와 같은 경우에는, 후술될 금속층(1012) 및 반사층(1013)을 통하여 서로 단절된 상기 제1전극들이 서로 전기적으로 연결될 수 있다.Also, in applications such as illumination that emits monochromatic light without the need to alternate red, green, and blue (R, G, B) arrangements, the first electrode 1020 may be formed in the form of a surface electrode . Further, as shown in FIGS. 10 and 11, the first electrode 1020 may be disposed between the base substrates 1010 in a manner corresponding to a lower portion of the semiconductor light emitting device 1050. In such a case, the first electrodes, which are disconnected from each other through the metal layer 1012 and the reflective layer 1013, may be electrically connected to each other.

한편, 디스플레이 장치(1000)의 제2전극(1040)은 반도체 발광 소자(1050)를 사이에 두고, 전술된 제1전극(1020)과 반대방향에 배치되어, 반도체 발광 소자(1050)와 전기적으로 형성될 수 있다. 상세하게, 제2전극(1040)은 라인형태 및 투명전극으로 구성된 면전극의 형태로 형성되어, 복수의 반도체 발광 소자(1050)와 연결될 수 있다. The second electrode 1040 of the display device 1000 is disposed in a direction opposite to the first electrode 1020 with the semiconductor light emitting element 1050 interposed therebetween and electrically connected to the semiconductor light emitting element 1050 . In detail, the second electrode 1040 may be formed in the form of a line electrode and a surface electrode composed of a transparent electrode, and may be connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 1050.

제1전극(1020)과 제2전극(1040) 사이에 직접적인 전기적 연결을 방지하기 위하여, 반도체 발광 소자(1050)를 감싸는 절연 부재(1030)가 구비된다. 일 실시에에서, 절연 부재(1030)는 고분자 소재로 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 또는 폴리메틸페닐실록산(polymethylphenylsiloxane, PMPS)을 포함할 수 있으며, 반도체 발광 소자(1050)를 감싸며, 절연성을 가지는 다양한 소재를 포함할 수 있다. 덧붙여, 절연 부재(1030)는 빛이 통과할 수 있는 소재로 투명성을 가질 수 있다. 이에, 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되는 빛이 후술될 관통홀(1014)을 통하여 통과할 수 있다. An insulating member 1030 surrounding the semiconductor light emitting device 1050 is provided to prevent direct electrical connection between the first electrode 1020 and the second electrode 1040. In one embodiment, the insulating member 1030 may include polydimethylsiloxane (PDMS) or polymethylphenylsiloxane (PMPS) as a polymeric material. The insulating member 1030 surrounds the semiconductor light emitting device 1050, Material can be included. In addition, the insulating member 1030 may have transparency as a material through which light can pass. Thus, the light emitted from the semiconductor light emitting element 1050 can pass through the through hole 1014, which will be described later.

제1전극(1020) 및 제2전극(1040)을 통하여 전기에너지를 받은 반도체 발광 소자(1050)는 빛을 방출할 수 있다. 상세하게, 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되는 빛에 대하여 살펴보면, 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되는 빛의 적어도 일부는 제1 색상 변환부(1080)에 조사되어 제1 색상의 광원으로 방출되도록 형성된다. The semiconductor light emitting device 1050, which receives electrical energy through the first electrode 1020 and the second electrode 1040, may emit light. In detail, at least a part of the light emitted from the semiconductor light emitting device 1050 is irradiated to the first color converting unit 1080 so that the light is emitted to the light source of the first color. .

나아가, 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되는 빛의 적어도 다른 일부는 관통홀(1014) 및 필터(1015)를 통과하여 제2 색상 변환부(1090)에 조사되어 제2 색상의 광원으로 방출되도록 형성될 수 있다. At least another portion of the light emitted from the semiconductor light emitting device 1050 passes through the through hole 1014 and the filter 1015 and is emitted to the second color conversion unit 1090 to be emitted as the light source of the second color .

또한, 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되어 제1 색상 변환부(1080)의 계면에서 반사된 빛이 관통홀(1014) 및 필터(1015)를 통과할 수 있다. 이때, 반도체 발광 소자(1050)에서 바로 방출된 빛이 바로 관통홀(1014)을 통과하거나, 제1 색상 변환부(1080)의 계면에서 반사되어 관통홀(1014)을 통과하는 경우에는 관통홀(1014)로 유입되는 빛에 제1 색상의 광원이 혼색되지 않는다.The light emitted from the semiconductor light emitting element 1050 and reflected at the interface of the first color conversion portion 1080 may pass through the through hole 1014 and the filter 1015. When the light directly emitted from the semiconductor light emitting element 1050 passes through the through hole 1014 or is reflected at the interface of the first color conversion portion 1080 and passes through the through hole 1014, The light source of the first color does not mix with the light that enters the light source 1014.

하지만, 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되어 제1 색상 변환부(1080)의 일부를 통과한 빛이 여러 요인에 의해 반사되어 관통홀(1014)을 통과하는 경우에는 관통홀(1014)로 유입되는 빛에 제1 색상의 광원이 혼색되어 유입될 수 있다. 즉, 제2 색상 변환부(1090)에 제1 색상의 광원이 혼색된 빛이 조사되기 때문에 제2 색상의 광원으로 방출될 빛이 제1 색상의 광원에 의하여 의도하지 않은 색상으로 변화되어 방출될 수 있다. However, when light emitted from the semiconductor light emitting element 1050 and passing through a part of the first color conversion portion 1080 is reflected by various factors and passes through the through hole 1014, the light is introduced into the through hole 1014 The light source of the first color may be mixed and introduced into the light. That is, since light mixed with the light source of the first color is emitted to the second color conversion unit 1090, the light to be emitted as the light source of the second color is changed to a color that is not intended by the light source of the first color, .

따라서, 제2 색상의 광원으로 방출될 빛의 혼색을 방지하기 위하여, 제1 색상 변환부(1080)에서 변환된 빛을 필터링하는 필터(1015)가 구비될 수 있다. 상세하게, 필터(1015)는 제1 색상의 광원을 필터링하여 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되는 빛을 제2 색상 변환부(1090)에 전달할 수 있다. 필터(1015)는 관통홀(1014)에 구비될 수 있고, 도 11에서 도시한 것과 같이 베이스 기판(1010)의 제2면에서 관통홀(1014)을 덮도록 형성될 수 있다. 또한, 복수의 필터가 구비되어 더욱 효과적으로 제1 색상 변환부(1080)와 제2 색상 변환부(1090)의 혼색을 방지할 수도 있다. Accordingly, in order to prevent color mixture of light to be emitted as the light source of the second color, a filter 1015 for filtering the light converted by the first color conversion unit 1080 may be provided. In more detail, the filter 1015 may filter the light source of the first color to transmit the light emitted from the semiconductor light emitting device 1050 to the second color conversion unit 1090. The filter 1015 may be provided in the through hole 1014 and may be formed to cover the through hole 1014 on the second surface of the base substrate 1010 as shown in FIG. In addition, a plurality of filters may be provided to more effectively prevent mixed color of the first color conversion unit 1080 and the second color conversion unit 1090.

덧붙여, 필터(1015)는 관통홀(1014)에 구비되어 디스플레이 장치(1000)의 제1 색상 변환부(1080)와 제2 색상 변환부(1090)의 혼색을 방지할 수 있는 위치라면 그 위치에 제한되지 않고 구비될 수 있다. 후술될 도 12 내지 도 14의 본 발명의 다른 실시예들에서 관통홀에 구비된 다양한 필터에 대하여 설명한다.The filter 1015 may be provided in the through hole 1014 to prevent color mixture of the first color conversion unit 1080 and the second color conversion unit 1090 of the display device 1000, But may be provided without limitation. The various filters provided in the through holes in the other embodiments of the present invention shown in FIGS. 12 to 14 will be described below.

제1 색상 변환부(1080)는 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되는 빛을 상기 제1 색상으로 변환하는 제1 형광체(1081) 및 제1 형광체(1081) 상에 적층된 색순도 향상층(1082)을 더 포함한다. 예를 들어, 제1 형광체(1081)는 상기 제1 색상이 적색(R)일 경우 적색광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체로 형성될 수 있고, 녹색(G)일 경우 녹색광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체로 형성될 수 있다. 나아가, 상기 제1 색상이 청색(B)일 경우 청색 형광체로 형성될 수도 있다.The first color converter 1080 includes a first phosphor 1081 that converts light emitted from the semiconductor light emitting device 1050 into the first color and a color purity enhancement layer 1082 that is layered on the first phosphor 1081, . For example, the first phosphor 1081 may be formed of a red phosphor that can be converted into red light when the first color is red (R), a green phosphor that can be converted into green light when green (G) As shown in FIG. Further, when the first color is blue (B), the blue phosphor may be formed.

한편, 색순도 향상층(1082)은 제1 형광체(1081)를 통하여 방출되는 빛의 색상과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터로 형성된다. 구체적으로, 색순도 향상층(1082)은 제1 색상에 따라 적색 컬러 필터, 녹색 컬러 필터, 청색 컬러 필터로 형성될 수 있다. 색순도 향상층(1082)은 제1 형광체(1081)를 통하여 방출되는 빛에 외광이 섞여 불량하지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 색순도 향상층(1082)은 색순도 향상층(1082)이 갖는 색상 이외의 불필요한 빛을 흡수하므로, 외광 반사를 억제하는 효과도 있다. On the other hand, the color purity improving layer 1082 is formed of a color filter having the same hue as the color of light emitted through the first phosphor 1081. Specifically, the color purity enhancement layer 1082 may be formed of a red color filter, a green color filter, and a blue color filter according to the first color. The color purity improving layer 1082 can prevent the external light from being mixed with the light emitted through the first phosphor 1081 to be defective. Since the color purity improving layer 1082 absorbs unnecessary light other than the color of the color purity improving layer 1082, it also has an effect of suppressing reflection of external light.

또한, 제2 색상 변환부(1090)는 관통홀(1014) 및 필터(1015)를 통과하여 방출되는 빛을 상기 제2 색상으로 변환하는 제2 형광체(1091) 및 제2 형광체(1091) 상에 적층된 색순도 향상층(1092)을 더 포함한다. 제2 색상 변환부(1090)의 제2 형광체(1091)에 관한 설명은 전술된 제1 색상 변환부(1080)의 제1 형광체(1081)의 설명으로 갈음될 수 있다. 또한, 제2 색상 변환부(1090)의 색순도 향상층(1092)에 관한 설명은 전술된 제1 색상 변환부(1080)의 색순도 향상층(1082)의 설명으로 갈음될 수 있다.The second color conversion unit 1090 includes a second phosphor 1091 and a second phosphor 1091 that convert light emitted through the through hole 1014 and the filter 1015 into the second color, And further includes a stacked color purity improving layer 1092. The description of the second phosphor 1091 of the second color converter 1090 may be omitted from the description of the first phosphor 1081 of the first color converter 1080 described above. The description of the color purity improving layer 1092 of the second color converting section 1090 can be replaced with the description of the color purity improving layer 1082 of the first color converting section 1080 described above.

나아가, 상기 제1 및 제2 색상 변환부는 반도체 발광 소자(1050)들에서 방출되는 빛을 서로 다른 색상으로 변환한다. 이에, 제1 형광체(1081)와 제2 형광체(1091)는 서로 다른 형광체를 포함할 수 있다. 즉, 디스플레이 장치(1000)는 서로 다른 색상을 방출할 수 있는 상기 제1 및 제2 색상 변환부가 디스플레이 장치(1000)의 양측에 각각 배치되어 서로 다른 면에서 서로 다른 색상의 빛이 방출될 수 있다.Further, the first and second color conversion units convert light emitted from the semiconductor light emitting devices 1050 into different colors. Accordingly, the first phosphor 1081 and the second phosphor 1091 may include different phosphors. That is, the first and second color conversion units capable of emitting different colors may be disposed on both sides of the display device 1000, and light of different colors may be emitted from different planes .

일 실시예에서, 관통홀(1014)은 반도체 발광 소자(1050) 사이에 형성된다. 관통홀(1014)은 반도체 발광 소자(1050)에서 방출된 빛 또는 제1 색상 변환부(1080)의 계면에서 반사되는 빛이 통과되어 제2 색상 변환부(1090)에서 빛이 충분히 방출될 수 있도록 설계될 수 있다. 이에, 관통홀(1014)은 원형기둥, 사각기둥 및 다각기둥의 형태로 형성될 수 있으며 본 발명에서 관통홀(1014)의 형태가 한정되는 것은 아니며 다양한 형태로 형성될 수 있다.In one embodiment, a through hole 1014 is formed between the semiconductor light emitting elements 1050. [ The through hole 1014 is formed so that the light emitted from the semiconductor light emitting element 1050 or the light reflected at the interface of the first color conversion portion 1080 passes through the second color conversion portion 1090 so that light can be sufficiently emitted from the second color conversion portion 1090 Can be designed. Accordingly, the through hole 1014 may be formed in the form of a circular column, a quadrangular column, and a polygonal column, and the shape of the through hole 1014 is not limited in the present invention, and may be formed in various forms.

나아가, 관통홀(1014)로 충분한 빛이 통과할 수 있도록 디스플레이 장치(1000)는 베이스 기판(1010)의 제1면과 제1 색상 변환부(1080) 사이에 갭(1070)이 배치될 수 있다. 상세하게, 갭(1070)의 배치로 반도체 발광 소자(1050)에서 방출된 빛 또는 제1 색상 변환부(1080)의 계면에서 반사되는 빛이 매질에 의한 손실없이 관통홀(1014)을 통과할 수 있다.Further, the display device 1000 may be arranged such that a gap 1070 is disposed between the first surface of the base substrate 1010 and the first color conversion portion 1080 so that sufficient light can pass through the through hole 1014 . In detail, the light emitted from the semiconductor light emitting element 1050 or the light reflected at the interface of the first color conversion portion 1080 can pass through the through hole 1014 without loss due to the medium due to the arrangement of the gap 1070 have.

덧붙여, 관통홀(1014)을 통과하여 제2 색상 변환부(1090)에 빛을 충분히 공급하기 위하여 베이스 기판(1010)의 제2면과 제2 색상 변환부(1090) 사이에도 갭(1070')이 배치될 수 있다. 상세하게, 관통홀(1014)을 통과한 빛이 갭(1070')에 의하여 매질에 의한 손실없이 제2 색상 변환부(1090)에 조사될 수 있다.In addition, a gap 1070 'is also provided between the second surface of the base substrate 1010 and the second color conversion portion 1090 in order to sufficiently supply light to the second color conversion portion 1090 through the through hole 1014, Can be arranged. In detail, light passing through the through hole 1014 can be irradiated to the second color conversion portion 1090 without loss by the medium by the gap 1070 '.

상세하게, 관통홀(1014)을 통과하여 제2 색상 변환부(1090)에 조사되는 빛에 대하여 살펴보면, 관통홀(1014)을 통과한 빛의 적어도 일부는 제2 색상 변환부(1090)에 조사되어 제2 색상의 광원으로 방출되도록 형성된다. 또한, 관통홀(1014)을 통과한 빛의 적어도 다른 일부는 제2 색상 변환부(1090)의 계면에서 반사되어, 갭(1070')을 통하여 베이스 기판(1010)의 제2면으로 반사되고 이는 다시 베이스 기판(1010)의 제2면에서 반사되어 제2 색상 변환부(1090)에 조사될 수 있다.More specifically, at least a part of the light passing through the through hole 1014 is irradiated to the second color conversion unit 1090 through the through hole 1014, And is emitted as a light source of a second color. At least another portion of the light passing through the through hole 1014 is reflected at the interface of the second color conversion portion 1090 and reflected to the second surface of the base substrate 1010 through the gap 1070 ' It may be reflected by the second surface of the base substrate 1010 and irradiated to the second color conversion unit 1090. [

한편, 서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 베이스 기판(1010)에 대하여 살펴보면, 베이스 기판(1010)은 서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 절연 기판(1011)을 포함한다. 절연 기판(1011)의 제1면과 제2면은 베이스 기판(1010)은 제1면과 제2면과 각각 동일한 방향을 갖다. 즉, 베이스 기판(1010)의 제1면과과 절연 기판(1011)의 제1면은 동일한 방향이다. 절연 기판(1011)은 유리나 고분자 소재를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있는 재질이면 어느 것이라도 사용될 수 있다. 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 절연 기판(1011)은 폴리이미드(PI, Polyimide), PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate)과 같은 유연성을 갖는 재질이 사용될 수 있다. 또한, 절연 기판(1011)은 투명한 재질 또는 불투명한 재질 어느 것이나 될 수 있다.Referring to the base substrate 1010 having first and second surfaces opposite to each other, the base substrate 1010 includes an insulating substrate 1011 having a first surface and a second surface opposite to each other, . The first and second surfaces of the insulating substrate 1011 have the same orientation with the first surface and the second surface, respectively. That is, the first surface of the base substrate 1010 and the first surface of the insulating substrate 1011 are in the same direction. The insulating substrate 1011 may include glass or a polymer material. Any insulating material may be used. In order to implement a flexible display device, a flexible material such as polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), or polyethylene terephthalate (PET) may be used as the insulating substrate 1011. Further, the insulating substrate 1011 may be either a transparent material or an opaque material.

또한, 베이스 기판(1010)은 절연 기판(1011)의 제1면과 제2면을 각각 덮도록 형성되는 금속층들이 구비된다. 도 11의 도시와 같이, 금속층(1012)은 복수의 레이어로 형성될 수 있으며, 제1 금속층(1012a)과 제2 금속층(1012b)을 포함할 수 있다. 나아가, 금속층(1012') 또한 제1 금속층(1012a')과 제2 금속층(1012b')을 포함할 수 있다. The base substrate 1010 includes metal layers formed to cover the first and second surfaces of the insulating substrate 1011, respectively. As shown in FIG. 11, the metal layer 1012 may be formed of a plurality of layers, and may include a first metal layer 1012a and a second metal layer 1012b. Further, the metal layer 1012 'may also include a first metal layer 1012a' and a second metal layer 1012b '.

또한, 금속층들(1012, 1012')의 표면에 반사층들(1013, 1013')이 각각 적층될 수 있다. 반사층(1013)은 반도체 발광 소자(1050)에서 방출되어 제1 색상 변환부(1080)으로 조사될 빛이 효율적으로 제1 색상 변환부(1080)로 전달되도록 형성되어 디스플레이 장치(1000)의 광효율이 향상되게 할 수 있다. 덧붙여 반사층(1013')은 관통홀(1014)을 통하여 제2 색상 변환부(1090)으로 조사될 빛이 효율적으로 제2 색상 변환부(1090)로 전달되도록 할 수 있다.Further, reflection layers 1013 and 1013 'may be stacked on the surfaces of the metal layers 1012 and 1012', respectively. The reflective layer 1013 is formed so that the light emitted from the semiconductor light emitting device 1050 and irradiated to the first color conversion unit 1080 is efficiently transmitted to the first color conversion unit 1080 so that the light efficiency of the display device 1000 Can be improved. In addition, the reflection layer 1013 'may allow the light to be emitted to the second color conversion unit 1090 through the through hole 1014 to be efficiently transmitted to the second color conversion unit 1090.

일 실시에에서, 제1전극(1020)이 서로 단절되게 배치될 경우 금속층(1012) 및 반사층(1013)을 통하여 서로 단절된 상기 제1전극들이 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 따라서, 반사층(1013)은 금속으로 이루어져 전기 전도도를 가질 수 있다. 상세하게, 반사층은 알루미늄(Al), 은(Ag) 및 은-팔라듐-구리 합금(APC, Ag-Pd-Cu 합금) 중 어느 하나 이상을 포함하는 고반사 물질(high reflective material)일 수 있다.In one embodiment, when the first electrodes 1020 are disposed to be disconnected from each other, the first electrodes disconnected from each other through the metal layer 1012 and the reflective layer 1013 can be electrically connected to each other. Accordingly, the reflective layer 1013 may be made of a metal and have electrical conductivity. In detail, the reflective layer may be a high reflective material including at least one of aluminum (Al), silver (Ag), and silver-palladium-copper alloy (APC, Ag-Pd-Cu alloy).

또한, 이하 설명되는 본 발명의 또 다른 실시 예에서는 앞선 예와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 동일, 유사한 참조번호가 부여되고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음된다.Further, in still another embodiment of the present invention to be described below, the same or similar reference numerals are given to the same or similar components as those of the previous example, and the description is replaced with the first explanation.

도 12는 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 디스플레이 장치(1100)의 단면도이다. 12 is a cross-sectional view of a display device 1100 for explaining another embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 디스플레이 장치(1100)의 관통홀(1114)에는 빛을 필터링하는 제1 필터(1115a) 및 제2 필터(1115b)를 포함하여 필터(1115)가 구비될 수 있다. 제1 필터(1115a)에 제2 필터(1115b)가 적층될 수 있다.12, a through hole 1114 of the display device 1100 may include a filter 1115 including a first filter 1115a and a second filter 1115b for filtering light. A second filter 1115b may be stacked on the first filter 1115a.

일 실시예에서, 제1 필터(1115a)는 관통홀(1114)로 유입되는 빛에 제1 색상의 광원이 혼색되는 것을 방지할 수 있다. 나아가, 제2 필터(1115b)는 제2 색상 변환부(1190)의 일부를 통과한 제2 색상의 광원이 여러 요인에 의해 반사되어 관통홀(1114)을 통하여 다시 유입되어 제1 색상 변환부(1180)에서 방출되는 제1 색상에 영향을 주는 것을 방지하기 위하여 배치될 수 있다. In one embodiment, the first filter 1115a may prevent the light source of the first color from mixing with the light entering the through-hole 1114. [ Further, the second filter 1115b reflects a light source of a second color passing through a part of the second color conversion unit 1190 by various factors and flows in through the through hole 1114 again, 1180 in order to prevent them from affecting the first color emitted.

따라서, 제1 필터(1115a)의 구비로 제2 색상 변환부(1190)에서 방출되는 제2 생삭이 제1 색상에 의하여 혼색되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제2 필터(1115b)의 구비로 제1 색상 변환부(1180)에서 방출되는 제1 색상이 제2 색상에 의하여 혼색되는 것을 방지할 수도 있다.Therefore, it is possible to prevent the second spike emitted from the second color converter 1190 from being mixed by the first color due to the provision of the first filter 1115a. In addition, the second filter 1115b may prevent the first color emitted from the first color conversion unit 1180 from being mixed with the second color.

도 13는 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 디스플레이 장치(1200)의 단면도이다. 13 is a cross-sectional view of a display device 1200 for explaining another embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 관통홀(1214)에는 빛을 필터링하는 제1 필터(1215a) 및 제2 필터(1215b)가 서로 이격되게 배치될 수 있다. 상세하게, 제1 필터(1215a)는 베이스 기판(1210)의 제1면 상에 배치될 수 있다. 한편, 제2 필터(1215b)는 베이스 기판(1210)의 제2면 상에 배치될 수 있다Referring to FIG. 13, a first filter 1215a and a second filter 1215b for filtering light are disposed in the through-hole 1214 so as to be spaced apart from each other. In detail, the first filter 1215a may be disposed on the first side of the base substrate 1210. [ On the other hand, the second filter 1215b may be disposed on the second side of the base substrate 1210

도 14는 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 디스플레이 장치(1300)의 단면도이다. 14 is a sectional view of a display device 1300 for explaining another embodiment of the present invention.

도 14를 참조하면, 관통홀(1314)에는 빛을 필터링하는 제1 필터(1315a) 및 제2 필터(1315b)가 서로 이격되게 배치될 수 있다. 상세하게, 제1 필터(1315a)는 관통홀(1314)의 내부에 삽입되어 배치될 수 있으며, 베이스 기판(1310)의 제1면과 가까이 배치될 수 있다. 또한, 제2 필터(1315b)는 관통홀(1314)의 내부에 삽입되어 배치될 수 있으며, 베이스 기판(1310)의 제2면과 가까이 배치될 수도 있다.Referring to FIG. 14, a first filter 1315a and a second filter 1315b for filtering light are disposed in the through-hole 1314 so as to be spaced apart from each other. In detail, the first filter 1315a may be inserted into the through hole 1314 and disposed close to the first surface of the base substrate 1310. [ The second filter 1315b may be inserted into the through hole 1314 and disposed close to the second surface of the base substrate 1310. [

도 15는 본 발명의 또 다른 실시예의 디스플레이 장치(1400)를 설명하기 위한, 도 1의 A부분 확대도이며, 도 16은 도 15의 F-F를 따라 취한 단면도이다.Fig. 15 is an enlarged view of a portion A of Fig. 1 for explaining a display device 1400 according to still another embodiment of the present invention, and Fig. 16 is a sectional view taken along F-F of Fig.

도 15와 도 16를 참조하면, 디스플레이 장치(1400)는 서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 베이스 기판(1410), 베이스 기판(1410)의 제1면에 배치되어 색상을 변환하는 제1 색상 변환부(1480), 베이스 기판(1410)의 제2면에 배치되어 색상을 변환하는 제2 색상 변환부(1090) 및 베이스 기판(1410)의 제1면과 제1 색상 변환부(1480)의 사이에 배치되는 반도체 발광 소자(1450)들을 포함한다. 또한, 베이스 기판(1410)의 제2면과 제2 색상 변환부(1490)의 사이에 배치되는 반도체 발광 소자(1450')들을 포함한다. 이에, 디스플레이 장치(1400)의 양면에서 광원이 방출될 수 있다.15 and 16, a display device 1400 includes a base substrate 1410 having a first surface and a second surface opposite to each other, a first substrate 1410 disposed on the first surface of the base substrate 1410, A second color conversion unit 1090 disposed on the second surface of the base substrate 1410 for converting color and a second color conversion unit 1090 for converting the color of the first surface of the base substrate 1410 and the first color conversion unit 1410, And semiconductor light emitting elements 1450 disposed between the light emitting elements 1480. And further includes semiconductor light emitting elements 1450 'disposed between the second surface of the base substrate 1410 and the second color conversion portion 1490. Thus, the light source can be emitted from both sides of the display device 1400.

이상에서 설명한 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는 위에서 설명된 실시예들의 구성과 방법에 한정되는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.The above-described display device using the semiconductor light emitting device is not limited to the configuration and the method of the embodiments described above, but all or a part of the embodiments may be selectively combined so that various modifications may be made to the embodiments It is possible.

Claims (9)

서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 베이스 기판;
상기 베이스 기판의 제1면에 배치되어 색상을 변환하는 제1 색상 변환부;
상기 베이스 기판의 제2면에 배치되어 색상을 변환하는 제2 색상 변환부; 및
상기 베이스 기판의 제1면과 상기 제1 색상 변환부의 사이에 배치되는 반도체 발광 소자들을 포함하고,
상기 베이스 기판에는, 상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛이 통과하는 관통홀이 형성되고,
상기 관통홀에는 상기 제1 및 제2 색상 변환부에서 변환된 빛을 필터링하는 필터가 구비되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
A base substrate having a first surface and a second surface opposite to each other;
A first color conversion unit disposed on a first surface of the base substrate to convert color;
A second color conversion unit disposed on a second surface of the base substrate to convert color; And
And semiconductor light emitting elements disposed between the first surface of the base substrate and the first color conversion portion,
Wherein the base substrate is provided with a through hole through which light emitted from the semiconductor light emitting elements passes,
Wherein the through-hole is provided with a filter for filtering the light converted by the first and second color conversion units.
제1항에 있어서,
상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛의 적어도 일부는 상기 제1 색상 변환부에 조사되어 제1 색상의 광원으로 방출되도록 형성되고,
상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛의 적어도 다른 일부는 상기 관통홀 및 상기 필터를 통과하여 상기 제2 색상 변환부에 조사되어 제2 색상의 광원으로 방출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
At least a part of the light emitted from the semiconductor light emitting devices is irradiated to the first color conversion unit to be emitted as a light source of a first color,
Wherein at least another portion of the light emitted from the semiconductor light emitting devices passes through the through hole and the filter and is irradiated to the second color conversion unit to be emitted as a light source of a second color.
제2항에 있어서,
상기 제1 색상 변환부는,
상기 반도체 발광 소자에서 방출되는 빛을 상기 제1 색상으로 변환하는 제1 형광체; 및
상기 제1 형광체 상에 적층된 색순도 향상층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the first color conversion unit comprises:
A first phosphor that converts light emitted from the semiconductor light emitting device into the first color; And
And a color purity enhancement layer laminated on the first phosphor.
제2항에 있어서,
상기 제2 색상 변환부는,
상기 반도체 발광 소자에서 방출되는 빛을 상기 제2 색상으로 변환하는 제2 형광체; 및
상기 제2 형광체 상에 적층된 색순도 향상층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the second color conversion unit comprises:
A second phosphor for converting light emitted from the semiconductor light emitting device into the second color; And
And a color purity enhancement layer laminated on the second phosphor.
제2항에 있어서,
상기 제1 및 제2 색상 변환부는 상기 반도체 발광 소자들에서 방출되는 빛을 서로 다른 색상으로 변환하도록 서로 다른 형광체를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the first and second color conversion units include different phosphors to convert light emitted from the semiconductor light emitting devices into different colors.
제1항에 있어서,
상기 관통홀은 상기 반도체 발광 소자들 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
And the through holes are formed between the semiconductor light emitting elements.
제1항에 있어서,
상기 베이스 기판의 제1면과 제1 색상 변환부 사이에 갭이 배치되고,
상기 베이스 기판의 제2면과 제2 색상 변환부 사이에 갭이 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
A gap is disposed between the first surface of the base substrate and the first color conversion unit,
And a gap is disposed between the second surface of the base substrate and the second color conversion unit.
제1항에 있어서,
상기 베이스 기판은,
서로 반대 방향의 제1면과 제2면을 구비하는 절연 기판;
상기 절연 기판의 제1면과 제2면을 각각 덮도록 형성되는 금속층; 및
상기 금속층의 표면에 각각 적층된 반사층을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
The base substrate includes:
An insulating substrate having a first surface and a second surface opposite to each other;
A metal layer formed to cover the first and second surfaces of the insulating substrate, respectively; And
And a reflective layer laminated on the surface of the metal layer.
제8항에 있어서,
상기 반사층은 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
9. The method of claim 8,
Wherein the reflective layer is made of metal.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004153008A (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Korai Kagi Kofun Yugenkoshi Light-emitting element array
JP2007219004A (en) * 2006-02-14 2007-08-30 Fujitsu Ltd Optical module
US20090168819A1 (en) * 2006-06-06 2009-07-02 Fuji Xerox Co., Ltd. Vertical-cavity surface-emitting laser diode device
JP2009295551A (en) * 2008-06-09 2009-12-17 Stanley Electric Co Ltd Lamp fitting and semiconductor light-emitting light source
JP2011176234A (en) * 2010-02-25 2011-09-08 Citizen Electronics Co Ltd Semiconductor light emitting device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004153008A (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Korai Kagi Kofun Yugenkoshi Light-emitting element array
JP2007219004A (en) * 2006-02-14 2007-08-30 Fujitsu Ltd Optical module
US20090168819A1 (en) * 2006-06-06 2009-07-02 Fuji Xerox Co., Ltd. Vertical-cavity surface-emitting laser diode device
JP2009295551A (en) * 2008-06-09 2009-12-17 Stanley Electric Co Ltd Lamp fitting and semiconductor light-emitting light source
JP2011176234A (en) * 2010-02-25 2011-09-08 Citizen Electronics Co Ltd Semiconductor light emitting device

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