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KR20180043005A - Nozzle for spraying co2 - Google Patents

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KR20180043005A
KR20180043005A KR1020160135749A KR20160135749A KR20180043005A KR 20180043005 A KR20180043005 A KR 20180043005A KR 1020160135749 A KR1020160135749 A KR 1020160135749A KR 20160135749 A KR20160135749 A KR 20160135749A KR 20180043005 A KR20180043005 A KR 20180043005A
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block
carbon dioxide
adjusting
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guide portion
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KR1020160135749A
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최우철
이기우
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

The present invention provides a carbon dioxide spraying nozzle, which can atomize solid particles of carbon dioxide sprayed therefrom while properly adjusting the size of the solid particles of the carbon dioxide. To implement this, the present invention provides the carbon dioxide spraying nozzle, comprising a first block and a second block provided to face each other for forming a connection flow path in which the carbon dioxide flows, a discharge hole having a slit shape to spray the carbon dioxide having passed through the connection flow path to a cleaning target object, and a guide part which is a space formed between the connection flow path and the discharge hole to generate the solid particles of the carbon dioxide, wherein the position of the lower end of the first block or the lower end of the second block is adjusted for adjusting the length or the width of the guide part.

Description

이산화탄소 분사노즐{NOZZLE FOR SPRAYING CO2}NOZZLE FOR SPRAYING CO2 < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 이산화탄소 분사노즐에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이산화탄소가 분사되는 유도부의 길이 및 폭을 조절함으로써 고체로 상변화된 이산화탄소의 입자 크기를 조절할 수 있는 이산화탄소 분사노즐에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carbon dioxide injection nozzle, and more particularly, to a carbon dioxide injection nozzle capable of controlling the particle size of carbon dioxide phase-changed to a solid by controlling the length and width of an induction portion through which carbon dioxide is injected.

디스플레이 장치들 중 OLED와 같은 유기 발광 디스플레이 장치(유기발광다이오드)는 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지므로, 차세대 디스플레이 장치로서 주목을 받고 있다.Of the display devices, an organic light emitting display device (organic light emitting diode) such as an OLED has a wide viewing angle, an excellent contrast and a fast response speed, and is receiving attention as a next generation display device.

일반적으로 유기발광다이오드는 고효율의 발광을 위해 각각의 발광층 사이에 전자 주입층, 전자 수송층, 정공 수송층 및 정공 주입층 등의 중간층이 추가 삽입된다. 여기에서, 발광층 및 중간층 등의 유기박막의 미세 패턴은 증착공정으로 형성될 수 있다. 증착공정으로 유기발광다이오드를 제작하기 위해서는, 유기 박막 등이 형성될 기판 면에, 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 마스크를 밀착시키고 박막 등의 재료를 증착하여 소정 패턴의 박막을 형성한다.In general, an organic light emitting diode is further inserted with an intermediate layer such as an electron injection layer, an electron transport layer, a hole transport layer, and a hole injection layer between each light emitting layer for high efficiency light emission. Here, the fine pattern of the organic thin film such as the light emitting layer and the intermediate layer can be formed by a vapor deposition process. In order to manufacture an organic light emitting diode by a deposition process, a mask having the same pattern as a pattern of a thin film to be formed is closely adhered to a substrate surface on which an organic thin film or the like is to be formed, and a thin film or the like is deposited to form a thin film of a predetermined pattern .

유기물 증착 장치는, 진공 챔버의 하부에 적색(R), 녹색(G)과 청색(B)의 발광 유기물질과 이를 저장하는 증착물질 용기 및 가열장치 등을 갖는 증착 소스가 마련되고, 그 위에 증착 대상인 기판이 위치한다.The organic material deposition apparatus is provided with an evaporation source having a luminous organic material of red (R), green (G) and blue (B), a deposition material container for storing the material and a heating device, The target substrate is located.

상기 기판의 하부에는 증착 패턴을 가지는 금속재질의 마스크(mask)가 위치한다. A mask of a metal material having a deposition pattern is disposed under the substrate.

증착 소스들에는 적색, 녹색 및 청색의 발광 유기물질이 저장된다. 증착 소스는 증착시 소정의 온도로 가열되어 유기물질을 증발시킨다. 마스크는 기판 상에 일정한 패턴으로 유기물질이 증착되도록 하는 역할을 하게 된다. 이를 위하여 마스크에는 일정한 패턴으로 다수의 구멍이 형성되어 있다. 이 같은 구멍들은 증착 소스로부터 증기상태로 공급되는 유기물질을 선택적으로 통과시켜 기판에 증착되도록 한다. Deposition sources store red, green and blue light emitting organic materials. The deposition source is heated to a predetermined temperature during evaporation to evaporate the organic material. The mask serves to deposit an organic material on the substrate in a predetermined pattern. For this purpose, a plurality of holes are formed in the mask in a predetermined pattern. Such holes are selectively passed through the organic material supplied in a vapor state from the deposition source to be deposited on the substrate.

최근에는 고해상도를 구현하기 위하여 구멍이 매우 촘촘하게 뚫린 메탈 마스크를 사용하여 유기물질을 증착하는 공법인 파인 메탈 마스크(FMM; FINE METAL MASK) 증착공법이 알려져 있다. Recently, there has been known a fine metal mask (FMM) deposition method for depositing an organic material by using a metal mask having very fine holes to realize a high resolution.

상기한 증착 공정에서는 유기물질이 마스크의 구멍을 통과하여 기판에 증착될 뿐만 아니라, 마스크의 표면에도 일부가 증착된다. 마스크 표면에 잔존하는 유기물은 제품의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미칠 수 있으므로, 상기 유기물질을 제거하기 위하여 증착 공정이 완료된 후 마스크를 세정하는 공정이 수행된다.In the deposition process described above, not only the organic material is deposited on the substrate through the hole of the mask, but a part of the organic material is also deposited on the surface of the mask. Organic matter remaining on the mask surface adversely affects the yield and reliability of the product. Therefore, a process of cleaning the mask after the deposition process is completed to remove the organic material is performed.

이러한 마스크를 세정하는 방법으로는, 처리 방식에 따라 크게 건식(Dry) 세정방식과 습식(Wet) 세정방식 및 이들을 혼합하여 세정하는 방식이 알려져 있다.As a method of cleaning such a mask, a dry cleaning method, a wet (wet) cleaning method, and a method of cleaning them by mixing them are known.

상기한 건식 세정방식의 하나인 이산화탄소를 이용한 세정방식은, 노즐을 통해 공급된 액체 이산화탄소를 단열 팽창시켜 고체 이산화탄소인 드라이아이스로 상변화시키고, 그 고체 이산화탄소를 세정대상물의 표면에 분사하여 그 고체 이산화탄소와 이물질의 충돌 및 고체 이산화탄소가 기체로 상변화되면서 발생하는 부피의 증가에 의해 이물질을 세정하는 방식이다. In the cleaning method using carbon dioxide, which is one of the dry cleaning methods, the liquid carbon dioxide supplied through the nozzles is adiabatically expanded to be phase-changed into dry ice, which is solid carbon dioxide, and the solid carbon dioxide is sprayed onto the surface of the object to be cleaned, And the foreign matter is collided with and the foreign substance is cleaned by the increase of the volume caused by the phase change of the solid carbon dioxide to the gas.

상기한 건식 세정장치를 이용하여 마스크를 세정하게 되면 노즐에서 분사된 이산화탄소가 고체로 상변화하면서 마스크 표면에 충돌되므로, 분사에 의한 타력에 의해 마스크 표면에 자국이 생기는 문제점이 있다.When the mask is cleaned using the above-described dry cleaning apparatus, the carbon dioxide injected from the nozzles collides with the surface of the mask with a phase change to a solid. Thus, there is a problem that a mark is formed on the surface of the mask due to impact caused by injection.

따라서 마스크에 분사되는 이산화탄소의 고체 입자를 매우 미세하게 할 필요가 있는데, 분사노즐에 복수의 미세 구멍을 형성하고, 그 미세 구멍을 통해 이산화탄소를 미립화시켜 분사하는 것으로 구성할 수 있다. 그러나 미세 구멍 간에 피치(pitch)를 줄이지 못할 경우 균일도에 문제가 발생할 수 있고, 미세 구멍을 가공하는 작업이 매우 어려운 문제점이 있다.Therefore, it is necessary to make the solid particles of carbon dioxide injected into the mask very fine. It is possible to form a plurality of fine holes in the injection nozzle, atomize carbon dioxide through the fine holes and inject the fine particles. However, if the pitch can not be reduced between the fine holes, a problem may occur in the uniformity, and it is very difficult to process the fine holes.

또한, 고체로 상변화된 이산화탄소의 입자 크기가 적절하지 않은 경우 이를 조절할 수 있는 수단이 없는 문제점이 있다.Further, there is a problem that when the particle size of the phase-changed carbon dioxide to be solid is not proper, there is no means to control it.

상술한 세정장치가 나타난 종래기술로서 대한민국 공개특허 제10-2003-0037170호 "세정용 이산화탄소 노즐"이 공개되어 있다.Korean Patent Laid-Open No. 10-2003-0037170 entitled "Carbon dioxide nozzle for cleaning" is disclosed as a conventional technique in which the above-described cleaning apparatus is shown.

본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 분사노즐에서 분사되는 이산화탄소의 고체 입자를 미립화시키되 이산화탄소 고체 입자의 크기를 적절한 크기로 조절할 수 있는 이산화탄소 분사노즐을 제공하고자 함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a carbon dioxide injection nozzle capable of atomizing solid particles of carbon dioxide injected from an injection nozzle, .

본 발명의 다른 목적은, 이산화탄소의 고체 입자를 미립화시켜 세정 대상물에 가해지는 손상을 최소화할 수 있는 이산화탄소 분사노즐을 제공하고자 함에 있다.Another object of the present invention is to provide a carbon dioxide spray nozzle capable of minimizing damage to the object to be cleaned by atomizing solid particles of carbon dioxide.

본 발명의 다른 목적은, 분사노즐 내부에 액체 이산화탄소가 유동하는 유로의 직경과 유로 간의 이격 거리를 최소화함으로써 이산화탄소 분사시 압력차를 최대로 구현할 수 있는 이산화탄소 분사노즐을 제공하고자 함에 있다.Another object of the present invention is to provide a carbon dioxide injection nozzle capable of minimizing a distance between a flow path of liquid carbon dioxide and a flow path inside the injection nozzle, thereby maximizing the pressure difference during carbon dioxide injection.

본 발명의 다른 목적은, 분사노즐에서 이산화탄소가 분사되는 위치에 따른 편차를 최소화시켜 이산화탄소의 분사 균일도를 향상시킬 수 있는 이산화탄소 분사노즐을 제공하고자 함에 있다.It is another object of the present invention to provide a carbon dioxide injection nozzle capable of minimizing a deviation according to a position where carbon dioxide is injected from an injection nozzle, thereby improving the injection uniformity of carbon dioxide.

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 이산화탄소 분사노즐은, 내부에 이산화탄소가 유동하는 연결유로와, 상기 연결유로를 통과한 이산화탄소를 세정대상물 상에 분사하기 위해 슬릿 형상으로 이루어진 토출구와, 상기 연결유로와 토출구 사이에 형성되어 이산화탄소의 고체 입자가 생성되는 공간인 유도부를 형성하기 위해 서로 대향되게 구비된 제1블록과 제2블록; 상기 제1블록의 하단부 또는 제2블록의 하단부의 위치를 조절하여 상기 유도부의 길이 또는 폭이 조절되는 것으로 이루어진다.According to an aspect of the present invention, there is provided a carbon dioxide injection nozzle including a connection channel through which carbon dioxide flows, a discharge port formed in a slit shape for injecting carbon dioxide passing through the connection channel onto a object to be cleaned, A first block and a second block provided between the connection channel and the discharge port and facing each other to form an induction portion, which is a space in which solid particles of carbon dioxide are generated; The length or width of the guide portion is adjusted by adjusting the position of the lower end of the first block or the lower end of the second block.

상기 제1블록은, 상기 연결유로의 일측에 구비된 제1상부블록과, 상기 제1상부블록의 하부에 위치되어 상기 유도부와 토출구를 형성하기 위한 제1하부블록으로 이루어지고; 상기 제2블록은 상기 연결유로의 타측에 구비된 제2상부블록과, 상기 제2상부블록의 하부에 위치되어 상기 유도부와 토출구를 형성하기 위한 제2하부블록으로 이루어지며; 상기 제1하부블록과 제2하부블록의 위치가 조절됨으로써 상기 유도부의 길이 또는 폭이 조절되는 것일 수 있다.The first block includes a first upper block provided at one side of the connection passage and a first lower block positioned below the first upper block to form the guide portion and the discharge port; The second block includes a second upper block provided on the other side of the connection passage and a second lower block positioned below the second upper block to form the guide portion and the discharge port; The length or width of the guide portion may be adjusted by adjusting the positions of the first and second lower blocks.

상기 제1상부블록과 제1하부블록 사이와 제2상부블록과 제2하부블록 사이에는 상기 유도부의 길이를 조절하기 위한 제1조절블록과 제2조절블록이 각각 개재된 것일 수 있다.A first adjusting block and a second adjusting block for adjusting the length of the guide portion may be interposed between the first upper block and the first lower block and between the second upper block and the second lower block, respectively.

상기 제1조절블록과 제2조절블록의 개수 또는 두께를 변경함으로써 상기 유도부의 길이가 조절되는 것일 수 있다.The length of the guide portion may be adjusted by changing the number or thickness of the first adjustment block and the second adjustment block.

상기 제1하부블록과 제2하부블록을 상기 유도부의 폭 방향으로 이동시킴으로써 상기 유도부의 폭이 조절되는 것일 수 있다.The width of the guide portion may be adjusted by moving the first and second lower blocks in the width direction of the guide portion.

상기 제1블록의 하단부는, 상기 제1블록의 외측으로부터 내측으로 관통하는 관통홀이 형성된 제1조절블록부, 상기 제1조절블록부와의 사이에 조절갭을 형성시키고 상기 제1조절블록부와는 일측이 연결되도록 상기 토출구 측에 구비된 제2조절블록부로 이루어지고; 상기 제1조절블록부의 관통홀을 관통하여 상기 제2조절블록부에 나사산결합되는 조절나사를 포함하되, 상기 조절나사를 회전시키면 상기 제1조절블록부가 탄성 변형되면서 상기 조절갭이 조절되는 것일 수 있다.The lower end of the first block may include a first adjusting block having a through hole penetrating from the outside to the inside of the first block, an adjusting gap between the first adjusting block and the first adjusting block, And a second adjusting block portion provided on the discharge port side so that one side is connected to the second adjusting block portion; And an adjusting screw threadably engaged with the second adjusting block portion through the through hole of the first adjusting block portion. When the adjusting screw is rotated, the first adjusting block portion is elastically deformed to adjust the adjusting gap have.

상기 연결유로는 미세관 형상으로 이루어진 튜브(tube)로 이루어지고, 상기 복수의 튜브(tube)가 일정 간격 이격되어 구비된 것일 수 있다.The connection channel may be a tube having a micro tube shape, and the plurality of tubes may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

상기 연결유로는 상기 제1블록과 제2블록 사이에 구비된 유로블록에 형성된 유로홀로 이루어지고, 상기 유로홀은 상기 유로블록을 상하로 관통하는 미세관 형상으로서 복수개가 이격되어 구비되며, 상기 복수의 유로홀을 통과한 이산화탄소가 취합되어 스노우 상태의 이산화탄소로 상변화되어 상기 토출구를 통해 세정대상물에 분사되는 것일 수 있다.Wherein the connection passage is formed of a flow passage hole formed in a flow path block provided between the first block and the second block, the flow passage hole is a plurality of microtubular shapes spaced vertically through the flow passage block, The carbon dioxide that has passed through the flow hole of the flow path is collected and changed into snow carbon dioxide and is sprayed to the object to be cleaned through the discharge port.

상기 연결유로의 내경은 100 내지 300㎛일 수 있다. The inner diameter of the connection passage may be 100 to 300 mu m.

상기 토출구에서 분사된 후 고체로 상변화된 이산화탄소의 입자크기는 0.1 내지 100㎛일 수 있다.The particle size of the carbon dioxide phase-changed into solid after spraying from the discharge port may be 0.1 to 100 탆.

상기 이산화탄소가 유입되는 이산화탄소 유입구와 상기 연결유로 사이에는 상기 이산화탄소 유입구에 연결된 배출공간부보다 단면적이 더 큰 공동부가 형성된 것일 수 있다.And a cavity having a larger cross-sectional area than the discharge space portion connected to the carbon dioxide inlet may be formed between the carbon dioxide inlet through which the carbon dioxide flows and the connection passage.

본 발명에 의하면, 분사노즐에 의해 분사되는 이산화탄소의 고체 입자 크기를 미립화시키되 세정대상물의 세정에 적합한 크기로 조절할 수 있어, 세정대상물의 표면에 타력에 의한 기판 손상이 발생되는 것을 방지함과 아울러 세정효율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, the solid particle size of the carbon dioxide injected by the injection nozzle can be adjusted to a size suitable for cleaning the object to be cleaned, thereby preventing the substrate from being damaged by the impact force on the surface of the object to be cleaned, The efficiency can be improved.

또한, 슬릿(slit) 타입의 분사노즐을 사용함으로써 이산화탄소의 분사 균일도를 향상시킬 수 있다.Further, by using a slit type injection nozzle, the uniformity of injection of carbon dioxide can be improved.

또한, 토출구의 전단에 복수의 튜브로 이루어진 연결유로를 구비하고, 상기 복수의 튜브 사이의 거리를 최소화하고, 토출 전후의 압력 차이를 크게 하여 다량의 이산화탄소 고체 입자를 미립화시켜 세정효율을 향상시킬 수 있다.In addition, it is possible to improve the cleaning efficiency by providing a connection flow path made up of a plurality of tubes at the front end of the discharge port, minimizing the distance between the plurality of tubes, and increasing the pressure difference between before and after discharge to atomize a large amount of carbon dioxide solid particles have.

또한, 토출구의 전단에 복수의 미세관 형상의 유로홀이 형성된 유로블록을 구비함으로써 상기 복수의 유로홀 사이의 거리를 최소화하고, 토출 전후의 압력 차이를 크게 하여 다량의 이산화탄소 고체 입자를 미립화시켜 세정효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 복수의 미세관 형상의 유로홀을 유로블록에 관통 형상으로 형성함으로써 연결구조를 간단하게 할 수 있다.In addition, by providing a flow path block having a plurality of fine-tube-shaped flow path holes formed at the front end of the discharge port, the distance between the plurality of flow path holes is minimized and the pressure difference between before and after discharge is increased to atomize a large amount of carbon dioxide solid particles, The efficiency can be improved. Further, by forming a plurality of fine-tube-shaped flow path holes in a through-hole shape in the flow path block, the connection structure can be simplified.

또한, 분사노즐의 토출구 외측 표면에는 소수성 표면 처리를 함으로써 분사노즐의 토출구에서 이산화탄소가 토출될 때 결빙된 입자가 토출구의 표면에 착빙되는 것을 방지할 수 있다.In addition, by performing hydrophobic surface treatment on the outer surface of the discharge port of the spray nozzle, frozen particles can be prevented from icing on the surface of the discharge port when carbon dioxide is discharged from the discharge port of the spray nozzle.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 분사노즐이 적용된 세정장치를 보여주는 사시도
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 분사노즐이 적용된 세정장치를 보여주는 단면도
도 3은 본 발명의 제1실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도
도 4는 도 3의 A-A 단면도
도 5는 본 발명의 제2실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도
도 6은 본 발명의 제3실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도
도 7은 본 발명의 제4실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도
1 is a perspective view showing a cleaning apparatus to which an injection nozzle according to an embodiment of the present invention is applied;
2 is a cross-sectional view showing a cleaning apparatus to which an injection nozzle according to an embodiment of the present invention is applied
3 is a sectional view showing the injection nozzle according to the first embodiment of the present invention
FIG. 4 is a cross-
5 is a sectional view showing the injection nozzle according to the second embodiment of the present invention
6 is a sectional view showing the injection nozzle according to the third embodiment of the present invention
7 is a cross-sectional view showing an injection nozzle according to a fourth embodiment of the present invention

이하 본 발명 이산화탄소 분사노즐에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, the carbon dioxide injection nozzle of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 분사노즐이 적용된 세정장치를 보여주는 사시도, 도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 분사노즐이 적용된 세정장치를 보여주는 단면도이다.FIG. 1 is a perspective view showing a cleaning apparatus to which an injection nozzle according to an embodiment of the present invention is applied, and FIG. 2 is a sectional view showing a cleaning apparatus to which an injection nozzle according to an embodiment of the present invention is applied.

본 발명의 분사노즐을 이용하여 세정이 이루어지는 세정 대상물은 OLED 증착용 마스크가 될 수도 있고, 대면적 기판이 될 수도 있다.The object to be cleaned using the injection nozzle of the present invention may be an OLED deposition mask or a large-area substrate.

대면적 기판의 경우 하나의 공정을 완료하고, 다음 공정으로 이동하는 도중에 이물질이 기판에 묻을 수 있는데, 이 경우 다음 공정을 수행하기 전에 세정공정이 필요하다. In the case of a large-area substrate, a process may be completed, and a foreign substance may adhere to the substrate while moving to the next process. In this case, a cleaning process is required before performing the next process.

OLED 증착용 마스크나 대면적 기판의 경우 넓이에 비해 두께가 매우 얇아, 이산화탄소를 분사할 경우 기판 또는 마스크 표면에 손상이 발생할 수 있다. 특히 OLED 증착용 마스크 중 파인메탈마스크(FMM; FINE METAL MASK)는 기판에 Red, Green, Blue 유기물 재료를 증착시키기 위한 서브픽셀에 대응하는 미세 구멍이 마스크에 구성되어야 한다. 고해상도를 구현하기 위해서는 이러한 미세 구멍의 크기는 작아지고, 구멍 간의 간격은 좁아지게 된다. In the case of an OLED deposition mask or a large-area substrate, the thickness is very thin compared to the area, and when the carbon dioxide is sprayed, the substrate or the mask surface may be damaged. Particularly, the fine metal mask (FMM) of the OLED deposition mask must have a micro-hole corresponding to the sub-pixel for depositing red, green, and blue organic materials on the substrate. In order to realize high resolution, the size of such fine holes becomes small, and the interval between the holes becomes narrow.

따라서 이러한 미세 구멍을 갖는 마스크에 잔존하는 유기물질을 세정하기 위해서는 세정대상물에 분사되는 CO2의 입자를 미세하게 하는 것이 필요하다. Therefore, in order to clean the organic material remaining in the mask having such a fine hole, it is necessary to finely particleize the CO 2 injected to the object to be cleaned.

본 발명에 의한 이산화탄소 분사노즐이 적용된 세정장치는, 세정대상물(M) 상에 고체입자를 포함하는 스노우(snow) 상태의 이산화탄소(CO2)를 분사하기 위한 분사노즐(100), 상기 세정대상물(M)이 상부에 안착되는 스테이지(200), 상기 분사노즐(100)과 스테이지(200)가 내부에 구비되는 챔버(300), 상기 분사노즐(100)을 통해 상기 이산화탄소의 분사를 제어하여 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질을 세정하는 제어부(미도시)로 이루어진다.The cleaning apparatus to which the carbon dioxide spray nozzle according to the present invention is applied includes a spray nozzle 100 for spraying carbon dioxide (CO2) in a snow state including solid particles on a object M to be cleaned, A stage 300 on which the stage 200 is provided and an injection nozzle 100 for controlling the injection of the carbon dioxide through the injection nozzle 100, (Not shown) that cleans foreign matters remaining on the surface of the wafer W.

상기 분사노즐(100)의 하단부에는 이산화탄소가 배출되는 토출구(110)가 형성되어 있다. A discharge port 110 through which carbon dioxide is discharged is formed at a lower end of the injection nozzle 100.

세정대상물(M)이 OLED 증착용 마스크인 경우 유기물질의 증착을 위한 미세 구멍 주변에 잔존하는 유기물을 포함하는 이물질을 고체입자를 포함하는 스노우(snow) 상태의 이산화탄소를 이용하여 세정하게 된다. In the case where the object to be cleaned M is an OLED deposition mask, a foreign substance including organic matter remaining around the fine holes for deposition of the organic material is cleaned using snow carbon dioxide containing solid particles.

상기 미세 구멍은 고해상도를 구현하기 위해 크기가 매우 작게 되어 있어, 토출구(110)를 통해 분사되는 이산화탄소 입자도 상기 미세 구멍의 세정이 이루어질 수 있도록 미세 구멍보다 크기가 작은 미세 크기로 분사되어야 한다. The size of the fine holes is very small in order to realize a high resolution, so that the carbon dioxide particles injected through the discharge port 110 must be injected in a fine size smaller than the fine holes so that the fine holes can be cleaned.

세정대상물(M)이 OLED 증착용 마스크 또는 대면적 기판인 경우에는 이산화탄소가 분사되는 기판의 표면에 분사되는 힘(타력)에 의한 자국이 생기지 않도록 하는 것이 필요하다. 따라서 토출구(110)를 통해 분사되는 이산화탄소의 입자가 작을수록 기판 손상을 줄일 수 있다.In the case where the object to be cleaned M is an OLED deposition mask or a large area substrate, it is necessary to prevent a mark caused by a force (a biasing force) sprayed on the surface of the substrate on which carbon dioxide is injected. Therefore, as the particles of carbon dioxide injected through the discharge port 110 become smaller, the damage to the substrate can be reduced.

OLED 증착용 마스크나 대면적 기판은 두께가 매우 얇은 박판으로 이루어져 있어, 분사노즐(100)에서 토출 압력, 토출되는 드라이아이스의 입자 크기에 따라 손상(damage)이 발생할 수 있고, 패턴이 미세화됨에 따라 그 두께는 계속 얇아지는 추세이다. Since the mask or the large area substrate of the OLED is made of a very thin thin plate, damage may occur depending on the ejection pressure and the particle size of the ejected dry ice in the ejection nozzle 100. As the pattern is miniaturized The thickness of which is continuously thinning.

이러한 세정대상물(M)을 효과적으로 세정하기 위해서는 분사노즐(100)의 토출구(110)가 분사노즐(100)의 폭방향(Y)으로 길게 형성된 슬릿(slit) 타입인 것이 바람직하다. In order to effectively clean the object M to be cleaned, it is preferable that the discharge port 110 of the spray nozzle 100 is of a slit type which is elongated in the width direction Y of the spray nozzle 100.

즉, 서로 대향하는 두 블록(101,102) 사이에 갭(gap)이 형성되고, 상기 갭의 하단부에 형성된 토출구(110)는 분사노즐(100)의 길이방향(Y)을 따라 길게 형성된 슬릿(slit) 형상으로 되어 있다. 이와 같이 슬릿(slit) 타입의 분사노즐(100)을 사용하게 되면 분사 균일도를 향상시킬 수 있다. That is, a gap is formed between two opposing blocks 101 and 102, and a discharge port 110 formed at a lower end of the gap is formed as a slit formed long along the longitudinal direction Y of the spray nozzle 100, Shape. If the slit type injection nozzle 100 is used as described above, the uniformity of spraying can be improved.

이산화탄소는 이산화탄소공급부(미도시)에서 분사노즐(100) 내부로 고압 액체 상태로 공급된다. 고압 액체 상태의 이산화탄소는 토출구(110)에서 대기압 또는 진공 상태인 챔버(300) 내부공간의 세정대상물(M) 상면에 분사된다. The carbon dioxide is supplied from the carbon dioxide supply unit (not shown) into the injection nozzle 100 in a high-pressure liquid state. The carbon dioxide in the high pressure liquid state is sprayed on the upper surface of the object M to be cleaned in the space inside the chamber 300 which is at atmospheric pressure or vacuum state at the discharge port 110.

액체 상태의 이산화탄소가 분사되면 단열팽창에 의해 온도가 매우 낮아져 드라이아이스 입자가 생성되고, 드라이아이스 입자는 세정대상물(M)의 표면에 충돌하여 이물질을 제거하게 된다. 세정대상물(M)의 표면에 충돌하여 이물질을 제거한 이산화탄소는 기체로 승화되어 세정대상물(M)의 표면에 잔존하지 않게 된다.When the liquid state carbon dioxide is injected, the temperature is extremely lowered by the thermal expansion to generate dry ice particles, and the dry ice particles collide with the surface of the object to be cleaned M to remove foreign matter. The carbon dioxide which has collided with the surface of the object M and has been removed from the object M is sublimated into gas and does not remain on the surface of the object M to be cleaned.

세정대상물(M)의 세정공정은 분사노즐(100)을 이송시키면서 세정할 수도 있고, 세정대상물(M)을 이송시키면서 세정할 수도 있다. 도 1에서는 세정대상물(M)을 스테이지(200) 상부에 고정시킨 상태에서 분사노즐(100)을 이송시키면서 세정하는 경우를 예시하였다. The cleaning process of the object M to be cleaned may be performed while the injection nozzle 100 is being transferred, or may be cleaned while transferring the object M to be cleaned. FIG. 1 illustrates a case where the object to be cleaned M is fixed while being held on the stage 200 and the injection nozzle 100 is transferred while being cleaned.

상기 분사노즐(100)을 이송방향(X)으로 이송시키기 위해 이송부(400)가 분사노즐(100)의 양측부에 구비될 수 있다. 상기 이송부(400)는 일례로 가이드레일(미도시)을 따라 이송되는 구조일 수 있다.A transfer unit 400 may be provided on both sides of the injection nozzle 100 to transfer the injection nozzle 100 in the transfer direction X. [ The conveyance unit 400 may be configured to be conveyed along a guide rail (not shown).

상기 토출구(110)를 통해 분사되는 이산화탄소의 토출압력은 50-60bar 정도이다. 또한, 상기 분사노즐(100)에서 분사된 이산화탄소의 입자 크기는 0.1 내지 100㎛의 크기로 미립화되도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우 분사노즐(100) 내부에서는 밀폐성이 확보된 상태로 토출구(110)로 공급되어야 하고, 다량의 이산화탄소 고체 입자를 생성하기 위해서는 토출 전후의 압력 차이를 크게 해야 한다. The discharge pressure of the carbon dioxide injected through the discharge port 110 is about 50-60 bar. In addition, it is preferable that the particle size of the carbon dioxide injected from the injection nozzle 100 is made to be 0.1 to 100 탆. In this case, the air tightness of the injection nozzle 100 must be supplied to the discharge port 110. In order to generate a large amount of carbon dioxide solid particles, the pressure difference between before and after discharge must be increased.

상기 토출구(110)를 통한 토출 전후의 압력차이를 크게 하기 위해서는 분사노즐(100) 내부에서 이산화탄소가 통과하는 통로를 매우 좁게 형성해야 하는데, 상기 토출구(110)의 간격만을 좁히는 것은 한계가 있다. 또한, 이산화탄소의 입자 크기가 적절한 크기를 벗어난 경우 입자 크기를 조절하는 수단이 필요하게 된다.In order to increase the pressure difference between the discharge port 110 and the discharge port 110, a path through which carbon dioxide passes through the spray nozzle 100 must be formed very narrowly. However, there is a limit to narrowing the gap between the discharge ports 110 only. In addition, when the particle size of the carbon dioxide is out of the proper size, a means for controlling the particle size is needed.

따라서 토출 전후의 압력 차이를 크게 함과 동시에 이산화탄소 입자 크기를 조절할 수 있는 일례로서 도 3과 도 4에 도시된 실시예에 대해 설명한다.Therefore, the embodiment shown in Figs. 3 and 4 will be described as an example in which the pressure difference before and after discharge can be increased and the carbon dioxide particle size can be adjusted.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도, 도 4는 도 3의 A-A 단면도이다. FIG. 3 is a sectional view showing the injection nozzle according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view taken along the line A-A in FIG.

도 3과 도 4를 참조하면, 배출공간부(120)와 토출구(110) 사이에 미세관 형상으로 이루어진 연결유로(130-1)가 구비되어 있다. Referring to FIGS. 3 and 4, a connecting passage 130-1 having a micro-tubular shape is provided between the discharge space 120 and the discharge port 110. As shown in FIG.

상기 배출공간부(120)는 이산화탄소 유입구(140)를 통해 유입된 액체 이산화탄소가 일시 저장되는 공간으로서 분사노즐(100)의 길이방향(Y)으로 형성되어 있다. The discharge space 120 is formed in the longitudinal direction Y of the injection nozzle 100 as a space in which the liquid carbon dioxide introduced through the carbon dioxide inlet 140 is temporarily stored.

상기 배출공간부(120)와 연결유로(130-1) 사이에는 상기 배출공간부(120) 보다 수직 방향의 단면적(즉, 도 4에서 보이는 단면적)이 더 큰 공동부(150)가 형성되어 있다. 액체 이산화탄소는 상기 공동부(150)에 모인 후 상기 연결유로(130-1)로 공급된다. 이와 같이 공동부(150)가 형성되어 있으면 토출구(110)에서 분사되는 이산화탄소의 압력 균일도를 확보할 수 있다.A cavity portion 150 having a cross-sectional area in a direction perpendicular to the discharge space portion 120 (that is, a cross-sectional area shown in FIG. 4) is formed between the discharge space portion 120 and the connection passage 130-1 . The liquid carbon dioxide is collected in the cavity portion 150 and then supplied to the connection passage 130-1. When the cavity portion 150 is formed as described above, pressure uniformity of carbon dioxide injected from the discharge port 110 can be secured.

상기 연결유로(130-1)는 미세 드라이아이스 입자를 생성하기 위해 매우 작은 직경으로 이루어진 관 형상으로 이루어진 것으로서, 복수 개가 일정 간격 이격되어 구비된다. 상기 연결유로(130-1)의 상부는 공동부(150) 및 배출공간부(120)에 연통하고, 하부는 토출구(110)에 연통한다. The connection passage 130-1 is formed in a tube shape having a very small diameter in order to produce fine dry ice particles, and a plurality of the connection passage 130-1 are spaced apart from each other by a predetermined distance. The upper portion of the connection passage 130-1 communicates with the cavity portion 150 and the discharge space portion 120 and the lower portion communicates with the discharge port 110. [

상기 연결유로(130-1)는 스테인레스 또는 수지 재질의 튜브로 이루어질 수 있고, 그 내경은 100 내지 300㎛로 이루어질 수 있다. 상기 복수의 연결유로(130-1)를 통과한 이산화탄소는 취합된 후 토출구(110)에서 배출된다.The connection passage 130-1 may be made of a tube made of stainless steel or resin, and the inner diameter of the connection passage 130-1 may be 100-300 mu m. Carbon dioxide having passed through the plurality of connection channels 130-1 is collected and discharged from the discharge port 110. [

이와 같이 미세관 형상의 연결유로(130-1)를 구비하면, 액체의 이산화탄소가 연결유로(130-1)를 통과하는 과정에서 고압이 형성되고, 고압이 형성된 액체 이산화탄소가 토출구(110)를 통해 토출되면 큰 압력차이로 인해 스노우(snow) 상태의 미세 드라이아이스 입자가 다량 생성된다.When the connection channel 130-1 having the fine tubular shape is provided, a high pressure is formed in the course of the carbon dioxide passing through the connection channel 130-1, and the liquid carbon dioxide in which the high pressure is formed passes through the discharge hole 110 When discharged, a large amount of fine dry ice particles in a snow state is generated due to a large pressure difference.

상기 연결유로(130-1)와 토출구(110) 사이에는 유도부(115)가 형성되어 있다. 상기 유도부(115)는 연결유로(130-1)의 하단부에서 토출구(110) 사이의 공간이다. 상기 연결유로(130-1)를 통과한 이산화탄소의 고체 입자 크기는 상기 유도부(115)의 길이에 의존한다. An induction part 115 is formed between the connection passage 130-1 and the discharge port 110. [ The guide portion 115 is a space between the discharge port 110 and the lower end of the connection passage 130-1. The solid particle size of the carbon dioxide which has passed through the connection passage 130-1 depends on the length of the guide portion 115.

즉, 유도부(115)의 길이(h)가 너무 짧으면 이산화탄소의 고체화가 어렵고, 유도부(115)의 길이(h)가 너무 길면 유도부(115) 내부에서 이산화탄소 고체 입자의 크기가 너무 커지므로, 이산화탄소의 입자 크기가 0.1 내지 100㎛의 범위 이내가 되도록 유도부(115)의 길이를 설정할 수 있다.That is, if the length h of the guide portion 115 is too short, solidification of carbon dioxide is difficult and if the length h of the guide portion 115 is too long, the size of the carbon dioxide solid particles becomes too large in the guide portion 115, The length of the guide portion 115 can be set so that the particle size is within a range of 0.1 to 100 mu m.

상기 유도부(115)의 길이(h)를 조절하기 위해 제1블록(101)과 제2블록(102)의 하단부의 위치를 조절하는 것으로 구성할 수 있다.The position of the lower end of the first block 101 and the position of the lower end of the second block 102 may be adjusted to adjust the length h of the guide portion 115.

상기 제1블록(101)은, 상기 연결유로(130-1)의 일측에 구비된 제1상부블록(101a), 상기 제1상부블록(101a)의 하부에 위치되어 상기 유도부(115)와 토출구(110)를 형성하기 위한 제1하부블록(101b)으로 이루어진다.The first block 101 includes a first upper block 101a provided at one side of the connection passage 130-1 and a second upper block 101b located below the first upper block 101a, And a first lower block 101b for forming the second substrate 110.

상기 제2블록(102)은, 상기 연결유로(130-1)의 타측에 구비된 제2상부블록(102a), 상기 제2상부블록(102a)의 하부에 위치되어 상기 유도부(115)와 토출구(110)를 형성하기 위한 제2하부블록(102b)으로 이루어진다.The second block 102 includes a second upper block 102a provided on the other side of the connection passage 130-1 and a second upper block 102b located below the second upper block 102a, And a second lower block 102b for forming the second substrate 110.

상기 제1상부블록(101a)과 제1하부블록(101b) 사이에는 상기 유도부(115)의 길이(h)를 조절하기 위한 제1조절블록(101c)이 개재되고, 상기 제2상부블록(102a)과 제2하부블록(102b) 사이에는 상기 유도부(115)의 길이(h)를 조절하기 위한 제2조절블록(102c)이 개재되어 있다.A first adjusting block 101c for adjusting the length h of the guiding portion 115 is interposed between the first upper block 101a and the first lower block 101b and the second upper block 102a And a second adjustment block 102c for adjusting the length h of the guide part 115 is interposed between the first lower block 102b and the second lower block 102b.

상기 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)은 동일한 두께로 이루어질 수 있고, 상기 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)의 두께를 동일하게 조절함으로써 상기 유도부(115)의 길이(h)를 조절할 수 있다. 즉, 상기 유도부(115)의 길이(h)를 줄이는 경우에는 얇은 두께로 이루어진 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)을 사용하고, 상기 유도부(115)의 길이(h)를 늘리는 경우에는 두꺼운 두께로 이루어진 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)을 사용한다. 또한, 일정한 두께로 이루어진 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)을 복수 개 사용하여 유도부(115)의 길이를 조절할 수도 있다.The first adjusting block 101c and the second adjusting block 102c may have the same thickness and the thickness of the first adjusting block 101c and the second adjusting block 102c may be equalized, 115 can be adjusted. That is, when the length h of the guide part 115 is reduced, the first adjustment block 101c and the second adjustment block 102c having a small thickness are used, and the length h of the guide part 115 is The first adjusting block 101c and the second adjusting block 102c, which are made of thick material, are used. In addition, the length of the guide portion 115 may be adjusted by using a plurality of the first adjustment block 101c and the second adjustment block 102c having a predetermined thickness.

상기 제1상부블록(101a)과 제1하부블록(101b) 및 제1조절블록(101c)은 체결부재(미도시)를 이용하여 일체로 결합하고, 상기 제2상부블록(102a)과 제2하부블록(102b) 및 제2조절블록(102c)은 체결부재(미도시)를 이용하여 일체로 결합할 수 있다. The first upper block 101a and the first lower block 101b and the first adjustment block 101c are integrally coupled to each other by using a fastening member (not shown), and the second upper block 102a and the second The lower block 102b and the second adjustment block 102c may be integrally coupled using a fastening member (not shown).

상기 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)을 사용하여 유도부(115)의 길이(h)를 조절하는 경우에는 상기 체결부재를 분해한 후, 상기 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)의 두께 또는 개수를 변경한 후 다시 상기 체결부재를 재조립하게 된다.When the length h of the guide part 115 is adjusted using the first adjustment block 101c and the second adjustment block 102c, the first adjustment block 101c, After changing the thickness or number of the second adjustment block 102c, the fastening member is reassembled again.

도 5는 본 발명의 제2실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a spray nozzle according to a second embodiment of the present invention.

제2실시예의 경우 연결유로를 구성하기 위해 제1실시예의 튜브 대신 유로홀(131-2)이 형성된 유로블록(130-2)을 사용한 것이다.In the case of the second embodiment, the flow path block 130-2 in which the flow path hole 131-2 is formed instead of the tube of the first embodiment is used for constituting the connection flow path.

상기 유로블록(130-2)은, 미세 드라이아이스 입자를 생성하기 위해 매우 작은 직경으로 이루어진 미세관 형상의 복수의 유로홀(131-2)이 분사노즐(100)의 폭방향(Y)을 따라 일정 간격 이격되어 형성된 것이다. 상기 유로홀(131-2)은 유로블록(130-2)의 상부에서부터 하부까지 관통된 형상으로 이루어진다.The flow path block 130-2 has a plurality of fine channel-shaped flow path holes 131-2 formed in a very small diameter in order to generate fine dry ice particles along the width direction Y of the injection nozzle 100 Spaced apart from each other. The flow path hole 131-2 has a shape penetrating from the upper portion to the lower portion of the flow path block 130-2.

상기 유로블록(130-2)은 상기 제1블록(101)과 제2블록(102) 사이에 개재되고, 상기 토출구(110)의 상부에 위치한다.The flow path block 130-2 is interposed between the first block 101 and the second block 102 and is located at an upper portion of the discharge port 110. [

상기 유로홀(131-2)의 상부는 배출공간부(120)에 연통하고, 하부는 토출구(110)에 연통한다. 상기 유로홀(131-2)의 내경은 100 내지 300㎛로 이루어질 수 있다. 상기 복수의 유로홀(131-2)을 통과한 이산화탄소는 취합된 후 토출구(110)에서 배출된다.The upper portion of the flow passage hole 131-2 communicates with the discharge space portion 120 and the lower portion communicates with the discharge port 110. [ The inner diameter of the flow path hole 131-2 may be 100 to 300 mu m. Carbon dioxide which has passed through the plurality of flow holes 131-2 is collected and discharged from the discharge port 110.

이와 같이 미세관 형상의 유로홀(131-2)을 통과하는 과정에서 고압이 형성된 액체 이산화탄소는 유로홀(131-2)을 통과 후 큰 압력차이로 인해 스노우(snow) 상태의 미세 드라이아이스 입자가 다량 생성된다.The liquid carbon dioxide having a high pressure in the process of passing through the flow path hole 131-2 having the fine tubular shape passes through the flow hole 131-2 and the fine dry ice particles in a snow state A large amount is generated.

상기 유로블록(130-2)의 유로홀(131-2)은 가공에 의해 형성되고, 유로홀(131-2)이 가공된 유로블록(130-2)을 제1블록(101)과 제2블록(102) 사이에 개재되도록 조립하게 되면, 이산화탄소가 통과하는 통로인 유로홀(131-2)을 매우 좁은 통로로 구현할 수 있을 뿐만 아니라 제조 공정이 간단해진다. The flow path hole 131-2 of the flow path block 130-2 is formed by machining and the flow path block 130-2 in which the flow path hole 131-2 is formed is divided into a first block 101 and a second Assembled to be interposed between the blocks 102, the flow path hole 131-2 through which the carbon dioxide passes can be realized with a very narrow path, and the manufacturing process is simplified.

제1실시예에서 연결유로(131-1)로서 튜브를 사용하게 되면, 튜브의 양단부를 배출공간부(120)와 토출구(110)에 연결하기 위한 별도의 연결구가 필요하게 되고 연결구조가 복잡해진다. 그러나 유로홀(131-2)이 형성된 유로블록(130-2)을 사용하게 되면, 별도의 연결구가 필요하지 않으므로 연결구조가 간단해지고, 유로홀(131-2)을 별도 가공에 의해 유로블록(130-2)을 관통하도록 형성하면 되므로, 복수의 유로홀(131-2) 사이의 간격을 좁힐 수 있어 유로홀(131-2)을 유로블록(130-2)에 촘촘하게 배치할 수 있다. In the first embodiment, when a tube is used as the connection channel 131-1, a separate connector for connecting both ends of the tube to the discharge space 120 and the discharge port 110 is required, complicating the connection structure . However, if the flow path block 130-2 having the flow path hole 131-2 is used, a separate connection port is not required, so that the connection structure is simplified, and the flow path hole 131-2 is formed separately from the flow path block The space between the plurality of flow holes 131-2 can be narrowed and the flow passage hole 131-2 can be arranged closely to the flow path block 130-2.

이러한 구성에 의해 토출구(110)를 통한 토출 전후의 압력 차이를 크게 하여 다량의 이산화탄소 고체 입자를 미립화시킬 수 있어 세정효율을 향상시킬 수 있다.With this configuration, a large difference in pressure before and after discharge through the discharge port 110 can be made to atomize a large amount of carbon dioxide solid particles, thereby improving the cleaning efficiency.

이와 동시에 제1실시예와 마찬가지로 제1조절블록(101c)과 제2조절블록(102c)을 사용하여 유도부(115)의 길이(h)를 조절함으로써 이산화탄소의 입자 크기를 조절할 수 있다.At the same time, the particle size of the carbon dioxide can be adjusted by adjusting the length h of the guide portion 115 by using the first control block 101c and the second control block 102c as in the first embodiment.

도 6은 본 발명의 제3실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating an injection nozzle according to a third embodiment of the present invention.

제3실시예는 제1하부블록(101b)과 제2하부블록(102b)이 수평방향(도 6의 화살표 방향)으로 이동가능하도록 함으로써 유도부(115)의 폭(g)을 조절할 수 있도록 되어 있다.In the third embodiment, the width g of the guiding portion 115 can be adjusted by making the first lower block 101b and the second lower block 102b movable in the horizontal direction (the direction of the arrow in Fig. 6) .

상기 제1하부블록(101b)은 체결부재(미도시)에 의해 제1상부블록(101a)에 일체로 결합될 수 있고, 상기 제2하부블록(102b)은 체결부재(미도시)에 의해 제2상부블록(102a)에 일체로 결합될 수 있다. 상기 유도부(115)의 폭(g)을 조절하기 위해 상기 체결부재의 체결 위치를 변경하는 것으로 구성할 수 있다. 이 경우 제1하부블록(101b)과 제2하부블록(102b) 모두의 위치를 조절할 수도 있고, 둘 중 어느 하나의 위치만 조절할 수도 있다. The first lower block 101b may be integrally coupled to the first upper block 101a by a fastening member (not shown), and the second lower block 102b may be integrally coupled to the first lower block 101b by a fastening member 2 upper block 102a. And the fastening position of the fastening member may be changed in order to adjust the width g of the guide portion 115. In this case, the positions of both the first and second lower blocks 101b and 102b may be adjusted, or only one of them may be adjusted.

도 7은 본 발명의 제4실시예에 의한 분사노즐을 보여주는 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing an injection nozzle according to a fourth embodiment of the present invention.

제4실시예의 경우 제1블록(101-1)의 제1조절블록부(101-1a)와 제2조절블록부(101-1b) 사이에 형성된 조절갭(108b)을 조절나사(161)를 이용하여 조절함으로써 유도부(115)의 폭(g)을 조절하는 구성에 대한 것이다.The adjusting gap 108b formed between the first adjusting block 101-1a and the second adjusting block 101-1b of the first block 101-1 is adjusted by the adjusting screw 161 To control the width (g) of the guide portion (115).

상기 조절나사(161)는 체결몸체(161b)의 외주면에 나사산이 형성되어 있다. 상기 조절나사(161)를 체결하기 위해 상기 제1조절블록부(101-1a)에는 제1블록(101-1)의 외측으로부터 내측으로 관통하는 관통홀(108a)이 형성되어 있고, 상기 제2조절블록부(101-1b)에는 상기 관통홀(108a)에 대응하는 위치에 체결홈(108c)이 형성되어 있다. 상기 관통홀(108a)의 내부에는 내측공간으로 돌출된 단턱부(162)가 형성되어 있다. 상기 조절나사(161)의 체결몸체(161b)가 상기 관통홀(108a)을 관통하여 상기 체결홈(108c)에 나사산 결합되고, 조절나사(161)의 머리부(161a)는 상기 단턱부(162)에 걸림된다. The adjusting screw 161 is threaded on the outer peripheral surface of the fastening body 161b. In order to fasten the adjusting screw 161, the first adjusting block 101-1a is formed with a through hole 108a penetrating from the outside to the inside of the first block 101-1, In the adjustment block portion 101-1b, a coupling groove 108c is formed at a position corresponding to the through hole 108a. A step portion 162 protruding into the inner space is formed in the through hole 108a. The fastening body 161b of the adjusting screw 161 is screwed into the fastening groove 108c through the through hole 108a and the head portion 161a of the adjusting screw 161 is fastened to the fastening portion 162 ).

따라서 상기 조절나사(161)를 회전시키면 제1조절블록부(101-1a)의 위치가 고정된 상태에서 제2조절블록부(101-1b)가 조절갭(108b)이 허용하는 범위에서 위치가 가변된다. 이 경우 상기 제2조절블록부(101-1b)은 제1조절블록부(101-1a)와 일측(상측)부가 연결되어 있어, 그 연결된 부분에 탄성적인 변형이 생김으로써 위치가 가변되고, 그에 따라 유도부(115)의 폭(g)이 조절된다.Therefore, when the adjusting screw 161 is rotated, the second adjusting block 101-1b is positioned in the range allowed by the adjusting gap 108b while the first adjusting block 101-1a is fixed in position Lt; / RTI > In this case, the second adjusting block 101-1b is connected to the first adjusting block 101-1a at one side (upper side), so that the connected portion is elastically deformed, The width g of the guide portion 115 is adjusted.

상기와 같은 구성에 의하면 이산화탄소의 고체 입자 크기를 미립화시키되 세정대상물(M)의 세정에 적합한 크기로 조절할 수 있어, 세정대상물(M)의 표면에 타력에 의한 기판 손상이 발생되는 것을 방지함과 아울러 세정효율을 향상시킬 수 있다.According to the above configuration, the solid particle size of the carbon dioxide can be adjusted to a size suitable for cleaning the object to be cleaned M, thereby preventing the substrate from being damaged by the impact force on the surface of the object to be cleaned M, The cleaning efficiency can be improved.

전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, And this also belongs to the present invention.

100 : 분사노즐 101 : 제1블록
101a : 제1상부블록 101b : 제1하부블록
101c : 제1조절블록 102 : 제2블록
102a : 제2상부블록 102b : 제2하부블록
102c : 제2조절블록 108a : 관통홀
108b : 조절갭 108c : 체결홈
110 : 토출구 115 : 유도부
120 : 배출공간부 130-1 : 연결유로
130-2 : 유로블록 131-2 : 유로홀
140 : 이산화탄소 유입구 150 : 공동부
161 : 조절나사 200 : 스테이지
300 : 챔버 400 : 이송부
100: injection nozzle 101: first block
101a: first upper block 101b: first lower block
101c: first adjustment block 102: second block
102a: second upper block 102b: second lower block
102c: second adjusting block 108a: through hole
108b: adjustment gap 108c: fastening groove
110: discharge port 115:
120: discharge space part 130-1:
130-2: channel block 131-2: channel hole
140: Carbon dioxide inlet 150: Cavity
161: adjusting screw 200: stage
300: chamber 400:

Claims (11)

내부에 이산화탄소가 유동하는 연결유로와, 상기 연결유로를 통과한 이산화탄소를 세정대상물 상에 분사하기 위해 슬릿 형상으로 이루어진 토출구와, 상기 연결유로와 토출구 사이에 형성되어 이산화탄소의 고체 입자가 생성되는 공간인 유도부를 형성하기 위해 서로 대향되게 구비된 제1블록과 제2블록;
상기 제1블록의 하단부 또는 제2블록의 하단부의 위치를 조절하여 상기 유도부의 길이 또는 폭이 조절되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
A discharge port formed in a slit shape for spraying carbon dioxide which has passed through the connection passage on the object to be cleaned and a space formed between the connection passage and the discharge port to generate solid particles of carbon dioxide A first block and a second block provided opposite to each other to form an induction portion;
Wherein a length or a width of the guide portion is adjusted by adjusting a position of a lower end of the first block or a lower end of the second block,
제1항에 있어서,
상기 제1블록은, 상기 연결유로의 일측에 구비된 제1상부블록과, 상기 제1상부블록의 하부에 위치되어 상기 유도부와 토출구를 형성하기 위한 제1하부블록으로 이루어지고;
상기 제2블록은 상기 연결유로의 타측에 구비된 제2상부블록과, 상기 제2상부블록의 하부에 위치되어 상기 유도부와 토출구를 형성하기 위한 제2하부블록으로 이루어지며;
상기 제1하부블록과 제2하부블록의 위치가 조절됨으로써 상기 유도부의 길이 또는 폭이 조절되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
The first block includes a first upper block provided at one side of the connection passage and a first lower block positioned below the first upper block to form the guide portion and the discharge port;
The second block includes a second upper block provided on the other side of the connection passage and a second lower block positioned below the second upper block to form the guide portion and the discharge port;
Wherein a length or a width of the guide portion is adjusted by adjusting the positions of the first and second lower blocks.
제2항에 있어서,
상기 제1상부블록과 제1하부블록 사이와 제2상부블록과 제2하부블록 사이에는 상기 유도부의 길이를 조절하기 위한 제1조절블록과 제2조절블록이 각각 개재된 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
3. The method of claim 2,
Wherein a first adjusting block and a second adjusting block are provided between the first upper block and the first lower block and between the second upper block and the second lower block to adjust the length of the guide portion, Nozzle
제3항에 있어서,
상기 제1조절블록과 제2조절블록의 개수 또는 두께를 변경함으로써 상기 유도부의 길이가 조절되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method of claim 3,
Wherein the length of the guide portion is adjusted by changing the number or the thickness of the first adjustment block and the second adjustment block.
제2항에 있어서,
상기 제1하부블록과 제2하부블록을 상기 유도부의 폭 방향으로 이동시킴으로써 상기 유도부의 폭이 조절되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
3. The method of claim 2,
Wherein a width of the guide portion is adjusted by moving the first lower block and the second lower block in a width direction of the guide portion.
제1항에 있어서,
상기 제1블록의 하단부는, 상기 제1블록의 외측으로부터 내측으로 관통하는 관통홀이 형성된 제1조절블록부, 상기 제1조절블록부와의 사이에 조절갭을 형성시키고 상기 제1조절블록부와는 일측이 연결되도록 상기 토출구 측에 구비된 제2조절블록부로 이루어지고;
상기 제1조절블록부의 관통홀을 관통하여 상기 제2조절블록부에 나사산결합되는 조절나사를 포함하되, 상기 조절나사를 회전시키면 상기 제1조절블록부가 탄성 변형되면서 상기 조절갭이 조절되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
The lower end of the first block may include a first adjusting block having a through hole penetrating from the outside to the inside of the first block, an adjusting gap between the first adjusting block and the first adjusting block, And a second adjusting block portion provided on the discharge port side so that one side is connected to the second adjusting block portion;
And an adjustment screw threaded through the through hole of the first adjustment block part and threadedly coupled to the second adjustment block part. When the adjustment screw is rotated, the first adjustment block part is elastically deformed to adjust the adjustment gap Carbon dioxide injection nozzle
제1항에 있어서,
상기 연결유로는 미세관 형상으로 이루어진 튜브(tube)로 이루어지고, 상기 복수의 튜브(tube)가 일정 간격 이격되어 구비된 것을 특징으로 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
Wherein the connection passage is formed of a tube having a micro-tube shape, and the plurality of tubes are spaced apart from each other by a predetermined distance,
제1항에 있어서,
상기 연결유로는 상기 제1블록과 제2블록 사이에 구비된 유로블록에 형성된 유로홀로 이루어지고, 상기 유로홀은 상기 유로블록을 상하로 관통하는 미세관 형상으로서 복수개가 이격되어 구비되며, 상기 복수의 유로홀을 통과한 이산화탄소가 취합되어 스노우 상태의 이산화탄소로 상변화되어 상기 토출구를 통해 세정대상물에 분사되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
Wherein the connection passage is formed of a flow passage hole formed in a flow path block provided between the first block and the second block, the flow passage hole is a plurality of microtubular shapes spaced vertically through the flow passage block, And carbon dioxide passing through the passage hole of the carbon dioxide injection nozzle is collected and injected to the object to be cleaned through the discharge port by phase change to carbon dioxide in the snow state.
제1항에 있어서,
상기 연결유로의 내경은 100 내지 300㎛인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
Wherein the inner diameter of the connecting passage is 100 to 300 mu m.
제1항에 있어서,
상기 토출구에서 분사된 후 고체로 상변화된 이산화탄소의 입자크기는 0.1 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
Characterized in that the particle size of the carbon dioxide phase-changed into solid after spraying from the discharge port is 0.1 to 100 mu m.
제1항에 있어서,
상기 이산화탄소가 유입되는 이산화탄소 유입구와 상기 연결유로 사이에는 상기 이산화탄소 유입구에 연결된 배출공간부보다 단면적이 더 큰 공동부가 형성된 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분사노즐
The method according to claim 1,
Wherein a cavity portion having a larger cross-sectional area than a discharge space portion connected to the carbon dioxide inlet is formed between the carbon dioxide inlet through which the carbon dioxide flows and the connection passage.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001340816A (en) * 2000-06-01 2001-12-11 Asahi Sunac Corp Washing apparatus
KR20070107597A (en) * 2006-05-02 2007-11-07 가부시끼가이샤 교리쯔 고낀 세이사꾸쇼 Twin-fluid nozzle and spraying method using the same
KR20080012626A (en) * 2006-08-04 2008-02-12 삼성전자주식회사 Liquid diffusing nozzle and liquid diffusing device having the same
KR20100002775A (en) * 2008-06-30 2010-01-07 주식회사 디엠에스 Slit nozzle
KR20120025643A (en) * 2010-09-06 2012-03-16 엘아이지에이디피 주식회사 A gas supply unit of a chemical vapor deposition apparatus and a method for manufacturing thereof
KR20140003420U (en) * 2012-11-30 2014-06-10 주식회사 케이씨텍 Knife capable of adjusting nozzle gap

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001340816A (en) * 2000-06-01 2001-12-11 Asahi Sunac Corp Washing apparatus
KR20070107597A (en) * 2006-05-02 2007-11-07 가부시끼가이샤 교리쯔 고낀 세이사꾸쇼 Twin-fluid nozzle and spraying method using the same
KR20080012626A (en) * 2006-08-04 2008-02-12 삼성전자주식회사 Liquid diffusing nozzle and liquid diffusing device having the same
KR20100002775A (en) * 2008-06-30 2010-01-07 주식회사 디엠에스 Slit nozzle
KR20120025643A (en) * 2010-09-06 2012-03-16 엘아이지에이디피 주식회사 A gas supply unit of a chemical vapor deposition apparatus and a method for manufacturing thereof
KR20140003420U (en) * 2012-11-30 2014-06-10 주식회사 케이씨텍 Knife capable of adjusting nozzle gap

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