Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR20160125684A - Cleaning system for ozone generating system - Google Patents

Cleaning system for ozone generating system Download PDF

Info

Publication number
KR20160125684A
KR20160125684A KR1020150056428A KR20150056428A KR20160125684A KR 20160125684 A KR20160125684 A KR 20160125684A KR 1020150056428 A KR1020150056428 A KR 1020150056428A KR 20150056428 A KR20150056428 A KR 20150056428A KR 20160125684 A KR20160125684 A KR 20160125684A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plasma
cleaning gas
cleaning
supply
ozone generator
Prior art date
Application number
KR1020150056428A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
심기천
Original Assignee
(주)에코테크놀로지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에코테크놀로지 filed Critical (주)에코테크놀로지
Priority to KR1020150056428A priority Critical patent/KR20160125684A/en
Publication of KR20160125684A publication Critical patent/KR20160125684A/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/0021Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by liquid gases or supercritical fluids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/10Preparation of ozone

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

본 발명은 오존생성장치 세정시스템에 관한 것으로서, 셀을 이용해 오존을 생성하며, 유입구와 배출구가 각각 형성된 오존생성장치와; 상기 오존생성장치로 플라즈마 형태의 세정가스를 공급해 상기 셀을 세정하는 플라즈마세정모듈을 포함하며, 상기 플라즈마세정모듈은, 세정가스를 공급하는 세정가스공급부와; 상기 세정가스공급부로부터 세정가스를 공급받고, 전원공급부로부터의 무선주파수 전원의 인가에 의해 상기 세정가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 원격플라즈마챔버와; 상기 원격플라즈마챔버와 상기 유입구를 연결하며, 플라즈마 형태의 세정가스를 상기 오존발생장치 내부로 공급하는 플라즈마공급관과; 상기 셀을 세정한 오염된 세정가스를 소각하여 외부로 배기하는 스크러버와; 상기 배출구와 상기 스크러버를 연결하는 플라즈마배출관을 포함하는 것을 특징으로 한다.  The present invention relates to an ozone generator cleaning system comprising: an ozone generator for generating ozone using a cell and having an inlet and an outlet; And a plasma cleaning module for cleaning the cell by supplying a cleaning gas of a plasma type to the ozone generator, wherein the plasma cleaning module comprises: a cleaning gas supply part for supplying a cleaning gas; A remote plasma chamber that receives a cleaning gas from the cleaning gas supply and that excites the cleaning gas into a plasma state upon application of a radio frequency power from a power supply; A plasma supply pipe connecting the remote plasma chamber and the inlet port to supply a cleaning gas in a plasma form into the ozone generator; A scrubber for incinerating the polluted cleaning gas, which has been cleaned, and discharging the polluted cleaning gas to the outside; And a plasma discharge pipe connecting the discharge port and the scrubber.

Description

오존생성장치 세정시스템{CLEANING SYSTEM FOR OZONE GENERATING SYSTEM}CLEANING SYSTEM FOR OZONE GENERATING SYSTEM [0002]

본 발명은 오존생성장치 세정시스템에 관한 것으로서, 보다 자세히는 오존생성장치 내부의 오염된 셀을 교체하지 않고 플라즈마 상태의 세정가스를 통해 세정하여 사용할 수 있게 하는 오존생성장치 세정시스템에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ozone generator cleaning system, and more particularly, to an ozone generator cleaning system that allows a contaminated cell inside an ozone generator to be cleaned through a cleaning gas in a plasma state without being replaced.

오존생성장치 오존가스를 생성한다. 오존생성장치는 내부에 설치된 복수개의 셀로부터 오존을 생성한다. 셀은 두 개의 전극을 갖는 커패시터로 기능한다. 전극들 사이에 흐르는 산소가 전기 방전에 의해 오존으로 변환된다. Ozone Generator Generates ozone gas. The ozone generating apparatus generates ozone from a plurality of cells installed therein. The cell functions as a capacitor with two electrodes. Oxygen flowing between the electrodes is converted into ozone by electric discharge.

종래 오존생성장치의 일례가 등록특허 제10-0416175호 "오존 생성 방법 및 장치"에 개시된 바 있다. An example of a conventional ozone generating apparatus is disclosed in Japanese Patent No. 10-0416175 entitled " Method and apparatus for producing ozone ".

개시된 바와 같은 종래 오존생성장치는 장기간 사용할 경우, 내부에 구비된 셀의 표면에 이물질이 부착되거나 오염되는 경우가 발생된다. 이렇게 셀 표면에 이물질이 부착되면 오존생성률이 저하되어 일정 기간이 경과되면 셀을 교체해야 했다. 즉, 셀의 수명이 다하지 않았음에도 불구하고 셀 표면의 오염을 세정하지 못해 셀을 교체해야 했다. In the conventional ozone generating apparatus as described above, foreign matter may be adhered to or contaminated the surface of a cell provided therein for a long period of time. When foreign matter adheres to the cell surface, the ozone generation rate is lowered, and after a certain period of time, the cell has to be replaced. That is, even though the lifetime of the cell was not reached, the cell surface could not be cleaned and the cell had to be replaced.

이에 따라 새로운 셀로 교체해야 하므로 오존생성장치의 관리비용이 증가하는 단점이 있었다.
Accordingly, there is a disadvantage that the management cost of the ozone generator is increased because it is necessary to replace with a new cell.

본 발명의 목적은 상술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 오염된 셀을 교체하지 않고 셀을 세정하여 사용할 수 있게 하는 오존생성장치 세정시스템을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an ozone generator cleaning system capable of cleaning and using cells without replacing contaminated cells.

본 발명의 다른 목적은 세정가스를 플라즈마 형태로 공급하여 셀 표면의 이물질만 깨끗하게 세정할 수 있는 오존생성장치 세정시스템을 제공하는 것이다. It is another object of the present invention to provide an ozone generator cleaning system capable of cleaning only foreign matter on the surface of a cell by supplying a cleaning gas in a plasma form.

본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 본 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.
The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the present invention by those skilled in the art.

본 발명의 목적은 오존생성장치 세정시스템에 의해 달성될 수 있다. 본 발명의 오존생성장치 세정시스템은, 셀을 이용해 오존을 생성하며, 유입구와 배출구가 각각 형성된 오존생성장치와; 상기 오존생성장치로 플라즈마 형태의 세정가스를 공급해 상기 셀을 세정하는 플라즈마세정모듈을 포함하며, 상기 플라즈마세정모듈은, 세정가스를 공급하는 세정가스공급부와; 상기 세정가스공급부로부터 세정가스를 공급받고, 전원공급부로부터의 무선주파수 전원의 인가에 의해 상기 세정가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 원격플라즈마챔버와; 상기 원격플라즈마챔버와 상기 유입구를 연결하며, 플라즈마 형태의 세정가스를 상기 오존발생장치 내부로 공급하는 플라즈마공급관과; 상기 셀을 세정한 오염된 세정가스를 소각하여 외부로 배기하는 스크러버와; 상기 배출구와 상기 스크러버를 연결하는 플라즈마배출관을 포함하는 것을 특징으로 한다. The object of the present invention can be achieved by an ozone generator cleaning system. An ozone generator cleaning system of the present invention includes: an ozone generator that generates ozone using a cell and has an inlet and an outlet; And a plasma cleaning module for cleaning the cell by supplying a cleaning gas of a plasma type to the ozone generator, wherein the plasma cleaning module comprises: a cleaning gas supply part for supplying a cleaning gas; A remote plasma chamber that receives a cleaning gas from the cleaning gas supply and that excites the cleaning gas into a plasma state upon application of a radio frequency power from a power supply; A plasma supply pipe connecting the remote plasma chamber and the inlet port to supply a cleaning gas in a plasma form into the ozone generator; A scrubber for incinerating the polluted cleaning gas, which has been cleaned, and discharging the polluted cleaning gas to the outside; And a plasma discharge pipe connecting the discharge port and the scrubber.

일 실시예에 따르면, 상기 셀은 스테인리스 스틸과 알루미늄이 결합된 판상 재질로 구비될 수 있다. According to one embodiment, the cell may be formed of a plate-like material in which stainless steel and aluminum are combined.

일 실시예에 따르면, 상기 오존생성장치는 지지테이블의 상부에 안착되고, 상기 플라즈마세정모듈은 상기 오존발생장치와 이격되게 상기 지지테이의 상하에 걸쳐지게 배치될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the ozone generating device may be mounted on a support table, and the plasma cleaning module may be disposed above and below the supporting table to be spaced apart from the ozone generating device.

일 실시예에 따르면, 상기 플라즈마공급부의 세정가스 공급시기와 공급량, 상기 원격플라즈마챔버의 플라즈마 상태의 세정가스의 공급시기와 공급량 및 상기 스크러버의 소각온도 및 배기시기를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
According to an embodiment, the control unit may further include a control unit for controlling the supply timing and supply amount of the cleaning gas in the plasma supply unit, the supply timing and supply amount of the cleaning gas in the plasma state of the remote plasma chamber, and the burning temperature and the exhaust timing of the scrubber. have.

본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템은 원격플라즈마챔버에서 세정가스를 플라즈마 형태로 형성한 후, 오존생성장치 내부로 공급한다. 불소를 포함한 세정가스는 건식방식으로 셀 표면의 이물질을 세정하게 된다. 이에 따라 오염된 셀을 새것으로 교환하지 않고 수명이 다할때까지 사용할 수 있다. The ozone generator cleaning system according to the present invention forms a cleaning gas in a plasma state in a remote plasma chamber, and then supplies the cleaning gas into the ozone generator. The cleaning gas containing fluorine is used to dry foreign substances on the cell surface by a dry method. Therefore, contaminated cells can be used up to the end of their life without replacing them with new ones.

따라서, 셀의 교체비용을 줄여 장기적으로 오존생성장치의 관리비용을 줄일 수 있다.
Therefore, it is possible to reduce the replacement cost of the cells and to reduce the management cost of the ozone generator in the long term.

도 1은 본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템의 구성을 도시한 정면도,
도 2는 본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템의 세정과정을 개략적으로 도시한 개략도이다.
1 is a front view showing a configuration of an ozone generator cleaning system according to the present invention;
2 is a schematic view schematically illustrating a cleaning process of the ozone generator cleaning system according to the present invention.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
For a better understanding of the present invention, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention may be modified into various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. The present embodiments are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention. Therefore, the shapes and the like of the elements in the drawings can be exaggeratedly expressed to emphasize a clearer description. It should be noted that in the drawings, the same members are denoted by the same reference numerals. Detailed descriptions of well-known functions and constructions which may be unnecessarily obscured by the gist of the present invention are omitted.

도 1은 본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템(1)의 구성을 도시한 정면도이고, 도 2는 오존생성장치 세정시스템(1)의 세정과정을 개략적으로 도시한 개략도이다. FIG. 1 is a front view showing the construction of the ozone generator cleaning system 1 according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic view schematically showing the cleaning process of the ozone generator cleaning system 1.

도시된 바와 같이 본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템(1)은 오존을 생성하는 오존생성장치(100)와, 오존생성장치(100) 내부의 셀(120)을 플라즈마를 이용해 세정하는 플라즈마세정모듈(200)을 포함한다. As shown, the ozone generator cleaning system 1 according to the present invention includes an ozone generator 100 for generating ozone, a plasma cleaning module 100 for cleaning the cells 120 in the ozone generator 100 using plasma, (200).

오존세정장치()는 외부케이싱(110)과, 외부케이싱(110) 내부에 구비되어 오존을 생성하는 복수개의 셀(120)을 포함한다. 오존세정장치()는 이 외에도 셀(120)로 산소를 공급하는 산소공급부(미도시), 셀(120)에 전원을 인가하는 전원공급수단(미도시), 오존 생성을 위해 내부에 발생된 열을 냉각시키는 냉각수단(미도시)을 포함한다. The ozone cleaning apparatus includes an outer casing 110 and a plurality of cells 120 provided inside the outer casing 110 to generate ozone. (Not shown) for supplying oxygen to the cell 120, power supply means (not shown) for applying power to the cell 120, heat generated inside the cell 120 for generating ozone (Not shown) for cooling the cooling water.

외부케이싱(110)의 상부에는 플라즈마세정모듈(200)로부터 플라즈마 상태의 세정가스(P)를 공급받는 유입구(111)가 구비된다. 또한, 외부케이싱(110)의 내부의 셀(120)을 세정한 세정가스(P)를 외부로 배기하는 배출구(113)가 구비된다. An inlet 111 for supplying the plasma cleaning gas P from the plasma cleaning module 200 is provided on the upper part of the outer casing 110. Further, a discharge port 113 for exhausting the cleaning gas P having washed the cell 120 inside the outer casing 110 to the outside is provided.

셀(120)은 외부케이싱(110)의 내부에 수직한 방향으로 배치된다. 셀(120)은 스테인레스 스틸과 알루미늄과 같은 금속 판의 형태로 구비된다. 셀(120)은 두 개의 전극으로 형성된 캐패시터로 작용된다. 셀(120)을 형성하는 전극 중 적어도 하나는 얇은 유전체에 의개 커버된다. The cell 120 is disposed in a direction perpendicular to the inside of the outer casing 110. The cell 120 is provided in the form of a metal plate such as stainless steel and aluminum. The cell 120 acts as a capacitor formed by two electrodes. At least one of the electrodes forming the cell 120 is covered with a thin dielectric.

산소공급부(미도시)로부터 공급된 산소가 전극 사이로 흐르면, 전극 사이로 전기 방전이 일어나고, 광화학 및 전자효과로 인해 이온이 형성된다. 그리고, 전기 방전의 확산 결과로 오존이 생성된다. When oxygen supplied from the oxygen supply unit (not shown) flows between the electrodes, an electric discharge occurs between the electrodes, and ions are formed due to photochemical and electronic effects. Then, ozone is generated as a result of diffusion of electric discharge.

오존생성장치(100)의 외부에는 입력패널(130)이 구비된다. 사용자는 입력패널(130)을 통해 오존생성장치(100)를 조작하여 발생되는 오존량과 세기를 조절할 수 있다.
An input panel 130 is provided outside the ozone generator 100. The user can control the amount of ozone and intensity generated by operating the ozone generator 100 through the input panel 130.

플라즈마세정모듈(200)은 셀(120)을 플라즈마형태의 세정가스를 이용해 건식으로 세정한다. 이에 의해 장시간 사용에 의해 오염된 셀(120)을 교체하지 않고 세정하여 재사용하게 되므로 교체비용을 줄일 수 있다. The plasma cleaning module 200 dry-cleanes the cell 120 using a cleaning gas in the form of a plasma. As a result, the cells 120 contaminated by the use for a long period of time can be cleaned and replaced without being replaced, thereby reducing the replacement cost.

플라즈마세정모듈(200)은 세정가스를 공급하는 세정가스공급부(210)와, 세정가스(P)를 플라즈마상태로 변환하는 원격플라즈마챔버(220)와, 원격플라즈마챔버(220)에서 발생된 플라즈마상태의 세정가스를 오존생성장치(100)로 공급하는 플라즈마공급관(240)과, 오존생성장치(100) 내부에서 셀(120)을 세정한 플라즈마 세정가스(P)를 연소시켜 오염물질을 제거한 후 배출하는 스크러버(250)를 포함한다. The plasma cleaning module 200 includes a cleaning gas supply unit 210 for supplying a cleaning gas, a remote plasma chamber 220 for converting the cleaning gas P into a plasma state, a plasma state generated in the remote plasma chamber 220, And a plasma cleaning gas P in which the cell 120 is cleaned in the ozone generator 100 are burned to remove contaminants and then discharged And a scrubber 250.

플라즈마발생 방식은 세정대상이 있는 공간 내부에 직접 플라즈마를 생성하는 방식과, 세정대상이 있는 공간으로부터 이격된 곳에서 세정가스를 플라즈마 상태로 여기시킨 다음 세정가스를 공급하는 원격 플라즈마 생성방식이 있다. The plasma generation method includes a method of generating a plasma directly in a space to be cleaned and a remote plasma generation method of exciting a cleaning gas into a plasma state at a position apart from a space to be cleaned and then supplying a cleaning gas.

본 발명의 플라즈마세정모듈(200)은 원격 플라즈마 생성방식을 이용해 플라즈마 세정가스를 오존생성장치(100) 내부로 공급한다. The plasma cleaning module 200 of the present invention supplies a plasma cleaning gas into the ozone generator 100 using a remote plasma generation method.

세정가스공급부(210)는 세정가스를 원격플라즈마챔버(220)로 공급한다. 세정가스는 NF3, F2, COF2, C3F8, C4F8 등의 불소(F)가 포함된 가스 중 하나일 수 있다. 세정가스공급부(210)는 세정가스공급관(211)을 통해 원격플라즈마챔버(220)로 세정가스를 공급한다. 세정가스공급관(211)에는 세정가스공급밸브(213)가 구비되어 제어부(400)가 세정가스공급여부를 제어한다. The cleaning gas supply unit 210 supplies the cleaning gas to the remote plasma chamber 220. The cleaning gas may be one of fluorine (F) -containing gases such as NF 3 , F 2 , COF 2 , C 3 F 8 , and C 4 F 8 . The cleaning gas supply unit 210 supplies the cleaning gas to the remote plasma chamber 220 through the cleaning gas supply pipe 211. The cleaning gas supply pipe 211 is provided with a cleaning gas supply valve 213 to control the supply of the cleaning gas to the control unit 400.

원격플라즈마챔버(220)는 세정가스공급관(211)으로부터 공급받은 세정가스에 무선주파수를 인가하여 세정가스를 플라즈마 상태로 여기시킨다. 원격플라즈마챔버(220)에는 전원공급부(223)가 연결되어 무선주파수 전원을 공급한다. The remote plasma chamber 220 applies a radio frequency to the cleaning gas supplied from the cleaning gas supply pipe 211 to excite the cleaning gas into a plasma state. A power supply 223 is connected to the remote plasma chamber 220 to supply radio frequency power.

여기서, 원격플라즈마챔버(220)의 표면에는 표시창(221)이 구비되어 사용자가 외부에서 플라즈마 발생여부를 육안으로 확인할 수 있다.
Here, a display window 221 is provided on the surface of the remote plasma chamber 220 so that the user can visually confirm whether plasma is generated from the outside.

원격플라즈마챔버(220)는 오존생성장치(100)와 플라즈마공급관(240)으로 연결된다. 플라즈마공급관(240)의 경로상에는 플라즈마공급밸브(241)가 구비된다. 플라즈마공급밸브(241)는 제어부(400)의 제어에 의해 개폐된다. 원격플라즈마챔버(220)에는 공급펌프(230)가 연결되어 플라즈마상태의 세정가스를 플라즈마공급관(240)으로 공급한다.
The remote plasma chamber 220 is connected to the ozone generator 100 and the plasma supply pipe 240. A plasma supply valve 241 is provided on the path of the plasma supply pipe 240. The plasma supply valve 241 is opened and closed under the control of the control unit 400. A supply pump 230 is connected to the remote plasma chamber 220 to supply a cleaning gas in a plasma state to the plasma supply pipe 240.

한편, 오존생성장치(100)의 하부에는 스크러버(250)가 구비된다. 스크러버(250)는 오존생성장치(100) 내부의 셀(120)을 세정한 후 배출되는 오염된 플라즈마 가스를 연소한 후, 오염물질이 소각된 세정가스를 배기한다. Meanwhile, a scrubber 250 is provided below the ozone generator 100. The scrubber 250 cleans the cell 120 in the ozone generator 100 and then burns the contaminated plasma gas, and then exhausts the cleaning gas in which the contaminants are incinerated.

스크러버(250)의 일측에는 배기펌프(260)가 구비되어 오존생성장치(100) 내부의 오염된 플라즈마 가스가 배출구(113)를 통해 플라즈마배출관(251)으로 이동되도록 한다. An exhaust pump 260 is provided at one side of the scrubber 250 to allow the contaminated plasma gas in the ozone generator 100 to be moved to the plasma discharge pipe 251 through the discharge port 113.

스크러버(250)는 800~1000℃의 고온으로 오염된 플라즈마 가스를 연소시켜 오염된 플라즈마 가스에 포함된 유해물질을 소각한다.
The scrubber 250 burns a plasma gas contaminated at a high temperature of 800 to 1000 ° C to incinerate harmful substances contained in the contaminated plasma gas.

지지테이블(300)은 오존생성장치(100)와 플라즈마세정모듈(200)을 안정적으로 지지한다. 오존생성장치(100)는 지지테이블(300)의 상면에 안착되고, 플라즈마세정모듈(200)은 지지테이블(300)의 상부와 하부를 가로지르게 배치된다. 지지테이블(300)의 하부를 통해 세정가스공급관(211)이 원격플라즈마챔버(220)와 오존생성장치(100)를 연결한다.
The support table 300 stably supports the ozone generator 100 and the plasma cleaning module 200. The ozone generator 100 is mounted on the upper surface of the support table 300 and the plasma cleaning module 200 is disposed across the upper and lower portions of the support table 300. A cleaning gas supply pipe 211 connects the remote plasma chamber 220 and the ozone generator 100 through a lower portion of the support table 300.

제어부(400)는 플라즈마세정모듈(200)이 오존생성장치(100)를 세정하도록 제어한다. 제어부(400)는 플라즈마세정모듈(200)의 세정주기와 세정량 등을 제어한다. 이를 위해 제어부(400)는 세정가스공급밸브(213)의 개폐를 조절하여 세정가스공급부(210)가 원격플라즈마챔버(220)로 세정가스를 공급하는 시기, 공급량 등을 조절한다. The controller 400 controls the plasma cleaning module 200 to clean the ozone generator 100. The controller 400 controls the cleaning cycle and cleaning amount of the plasma cleaning module 200. The control unit 400 adjusts the opening and closing of the cleaning gas supply valve 213 so that the cleaning gas supply unit 210 adjusts timing and supply amount of the cleaning gas to the remote plasma chamber 220.

또한, 제어부(400)는 원격플라즈마챔버(220)에서 발생된 플라즈마상태의 세정가스가 오존생성장치(100)로 공급되는 공급시기와 공급량을 제어한다. 이를 위해 제어부(400)는 전원공급부(223)의 무선주파수를 제어하고, 플라즈마공급밸브(241)의 개폐를 조절한다. In addition, the controller 400 controls the supply timing and supply amount of the plasma gas in the plasma state generated in the remote plasma chamber 220 to the ozone generator 100. To this end, the control unit 400 controls the radio frequency of the power supply unit 223 and controls the opening and closing of the plasma supply valve 241.

또한, 제어부(400)는 배기펌프(260)를 제어하여, 오존생성장치(100) 내부의 셀(120)과 접촉하여 오염된 플라즈마 세정가스가 외부로 배기되도록 한다. 그리고, 스크러버(250)의 연소온도를 조절하여 유해물질이 소각되도록 한다. The control unit 400 also controls the exhaust pump 260 to contact the cell 120 in the ozone generator 100 to exhaust the polluted plasma cleaning gas to the outside. Then, the combustion temperature of the scrubber 250 is adjusted to burn the harmful substances.

여기서, 제어부(400)는 노트북이나 태블릿 PC와 같은 기기로 구비될 수 있다.
Here, the control unit 400 may be provided as a device such as a notebook computer or a tablet PC.

이러한 구성을 갖는 본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템(1)의 동작과정을 도 1과 도 2를 참조하여 설명한다. The operation of the ozone generator cleaning system 1 according to the present invention having such a configuration will be described with reference to Figs. 1 and 2. Fig.

세정을 위해 작업자는 오존생성장치(100)에 플라즈마세정모듈(200)을 결합시킨다. 외부케이싱(110)의 유입구(111)에 플라즈마공급관(240)을 결합하고, 배출구(113)에 플라즈마배출관(251)을 결합한다. 유입구(111)와 배출구(113) 영역에는 기밀유지를 위해 실링부재가 결합된다. The operator joins the plasma cleaning module 200 to the ozone generator 100 for cleaning. A plasma supply pipe 240 is coupled to the inlet 111 of the outer casing 110 and a plasma discharge pipe 251 is connected to the discharge port 113. In the region of the inlet 111 and the outlet 113, a sealing member is combined to maintain airtightness.

오존생성장치(100)를 이용해 오존을 발생할 때는 플라즈마세정모듈(200)은 동작하지 않고 정지된다. 일정 기간 동안 오존생성장치(100)가 오존을 생성하고, 이에 따라 외부케이싱(110) 내부에 구비된 셀(120)의 표면에 이물질이 쌓이면 제어부(400)는 플라즈마세정모듈(200)을 동작시킨다. When ozone is generated using the ozone generator 100, the plasma cleaning module 200 is not operated and is stopped. When the ozone generator 100 generates ozone for a predetermined period of time and thus foreign matter accumulates on the surface of the cell 120 provided in the outer casing 110, the controller 400 operates the plasma cleaning module 200 .

세정가스공급밸브(213)가 개방되고 세정가스공급부(210)로부터 세정가스가 원격플라즈마챔버(220)로 공급된다. 전원공급부(223)에 의해 무선주파수가 인가되고, 원격플라즈마챔버(220) 내부에서 세정가스가 라디칼 형태로 여기되며 플라즈마화된다. The cleaning gas supply valve 213 is opened and the cleaning gas is supplied from the cleaning gas supply unit 210 to the remote plasma chamber 220. A radio frequency is applied by the power supply unit 223, and the cleaning gas is excited in the form of a radical in the remote plasma chamber 220 and plasmaized.

NF3, F2, COF2, C3F8, C4F8 등의 불소(F)가 포함된 플라즈마 세정가스는 플라즈마공급밸브(241)의 개방에 의해 공급펌프(230)의 공급압력에 의해 오존생성장치(100) 내부로 공급된다. The plasma cleaning gas containing fluorine (F) such as NF 3 , F 2 , COF 2 , C 3 F 8 and C 4 F 8 is supplied to the supply pressure of the supply pump 230 by opening of the plasma supply valve 241 And is supplied to the inside of the ozone generator 100.

플라즈마 상태의 세정가스는 셀(120) 표면에 부착된 이물질 들을 세정한다. 이물질을 세정하며, 오염된 플라즈마 세정가스는 배기펌프(260)의 배기압에 의해 배출구(113)를 통해 스크러버(250)로 배기된다. The cleaning gas in the plasma condition cleans impurities attached to the surface of the cell 120. The contaminated plasma cleaning gas is exhausted to the scrubber 250 through the exhaust port 113 by the exhaust pressure of the exhaust pump 260.

스크러버(250)는 플라즈마 세정가스를 집진한 후, 900℃의 고온으로 소각하여 오염된 플라즈마 세정가스에 포함된 유해물질을 제거한다. 유해물질이 제거된 배기가스는 외부로 배출된다. The scrubber 250 collects the plasma cleaning gas and then burns it at a high temperature of 900 ° C to remove harmful substances contained in the contaminated plasma cleaning gas. The exhaust gas from which harmful substances have been removed is discharged to the outside.

셀(120)의 세정이 완료되면 플라즈마세정모듈(200)은 동작이 멈추고, 오존생성장치(100)는 다시 오존을 생성한다.
When the cleaning of the cell 120 is completed, the plasma cleaning module 200 stops operating, and the ozone generator 100 again generates ozone.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 오존생성장치 세정시스템은 원격플라즈마챔버에서 세정가스를 플라즈마 형태로 형성한 후, 오존생성장치 내부로 공급한다. 불소를 포함한 세정가스는 건식방식으로 셀 표면의 이물질을 세정하게 된다. 이에 따라 오염된 셀을 새것으로 교환하지 않고 수명이 다할때까지 사용할 수 있다. As described above, in the ozone generator cleaning system according to the present invention, a cleaning gas is formed in a plasma state in a remote plasma chamber, and then supplied into the ozone generator. The cleaning gas containing fluorine is used to dry foreign substances on the cell surface by a dry method. Therefore, contaminated cells can be used up to the end of their life without replacing them with new ones.

따라서, 셀의 교체비용을 줄여 장기적으로 오존생성장치의 관리비용을 줄일 수 있다. Therefore, it is possible to reduce the replacement cost of the cells and to reduce the management cost of the ozone generator in the long term.

이상에서 설명된 본 발명의 오존생성장치 세정시스템의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
The embodiments of the ozone generator cleaning system of the present invention described above are merely illustrative, and those skilled in the art will appreciate that various modifications and equivalent embodiments are possible without departing from the scope of the present invention. You will know very well. Therefore, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

1 : 오존생성장치 세정시스템 100 : 오존생성장치
110 : 외부케이싱 111 : 유입구
113 : 배출구 120 : 셀
130 : 입력패널 200 : 플라즈마세정모듈
210 : 세정가스공급부 211 : 세정가스공급관
213 : 세정가스공급밸브 220 : 원격플라즈마챔버
221 : 표시창 223 : 전원공급부
230 : 공급펌프 240 : 플라즈마공급관
241 : 플라즈마공급밸브 250 : 스크러버
251 : 플라즈마배출관 260 : 배기펌프
300 : 지지테이블 400 : 제어부
1: ozone generator cleaning system 100: ozone generator
110: outer casing 111: inlet
113: outlet 120: cell
130: Input panel 200: Plasma cleaning module
210: cleaning gas supply unit 211: cleaning gas supply pipe
213: Cleaning gas supply valve 220: Remote plasma chamber
221: display window 223: power supply unit
230: Feed pump 240: Plasma feed pipe
241: Plasma supply valve 250: Scrubber
251: Plasma exhaust pipe 260: Exhaust pump
300: Support table 400:

Claims (4)

셀을 이용해 오존을 생성하며, 유입구와 배출구가 각각 형성된 오존생성장치와;
상기 오존생성장치로 플라즈마 형태의 세정가스를 공급해 상기 셀을 세정하는 플라즈마세정모듈을 포함하며,
상기 플라즈마세정모듈은,
세정가스를 공급하는 세정가스공급부와;
상기 세정가스공급부로부터 세정가스를 공급받고, 전원공급부로부터의 무선주파수 전원의 인가에 의해 상기 세정가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 원격플라즈마챔버와;
상기 원격플라즈마챔버와 상기 유입구를 연결하며, 플라즈마 형태의 세정가스를 상기 오존발생장치 내부로 공급하는 플라즈마공급관과;
상기 셀을 세정한 오염된 세정가스를 소각하여 외부로 배기하는 스크러버와;
상기 배출구와 상기 스크러버를 연결하는 플라즈마배출관을 포함하는 것을 특징으로 하는 오존발생장치 세정시스템.
An ozone generating device which generates ozone by using the cell and has an inlet and an outlet respectively;
And a plasma cleaning module for cleaning the cells by supplying a plasma cleaning gas to the ozone generator,
The plasma cleaning module includes:
A cleaning gas supply unit for supplying a cleaning gas;
A remote plasma chamber that receives a cleaning gas from the cleaning gas supply and that excites the cleaning gas into a plasma state upon application of a radio frequency power from a power supply;
A plasma supply pipe connecting the remote plasma chamber and the inlet port to supply a cleaning gas in a plasma form into the ozone generator;
A scrubber for incinerating the polluted cleaning gas, which has been cleaned, and discharging the polluted cleaning gas to the outside;
And a plasma discharge pipe connecting the discharge port and the scrubber.
제1항에 있어서,
상기 셀은 스테인리스 스틸과 알루미늄이 결합된 판상 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 오존발생장치 세정시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the cell is made of a plate-like material in which stainless steel and aluminum are combined.
제2항에 있어서,
상기 오존생성장치는 지지테이블의 상부에 안착되고,
상기 플라즈마세정모듈은 상기 오존발생장치와 이격되게 상기 지지테이의 상하에 걸쳐지게 배치되는 것을 특징으로 하는 오존발생장치 세정시스템.
3. The method of claim 2,
The ozone generating device is seated on the upper portion of the support table,
Wherein the plasma cleaning module is disposed above and below the supporting table so as to be spaced apart from the ozone generating device.
제3항에 있어서,
상기 플라즈마공급부의 세정가스 공급시기와 공급량, 상기 원격플라즈마챔버의 플라즈마 상태의 세정가스의 공급시기와 공급량 및 상기 스크러버의 소각온도 및 배기시기를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오존발생장치 세정시스템.

The method of claim 3,
Further comprising a control unit for controlling the supply timing and supply amount of the cleaning gas in the plasma supply unit, the supplying timing and supply amount of the cleaning gas in the plasma state of the remote plasma chamber, and the burning temperature and exhaust timing of the scrubber. Cleaning system.

KR1020150056428A 2015-04-22 2015-04-22 Cleaning system for ozone generating system KR20160125684A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150056428A KR20160125684A (en) 2015-04-22 2015-04-22 Cleaning system for ozone generating system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150056428A KR20160125684A (en) 2015-04-22 2015-04-22 Cleaning system for ozone generating system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160125684A true KR20160125684A (en) 2016-11-01

Family

ID=57484784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150056428A KR20160125684A (en) 2015-04-22 2015-04-22 Cleaning system for ozone generating system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20160125684A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200091246A (en) * 2019-01-22 2020-07-30 (주) 알에프티에스아이 Ozone generating device and ozone cell cleaning device
CN113518510A (en) * 2020-04-10 2021-10-19 南通深南电路有限公司 PCB glue removing device and method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200091246A (en) * 2019-01-22 2020-07-30 (주) 알에프티에스아이 Ozone generating device and ozone cell cleaning device
CN113518510A (en) * 2020-04-10 2021-10-19 南通深南电路有限公司 PCB glue removing device and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101995211B1 (en) Exhaust gas processing device
NL1033983A1 (en) Device for generating extreme ultraviolet radiation by means of electrical discharge on regenerable electrodes.
TW200802589A (en) Apparatus for cleaning exhaust part and vacuum pump of reaction chamber for semiconductor device and LCD manufacturing equipment
KR20160125684A (en) Cleaning system for ozone generating system
KR101226603B1 (en) Apparatus for treating hazardous gas using counterflow of plasma and hazardous gas, method for treating hazardous gas using the same
KR101959165B1 (en) Plasma waste gas processing apparatus and system
JP2000260396A (en) Excimer lamp, excimer irradiation device, and organic compond decomposition method
JP4570506B2 (en) Plasma detoxifier and exhaust gas treatment system using the plasma detoxifier
KR20180018716A (en) Optical processing apparatus and optical processing method
JP2015076395A (en) Plasma torch nozzle
KR102319002B1 (en) Water treatment apparatus using plasma for generating a sterilizing water
KR100404342B1 (en) Ultraviolet Irradiation Apparatus
JP2010240595A (en) Waste gas detoxification apparatus
KR102167894B1 (en) Ozone generating device and ozone cell cleaning device
JP4596433B2 (en) Contamination particle processing equipment
KR100921702B1 (en) Waste gas treatment device equipped with auxiliary heat treatment unit
JP6549344B1 (en) Exhaust gas abatement system
US20100193419A1 (en) Normal-Pressure Plasma-Based Apparatus for Processing Waste Water by Mixing the Waste Water with Working Gas
JP4631597B2 (en) Photocatalyst-coated gate valve and vacuum processing apparatus equipped with the same
KR100840481B1 (en) Powder removing device of exhaust line of semiconductor process equipment
KR100783793B1 (en) Perfluorocarbon Gas Treatment System
WO2022101981A1 (en) Gas processing furnace and exhaust gas processing device in which same is used
JP2006224066A (en) Control method of plazma harmful material removing machine and device using it
JP2008296152A (en) Scrubber apparatus
KR20120055778A (en) Plasma melting system using steam plasma torch and driving method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20150422

PA0201 Request for examination
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20160906

Patent event code: PE09021S01D

PG1501 Laying open of application
E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20170404

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

Patent event date: 20160906

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I