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KR20160083449A - Organic Light Emitting Display Device - Google Patents

Organic Light Emitting Display Device Download PDF

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KR20160083449A
KR20160083449A KR1020140194913A KR20140194913A KR20160083449A KR 20160083449 A KR20160083449 A KR 20160083449A KR 1020140194913 A KR1020140194913 A KR 1020140194913A KR 20140194913 A KR20140194913 A KR 20140194913A KR 20160083449 A KR20160083449 A KR 20160083449A
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KR
South Korea
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tft
light emitting
organic light
hole
sense
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KR1020140194913A
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Inventor
정기영
고성민
정원준
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엘지디스플레이 주식회사
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Publication date
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Abstract

The present invention relates to an organic light emitting display device capable of preventing a dim spot malfunction, which is caused by erosion of an active layer, by separating an interlayer insulating film hole from a protective film hole. A plurality of pixels arranged in the organic light emitting display device is defined by a data line, a driving power line, and a reference voltage line which are arranged in a first direction; and a scan signal line, and a sense signal line which are arranged in a second direction. An organic light emitting diode and a pixel circuit for driving the organic light emitting diode are arranged in each of pixels. The pixel circuit includes: a scan thin film transistor (TFT), a driving TFT, a sense TFT, and a storage capacitor. A first insulating layer hole, which connects the sense TFT and the storage capacitor, is separated from a second insulating layer hole.

Description

유기발광 디스플레이 장치{Organic Light Emitting Display Device}[0001] The present invention relates to an organic light emitting display device,

본 발명은 액티브층의 침식에 의한 암점 불량을 방지한 유기발광 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display device that prevents a defect in a dark spot caused by erosion of an active layer.

유기발광 다이오드(OLED)를 발광시켜 화상을 표시하는 유기발광 디스플레이 장치는 구동방식에 따라 수동 매트릭스(Passive Matrix) 방식과 능동 매트릭스(Active Matrix) 방식으로 나눌 수 있다.An organic light emitting display device which displays an image by emitting an organic light emitting diode (OLED) can be divided into a passive matrix method and an active matrix method according to a driving method.

수동 매트릭스 방식은 별도의 박막 트랜지스터(thin film transistor, 이하 'TFT'라 함)를 구비하지 않으면서 매트릭스 형태로 픽셀이 배열된 구성을 포함하며, 소비전력이 높아지게 되고 해상도 면에서도 한계가 있다.The passive matrix method includes a configuration in which pixels are arranged in a matrix form without a separate thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT), and power consumption is increased and resolution is also limited.

반면에, 상기 능동 매트릭스 방식은 매트릭스 형태로 배열된 픽셀 각각에 TFT가 형성된 구성을 포함하며, TFT의 스위칭 구동과 스토리지 커패시터(Cst)의 전압 충전에 의해 각각의 픽셀을 구동한다.On the other hand, the active matrix method includes a configuration in which TFTs are formed in each of the pixels arranged in a matrix form, and drives each pixel by the switching operation of the TFT and the voltage charging of the storage capacitor Cst.

따라서, 소비전력이 낮고 해상도 면에서도 수동 매트릭스 방식과 대비하여 이점이 있다. 고해상도 및 대면적을 요구하는 표시소자에는 능동 매트릭스 방식의 유기발광소자가 적합하다. 참고로, 이하 본 명세서에서는 '능동 매트릭스 방식의 유기발광 디스플레이 장치를 간략하게 '유기발광 디스플레이 장치'로 칭하도록 한다.Therefore, power consumption is low and resolution is advantageous compared with the passive matrix method. An organic light emitting element of the active matrix type is suitable for a display element requiring a high resolution and a large area. Hereinafter, an active matrix organic light emitting display device will be briefly referred to as an organic light emitting display device in the present specification.

도 1은 종래 기술에 따른 유기발광 디스플레이 장치의 픽셀 구조를 설명하기 위한 도면이다. 도 1에서는 유기발광 디스플레이 장치의 전체 픽셀들 중에서 하나의 픽셀을 도시하고 있다.1 is a view for explaining a pixel structure of an organic light emitting display device according to the related art. 1 shows one pixel among all the pixels of the organic light emitting display device.

도 1을 참조하면, 디스플레이 패널의 각 픽셀은 입력되는 데이터 전류(Ioled)에 의해 발광하는 유기발광 다이오드(OLED)가 배치된 발광부(EA) 및 상기 유기발광 다이오드(OLED)를 구동시키기 위한 픽셀 회로가 배치된 구동 회로부(CA)를 포함한다.1, each pixel of the display panel includes a light emitting portion EA in which an organic light emitting diode (OLED) emitting light by an input data current Ioled is disposed, and a light emitting portion EA for driving the organic light emitting diode OLED And a drive circuit unit (CA) in which a circuit is disposed.

디스플레이 패널에는 상기 유기발광 다이오드(OLED)와 픽셀 회로에 구동 전원 및 신호를 공급하기 위한 복수의 라인의 라인들은 데이터 라인(10), VDD 라인(20), 기준전압 라인(30), 스캔신호 라인(40), 센스신호 라인(50)을 포함한다.In the display panel, a plurality of lines for supplying driving power and signals to the organic light emitting diode (OLED) and the pixel circuit are connected to the data line 10, the VDD line 20, the reference voltage line 30, (40), and a sense signal line (50).

도 1에서는 3Tr-1Cap으로 구성된 내부 보상 방식의 픽셀 회로를 도시하고 있다. 픽셀 회로는 드라이빙 TFT(60), 스캔 TFT(70), 센스 TFT(80) 및 스토리지 커패시터(90)를 포함한다.FIG. 1 shows a pixel circuit of an internal compensation system composed of 3Tr-1 Cap. The pixel circuit includes a driving TFT 60, a scan TFT 70, a sense TFT 80, and a storage capacitor 90.

여기서, 센스 TFT(80)의 게이트 전극은 센스신호 라인(50)과 접속되어 있고, 센스 TFT(80)의 제1 전극은 스토리지 커패시터(80)와 접속되어 있고, 센스 TFT(80)의 제2 전극은 기준전압 라인(30)과 접속되어 있다.Here, the gate electrode of the sense TFT 80 is connected to the sense signal line 50, the first electrode of the sense TFT 80 is connected to the storage capacitor 80, and the second electrode of the sense TFT 80 The electrodes are connected to the reference voltage line 30.

도 2는 도 1에 도시된 A 부분을 확대하여 나타내는 도면 및 A 부분의 단면도이다.Fig. 2 is an enlarged view of a portion A shown in Fig. 1 and a sectional view of a portion A of Fig.

도 2를 참조하면, 센스 TFT(80)의 제1 전극에서 ITO로 연장된 라인과 스토리지 커패시터(90)가 접속된 부분을 도시하고 있다.Referring to FIG. 2, a line extending from the first electrode of the sense TFT 80 to the ITO and a portion where the storage capacitor 90 is connected are shown.

버퍼층(91) 상에는 액티브층(92)이 배치되어 있고, 액티브층(92)을 덮도록 층간절연막(93, ILD: Inter Layer Dielectric)이 배치되어 있다. 층간절연막(93) 상에는 소스/드레인 메탈층(94)이 배치되고, 소스/드레인 메탈층(94)을 덮도록 보호막(95)이 배치되어 있다.An active layer 92 is disposed on the buffer layer 91 and an interlayer insulating film 93 (ILD: Interlayer Dielectric) is disposed to cover the active layer 92. A source / drain metal layer 94 is disposed on the interlayer insulating film 93 and a protective film 95 is disposed to cover the source / drain metal layer 94.

센스 TFT(80)의 제1 전극과 스토리지 커패시터(90)를 접속시키기 위해서, 액티브층(92)과 중첩된 부분의 층간절연막(93)을 제거하여 층간절연막 홀(ILD hole)을 형성한다. 그리고, 층간절연막 홀(ILD hole)과 중첩된 부분의 보호막(95)을 제거하여 보호막 홀(PAS hole)을 형성한다.An ILD hole is formed by removing the interlayer insulating film 93 which overlaps the active layer 92 in order to connect the storage capacitor 90 to the first electrode of the sense TFT 80. [ Then, a protective film 95 overlying the interlayer insulating film hole (ILD hole) is removed to form a PAS hole.

이와 같이, 층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole)이 중첩되도록 배치되어 있다. 제조 공정에서 층간절연막 홀(ILD hole)을 형성한 후, 보호막 홀(PAS hole)을 형성할 때 하부에 배치된 액티브층(92)에 침식이 발생하는 문제점이 있다.In this manner, the interlayer insulating film hole (ILD hole) and the PAS hole are arranged so as to overlap with each other. There is a problem that erosion occurs in the active layer 92 disposed below when an interlayer insulating film hole (ILD hole) is formed in a manufacturing process and a PAS hole is formed.

층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole)이 중첩되도록 배치된 구조에서, 보호막 홀(PAS hole)을 형성할 때 이용되는 에천트(etchant)가 층간절연막 홀(ILD hole) 하부로 침투하여, 층간절연막(93)이 유실되고 액티브층(92)이 침식되게 된다.In the structure in which the ILD hole and the PAS hole are overlapped with each other, etchant used for forming the PAS hole penetrates the ILD hole under the interlayer insulating film hole The interlayer insulating film 93 is lost and the active layer 92 is eroded.

이러한, 층간절연막 홀(ILD hole)이 유실과 액티브층(92)이 침식된 픽셀은 유기발광 다이오드(OLED)가 정상적으로 발광할 수 없어 암점 불량이 발생하는 문제점이 있다.The pixels in which the interlayer insulating film hole (ILD hole) is leaked and the active layer 92 is eroded have a problem that the organic light emitting diode OLED can not normally emit light, resulting in a defective pixel.

이상 설명한 배경기술에 기재된 픽셀 구조 및 층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole)의 배치 구조는 본 출원의 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The pixel structure and the arrangement structure of the interlayer insulating film hole (ILD hole) and the PAS hole described in the background art described above can be obtained by the inventors of the present application for the purpose of deriving the present invention, As a technical information, it is not necessarily a known technology disclosed to the general public before the application of the present invention.

본 발명은 앞에서 설명한 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 액티브층의 침식에 의한 암점 불량을 방지한 유기발광 디스플레이 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an organic light emitting display device which prevents erosion of an active layer to prevent a defect in a dark spot.

위에서 언급된 본 발명의 기술적 과제 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Other features and advantages of the invention will be set forth in the description which follows, or may be obvious to those skilled in the art from the description and the claims.

앞에서 설명한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치에 배치된 복수의 픽셀은 제1 방향으로 배치된 데이터 라인, 구동전원 라인, 기준전압 라인 및 제2 방향으로 배치된 스캔신호 라인, 센스신호 라인에 의해 정의된다. 상기 복수의 픽셀 각각에는 유기발광 다이오드 및 상기 유기발광 다이오드를 구동시키기 위한 픽셀 회로가 배치되어 있고, 상기 픽셀 회로는 스캔 TFT(thin film transistor), 드라이빙 TFT, 센스 TFT 및 스토리지 커패시터를 포함한다. 센스 TFT와 상기 스토리지 커패시터를 접속시키는 제1 절연층 홀과 제2 절연층 홀이 이격되도록 배치되어 있다.According to an embodiment of the present invention, a plurality of pixels arranged in an OLED display device includes a data line arranged in a first direction, a driving power line, a reference voltage line, Signal lines, and sense signal lines. Each of the plurality of pixels is provided with an organic light emitting diode and a pixel circuit for driving the organic light emitting diode, and the pixel circuit includes a thin film transistor (TFT), a driving TFT, a sense TFT and a storage capacitor. The first insulating layer hole and the second insulating layer hole for connecting the sense TFT and the storage capacitor are spaced apart from each other.

본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치는 층간 절연막 홀과 보호막 홀을 이격되도록 배치하여 액티브층의 침식에 의한 암점 불량을 방지할 수 있다.The organic light emitting display device according to the embodiment of the present invention can arrange the interlayer insulating film hole and the protective film hole so as to be spaced apart from each other to prevent the defect of the dark spot due to the erosion of the active layer.

본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치는 층간 절연막 홀과 보호막 홀을 이격되도록 배치하여 층간 절연막의 유실을 방지할 수 있다.The organic light emitting display device according to the embodiment of the present invention can prevent the loss of the interlayer insulating layer by disposing the interlayer insulating layer hole and the protective layer hole apart from each other.

위에서 언급 된 본 발명의 특징 및 효과들 이외에도 본 발명의 실시 예들을 통해 본 발명의 또 다른 특징 및 효과들이 새롭게 파악 될 수도 있을 것이다.Other features and effects of the present invention may be newly understood through the embodiments of the present invention in addition to the features and effects of the present invention mentioned above.

도 1은 종래 기술에 따른 유기발광 디스플레이 장치의 픽셀 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 A 부분을 확대하여 나타내는 도면 및 A 부분의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치이의 픽셀 구조를 나타내는 도면이다.
도 4는 도 3에 도시된 B 부분을 확대하여 나타내는 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 B1-B2 선에 따른 단면도이다.
1 is a view for explaining a pixel structure of an organic light emitting display device according to the related art.
Fig. 2 is an enlarged view of a portion A shown in Fig. 1 and a sectional view of a portion A of Fig.
3 is a diagram illustrating a pixel structure of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged view of a portion B shown in Fig.
5 is a cross-sectional view taken along the line B1-B2 shown in Fig.

명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명의 핵심 구성과 관련이 없는 경우 및 본 발명의 기술분야에 공지된 구성과 기능에 대한 상세한 설명은 생략될 수 있다.Like reference numerals throughout the specification denote substantially identical components. In the following description, detailed descriptions of configurations and functions known in the technical field of the present invention and those not related to the core configuration of the present invention can be omitted.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to a person skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. It should be noted that, in the specification of the present invention, the same reference numerals as in the drawings denote the same elements, but they are numbered as much as possible even if they are shown in different drawings.

본 발명의 실시 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. In the case where the word 'includes', 'having', 'done', etc. are used in this specification, other parts can be added unless '~ only' is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if the temporal relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., May not be continuous unless they are not used.

'적어도 하나'의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, '제1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나'의 의미는 제1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.The term " at least one " should be understood to include all possible combinations from one or more related items. For example, the meaning of 'at least one of the first item, the second item and the third item' means not only the first item, the second item or the third item, but also the second item, the second item and the third item, Means any combination of items that can be presented from more than one.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

본 발명의 여러 실시 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other, partially or wholly, technically various interlocking and driving, and that the embodiments may be practiced independently of each other, It is possible.

도면을 참조한 설명에 앞서, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치는 디스플레이 패널 및 구동 회로부를 포함하여 구성된다.Before describing the drawings, an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention includes a display panel and a driving circuit.

구동 회로부는 데이터 드라이버, 게이트 드라이버, 타이밍 컨트롤러, 메모리 및 전원 공급부를 포함하며, 복수의 구동집적회로(Drive IC)가 실장된 인쇄회로기판 및 COF(Chip on Film)에 형성된다. FOG(Film on Glass)를 이용하여 디스플레이 패널에 전원 및 구동신호를 공급한다.The driving circuit unit includes a data driver, a gate driver, a timing controller, a memory, and a power supply unit, and is formed on a printed circuit board and a chip on film (COF) on which a plurality of driving ICs are mounted. And supplies power and driving signals to the display panel using FOG (Film on Glass).

디스플레이 패널은 복수의 픽셀이 매트릭스 형태로 배열되어 화상이 표시되는 액티브 영역(active area)과, 복수의 링크 라인 및 로그 라인들이 형성된 비 표시 영역(non-display area)을 포함한다.The display panel includes an active area in which a plurality of pixels are arranged in a matrix form to display an image, and a non-display area in which a plurality of link lines and log lines are formed.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치의 픽셀 구조를 나타내는 도면이다.3 is a diagram illustrating a pixel structure of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도면에 도시하지 않았지만 하나의 단위 픽셀은 4색의 RWBG픽셀로 구성될 수 있으며, 도 3에서는 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치의 전체 픽셀들 중에서 하나의 픽셀 구조를 도시하고 있다.Although not shown in the figure, one unit pixel may be composed of four color RWBG pixels, and FIG. 3 illustrates one pixel structure among all the pixels of the organic light emitting display device according to the embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치(100)의 각 픽셀은 입력되는 데이터 전류(Ioled)에 의해 발광하는 유기발광 다이오드(OLED)가 배치된 발광부(EA) 및 상기 유기발광 다이오드(OLED)를 구동시키기 위한 픽셀 회로가 배치된 구동 회로부(CA)를 포함한다.Referring to FIG. 3, each pixel of the organic light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention includes a light emitting portion EA having an organic light emitting diode (OLED) emitting light by an input data current Ioled, And a driving circuit unit (CA) having a pixel circuit for driving the organic light emitting diode (OLED).

디스플레이 패널의 TFT 어레이 기판에는 유기발광 다이오드(OLED)와 픽셀 회로에 구동 전원 및 신호를 공급하기 위한 복수의 라인들이 배치되어 있다.A plurality of lines for supplying driving power and signals to the organic light emitting diode (OLED) and the pixel circuit are disposed on the TFT array substrate of the display panel.

복수의 라인들은 데이터 라인(110), VDD 라인(120), 기준전압 라인(130), 스캔신호 라인(140), 센스신호 라인(150)을 포함한다. The plurality of lines includes a data line 110, a VDD line 120, a reference voltage line 130, a scan signal line 140, and a sense signal line 150.

여기서, 데이터 라인(110), 스캔신호 라인(140) 및 센스신호 라인(150)은 픽셀마다 형성될 수 있다. 반면, VDD 라인(120) 및 기준전압 라인(130)은 하나의 단위 픽셀 또는 복수의 단위 픽셀마다 형성될 수 있다.Here, the data line 110, the scan signal line 140, and the sense signal line 150 may be formed for each pixel. On the other hand, the VDD line 120 and the reference voltage line 130 may be formed for one unit pixel or for a plurality of unit pixels.

하나의 단위 픽셀이 4색의 레드, 화이트, 블루 및 그린(RWBG) 픽셀로 구성되고, 각 픽셀의 데이터 라인(110)은 수직 방향으로 배치되어 있다.One unit pixel is composed of red, white, blue and green (RWBG) pixels of four colors, and the data line 110 of each pixel is arranged in the vertical direction.

VDD 라인(120)은 2개의 단위 픽셀 사이에 공통으로 수직 방향으로 배치되어 있고, 각 픽셀로 VDD 전압이 공급되도록 가로 방향으로 분기되어 있다. 도 3에서는 하나의 픽셀을 도시하고 있어, VDD 라인(120)이 세로 방향으로 배치된 부분은 도시되지 않았다.The VDD line 120 is arranged in the vertical direction in common between the two unit pixels, and is branched in the horizontal direction so that the VDD voltage is supplied to each pixel. In FIG. 3, one pixel is shown, and the portion where the VDD line 120 is arranged in the vertical direction is not shown.

수직으로 형성된 VDD 라인(120)이 수평방향으로 분기되어 드라이빙 TFT(160)와 접속되고, 드라이빙 TFT(160)에 구동전원(VDD)이 공급된다.The vertically formed VDD line 120 is branched in the horizontal direction to be connected to the driving TFT 160 and the driving power supply VDD is supplied to the driving TFT 160. [

기준전압 라인(130)은 수직 방향으로 배치되어 있고, 하나의 단위 픽셀에 공통으로 기준전압 라인(130)이 배치되어 될 수 있다. 기준전압 라인(130)은 단위 픽셀의 중앙부에 배치될 수 있다.The reference voltage line 130 is arranged in the vertical direction, and the reference voltage line 130 may be disposed in common to one unit pixel. The reference voltage line 130 may be disposed at the center of the unit pixel.

스캔신호 라인(140)은 수평 방향으로 배치되고, 스토리지 커패시터(190)의 아래에 배치되어 있다. 센스신호 라인(150)은 수평 방향으로 배치되고, 스캔신호 라인(140)의 아래에 배치되어 있다.The scan signal lines 140 are arranged in the horizontal direction and disposed under the storage capacitor 190. The sense signal lines 150 are arranged in the horizontal direction and are arranged below the scan signal lines 140.

데이터 라인(110)에는 데이터 드라이버로부터 데이터 전압이 인가된다. 데이터 전압(Vdata)은 픽셀의 드라이빙 TFT(160)의 문턱전압(Vth) 및 이동도(k)의 변화를 보상하기 위한 보상 전압이 포함될 수 있다.A data voltage is applied to the data line 110 from the data driver. The data voltage Vdata may include a compensation voltage for compensating for a change in the threshold voltage Vth and the mobility k of the driving TFT 160 of the pixel.

기준전압 라인(130)에는 데이터 드라이버로부터 디스플레이 기준전압 또는 센싱 기준전압이 선택적으로 공급될 수 있다. 디스플레이 기준전압은 각 픽셀의 데이터 충전 기간 동안 각 기준전압 라인(130)에 공급된다. 센싱 기준전압은 각 픽셀의 드라이빙 TFT(160)의 문턱전압(Vth) 및 이동도(k)를 센싱하는 센싱 기간에 기준전압 라인(130)에 공급될 수 있다.The reference voltage line 130 may be selectively supplied with a display reference voltage or a sensing reference voltage from the data driver. The display reference voltage is supplied to each reference voltage line 130 during the data charging period of each pixel. The sensing reference voltage may be supplied to the reference voltage line 130 in the sensing period for sensing the threshold voltage Vth and mobility k of the driving TFT 160 of each pixel.

스캔신호 라인(140)에는 게이트 드라이버로부터 스캔 신호(게이트 구동 신호)가 인가된다. 그리고, 센스신호 라인(150)에는 게이트 드라이버로부터 센스신호(sense)가 인가된다.A scan signal (gate drive signal) is applied to the scan signal line 140 from a gate driver. A sense signal (sense) is applied to the sense signal line 150 from the gate driver.

도 3에서는 3Tr-1Cap으로 구성된 내부 보상 방식의 픽셀 회로를 도시하고 있다. 픽셀 회로는 드라이빙 TFT(160), 스캔 TFT(170), 센스 TFT(180) 및 스토리지 커패시터(190)를 포함한다.FIG. 3 shows an internal compensation type pixel circuit composed of 3Tr-1 Cap. The pixel circuit includes a driving TFT 160, a scan TFT 170, a sense TFT 180, and a storage capacitor 190.

드라이빙 TFT(160), 스캔 TFT(170) 및 센스 TFT(180)는 비정질 실리콘(a-Si), 저온다결정 실리콘(LTPSL: Low-Temperature Poly-Silicon) 또는 산화물(oxide)을 액티브(active)의 재료로 이용하여 N타입(N-type) 또는 P타입(P-type)으로 제조될 수 있다.The driving TFT 160, the scan TFT 170 and the sense TFT 180 may be formed of an amorphous silicon (a-Si), a low-temperature poly-silicon (LTPSL) (N-type) or P-type (P-type).

스캔 TFT(170)는 스캔신호 라인(140)에 공급되는 스캔 신호(게이트 구동 신호)에 따라 스위칭 된다. 스캔 신호에 의해 스캔 TFT(170)가 턴온되어 데이터 라인(110)에 공급되는 데이터 전압(Vdata)이 드라이빙 TFT(160)에 공급된다.The scan TFT 170 is switched in accordance with a scan signal (gate drive signal) supplied to the scan signal line 140. The scan TFT 170 is turned on by the scan signal and the data voltage Vdata supplied to the data line 110 is supplied to the driving TFT 160. [

드라이빙 TFT(160)는 스캔 TFT(170)로부터 공급되는 데이터 전압(Vdata)에 따라 스위칭되어, 유기발광 다이오드(OLED)로 흐르는 데이터 전류(Ioled)를 제어한다. 드라이빙 TFT(160)가 턴온되면 VDD 라인(120)을 통해 인가된 구동 전류가 유기발광 다이오드(OLED)에 입력되어 유기발광 다이오드(OLED)가 발광하게 된다.The driving TFT 160 is switched according to the data voltage Vdata supplied from the scan TFT 170 to control the data current Ioled flowing to the organic light emitting diode OLED. When the driving TFT 160 is turned on, the driving current applied through the VDD line 120 is input to the organic light emitting diode OLED, and the organic light emitting diode OLED emits light.

센스 TFT(180)의 게이트 전극은 센스신호 라인(150)과 접속되어 있고, 센스 TFT(80)의 제1 전극(예를 들면, 소스 전극)은 스토리지 커패시터(180)와 접속되어 있고, 센스 TFT(80)의 제2 전극(예를 들면, 드레인 전극)은 기준전압 라인(130)과 접속되어 있다.A gate electrode of the sense TFT 180 is connected to a sense signal line 150. A first electrode (for example, a source electrode) of the sense TFT 80 is connected to the storage capacitor 180, (For example, a drain electrode) of the second transistor 80 is connected to the reference voltage line 130. [

센스신호 라인(150)에 인가되는 센스신호(sense)에 의해서 센스 TFT(180)가 스위칭 된다. 센스 TFT(180)의 스위칭에 의해 유기발광 다이오드(OLED)의 애노드 전극의 전압이 기준전압으로 초기화 된다.The sense TFT 180 is switched by the sense signal sense applied to the sense signal line 150. [ The voltage of the anode electrode of the organic light emitting diode OLED is initialized to the reference voltage by the switching of the sense TFT 180. [

그러나, 이에 한정되지 않고, 외부보상 방식의 경우에는 센스 TFT(180)의 스위칭에 의해 유기발광 다이오드(OLED)의 애노드 전극으로 공급되는 데이터 전류(Ioled)를 센싱하고, 각 픽셀의 센싱 값에 따라 각 픽셀에 공급되는 데이터 전압을 보상하여 드라이빙 TFT(160)의 문턱전압(Vth) 및 이동도(mobility) 특성의 변화를 보상할 수 있다.However, in the case of the external compensation method, the data current Ioled supplied to the anode electrode of the organic light emitting diode OLED is sensed by the switching of the sense TFT 180, The data voltage supplied to each pixel can be compensated to compensate for the change in the threshold voltage (Vth) and the mobility characteristic of the driving TFT (160).

도 4는 도 3에 도시된 B 부분을 확대하여 나타내는 도면이고, 도 5는 도 4에 도시된 B1-B2 선에 따른 단면도이다.Fig. 4 is an enlarged view of part B shown in Fig. 3, and Fig. 5 is a sectional view taken along the line B1-B2 shown in Fig.

도 4 및 도 5를 참조하면, 센스 TFT(180)의 제1 전극에서 ITO로 연장된 라인과 스토리지 커패시터(190)가 접속된 부분을 도시하고 있다.Referring to FIGS. 4 and 5, a line extending from the first electrode of the sense TFT 180 to the ITO and a portion where the storage capacitor 190 is connected are shown.

버퍼층(191) 상에는 액티브층(192)이 배치되어 있고, 액티브층(192)을 덮도록 층간절연막(193, ILD: Inter Layer Dielectric)이 배치되어 있다. 층간절연막(193)은 산화 실리콘(SiO2) 또는 질화 실리콘(SiNx)의 단일막으로 형성될 수 있고, 산화 실리콘(SiO2)으로 형성된 제1 막과 질화 실리콘(SiNx)으로 형성된 제2 막으로 형성될 수도 있다.An active layer 192 is disposed on the buffer layer 191 and an interlayer insulating layer 193 (ILD: Interlayer Dielectric) is disposed to cover the active layer 192. The interlayer insulating film 193 is a second layer formed of a first film and a silicon nitride (SiNx) can be formed as a single film formed of a silicon oxide (SiO 2) of silicon oxide (SiO 2) or silicon nitride (SiNx) .

층간절연막(193) 상에는 소스/드레인 메탈층(194)이 배치되고, 소스/드레인 메탈층(194)을 덮도록 보호막(195)이 배치되어 있다. 보호막(195)은 산화 실리콘(SiO2) 또는 질화 실리콘(SiNx)의 단일막으로 형성될 수 있고, 산화 실리콘(SiO2)으로 형성된 제1 막과 질화 실리콘(SiNx)으로 형성된 제2 막으로 형성될 수도 있다.A source / drain metal layer 194 is disposed on the interlayer insulating film 193 and a protective film 195 is disposed to cover the source / drain metal layer 194. A protective film 195 is formed in a second film formed of a silicon oxide (SiO 2) or silicon nitride first layer and a silicon nitride (SiNx) can be formed as a single film formed of a silicon oxide (SiO 2) a (SiNx) .

소스/드레인 메탈층(194)은 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti), 알루미늄(Al) 또는 구리(Cu)를 재료로 이용하여 단일층(single layer) 구조로 형성될 수 있다. 다른 예로서, 소스/드레인 메탈층(194)은 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti), 알루미늄(Al) 또는 구리(Cu)의 재료 중 적어도 2개의 재료를 이용한 복층(multi layer) 구조로 형성될 수도 있다.The source / drain metal layer 194 may be formed of a single layer structure using molybdenum (Mo), titanium (Ti), aluminum (Al), or copper (Cu) As another example, the source / drain metal layer 194 may be formed in a multi-layer structure using at least two materials selected from the group consisting of molybdenum (Mo), titanium (Ti), aluminum (Al) It is possible.

본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 디스플레이 장치는 센스 TFT(180)와 스토리지 커패시터(190)의 접속 구조가 이중 컨택 구조로 배치되어 있고, 층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole)이 절연층을 사이에 두고 이격되도록 배치되어 있다.In the OLED display device according to the embodiment of the present invention, the connection structure of the sense TFT 180 and the storage capacitor 190 is arranged in a double contact structure, and an interlayer insulating film hole (ILD hole) and a PAS hole And are arranged so as to be spaced apart with an insulating layer therebetween.

구체적으로, 센스 TFT(180)의 제1 전극과 스토리지 커패시터(190)를 접속시키기 위해서, 액티브층(92)과 중첩된 부분의 층간절연막(13)을 제거하여 층간절연막 홀(ILD hole)을 형성하였다.Specifically, in order to connect the first electrode of the sense TFT 180 and the storage capacitor 190, an ILD hole is formed by removing the interlayer insulating film 13 overlapping the active layer 92 Respectively.

층간절연막 홀(ILD hole)에 의해서 액티브층(192)이 노출되고, 층간절연막 홀(ILD hole) 내에서 액티브층(192)과 소스/드레인 메탈층(193)이 접속된다.The active layer 192 is exposed by the ILD hole and the active layer 192 and the source / drain metal layer 193 are connected in the interlayer insulating film hole (ILD hole).

그리고, 층간절연막 홀(ILD hole)과 중첩되지 않도록, 일정 거리를 두고 이격된 부분에서 보호막(195)의 일부를 제거하여 보호막 홀(PAS hole)을 형성한다.Then, a part of the protective film 195 is removed at a portion spaced apart by a predetermined distance so as not to overlap the interlayer insulating film hole (ILD hole) to form a PAS hole.

보호막 홀(PAS hole)에 의해서 소스/드레인 메탈층(193)의 상면이 노출되고, 센스 TFT(180)의 제1 전극에서 ITO로 연장된 투명 라인이 보호막 홀(PAS hole) 내부에 배치되어 소스/드레인 메탈층(194)과 접속된다. 이를 통해, 센스 TFT(180)의 제1 전극과 스토리지 커패시터(190)가 접속된다.The upper surface of the source / drain metal layer 193 is exposed by the PAS hole and the transparent line extending from the first electrode of the sense TFT 180 to the ITO is disposed inside the PAS hole, / Drain metal layer 194, respectively. Thus, the first electrode of the sense TFT 180 and the storage capacitor 190 are connected.

이와 같이, 층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole) 사이에는 층간절연막(193) 및 보호막(195)이 배치되어 있고, 층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole)을 중첩되지 않도록 이격시켜 배치한다.The interlayer insulating layer 193 and the passivation layer 195 are disposed between the ILD hole and the PAS hole and the interlayer insulating layer hole and the PAS hole are overlapped with each other. .

층간절연막 홀(ILD hole)과 보호막 홀(PAS hole)이 중첩되지 않도록 배치되어 있어, 제조 공정에서 층간절연막 홀(ILD hole)을 형성한 후, 보호막 홀(PAS hole)을 형성할 때 보호막(195)의 에천트로 인한 액티브층(192)의 침식을 방지할 수 있다.(ILD) hole and a PAS hole are not overlapped with each other. Therefore, when an ILD hole is formed in a manufacturing process and a PAS hole is formed, a protective film 195 The erosion of the active layer 192 due to the etchant can be prevented.

또한, 보호막(195)의 에천트가 층간절연막(193)의 하부로 침투하지 않아 층간절연막(193)이 유실되는 것도 방지할 수 있다.It is also possible to prevent the etchant of the protective film 195 from penetrating into the lower portion of the interlayer insulating film 193 and thereby preventing the interlayer insulating film 193 from being lost.

본 발명이 속하는 기술분야의 당 업자는 상술한 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

100: 디스플레이 패널
110: 데이터 라인
120: VDD 라인
140: 스캔신호 라인
150: 센스신호 라인
160: 드라이빙 TFT
170: 스캔 TFT
180: 센스 TFT
190: 스토리지 커패시터
191: 버퍼층
192: 액티브층
193: 층간절연막
194: 소스/드레인 메탈층
195: 보호막
PAS hole: 보호막 홀
ILD hole: 층간절연막 홀
100: Display panel
110: Data line
120: VDD line
140: scan signal line
150: sense signal line
160: Driving TFT
170: scan TFT
180: Sense TFT
190: storage capacitor
191: buffer layer
192: active layer
193: Interlayer insulating film
194: Source / drain metal layer
195: Shield
PAS hole: Shield hole
ILD hole: Interlayer insulating film hole

Claims (4)

제1 방향으로 배치된 데이터 라인, 구동전원 라인, 기준전압 라인 및 제2 방향으로 배치된 스캔신호 라인, 센스신호 라인에 의해 정의된 복수의 픽셀; 및
상기 복수의 픽셀 각각에 배치된 유기발광 다이오드 및 상기 유기발광 다이오드를 구동시키기 위한 픽셀 회로;를 포함하고,
상기 픽셀 회로는 스캔 TFT(thin film transistor), 드라이빙 TFT, 센스 TFT 및 스토리지 커패시터를 포함하고,
센스 TFT와 상기 스토리지 커패시터를 접속시키는 제1 절연층 홀과 제2 절연층 홀이 이격되도록 배치된 유기발광 디스플레이 장치.
A plurality of pixels defined by a data line arranged in a first direction, a driving power supply line, a reference voltage line and a scan signal line arranged in a second direction, and a sense signal line; And
An organic light emitting diode disposed in each of the plurality of pixels, and a pixel circuit for driving the organic light emitting diode,
The pixel circuit includes a thin film transistor (TFT), a driving TFT, a sense TFT, and a storage capacitor,
Wherein the first insulating layer hole and the second insulating layer hole for connecting the sense TFT and the storage capacitor are spaced apart from each other.
제1 항에 있어서,
제1 절연층 홀과 제2 절연층 홀 중첩되지 않도록 배치된 유기발광 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first insulating layer hole and the second insulating layer hole are not overlapped with each other.
제2 항에 있어서,
액티브층을 덮도록 배치된 층간절연막이 제거되어 상기 제1 절연층 홀이 배치되고,
상기 액티브층과 접촉하도록 소스/드레인 메탈층이 배치되고,
상기 소스/드레인 메탈층을 덮도록 배치된 보호막이 제거되어 상기 제2 절연층 홀이 배치된 유기발광 디스플레이 장치.
3. The method of claim 2,
The interlayer insulating film disposed to cover the active layer is removed and the first insulating layer hole is disposed,
A source / drain metal layer is disposed to be in contact with the active layer,
And the second insulation layer hole is disposed by removing the protective film disposed to cover the source / drain metal layer.
제3 항에 있어서,
상기 센스 TFT의 제1 전극에서 연장된 투명 라인이 상기 제2 절연층 홀 내부에서 상기 소스/드레인 메탈층과 접속하도록 배치되어, 센스 TFT의 제1 전극과 상기 스토리지 커패시터가 접속된 유기발광 디스플레이 장치.
The method of claim 3,
And a transparent line extending from the first electrode of the sense TFT is arranged so as to be connected to the source / drain metal layer in the second insulating layer hole, and the first electrode of the sense TFT and the storage capacitor are connected to each other. .
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