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KR20160027012A - Polarizing film with adhesive layer, laminate, and image display device - Google Patents

Polarizing film with adhesive layer, laminate, and image display device Download PDF

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KR20160027012A
KR20160027012A KR1020167001781A KR20167001781A KR20160027012A KR 20160027012 A KR20160027012 A KR 20160027012A KR 1020167001781 A KR1020167001781 A KR 1020167001781A KR 20167001781 A KR20167001781 A KR 20167001781A KR 20160027012 A KR20160027012 A KR 20160027012A
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polarizing film
pressure
iodine
adhesive layer
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신스케 아키즈키
유우스케 도야마
아츠시 야스이
도시타카 다카하시
미즈호 나가타
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 하기 일반식 (1) :

Figure pct00013

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.) 로 나타내는 화합물, 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 및 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름, 상기 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 기재를 첩합한 적층체, 상기 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 첩합한 화상 표시 장치, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 화상 표시 장치이다.The present invention relates to an iodine-based polarizing film having iodine and / or iodine ion-containing iodine polarizer and at least one side of the iodine-based polarizer having a transparent protective film on at least one side thereof,
Figure pct00013

(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom), and a compound represented by the general formula (1) And a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acryl-based polymer, at least one phosphoric acid compound selected from the group consisting of a polarizer And a transparent conductive layer, a liquid crystal panel having the polarizing film and the transparent conductive layer, and an image display apparatus using the laminate as a touch panel.

Description

점착제층이 형성된 편광 필름, 적층체, 및 화상 표시 장치{POLARIZING FILM WITH ADHESIVE LAYER, LAMINATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a polarizing film, a laminate, and an image display device having a pressure-

본 발명은, 점착제층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 기재를 첩합 (貼合) 한 적층체, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 첩합한 화상 표시 장치, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed. The present invention also relates to a laminated body obtained by bonding a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed and a substrate having a transparent conductive layer to each other, a liquid crystal panel having a polarizing film on which the pressure- And an image display apparatus using the stacked body as a touch panel.

최근 산화인듐주석 (ITO) 박막 등의 투명 도전막이 각종 용도에 있어서 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 상기 투명 도전막은, 인플레인 스위칭 (IPS) 방식 등의 액정 셀을 사용한 액정 표시 장치의, 액정 셀을 구성하는 투명 기판의 액정층과 접하는 측과는 반대측에 형성되고, 대전 방지층으로 하는 것이 알려져 있다. 또, 상기 투명 도전막이 투명 수지 필름 상에 형성된 투명 도전성 필름은, 터치 패널의 전극 기판에 사용되고, 예를 들어 휴대전화나 휴대용 음악 플레이어 등에 사용하는 액정 표시 장치나 화상 표시 장치와 당해 터치 패널을 조합하여 사용하는 입력 장치가 널리 보급되고 있다.Recently, transparent conductive films such as indium tin oxide (ITO) thin films have been widely used in various applications. For example, the transparent conductive film is formed on the side opposite to the side of the transparent substrate constituting the liquid crystal cell which is in contact with the liquid crystal layer of the liquid crystal display device using a liquid crystal cell such as an in-plane switching (IPS) . The transparent conductive film having the transparent conductive film formed on the transparent resin film is used for an electrode substrate of a touch panel. For example, a liquid crystal display device or an image display device used for a cellular phone, a portable music player, And an input device for use is widely spread.

터치 패널과 화상 표시 장치를 조합하여 사용하는 입력 장치로는, 종래 유리판 또는 투명 수지 필름으로 이루어지는 투명 기재에 투명 도전층이 형성된 투명 도전성 필름을 액정 표시 장치 상 (액정 표시 장치의 시인측 편광 필름보다 상측) 에 설치하는 아웃셀형이 널리 보급되어 있었지만, 최근 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀의 상 (上) 유리 기판 상에 형성하는 온셀형이나, 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀 내부에 넣은 형태의 인셀형 등 여러 가지 구성이 알려져 있다. 또, 화상 표시 장치의 대전 방지층으로서의 ITO 층을 터치 센서로 하고, 이것을 패터닝함으로써 터치 패널 기능을 실현하는 것도 알려져 있다.As an input device using a combination of a touch panel and an image display device, a transparent conductive film having a transparent conductive layer formed on a transparent substrate made of a glass plate or a transparent resin film is laminated on a liquid crystal display device Cell type in which an electrode made of a transparent conductive film is formed on an upper glass substrate of a liquid crystal cell or an electrode made of a transparent conductive film is placed in the liquid crystal cell And the like are known. It is also known that the touch panel function is realized by patterning the ITO layer serving as the antistatic layer of the image display device as a touch sensor.

이들 투명 도전막을 사용한 액정 표시 장치나 화상 표시 장치 등에 있어서는, 최근 경량화, 박형화의 요구가 강하고, 당해 액정 표시 장치 등에 있어서 사용되는 편광 필름에 대해서도, 박형화, 경량화하는 것이 요망되고 있다. 편광 필름의 박형화, 경량화 방법으로는, 예를 들어 편광자의 편면에만 투명 보호 필름 설치한 편면 보호 편광 필름으로 하는 것이나, 편광자 자체의 막두께를 얇게 한 박형 편광 필름의 제조 방법 등이 알려져 있다.In liquid crystal display devices and image display devices using these transparent conductive films, there is a strong demand for weight reduction and thinness in recent years, and it is desired to reduce the thickness and weight of polarizing films used in the liquid crystal display devices and the like. As a method of making the polarizing film thinner and lighter, for example, there is known a method of forming a single-side protective polarizing film in which a transparent protective film is provided on only one side of a polarizer, and a method of manufacturing a thin polarizing film in which the thickness of the polarizing element itself is reduced.

박형 편광 필름의 제법으로는, 연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에, 요오드를 배향시킨 폴리비닐알코올계 수지로 이루어지는 박형 편광막이 제막된 광학 필름 적층체의 제조 방법이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).As a process for producing a thin polarizing film, there is known a process for producing an optical film laminate in which a thin polarizing film composed of a polyvinyl alcohol-based resin in which iodine is oriented is formed on an amorphous ester-based thermoplastic resin base material of a continuous web , Patent Documents 1 and 2).

일본 특허 제4751481호 명세서Japanese Patent No. 4751481 일본 특허 제4691205호 명세서Japanese Patent No. 4691205 Specification

예를 들어, 투명 도전막을 대전 방지층 용도로서 사용하는 경우에는, 통상 당해 대전 방지층을 갖는 액정 셀 상에 점착제층이 형성된 편광 필름이 적층되어, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 개재하여 첩합된다. 또, 투명 도전막을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 경우, 터치 패널의 구성에 따라서는, 상기 전극용 투명 도전막 상에 점착제층이 형성된 편광 필름이 적층되어, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 개재하여 첩합되는 경우가 있다.For example, when a transparent conductive film is used as an antistatic layer application, a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed is laminated on a liquid crystal cell having the antistatic layer, and an antistatic layer made of a transparent conductive film and a polarizing film are laminated on the pressure- Respectively. When a transparent conductive film is used for an electrode of a touch panel, a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon is laminated on the transparent conductive film for the electrode, depending on the configuration of the touch panel, There is a case where the film is bonded via the pressure-sensitive adhesive layer.

편광 필름이 요오드계 편광 필름인 경우에, 전술한 바와 같이, 투명 도전층과 당해 요오드계 편광 필름을 첩합하고, 가습 내구 시험 (통상 내구 시험) 을 실시하면, 투명 도전층의 저항값이 상승하는 경우가 있었다. 이와 같은 저항값의 상승은, 편광자에 포함되는 요오드가 점착제층으로 스며나오고, 그 요오드가 투명 도전층에 도달함으로써, 투명 도전층이 부식하는 것에 의한 것이 밝혀졌다.In the case where the polarizing film is an iodine polarizing film, as described above, when the moisture-proof durability test (ordinary endurance test) is performed by bonding the transparent conductive layer and the iodine polarizing film to each other and the resistance value of the transparent conductive layer rises There was a case. It has been found that the increase in the resistance value is due to the fact that the iodine contained in the polarizer exudes to the pressure-sensitive adhesive layer, and the iodine reaches the transparent conductive layer, thereby corroding the transparent conductive layer.

예를 들어, 특허문헌 1, 2 에 기재되어 있는 두께 10 ㎛ 이하의 박형 요오드계 편광자에서는, 종래의 편광자와 동일한 편광 특성을 갖기 위해서는 편광자 중의 요오드 농도를 높게 할 필요가 있고, 이와 같은 요오드 농도가 높은 편광자를 포함하는 편광 필름을 투명 도전층과 첩합한 경우에는, 투명 도전층의 요오드에 의한 부식이 생기기 쉬운 것이 밝혀졌다. 또, 편면 보호의 요오드계 편광 필름을 사용한 경우에도, 요오드계 편광자에 직접 점착제층을 개재하여 투명 도전층이 첩합되기 때문에, 투명 도전층의 부식이 생기기 쉬운 것이 밝혀졌다.For example, in a thin iodine polarizer having a thickness of 10 m or less as described in Patent Documents 1 and 2, it is necessary to increase the iodine concentration in the polarizer in order to have the same polarization characteristic as that of the conventional polarizer. It has been found that when a polarizing film including a high polarizer is attached to a transparent conductive layer, corrosion by iodine of the transparent conductive layer tends to occur. It has also been found that even when an iodine polarizing film having a one-side protection is used, corrosion of the transparent conductive layer tends to occur because the transparent conductive layer is directly bonded to the iodine polarizer via the pressure-sensitive adhesive layer.

따라서, 본 발명은, 투명 도전층 상에 적층된 경우에도, 상기 투명 도전층의 부식이 억제되고, 상기 투명 도전층의 표면 저항값이 상승하는 것을 억제할 수 있는 점착제층이 형성된 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 기재를 첩합한 적층체, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 첩합한 화상 표시 장치, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 화상 표시 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다. Accordingly, the present invention provides a polarizing film provided with a pressure-sensitive adhesive layer capable of suppressing corrosion of the transparent conductive layer and suppressing an increase in the surface resistance value of the transparent conductive layer even when the transparent conductive layer is laminated on the transparent conductive layer . The present invention also provides an image display device comprising a laminate in which a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a substrate having a transparent conductive layer are laminated, a liquid crystal panel having a polarizing film on which the pressure- And an object of the present invention is to provide an image display apparatus using the laminate as a touch panel.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 인산계 화합물, 및 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 사용함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.Means for Solving the Problems The present inventors have intensively studied in order to solve the above problems and found that by using a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure sensitive adhesive composition containing a phosphate compound and a (meth) acrylic polymer, , Thereby completing the present invention.

즉, 본 발명은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, That is, the present invention relates to an iodine-based polarizing film comprising iodine-based polarizing film having iodine and / or iodine ion-containing iodine-based polarizer having a transparent protective film on at least one side thereof,

하기 일반식 (1) :(1): < EMI ID =

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)

로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다. 여기서, 「요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자」란, 요오드를 함유하는 요오드계 편광자, 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자, 요오드 및 요오드 이온의 양방을 함유하는 요오드계 편광자이고, 본 발명에 있어서는 어느 것이라도 바람직하게 사용할 수 있다., And a pressure sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) and a (meth) acrylic polymer, Sensitive adhesive layer is formed. Here, the "iodine-based polarizer containing iodine and / or iodine ions" is an iodine-based polarizer containing iodine, an iodine-based polarizer containing iodine ions, an iodine-based polarizer containing both iodine and iodine ions, Any of them can be preferably used in the invention.

상기 요오드계 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이, 1 ∼ 14 중량% 여도 되고, 3 ∼ 12 중량% 여도 된다.The content of iodine and / or iodide ion in the iodine-based polarizer may be 1 to 14% by weight or 3 to 12% by weight.

상기 인산계 화합물이, 인산을 포함하고, 또한 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산모노에스테르, 및 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산디에스테르 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 인산에스테르를 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다.Wherein the phosphoric acid compound comprises phosphoric acid and the phosphoric acid residue of a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms, wherein either one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom, And monoester and at least one phosphoric acid ester selected from the group consisting of phosphoric acid diesters in which R 1 and R 2 in the general formula (1) may contain an oxygen atom and hydrocarbon residues of 1 to 18 carbon atoms Mixture.

상기 인산계 화합물이, 인산 및 인산모노에스테르를 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다. 또, 인산 및 인산모노에스테르의 합계량은, 인산계 화합물 100 중량% 에 있어서 80 중량% 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that the phosphate compound is a mixture containing phosphoric acid and phosphoric acid monoester. The total amount of phosphoric acid and phosphoric acid monoesters is preferably 80% by weight or more based on 100% by weight of the phosphoric acid compound.

상기 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기가, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 바람직하다.It is preferable that the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

상기 요오드계 편광 필름이, 상기 요오드계 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이고, 또한 상기 편면 보호 편광 필름의 투명 보호 필름을 갖고 있지 않은 면과, 상기 점착제층이 접촉하고 있는 것이 바람직하다.Wherein the iodine-based polarizing film is a one-side protective polarizing film having a transparent protective film on only one side of the iodine-based polarizer, and a surface of the one-side protective polarizing film having no transparent protective film and the pressure- desirable.

상기 요오드계 편광자의 두께가, 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.The thickness of the iodine-based polarizer is preferably 10 m or less.

상기 요오드계 편광 필름의 총 두께가, 80 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.The total thickness of the iodine-based polarizing film is preferably 80 m or less.

또, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 기재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여 사용하는 것이 바람직하다.It is also preferable that the adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the substrate having the transparent conductive layer are in contact with each other.

상기 인산계 화합물의 첨가량이, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 0.001 ∼ 4 중량부인 것이 바람직하다.The amount of the phosphate compound added is preferably 0.001 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth) acryl-based polymer.

상기 (메트)아크릴계 폴리머가, 모노머 단위로서, 알킬(메트)아크릴레이트, 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the (meth) acryl-based polymer contains, as a monomer unit, an alkyl (meth) acrylate and a monomer containing a hydroxyl group.

하이드록실기 함유 모노머가, 4-하이드록시부틸아크릴레이트인 것이 바람직하다.It is preferable that the hydroxyl group-containing monomer is 4-hydroxybutyl acrylate.

(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이, 120만 ∼ 300만인 것이 바람직하다.The weight average molecular weight of the (meth) acryl-based polymer is preferably 1.2 to 3 million.

상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하고, 가교제가, 과산화물계 가교제, 및 이소시아네이트계 가교제로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 가교제인 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the acrylic pressure-sensitive adhesive composition further contains a crosslinking agent, and the crosslinking agent is more preferably at least one crosslinking agent selected from the group consisting of a peroxide-based crosslinking agent and an isocyanate-based crosslinking agent.

상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로 이온성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the acrylic pressure sensitive adhesive composition further contains an ionic compound.

또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 투명 도전성 부재를, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 적층체에 관한 것이다.The present invention is also characterized in that a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a transparent conductive member having a transparent conductive layer are laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed is in contact with the transparent conductive layer of the member And the like.

상기 투명 도전층이, 산화인듐주석으로 형성되는 것이 바람직하고, 상기 산화인듐주석이, 비결정성의 산화인듐주석인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the transparent conductive layer is formed of indium tin oxide, and it is more preferable that the indium tin oxide is amorphous indium tin oxide.

또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention also provides a liquid crystal display device comprising a liquid crystal panel having a pressure sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure sensitive adhesive layer is formed and a transparent conductive layer so that the pressure sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure sensitive adhesive layer is formed is brought into contact with the transparent conductive layer of the liquid crystal panel The present invention relates to an image display apparatus.

또한, 본 발명은, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. Further, the present invention relates to an image display device characterized in that the above-mentioned laminate is used as a touch panel.

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은 요오드계 편광자를 사용하고 있지만, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전층을 적층한 경우에도, 투명 도전층의 부식을 억제할 수 있고, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 이것은, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 인산계 화합물을 포함하기 때문이다. 구체적으로는, 예를 들어 인산계 화합물이 인산을 포함하는 경우에는, 투명 도전층 표면에서, 인산과 투명 도전층 중의 금속 이온으로 부동태 피막을 형성하고, 그 결과 편광자 중의 요오드가 투명 도전층 표면까지 이행하지 않아, 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다. 또, 인산계 화합물이 인산 화합물 (예를 들어, 인산에스테르 등) 을 포함하는 경우에는, 당해 인산 화합물이 선택적으로 투명 도전층 표면에 흡착하여 피막을 형성하고, 그 결과 편광자 중의 요오드가 투명 도전층 표면까지 이행하지 않아, 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다.Although the polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed uses an iodine-based polarizer, even when a transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, corrosion of the transparent conductive layer can be suppressed, The increase in the surface resistance of the conductive layer can be suppressed. This is because the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed contains a phosphoric acid-based compound. Specifically, for example, when the phosphoric acid-based compound contains phosphoric acid, a passive film is formed of a metal ion in the phosphoric acid and the transparent conductive layer on the surface of the transparent conductive layer, and as a result, the iodine in the polarizer And the corrosion of the transparent conductive layer is inhibited. When the phosphoric acid compound contains a phosphoric acid compound (for example, phosphoric acid ester), the phosphoric acid compound is selectively adsorbed on the surface of the transparent conductive layer to form a film. As a result, The surface is not transferred to the surface and the corrosion of the transparent conductive layer is inhibited.

도 1 은 본 발명의 화상 표시 장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 화상 표시 장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 화상 표시 장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of an image display apparatus according to the present invention.
2 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of an image display apparatus of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the image display apparatus of the present invention.

1. 점착제층이 형성된 편광 필름1. A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, The polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is formed on at least one surface of an iodine-based polarizing film having a transparent protective film on at least one side of an iodine-based polarizer containing iodine and /

하기 일반식 (1) :(1): < EMI ID =

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)

로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 한다., And a pressure sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) and a (meth) acrylic polymer, do.

(1) 요오드계 편광 필름(1) iodine polarizing film

본 발명에 있어서 사용하는 요오드계 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 것이다. 본 발명에 있어서는, 요오드계 편광자의 편면에 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이어도, 요오드계 편광자의 양면에 투명 보호 필름을 갖는 양면 보호 편광 필름이어도 되지만, 편면 보호 편광 필름을 사용하는 경우에, 본 발명의 효과가 현저하다. 또, 양면 보호 편광 필름이어도, 점착제층과 접하는 측의 투명 보호 필름의 두께가 얇은 (예를 들어, 25 ㎛ 이하) 경우에도, 본 발명의 효과가 현저하다. 또한, 편광 필름이, 편면 보호 편광 필름인 경우에는, 점착제층은, 상기 투명 보호 필름을 갖지 않는 측의 편광자 표면에 직접 형성할 수 있다.The iodine-based polarizing film used in the present invention has a transparent protective film on at least one side of an iodine-based polarizer containing iodine and / or iodine ions. In the present invention, a single-side protective polarizing film having a transparent protective film on one side of the iodine polarizer and a double-side protective polarizing film having a transparent protective film on both sides of the iodine polarizer may be used. However, The effect of the present invention is remarkable. Even when the double-sided protective polarizing film is used, the effect of the present invention is remarkable even when the thickness of the transparent protective film on the side in contact with the pressure-sensitive adhesive layer is thin (for example, 25 m or less). When the polarizing film is a one-side protective polarizing film, the pressure-sensitive adhesive layer can be formed directly on the polarizer surface on the side not having the transparent protective film.

요오드계 편광자로는, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 편광자이면, 어떠한 것이라도 사용할 수 있지만, 예를 들어 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름, 부분 포르말화 PVA 계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드를 흡착시켜 1 축 연신한 것 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, PVA 계 필름과 요오드로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 ∼ 80 ㎛ 정도이다.As the iodine polarizer, any polarizer containing iodine and / or iodine ions can be used, and examples thereof include a polyvinyl alcohol (PVA) film, a partially polarized PVA film, an ethylene / vinyl acetate copolymerization system And a partially saponified film or the like, which is uniaxially stretched by adsorbing iodine to a hydrophilic polymer film. Among them, a polarizer comprising a PVA-based film and iodine is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 5 to 80 占 퐉.

PVA 계 필름을 요오드로 염색하여 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어 PVA 를 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 포함하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 염색 전에 PVA 계 필름을 물에 침지하여 수세해도 된다. PVA 계 필름을 수세함으로써 PVA 계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 외에, PVA 계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.The monoaxially polarized polarizer obtained by dying a PVA film with iodine can be produced by, for example, dying PVA in an aqueous solution of iodine and stretching it to 3 to 7 times the original length. If necessary, it may be immersed in an aqueous solution of potassium iodide or the like which may contain boric acid, zinc sulfate, zinc chloride or the like. If necessary, the PVA film may be dipped in water and washed with water before dyeing. The PVA film is washed with water to clean the surface of the PVA film and the anti-blocking agent. In addition, the PVA film is swollen to prevent unevenness such as uneven dyeing. The stretching may be carried out after dyeing with iodine, followed by stretching while dyeing, or after stretching, followed by dyeing with iodine. It can be stretched in an aqueous solution such as boric acid or potassium iodide or in a water bath.

또, 본 발명에 있어서는, 두께가 10 ㎛ 이하인 박형 요오드계 편광자도 바람직하게 사용할 수 있다. 박형화의 관점에서 말하면 당해 두께는 1 ∼ 7 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 박형 요오드계 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하고, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하고, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화가 도모되는 점이 바람직하다.In the present invention, a thin iodine-based polarizer having a thickness of 10 mu m or less can also be preferably used. From the viewpoint of thinning, the thickness is preferably 1 to 7 mu m. It is preferable that such a thin iodine polarizer is excellent in durability because the thickness irregularity is small, the visibility is excellent, the dimensional change is small, and further, the thickness and thickness of the polarizing film can be reduced.

박형 편광자로는, 대표적으로는 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 또는 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, PVA 계 수지층과 연신용 수지 기재를 적층체 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되고 있는 것에 의해 연신에 의한 파단 등의 문제 없이 연신할 수 있게 된다. Typical examples of the thin polarizer include those described in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 51-069644 and 2000-338329, International Publication No. 2010/100917, International Publication No. 2010/100917, and Japanese Patent No. 4751481 And a thin polarizing film described in JP-A-2012-073563. These thin polarizing films can be obtained by a manufacturing method including a step of stretching a PVA resin layer and a lead resin base material in a laminate state and a step of dyeing. With this method, even if the PVA resin layer is thin, it can be stretched without problems such as breakage due to stretching because it is supported on the resin base material for drawing.

상기 박형 편광막으로는, 적층체 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 또는 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재된 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.As the thin polarizing film, from the viewpoint of being capable of stretching at a high magnification and improving the polarization performance even in a process including a step of stretching in the form of a laminate and a step of dyeing, the pamphlet of International Publication No. 2010/100917, It is preferably obtained by a production method comprising a step of stretching in an aqueous solution of boric acid as disclosed in the specification of Japanese Patent No. 4751481 or the specification of Japanese Patent Publication No. 2012-073563, In a boric acid aqueous solution described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-073563, a method of auxiliary drawing publicly before stretching.

또, 본 발명에서 사용하는 요오드계 편광자의, 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량 (이하, 요오드 함유량이라고 하는 경우도 있다.) 은, 편광자 중 1 ∼ 14 중량% 여도 되고, 3 ∼ 12 중량% 여도 되고, 4 ∼ 7.5 중량% 여도 된다. 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 요오드계 편광자 중의 요오드 함유량이 상기 범위와 같이 많아도, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름에 적층된 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있다. 이것은, 점착제층에 포함되는 인산계 화합물에 의해 투명 도전층 표면에 피막을 형성하기 때문에, 요오드계 편광 필름에 포함되는 요오드가, 투명 도전층 표면까지 이행하지 않고, 그 결과 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다. 구체적으로는, 상기 인산계 화합물이 인산을 포함하는 경우, 당해 인산이 투명 도전층 표면에서, 투명 도전층 중의 금속 이온과 부동태 피막을 형성하고, 상기 인산계 화합물이 인산 화합물 (예를 들어, 인산에스테르 등) 을 포함하는 경우에는, 당해 인산 화합물이 선택적으로 투명 도전층 표면에 흡착하여 피막을 형성할 수 있다.The content of iodine and / or iodide ion (hereinafter also referred to as iodine content) of the iodine-based polarizer used in the present invention may be 1 to 14% by weight of the polarizer, 3 to 12% by weight And may be 4 to 7.5% by weight. The polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can suppress an increase in the surface resistance of the transparent conductive layer laminated on the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, even if the iodine content in the iodine polarizer is as large as the above range. This is because iodine contained in the iodine-based polarizing film does not migrate to the surface of the transparent conductive layer because the phosphoric acid compound contained in the pressure-sensitive adhesive layer forms a film on the surface of the transparent conductive layer. As a result, I think it is because it is inhibited. Specifically, when the phosphoric acid-based compound contains phosphoric acid, the phosphoric acid forms a passive film with the metal ion in the transparent conductive layer on the surface of the transparent conductive layer, and the phosphoric acid compound is a phosphoric acid compound (for example, phosphoric acid Ester, etc.), the phosphoric acid compound is selectively adsorbed on the surface of the transparent conductive layer to form a film.

상기 요오드계 편광자의 편면, 또는 양면에 형성되는 투명 보호 필름을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술파이드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머, 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름을 형성하는 폴리머의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름은, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형, 자외선 경화형 수지의 경화층으로서 형성할 수도 있다.As a material for forming the transparent protective film formed on one side or both sides of the iodine polarizer, it is preferable that the material is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy and the like. For example, a polyester polymer such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a cellulose polymer such as diacetylcellulose or triacetylcellulose, an acrylic polymer such as polymethyl methacrylate, a polystyrene or an acrylonitrile styrene copolymer (AS resin), and polycarbonate-based polymers. In addition, a polyolefin-based polymer such as polyethylene, polypropylene, a cycloolefin-based or norbornene-based structure, a polyolefin-based polymer such as an ethylene-propylene copolymer, an amide-based polymer such as nylon or aromatic polyamide, Based polymers, polyether sulfone-based polymers, polyetheretherketone-based polymers, polyphenylene sulfide-based polymers, vinyl alcohol-based polymers, vinylidene chloride-based polymers, vinyl butyral-based polymers, arylate- An epoxy-based polymer, or a blend of the above polymer may be mentioned as an example of the polymer forming the transparent protective film. The transparent protective film may be formed as a cured layer of a thermosetting or ultraviolet curing resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy or silicone.

보호 필름의 두께는, 적절히 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박막성 등의 점에서 1 ∼ 500 ㎛ 정도이다.The thickness of the protective film can be suitably determined, but generally it is about 1 to 500 占 퐉 in view of workability such as strength and handling properties and thin film properties.

상기 요오드계 편광자와 투명 보호 필름은 통상, 수계 접착제 등을 개재하여 밀착되어 있다. 수계 접착제로는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계, 수계 폴리우레탄, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다. 상기 외, 편광자와 투명 보호 필름의 접착제로는, 자외선 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제 등을 들 수 있다. 전자선 경화형 편광 필름용 접착제는, 상기 각종 투명 보호 필름에 대하여, 바람직한 접착성을 나타낸다. 또 본 발명에서 사용하는 접착제에는, 금속 화합물 필러를 함유시킬 수 있다.The iodine polarizer and the transparent protective film are usually in close contact with each other through an aqueous adhesive or the like. Examples of the water-based adhesive include an isocyanate-based adhesive, a polyvinyl alcohol-based adhesive, a gelatin-based adhesive, a vinyl-based latex-based, a water-based polyurethane, and a water-based polyester. Examples of the adhesive for the polarizer and the transparent protective film include an ultraviolet curable adhesive, an electron beam curable adhesive, and the like. The adhesive for an electron beam curing type polarizing film exhibits preferable adhesiveness to the above various transparent protective films. The adhesive used in the present invention may contain a metal compound filler.

상기 투명 보호 필름의 요오드계 편광자를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코트층이나 반사 방지 처리, 스티킹 방지나, 확산 내지 안티글레어를 목적으로 한 처리를 실시한 것이어도 된다.The surface of the transparent protective film on which the iodine polarizer is not adhered may be subjected to treatment for the purpose of hard coat layer, antireflection treatment, anti-sticking, diffusion or anti-glare treatment.

본 발명에서 사용하는 요오드계 편광 필름의 총 두께는, 점착제층이 형성된 편광 필름의 박형화의 요망에 응하기 위해, 80 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 70 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 60 ㎛ 이하인 것이 더 바람직하다. 편광 필름의 총 두께의 하한으로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 10 ㎛ 를 들 수 있다.The total thickness of the iodine polarizing film used in the present invention is preferably not more than 80 탆, more preferably not more than 70 탆, and even more preferably not more than 60 탆 in order to meet the demand for thinning of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed . The lower limit of the total thickness of the polarizing film is not particularly limited, but may be 10 탆, for example.

(2) 점착제층(2) Pressure-sensitive adhesive layer

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름에 사용되는 점착제층은, 아크릴계 점착제 조성물로 형성된다. 아크릴계 점착제 조성물은, The pressure-sensitive adhesive layer used in the polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition. The acrylic pressure-

하기 일반식 (1) :(1): < EMI ID =

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)

로 나타내는 화합물, 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 인산계 화합물, 및 (메트)아크릴계 폴리머를 함유한다.(Meth) acryl-based polymer selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) and a compound represented by the general formula (1).

상기 인산계 화합물로는, 후술하는 바와 같이, 인산, 인산에스테르, 또는 그들의 염이나 2 량체, 3 량체 등을 들 수 있다. 이들에 대하여, 이하에 상세하게 설명한다.Examples of the phosphoric acid compound include phosphoric acid, phosphoric acid esters, salts thereof, dimers, trimer and the like as described later. These will be described in detail below.

일반식 (1) 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기, -(CH2CH2O)nR3 (R3 은, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기이고, n 은 0 ∼ 15 의 정수이다.) 등을 들 수 있다. 또, 알킬기, 알케닐기는, 직사슬형이어도 되고 분기사슬형이어도 된다. 이들 중에서도, 상기 탄소수의 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기가 보다 바람직하다.In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, - (CH 2 CH 2 O) n R 3 (R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 15). The alkyl group and the alkenyl group may be linear or branched. Among them, the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms is preferable. desirable.

본 발명에 있어서는, 일반식 (1) 의, R1 및 R2 모두가, 수소 원자인 인산 (H3PO4) 도 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 상기 인산의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.In the present invention, phosphoric acid (H 3 PO 4 ) in which all of R 1 and R 2 in the general formula (1) are hydrogen atoms is also preferably used. Salts of the above phosphoric acids (metal salts such as sodium, potassium, and magnesium, ammonium salts, etc.) may also be preferably used.

또, 본 발명에 있어서는, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이, 산성 인산에스테르인 것이 바람직하다. 여기서, 산성 인산에스테르란, 일반식 (1) 의, R1 및 R2 모두가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기 인 경우 (디에스테르체) 나, R1, R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 경우 (모노에스테르체) 이고, 예를 들어 이하의 일반식 (2) :In the present invention, it is preferable that the compound represented by the general formula (1) is an acidic phosphate ester. Here, the acidic phosphate is a residue of a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms (diester body) in which all of R 1 and R 2 in the general formula (1) may contain an oxygen atom, and R 1 and R 2 is a hydrocarbon residue of 1 to 18 carbon atoms (a monoester form) in which one of R 1 and R 2 is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom. For example, the following general formula (2):

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
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(식 중, R1 은, 상기와 동일하고, R3 은, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기이고, n 은 0 ∼ 15 의 정수이다.) (Wherein R 1 is as defined above, R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 15 .)

로 나타내는 인산에스테르계 화합물을 들 수 있다.And phosphoric acid ester compounds represented by the following general formula (1).

일반식 (2) 의 R1 은, 일반식 (1) 의 R1 과 동일하고, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 상기와 동일한 것을 들 수 있다. 일반식 (2) 의 R1 로는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 18 의 직사슬 또는 분기의 알킬기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자, 또는 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 더 바람직하다. R3 으로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기를 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기인 것이 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬기가 더 바람직하다. 또, n 은, 0 ∼ 15 의 정수이고, 0 ∼ 10 의 정수인 것이 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서는, 폴리에틸렌옥사이드 구조 (CH2CH2O) 를 포함하지 않는 (즉, 식 (2) 에 있어서 n = 0) 것이, 열화 방지의 관점에서 바람직하다.R 1 of formula (2) is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms that is the same as R 1 of formula (1), and may contain a hydrogen atom, or an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom include the same ones as described above. R 1 in the general formula (2) is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom or a linear or branched More preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. As R 3 , an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms can be mentioned, and it is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, More preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. Also, n is an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 10. In the present invention, it is preferable from the viewpoint of prevention of deterioration that it does not include the polyethylene oxide structure (CH 2 CH 2 O) (that is, n = 0 in the formula (2)).

일반식 (2) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물로는, 피착체에 대한 흡착 효과의 관점에서, R1 이 수소 원자이고, R3 이 탄소수 1 ∼ 18 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 바람직하고, R1 이 수소 원자이고, R3 이 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 보다 바람직하며, R1 이 수소 원자이고, R3 이 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 더 바람직하다.Phosphoric ester compounds represented by the general formula (2) include phosphoric acid monoesters in which R 1 is a hydrogen atom and R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, from the viewpoint of the adsorption effect on the adherend More preferably a phosphoric acid monoester in which R 1 is a hydrogen atom and R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is a hydrogen atom and R 3 is a linear chain having 2 to 6 carbon atoms Or a branching alkyl group is more preferable.

또, 본 발명에 있어서는, 일반식 (2) 로 나타내는 화합물을 2 종 이상 혼합하여 사용해도 되고, 또 일반식 (2) 로 나타내는 화합물과 상기 인산의 혼합물을 사용해도 된다. 또, 일반적으로, 일반식 (2) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물은, 모노에스테르와 디에스테르의 혼합물로서 얻어지는 경우가 많은 것이고, 상기 모노에스테르와 디에스테르의 혼합물에, 상기 인산을 추가로 첨가해 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a mixture of two or more compounds represented by the general formula (2) may be used, or a mixture of the compound represented by the general formula (2) and the above phosphoric acid may be used. In general, the phosphoric acid ester compound represented by the general formula (2) is often obtained as a mixture of a monoester and a diester, and the phosphoric acid is further added to the mixture of the monoester and the diester .

본 발명에 있어서는, 일반식 (2) 로 나타내는 화합물의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.In the present invention, salts of compounds represented by the general formula (2) (metal salts such as sodium, potassium and magnesium, ammonium salts and the like) can also be preferably used.

상기 일반식 (2) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물의 시판품으로는, 토호 화학 공업 (주) 제조의 「포스파놀 SM-172」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 219 ㎎KOH/g), 「포스파놀 GF-185」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C13H27, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 158 ㎎KOH/g), 「포스파놀 BH-650」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 1, 모노·디 혼합물, 산가 : 388 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-410」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C13H27, n = 4, 모노·디 혼합물, 산가 : 105 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-610」(일반식 (2) 의 R1 = C13H27, R3 = C13H27, n = 6, 모노·디 혼합물, 산가 : 82 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-710」(일반식 (2) 의 R1 = C13H27, R3 = C13H27, n = 10, 모노·디 혼합물, 산가 : 62 ㎎KOH/g), 「포스파놀 ML-220」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25, n = 2, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 ML-200」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 ED-200」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 1, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 RL-210」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C18H37, n = 2, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 GF-339 (일반식 (2) 의 R1 = R3 = C6H13 ∼ C10H21 의 혼합, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 GF-199」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 RL-310」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C18H37, n = 3, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 LP-700」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C6H5, n = 6, 모노·디 혼합물), 다이하치 화학 공업 (주) 제조의 「AP-1」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = CH3, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 650 ㎎KOH/g 이상), 「AP-4」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 452 ㎎KOH/g), 「DP-4」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 292 ㎎KOH/g), 「MP-4」(일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 670 ㎎KOH/g), 「AP-8」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 306 ㎎KOH/g), 「AP-10」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C10H21, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 263 ㎎KOH/g), 「MP-10」(일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C10H21, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 400 ㎎KOH/g), 조호쿠 화학 (주) 제조의 「JP-508」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 288 ㎎KOH/g), 「JP-513」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C13H27, n = 0, 모노·디 혼합물), 「JP-524R」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C24H49, n = 0, 모노·디 혼합물), 「DBP」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 266 ㎎KOH/g), 「LB-58」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 디에스테르체, 산가 : 173 ㎎KOH/g), 닛코 케미칼즈 (주) 제조의 「닛콜 DDP-2」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25 ∼ C15H31 의 혼합물, n = 2), SIGMA-ALDRICH 제조의 모노-N-부틸포스페이트 (O=P(OH)2(OC4H9), 일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C4H9, n = 0, Product Nomber : CDS001281, 모노에스테르체) 등 그리고 그들의 염을 들 수 있다. 또한, 상기 「모노·디 혼합물」이란, 모노에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = H) 와 디에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기) 의 혼합물인 것을 나타내는 것이고, 예를 들어 포스파놀 SM-172 의 경우, 모노에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C8H17, n = 0) 와, 디에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0) 의 혼합물인 것을 나타낸다. 상기 「모노·디 혼합물」의 모노에스테르와 디에스테르의 혼합 비율은, 31P-NMR 의 측정 결과로부터 산출할 수 있다. 측정 방법에 대해서는, 실시예에 기재한 바와 같다.As a commercially available product of the phosphate ester compound represented by the general formula (2), "Phosphanol SM-172" (R 1 = R 3 = C 8 H 17 in the general formula (2) n = 0, mono-di mixture, acid value: 219 mgKOH / g), "Phosphanol GF-185" (R 1 = R 3 = C 13 H 27 , (Phosphophenol BH-650) (R 1 = R 3 = C 4 H 9 , n = 1 in the formula (2), mono-di mixture, acid value: 388 mgKOH / g), "Phosphanol RS-410" (R 1 = R 3 = C 13 H 27 , n = 4, mono-di mixture in the general formula (2), acid value: 105 mgKOH / g) RS-610 "(R 1 = C 13 H 27 , R 3 = C 13 H 27 , n = 6, mono-di mixture, acid value: 82 mg KOH / g in the general formula (2))," Phosphanol RS- 710 "(R 1 = C 13 H 27 , R 3 = C 13 H 27 , n = 10, mono-di mixture, acid value: 62 mgKOH / g in the general formula (2))," Phosphanol ML- (R 1 = R 3 = C 12 H 25 , n = 2, mono-di mixture in the general formula (2)), "Phosphanol ML- 200 "(R 1 in the formula (2) = R 3 = C 12 H 25, n = 0, mono-, di-mixture)," Force propanol ED-200 "(R 1 in the formula (2) = R 3 = C 8 H 17 , n = 1, mono-di mixture), "Phosphanol RL-210" (R 1 = R 3 = C 18 H 37 , n = 2, mono-di mixture of general formula "Phosphanol GF-339 (mixture of R 1 = R 3 = C 6 H 13 to C 10 H 21 in general formula (2), n = 0, mono-di mixture) formula (2) R 1 = R 3 = C 12 H 25, n = 0, mono-, di-mixture), R 1 = R 3 = C 18 H 37 of "Force propanol RL-310" (the general formula (2) , n = 3, mono-di mixture), "Phosphanol LP-700" (R 1 = R 3 = C 6 H 5 , n = 6, mono-di mixture in the general formula (2) AP-1 "(R 1 = R 3 = CH 3 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 650 mg KOH / g or more in the general formula (2) DP-4 (represented by R 1 in the general formula (2) (R 1 = R 3 = C 4 H 9 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 452 mgKOH / g) = R 3 = C 4 H 9 , (R 1 = H, R 3 = C 4 H 9 , n = 0, mono-di (n = 0), mono-di mixture, acid value: 292 mgKOH / g) AP-8 (R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 306 mg KOH / g in the formula (2) ), "AP-10" (R 1 = R 3 = C 10 H 21 , n = 0 in the general formula (2), mono-di mixture, acid value: 263 mgKOH / g) JP-508 "(trade name, manufactured by Joho Chemical Co., Ltd.) (R 1 = H, R 3 = C 10 H 21 , n = 0, mono-di mixture and acid value: 400 mgKOH / R 1 of formula (2) = R 3 = C 8 H 17, n = 0, mono, di mixture, acid value: 288 ㎎KOH / g), R 1 of "JP-513" (formula (2) = R 3 = C 13 H 27 , n = 0, mono-di mixture), JP-524R (R 1 = R 3 = C 24 H 49 , , "DBP" (R 1 = R 3 = C 4 H 9 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 266 mgKOH / g in the general formula (2)), "LB- ) of R 1 = R 3 = C 8 H 17, n = 0, diester body, acid value: 173 KOH / g), Nikko Chemicals's R (Note) "nitkol DDP-2" (Formula (2, Ltd.) 1 = a mixture of R 3 = C 12 H 25 ~ C 15 H 31, n = 2), SIGMA (O = P (OH) 2 (OC 4 H 9 ), R 1 = H, R 3 = C 4 H 9 , n = 0, Product Nomber : CDS001281, monoester), and salts thereof. The term "mono-di mixture" as used herein refers to a mixture of a monoester (R 1 = H in the formula (2)) and a diester (R 1 in the formula (2) For example, a monoester (R 1 = H, R 3 = C 8 H 17 , n = 0 in the general formula (2)) in the case of phosphanol SM-172, Diester (R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0 in the general formula (2)). The mixing ratio of the monoester and diester of the "mono-di mixture" can be calculated from the measurement results of 31 P-NMR. The measurement method is as described in the examples.

본 발명에서 사용하는 인산계 화합물로는, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 (또는, 일반식 (2) 로 나타내는 화합물), 또는 이들의 염이나 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 1 종 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 피착체 (특히, 금속 또는 금속 산화물이나, 금속 또는 금속 산화물로 이루어지는 층을 갖는 피착체) 에 대한 흡착 효과의 관점에서, 인산, 인산모노에스테르, 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 2 개 이상의 혼합물인 것이 바람직하고, 인산을 포함하고, 또한 인산모노에스테르 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 인산에스테르를 포함하는 혼합물인 것이 보다 바람직하며, 인산모노에스테르 및 인산을 포함하는 혼합물인 것이 특히 바람직하다. 본 발명에 있어서는, 인산, 인산모노에스테르, 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 단독을 사용할 수도 있지만, 인산을 단독으로 사용하면, 점착제 조성물의 포트 라이프가 불충분해지는 경우가 있다. 또, 인산은 매우 극성이 높은 화합물이고, 아크릴계 폴리머와의 상용성이 충분하지 않기 때문에, 인산이 점착제층 표면으로 블리드 아웃하고, 그 결과, 내구성의 점에서 문제가 발생하는 경우가 있다. 또, 인산을 사용하지 않고, 인산에스테르 (인산모노에스테르 및/또는 인산디에스테르) 만을 사용하면, 매우 가혹한 조건에서의 내구성 (예를 들어, 히트 사이클 시험 등) 에서 문제가 생기는 경우가 있다. 본 발명에 있어서는, 투명 도전층의 부식 억제와 매우 가혹한 조건에서의 내구성의 밸런스의 관점에서는, 인산과 인산모노에스테르를 포함하는 인산계 화합물을 사용하는 것이 가장 바람직하다. 또, 인산 및 인산모노에스테르의 합계량은, 특별히 한정되지 않지만, 인산계 화합물 100 중량% 에 있어서 80 중량% 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 인산모노에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우에는, R1 이 수소 원자인 화합물) 이고, 인산디에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우는, R1 이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물) 이다.The phosphoric acid compound used in the present invention may be a compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) (or a compound represented by the general formula (2)), (In particular, an adherend having a metal or a metal oxide or a layer composed of a metal or a metal oxide) from the viewpoint of the effect of adsorption on the adherend (particularly, a metal or a metal oxide or a layer comprising a metal or a metal oxide) And a phosphoric acid diester, and it is preferably a mixture containing phosphoric acid and at least one phosphoric acid ester selected from the group consisting of phosphoric acid monoester and phosphoric acid diester Particular preference is given to mixtures comprising phosphoric acid monoester and phosphoric acid. In the present invention, one kind selected from the group consisting of phosphoric acid, phosphoric acid monoester and phosphoric acid diester may be used alone, but if phosphoric acid is used alone, the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition may be insufficient. Further, since phosphoric acid is a compound having a very high polarity and compatibility with the acrylic polymer is not sufficient, phosphoric acid may bleed out to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, resulting in a problem in terms of durability. In addition, if phosphoric acid is not used and only phosphoric acid ester (phosphoric acid monoester and / or phosphoric acid diester) is used, there may be a problem in durability under very severe conditions (for example, heat cycle test). In the present invention, it is most preferable to use a phosphoric acid-based compound containing phosphoric acid and phosphoric acid monoester from the viewpoint of balance between corrosion inhibition of the transparent conductive layer and durability under extremely severe conditions. The total amount of the phosphoric acid and the phosphoric acid monoester is not particularly limited, but is preferably 80% by weight or more based on 100% by weight of the phosphoric acid compound. Here, the phosphoric acid monoester is a compound which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms, in which one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom (general formula (2) ) is, R 1 is a hydrogen atom) in the case of a phosphoric acid diester is, is represented by the general formula (1) R 1 and R 2, may contain an oxygen atom, a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms is a compound (In the case of the general formula (2), a compound wherein R 1 is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms, which may contain an oxygen atom).

상기 피착체 (특히 금속 또는 금속 산화물) 에 대한 흡착 효과는, 피착면과 인산계 화합물이, HSAB 칙으로 정의되는, 즉 「굳은 및 무른 산염기의 법칙」에 관계한다고 생각되고, 굳은 산에는 굳은 염기, 무른 산에는 무른 염기를 조합함으로써 흡착 효과가 높고, 그 결과 높은 열화 방지 효과가 얻어진다고 생각된다. 즉, 예를 들어, ITO 의 In 은 HSAB 칙으로 정의되는 굳은 산에 해당하고, 인산계 화합물은, 인산, 인산모노에스테르, 인산디에스테르의 순서로 굳은 염기로부터 무른 염기로 되기 때문에, 상기 순서로 효과적으로 ITO 에 흡착할 수 있고, 그 결과, 높은 열화 방지 효과가 얻어진다고 생각된다.The adsorption effect on the adherend (in particular, metal or metal oxide) is considered to be related to the adhered surface and the phosphate-based compound defined by the HSAB rule, that is, the " rule of hard and soft acid bases " It is considered that the combination of a base and a weak base with an acid in the base and the mullulan has a high adsorption effect, and as a result, a high deterioration preventing effect is obtained. That is, for example, In of ITO corresponds to a hard acid defined by the HSAB rule, and since the phosphoric acid-based compound becomes a soft base from a solidified base in the order of phosphoric acid, phosphoric acid monoester and phosphoric acid diester, It can be effectively adsorbed to ITO, and as a result, a high deterioration preventing effect is obtained.

또, 모노에스테르체와 디에스테르체의 혼합물을 사용하는 경우에는, 모노에스테르체를 다량으로 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다. 상기 모노에스테르체와 디에스테르체의 혼합물의 혼합 비율 (중량비) 은, 모노에스테르체 : 디에스테르체 = 6 : 4 ∼ 9 : 1 인 것이 바람직하고, 7 : 3 ∼ 9 : 1 인 것이 보다 바람직하다. 상기 이유로부터, 모노에스테르체를 다량으로 포함함으로써, 피착체에 대한 흡착 효과가 높기 때문에 바람직하다. When a mixture of a monoester and a diester is used, the mixture is preferably a mixture containing a large amount of monoester. The mixing ratio (weight ratio) of the mixture of monoester and diester is preferably from 6: 4 to 9: 1, more preferably from 7: 3 to 9: 1 . For these reasons, it is preferable to include a large amount of the monoester compound because the adsorption effect on the adherend is high.

또, 전술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 인산에스테르계 화합물 (특히 인산모노에스테르) 에 추가로 인산을 첨가하는 것이 바람직하고, 그 경우의 인산의 첨가량은, 인산에스테르계 화합물 100 중량부에 대하여, 10 ∼ 400 중량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 100 중량부인 것이 보다 바람직하며, 10 ∼ 50 중량부인 것이, 피착체에 대한 흡착 효과의 관점에서 바람직하다. 또, 매우 가혹한 조건에서의 내구성의 관점에서는, 인산의 첨가량은, 인산에스테르계 화합물 100 중량부에 대하여, 10 ∼ 100 중량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 50 중량부인 것이 보다 바람직하다.As described above, in the present invention, it is preferable to add phosphoric acid in addition to the phosphoric acid ester compound (particularly phosphoric acid monoester). In this case, the amount of phosphoric acid to be added is preferably in the range of , Preferably 10 to 400 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, and more preferably 10 to 50 parts by weight in view of the adsorption effect on an adherend. From the viewpoint of durability under extremely severe conditions, the addition amount of phosphoric acid is preferably 10 to 100 parts by weight, more preferably 10 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the phosphate ester compound.

또, 본 발명에 있어서 사용하는 인산 화합물의 산가는, 900 ㎎KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 50 ∼ 800 ㎎KOH/g 인 것이 보다 바람직하며, 10 ∼ 700 ㎎KOH/g 인 것이 바람직하다. 또, 생산상 취급의 관점에서는, 상기 인산 화합물의 산가는, 400 ㎎KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 50 ∼ 400 ㎎KOH/g 인 것이 보다 바람직하며, 50 ∼ 350 ㎎KOH/g 인 것이 더 바람직하고, 100 ∼ 300 ㎎KOH/g 인 것이 특히 바람직하다. 인산 화합물은, 후술하는 가교제의 종류 (예를 들어, 이소시아네이트계 가교제) 에 따라서는, 가교 반응의 반응 촉매로서 작용하는 경우가 있고, 그 경우에는, 점착제로서의 포트 라이프가 짧아지는 경우가 있었다. 인산 화합물의 산가를 상기 범위로 함으로써, 반응 촉매로서 작용하는 것을 억제할 수 있으므로 점착제의 포트 라이프의 관점에서 바람직하다. 또, 상기 범위의 산가를 갖는 인산 화합물을, 후술하는 첨가량으로 첨가하는 것이, 효율적으로 효과를 발휘할 수 있는 관점에서 바람직하다.The acid value of the phosphoric acid compound used in the present invention is preferably 900 mgKOH / g or less, more preferably 50 to 800 mgKOH / g, and preferably 10 to 700 mgKOH / g. From the viewpoint of production handling, the acid value of the phosphate compound is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 50 to 400 mgKOH / g, still more preferably 50 to 350 mgKOH / g And particularly preferably from 100 to 300 mgKOH / g. The phosphoric acid compound sometimes acts as a reaction catalyst for the crosslinking reaction depending on the kind of the crosslinking agent (for example, an isocyanate crosslinking agent) to be described later. In that case, the pot life as the pressure-sensitive adhesive may be shortened. By setting the acid value of the phosphoric acid compound within the above range, it is possible to suppress the action as a reaction catalyst, which is preferable in view of the pot life of the pressure-sensitive adhesive. It is preferable to add the phosphoric acid compound having an acid value in the above range in an amount to be described later from the viewpoint of being able to exert an effective effect.

또, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로는, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 2 량체, 3 량체 등을 들 수 있다.Examples of the oligomer of the compound represented by the general formula (1) include dimers and trimer of the compound represented by the general formula (1).

상기 인산계 화합물의 첨가량은, 후술하는 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 0.001 ∼ 4 중량부인 것이 바람직하고, 0.001 ∼ 3 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.001 ∼ 2 중량부인 것이 더 바람직하고, 0.005 ∼ 1 중량부인 것이 특히 바람직하며, 0.01 ∼ 1 중량부인 것이 더 바람직하고, 0.02 ∼ 0.2 중량부인 것이 특히 바람직하다. 인산계 화합물의 첨가량이 상기 범위 내임으로써, 투명 도전층의 표면 저항값의 상승을 억제할 수 있고, 또한 가열·가습에 대한 내구성이 향상될 수 있으므로 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서는, 전술한 바와 같이, 인산, 인산에스테르 등의 인산 화합물을 병용할 수 있지만, 그 경우는, 합계량이 상기 범위가 되도록 첨가할 수 있다.The amount of the phosphoric acid compound to be added is preferably 0.001 to 4 parts by weight, more preferably 0.001 to 3 parts by weight, further preferably 0.001 to 2 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the (meth) acryl- Particularly preferably 0.005 to 1 part by weight, more preferably 0.01 to 1 part by weight, particularly preferably 0.02 to 0.2 part by weight. The addition amount of the phosphoric acid compound within the above range is preferable because the increase in the surface resistance value of the transparent conductive layer can be suppressed and the durability against heating and humidification can be improved. In the present invention, as described above, a phosphoric acid or phosphate compound such as phosphoric acid ester can be used in combination. In that case, the total amount can be added in the above range.

본 발명에 있어서는, 상기 인산계 화합물을 포함하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 점착제층이 형성된 편광 필름으로 함으로써, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층면에, 투명 도전층을 적층해도, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 상기 인산계 화합물에 인산이 포함되는 경우, 당해 인산이 투명 도전층 표면에서, 투명 도전층 중의 금속 이온과 부동태 피막을 형성하여, 편광자 중의 요오드가, 투명 도전층 표면까지 이행하지 않고, 그 결과 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각되고, 또 상기 인산계 화합물이 인산 화합물 (예를 들어, 인산에스테르 등) 을 함유하는 경우, 당해 인산 화합물이 선택적으로 투명 도전층 표면에 흡착하여 피막을 형성하기 때문에, 편광자 중의 요오드가, 투명 도전층 표면까지 이행하지 않고, 그 결과 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다.In the present invention, by forming the polarizing film having the pressure-sensitive adhesive layer having the pressure-sensitive adhesive layer formed of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing the phosphate compound, even if the transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer surface of the polarizing film on which the pressure- The increase in the surface resistance of the conductive layer can be suppressed. When phosphoric acid is contained in the phosphoric acid compound, the phosphoric acid forms a passive film with the metal ion in the transparent conductive layer on the surface of the transparent conductive layer so that the iodine in the polarizer does not migrate to the surface of the transparent conductive layer, And corrosion of the conductive layer is inhibited. When the phosphate compound contains a phosphoric acid compound (for example, phosphoric acid ester or the like), the phosphoric acid compound is selectively adsorbed on the surface of the transparent conductive layer to form a film The iodine in the polarizer does not migrate to the surface of the transparent conductive layer, and as a result, corrosion of the transparent conductive layer is inhibited.

여기서 말하는 부식에 대하여, 금속 산화물에서는, 일반적으로 알려져 있는 금속 부식과는 상이한 기구로 부식이 일어나고 있다. ITO 와 같은 금속 산화물의 경우, 편광자 유래의 요오드가, 금속 산화물층 중으로 스며들고, 금속 산화물의 캐리어 이동도를 저하시키기 때문에, 저항값의 상승이 발생한다.With respect to the corrosion referred to herein, metal oxides are corroded by a mechanism that is different from commonly known metal corrosion. In the case of a metal oxide such as ITO, iodine originating from the polarizer penetrates into the metal oxide layer and lowers the carrier mobility of the metal oxide, so that the resistance value increases.

본 발명에 있어서는, 전술한 바와 같은 금속 산화물의 부식에 대하여 우수한 부식 억제 효과를 발현할 수 있는 것이고, 특히 금속 산화물로 이루어지는 투명 도전층에 대하여 보다 양호한 효과를 발휘할 수 있는 것이다.In the present invention, it is possible to exhibit an excellent corrosion inhibiting effect against the corrosion of the metal oxide as described above, and in particular, a better effect can be exerted on the transparent conductive layer made of the metal oxide.

본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머로는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 알킬(메트)아크릴레이트를 함유하는 모노머 성분을 중합하여 얻어진 것이 바람직하고, 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 모노머 성분을 중합하여 얻어진 것이 바람직하다. 또한, 알킬(메트)아크릴레이트는, 알킬아크릴레이트 및/또는 알킬메타크릴레이트를 말하고, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다.The (meth) acryl-based polymer used in the present invention is not particularly limited, but for example, it is preferably obtained by polymerizing a monomer component containing an alkyl (meth) acrylate, and the alkyl (meth) acrylate and the hydroxyl Containing monomer is preferably obtained by polymerizing a monomer component containing a practical group-containing monomer. The alkyl (meth) acrylate refers to alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate and has the same meaning as (meth) of the present invention.

알킬(메트)아크릴레이트에 관련된 알킬기로는, 직사슬형 또는 분기사슬형의 각종의 것을 사용할 수 있다. 상기 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예로는, 예를 들어 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, 이소펜틸(메트)아크릴레이트, 이소아밀(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, 이소미리스틸(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, 테트라데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 옥타데실(메트)아크릴레이트, 또는 도데실(메트)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 탄소수 4 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 10 의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트가 보다 바람직하며, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 더 바람직하고, n-부틸(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.As the alkyl group related to the alkyl (meth) acrylate, various types of linear or branched alkyl groups can be used. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate include propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec- (Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, n-dodecyl ) Acrylate, and dodecyl (meth) acrylate. . These can be used alone or in combination. Among these, alkyl (meth) acrylates having an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms are preferable, and (meth) acrylates having an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms are more preferable, and n-butyl (meth) acrylate, 2- Ethylhexyl (meth) acrylate is more preferable, and n-butyl (meth) acrylate is particularly preferable.

상기 알킬(메트)아크릴레이트는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 50 중량부 이상인 것이 바람직하고, 60 중량부 이상인 것이 바람직하며, 70 중량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 80 중량부 이상인 것이 더 바람직하며, 90 중량부 이상인 것이 특히 바람직하다.The alkyl (meth) acrylate is preferably 50 parts by weight or more, more preferably 60 parts by weight or more, more preferably 70 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth) acrylic polymer, More preferably 80 parts by weight or more, particularly preferably 90 parts by weight or more.

또, 하이드록실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 하이드록실기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 하이드록실기 함유 모노머로는, 예를 들어 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메트)아크릴레이트, (4-하이드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들을 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 4-하이드록시부틸아크릴레이트가 바람직하다. 또, 후술하는 가교제로서 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우에는, 하이드록실기 함유 모노머로서 4-하이드록시부틸아크릴레이트를 사용함으로써, 이소시아네이트계 가교제의 이소시아네이트기와의 가교점을 효율적으로 확보할 수 있으므로 바람직하다.As the hydroxyl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a hydroxyl group can be used without particular limitation. Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (Meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, etc. These may be used singly or in combination of two or more kinds. Of these, 4-hydroxybutyl acrylate is preferred. When an isocyanate-based crosslinking agent is used as a crosslinking agent to be described later, it is preferable to use 4-hydroxybutyl acrylate as the hydroxyl group-containing monomer since a crosslinking point of the isocyanate-based crosslinking agent with the isocyanate group can be efficiently ensured .

하이드록실기 함유 모노머는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 10 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1 ∼ 3 중량부가 더 바람직하다.The hydroxyl group-containing monomer is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, and further preferably 0.1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth) acrylic polymer.

본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분에는, 상기 탄소수 4 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트, 임의로, 상기 하이드록실기 함유 모노머 등을 함유할 수 있지만, 이들 모노머 이외에도, 카르복실기 함유 모노머, 아릴기 함유 모노머, 그 밖의 공중합 모노머를 모노머 성분으로서 사용할 수 있다.The monomer component forming the (meth) acrylic polymer used in the present invention may include the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, optionally, the hydroxyl group-containing monomer, In addition, carboxyl group-containing monomers, aryl group-containing monomers and other copolymerizable monomers can be used as monomer components.

카르복실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 카르복실기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 모노머로는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.As the carboxyl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a carboxyl group can be used without particular limitation. Examples of the carboxyl group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and crotonic acid, Can be used in combination.

카르복실기 함유 모노머는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하인 것이 바람직하고, 8 중량부 이하가 보다 바람직하며, 특히 투명 도전층에 대한 거의 영향을 주지 않는 첨가량이라는 관점에서는, 6 중량부 이하가 더 바람직하고, 2 중량부 이하가 더 바람직하며, 0.5 중량부 이하가 특히 바람직하다.The carboxyl group-containing monomer is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 8 parts by weight or less, particularly preferably 100 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth) acryl- More preferably 6 parts by weight or less, further preferably 2 parts by weight or less, and particularly preferably 0.5 part by weight or less.

아릴기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 아릴기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 아릴기 함유 모노머로는, 예를 들어 (메트)아크릴산페닐, (메트)아크릴산벤질 등의 (메트)아크릴산아릴에스테르를 들 수 있다.As the aryl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having an aryl group can be used without particular limitation. Examples of the aryl group-containing monomer include (meth) acrylic acid aryl esters such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate.

아릴기 함유 모노머의 비율은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 30 중량부 이하가 바람직하고, 1 ∼ 20 중량부가 보다 바람직하며, 5 ∼ 15 중량부가 더 바람직하다.The proportion of the aryl group-containing monomer is preferably 30 parts by weight or less, more preferably from 1 to 20 parts by weight, and still more preferably from 5 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth) acrylic polymer .

그 밖의 공중합 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관련된 중합성의 관능기를 갖는 것이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산보르닐, (메트)아크릴산이소보르닐 등의 (메트)아크릴산 지환식 탄화수소에스테르 ; 예를 들어, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류 ; 예를 들어, 스티렌 등의 스티렌계 모노머 ; 예를 들어, (메트)아크릴산글리시딜, (메트)아크릴산메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 모노머 ; 예를 들어, (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시기 함유 모노머 ; 예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 모노머 ; 예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 관능성 모노머 ; 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀계 모노머 ; 예를 들어, 비닐에테르 등의 비닐에테르계 모노머 ; 예를 들어, 염화비닐 등의 할로겐 원자 함유 모노머 등을 들 수 있다.The other copolymerizable monomer is not particularly limited as long as it has a polymerizable functional group related to an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and examples thereof include cyclohexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid alicyclic hydrocarbon esters such as methyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; For example, styrene-based monomers such as styrene; Examples thereof include epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth) acrylate and methylglycidyl (meth) acrylate; Examples thereof include alkoxy group-containing monomers such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; For example, cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Functional monomers such as, for example, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate; For example, olefinic monomers such as ethylene, propylene, isoprene, butadiene and isobutylene; Vinyl ether monomers such as vinyl ether; Examples thereof include halogen atom-containing monomers such as vinyl chloride.

또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어, N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머 ; 예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 ; 예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머 ; 예를 들어, 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머를 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomer include maleimide-based monomers such as N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-laurylmaleimide and N-phenylmaleimide; For example, there may be mentioned N-methyl itaconimide, N-ethyl itaconimide, N-butyl itaconimide, N-octyl itaconimide, N-2-ethylhexyl itaconimide, Itaconimide monomers such as hexyl itaconimide and N-lauryl itaconimide; (Meth) acryloyloxymethylenesuccinimide, N- (meth) acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N- (meth) acryloyloxymethylenesuccinimide, N- Succinimide monomers such as succinimide; (Meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, (meth) acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxynaphthalenesulfonic acid and the like Of sulfonic acid group-containing monomers.

또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어, (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머 ; 그 외, 예를 들어 (메트)아크릴산테트라하이드로푸르푸릴이나, 불소(메트)아크릴레이트 등의 복소 고리나, 할로겐 원자를 함유하는 아크릴산에스테르계 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomers include glycol type acrylic esters such as (meth) acrylic acid polyethylene glycol, (meth) acrylic acid polypropylene glycol, (meth) acrylic acid methoxyethylene glycol and (meth) acrylic acid methoxypolypropylene glycol Monomers; In addition, examples thereof include heterocycles such as (meth) acrylate tetrahydrofurfuryl and fluorine (meth) acrylate, and acrylic ester monomers containing a halogen atom.

또한, 공중합성 모노머로서 다관능성 모노머를 사용할 수 있다. 다관능성 모노머로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트나, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트 외, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물 ; 디비닐벤젠 등의 다관능 비닐 화합물 ; (메트)아크릴산알릴, (메트)아크릴산비닐 등의 반응성의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 또, 다관능성 모노머로는, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 모노머 성분과 동일한 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다.Further, as the copolymerizable monomer, a polyfunctional monomer can be used. Examples of the polyfunctional monomer include compounds having two or more unsaturated double bonds such as a (meth) acryloyl group and a vinyl group. (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (Mono or poly) ethylene glycol di (meth) acrylate such as (meth) acrylate and (mono or poly) propylene glycol di (meth) acrylate such as propylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri Esters of (meth) acrylic acid and polyhydric alcohols such as acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; Polyfunctional vinyl compounds such as divinylbenzene; (Meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, and other reactive unsaturated double bonds. Examples of the polyfunctional monomer include polyester (meth) acrylate having two or more unsaturated double bonds such as (meth) acryloyl groups and vinyl groups as the same functional group as the monomer component in the backbone of polyester, epoxy, Epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and the like.

그 밖의 공중합 모노머의 비율은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 30 중량부 이하가 바람직하고, 20 중량부 이하가 보다 바람직하며, 15 중량부 이하가 더 바람직하고, 10 중량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 공중합 모노머의 비율이 지나치게 많아지면, 상기 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 유리나 필름, 투명 도전층 등의 각종 피착체에 대한 밀착성 저하 등의 점착 특성이 저하할 우려가 있다.The proportion of other copolymerizable monomer is preferably 30 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less, further preferably 15 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth) acrylic polymer , And particularly preferably 10 parts by weight or less. If the proportion of the copolymerizable monomer is excessively large, there is a possibility that the adhesive property such as deterioration of adhesiveness to various adherends such as glass, film, and transparent conductive layer of the pressure-sensitive adhesive layer formed of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may decrease.

본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 120만 ∼ 300만의 범위인 것이 바람직하고, 120만 ∼ 270만이 보다 바람직하며, 120만 ∼ 250만이 더 바람직하다. 중량 평균 분자량이 120만보다 작으면 내열성의 점에서 바람직하지 않은 경우가 있었다. 또, 중량 평균 분자량이 120만보다 작으면 점착제 조성물 중에 저분자량 성분이 많아지고, 당해 저분자량 성분이 점착제층으로부터 블리드 아웃하여, 투명성을 저해하는 경우가 있었다. 또 중량 평균 분자량이 120만보다 작은 (메트)아크릴계 폴리머를 이용하여 얻어진 점착제층은, 내용제성이나 역학 특성이 열등한 경우가 있었다. 또, 중량 평균 분자량이 300만보다 커지면, 도공하기 위한 점도로 조정하기 위해서 다량의 희석 용제가 필요해져, 비용의 관점에서 바람직하지 않다. 또, 중량 평균 분자량이, 상기 범위 내에 있음으로써, 내부식성, 내구성의 관점에서도 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.The weight average molecular weight of the (meth) acryl-based polymer used in the present invention is preferably in a range of from 1.2 million to 3 million, more preferably from 1.2 million to 2.7 million, and even more preferably from 1.2 million to 2.5 million. If the weight-average molecular weight is less than 1,200,000, the heat-resistant property may not be preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is less than 1,200,000, the low molecular weight component increases in the pressure-sensitive adhesive composition, and the low molecular weight component bleeds out from the pressure-sensitive adhesive layer, which may hinder transparency. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer obtained using a (meth) acryl-based polymer having a weight average molecular weight of less than 1,200,000 has poor solvent resistance and mechanical properties. On the other hand, if the weight average molecular weight is larger than 3,000,000, a large amount of a diluting solvent is required to adjust the viscosity for coating, which is not preferable from the viewpoint of cost. Also, since the weight average molecular weight is within the above range, it is preferable from the viewpoint of corrosion resistance and durability. The weight average molecular weight refers to a value measured by GPC (Gel Permeation Chromatography) and calculated by polystyrene conversion.

이와 같은 (메트)아크릴계 폴리머의 제조는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또, 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이라도 된다.The production of such (meth) acrylic polymers can be suitably selected from known production methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, various kinds of radical polymerization, and the like, and is not particularly limited. The (meth) acryl-based polymer to be obtained may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.

용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서, 예를 들어, 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합 예로는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류하에서, 중합 개시제를 첨가하고, 통상 50 ∼ 70 ℃ 정도에서, 5 ∼ 30 시간 정도의 반응 조건으로 실시된다.In the solution polymerization, for example, ethyl acetate, toluene and the like are used as the polymerization solvent. As a specific example of the solution polymerization, the reaction is carried out under the reaction conditions of about 50 to 70 ° C for about 5 to 30 hours by adding a polymerization initiator under an inert gas stream such as nitrogen.

라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 따라 제어 가능하고, 이들 종류에 따라 적절한 그 사용량이 조정된다.The polymerization initiator, chain transfer agent and emulsifier used in the radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used. The weight average molecular weight of the (meth) acryl-based polymer can be controlled depending on the amount of the polymerization initiator, the amount of the chain transfer agent used, and the reaction conditions.

중합 개시제로는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 2 황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트 (상품명 : VA-057, 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 등의 아조계 개시제, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제, 과황산염과 아황산수소나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 레독스계 개시제 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the polymerization initiator include azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- Azobis (2-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'- Azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] hydrate (trade name: VA-057, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate t-butyl peroxyneodecanoate, t-hexyl peroxy pivalate, t-butyl peroxy pivalate, dilauryl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3- Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate Di (t-hexylperoxy) cyclohexane, t-butyl hydroperoxide, hydrogen peroxide and the like, such as di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butyl peroxyisobutyrate, But are not limited to, a peroxide initiator, a combination of persulfate and sodium hydrogen sulfite, a redox initiator in combination with a peroxide such as a combination of peroxide and sodium ascorbate, and a reducing agent.

상기 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 0.005 ∼ 1 중량부 정도인 것이 바람직하다.The polymerization initiator may be used singly or in admixture of two or more. The content of the polymerization initiator is preferably 0.005 to 1 part by weight per 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth) acrylic polymer .

연쇄 이동제로는, 예를 들어 라우릴메르캅탄, 글리시딜메르캅탄, 메르캅토아세트산, 2-메르캅토에탄올, 티오글리콜산, 티오글루콜산 2-에틸헥실, 2,3-디메르캅토-1-프로판올 등을 들 수 있다. 연쇄 이동제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 정도 이하이다.Examples of the chain transfer agent include lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, 2,3-dimercapto- -Propanol and the like. The chain transfer agent may be used singly or in admixture of two or more, but the total content is about 0.1 part by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components.

본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 고온다습 조건하에서의 밀착성을 향상시키기 위해서, 각종 실란 커플링제를 첨가할 수 있다. 실란 커플링제로는, 임의의 적절한 관능기를 갖는 것을 사용할 수 있다. 관능기로는, 예를 들어 비닐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, (메트)아크릴록시기, 아세토아세틸기, 이소시아네이트기, 스티릴기, 폴리술파이드기 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리부톡시실란 등의 비닐기 함유 실란 커플링제 ; γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제 ; γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 실란 커플링제 ; γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란 등의 메르캅토기 함유 실란 커플링제 ; p-스티릴트리메톡시실란 등의 스티릴기 함유 실란 커플링제 ; γ-아크릴록시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴록시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제 ; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 ; 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드 등의 폴리술파이드기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다.To the acrylic pressure sensitive adhesive composition used in the present invention, various silane coupling agents may be added in order to improve the adhesion under high temperature and high humidity conditions. As the silane coupling agent, those having any appropriate functional group can be used. Examples of the functional group include a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a (meth) acryloyl group, an acetoacetyl group, an isocyanate group, a styryl group and a polysulfide group. Specific examples thereof include vinyl group-containing silane coupling agents such as vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, vinyltriisopropoxysilane and vinyltributoxysilane; ? -glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. An epoxy group-containing silane coupling agent; (aminoethyl) -? - aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane,? -triethoxysilyl Amino group-containing silane coupling agents such as -N- (1,3-dimethylbutylidene) propylamine and N-phenyl- gamma -aminopropyltrimethoxysilane; a mercapto group-containing silane coupling agent such as? -mercaptopropylmethyl dimethoxysilane; styryl group-containing silane coupling agents such as p-styryltrimethoxysilane; (meth) acryl group-containing silane coupling agents such as? -acryloxypropyltrimethoxysilane and? -methacryloxypropyltriethoxysilane; Isocyanate group-containing silane coupling agents such as 3-isocyanatepropyltriethoxysilane; And polysulfide group-containing silane coupling agents such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide.

상기 실란 커플링제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 1 중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 1 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.02 ∼ 0.8 중량부인 것이 더 바람직하고, 0.05 ∼ 0.7 중량부인 것이 특히 바람직하다. 실란 커플링제의 배합량이 1 중량부를 초과하면, 미반응 커플링제 성분이 발생하여, 내구성의 점에서 바람직하지 않다. The silane coupling agent may be used alone or in admixture of two or more, but the total content is preferably 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of the total monomer component constituting the (meth) acrylic polymer More preferably 0.01 to 1 part by weight, still more preferably 0.02 to 0.8 part by weight, particularly preferably 0.05 to 0.7 part by weight. If the blending amount of the silane coupling agent exceeds 1 part by weight, an unreacted coupling agent component is generated, which is not preferable from the standpoint of durability.

또한, 상기 실란 커플링제가, 상기 모노머 성분과 라디칼 중합에 의해 공중합할 수 있는 경우에는, 당해 실란 커플링제를 상기 모노머 성분으로서 사용할 수 있다. 그 비율은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 0.005 ∼ 0.7 중량부인 것이 바람직하다.When the silane coupling agent can be copolymerized with the monomer component by radical polymerization, the silane coupling agent can be used as the monomer component. The ratio is preferably 0.005 to 0.7 part by weight based on 100 parts by weight of the total monomer component constituting the (meth) acrylic polymer.

나아가서는, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 가교제를 첨가함으로써, 점착제의 내구성에 관계하는 응집력을 부여할 수 있기 때문에 바람직하다.Furthermore, the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention is preferably added with a crosslinking agent because cohesive force relating to the durability of the pressure-sensitive adhesive can be imparted.

가교제로는, 다관능성의 화합물이 사용되고, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 들 수 있다. 유기계 가교제로는, 에폭시계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 과산화물계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속 원자가 유기 화합물과 공유결합 또는 배위결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유결합 또는 배위결합하는 유기 화합물 중의 원자로는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다. 이들 가교제는, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 과산화물계 가교제, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하고, 이들을 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하다.As the crosslinking agent, a polyfunctional compound is used, and examples thereof include an organic crosslinking agent and a polyfunctional metal chelate. Examples of the organic crosslinking agent include an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, an imine crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent and a peroxide crosslinking agent. The polyfunctional metal chelate is a covalent bond or a coordination bond of a polyvalent metal atom with an organic compound. Examples of the multivalent metal atom include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, have. Examples of the reactive group in the covalent bond or the coordination bond include an oxygen atom and the like. Examples of the organic compound include an alkyl ester, an alcohol compound, a carboxylic acid compound, an ether compound and a ketone compound. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, a peroxide-based cross-linking agent and an isocyanate-based cross-linking agent are preferable, and it is more preferable to use them in combination.

이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기 (이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 (數量體化) 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 관능기를 포함한다) 를 1 분자 중에 2 개 이상 갖는 화합물을 말한다.The isocyanate-based crosslinking agent refers to a compound having two or more isocyanate groups (including an isocyanate regenerated functional group temporarily protected by an isocyanate group as a blocking agent or a quantification agent) in one molecule.

이소시아네이트계 가교제로는, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다. Examples of the isocyanate crosslinking agent include aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate and xylylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate; and aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate.

보다 구체적으로는, 예를 들어 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3 량체 부가물 (상품명 : 코로네이트 L, 닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3 량체 부가물 (상품명 : 코로네이트 HL, 닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (상품명 : 코로네이트 HX, 닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조) 등의 이소시아네이트 부가물, 자일릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물 (상품명 : D110N, 미츠이 화학 (주) 제조), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물 (상품명 : D160N, 미츠이 화학 (주) 제조) ; 폴리에테르폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 그리고 이들과 각종 폴리올의 부가물, 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 이들 중, 지방족 이소시아네이트를 사용하는 것이, 반응 속도가 빠르기 때문에 바람직하다.More specifically, examples thereof include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, alicyclic isocyanates such as 2,4- Aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate and polymethylene polyphenyl isocyanate, trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer addition product (trade name: Coronate L, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), trimethylolpropane / hexamethylene diisocyanate trimer addition product (trade name: Coronate HL, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), hexamethylene diisocyanate isocyanurate ( Product name: Coronate HX, Nippon Polyurethane (Trade name: D110N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), trimethylol propane adduct of hexamethylene diisocyanate (trade name: D160N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), trimethylol propane adduct of xylylene diisocyanate Manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.); Polyether polyisocyanates, polyester polyisocyanates, polyisocyanates that are multifunctionalized by adducts of these with various polyols, isocyanurate bonds, biuret bonds, allophanate bonds, and the like. Of these, it is preferable to use an aliphatic isocyanate because the reaction rate is fast.

과산화물계 가교제로는, 각종 과산화물이 사용된다. 과산화물로는, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 가교 반응 효율이 우수한, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드가 바람직하게 사용된다.As the peroxide-based crosslinking agent, various peroxides are used. Examples of the peroxide include di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t- 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3- 3,3-tetramethylbutylperoxy 2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate and the like. Of these, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, dilauryl peroxide, and dibenzoyl peroxide, which are particularly excellent in the efficiency of the crosslinking reaction, are preferably used.

아크릴계 점착제 조성물에 있어서의 가교제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상 상기 (메트)아크릴계 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대하여, 가교제 (고형분) 10 중량부 정도 이하의 비율로 배합된다. 상기 가교제의 배합 비율은, 0.01 ∼ 10 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 5 중량부 정도가 바람직하다. 또, 특히, 과산화물계 가교제를 사용하는 경우에는, (메트)아크릴계 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대하여, 0.05 ∼ 1 중량부 정도가 바람직하고, 0.06 ∼ 0.5 중량부가 보다 바람직하다.The blending ratio of the crosslinking agent in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, but is usually blended at a ratio of about 10 parts by weight or less of the crosslinking agent (solid content) to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (solid content). The blending ratio of the crosslinking agent is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.01 to 5 parts by weight. Particularly, when a peroxide-based crosslinking agent is used, the amount is preferably 0.05 to 1 part by weight, more preferably 0.06 to 0.5 part by weight per 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (solid content).

또, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 이온성 화합물을 첨가함으로써, 공정 작업 시의 필름의 대전 방지의 관점에서 바람직하다.The addition of an ionic compound to the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention is preferable from the viewpoint of preventing electrification of the film during processing.

이온성 화합물로는, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염을 바람직하게 사용할 수 있다. 알칼리 금속염은, 알칼리 금속의 유기염, 및 무기염을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에서 말하는, 「유기 카티온-아니온염」이란, 유기염이고, 그 카티온부가 유기물로 구성되어 있는 것을 나타내고, 아니온부는 유기물이어도 되고, 무기물이어도 된다. 「유기 카티온-아니온염」은, 이온성 액체, 이온성 고체라고도 말한다.As the ionic compound, an alkali metal salt and / or an organic cation-anion salt can be preferably used. As the alkali metal salt, an organic salt of an alkali metal, and an inorganic salt can be used. The term "organic cation-anion salt" in the present invention means an organic salt, and the cation portion thereof is composed of an organic substance, and the anion portion may be an organic substance or an inorganic substance. The term "organic cation-anion salt" is also referred to as an ionic liquid or an ionic solid.

<알칼리 금속염><Alkali metal salt>

알칼리 금속염의 카티온부를 구성하는 알칼리 금속 이온으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨의 각 이온을 들 수 있다. 이들 알칼리 금속 이온 중에서도, 리튬 이온이 바람직하다.Examples of the alkali metal ion constituting the cation part of the alkali metal salt include ions of lithium, sodium and potassium. Of these alkali metal ions, lithium ions are preferred.

알칼리 금속염의 아니온부는 유기물로 구성되어 있어도 되고, 무기물로 구성되어 있어도 된다. 유기염을 구성하는 아니온부로는, 예를 들어 CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 -, PF6 -, CO3 2- 나 하기 일반식 (4) ∼ (7),The anion portion of the alkali metal salt may be composed of an organic material or may be composed of an inorganic material. Anion portion constituting the organic salt is, for example, CH 3 COO -, CF 3 COO -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 3 C -, C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, - O 3 S (CF 2) 3 SO 3 -, PF 6 -, CO 3 2- or to general formula ( 4) to (7),

(4) : (CnF2n+1SO2)2N- (단, n 은 1 ∼ 10 의 정수),(4): ???????? (C n F 2n + 1 SO 2 ) 2 N - wherein n is an integer of 1 to 10,

(5) : CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m 은 1 ∼ 10 의 정수), (5): CF 2 (C m F 2 m SO 2 ) 2 N - (wherein m is an integer of 1 to 10)

(6) : -O3S(CF2)lSO3 - (단, l 은 1 ∼ 10 의 정수),(6): - O 3 S (CF 2 ) 1 SO 3 - (wherein 1 is an integer of 1 to 10),

(7) : (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2) (단, p, q 는 1 ∼ 10 의 정수), (7): (C p F 2p + 1 SO 2 ) N - (C q F 2q + 1 SO 2 ) (where p and q are integers of 1 to 10)

로 나타내는 것 등이 사용된다. 특히, 불소 원자를 포함하는 아니온부는, 이온 해리성이 양호한 이온 화합물이 얻어지므로 바람직하게 사용된다. 무기염을 구성하는 아니온부로는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N- 등이 사용된다. 아니온부로는, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N- 등의 상기 일반식 (4) 로 나타내는, (퍼플루오로알킬술포닐)이미드가 바람직하고, 특히 (CF3SO2)2N- 로 나타내는 (트리플루오로메탄술포닐)이미드가 바람직하다.And the like are used. Particularly, the anion moiety containing a fluorine atom is preferably used since an ionic compound having a good ion dissociation property can be obtained. The anion forming the inorganic salt includes Cl - , Br - , I - , AlCl 4 - , Al 2 Cl 7 - , BF 4 - , PF 6 - , ClO 4 - , NO 3 - , AsF 6 - , SbF 6 - , NbF 6 - , TaF 6 - , (CN) 2 N - and the like. An anion is preferably a (perfluoroalkylsulfonyl) imide represented by the above general formula (4) such as (CF 3 SO 2 ) 2 N - or (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - Particularly, (trifluoromethanesulfonyl) imide represented by (CF 3 SO 2 ) 2 N - is preferable.

알칼리 금속의 유기염으로는, 구체적으로는 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, 헥사플루오로인산리튬 (LiPF6), LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C, KO3S(CF2)3SO3K, LiO3S(CF2)3SO3K 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 헥사플루오로인산리튬 (LiPF6), LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등이 바람직하고, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N 등의 불소 함유 리튬이미드염이 보다 바람직하며, 헥사플루오로인산리튬 (LiPF6), 리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (LiTFSI, Li(CF3SO2)2N) 가 특히 바람직하다.Specific examples of the organic salts of alkali metals include sodium acetate, sodium alginate, sodium ligninsulfonate, sodium toluenesulfonate, lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), LiCF 3 SO 3 , Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (CF 3 SO 2) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2) 2 N, Li (C 4 F 9 SO 2) 2 N, Li (CF 3 SO 2) 3 C, KO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 K and LiO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 K, among which lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), LiCF 3 SO 3 , Li (CF 3 SO 2 ) 2 N , Li (C 2 F 5 SO 2) 2 N, Li (C 4 F 9 SO 2) 2 N, Li (CF 3 SO 2) 3 C , etc. are preferred, Li (CF 3 SO 2) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N and Li (C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, and more preferred are fluorine-containing lithium imide salts such as lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), lithium bistrifluoro the methanesulfonyl imide (LiTFSI, Li (CF 3 SO 2) 2 N) is particularly preferred.

또, 알칼리 금속의 무기염으로는, 과염소산리튬, 요오드화리튬을 들 수 있다.Examples of inorganic salts of alkali metals include lithium perchlorate and lithium iodide.

<유기 카티온-아니온염>&Lt; Organocathion-Anion Salt &gt;

본 발명에서 사용되는 유기 카티온-아니온염은, 카티온 성분과 아니온 성분으로 구성되어 있고, 상기 카티온 성분은 유기물로 이루어지는 것이다. 카티온 성분으로서 구체적으로는, 피리디늄 카티온, 피페리디늄 카티온, 피롤리디늄 카티온, 피롤린 골격을 갖는 카티온, 피롤 골격을 갖는 카티온, 이미다졸륨 카티온, 테트라하이드로피리미디늄 카티온, 디하이드로피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄 카티온, 테트라알킬암모늄 카티온, 트리알킬술포늄 카티온, 테트라알킬포스포늄 카티온 등을 들 수 있다.The organic cation-anion salt used in the present invention is composed of a cationic component and an anionic component, and the cationic component is an organic substance. Specific examples of the cationic component include pyridinium cation, piperidinium cation, pyrrolidinium cation, cation having pyrroline skeleton, cation having pyrrole skeleton, imidazolium cation, tetrahydropyrimidine Pyrazolium cation, pyrazolinium cation, tetraalkylammonium cation, trialkylsulfonium cation, tetraalkylphosphonium cation, and the like can be given.

아니온 성분으로는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, ((CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 - 나 하기 일반식 (4) ∼ (7),As the anion component, for example, Cl - , Br - , I - , AlCl 4 - , Al 2 Cl 7 - , BF 4 - , PF 6 - , ClO 4 - , NO 3 - , CH 3 COO - 3 COO -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 3 C -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, (CN) 2 N -, C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO -, ((CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, - O 3 S (CF 2) 3 SO 3 - or the following formula (4) to ( 7),

(4) : (CnF2n+1SO2)2N- (단, n 은 1 ∼ 10 의 정수),(4): ???????? (C n F 2n + 1 SO 2 ) 2 N - wherein n is an integer of 1 to 10,

(5) : CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m 은 1 ∼ 10 의 정수),(5): CF 2 (C m F 2 m SO 2 ) 2 N - (wherein m is an integer of 1 to 10)

(6) : -O3S(CF2)lSO3 - (단, l 은 1 ∼ 10 의 정수),(6): - O 3 S (CF 2 ) 1 SO 3 - (wherein 1 is an integer of 1 to 10),

(7) : (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2) (단, p, q 는 1 ∼ 10 의 정수), (7): (C p F 2p + 1 SO 2 ) N - (C q F 2q + 1 SO 2 ) (where p and q are integers of 1 to 10)

로 나타내는 것 등이 사용된다. 이들 중에서도, 특히, 불소 원자를 포함하는 아니온 성분은, 이온 해리성이 양호한 이온 화합물이 얻어지므로 바람직하게 사용된다.And the like are used. Among these, anionic components containing a fluorine atom are preferably used because an ionic compound having good ion dissociability is obtained.

유기 카티온-아니온염의 구체예로는, 상기 카티온 성분과 아니온 성분의 조합으로 이루어지는 화합물이 적절히 선택하여 사용된다. 예를 들어, 1-부틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 1-부틸피리디늄헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-헥실피리디늄테트라플루오로보레이트, 2-메틸-1-피롤린테트라플루오로보레이트, 1-에틸-2-페닐인돌테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸인돌테트라플루오로보레이트, 1-에틸카르바졸테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨디시안아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨브로마이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨클로라이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-2,3-디메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸-3-프로필이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 3-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄테트라플루오로보레이트, 디알릴디메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 디알릴디메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄테트라플루오로보레이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄트리플루오로메탄술포네이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 글리시딜트리메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-부틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 디알릴디메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 글리시딜트리메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-노닐암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리옥틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-부틸-3-메틸피리딘-1-이움트리플루오로메탄술포네이트 등을 들 수 있다. 이들의 시판품으로서, 예를 들어 「CIL-314」(닛폰 카리트 (주) 제조), 「ILA2-1」(코에이 화학 공업 (주) 제조) 등이 사용 가능하다.As a specific example of the organic cation-anion salt, a compound comprising a combination of the cationic component and the anion component is appropriately selected and used. For example, 1-butylpyridinium tetrafluoroborate, 1-butylpyridinium hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylpyridinium tetrafluoroborate, 1-butyl- Butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-butyl-3-methylpyridinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1- Methyl-1-pyrrolin tetrafluoroborate, 1-ethyl-2-phenylindole tetrafluoroborate, 1,2-dimethyl indole tetrafluoroborate, 1-ethylcarbazole tetra Ethyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate, 3-methylimidazolium heptafluorobutyrate, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoro Ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethyl) imidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium perfluorobutanesulfonate, Ethyl-3-methylimidazolium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium tris (trifluoromethanesulfonyl) imide Butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate, Methylimidazolium heptafluorobutyrate, 1-butyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium perfluorobutanesulfonate, 1-butyl- 3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-hexyl-3-methylimidazolium bromide, 1-hexyl-3-methylimidazolium chloride, 1- 3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-octyl- 3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate, 1,2-dimethyl-3-propyl (Trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methylpyrazolium tetrafluoroborate, 3-methylpyrazolium tetrafluoroborate, tetrahexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, di Allyl dimethyl ammonium tetrafluoroborate, diallyldimethyl ammonium trifluoromethanesulfonate, diallyldimethyl ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, diallyldimethyl ammonium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide , N, N-diethyl-N-methyl-N- (2- N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium trifluoromethanesulfonate, N, (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium bis (pentafluoroethanesulfonyl) Glycidyltrimethylammonium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, glycidyltrimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, glycidyltrimethylammonium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, Butylpyridinium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, 1-butyl-3-methylpyridinium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, 1-ethyl- N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, tri (Trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, N, N-dimethyl-N- (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, diallyldimethylammonium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, glycidyltrimethylammonium N-dimethyl-N-ethyl-N-butylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl- (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl-N-ethyl-N-hexylammonium bis (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl-N-ethyl-N-nonylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl-N-propyl-N-butylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) , N-dimethyl-N- N, N-dimethyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl- N, N-dimethyl-N-heptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl- Dimethyl-N-butyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dimethyl- N-dimethyl-N, N-dihexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylheptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, -Propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-diethyl-N-methyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, Methyl-N-heptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-diethyl- N-propyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, triethylpropylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, triethylpentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dipropyl-N-methyl-N-ethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dipropyl-N-butyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N N, N-diethylamino-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N, N-dibutyl- N, N-dibutyl-N-methyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trioctylmethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) -Ethyl-N-propyl-N-pentyl Monyum (methanesulfonyl trifluoromethyl) bis-imide, 1-butyl-3-methyl-pyridin-1-ium trifluoromethanesulfonate. As commercial products thereof, for example, "CIL-314" (manufactured by Nippon Carryt Co., Ltd.) and "ILA2-1" (manufactured by Koei Kagaku Kogyo Co., Ltd.) can be used.

또, 예를 들어 테트라메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸옥틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.Further, examples thereof include tetramethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylbutylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, Trimethylpentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylheptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethyloctylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, tetraethylammonium bis (Trifluoromethanesulfonyl) imide, triethylbenzylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, tetrabutylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, tetrahexylammonium bis Sulfonyl) imide, and the like.

또한, 예를 들면 1-디메틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.Further, for example, 1-dimethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, -Propylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-butylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-pentylpyrrolidinium bis Methyl-1-hexylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-heptylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, Ethyl-1-butylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-propylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) Ethyl-1-pentylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-heptene Tilpyrrolidinium bis (trifluoro Propyl-1-butylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,1-dipropylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, (Trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-propylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-pentylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, (Trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-ethylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,1-dimethylpiperidinium bis Methyl-1-propylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-butylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl- Methyl-1-hexylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-heptylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, Fluoromethane Ethyl-1-butylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-propylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) 1-pentylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-hexylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl- Propyl-1-butylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,1-dipropylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-dimethylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1,1-dibutylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, Methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, Pyrrolidinium bis (pentafluoro Methyl-1-pentylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-hexylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide (Pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-propylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-heptylpyrrolidinium bis -Butylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-pentylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-hexylpyrrolidinium bis (Pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-heptylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1,1-dipropylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) Imide, 1-propyl-1-butylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1,1-dibutylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) Piperidinium bis (pentafluoro (Pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1,1-dimethylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1 (Pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-propylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-butylpiperidinium bis Methyl-1-pentylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-hexylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, Methyl-1-heptylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-propylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1- Ethyl-1-heptylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-pentylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, Peridinium bis (pentafluoro Ethyl-1-heptylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-propyl-1-butylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide , 1,1-dipropylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, and 1,1-dibutylpiperidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide.

또, 상기 화합물의 카티온 성분 대신에, 트리메틸술포늄 카티온, 트리에틸술포늄 카티온, 트리부틸술포늄 카티온, 트리헥실술포늄 카티온, 디에틸메틸술포늄 카티온, 디부틸에틸술포늄 카티온, 디메틸데실술포늄 카티온, 테트라메틸포스포늄 카티온, 테트라에틸포스포늄 카티온, 테트라부틸포스포늄 카티온, 테트라헥실포스포늄 카티온을 사용한 화합물 등을 들 수 있다.In place of the cation component of the above-mentioned compound, there may be mentioned, for example, trimethylsulfonium cation, triethylsulfonium cation, tributylsulfonium cation, trihexylsulfonium cation, diethylmethylsulfonium cation, dibutylethyl sulphate Tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetramethylphosphonium cation and tetrahexylphosphonium cation.

또, 상기 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 대신에, 비스(펜타플루오로술포닐)이미드, 비스(헵타플루오로프로판술포닐)이미드, 비스(노나플루오로부탄술포닐)이미드, 트리플루오로메탄술포닐노나플루오로부탄술포닐이미드, 헵타플루오로프로판술포닐트리플루오로메탄술포닐이미드, 펜타플루오로에탄술포닐노나플루오로부탄술포닐이미드, 시클로-헥사플루오로프로판-1,3-비스(술포닐)이미드 아니온 등을 사용한 화합물 등을 들 수 있다.In place of the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, bis (pentafluorosulfonyl) imide, bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide Heptafluoropropanesulfonyl trifluoromethanesulfonylimide, pentafluoroethanesulfonylonafluorobutanesulfonylimide, cyclohexane sulfonylimide, heptafluoropropanesulfonyl trifluoromethanesulfonylimide, pentafluoroethanesulfonyl nonafluorobutanesulfonylimide, cyclohexane Fluoropropane-1,3-bis (sulfonyl) imide anion, and the like.

또, 이온성 화합물로는, 상기 알칼리 금속염, 유기 카티온-아니온염 외에, 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화제1철, 염화제2철, 황산암모늄 등의 무기염을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독으로 또는 복수를 병용할 수 있다.Examples of the ionic compound include inorganic salts such as ammonium chloride, aluminum chloride, copper chloride, ferrous chloride, ferric chloride and ammonium sulfate, in addition to the above alkali metal salts and organic cation-anion salts. These ionic compounds may be used singly or in combination.

아크릴계 점착제 조성물에 있어서의 이온성 화합물의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대하여, 10 중량부 정도 이하인 것이 바람직하고, 5 중량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 2 중량부 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 0.01 중량부 이상이 바람직하다.The blending ratio of the ionic compound in the acrylic pressure sensitive adhesive composition is not particularly limited, but is preferably about 10 parts by weight or less, more preferably about 5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (solid content) , And more preferably 2 parts by weight or less. The lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.01 part by weight or more.

나아가서는, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 필요에 따라 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 유리 섬유, 유리 비즈, 금속 분말, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제 (안료, 염료 등), pH 조정제 (산 또는 염기), 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을, 또 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적절히 사용할 수도 있다. 이들 첨가제도 에멀션으로서 배합할 수 있다.Further, the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention may further contain additives such as a viscosity modifier, a release modifier, a tackifier, a plasticizer, a softener, a glass fiber, a glass bead, a metal powder, A pH adjuster (acid or base), an antioxidant, an ultraviolet absorber and the like may be suitably used as long as they do not deviate from the object of the present invention. These additives may also be formulated as emulsions.

(3) 점착제층이 형성된 편광 필름(3) Polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 상기 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 상기 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 형성함으로써 얻어진다.The polarizing film having the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is obtained by forming a pressure-sensitive adhesive layer formed of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition on at least one surface of the iodine-based polarizing film.

상기 점착제층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 각종 기재 상에 상기 아크릴계 점착제 조성물을 도포하고, 열오븐 등의 건조기에 의해 건조시켜, 용제 등을 휘산시켜 점착제층을 형성하고, 상기 요오드계 편광 필름 상에, 당해 점착제층을 전사하는 방법이어도 되고, 상기 요오드계 편광 필름 상에 직접 상기 아크릴계 점착제 조성물을 도포하여, 점착제층을 형성해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may be coated on various substrates and dried by a dryer such as a heat oven to volatilize the solvent or the like to form a pressure- Or the pressure sensitive adhesive layer may be formed by applying the acrylic pressure sensitive adhesive composition directly onto the iodine polarizing film.

상기 기재로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 이형 필름, 투명 수지 필름 기재 등의 각종 기재를 들 수 있다.The substrate is not particularly limited, and examples thereof include various substrates such as a release film and a transparent resin film base.

상기 기재나 편광 필름에 대한 도포 방법으로는, 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어 파운틴 코터, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.As the coating method for the substrate or the polarizing film, various methods are used. Specific examples thereof include fountain coaters, roll coats, kiss roll coats, gravure coats, reverse coats, roll brushes, spray coats, dip roll coats, bar coats, knife coats, air knife coats, curtain coats, And extrusion coating method using a coater or the like.

건조 조건 (온도, 시간) 은, 특별히 한정되는 것은 아니고, 아크릴계 점착제 조성물의 조성, 농도 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어 80 ∼ 170 ℃정도, 바람직하게는 90 ∼ 200 ℃ 에서, 1 ∼ 60 분간, 바람직하게는 2 ∼ 30 분간이다.The drying conditions (temperature and time) are not particularly limited and can be appropriately set according to the composition, concentration, etc. of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition. For example, the drying condition (temperature and time) is from 80 to 170 캜, preferably from 90 to 200 캜, Minute, preferably 2 to 30 minutes.

점착제층의 두께 (건조 후) 는, 예를 들어 5 ∼ 100 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 ㎛ 인 것이 보다 바람직하며, 12 ∼ 40 ㎛ 인 것이 더 바람직하다. 점착제층의 두께가 10 ㎛ 미만에서는, 피착체에 대한 밀착성이 부족해지고, 고온, 고온다습하에서의 내구성이 충분하지 않은 경향이 있다. 한편, 점착제층의 두께가 100 ㎛ 를 초과하는 경우에는, 점착제층을 형성할 때의 아크릴계 점착제 조성물의 도포, 건조 시에 충분하게 완전히 건조시킬 수 없어, 기포가 잔존하거나, 점착제층의 면에 두께 불균일이 발생하거나 해, 외관상의 문제가 현재화하기 쉬워지는 경향이 있다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (after drying) is preferably 5 to 100 占 퐉, more preferably 10 to 60 占 퐉, and more preferably 12 to 40 占 퐉. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 10 mu m, adhesion to an adherend becomes insufficient and durability at high temperature and high temperature and high humidity tends to be insufficient. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is more than 100 占 퐉, it is impossible to completely dry the pressure-sensitive adhesive layer sufficiently when the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried at the time of forming the pressure-sensitive adhesive layer, There is a tendency that nonuniformity occurs and the appearance problem becomes easier to present.

상기 이형 필름의 구성 재료로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름, 종이, 포, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 수지 필름이 바람직하게 사용된다.Examples of the constituent material of the release film include a resin film such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate and polyester film, a porous material such as paper, cloth, nonwoven fabric, net, foam sheet, metal foil, And the like, but a resin film is preferably used because of its excellent surface smoothness.

그 수지 필름으로는, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리 부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.Examples of the resin film include a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethylpentene film, a polyvinyl chloride film, a vinyl chloride copolymer film, a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate Film, a polyurethane film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, and the like.

상기 이형 필름의 두께는, 통상 5 ∼ 200 ㎛ 이고, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는, 필요에 따라 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리를 할 수도 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 실시함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.The thickness of the release film is usually 5 to 200 占 퐉, preferably 5 to 100 占 퐉. If necessary, the releasing film may be subjected to an antistatic treatment such as releasing treatment with a silicone, fluorine, long chain alkyl or fatty acid amide releasing agent, silica powder or the like, a coating type, a kneading type, a deposition type or the like . Particularly, the releasability from the pressure-sensitive adhesive layer can be further improved by suitably carrying out the surface treatment of the release film, such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment or fluorine treatment.

상기 투명 수지 필름 기재로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 수지 필름이 사용된다. 당해 수지 필름은 1 층의 필름에 의해 형성되어 있다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.The transparent resin film base material is not particularly limited, but various resin films having transparency are used. The resin film is formed of a single-layer film. For example, as the material thereof, a polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, (Meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, and polyphenylene sulfide resins. Of these, particularly preferred are polyester resins, polyimide resins and polyether sulfone resins.

상기 필름 기재의 두께는, 15 ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하다.The thickness of the film substrate is preferably 15 to 200 탆.

또, 요오드계 편광 필름과 점착제층 사이에는, 앵커층을 갖고 있어도 된다. 앵커층을 형성하는 재료는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 각종 폴리머류, 금속 산화물의 졸, 실리카 졸 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 폴리머류가 바람직하게 사용된다. 상기 폴리머류의 사용 형태는 용제 가용형, 수분산형, 수용해형 중 어느 것이라도 된다.Further, an anchor layer may be provided between the iodine-based polarizing film and the pressure-sensitive adhesive layer. The material for forming the anchor layer is not particularly limited, and examples thereof include various polymers, metal oxide sol, silica sol, and the like. Of these, polymers are particularly preferably used. The polymer may be used in any of the solvent-soluble type, water-dispersible type, and water-soluble type.

상기 폴리머류로는, 예를 들어 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리스티렌계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들 수지에는 적절히 가교제를 배합할 수 있다. 이들 다른 바인더 성분은 1 종, 또는 2 종 이상을 적절히 그 용도에 맞춰 사용할 수 있다.Examples of the polymers include polyurethane resins, polyester resins, acrylic resins, polyether resins, cellulose resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl pyrrolidone, and polystyrene resins . Among these, a polyurethane resin, a polyester resin and an acrylic resin are particularly preferable. A crosslinking agent may be appropriately added to these resins. These other binder components may be used singly or in combination of two or more in accordance with their use.

앵커층을, 수분산형 재료에 의해 형성하는 경우에는, 수분산형 폴리머를 사용한다. 수분산형 폴리머로는, 폴리우레탄, 폴리에스테르 등의 각종 수지를, 유화제를 이용하여 에멀션화한 것이나, 상기 수지 중에, 수분산성의 아니온기, 카티온기, 또는 논이온기를 도입하여 자기 유화한 것 등을 들 수 있다.When the anchor layer is formed of an aqueous dispersion type material, an aqueous dispersion type polymer is used. Examples of the water-dispersible polymer include those obtained by emulsifying various resins such as polyurethane and polyester with an emulsifier, and those obtained by self-emulsification by introducing a water-dispersible anion, cation, or nonionic group into the resin And the like.

또, 상기 앵커제에는, 대전 방지제를 함유시킬 수 있다. 대전 방지제는, 도전성을 부여할 수 있는 재료이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 이온성 계면활성제, 도전성 폴리머, 금속 산화물, 카본 블랙, 및 카본 나노 재료 등을 들 수 있지만, 이들 중에서도, 도전성 폴리머가 바람직하고, 보다 바람직하게는 수분산성 도전 폴리머이다.The anchor agent may contain an antistatic agent. The antistatic agent is not particularly limited as long as it is a material capable of imparting conductivity. Examples of the antistatic agent include an ionic surfactant, a conductive polymer, a metal oxide, a carbon black, and a carbon nano material. Among them, And more preferably a water dispersible conductive polymer.

수용성 도전성 폴리머로는, 폴리아닐린술폰산 (폴리스티렌 환산에 의한 중량 평균 분자량 150000, 미츠비시 레이온 (주) 제조) 등, 수분산성 도전 폴리머로는, 폴리티오펜계 도전성 폴리머 (나가세켐텍스사 제조, 데나트론 시리즈) 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble conductive polymer include polyaniline sulfonic acid (weight average molecular weight 150000 in terms of polystyrene conversion, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), and water-dispersible conductive polymers include polythiophene conductive polymers (Denatron series ) And the like.

상기 대전 방지제의 배합량은, 예를 들어 앵커제에 사용하는 상기 폴리머류 100 중량부에 대하여, 70 중량부 이하, 바람직하게는 50 중량부 이하이다. 대전 방지 효과의 점에서는, 10 중량부 이상, 나아가서는 20 중량부 이상으로 하는 것이 바람직하다.The blending amount of the antistatic agent is 70 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the polymers used in the anchor. From the standpoint of antistatic effect, it is preferable that the amount is 10 parts by weight or more, and more preferably 20 parts by weight or more.

또, 상기 앵커제에는, 앵커코트층과 접촉할 때에 생기는 점착제층이나 편광자의 열화 등을 억제할 목적으로 각종 첨가제를 배합할 수 있고, 또 앵커코트층에 기능 부여할 목적으로 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 예를 들어, 산화 방지제, 열화 방지제, 자외선 흡수제, 형광 증백제 등을 첨가할 수 있다.Various additives may be added to the anchor agent for the purpose of suppressing deterioration of the pressure-sensitive adhesive layer or the polarizer produced when the anchor coat layer is brought into contact with the anchor coat layer, and various additives may be added for the purpose of imparting functions to the anchor coat layer . For example, antioxidants, deterioration inhibitors, ultraviolet absorbers, fluorescent whitening agents, and the like can be added.

앵커층의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5 ∼ 300 ㎚ 인 것이 바람직하다.The thickness of the anchor layer is not particularly limited, but is preferably 5 to 300 nm.

상기 앵커층의 형성 방법으로는, 특별히 한정되지 않고, 통상 공지된 방법에 의해 실시할 수 있다. 또, 앵커층의 형성 시에, 상기 요오드계 편광 필름에 활성화 처리를 실시할 수 있다. 활성화 처리는 각종 방법을 채용할 수 있고, 예를 들어 코로나 처리, 저압 UV 처리, 플라즈마 처리 등을 채용할 수 있다.The method for forming the anchor layer is not particularly limited and can be carried out by a generally known method. In forming the anchor layer, the iodine-based polarizing film may be subjected to activation treatment. Various methods can be employed for the activation treatment, and for example, corona treatment, low-pressure UV treatment, plasma treatment, or the like can be employed.

요오드계 편광 필름 상의 앵커층 상에 대한 점착제층의 형성 방법은, 전술한 바와 같다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer on the anchor layer on the iodine-based polarizing film is as described above.

또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 노출되는 경우에는, 실용에 제공될 때까지 이형 필름 (세퍼레이터) 으로 점착제층을 보호해도 된다. 이형 필름으로는, 전술한 것을 들 수 있다. 상기 점착제층의 제작 시에 기재로서 이형 필름을 사용한 경우에는, 이형 필름 상의 점착제층과 요오드계 편광 필름을 첩합함으로써, 당해 이형 필름은, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층의 이형 필름으로서 사용할 수 있어, 공정 면에 있어서의 간략화가 가능하다.When the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is exposed, the pressure-sensitive adhesive layer may be protected with a release film (separator) until it is provided for practical use. Examples of the release film include those described above. When a release film is used as the base material in the production of the pressure-sensitive adhesive layer, the releasing film can be used as a releasing film of a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed by bonding an adhesive layer on the release film to an iodine- Therefore, it is possible to simplify the process.

2. 적층체2. Laminate

본 발명의 적층체는, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 부재를, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 투명 도전층을 갖는 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 한다.The laminate of the present invention is a laminate comprising a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a member having a transparent conductive layer so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed is in contact with the transparent conductive layer of the member having the transparent conductive layer .

상기 점착제층이 형성된 편광 필름은, 전술한 것을 사용할 수 있다.As the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, the above-described polarizing film may be used.

투명 도전층을 갖는 부재로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 것을 사용할 수 있지만, 투명 필름 등의 투명 기재 상에 투명 도전층을 갖는 것이나, 투명 도전층과 액정 셀을 갖는 부재를 들 수 있다.The member having the transparent conductive layer is not particularly limited and a well-known member can be used. Examples of the member having the transparent conductive layer on the transparent substrate such as a transparent film and the member having the transparent conductive layer and the liquid crystal cell .

투명 기재로는, 투명성을 갖는 것이면 되고, 예를 들어 수지 필름이나, 유리 등으로 이루어지는 기재 (예를 들어, 시트상이나 필름상, 판상의 기재 등) 등을 들 수 있고, 수지 필름이 특히 바람직하다. 투명 기재의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 10 ∼ 200 ㎛ 정도가 바람직하고, 15 ∼ 150 ㎛ 정도가 보다 바람직하다.The transparent substrate may be a transparent substrate such as a resin film or a substrate made of glass or the like (for example, a sheet-like, film-like, or plate-like substrate), and a resin film is particularly preferable . The thickness of the transparent base material is not particularly limited, but is preferably about 10 to 200 占 퐉, more preferably about 15 to 150 占 퐉.

상기 수지 필름의 재료로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 플라스틱 재료를 들 수 있다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.The material of the resin film is not particularly limited, but various plastic materials having transparency can be cited. For example, as the material thereof, a polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, (Meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins and polyphenylene sulfide resins. Of these, particularly preferred are polyester resins, polyimide resins and polyether sulfone resins.

또, 상기 투명 기재에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시하여, 이 위에 형성되는 투명 도전층의 상기 투명 기재에 대한 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 투명 도전층을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해 제진, 청정화해도 된다.The surface of the transparent substrate is subjected to an etching treatment or a priming treatment such as sputtering, corona discharge, a flame, an ultraviolet ray irradiation, an electron beam irradiation, a chemical conversion or an oxidation in advance to form a transparent conductive layer The adhesion may be improved. Before forming the transparent conductive layer, it may be damped and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning or the like, if necessary.

상기 투명 도전층의 구성 재료로는 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속의 금속 산화물이 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라, 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, 산화주석을 함유하는 산화인듐 (ITO), 안티몬을 함유하는 산화주석 등이 바람직하게 사용되고, ITO 가 특히 바람직하게 사용된다. ITO 로는, 산화인듐 80 ∼ 99 중량% 및 산화주석 1 ∼ 20 중량% 를 함유하는 것이 바람직하다.The material of the transparent conductive layer is not particularly limited and may be at least one selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, A metal oxide of one kind of metal is used. The metal oxide may further contain a metal atom shown in the above group, if necessary. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide, tin oxide containing antimony and the like are preferably used, and ITO is particularly preferably used. ITO preferably contains 80 to 99% by weight of indium oxide and 1 to 20% by weight of tin oxide.

또, 상기 ITO 로는, 결정성 ITO, 비결정성 (아모르퍼스) ITO 를 들 수 있다. 결정성 ITO 는, 스퍼터 시에 고온을 가하거나, 비결정성 ITO 를 추가로 가열함으로써 얻을 수 있다. 상기 요오드에 의한 열화는, 비결정성 ITO 에 있어서 현저하게 발생하기 때문에, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 비결정성 ITO 에 있어서 특히 유효하다.Examples of the ITO include crystalline ITO and noncrystalline (amorphous) ITO. The crystalline ITO can be obtained by applying a high temperature during sputtering or by further heating amorphous ITO. Since the deterioration due to iodine occurs remarkably in amorphous ITO, the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is particularly effective for amorphous ITO.

상기 투명 도전층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 7 ㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10 ㎚ 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 12 ∼ 60 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하고, 15 ∼ 45 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하며, 18 ∼ 45 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하고, 20 ∼ 30 ㎚ 로 하는 것이 특히 바람직하다. 투명 도전층의 두께가 7 ㎚ 미만에서는 요오드에 의한 투명 도전층의 열화가 일어나기 쉽고, 투명 도전층의 전기 저항값의 변화가 커지는 경향이 있다. 한편, 60 ㎚ 를 초과하는 경우에는, 투명 도전층의 생산성이 저하하고, 비용도 상승하고, 또한 광학 특성도 저하하는 경향이 있다.The thickness of the transparent conductive layer is not particularly limited, but is preferably 7 nm or more, more preferably 10 nm or more, more preferably 12 to 60 nm, and more preferably 15 to 45 nm More preferably 18 to 45 nm, and particularly preferably 20 to 30 nm. If the thickness of the transparent conductive layer is less than 7 nm, deterioration of the transparent conductive layer due to iodine tends to occur, and the change in electrical resistance value of the transparent conductive layer tends to increase. On the other hand, when it exceeds 60 nm, the productivity of the transparent conductive layer deteriorates, the cost increases, and the optical characteristics also tend to decrease.

상기 투명 도전층의 형성 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 막두께에 따라 적절한 방법을 채용할 수도 있다.The method of forming the transparent conductive layer is not particularly limited, and conventionally known methods can be employed. Specifically, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. An appropriate method may be employed depending on the required film thickness.

상기 투명 도전층을 갖는 기재의 두께로는, 15 ∼ 200 ㎛ 를 들 수 있다. 또한, 박막화의 관점에서는 15 ∼ 150 ㎛ 인 것이 바람직하고, 15 ∼ 50 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 상기 투명 도전층을 갖는 기재가 저항막 방식으로 사용되는 경우, 예를 들어 100 ∼ 200 ㎛ 의 두께를 들 수 있다. 또 정전 용량 방식으로 사용되는 경우, 예를 들어 15 ∼ 100 ㎛ 의 두께가 바람직하고, 특히 최근의 추가적인 박막화 요구에 따라 15 ∼ 50 ㎛ 의 두께가 보다 바람직하고, 20 ∼ 50 ㎛ 의 두께가 더 바람직하다.The thickness of the substrate having the transparent conductive layer is 15 to 200 탆. From the viewpoint of thinning, it is preferably 15 to 150 占 퐉, more preferably 15 to 50 占 퐉. When the substrate having the transparent conductive layer is used in a resistive film method, for example, a thickness of 100 to 200 mu m can be mentioned. When used in a capacitive method, for example, a thickness of 15 to 100 mu m is preferable, and more preferably 15 to 50 mu m, more preferably 20 to 50 mu m, more preferably 20 to 50 mu m, Do.

또, 투명 도전층과 투명 기재 사이에, 필요에 따라, 언더코트층, 올리고머 방지층 등을 형성할 수 있다.An undercoat layer, an oligomer-preventing layer, and the like can be formed between the transparent conductive layer and the transparent substrate, if necessary.

또, 투명 도전층과 액정 셀을 갖는 부재로는, 각종 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용되는, 기판 (예를 들어, 유리 기판 등)/액정층/기판의 구성을 포함하는 액정 셀의 당해 기판의 액정층과 접하지 않는 측에 투명 도전층을 갖는 것을 들 수 있다. 또, 액정 셀 상에 컬러 필터 기판을 형성하는 경우에는, 당해 컬러 필터 상에 투명 도전층을 갖고 있어도 된다. 액정 셀의 기판 상에 투명 도전층을 형성하는 방법은, 상기와 동일하다.Examples of the member having the transparent conductive layer and the liquid crystal cell include a liquid crystal cell including a substrate (for example, a glass substrate or the like) / liquid crystal layer / substrate used for an image display device such as various liquid crystal display devices And a transparent conductive layer on the side not in contact with the liquid crystal layer of the substrate. When a color filter substrate is formed on a liquid crystal cell, a transparent conductive layer may be provided on the color filter. The method of forming the transparent conductive layer on the substrate of the liquid crystal cell is the same as described above.

3. 화상 표시 장치3. Image display device

본 발명의 적층체는, 입력 장치 (터치 패널 등) 를 구비한 화상 표시 장치 (액정 표시 장치, 유기 EL (일렉트로 루미네선스) 표시 장치, PDP (플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등), 입력 장치 (터치 패널 등) 등의 기기를 구성하는 기재 (부재) 또는 이들 기기에 사용되는 기재 (부재) 의 제조에 있어서 바람직하게 사용할 수 있지만, 특히 터치 패널용 광학 기재의 제조에 있어서 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 저항막 방식이나 정전 용량 방식과 같은 터치 패널 등의 방식에 관계 없이 사용할 수 있다. The laminate of the present invention can be applied to an image display apparatus (a liquid crystal display apparatus, an organic EL (electroluminescence) display apparatus, a PDP (plasma display panel), an electronic paper, etc.) (Member) constituting a device such as a touch panel (a touch panel or the like) or a substrate (member) used in these devices, but it can be preferably used in the production of an optical substrate for a touch panel . In addition, it can be used regardless of the touch panel method such as the resistance film method or the capacitance method.

본 발명의 적층체에, 재단, 레지스트 인쇄, 에칭, 은 잉크 인쇄 등의 처리가 실시되어 얻어진 투명 도전성 필름은, 광학 디바이스용 기재 (광학 부재) 로서 사용할 수 있다. 광학 디바이스용 기재로는, 광학적 특성을 갖는 기재이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 화상 표시 장치 (액정 표시 장치, 유기 EL (일렉트로 루미네선스) 표시 장치, PDP (플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등), 입력 장치 (터치 패널 등) 등의 기기를 구성하는 기재 (부재) 또는 이들 기기에 사용되는 기재 (부재) 를 들 수 있다.The transparent conductive film obtained by subjecting the laminate of the present invention to a treatment such as cutting, resist printing, etching, silver ink printing, or the like can be used as a substrate (optical member) for an optical device. The substrate for the optical device is not particularly limited as long as it is a substrate having optical properties, and examples thereof include an image display device (a liquid crystal display device, an organic EL (electroluminescence) display device, a PDP (plasma display panel) ), An input device (such as a touch panel), or a substrate (member) used in these devices.

또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 전술한 바와 같이, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전층을 적층한 경우에도, 투명 도전층의 부식을 억제할 수 있고, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 따라서, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 투명 도전층과 접하는 구성을 갖는 화상 표시 장치이면, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여, 화상 표시 장치로 할 수 있다.The polarizing film having the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention can suppress corrosion of the transparent conductive layer even when the transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed as described above, The increase in the surface resistance of the conductive layer can be suppressed. Therefore, if the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed is in contact with the transparent conductive layer, the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be preferably used. For example, a liquid crystal panel having a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed and a transparent conductive layer is attached to the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the liquid- .

더 구체적으로는, 투명 도전층을 대전 방지층 용도로서 사용하는 화상 표시 장치나, 투명 도전층을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 투명 도전층을 대전 방지층 용도로서 사용하는 화상 표시 장치로는, 구체적으로는, 예를 들어 도 1 에 나타내는 바와 같이, 편광 필름 (1)/점착제층 (2)/대전 방지층 (3)/유리 기판 (4)/액정층 (5)/구동 전극 (6)/유리 기판 (4)/점착제층 (2)/편광 필름 (1) 으로 이루어지는 구성이고, 상기 대전 방지층 (3), 구동 전극 (6) 이 투명 도전층으로 형성되는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 당해 화상 표시 장치의 상측 (시인측) 의 점착제층이 형성된 편광 필름 (1, 2) 으로서 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 사용할 수 있다. 또, 투명 도전층을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 화상 표시 장치로는, 예를 들어 편광 필름 (1)/점착제층 (2)/대전 방지층 겸 센서층 (7)/유리 기판 (4)/액정층 (5)/구동 전극 겸 센서층 (8)/유리 기판 (4)/점착제층 (2)/편광 필름 (1) 의 구성 (인셀형 터치 패널, 도 2) 이나, 편광 필름 (1)/점착제층 (2)/대전 방지층 겸 센서층 (7)/센서층 (9)/유리 기판 (4)/액정층 (5)/구동 전극 (6)/유리 기판 (4)/점착제층 (2)/편광 필름 (1) 의 구성 (온셀형 터치 패널, 도 3) 이고, 대전 방지층 겸 센서층 (7), 센서층 (9), 구동 전극 (6) 이 투명 도전층으로 형성되는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 당해 화상 표시 장치의 상측 (시인측) 의 점착제층이 형성된 편광 필름 (1, 2) 으로서 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 사용할 수 있다.More specifically, an image display device using a transparent conductive layer as an antistatic layer application and an image display device using a transparent conductive layer as an electrode of a touch panel can be given. 1, the polarizing film 1 / the pressure-sensitive adhesive layer 2 / the antistatic layer 3 / the glass substrate 1, The driving electrode 6, the glass substrate 4, the pressure sensitive adhesive layer 2, and the polarizing film 1, and the antistatic layer 3, the driving electrode 6, And an image display device formed of the transparent conductive layer. A polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be used as the polarizing films (1, 2) on which the pressure-sensitive adhesive layer on the image side (viewing side) of the image display device is formed. The polarizing film 1 / the pressure-sensitive adhesive layer 2 / the antistatic layer and the sensor layer 7 / the glass substrate 4 / the antistatic layer / (In-cell type touch panel, Fig. 2) of the liquid crystal layer 5, the driving electrode and sensor layer 8, the glass substrate 4, the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the polarizing film 1, / Adhesive layer 2 / antistatic layer and sensor layer 7 / sensor layer 9 / glass substrate 4 / liquid crystal layer 5 / driving electrode 6 / glass substrate 4 / pressure-sensitive adhesive layer 2 In which an antistatic layer and a sensor layer 7, a sensor layer 9 and a driving electrode 6 are formed of a transparent conductive layer, and the polarizing film 1 (on-cell type touch panel; . A polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be used as the polarizing films (1, 2) on which the pressure-sensitive adhesive layer on the image side (viewing side) of the image display device is formed.

실시예Example

이하, 본 발명에 관련하여 실시예를 이용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 각 예 중, 부, % 는 모두 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless the gist of the present invention is exceeded. In the examples, all parts and percentages are by weight.

<편광자 중의 요오드 함유량>&Lt; Iodine Content in Polarizer &gt;

편광자 중의 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 은, 이하의 순서에 따라 측정하였다.The content of iodine (content of iodine and / or iodine ion) in the polarizer was measured according to the following procedure.

1) 복수의, 소정량의 요오드화칼륨을 포함하는 편광자에 대하여 형광 X 선 강도를 측정하고, 요오드 함유량과 형광 X 선 강도의 관계식을 도출하였다.1) A fluorescent X-ray intensity of a plurality of polarizers containing a predetermined amount of potassium iodide was measured to derive a relational expression between the iodine content and the fluorescent X-ray intensity.

2) 요오드 함유량이 미지인 요오드계 편광자의 형광 X 선을 측정하고, 그 수치로부터 상기 관계식을 이용하여 요오드양을 계산하였다.2) Fluorescent X-ray of an iodine-based polarizer having an unknown iodine content was measured, and from this value, the iodine amount was calculated using the above-mentioned relational expression.

제조예 1 (편광 필름 (1) 의 제작)Production Example 1 (Production of polarizing film (1)

비정성 PET 기재에 9 ㎛ 두께의 폴리비닐알코올 (PVA) 층이 제막된 적층체를, 연신 온도 130 ℃ 의 공중 보조 연신에 의해, 연신 적층체를 생성하였다. 다음으로, 연신 적층체를, 물 100 중량부에 대하여, 요오드 0.1 중량부, 요오드화칼륨 0.7 중량부를 함유하는 염색액에 60 초간 침지하여, 착색 적층체를 생성하였다. 또한, 착색 적층체를 연신 온도 65 ℃ 의 붕산 수중 연신에 의해 총 연신 배율이 5.94 배가 되도록 비정성 PET 기재와 일체로 연신된 4 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하였다. 이와 같은 2 단 연신에 의해 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자가 고차로 배향되어, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일방향으로 고차로 배향된 고기능 편광층을 구성하는, 두께 4 ㎛ 의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다. 또한, 당해 광학 필름 적층체의 편광층의 표면에 PVA 계 접착제를 도포하면서, 비누화 처리한 40 ㎛ 두께의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름 (1)) 을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리하여, 박형의 요오드계 편광자를 사용한 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (1) 이라고 한다. 편광 필름 (1) 의 요오드 함유량은 5.1 중량% 였다.A stretched laminate was produced by air-assisted stretching at a stretching temperature of 130 DEG C on a laminate having a 9 mu m-thick polyvinyl alcohol (PVA) layer formed on an amorphous PET substrate. Next, the drawn laminate was immersed in a dyeing solution containing 0.1 part by weight of iodine and 0.7 part by weight of potassium iodide for 100 seconds with respect to 100 parts by weight of water to obtain a colored laminate. Further, the colored layered product was stretched in boric acid aqueous solution having a stretching temperature of 65 占 폚 to produce an optical film laminate including a PVA layer having a thickness of 4 占 퐉 which was integrally stretched with an amorphous PET substrate so that the total draw ratio was 5.94. By such two-step stretching, the PVA molecules of the PVA layer formed on the amorphous PET substrate are oriented at a high degree, and the iodine adsorbed by dyeing constitutes a highly functional polarizing layer oriented in one direction as a polyiodide ion complex, An optical film laminate including a PVA layer having a thickness of 4 占 퐉 could be produced. Further, a saponified 40 탆 thick acrylic resin film (transparent protective film (1)) was applied while applying a PVA adhesive to the surface of the polarizing layer of the optical film laminate, and then the amorphous PET substrate was peeled off , And a polarizing film having a transparent protective film only on one side using a thin iodine polarizer was produced. Hereinafter, this is referred to as a polarizing film (1). The iodine content of the polarizing film (1) was 5.1% by weight.

제조예 2, 3 (편광 필름 (2), (3) 의 제작)Production Examples 2 and 3 (Production of polarizing films (2) and (3)) [

염색 시간을, 60 초로부터, 120 초 (제조예 2), 180 초 (제조예 3) 로 변경한 것 이외에는, 제조예 1 과 마찬가지로, 박형의 요오드계 편광자를 사용한 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이들을 편광 필름 (2), (3) 이라고 한다. 편광 필름 (2), (3) 의 요오드 함유량은, 각각 7.2 중량%, 11.1 중량% 였다.Polarization with a transparent protective film only on one side using a thin iodine polarizer was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that the dyeing time was changed from 60 seconds to 120 seconds (Production Example 2) and 180 seconds (Production Example 3) A film was produced. Hereinafter, these are referred to as polarizing films (2) and (3). The iodine content of the polarizing films (2) and (3) was 7.2% by weight and 11.1% by weight, respectively.

제조예 4 (편광 필름 (4) 의 제작)Production Example 4 (Production of polarizing film (4)) [

두께 80 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을, 속도비가 상이한 롤 사이에 있어서, 30 ℃, 0.3 % 농도의 요오드 용액 중에서 1 분간 염색하면서, 3 배까지 연신하였다. 그 후, 60 ℃, 4 % 농도의 붕산, 10 % 농도의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액 중에, 0.5 분간 침지하면서, 종합 연신 배율이 6 배까지 연신하였다. 이어서, 30 ℃, 1.5 % 농도의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액 중에 10 초간 침지함으로써 세정한 후, 50 ℃ 에서 4 분간 건조시켜, 두께 25 ㎛, 요오드 함유량 2.3 중량% 의 편광자를 얻었다. 당해 편광자의 편면에, 두께 40 ㎛ 의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름 (1)) 을 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (4) 라고 한다. 편광 필름 (4) 의 요오드 함유량은 2.3 중량% 였다.A polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 탆 was stretched to 3 times while dyeing in an iodine solution of 0.3% concentration at 30 캜 for 1 minute between rolls having different velocity ratios. Thereafter, the substrate was immersed in an aqueous solution containing boric acid at a concentration of 4% at 60 DEG C and potassium iodide at a concentration of 10% for 0.5 minute, and then stretched to a total draw ratio of 6 times. Subsequently, the substrate was washed by immersing in an aqueous solution containing potassium iodide at a concentration of 1.5% at 30 DEG C for 10 seconds and then dried at 50 DEG C for 4 minutes to obtain a polarizer having a thickness of 25 mu m and an iodine content of 2.3 wt%. An acrylic resin film (transparent protective film (1)) having a thickness of 40 占 퐉 was laminated on one surface of the polarizer with a polyvinyl alcohol-based adhesive to prepare a polarizing film. Hereinafter, this is referred to as a polarizing film 4. The iodine content of the polarizing film (4) was 2.3% by weight.

제조예 5 (편광 필름 (5) 의 제작)Production Example 5 (Production of polarizing film (5)) [

제조예 1 에서, 비정성 PET 기재를 박리한 후, 다른 편면에 두께 25 ㎛ 의 노르보르넨계 필름 (투명 보호 필름 (2)) 을, 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 박형 편광 필름 (5) 라고 한다. 편광 필름 (5) 의 요오드 함유량은 5.1 중량% 였다.In Production Example 1, after the amorphous PET substrate was peeled off, a norbornene-based film (transparent protective film (2)) with a thickness of 25 탆 was laminated on the other side with a polyvinyl alcohol-based adhesive to prepare a polarizing film . Hereinafter, this is referred to as a thin polarizing film 5. The iodine content of the polarizing film 5 was 5.1% by weight.

제조예 6 (편광 필름 (6) 의 제작)Production Example 6 (Production of polarizing film (6)

제조예 4 에 의해 얻어진 요오드 함유량 2.3 중량% 의 편광자의 양면에, 두께 40 ㎛ 의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름 (1)), 두께 25 ㎛ 의 노르보르넨계 필름 (투명 보호 필름 (2)) 을 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (6) 이라고 한다. 편광 필름 (6) 의 요오드 함유량은 2.3 중량% 였다.An acrylic resin film (transparent protective film 1) having a thickness of 40 占 퐉 and a norbornene-based film (transparent protective film 2) having a thickness of 25 占 퐉 were placed on both surfaces of a polarizer having an iodine content of 2.3% by weight obtained in Production Example 4 And they were laminated with a polyvinyl alcohol-based adhesive to prepare a polarizing film. Hereinafter, this is referred to as a polarizing film 6. The iodine content of the polarizing film 6 was 2.3% by weight.

제조예 1 ∼ 6 에서 얻어진 편광 필름 (1) ∼ (6) 의 편광자, 투명 보호 필름 두께, 편광 필름 총 두께, 요오드 함유량 (편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 을 이하의 표 1 에 정리하였다.The polarizer, the transparent protective film thickness, the total thickness of the polarizing film and the iodine content (content of iodine and / or iodine ion in the polarizer) of the polarizing films (1) to (6) obtained in Production Examples 1 to 6 were summarized in Table 1 below Respectively.

Figure pct00005
Figure pct00005

제조예 7 (아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 7 (Preparation of solution containing acrylic polymer (A-1)) [

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 및 개시제로서, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile ( AIBN) was added together with ethyl acetate in an amount of 1 part per 100 parts of the monomer (solid content), and the mixture was reacted at 60 DEG C for 7 hours under a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-1) having a weight average molecular weight of 1,600,000.

제조예 8 (아크릴계 폴리머 (A-2) 를 함유하는 용액의 제조)Production Example 8 (Preparation of solution containing acrylic polymer (A-2)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 1 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 폴리머 (A-2) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 2-hydroxyethyl acrylate, and 1 part of AIBN as a initiator per 100 parts of the monomer (solid content) Ethyl acetate and the mixture was reacted at 60 DEG C for 7 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-2) having a weight average molecular weight of 1,600,000.

제조예 9 (아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 9 (Preparation of solution containing acrylic polymer (A-3)) [

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 100 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).100 parts of butyl acrylate and 1 part of 100 parts of AIBN as an initiator were added together with ethyl acetate to a reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer, , And reacted at 60 DEG C for 7 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-3) having a weight average molecular weight of 1,600,000.

제조예 10 (아크릴계 폴리머 (A-4) 를 함유하는 용액의 제조)Production Example 10 (Production of a solution containing an acrylic polymer (A-4)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 98.6 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 0.4 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160 만의 아크릴계 폴리머 (A-4) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).98.6 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, 0.4 part of acrylic acid, and 100 parts of a monomer (solid content) as an initiator were placed in a reaction vessel equipped with a thermometer, a condenser, Was added together with ethyl acetate, and the reaction was carried out at 60 占 폚 for 7 hours under a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-4) having a weight average molecular weight of 1,600,000.

제조예 11 (아크릴계 폴리머 (A-5) 를 함유하는 용액의 제조)Production Example 11 (Preparation of solution containing acrylic polymer (A-5)) [

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 95 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 4 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 155만의 아크릴계 폴리머 (A-5) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).95 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, 4 parts of acrylic acid, and 100 parts of a monomer (solid content) as an initiator were placed in a reaction vessel equipped with a thermometer, a condenser, Was added together with ethyl acetate, and the reaction was carried out at 60 占 폚 for 7 hours under a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-5) having a weight average molecular weight of 1,55,000.

제조예 12 (아크릴계 폴리머 (A-6) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 12 (Preparation of solution containing acrylic polymer (A-6)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 91 부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 8 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 0.75 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 9 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 190만의 아크릴계 폴리머 (A-6) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).A reactor was charged with 91 parts of butyl acrylate, 1 part of 2-hydroxyethyl acrylate, 8 parts of acrylic acid, and 100 parts of AIBN as a monomer (solid content) as an initiator in a reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, Was added together with ethyl acetate, and the mixture was reacted at 60 占 폚 for 9 hours under a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-6) having a weight average molecular weight of 1,190,000.

제조예 13 (아크릴계 폴리머 (A-7) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 13 (Production of a solution containing an acrylic polymer (A-7)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1.5 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 90만의 아크릴계 폴리머 (A-7) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1.5 parts of AIBN per 100 parts of the monomer (solid content) Ethyl acetate and the mixture was reacted at 60 DEG C for 7 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-7) having a weight average molecular weight of 90,000.

제조예 14 (아크릴계 폴리머 (A-8) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 14 (Production of a solution containing an acrylic polymer (A-8)) [

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 84.9 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 0.1 부, 아크릴산 5 부, 벤질아크릴레이트 10 부 및, 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 180만의 아크릴계 폴리머 (A-8) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).A reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer was charged with 84.9 parts of butyl acrylate, 0.1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, 10 parts of benzyl acrylate and 10 parts of AIBN One part of the monomer (solid content) was added together with ethyl acetate, and the mixture was reacted at 60 DEG C for 7 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (A-8) having a weight average molecular weight of 1,800,000.

또, 제조예 7 ∼ 14 에서 얻어진 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 이하의 측정 방법에 의해 측정하였다.The weight average molecular weights of the acrylic polymers obtained in Production Examples 7 to 14 were measured by the following measuring methods.

<아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 의 측정>&Lt; Measurement of weight average molecular weight (Mw) of acrylic polymer &

제조한 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 측정하였다.The weight average molecular weight of the acrylic polymer thus prepared was measured by GPC (gel permeation chromatography).

장치 : 토소사 제조, HLC-8220GPC Device: manufactured by Toso Co., Ltd., HLC-8220GPC

칼럼 : column :

샘플 칼럼 : 토소사 제조, TSKguardcolumn Super HZ-H (1 개) + TSKgel Super HZM-H (2 개) Sample column: TSKguardcolumn Super HZ-H (1 piece) + TSKgel Super HZM-H (2 pieces)

레퍼런스 칼럼 : 토소사 제조, TSKgel Super H-RC (1 개) Reference column: TSKgel Super H-RC manufactured by Toso Co., Ltd. (1)

유량 : 0.6 ㎖/min Flow rate: 0.6 ml / min

주입량 : 10 ㎕ Injection volume: 10 μl

칼럼 온도 : 40 ℃Column temperature: 40 DEG C

용리액 : THF Eluent: THF

주입 시료 농도 : 0.2 중량%Injection sample concentration: 0.2 wt%

검출기 : 시차굴절계 Detector: differential refractometer

또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.The weight average molecular weight was calculated by polystyrene conversion.

실시예 1Example 1

(아크릴계 점착제 조성물의 조정)(Adjustment of acrylic pressure-sensitive adhesive composition)

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액 (고형분 농도 30 중량%) 의 고형분 100 부당, 가교제로서, 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N, 미츠이 화학 (주) 제조) 를 0.1 부와, 디벤조일퍼옥사이드를 0.3 부, 인산 화합물로서, 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 를 0.03 부와, 실란 커플링제로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 (상품명 : KBM-403, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 을 0.075 부와, 페놀계 산화 방지제로서, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 (IRGANAOX 1010, BASF 재팬 (주) 제조) 0.3 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. (Trade name: Takenate D110N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used as a crosslinking agent per 100 parts of the solid content of the solution (solid concentration 30% by weight) containing the acrylic polymer (A-1) , 0.3 part of dibenzoyl peroxide, 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) as a phosphoric acid compound, 0.03 part of? -Glycidoxypropyl 0.075 part of trimethoxysilane (trade name: KBM-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a phenol-based antioxidant and 0.075 part of pentaerythritol tetrakis [3- (3,5- -Hydroxyphenyl) propionate (IRGANAOX 1010, manufactured by BASF Japan K.K.) were blended to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.

(점착제층이 형성된 편광 필름의 제작)(Production of a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer)

상기 아크릴계 점착제 조성물을, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (기재) 의 표면에, 파운틴 코터로 균일하게 도공하고, 155 ℃ 의 공기 순환식 항온 오븐에서 2 분간 건조시켜, 기재의 표면에 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 편광 필름 (1) 의 보호 필름을 갖지 않는 면에, 점착제층을 형성한 세퍼레이터를 이착 (移着) 시켜, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The acrylic pressure-sensitive adhesive composition was uniformly coated on the surface of a polyethylene terephthalate film (substrate) treated with a silicone-based releasing agent with a fountain coater and dried in an air circulating thermostat oven at 155 캜 for 2 minutes to form a pressure- Mu m of a pressure-sensitive adhesive layer was formed. Then, a separator having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon was adhered to the surface of the polarizing film 1 having no protective film to prepare a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer.

실시예 2 ∼ 5Examples 2 to 5

인산 화합물의 첨가량을, 0.03 부로부터 표 3 에 기재된 부수로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the phosphoric acid compound added was changed from 0.03 part to the number of parts shown in Table 3. [

실시예 6Example 6

포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 포스파놀 RS-410 (토호 화학 공업 (주) 제조) 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was changed to 0.1 part of Phosphanol RS-410 (Toho Chemical Industry Co., Ltd.) A polarizing film was formed.

실시예 7Example 7

포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 포스파놀 RS-710 (토호 화학 공업 (주) 제조) 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was changed to 0.1 part of Phosphanol RS-710 (Toho Chemical Industry Co., Ltd.) A polarizing film was formed.

실시예 8 Example 8

포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, DBP (조호쿠 화학 (주) 제조) 0.05 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was changed to 0.05 part of DBP (manufactured by Joho Chemical Co., Ltd.) Respectively.

실시예 9 Example 9

포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.03 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was changed to 0.03 part of phosphoric acid (reagent grade) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Thereby forming a polarizing film having a layer formed thereon.

실시예 10 ∼ 14 Examples 10-14

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 각각, 제조예 8 ∼ 12 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-2) ∼ (A-6) 을 함유하는 용액으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Preparation Example 7 was changed to a solution containing the acrylic polymer (A-2) to (A-6) obtained in Production Examples 8 to 12, respectively, In the same manner as in Example 1, a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer was produced.

실시예 15 ∼ 17Examples 15 to 17

실시예 1 의 (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (2), (3), (4) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. Except that polarizing films (1) were changed to polarizing films (2), (3) and (4) in Example 1 (preparation of polarizing film with pressure-sensitive adhesive layer) A polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon was produced.

실시예 18 Example 18

(아크릴계 점착제 조성물의 조정)(Adjustment of acrylic pressure-sensitive adhesive composition)

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액 (고형분 농도 30 중량%) 의 고형분 100 부당, 가교제로서, 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N, 미츠이 화학 (주) 제조) 를 0.1 부와, 디벤조일퍼옥사이드를 0.3 부, 인산 화합물로서, 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 를 0.03 부와, 실란 커플링제로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 (상품명 : KBM-403, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 을 0.075 부와, 이온성 화합물로서, 리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (모리타 화학 공업 (주) 제조) 0.5 부, 페놀계 산화 방지제로서, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 (IRGANAOX 1010, BASF 재팬 (주) 제조) 0.3 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다.(Trade name: Takenate D110N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used as a crosslinking agent per 100 parts of the solid content of the solution (solid concentration 30% by weight) containing the acrylic polymer (A-1) , 0.3 part of dibenzoyl peroxide, 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) as a phosphoric acid compound, 0.03 part of? -Glycidoxypropyl 0.075 part of trimethoxysilane (trade name: KBM-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 0.5 part of lithium bistrifluoromethane sulfonylimide (manufactured by Morita Chemical Industry Co., Ltd.) , And 0.3 part of pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (IRGANAOX 1010, manufactured by BASF Japan Ltd.) To obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.

(점착제층이 형성된 편광 필름의 제작)(Production of a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer)

상기 아크릴계 점착제 조성물을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the acrylic pressure-sensitive adhesive composition was used.

실시예 19Example 19

리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (모리타 화학 공업 (주) 제조) 0.5 부를, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (키시다 화학 (주) 제조) 0.5 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 18 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.0.5 part of lithium bistrifluoromethanesulfonylimide (manufactured by MORITA CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.) Was added to 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (Kishida Chemical Co., Ltd.) was prepared in the same manner as in Example 18 except that the pressure-sensitive adhesive layer was changed to 0.5 part.

실시예 20Example 20

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.05 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14 and further treated with Phosphanol SM-172 (trade name, ) Was changed to 0.05 part of phosphoric acid (reagent grade) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to prepare a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer.

실시예 21Example 21

인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 의 첨가량을 0.05 부에서 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer was produced in the same manner as in Example 20 except that the amount of phosphoric acid (reagent grade) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was changed from 0.05 part to 0.1 part.

실시예 22Example 22

포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 0.01 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that 0.03 part of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was changed to 0.01 part of MP-4 (trade name, acid value: 670 mgKOH / g, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was prepared in the same manner as in Example 1.

실시예 23 Example 23

MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 의 첨가량을 0.01 부에서 0.06 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 22 와 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that the addition amount of MP-4 (trade name, acid value: 670 mgKOH / g, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) was changed from 0.01 part to 0.06 part, Respectively.

실시예 24 Example 24

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14 and further treated with Phosphanol SM-172 (trade name, ) Was changed to 0.1 part of MP-4 (trade name, acid value: 670 mgKOH / g, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) Respectively.

실시예 25, 26 Examples 25 and 26

MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 의 첨가량을, 0.1 부에서 0.8 부, 3 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 24 와 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except that the addition amount of MP-4 (trade name, acid value: 670 mgKOH / g, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) was changed from 0.1 part to 0.8 part and 3 parts, A polarizing film was formed.

실시예 27 Example 27

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 0.04 부와 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.01 부의 혼합물로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14 and further treated with Phosphanol SM-172 (trade name, ), 0.03 part of MP-4 (trade name, acid value: 670 mgKOH / g, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.01 part of phosphoric acid (reagent grade) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) , A polarizing film in which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was prepared in the same manner as in Example 1. [

실시예 28Example 28

제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.04 부와 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.01 부의 혼합물로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14 and further treated with Phosphanol SM-172 (trade name, ) Was changed to a mixture of 0.04 parts of Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.01 part of phosphoric acid (reagent grade) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was prepared in the same manner as in Example 1.

실시예 29 ∼ 34Examples 29 to 34

얻어진 아크릴계 폴리머를 함유하는 용액의 종류, 인산 화합물의 종류와 첨가량을, 표 3 에 기재된 종류와 부수로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was prepared in the same manner as in Example 1 except that the kind of the acrylic polymer-containing solution, the kind of the phosphoric acid compound, and the amount thereof were changed to the kinds and amounts shown in Table 3.

비교예 1 Comparative Example 1

아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 8 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-2) 를 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to a solution containing the acrylic polymer (A-2) obtained in Production Example 8 and no phosphate ester was used To prepare a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer.

비교예 2Comparative Example 2

아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 9 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to a solution containing the acrylic polymer (A-3) obtained in Production Example 9 and no phosphate ester was used To prepare a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer.

비교예 3Comparative Example 3

아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 11 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-5) 를 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to a solution containing the acrylic polymer (A-5) obtained in Production Example 11 and no phosphate ester was used To prepare a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer.

비교예 4Comparative Example 4

아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 13 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-7) 을 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to a solution containing the acrylic polymer (A-7) obtained in Preparation Example 13 and no phosphate ester was used To prepare a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer.

실시예 35, 36Examples 35 and 36

실시예 1 의 (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (5), (6) 으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다.A pressure-sensitive adhesive layer was formed in the same manner as in Example 1, except that the polarizing film (1) was changed to the polarizing films (5) and (6) in the production of the polarizing film To prepare a polarizing film. Further, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the protective film 2 side.

실시예 37 Example 37

실시예 24 의 (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (5) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 24 와 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다.A polarizing film in which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was produced in the same manner as in Example 24 except that the polarizing film (1) was changed to the polarizing film (5) in Example 24 Respectively. Further, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the protective film 2 side.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 1 (아크릴계 점착제 조성물의 조정) 에 있어서 인산에스테르를 사용하지 않고, (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (5) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다. Except that the polarizing film (1) was changed to the polarizing film (5) in Example 1 (preparation of a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer) without using phosphate ester in the preparation of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was prepared in the same manner as in Example 1. Further, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the protective film 2 side.

비교예 6Comparative Example 6

실시예 1 (아크릴계 점착제 조성물의 조정) 에 있어서, 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 9 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않고, (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (6) 으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다. A solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to a solution containing the acrylic polymer (A-3) obtained in Production Example 9, and a phosphate ester was added to the solution containing the acrylic polymer A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was produced in the same manner as in Example 1 except that the polarizing film (1) was changed to the polarizing film (6) in the production of the polarizing film Respectively. Further, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the protective film 2 side.

실시예 및 비교예에서 사용한 인산계 화합물에 대하여 이하와 같이 분석을 실시하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Phosphoric acid compounds used in Examples and Comparative Examples were analyzed as follows. The results are shown in Table 2.

(분석 방법) (Analysis method)

실시예 및 비교예에서 사용한 인산계 화합물의 조성을, 31P-NMR (Acetone-d6, 실온) 의 측정 결과에 근거하여 산출하였다. 측정에 의해 얻어진 피크의 적분값으로부터 mol% 를 산출한 후, 에스테르의 알코올 성분의 알킬 사슬로부터 함유량비 (중량%) 를 산출하였다.The composition of the phosphate compound used in Examples and Comparative Examples was calculated based on the measurement results of 31 P-NMR (Acetone-d6, room temperature). The mol% was calculated from the integrated value of the peaks obtained by the measurement, and then the content ratio (% by weight) of the alcohol component of the ester with respect to the alkyl chain was calculated.

(31P-NMR 측정 조건) ( 31 P-NMR measurement conditions)

측정 장치 : Bruker Biospin, AVANCEIII-400 Measuring devices: Bruker Biospin, AVANCEIII-400

관측 주파수 : 160 ㎒ (31P) Observation frequency: 160 ㎒ ( 31 P)

플립각 : 30°Flip angle: 30 °

측정 용매 : Acetone-d6 (중아세톤) Measurement solvent: Acetone-d6 (medium acetone)

측정 온도 : 실온 Measuring temperature: room temperature

화학 시프트 표준 : P=(OCH3)3 in Acetone-d6 (31P ; 140 ppm 외부 표준)Chemical shift standard: P = (OCH 3) 3 in Acetone-d6 (31 P; 140 ppm external standard)

Figure pct00006
Figure pct00006

표 2 에 있어서, 인산모노에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우에는, R1 이 수소 원자인 화합물) 이고, 인산디에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우에는, R1 이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물) 이다. 예를 들어, 포스파놀 SM-172 의 경우, 「모노에스테르」는, 일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C8H17, n = 0 인 화합물, 「디에스테르」는, 일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0 인 화합물을 나타낸다. In Table 2, the phosphoric acid monoester is a compound which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms, in which either one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom Is a compound in which R 1 is a hydrogen atom in the case of Formula (2)), and the phosphoric acid diester is a compound in which R 1 and R 2 in the general formula (1) are hydrocarbons having 1 to 18 carbon atoms (In the case of formula (2), a compound wherein R 1 is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom). For example, in the case of phosphapone SM-172, the "monoester" is a compound in which R 1 = H, R 3 = C 8 H 17 and n = 0 in the general formula (2) Represents a compound wherein R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0 in the formula (2).

<내부식성 시험><Corrosion resistance test>

표면에 ITO 층이 형성된 도전성 필름 (상품명 : 엘레크리스타 (P400L), 닛토 전공 (주) 제조) 을 15 ㎜ × 15 ㎜ 로 절단하고, 이 도전성 필름 상의 중앙부에, 실시예, 및 비교예에서 얻어진 샘플을 8 ㎜ × 8 ㎜ 로 절단하여 첩합한 후, 50 ℃, 5 atm 에서 15 분간 오토클레이빙한 것을 내부식성의 측정 샘플로 하였다. 얻어진 측정용 샘플의 저항값을 후술하는 측정 장치를 이용하여 측정하고, 이것을 「초기 저항값」으로 하였다.A conductive film (trade name: P400L, manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) having an ITO layer formed on its surface was cut into 15 mm x 15 mm, and the samples obtained in Examples and Comparative Examples Was cut and cut into 8 mm x 8 mm and then autoclaved at 50 DEG C and 5 atm for 15 minutes to obtain a measurement sample of corrosion resistance. The resistance value of the measurement sample thus obtained was measured using a measuring device described later, and this was regarded as an &quot; initial resistance value &quot;.

그 후, 측정용 샘플을 온도 60 ℃, 습도 90 % 의 환경에, 500 시간 투입한 후에, 저항값을 측정한 것을, 「습열 후의 저항값」으로 하였다. 또한, 상기 저항값은, Accent Optical Technologies 사 제조 HL5500PC 를 이용하여 측정을 실시하였다. 상기 서술한 바와 같이 측정한 「초기 저항값」 및 「습열 후의 저항값」으로부터, 다음 식으로 저항값 변화율 (%) 을 산출하고, 이하의 평가 기준에 의해 평가하였다.Thereafter, the sample for measurement was placed in an environment at a temperature of 60 DEG C and a humidity of 90% for 500 hours, and the resistance value was measured as &quot; resistance value after wet heat &quot;. The resistance value was measured using HL5500PC manufactured by Accent Optical Technologies. The resistance value change ratio (%) was calculated from the "initial resistance value" and the "resistance value after wet heat" measured as described above according to the following equation, and evaluated according to the following evaluation criteria.

Figure pct00007
Figure pct00007

(평가 기준)(Evaluation standard)

◎ : 저항값 변화율이, 150 % 미만 (습열에 의한 저항값의 상승폭 작다 (내부식성 양호))?: Less than 150% of resistance value change rate (resistance value rise due to humid heat is small (corrosion resistance is good))

○ : 저항값 변화율이, 150 % 이상 300 % 미만?: The change rate of the resistance value is 150% or more and less than 300%

△ : 저항값 변화율이, 300 % 이상 400 % 미만DELTA: Change rate of the resistance value is 300% or more and less than 400%

× : 저항값 변화율이, 400 % 이상 (습열에 의한 저항값의 상승폭 크다 (내부식성 불량))X: Change rate of resistance value is 400% or more (increase in resistance value due to humid heat is large (corrosion resistance failure))

<점착제의 내구성 시험 (박리 및 발포)>&Lt; Durability test of pressure-sensitive adhesive (peeling and foaming) &gt;

실시예, 비교예에서 얻어진 점착제층이 형성된 편광 필름 샘플의 세퍼레이터 필름을 벗기고, 무알칼리 유리 및, 하기의 비결정 ITO 가 형성된 유리의 ITO 면에 첩합하고, 50 ℃, 5 atm, 15 분간의 오토클레이브 처리를 실시한 후, 80 ℃ 및 100 ℃ 의 가열 오븐 및 60 ℃/90 %RH 및 85 ℃/85 %RH 의 항온항습기에 투입하였다. 500 시간 후의 편광 필름의 박리 및 발포를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 또, 85 ℃ 와 -40 ℃ 의 환경을 1 사이클 1 시간으로 300 사이클 실시한 후 (히트쇼크 시험 (HS 시험)) 의 편광 필름의 박리 및 발포를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.The separator film of the polarizing film sample in which the pressure-sensitive adhesive layer obtained in the Examples and Comparative Examples were formed was peeled off and bonded to the ITO side of the glass with no alkali glass and the following amorphous ITO formed thereon. The resultant was placed in an autoclave After the treatment, the mixture was placed in a heating oven at 80 캜 and 100 캜 and a constant temperature and humidity chamber at 60 캜 / 90% RH and 85 캜 / 85% RH. The peeling and foaming of the polarizing film after 500 hours were visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. The polarizing film peeling and foaming of the polarizing film after observing the environment at 85 캜 and -40 캜 for 300 cycles of 1 cycle for 1 hour (heat shock test (HS test)) were visually observed and evaluated by the following evaluation criteria.

◎ : 전혀 박리 또는 발포가 보이지 않았다.◎: No peeling or foaming was observed at all.

○ : 육안으로는 확인할 수 없는 정도의 박리 또는 발포가 보였다.○: The peeling or foaming was observed to the extent that it could not be confirmed by the naked eye.

△ : 육안으로 확인할 수 있는 작은 박리 또는 발포가 보였다.?: Small peeling or foaming that can be confirmed with naked eyes was observed.

× : 분명한 박리 또는 발포가 보였다.X: Apparent peeling or foaming was observed.

(비결정 ITO 가 형성된 유리의 제조 방법)(Production method of glass in which amorphous ITO is formed)

무알칼리 유리의 일방의 면에, 스퍼터링법에 의해 ITO 막을 형성하여, 비결정화 ITO 박막을 갖는 피착체를 제작하였다. 결정성 ITO 박막의 Sn 비율은, 3 중량% 였다. 또한, ITO 박막의 Sn 비율은, Sn 원자의 중량/(Sn 원자의 중량 + In 원자의 중량) 으로부터 산출하였다.An ITO film was formed on one surface of the alkali-free glass by a sputtering method to prepare an adherend having an ITO thin film without crystallization. The Sn ratio of the crystalline ITO thin film was 3% by weight. The Sn ratio of the ITO thin film was calculated from the weight of Sn atom / (weight of Sn atom + weight of In atom).

Figure pct00008
Figure pct00008

Figure pct00009
Figure pct00009

Figure pct00010
Figure pct00010

Figure pct00011
Figure pct00011

표 중의 약기는, 각각 이하와 같다.The abbreviations in the tables are as follows.

(인산 화합물) (Phosphoric acid compound)

B-1 : 포스파놀 SM-172, 산가 : 219 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 토호 화학 공업 (주) 제조 B-1: phosphapol SM-172, acid value: 219 mgKOH / g, mono-di mixture, manufactured by Toho Chemical Industry Co.,

B-2 : 포스파놀 RS-410, 산가 : 105 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 토호 화학 공업 (주) 제조 B-2: phosphanol RS-410, acid value: 105 mgKOH / g, mono-di mixture, manufactured by Toho Chemical Industry Co.,

B-3 : 포스파놀 RS-710, 산가 : 62 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 토호 화학 공업 (주) 제조 B-3: phosphanol RS-710, acid value: 62 mgKOH / g, mono-di mixture, manufactured by Toho Chemical Industry Co.,

B-4 : DBP, 산가 : 266 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 조호쿠 화학 (주) 제조 B-4: DBP, acid value: 266 mgKOH / g, mono-di mixture, manufactured by Joho Chemical Co.,

B-5 : 인산 (시약 특급), 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조 B-5: Phosphoric acid (reagent grade), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

B-6 : MP-4, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 다이하치 화학 공업 (주) 제조 B-6: MP-4, acid value: 670 mgKOH / g, mono-di mixture, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co.,

B-7 : 모노-N-부틸포스페이트 (O=P(OH)2(OC4H9), Product Nomber : CDS001281), SIGMA-ALDRICH 제조B-7: mono -N- butyl phosphate (O = P (OH) 2 (OC 4 H 9), Product Nomber: CDS001281), SIGMA-ALDRICH prepared

(가교제)(Crosslinking agent)

과산화물계 : 디벤조일퍼옥사이드Peroxide system: dibenzoyl peroxide

이소시아네이트계 : 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N)(미츠이 화학 (주) 제조)Isocyanate type: trimethylolpropane xylylene diisocyanate (trade name: Takenate D110N) (manufactured by Mitsui Chemicals)

(이온성 화합물)(Ionic compound)

E-1 : 리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (모리타 화학 공업 (주) 제조) E-1: Lithium bistrifluoromethanesulfonylimide (manufactured by Morita Chemical Industry Co., Ltd.)

E-2 : 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (키시다 화학 (주) 제조)E-2: 1-Methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (Kishida Chemical Co., Ltd.)

또, 표 3, 5 중의 요오드 함유량은, 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량 (중량%) 이다.The iodine content in Tables 3 and 5 is the content (% by weight) of iodine and / or iodide ion in the polarizer.

1 : 편광 필름
2 : 점착제층
3 : 대전 방지층
4 : 유리 기판
5 : 액정층
6 : 구동 전극
7 : 대전 방지층 겸 센서층
8 : 구동 전극 겸 센서층
9 : 센서층
1: polarizing film
2: Pressure-sensitive adhesive layer
3: antistatic layer
4: glass substrate
5: liquid crystal layer
6: driving electrode
7: Antistatic layer and sensor layer
8: Driving electrode and sensor layer
9: Sensor layer

Claims (22)

요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 하기 일반식 (1) :
[화학식 1]
Figure pct00012

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
(I) at least one side of an iodine-based polarizing film having a transparent protective film on at least one side of an iodine-based polarizer containing iodine and /
[Chemical Formula 1]
Figure pct00012

(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)
, And a pressure sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) and a (meth) acrylic polymer, Sensitive adhesive layer is formed.
제 1 항에 있어서,
상기 요오드계 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이 1 ∼ 14 중량% 인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the content of iodine and / or iodide ion in the iodine-based polarizer is 1 to 14% by weight.
제 2 항에 있어서,
상기 요오드계 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이 3 ∼ 12 중량% 인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
3. The method of claim 2,
Wherein a content of iodine and / or iodide ion in the iodine-based polarizer is 3 to 12% by weight.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인산계 화합물이, 인산을 포함하고, 또한 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산모노에스테르, 및 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 인산에스테르를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the phosphate compound comprises phosphoric acid and is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may be an oxygen atom in either one of R 1 and R 2 of the general formula (1) Ester, and a phosphoric acid diester which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms, in which R 1 and R 2 in the general formula (1) may contain an oxygen atom, And a pressure-sensitive adhesive layer formed on the pressure-sensitive adhesive layer.
제 4 항에 있어서,
상기 인산계 화합물이, 인산 및 인산모노에스테르를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
5. The method of claim 4,
Wherein the phosphoric acid compound is a mixture comprising phosphoric acid and phosphoric acid monoester.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기가, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요오드계 편광 필름이, 상기 요오드계 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이고, 또한 상기 편면 보호 편광 필름의 투명 보호 필름을 갖고 있지 않은 면과, 상기 점착제층이 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the iodine polarizing film is a single polarizing protective polarizing film having a transparent protective film on only one side of the iodine polarizer and a surface of the single polarizing protective polarizing film not having a transparent protective film, Wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the polarizing film.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요오드계 편광자의 두께가 10 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the thickness of the iodine polarizer is 10 占 퐉 or less.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요오드계 편광 필름의 총 두께가 80 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the total thickness of the iodine-based polarizing film is 80 占 퐉 or less.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
A pressure-sensitive adhesive sheet comprising the pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film according to any one of claims 1 to 9, and a transparent conductive layer of a member having a transparent conductive layer, film.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인산계 화합물의 첨가량이, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 0.001 ∼ 4 중량부인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein the phosphoric acid compound is added in an amount of 0.001 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth) acryl-based polymer.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 폴리머가, 모노머 단위로서, 알킬(메트)아크릴레이트, 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 11,
Wherein the (meth) acryl-based polymer comprises, as a monomer unit, an alkyl (meth) acrylate and a monomer containing a hydroxyl group.
제 12 항에 있어서,
하이드록실기 함유 모노머가 4-하이드록시부틸아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
13. The method of claim 12,
And the hydroxyl group-containing monomer is 4-hydroxybutyl acrylate.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이 120만 ∼ 300만인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
14. The method according to any one of claims 1 to 13,
Wherein the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is from 1.2 million to 3 million.
제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로, 가교제를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
15. The method according to any one of claims 1 to 14,
Wherein the acrylic pressure sensitive adhesive composition further comprises a crosslinking agent.
제 15 항에 있어서,
가교제는, 과산화물계 가교제, 및 이소시아네이트계 가교제로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 가교제인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
16. The method of claim 15,
Wherein the cross-linking agent is at least one cross-linking agent selected from the group consisting of a peroxide-based cross-linking agent and an isocyanate-based cross-linking agent.
제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로, 이온성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.
17. The method according to any one of claims 1 to 16,
Wherein the acrylic pressure sensitive adhesive composition further comprises an ionic compound.
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 투명 도전성 부재를, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 기재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 적층체.A polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer according to any one of claims 1 to 17 is formed and a transparent electroconductive member having a transparent electroconductive layer are laminated to a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure- To form a laminate. 제 18 항에 있어서,
상기 투명 도전층이 산화인듐주석으로 형성되는 것을 특징으로 하는 적층체.
19. The method of claim 18,
Wherein the transparent conductive layer is formed of indium tin oxide.
제 19 항에 있어서,
상기 산화인듐주석이 비결정성의 산화인듐주석인 것을 특징으로 하는 적층체.
20. The method of claim 19,
Wherein the indium tin oxide is amorphous indium tin oxide.
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.A liquid crystal display device comprising a pressure sensitive adhesive layer of a polarizing film on which a pressure sensitive adhesive layer according to any one of claims 1 to 17 is formed and a liquid crystal panel having a transparent conductive layer are laminated on a pressure sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure sensitive adhesive layer is formed, Layer are in contact with each other. 제 18 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 터치 패널로서 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.An image display apparatus characterized by using the laminate according to any one of claims 18 to 20 as a touch panel.
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