KR20160026520A - Segment for continuous casting process and Continuous casting device having the same - Google Patents
Segment for continuous casting process and Continuous casting device having the sameInfo
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- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/12—Accessories for subsequent treating or working cast stock in situ
- B22D11/124—Accessories for subsequent treating or working cast stock in situ for cooling
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Abstract
Description
본 발명은 연주장치용 세그먼트 및 이를 구비하는 연주장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 세그먼트를 전체적으로 감싸는 냉각용 질소 가스 공간을 형성하여 슬라브가 공기와 접촉하는 것을 차단함으로써, 슬라브의 표면에 산화 스케일이 형성되는 것을 방지하는 연주장치용 세그먼트 및 이를 구비하는 연주장치에 관한 것이다.The present invention relates to a segment for a performance apparatus and a performance apparatus having the same. More particularly, the present invention relates to a segment for a performance apparatus and a performance apparatus having the segment for preventing a formation of an oxidation scale on the surface of a slab by forming a cooling nitrogen gas space which entirely covers the segments to prevent the slab from being in contact with air will be.
일반적으로 연속주조장치(이하 '연주장치'라 함)는 액상의 용강을 일정한 형태의 고상으로 결함없이 응고시키면서 연속으로 주조하는 설비를 말한다.In general, a continuous casting apparatus (hereinafter referred to as a "casting apparatus") refers to a casting apparatus continuously casting a molten steel of a liquid phase in a solid phase without defects.
도 1을 참조하여 살펴보면, 종래의 연주장치는 제강공정에서 정련된 용강이 담긴 래들(ladle)(10), 래들(10)에 연결된 주입노즐을 통해 용강을 공급받아 일시 저장하는 턴디쉬(tundish)(20), 턴디쉬(20)로부터 전달받은 용강을 일정한 형상으로 초기 응고시키는 주형(mold)(30) 및 주형(30)의 하부에 구비되어 미응고된 슬라브(S)을 냉각시키면서 진행을 안내하는 복수의 롤러를 갖는 다수 개의 세그먼트(40)를 포함한다.1, a conventional performance apparatus includes a
도 2를 참조하여 살펴보면, 세그먼트(40)는 본체부(42)와, 본체부(42)에 제공되어 슬라브(S)의 이동을 안내하며 압하하는 복수의 롤러(44)를 포함할 수 있다. 또한, 복수의 롤러(44) 사이에는 슬라브(S)를 냉각하기 위해 냉각유체를 분사하는 노즐장치(50)가 배치될 수 있다.2, the
여기서, 노즐장치(50)는 복수의 유체, 일례로 공기와 물을 혼합한 후, 이를 에어 미스트(air mist) 상태로 분사하며 슬라브(S)를 냉각한다.Here, the
이러한 노즐장치(50)는 슬라브(S)으로 분사되는 혼합 유체의 분사 특성을 조절하기 위한 노즐팁(52)을 포함할 수 있다. 일례로, 본 실시예에서 노즐팁(52)은 스프레이 형태로 유체를 분사하도록 제공된다.The
한편, 최근의 연주장치(10)는 슬라브(S)의 냉각속도를 증가시켜 고속생산을 가능하게 하는 기술들이 개발되고 있으며, 이에 따라, 도 3에 도시된 바와 같이, 슬라브(S)으로 분사되는 냉각유체를 슬라브(S)의 상부와 하부에서 분사시켜 슬라브(S)의 냉각량을 증가시키고자 하는 시도가 진행되고 있다.In recent years, techniques for increasing the cooling rate of the slab S and enabling high-speed production have been developed in recent years by the
그러나, 종래의 연주장치(10)의 세그먼트(40)는 노즐장치(50)로부터 분사되는 유체가 인접하는 롤러(44)와 간섭되는 것을 피하기 위해 분사각이 제한되고 있으며, 이러한 분사각의 제한에 따라 냉각유체의 분사 면적 및 냉각유량을 증가시키는데 한계가 있어 고속 연속주조시 슬라브(S) 냉각을 저해하는 요인이 되고 있다.However, the
또한, 종래의 연주장치(10)에 이용되는 냉각 방식은 슬라브(S)에 직접적으로 냉각유체를 분사하여 냉각하는 방식을 따르고 있기 때문에, 주형(mold)(30)으로부터 인출되는 슬라브(S)가 공기와 접촉함에 따라 슬라브(S) 표면에 산화 스케일(scale: 금속면에 부착한 피막상의 불순물, 금속산화물)이 형성되어 품질 결합이 발생하는 문제가 있다.Since the cooling system used in the
더불어, 종래의 연주장치(10)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 슬라브(S)의 상면과 하면에만 분사하기 때문에, 슬라브의 측면측에서 응고 지연이 발생한다.In addition, since the
또한, 종래의 연주장치(10)는 냉각유체의 분사압력 및 노즐의 위치에 의하여 분사유체가 겹쳐지는 영역과 미분사 영역 등이 발생하여 슬라브(S)를 균일하게 냉각하기 어렵다.In addition, in the
그에 따라, 종래의 연주장치(10)는 슬라브(S)에 있어서 응고가 지연되는 영역이 존재하게 되는바, 응고속도의 차이에 의하여 슬라브(S)의 전체적인 내부 품질이 하향되는 문제가 있다.Accordingly, the
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 질소 가스를 분사하여 슬라브 표면에 산화 스케일이 형성되는 것을 방지하는 연주장치용 세그먼트 및 이를 구비하는 연주장치를 제공하는데에 있다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention provides a segment for a performance apparatus that prevents nitrogen oxide gas from being formed on a surface of a slab by spraying nitrogen gas, and a performance apparatus having the segment.
또한 세그먼트 주변에 냉각 질소 가스가 존재되게 함으로써, 온도차와 같은 외부 환경적 요인으로부터 슬라브가 받는 영향을 최소화하는데 있다.In addition, the presence of cooling nitrogen gas around the segment minimizes the influence of slabs from external environmental factors such as temperature differences.
또한, 슬라브 주변에 균일하게 확산된 냉각 질소 가스를 존재하게 함으로써, 균일한 냉각을 가능케 하는 연주장치용 세그먼트 및 이를 구비하는 연주장치를 제공하는데에 있다.It is another object of the present invention to provide a segment for a performance apparatus capable of uniform cooling by allowing cooling nitrogen gas uniformly diffused around the slab to exist and a performance apparatus having the same.
상기 과제는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따라, 소재를 이동시키는 다수 개의 롤러가 설치된 세그먼트 본체와; 상기 세그먼트 본체에 설치되어, 기체를 적어도 상기 소재를 포위하도록 분사하는 상부 냉각부 및 하부 냉각부를 포함하는 연주장치용 세그먼트에 의하여 달성된다.According to a preferred embodiment of the present invention, the above object is solved by a seal assembly comprising: a segment body provided with a plurality of rollers for moving a material; And an upper cooling portion and a lower cooling portion provided in the segment body for spraying the gas so as to surround at least the material.
여기서, 상기 상부 냉각부와 상기 하부 냉각부 각각은, 상기 세그먼트 본체 주변의 기 설정된 영역까지 상기 기체가 존재하도록 상기 기체를 분사하는 것을 특징으로 한다.Here, each of the upper cooling part and the lower cooling part injects the gas so that the gas exists up to a predetermined area around the segment main body.
또한, 상기 상부 냉각부와 상기 하부 냉각부 각각은, 유입구; 상기 유입구와 연통되게 설치되는 분사 라인; 및 상기 분사 라인에 기 설정된 간격으로 설치되는 복수 개의 분사 노즐을 포함할 수 있다.Each of the upper cooling unit and the lower cooling unit includes an inlet; A spray line connected to the inlet port; And a plurality of spray nozzles installed at predetermined intervals in the spray line.
여기서, 상기 분사 노즐은, 상기 소재를 향하여 설치되는 주 분사 노즐과; 상기 분사 라인의 측면을 따라 설치되는 측면 분사 노즐을 포함할 수 있다.Here, the injection nozzle may include a main injection nozzle installed toward the material; And a side injection nozzle installed along a side surface of the injection line.
한편, 상기 상부 냉각부 또는 상기 하부 냉각부로부터 분사되는 상기 기체를 조절하는 제어부를 더 포함할 수 있다.The controller may further include a controller for regulating the gas injected from the upper cooling unit or the lower cooling unit.
여기서, 상기 기체는 냉각 질소 가스일 수 있다.Here, the gas may be a cooling nitrogen gas.
또한, 상기 소재는 슬라브일 수 있다.
Further, the material may be a slab.
상기 과제는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따라, 벤더; 세그먼트; 및 상술된 연주장치용 세그먼트를 포함하되, 상기 연주 장치용 세그먼트는 상기 벤더와 상기 세그먼트 사이에 적어도 세 개가 설치되는 것을 특징으로 하는 연주장치에 의하여 달성된다.According to a preferred embodiment of the present invention, Segment; And a segment for a performance device as described above, wherein at least three segments are provided between the bender and the segment.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트는 냉각 질소 가스를 분사하여 슬라브 표면에 산화 스케일이 형성되는 것을 방지할 수 있다.The segment for a performance apparatus according to the preferred embodiment of the present invention having the above-described structure can prevent the oxidation scale from being formed on the surface of the slab by spraying the cooling nitrogen gas.
그리고, 슬라브를 냉각하는데 있어서, 질소 가스를 사용함으로써, 슬라브의 표면을 더욱 강화할 수 있다.Further, by using nitrogen gas in cooling the slab, the surface of the slab can be further strengthened.
또한, 세그먼트 주변에 냉각 질소 가스가 존재되게 함으로써, 온도차와 같은 외부 환경적 요인으로부터 슬라브가 받는 영향을 최소화할 수 있다.Also, by allowing cooling nitrogen gas to be present around the segment, the influence of the slab on the external environmental factors such as temperature difference can be minimized.
또한, 슬라브 주변에 균일하게 확산된 냉각 질소 가스를 존재하게 함으로써, 균일한 냉각을 가능케 하여 슬라브의 품질을 향상시킬 수 있다.In addition, by making the cooling nitrogen gas uniformly diffused around the slab, it is possible to uniformly cool the slab and improve the quality of the slab.
도 1은 종래의 연주 주조 고정을 나타내는 도면이고,
도 2는 종래 기술에 따른 연속주조장치용 세그먼트의 일부를 나타내는 도면이고,
도 3은 종래 기술에 따른 연속주조장치용 세그먼트에 의한 냉각 방식을 나타내는 도면이고,
도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트를 구비하는 연주장치를 나타내는 도면이고,
도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트를 나타내는 도면이고,
도 6은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트의 상부 냉각부와 하부 냉각부를 나타내는 도면이고,
도 7은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트의 분사 노즐을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a conventional casting fixation,
2 is a view showing a part of a segment for a continuous casting apparatus according to the prior art,
3 is a view showing a cooling method by a segment for a continuous casting apparatus according to the prior art,
4 is a view showing a performance apparatus having segments for a performance apparatus according to a preferred embodiment of the present invention,
5 is a view showing a segment for a performance apparatus according to a preferred embodiment of the present invention,
6 is a view showing an upper cooling part and a lower cooling part of a segment for a performance apparatus according to a preferred embodiment of the present invention,
7 is a view showing a spray nozzle of a segment for a performance apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated and described in the drawings. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.
제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. The terms including ordinal, such as second, first, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the second component may be referred to as a first component, and similarly, the first component may also be referred to as a second component. And / or < / RTI > includes any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지게 된다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.
도 4 및 도 5를 참조하여 살펴보면, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트(1)를 구비하는 연주장치(2)는 기체 중 하나인 질소 가스를 이용한 냉각 방식의 상기 연주장치용 세그먼트(1), 슬라브(S)를 인출하는 벤더(3), 종래의 세그먼트(4)를 포함할 수 있다. 4 and 5, a
여기서, 상기 연주장치용 세그먼트(1)와 종래의 세그먼트(4)는 다수 개의 롤러(5)를 구비하여 슬라브(S)를 이동시킨다.Here, the
상기 연주장치용 세그먼트(1)를 벤더(3) 이후로 적어도 세 개를 설치하고, 이후에는 종래의 세그먼트(4)를 설치하여 상기 연주장치(2)의 냉각 효율을 최적화할 수 있다. It is possible to optimize the cooling efficiency of the
본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트(1)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 벤더(3) 이후로 세 개가 설치된 것을 그 예로 하고 있으나, 반드시 이에 따르는 것은 아니며, 냉각 질소 가스에 의한 슬라브(S)의 냉각 효과 및 그에 따른 슬라브(S)의 응고 상태에 따라, 세 개보다 많게 또는 적게 설치될 수 있음은 물론이다.
As shown in Fig. 4, the
본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연주장치용 세그먼트(1)는 세그먼트 본체(100), 상부 냉각부(200), 하부 냉각부(300) 및 제어부(400)를 포함할 수 있다.The
세그먼트 본체(100)는 소재를 이동시키는 다수 개의 롤러(5), 상부 포켓부(110) 및 하부 포켓부(120)를 포함할 수 있다. 여기서, 상기 소재는 슬라브(S)이다.The
상부 포켓부(110)와 하부 포켓부(120) 각각에는, 도 5에 도시된 바와 같이, 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300)가 각각 설치된다. 5, the
상부 포켓부(110)와 하부 포켓부(120) 각각에 설치되는 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300)는 기체를 분사하여, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 세그먼트 본체(100) 주변의 기 설정된 영역(A)까지 상기 기체가 존재하게 한다. 여기서, 상기 기체는 기 설정된 영역(A)까지 존재하여 대기 접촉을 차단하면서도 냉각 성능을 구비한 냉각 질소 가스를 이용하는 것이 바람직하다.The
그에 따라, 세그먼트 본체(100)에 설치된 다수 개의 롤러(5)를 따라 이동하는 슬라브(S)는 냉각 질소 가스에 의하여 냉각되면서도 외부 공기와의 접촉이 차단되기 때문에, 슬라브(S) 표면에 산화 스케일이 형성되는 것이 방지된다.The slab S moving along the plurality of
또한, 냉각 질소 가스는 세그먼트 본체(100) 주변의 기 설정된 영역(A)까지 존재하기 때문에, 외부 공기와의 온도차 등의 환경적 영향을 최소화하여 슬라브(S)가 균일하게 냉각되게 한다.Since the cooling nitrogen gas is present up to the predetermined area A around the segment
따라서, 상기 연주장치용 세그먼트(1)는 냉각 질소 가스에 의한 냉각이 실시된 후 슬라브(S)의 내측까지 완전히 응고되는 시점까지 외부 공기와의 접촉을 차단하여 슬라브(S)의 품질 향상에 기여한다.Therefore, the segment (1) for the performance apparatus is prevented from contacting with the outside air until the inside of the slab (S) completely coagulates after being cooled by the cooling nitrogen gas, thereby contributing to the improvement of the quality of the slab do.
한편, 질소 가스의 경우 공기보다 무거우며, 중력의 영향을 받기 때문에 상부 냉각부(200)만을 설치하는 경우 슬라브(S)의 상부와 하부에서 냉각 질소 가스가 균일하게 존재하기 어렵다. 그에 따라, 하부 냉각부(300)를 통하여 추가적으로 냉각 질소 가스를 분사하여 슬라브(S) 주위에 균일한 냉각 질소 가스가 존재하게 한다.On the other hand, in the case of nitrogen gas, since the air is heavier than air and is influenced by gravity, it is difficult for cooling nitrogen gas to uniformly exist in the upper and lower portions of the slab S when only the
제어부(400)는 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300)와 전기적으로 연결되어 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300) 각각으로부터 분사되는 냉각 질소 가스의 양을 제어한다. The
즉, 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300) 각각으로부터 분사되는 냉각 질소 가스량을 조절하여 슬라브(S) 주위에 균일한 냉각 질소 가스가 존재하게 한다.
That is, the amount of the cooling nitrogen gas injected from each of the
도 6을 참조하여 살펴보면, 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300) 각각은, 냉각 질소 가스가 유입되는 유입구(210, 310), 유입구(210, 310)와 연통되게 설치되는 분사 라인(220, 320) 및 분사 라인(220, 320)에 기 설정된 간격으로 설치되는 복수 개의 분사 노즐을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 분사 노즐은 분사 라인(220, 320)에 설치되는 위치에 따라, 주 분사 노즐(230, 330)과 측면 분사 노즐(240, 340)으로 구분된다.6, each of the
유입구(210, 310)를 통하여 유입되는 냉각 질소 가스는 분사 라인(220, 320)을 따라 이동하여 주 분사 노즐(230, 330)과 측면 분사 노즐(240, 340)를 통해 분사 된다.The cooling nitrogen gas flowing through the inlets 210 and 310 moves along the injection lines 220 and 320 and is injected through the main injection nozzles 230 and 330 and the side injection nozzles 240 and 340.
분사 라인(220, 320)은 유입구(210, 310)에 연통되게 설치되며, 관형상으로 형성되어 냉각 질소 가스가 이동하는 유로로 사용될 수 있다. The injection lines 220 and 320 are provided to communicate with the inlets 210 and 310 and may be formed in a pipe shape and used as a flow path through which the cooling nitrogen gas flows.
그리고, 도 6에 도시된 바와 같이, 분사 라인(220, 320)의 내부측에는 분사 공간(221, 231)이 형성될 수 있다. 그에 따라, 측면 분사 노즐(240, 340)을 통하여 분사되는 냉각 질소 가스는 분사 공간(221, 231)을 향하여 분사될 수 있다.As shown in FIG. 6, jetting spaces 221 and 231 may be formed on the inner sides of the jetting lines 220 and 320. Accordingly, the cooling nitrogen gas injected through the side injection nozzles 240, 340 can be injected toward the injection spaces 221, 231.
주 분사 노즐(230, 330)은 롤러(5)를 따라 이동하는 슬라브(S)를 향하여 냉각 질소 가스가 분사될 수 있도록 분사 라인(220, 320)에 설치된다. The main injection nozzles 230 and 330 are installed in the injection lines 220 and 320 so that the cooling nitrogen gas can be injected toward the slab S moving along the
주 분사 노즐(230, 330)로부터 분사되는 냉각 질소 가스는 슬라브(S) 주변에 균일하게 존재하게 된다. 따라서, 슬라브(S)는 주위에 균일하게 존재하는 냉각 질소 가스에 의하여 균일하게 냉각되며, 슬라브(S) 내부측으로의 응고속도 차이는 최소화되게 된다.The cooling nitrogen gas injected from the main injection nozzles 230 and 330 is uniformly present around the slab S. [ Therefore, the slab S is uniformly cooled by the cooling nitrogen gas uniformly present around the slab S, and the difference in solidification speed toward the inside of the slab S is minimized.
또한, 슬라브(S) 주위에는 균일하게 냉각 질소 가스가 존재하기 때문에, 슬라브(S)의 내측까지 완전히 응고되는 시점까지 외부 공기와의 접촉을 차단되어 슬라브(S) 표면에 산화 스케일이 형성되는 것이 방지된다.Since cooling nitrogen gas is uniformly distributed around the slab S, contact with external air is blocked until the inside of the slab S is completely solidified, so that an oxide scale is formed on the surface of the slab S .
측면 분사 노즐(240, 340)은 분사 라인(220, 320)의 측면을 따라 설치되어 세그먼트 본체(100) 주변에 균일하게 냉각 질소 가스가 존재하도록 냉각 질소 가스를 빠르게 확산시킨다. 여기서, 측면 분사 노즐(240, 340)은, 도 6에 도시된 바와 같이, 분사 라인(220, 320)의 내측면을 따라 설치된 것을 그 예로 하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 확산 효과를 증대시키기 위해 외측면을 따라 설치될 수 있음은 물론이다.The side injection nozzles 240 and 340 are installed along the sides of the injection lines 220 and 320 to rapidly diffuse the cooling nitrogen gas so that the cooling nitrogen gas exists uniformly around the
즉, 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300) 각각은 주 분사 노즐(230, 330) 외에 측면 분사 노즐(240, 340)을 더 구비함으로써, 슬라브(S) 주변에 균일하게 냉각 질소 가스가 빠르게 존재하게 함과 동시에 슬라브 본체(110) 주변에 냉각 질소 가스를 빠르게 확산시킨다.That is, each of the
그에 따라, 상부 냉각부(200) 및 하부 냉각부(300)는 외부 공기와의 온도차 등의 환경적 영향을 최소화하여 슬라브(S)가 균일하게 냉각되게 한다.
Accordingly, the
본 실시예에서 사용되는 '~부'라는 용어는 소프트웨어 또는 FPGA(field-programmable gate array) 또는 ASIC과 같은 하드웨어 구성요소를 의미하며, '~부'는 어떤 역할들을 수행한다. 그렇지만 '~부'는 소프트웨어 또는 하드웨어에 한정되는 의미는 아니다. '~부'는 어드레싱할 수 있는 저장 매체에 있도록 구성될 수도 있고 하나 또는 그 이상의 프로세서들을 재생시키도록 구성될 수도 있다. 따라서, 일 예로서 '~부'는 소프트웨어 구성요소들, 객체지향 소프트웨어 구성요소들, 클래스 구성요소들 및 태스크 구성요소들과 같은 구성요소들과, 프로세스들, 함수들, 속성들, 프로시저들, 서브루틴들, 프로그램 코드의 세그먼트들, 드라이버들, 펌웨어, 마이크로코드, 회로, 데이터, 데이터베이스, 데이터 구조들, 테이블들, 어레이들, 및 변수들을 포함한다. 구성요소들과 '~부'들 안에서 제공되는 기능은 더 작은 수의 구성요소들 및 '~부'들로 결합되거나 추가적인 구성요소들과 '~부'들로 더 분리될 수 있다. 뿐만 아니라, 구성요소들 및 '~부'들은 디바이스 또는 보안 멀티미디어카드 내의 하나 또는 그 이상의 CPU들을 재생시키도록 구현될 수도 있다.As used in this embodiment, the term " portion " refers to a hardware component such as software or an FPGA (field-programmable gate array) or ASIC, and 'part' performs certain roles. However, 'part' is not meant to be limited to software or hardware. &Quot; to " may be configured to reside on an addressable storage medium and may be configured to play one or more processors. Thus, by way of example, 'parts' may refer to components such as software components, object-oriented software components, class components and task components, and processes, functions, , Subroutines, segments of program code, drivers, firmware, microcode, circuitry, data, databases, data structures, tables, arrays, and variables. The functions provided in the components and components may be further combined with a smaller number of components and components or further components and components. In addition, the components and components may be implemented to play back one or more CPUs in a device or a secure multimedia card.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims It can be understood that
1 : 연주장치용 세그먼트 2 : 연주장치
3 : 벤더 5 : 롤러
100 : 세그먼트 본체 110 : 상부 포켓부
120 : 하부 포켓부 200 : 상부 냉각부
210, 310 : 유입구 220, 320 : 분사 라인
230, 330 : 주 분사 노즐 240, 340 : 측면 분사 노즐
300 : 하부 냉각부 400 : 제어부
S : 슬라브1: Segment for performance device 2: Performance device
3: Bender 5: Roller
100: segment body 110: upper pocket portion
120: lower pocket part 200: upper cooling part
210, 310: inlet port 220, 320: injection line
230, 330: main injection nozzle 240, 340: side injection nozzle
300: lower cooling section 400: control section
S: Slav
Claims (8)
상기 세그먼트 본체에 설치되어, 기체를 적어도 상기 소재를 포위하도록 분사하는 상부 냉각부 및 하부 냉각부를 포함하는 연주장치용 세그먼트.A segment body provided with a plurality of rollers for moving a material;
And an upper cooling portion and a lower cooling portion provided in the segment body for spraying the gas so as to surround at least the material.
상기 상부 냉각부와 상기 하부 냉각부 각각은,
상기 세그먼트 본체 주변의 기 설정된 영역까지 상기 기체가 존재하도록 상기 기체를 분사하는 것을 특징으로 하는 연주장치용 세그먼트.The method according to claim 1,
Wherein each of the upper cooling section and the lower cooling section includes:
And the gas is sprayed so that the gas exists to a predetermined region around the segment body.
상기 상부 냉각부와 상기 하부 냉각부 각각은,
유입구;
상기 유입구와 연통되게 설치되는 분사 라인; 및
상기 분사 라인에 기 설정된 간격으로 설치되는 복수 개의 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 연주장치용 세그먼트.3. The method of claim 2,
Wherein each of the upper cooling section and the lower cooling section includes:
Inlet;
A spray line connected to the inlet port; And
And a plurality of spray nozzles installed at predetermined intervals in the spray line.
상기 분사 노즐은,
상기 소재를 향하여 설치되는 주 분사 노즐과;
상기 분사 라인의 측면을 따라 설치되는 측면 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 연주장치용 세그먼트.The method of claim 3,
The spray nozzle
A main injection nozzle installed toward the material;
And a side injection nozzle installed along the side of the injection line.
상기 상부 냉각부 또는 상기 하부 냉각부로부터 분사되는 상기 기체의 양을 조절하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 연주장치용 세그먼트.3. The method of claim 2,
Further comprising a control unit for controlling an amount of the gas injected from the upper cooling unit or the lower cooling unit.
상기 기체는 냉각 질소 가스인 것을 특징으로 하는 연주장치용 세그먼트.The method according to claim 1,
Characterized in that the gas is a cooled nitrogen gas.
상기 소재는 슬라브인 것을 특징으로 하는 연주장치용 세그먼트.The method according to claim 1,
Characterized in that the material is a slab.
세그먼트; 및
제1항 내지 제7항 중 적어도 어느 하나에 기재된 연주장치용 세그먼트를 포함하되,
상기 연주 장치용 세그먼트는 상기 벤더와 상기 세그먼트 사이에 적어도 세 개가 설치되는 것을 특징으로 하는 연주장치.Vendors;
Segment; And
A musical instrument comprising the segment for a performance device according to any one of claims 1 to 7,
Wherein at least three segments are provided between the bender and the segment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140115576A KR20160026520A (en) | 2014-09-01 | 2014-09-01 | Segment for continuous casting process and Continuous casting device having the same |
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KR (1) | KR20160026520A (en) |
-
2014
- 2014-09-01 KR KR1020140115576A patent/KR20160026520A/en not_active Application Discontinuation
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