Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR20150145803A - 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법 - Google Patents

펄스 레이저 생성기 및 생성 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20150145803A
KR20150145803A KR1020140074966A KR20140074966A KR20150145803A KR 20150145803 A KR20150145803 A KR 20150145803A KR 1020140074966 A KR1020140074966 A KR 1020140074966A KR 20140074966 A KR20140074966 A KR 20140074966A KR 20150145803 A KR20150145803 A KR 20150145803A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
laser
pulse laser
phase
pulse
generating
Prior art date
Application number
KR1020140074966A
Other languages
English (en)
Inventor
송민협
민봉기
서홍석
권용환
김기수
김동선
송정호
심재식
최규동
Original Assignee
한국전자통신연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국전자통신연구원 filed Critical 한국전자통신연구원
Priority to KR1020140074966A priority Critical patent/KR20150145803A/ko
Priority to US14/732,392 priority patent/US20150372447A1/en
Publication of KR20150145803A publication Critical patent/KR20150145803A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0057—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0085—Modulating the output, i.e. the laser beam is modulated outside the laser cavity
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026—Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0265—Intensity modulators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067—Fibre lasers
    • H01S3/06754—Fibre amplifiers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

본 발명인 펄스 레이저 생성기는 연속발진 레이저를 수신하고, 상기 연속발진 레이저의 휘도 및 위상을 조절하여 제1 펄스 레이저를 생성하는 조절부 및 상기 제1 펄스 레이저를 처핑하여 제2 펄스 레이저를 생성하는 처핑부를 포함한다.

Description

펄스 레이저 생성기 및 생성 방법{APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING PULSE LASER}
본 발명은 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법에 관한 발명으로, 구체적으로는 연속발진 레이저를 수신하여 위상변조를 통한 조화파 생성 방식을 통해 생성되는 광 주파수 빗 (Optical Frequency Combs, OFCs) 을 기반으로 한 펄스 레이저로 변환한 후, 처핑, 증폭, 압축하여 첨두 출력이 증가한 펄스 레이저를 생성하는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법에 관한 발명이다.
펄스 레이저는 짧은 시간 동안 큰 첨두출력을 갖는 레이저로, 정밀 분광, 광 주파수 측정, 정밀 거리/형상 측정, 임의 파형 발생(Arbitrary Waveform Generation, AWG), 다 채널 광통신, 고차 조화파(High Harmonic Generation, HHG) 생성, 마이크로파 광분야(Microwave Photonics), 광 시계 등의 광범위한 분야에 사용되고 있다. 특히 주파수 안정화된 광 주파수 빗(Optical Frequency Combs, OFCs)을 사용하여 분광 및 측정을 하는 광학 시스템, 펄스 레이저를 사물에 쏘아서 돌아오는 광원을 측정함으로 사물까지의 거리를 알게 되는 레이저 레이더 시스템 같은 응용분야에 사용되기에 매우 적합한 광원이다. 펄스 레이저는 펄스의 폭을 단축시키고 첨두출력을 증가시키는 방향으로 개발이 진행 중이다. 펄스 레이저의 출력이 큰 경우 장거리 측정 및 분광, 형상측정 시, 대기 혹은 측정 시편에서 손실되는 광량을 보상하는 데 유리하며, 펄스의 폭이 짧은 경우 간섭신호의 폭과 관련되므로 고 분해능의 정밀 측정 및 가공이 가능하다. 특히 장기간 주파수 안정화가 가능한 고출력 광섬유 극초단 레이저는 정밀가공산업, 고차 조화파 생성현상을 이용한 극 자외선 대역에서의 주파수 안정화된 광 주파수 빗 형성과 이를 통한 분광 및 측정, 레이저 광원을 사물에 쏘아서 돌아오는 광원을 측정함으로 사물까지의 거리를 알게 되는 레이저 레이더 시스템 같은 응용분야에 매우 적합한 광원이다.
펄스 레이저를 생성하기 위한 방법으로는 티타늄-사파이어(Ti:sapphire) 레이저로 대표되는 고체 타입의 레이저, 즉 고체를 사용하여 레이저를 발생시키는 방법과 광섬유를 사용하여 레이저를 발생시키는 방법이 있다. 고체를 사용하여 레이저를 발생시키는 경우, 넓은 주파수 스펙트럼을 갖는 동시에 낮은 위상 잡음 특성, 파장 가변 특성 등의 장점을 보이지만 평균 출력의 확장성(scalability)이 부족하고, 직접적인 다이오드 레이저 펌핑이 어려운 관계로 효율이 낮고, 부피가 크고, 외부 환경에 민감하며, 시스템의 복잡성으로 인해 광 정렬, 유지 보수에 어려움이 있는 단점을 가진다. 광섬유를 사용하여 레이저를 발생시키는 경우, 단위 부피당 표면적이 커 열 발산에 있어서 큰 장점을 가질 뿐 아니라 씨드(seed) 레이저와 펌프 레이저간의 상호 작용하는 길이가 레일리 길이(Rayleigh length)에 국한되지 않고 전 광 섬유 길이에 해당하기 때문에 한번의 투과(single pass)만으로도 높은 이득(gain) 값을 얻을 수 있다. 또한 구성이 간결하고 작동이 편리하며 장기간 안정도가 우수한 장점이 있다. 광섬유 펨토초 레이저에서 발생하는 주파수 모드들은 일반적인 경우에는 독립적으로 진동하나, 비선형 편광회전(Nonlinear polarization rotation), 포화흡수체(Saturable Absorber, SA), 비선형 증폭 루프 거울(Nonlinear Amplifying Loop Mirror, NALM)등의 수동모드잠금에 의해 모드들의 위상을 동기(lock) 시킬 수 있다. 이중 포화 흡수체는 빛의 세기가 증가하게 되면 빛의 흡수가 감소하고 포화되는 현상을 갖는 물질로서 이를 이용한 모드잠금은 다른 모드잠금 방식에 비해 쉽게 펄스 생성이 가능하고, 짧은 길이의 공진기를 구성할 수 있어 높은 반복률을 갖는 펨토초 레이저 형성이 가능하며, 주변 환경 변화에 의한 광섬유 내부에서의 편광 변화에 영향이 적다. 모드잠금 시 사용되는 포화흡수체의 종류는 반도체 포화흡수체(semiconductor saturable absorber), 탄소나노튜브(carbon nanotubes), 그래핀(graphene)등이 있다.
펄스 레이저는 높은 첨두 출력을 얻기 위해 증폭단에 연결되는데, 광섬유를 이용해 펄스 레이저를 발생시키는 경우 첨두의 고출력으로 인한 광학계의 손상을 방지하기 위해 첨두 출력을 낮춰서 증폭을 해야 한다. 현재 펄스 첨두 출력를 줄이기 위해 시간 축(domain)으로 펼치는 처핑(chirping) 기술을 이용한 첩드 펄스 증폭 시스템(Chirped Pulse Amplification System)방법이 널리 적용되고 있다. 처핑된 레이저의 첨두출력은 처핑 전 레일저의 첨두출력보다 약하므로, 처핑으로 인해 광섬유가 손상되지 않는 첨두출력을 가지면서 증폭할 수 있는 최대 이득(gain)이 증가한다. 첩드 펄스 증폭 시스템에서 최대 증폭 파워는 펄스 펼침기와 압축기에서 가해주는 첩(chirp) 및 압축의 정도에 밀접한 관련이 있다. 종래 첩드 펄스 증폭 시스템 내 펄스 펼침기로는 첩 정도가 큰 벌크(bulk) 타입의 펼침기가 사용되었다. 벌크(bulk) 타입의 펄스 펼침기는 빛을 외부로 보냈다가 다시 광섬유로 모으면서 시간 축으로 펼친다. 광섬유에서 빛이 외부로 갔다가 다시 광섬유로 들어가므로 신호의 손실(loss)가 크며, 정렬(align)이 외부 영향에 의해 약간만 틀어져도 빛이 모아져서 들어가는 부분에서 빛의 손실이 큰 단점이 있었다. 또한, 전체 시스템이 복잡해지며 주변 환경에 대한 안정도도 감소하는 문제가 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위한 아이디어들이 몇 가지 제시되었으나, 벌크 타입의 펄스 펼침기를 사용할 것을 전제로 하므로 근본적인 해결책을 제시하지는 못하였다.
선행문헌 1: 미국 공개특허 제 2013-0272328호(발명의 명칭: STABILIZED FEMTOSECOND PULSED LASER AND STABILIZATION METHOD)
선행문헌 2: 미국 등록특허 제 8279901호(발명의 명칭: HIGH POWER FEMTOSECOND LASER WITH ADJUSTABLE REPETITION RATE AND SIMPLIFIED STRUCTURE)
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 연속발진 레이저를 수신하고, 펄스 레이저로 변환, 시간 축으로 처핑 및 펄스 레이저의 증폭을 인라인(in-line)으로 수행하는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 장기간 주파수 안정화가 가능한 동시에 고출력 특성을 갖는 광섬유 기반의 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 인라인 형태를 가지므로, 벌크(bulk) 타입 펼침기로 인한 손실, 잡음 및 신호 왜곡 문제가 해결된 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 단방향(one-way) 방식을 사용하여 공진방식으로 인한 작은 펄스의 생성 및 자가발진(self-starting) 문제가 해결된 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 RF 오실레이터의 주파수를 빠르게 변환시키는 것을 통해 레이저의 반복률을 빠르게 변환할 수 있는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 선폭과 반복률이 빠르게 변할 수 있는 레이저는 원거리 측정시스템이나 가공분야 등에서 효율적으로 운용될 수 있다.
이를 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기는, 연속발진 레이저를 수신하고, 상기 연속발진 레이저의 휘도 및 위상을 조절하여 제1 펄스 레이저를 생성하는 조절부 및 상기 제1 펄스 레이저를 처핑(chirping)하여 제2 펄스 레이저를 생성하는 처핑부를 포함한다.
또한 본 발명은 펄스 레이저 생성 방법이라는 다른 일면을 갖는다. 본 발명의 다른 일면에 따른 펄스 레이저 생성 방법은, 연속발진 레이저를 수신하는 단계, 조절부에서 상기 연속발진 레이저의 위상 및 휘도를 조절하여 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계 및 처핑부에서 상기 제1 펄스 레이저를 처핑(chirping)하여 제2 펄스 레이저를 생성하는 단계를 포함한다.
본 발명은 연속발진 레이저를 수신하고, 펄스 레이저로 변환, 시간 축으로 처핑 및 펄스 레이저의 증폭을 인라인으로 수행하는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 공진기를 이용하지 않고 광섬유 내에서 조절부와 고비선형 광섬유를 통해 강한 위상 조절(변조)을 걸어줌으로써 광대역의 광 빗을 형성하는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 효과가 있다. 광섬유 내에서 단방향으로 광대역의 광 빗이 형성되므로, 고체 타입의 레이저의 단점인 부피가 크고 외부 환경에 민감하며 광학 정렬이 어렵고 유지 비용이 많이 드는 것이 해결되었다.
또한, 단방향 방식으로 레이저를 생성하므로 공진기 사용으로 인한 문제점인 좁은 펄스 폭과 좁은 광 빗의 주파수 대역폭, 큰 위상 잡음, 큰 옵셋 주파수의 선폭, 자가발진(Self-starting)의 문제도 해결되었다. 즉, 본 발명의 펄스 레이저 생성기는 고출력, 극초단, 고안정도, 광대역, 고간섭성의 특성을 갖는 레이저 펄스의 생성을 가능하게 한다.
또한, 본 발명은 인라인 형태를 가지며, Phase modulator와 고비선형 광섬유를 증폭단들 사이에 분리시켜서 배치함으로써 Bulk 타입의 펼침기를 사용하지 않고도 강한 Chirping을 걸어 줄 수 있으며 In-line의 고출력 극초단 레이저를 생성할 수 있어, 벌크 타입 펼침기로 인한 손실 및 신호 왜곡 문제를 해결하는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 효과가 있다. 인라인 형태의 펄스 레이저 생성기는 손실 및 왜곡이 적고, 환경 변화로 인한 영향이 감소된 고출력 극초단 레이저를 생성할 수 있고, 이는 이동형 레이저 레이더 시스템이나 환경에 영향을 받지 않는 안정적인 정밀 가공시스템에 적용하는 것을 가능하게 한다.
또한, 본 발명은 RF 오실레이터의 주파수를 빠르게 변환시키는 것을 통해 레이저의 반복률을 빠르게 변환할 수 있는 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법을 제공하는 효과가 있다. 광 빗의 반복률의 변환속도는 RF 오실레이터의 주파수 변화의 속도에 의해서 결정이 되고, RF 오실레이터의 주파수가 변함에 따라 광 빗의 반복률이 변화할 때 조절부(변조기) 사이에서 간섭없이 단방향으로 이루어 지기 때문에 굉장히 안정적으로 빠르게 변화 시켜줄 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 조절부를 설명하기 위한 블록도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 조절부를 거친 레이저의 변화를 설명하기 위한 도면,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 처핑부, 광 증폭부 및 광 압축부를 설명하기 위한 도면,
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 조절부를 설명하기 위한 블록도,
도 5 내지 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기에 의해 생성된 레이저를 설명하기 위한 도면,
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성 방법을 설명하는 순서도,
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성 방법 중 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계를 설명하는 순서도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 조절부를 설명하기 위한 블록도이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 조절부를 거친 레이저의 변화를 설명하기 위한 도면이다. 이하에서 도 1 및 도 2를 참조하여 설명될 것이다.
조절부(100)는 연속발진 레이저(Continuous-Wave laser, CW laser, L0)를 수신하고, 연속발진 레이저(L0)의 휘도(intensity) 및 위상(phase)을 조절하여 제1 펄스 레이저(L1)를 생성한다. 조절부(100)는 휘도 조절부(110)와 위상 조절부(120)를 포함한다.
휘도 조절부(110)는 RF(RadioFrequency) 신호 발생부(미도시)로부터 수신한 RF 신호(130) 및 바이어스 전압(131)을 바탕으로 입력받은 레이저의 휘도를 조절하여 출력한다. 위상 조절부(120)는 RF 신호(130)를 수신한 위상 천이기(132)에 의해 발생된 위상 천이 신호(133)를 바탕으로 입력받은 레이저의 휘도를 조절하여 출력한다. 도 1에서는 휘도 조절부(110)가 연속발진 레이저(L0)를 입력받고 휘도가 조절된 레이저(L0')를 출력하며 위상 조절부(120)가 휘도가 조절된 레이저(L0')를 입력받고 제1 펄스 레이저(L1)를 출력하지만, 휘도 조절부(110)와 위상 조절부(120)의 위치가 변경될 수도 있다.
연속발진 레이저(L0)에 대응하는 그래프(G0) 중 시간 도메인(t) 그래프를 보면, 레이저의 휘도가 시간에 관계없이 일정하다. 그래프(G0) 중 주파수 도메인(ω) 그래프를 보면, 레이저가 단일 주파수임을 알 수 있다. 휘도가 조절된 레이저(L0')에 대응하는 그래프(G0') 중 시간 도메인(t) 그래프를 보면, 레이저의 휘도가 시간에 따라 변화하는 것을 알 수 있다. 그래프(G0') 중 주파수 도메인(ω) 그래프를 보면, 휘도의 조절로 인해 조화파들의 모양이 변하였음을 알 수 있다. 제1 펄스 레이저(L1)에 대응하는 그래프(G1) 중 시간 도메인(t) 그래프를 보면, 휘도(실선) 및 위상(점선)이 모두 시간에 대해 변화함을 알 수 있다. 그래프(G1) 중 주파수 도메인(ω) 그래프를 보면, 위상의 조절로 인해 레이저의 주파수의 스펙트럼이 더욱 넓어졌음을 알 수 있다. 정현파 형태의 위상변조를 하는 위상변조기를 통해 강한 위상변조를 걸어주면 Time-to-Frequency Mapping이 일어나서 휘도변조기를 통해서 형성된 시간축에서의 변조모양이 위상변조기 이후 스팩트럼의 모양으로 그대로 복사가 된다. 즉, 조절부(110)가 연속발진 레이저(L0)의 휘도 및 위상을 조절하여 광 주파수 빗을 생성하였다. 즉, 단일 조화파인 연속발진 레이저(L0)의 휘도 및 위상이 조절되는 경우, 서로 다른 주파수를 갖는 복수의 조화파가 발생된다. 각각의 조화파의 주파수 및 휘도는 휘도 조절부(110)와 위상 조절부(120)의 수 및 세부 설정을 변경하는 것에 의해 조절될 수 있다. 예를 들어, 휘도 조절부와 위상 조절부가 각각 1개씩 있는 경우는 최대 전력 대비 10데시벨(dB) 이하 차이의 전력을 갖는 극대점이 20개 이상 발생하며, 휘도 조절부가 3개 있고 위상 조절부가 2개 있는 경우는 가우시안 형태의 광 주파수 빗이 발생한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 처핑부, 광 증폭부 및 광 압축부를 설명하기 위한 도면이다. 제1 펄스 레이저(L1)는 제1 광 증폭부(220)에서 증폭된다. 그 후, 처핑부(210)의 처핑 및 펄스 피커(pulse picker, 215)의 선택에 의해 제2 펄스 레이저(L2)가 생성된다. 제2 펄스 레이저(L2)는 제2 광 증폭부(230) 및 제3 광 증폭부(235)를 거치면서 증폭된다. 광 압축부(240)는 증폭된 제2 펄스 레이저(L2)를 압축하고, 압축으로 인해 제3 펄스 레이저(L3)가 생성된다.
처핑부(210)는 광섬유(211)를 포함한다. 높은 출력을 갖는 레이저가 비선형성을 갖는 광섬유를 통과하면 파동 파괴 현상(wave breaking phenomenon)을 겪으면서 펄스가 시간축으로 펼쳐진다. 이 때, 비선형이 크면 클수록 파동 파괴 현상이 커지면서 시간축으로 펼쳐지는 정도(처핑되는 정도)가 커진다. 따라서 광섬유(211)로는 비선형성이 큰 광 결정 광섬유 (Photonic crystal fiber, PCF), 고비선형 광섬유 (Highly nonlinear fiber, HNLF) 등이 가능하다. 비선형성이 충분히 큰 경우, 벌크 타입의 펼침기를 사용할 필요가 없다.
처핑부(210)는 또한 펄스 피커(215)를 포함하고, 펄스 피커(215)는 펼쳐진 제1 펄스 레이저를 피킹(선택)하여 제2 펄스 레이저를 생성한다. 펄스 피커(215)는 펄스의 반복률을 조절하여 증폭률을 변경시킨다. 광섬유 내에서 펄스 레이저의 생성 및 처핑이 가능하면, 인라인으로 연속 발진 레이저(L0)를 수신하고, 연속 발진 레이저(L0)의 휘도 및 위상을 조절하여 제1 펄스 레이저(L1)를 생성하며, 제1 펄스 레이저(L1)를 처핑 및 피킹하여 제2 펄스 레이저(L2)를 생성하는 시스템을 구현할 수 있다.
제1 광 증폭부(220) 및 제2 광 증폭부(230)는 인라인으로 레이저를 증폭할 수 있다. 구체적으로, 광 증폭부(220, 230)는 펌프용 레이저를 생성하는 레이저 다이오드(221, 231), 서로 다른 광섬유로부터 수신한 증폭이 필요한 레이저 및 레이저 다이오드(221, 231)로부터 수신한 펌프용 레이저를 커플링하여 결합된 레이저를 송신하는 광학적 커플러(222, 232) 및 광학적 커플러(222, 232)에서 수신한 결합된 레이저를 증폭하는 증폭용 광섬유(223, 233)를 포함한다. 증폭용 광섬유(223, 233)는 에르븀(Er) 및 이테르븀(Yb) 중 적어도 하나를 포함하는 재질로 구성되는 것이 바람직하다. 처핑부(210)에서 처핑되는 정도가 크므로 제2 펄스 레이저(L2)의 첨두출력이 낮다. 제1 광 증폭부(220) 및 제2 광 증폭부(230)의 경우, 증폭된 첨두출력이 일정 크기 이하를 유지해야 출력단의 광섬유가 파괴되지 않는다. 제2 펄스 레이저(L2)의 첨두출력이 낮으므로, 제2 광 증폭부(230)의 증폭비(gain)가 높아질 수 있다.
제3 광 증폭부(235)는 레이저 다이오드(236)를 포함하며, 레이저를 증폭시킨다. 제1 광 증폭부(220) 및 제2 광 증폭부(230)는 증폭된 레이저가 광섬유를 통해 출력되는 반면, 제3 광 증폭부(235)는 증폭된 레이저가 공기를 통해 출력된다.
광 압축부(240)는 증폭된 제2 펄스 레이저(L2)를 압축하고, 압축으로 인해 제3 펄스 레이저(L3)가 생성된다. 압축(compression)은 처핑과는 반대로 시간축에 대해 모은다는 의미이며, 압축으로 인해 제3 펄스 레이저(L3)의 첨두출력이 제2 펄스 레이저(L2)의 첨두출력보다 강하다. 제3 펄스 레이저(L3)의 첨두출력은 광섬유가 손상될 정도로 강하므로, 광 압축부(240)는 광섬유 타입이 아닌 벌크 타입의 광압축기를 포함하여도 무방하다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기 중 조절부를 설명하기 위한 블록도이다. 조절부(150)는 조절부(100)와 마찬가지로 연속발진 레이저(L0)를 수신하고, 연속발진 레이저(L0)의 휘도 및 위상을 조절하여 제1 펄스 레이저(L1)를 생성한다. 조절부(150)는 휘도 조절부(160-1 내지 160-3) 및 위상 조절부(170-1 내지 170-2)를 포함한다. 이하에서, 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명될 것이다.
제1 휘도 조절부(160-1), 제2 휘도 조절부(160-2) 및 제3 휘도 조절부(160-3)는 휘도 조절부(110)와 동일한 기능을 수행할 수 있으며, 제1 위상 조절부(170-1) 및 제2 위상 조절부(170-2)는 위상 조절부(120)와 동일한 기능을 수행할 수 있다. 설명의 편의를 위해, RF 신호, 바이어스 전압, 위상 천이기는 생략되었다. 도 4에서는 휘도 조절이 3번 수행되고 위상 조절이 2번 수행되지만, 이는 예시에 불과하며 휘도 조절 및 위상 조절의 횟수는 변경 가능하다. 제1 펄스 레이저(L1)의 주파수 도메인에서의 형태는 휘도 조절 회수 및 위상 조절 회수에 의해 변경될 수 있다. 예를 들어, 휘도 조절 회수 및 위상 조절 회수가 변경됨에 따라, 생성된 광 주파수 빗의 첨두출력과의 전력 또는 크기 차이가 10dB 이내인 주파수 구간 내에 존재하는 플랫점(극대점)의 개수가 조절될 수 있다. 또한, 휘도 조절 회수 및 위상 조절 회수를 잘 조절하는 경우, 예를 들어 휘도 조절을 3번 수행하고 위상 조절을 2번 수행하는 경우, 그래프(G1) 중 주파수 도메인(ω) 그래프의 포락선(envelope)이 가우시안 형태였다. 즉, 조절부(150)는 가우시안 형태의 광 주파수 빗(Gaussian OFCs)에 대응하는 제1 펄스 레이저(L1)를 생성한다.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성기에 의해 생성된 레이저를 설명하기 위한 도면이다. 이하에서 도 1 내지 도 4를 추가적으로 참조하여 설명될 것이다.
도 5는 구체적으로 3개의 휘도 조절부(160-1 내지 160-3) 및 2개의 위상 조절부(170-1, 170-2)에 의해 생성된 제1 펄스 레이저(L1)에 대한 시뮬레이션 결과이다. 도 5에서 도시된 제1 펄스 레이저(L1)는 휘도 조절이 3번 수행되고 위상 조절이 2번 수행되었으므로, 그래프(G1) 중 주파수 도메인(ω) 그래프가 가우시안 형태가 된다. 제3 펄스 레이저(L3)가 대칭형태의 깨끗한 모양의 극초단 펄스가 되기 위해서는 제2 펄스 레이저(L2)가 주파수 대역에서 광빗 사이의 간격이 매우 좁은 수퍼컨티넘 소스(Supercontinuum source)여야 하며, 제2 펄스 레이저(L2)가 수퍼컨티넘 소스가 되기 위해서는 제1 펄스 레이저(L1)가 가우시안 형태여야 한다.
도 6은 도 5에 도시된 제1 펄스 레이저(L1)가 처핑부(210)에 의해 처핑된 제2 펄스 레이저(L2)에 대해, 시뮬레이션을 통해 파장별로 그 크기를 도시한 도면이다. 시뮬레이션은 광섬유(211)가 고비선형 매질임(비선형 상수: 10(/W·km), 분산(이산): -1.88 ps/nm/km)을 가정하여 수행되었다. 도 6을 참조하면, 피크 부분이 평탄함을 확인할 수 있다. (최대 전력값-5dB) 이상인 전력을 갖는 파장의 영역이 47nm로 매우 넓은 것이 확인되었다.
도 7은 도 5에 도시된 제1 펄스 레이저(L1) 및 도 6에 도시된 제2 펄스 레이저(L2)에 대해 시간 축 상의 펄스 크기를 나타낸 도면이다. 제1 펄스 레이저(L1)의 반높이 너비(Full width at Half Maximum)는 2.93 피코초(ps)이며, 제3 펄스 레이저(L3)의 반높이 너비는 1153 펨토초(fs)이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성 방법을 설명하는 순서도이다. 펄스 레이저 생성 방법(S100)은 연속발진 레이저를 수신하는 단계(S110), 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계(S120), 제1 펄스 레이저를 증폭하는 단계(S130), 제2 펄스 레이저를 생성하는 단계(S140), 제2 펄스 레이저를 증폭하는 단계(S150) 및 제3 펄스 레이저를 생성하는 단계(S160)를 포함한다. 이하에서, 도 1 내지 도 4를 추가적으로 참조하여 설명될 것이다.
연속발진 레이저를 수신하는 단계(S110)에서, 조절부(100)는 연속발진 레이저(L0)를 수신한다.
제1 펄스 레이저를 생성하는 단계(S120)에서, 조절부(100)는 레이저(L0)의 휘도 및 위상을 조절하여 제1 펄스 레이저(L1)를 생성한다. 상세한 과정은 이하 도 9에서 설명될 것이다.
제1 펄스 레이저를 증폭하는 단계(S130)에서, 제1 광 증폭부(220)는 제1 펄스 레이저(L1)를 증폭한다. 제1 광 증폭부(220)의 상세한 구성은 이미 설명되었다.
제2 펄스 레이저를 생성하는 단계(S140)에서, 처핑부(210)는 제1 펄스 레이저(L1)를 처핑하여 제2 펄스 레이저(L2)를 생성한다. 처핑부(210)가 비선형성이 큰 광 결정 광섬유 또는 고비선형 광섬유를 포함하는 경우, 제1 펄스 레이저(L1)가 광섬유를 거치면서 충분히 처핑된다는 것은 앞에서 설명되었다.
제2 펄스 레이저를 증폭하는 단계(S150)에서, 제1 광 증폭부(220)와 동일한 기능을 수행할 수 있는 제2 광 증폭부(230)는 제2 펄스 레이저(L2)를 증폭한다. 또한, 레이저를 증폭하고 증폭된 레이저를 공기를 통해 출력하는 제3 광 증폭부(235)가 한 번 더 증폭할 수도 있다.
제3 펄스 레이저를 생성하는 단계(S160)에서, 광 압축부(240)가 증폭된 제2 펄스 레이저(L2)를 압축하여 제3 펄스 레이저(L3)를 생성한다. 광 압축부(240)가 제2 펄스 레이저(L2)를 압축하여 시간축에 대해 모이며 첨두출력이 증가한다는 것은 앞에서 설명되었다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 펄스 레이저 생성 방법 중 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계를 설명하는 순서도이다. 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계(S120)는 수신한 레이저의 휘도를 조절하는 단계(S121), 단계(S122), 수신한 레이저의 위상을 조절하는 단계(S123) 및 단계(S124)를 포함한다.
수신한 레이저의 휘도를 조절하는 단계(S121)에서, 휘도 조절부는 수신한 레이저의 휘도를 조절한다. 휘도 조절로 인한 시간 도메인과 주파수 도메인에서의 변화는 이미 설명되었다.
단계(S122)에서, 원하는 횟수만큼 휘도가 조절된 경우에는 수신한 레이저의 위상을 조절하는 단계(S123)를 수행하고, 휘도가 원하는 횟수만큼 조절되지 않은 경우에는 수신한 레이저의 휘도를 조절하는 단계(S121)를 수행한다. 단계(S122)는 소프트웨어적으로 설정될 수도 있으나, 서로 직렬 연결된 휘도 조절부의 수에 의해 하드웨어적으로 설정될 수도 있다. 예를 들어, 도 4에서 도시된 실시예의 경우, 휘도 조절부(160-1 내지 160-3)가 3개 있으므로, 수신한 레이저의 휘도를 조절하는 단계(S121)가 3번 수행된다.
수신한 레이저의 위상을 조절하는 단계(S123)에서, 위상 조절부는 수신한 레이저의 휘도를 조절한다. 휘도 조절로 인한 시간 도메인과 주파수 도메인에서의 변화는 이미 설명되었다.
단계(S124)에서, 원하는 횟수만큼 위상이 조절된 경우에는 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계(S120)가 종료되고, 위상이 원하는 횟수만큼 조절되지 않은 경우에는 수신한 레이저의 위상을 조절하는 단계(S123)를 수행한다. 단계(S124)는 단계(S122)와 마찬가지로 소프트웨어적 또는 하드웨어적으로 설정될 수 있다.
이제까지 본 발명에 대해서 그 바람직한 실시예를 중심으로 살펴보았으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 본질적 기술 범위 내에서 상기 본 발명의 상세한 설명과 다른 형태의 실시예들을 구현할 수 있을 것이다.
여기서 본 발명의 본질적 기술 범위는 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
본 발명의 범위는 아래의 특허청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 구성도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석해야 할 것이다.
100: 조절부 210: 처핑부

Claims (17)

  1. 연속발진 레이저를 수신하고, 상기 연속발진 레이저의 휘도 및 위상을 조절하여 제1 펄스 레이저를 생성하는 조절부; 및
    상기 제1 펄스 레이저를 처핑(chirping)하여 제2 펄스 레이저를 생성하는 처핑부를 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 조절부는,
    RF 신호 발생부로부터 수신한 RF 신호 및 바이어스 전압을 바탕으로 입력받은 레이저의 휘도를 조절하여 출력하는 제1 휘도 조절부; 및
    상기 RF 신호를 수신한 위상 천이기에 의해 발생된 위상 천이 신호를 바탕으로 입력받은 레이저의 위상을 조절하여 출력하는 제1 위상 조절부를 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 조절부는 상기 제1 휘도 조절부와 동일한 기능을 수행할 수 있는 제2 휘도 조절부를 더 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 조절부는 상기 제1 위상 조절부와 동일한 기능을 수행할 수 있는 제2 위상 조절부를 더 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제1 휘도 조절부 및 상기 제1 위상 조절부는 광섬유를 통해 레이저를 입력받거나 출력하는 펄스 레이저 생성기.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 처핑부는 광섬유를 포함하며, 상기 광섬유는 고비선형 광섬유(Highly nonlinear fiber) 및 광 결정 광섬유(Photonic crystal fiber) 중 적어도 하나를 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 펄스 레이저를 증폭시켜 상기 처핑부로 송신하는 제1 광 증폭부를 더 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제2 펄스 레이저를 압축하여 제3 펄스 레이저를 생성하는 광 압축부를 더 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 처핑부로부터 수신한 상기 제2 펄스 레이저를 증폭하여 상기 광 압축부로 송신하는 제2 광 증폭부를 더 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  10. 제7항 또는 제9항에 있어서,
    상기 제1 광 증폭부 또는 상기 제2 광 증폭부는,
    펌프용 레이저를 생성하는 레이저 다이오드;
    서로 다른 광섬유로부터 수신한 증폭이 필요한 레이저 및 상기 펌프용 레이저를 커플링하여 결합된 레이저를 송신하는 광학적 커플러; 및
    Er 및 Yb 중 적어도 하나를 포함하는 재질로 구성되며, 상기 결합된 레이저를 증폭하는 증폭용 광섬유를 포함하는 펄스 레이저 생성기.
  11. 연속발진 레이저를 수신하는 단계;
    조절부에서 상기 연속발진 레이저의 위상 및 휘도를 조절하여 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계; 및
    처핑부에서 상기 제1 펄스 레이저를 처핑(chirping)하여 제2 펄스 레이저를 생성하는 단계를 포함하는 펄스 레이저 생성 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계는
    수신한 레이저의 휘도를 조절하는 단계; 및
    수신한 레이저의 위상을 조절하는 단계를 포함하는 펄스 레이저 생성 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 휘도를 조절하는 단계 및 상기 위상을 조절하는 단계 중 적어도 하나의 단계는 복수 회 반복해서 수행되는 펄스 레이저 생성 방법.
  14. 제11항에 있어서,
    제2 펄스 레이저를 생성하는 단계에서, 상기 제1 펄스 레이저는 고비선형 광섬유(Highly nonlinear fiber) 및 광 결정 광섬유(Photonic crystal fiber) 중 적어도 하나를 포함하는 비선형 광섬유에 의해 처핑되는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 생성 방법.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 제1 펄스 레이저를 생성하는 단계 이후,
    상기 제1 펄스 레이저를 증폭하는 단계를 더 포함하는 펄스 레이저 생성 방법.
  16. 제11항에 있어서,
    상기 제2 펄스 레이저를 생성하는 단계 이후,
    상기 제2 펄스 레이저를 압축하여 제3 펄스 레이저를 생성하는 단계를 더 포함하는 펄스 레이저 생성 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    제2 펄스 레이저를 생성하는 단계와 상기 제3 펄스 레이저를 생성하는 단계 사이에,
    상기 제2 펄스 레이저를 증폭하는 단계를 더 포함하는 펄스 레이저 생성 방법.

KR1020140074966A 2014-06-19 2014-06-19 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법 KR20150145803A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140074966A KR20150145803A (ko) 2014-06-19 2014-06-19 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법
US14/732,392 US20150372447A1 (en) 2014-06-19 2015-06-05 Apparatus and method for generating pulse laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140074966A KR20150145803A (ko) 2014-06-19 2014-06-19 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150145803A true KR20150145803A (ko) 2015-12-31

Family

ID=54870514

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140074966A KR20150145803A (ko) 2014-06-19 2014-06-19 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20150372447A1 (ko)
KR (1) KR20150145803A (ko)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9882336B2 (en) 2015-09-29 2018-01-30 Hisense Broadband Multimedia Technologies Co., Ltd. Optical module
US10838603B2 (en) * 2015-11-20 2020-11-17 Nlight, Inc. Programmable waveform simulator
US10901295B2 (en) * 2016-03-14 2021-01-26 Lawrence Livermore National Security, Llc Arbitrary pulse shaping with picosecond resolution over multiple-nanosecond records
CN105762623B (zh) * 2016-05-06 2018-11-20 中国人民解放军国防科学技术大学 高功率单频脉冲全光纤激光器
CN105826809B (zh) * 2016-06-08 2018-10-23 中国人民解放军国防科学技术大学 一种基于自相位调制预补偿的单频脉冲全光纤激光器
CN108242759B (zh) * 2016-12-26 2019-08-27 中国移动通信有限公司研究院 一种超短光脉冲产生设备
CN107706704B (zh) * 2017-09-30 2020-05-12 长春理工大学 1.7μm波段皮秒双脉冲光纤光源
CN107492781B (zh) * 2017-09-30 2020-05-12 长春理工大学 1.7μm波段宽带皮秒脉冲多波长光纤光源
CN107611758B (zh) * 2017-09-30 2020-05-12 长春理工大学 1.7μm波段波长和重频可调的皮秒脉冲光源
US11011882B2 (en) * 2018-09-05 2021-05-18 Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce Ultrafast electro-optic laser
CN109586798B (zh) * 2018-12-17 2021-05-25 吉林大学 一种可调谐多输出微波信号的光子学产生装置
CN111796469B (zh) 2019-04-09 2022-08-19 华为技术有限公司 光频率梳光源和产生光频率梳的方法
US11646541B2 (en) 2019-11-20 2023-05-09 Electronics And Telecommunications Research Institute Femtosecond laser device
CN110932068B (zh) * 2019-12-09 2021-05-28 长春理工大学 1.7μm波段泵浦放大双调制高功率重频可调光纤激光器
CN111609875B (zh) * 2020-06-10 2021-12-28 电子科技大学 基于啁啾连续光的数字域可调分布式光纤传感系统及方法
CN114389146B (zh) * 2021-12-16 2023-12-19 中国科学院福建物质结构研究所 一种产生多脉冲激光的激光装置及其控制方法
US20230283375A1 (en) * 2022-03-02 2023-09-07 Electronics And Telecommunications Research Institute Photonic muilti-band filter and method of operating same
US11658461B1 (en) * 2022-03-29 2023-05-23 Quantum Valley Ideas Laboratories Tuning the output of a laser
CN115754989B (zh) * 2023-01-09 2023-04-07 之江实验室 一种三维固态激光雷达芯片及其探测方法和系统

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5200964A (en) * 1991-03-12 1993-04-06 General Instrument Corporation Broad linewidth lasers for optical fiber communication systems
JP2007516600A (ja) * 1997-03-21 2007-06-21 イムラ アメリカ インコーポレイテッド 先進材料処理応用のためのピコ秒−ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
GB2395353B (en) * 2002-02-18 2004-10-13 Univ Southampton Pulsed light sources
US7340135B2 (en) * 2005-03-31 2008-03-04 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Light source apparatus
GB0618021D0 (en) * 2006-09-11 2006-10-18 Qinetiq Ltd Optical clock
JP5729895B2 (ja) * 2008-01-29 2015-06-03 キヤノン株式会社 光パルス圧縮器
KR100951850B1 (ko) * 2008-10-10 2010-04-12 한국전자통신연구원 주파수 가변형 테라헤르츠 연속파 생성 장치
CA2743648C (en) * 2008-11-21 2014-11-04 Institut National D'optique Spectrally tailored pulsed fiber laser oscillator
US7792164B2 (en) * 2008-12-05 2010-09-07 The Boeing Company Optical pulse generator for high power fiber amplifiers
US8786942B2 (en) * 2012-06-13 2014-07-22 Northrop Grumman Systems Corporation Coherently phase combined, high contrast, pulsed optical fiber amplifier array
US9306672B2 (en) * 2013-03-14 2016-04-05 Encore Corporation Method of fabricating and operating an optical modulator

Also Published As

Publication number Publication date
US20150372447A1 (en) 2015-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150145803A (ko) 펄스 레이저 생성기 및 생성 방법
Sharma et al. Highly stable tunable dual-wavelength Q-switched fiber laser for DIAL applications
US10859888B2 (en) System for generating brief or ultra-brief light pulses
US20230075147A1 (en) Method and system using optical phase modulation and optical phase demodulation and spectral filtering to generate an optical pulse train
US6937626B2 (en) Multiple wavelength pulsed source
KR20140147321A (ko) 파장 훑음 광원 장치 및 그것의 작동 방법
CA2781319A1 (en) Fiber laser oscillators and systems using an optimized phase varying function
JP2008216716A (ja) スーパーコンティニュアム光源
KR101329142B1 (ko) 펄스 레이저 출력 안정화 장치 및 그 방법
Wang et al. Talbot laser with tunable GHz repetition rate using an electro-optic frequency shifter
CN113991404A (zh) 一种噪声信号产生装置及产生方法
JPWO2017222022A1 (ja) ファイバーレーザー回路
Herrera et al. Optical generation and transmission of linearly chirped microwave pulses with high time-bandwidth product
Nicholson et al. Stretched ultrashort pulses for high repetition rate swept-wavelength Raman pumping
US8014428B2 (en) Mode-locked laser
JP2007193231A (ja) 光源装置
JP2007036212A (ja) パルス光源およびパルス発生方法
Liu et al. Generating ultra-wideband LFM waveforms with large time duration based on frequency-sweeping optoelectronic oscillation
US20240120698A1 (en) System and method for generating a light pulse with sub-picosecond duration that is duration and/or repetition frequency adjustable
CN219329481U (zh) 一种宽带复杂混沌激光产生装置
JP2005241732A (ja) 光パルス増幅装置
Luo et al. Performance study of a 10 GHz dispersion-tuned wavelength-swept all-PM figure-8 hybrid mode-locked Er-doped fiber laser
Chan et al. Harmonically mode-locked fiber laser with optically selectable wavelength
Simon et al. High brightness coherently driven active fiber cavity soliton crystals by optical gain clamping
Salik et al. Ultra-low phase noise optical pulses generated by coupled opto-electronic oscillator

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid