KR20150124423A - 그래핀 조성물 및 그를 이용한 전극을 포함하는 유기전자소자 - Google Patents
그래핀 조성물 및 그를 이용한 전극을 포함하는 유기전자소자 Download PDFInfo
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- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 127
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 118
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 25
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 25
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 claims description 18
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 claims description 18
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 claims description 3
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 claims description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 3
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 claims description 3
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 claims description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 3
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 3
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 3
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 claims description 3
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 abstract description 13
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 5
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 10
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 3
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010835 comparative analysis Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000001341 grazing-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 238000002525 ultrasonication Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- H01L51/0004—
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 유기전자소자의 제조공정을 개략적으로 나타낸 공정도이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 환원 그래핀을 포함한 조성물의 제조과정에서 나타나는 각 물질에 대한 XRD(X-ray Diffraction) 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명의 실시예 2에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 측면 개략도와 기판상에 패터닝된 환원 그래핀을 포함하는 전극재료의 사진을 나타낸 것이다.
도 5는 실시예 1에 따라 제조된 조성물과 비교예 1에 따라 제조된 조성물의 분산 안정성을 비교(실험예 1)한 사진이다.
도 6은 실시예 2에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터 전극의 화학조성을 분석(실험예 2)한 것이다.
도 7은 실시예 2에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터 전극의 일함수 특성을 분석한 것(실험예 2)이다.
도 8은 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 조성물을 잉크젯 프린팅하여 형성한 패턴의 프린팅 횟수에 따른 사진(a)과 광투과성 분석(b) 결과(실험예 3)를 나타낸 것이다.
도 9는 본 발명의 실시예 2 및 비교예 2에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 펜타센 증착층의 2D GIXD(2D grazing incidence X-ray diffraction) 분석결과(실험예 4)를 비교하여 나타낸 것이다.
도 10은 본 발명의 실시예 2, 비교예 2 및 비교예 3에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 펜타센 증착층의 SEM 이미지를 비교(실험예 4)하여 나타낸 것이다.
도 11은 본 발명의 실시예 2, 비교예 2 및 비교예 3에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터 전극의 높이 프로파일을 전극의 SEM 이미지와 함께 비교하여 나타낸 것이다.
도 12는 본 발명의 실시예 2, 비교예 2 및 비교예 3에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 출력특성을 비교분석(실험예 5)하여 나타낸 것이다.
도 13은 본 발명의 실시예 2, 비교예 2 및 비교예 3에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 전이특성을 비교분석(실험예 5)하여 나타낸 것이다.
도 14는 본 발명의 실시예 2, 비교예 2 및 비교예 3에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 채널저항 및 접촉저항을 포함하는 채널길이에 따른 총저항을 비교분석(실험예 5)하여 나타낸 것이다.
도 15는 본 발명의 실시예 3에 따라 제조된 유기전계효과 트랜지스터의 출력특성(a)과 전이특성(b)을 나타낸 것이다.
Claims (19)
- 산화 그래핀;
분산 안정제;
환원제; 및
극성 용매;를 포함하고,
상기 극성 용매는 극성 양성자성 용매와 극성 비양성자성 용매를 포함하고,
상기 극성 양성자성 용매(C1)와 상기 극성 비양성자성 용매(C2)의 부피비(C1:C2)는 0.01:0.99 내지 0.50:0.50인 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 그래핀 조성물은 상기 분산 안정제의 함량이 상기 산화 그래핀 100중량부에 대하여 1 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 그래핀 조성물은 상기 산화 그래핀과 상기 분산 안정제의 전체함량이 상기 극성 용매 100중량부에 대하여 0.001 내지 30중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 그래핀 조성물은 상기 환원제의 함량이 상기 산화 그래핀 100중량부에 대하여 0.01 내지 90중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 분산안정제는 수용성 폴리머인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 분산안정제는 폴리비닐알콜, 메틸셀룰로오스, 에틸 셀룰로오스, 나트륨 카르복실메틸셀룰로오스, 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 나트륨 폴리아크릴레이트, 나트륨 폴리메타크릴레이트, 젤라틴, 폴리아크릴아미드, 폴리에틸렌옥시드 및 키토산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 환원제는 히드라진 유도체, 소듐 보로하이드라이드(NaBH4) 및 수산화칼륨(KOH)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 극성 양성자성 용매는 물, 포름산(formic acid), 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-프로판올, n-부탄올, t-부탄올 및 아세트산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 극성 비양성자성 용매는 디메틸포름아마이드(N,N-dimethylformamide), 디메틸설폭사이드(dimethyl sulfoxide), 아세토니트릴(acetonitrile), 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran), 에틸아세테이트(ethyl acetate) 및 아세톤(acetone)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물. - 산화 그래핀, 환원제, 분산 안정제 및 극성 용매를 포함하는 그래핀 조성물을 제조하고,
상기 극성용매는 극성 양성자성 용매 및 극성 비양성자성 용매를 포함하고,
상기 극성 양성자성 용매(C1)와 상기 극성 비양성자성 용매(C2)의 부피비(C1:C2)는 0.01:0.99 내지 0.50:0.50인 그래핀 조성물의 제조방법. - 제10항에 있어서,
상기 반응은 50 내지 100℃에서 0.1 내지 15시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 그래핀 조성물의 제조방법. - 기판을 준비하는 단계(단계 a);
상기 기판상에 상기 제1항의 그래핀 조성물을 잉크젯 프린팅하여 전극패턴을 형성하는 단계(단계 b);
상기 전극패턴을 열처리하여 열적 환원(thermal reduction)을 수행하는 단계(단계 c); 및
상기 전극패턴과 기판상에 유기반도체 물질을 증착하는 단계(단계 d);를 포함하는 유기전자소자의 제조방법. - 제12항에 있어서,
상기 단계 b는 상기 기판의 온도를 50 내지 100℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법. - 제12항에 있어서,
상기 단계 c는 수소가스 또는 불활성 가스 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법. - 제12항에 있어서,
상기 단계 c는 200 내지 600℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법. - 제12항에 있어서,
상기 기판은 실리콘 기판 또는 플라스틱 기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법. - 제12항에 있어서,
상기 유기반도체 물질은 펜타센 (pentacene), 올리고티오펜(oligothiophene), 페릴렌(perylene), 프탈로시아닌(phthalocyanine), 폴리아세틸렌(polyacetylene) 및 폴리티오펜(polythiophene)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법. - 제1항의 그래핀 조성물로 제조된 전자부품을 포함하는 유기전자소자.
- 제18항에 있어서,
상기 유기전자소자는 유기 태양전지, 유기전계효과 트랜지스터 및 유기박막 트랜지스터 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전자소자.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150144929A KR101654133B1 (ko) | 2015-10-16 | 2015-10-16 | 그래핀 조성물 및 그를 이용한 전극을 포함하는 유기전자소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150144929A KR101654133B1 (ko) | 2015-10-16 | 2015-10-16 | 그래핀 조성물 및 그를 이용한 전극을 포함하는 유기전자소자 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120135330A Division KR20140073613A (ko) | 2012-11-27 | 2012-11-27 | 그래핀 조성물 및 그를 이용한 전극을 포함하는 유기전자소자 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150124423A true KR20150124423A (ko) | 2015-11-05 |
KR101654133B1 KR101654133B1 (ko) | 2016-09-05 |
Family
ID=54600620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150144929A KR101654133B1 (ko) | 2015-10-16 | 2015-10-16 | 그래핀 조성물 및 그를 이용한 전극을 포함하는 유기전자소자 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101654133B1 (ko) |
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Legal Events
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A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0107 | Divisional application |
Comment text: Divisional Application of Patent Patent event date: 20151016 Patent event code: PA01071R01D Filing date: 20121127 Application number text: 1020120135330 |
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PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20151202 Patent event code: PE09021S01D |
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E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20160827 |
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GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20160830 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
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|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190604 Year of fee payment: 4 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190604 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200604 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210601 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220607 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240828 Start annual number: 9 End annual number: 9 |