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KR20140141411A - Liquid dispensing apparatus and substrate treating apparatus including the apparatus - Google Patents

Liquid dispensing apparatus and substrate treating apparatus including the apparatus Download PDF

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KR20140141411A
KR20140141411A KR1020130138437A KR20130138437A KR20140141411A KR 20140141411 A KR20140141411 A KR 20140141411A KR 1020130138437 A KR1020130138437 A KR 1020130138437A KR 20130138437 A KR20130138437 A KR 20130138437A KR 20140141411 A KR20140141411 A KR 20140141411A
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KR
South Korea
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pressure
pressure control
liquid crystal
control unit
valve
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KR1020130138437A
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장석원
장윤옥
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세메스 주식회사
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Abstract

Disclosed is an apparatus to discharge chemicals including: a head having nozzles to discharge chemicals to a substrate in an inkjet method; a reservoir having a reservoir space to store chemicals inside to supply chemicals to the head; and a pressure controlling unit to control the pressure of the reservoir space. The pressure controlling unit includes: a pressure controller; a pneumatic line to connect the pressure controller with the reservoir; and a buffer box provided on the pneumatic line, and having a buffer space with a cross sectional area larger than a flow path inside the pneumatic line.

Description

약액 토출 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{LIQUID DISPENSING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE APPARATUS}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a chemical liquid ejecting apparatus and a substrate processing apparatus including the liquid ejecting apparatus.

본 발명은 약액 토출 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 기판에 액정을 토출하는 장치에 관한 것이다,BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a chemical liquid ejecting apparatus, and more particularly to an apparatus for ejecting liquid crystal on a substrate by an ink-

최근에, 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과, 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.2. Description of the Related Art Recently, liquid crystal display devices have been widely used in display portions of electronic apparatuses such as mobile phones and portable computers. The liquid crystal display device has a structure in which a liquid crystal is injected into a space between a color filter substrate on which a black matrix, a color filter, a common electrode and an alignment film are formed, and an array substrate on which a thin film transistor (TFT) To obtain a visual effect.

액정 표시 장치의 제조 공정에서는, 컬러 필터, 배향막 등을 제조하기 위하여, 글래스 기판의 표면에 약액을 공급, 도포한다. 이러한 약액을 도포하는 약액 도포 장치로는 약액을 기판의 표면에 토출하여 도포하는 잉크젯 방식의 약액 도포 장치가 있다. 이 약액 도포 장치는 복수 개의 잉크젯 헤드유닛들을 이용하여 잉크젯 인쇄 방식으로 약액을 도포한다. 잉크젯 헤드유닛는 기판에 대해 여러 방향으로 이동하여 약액을 공급하는 복수 개의 노즐들을 구비하는 헤드를 포함한다. 헤드는 상부에 약액을 임시로 저장하는 레저버로부터 약액을 공급받아서 노즐들 각각에 의해 기판의 표면으로 약액을 토출한다.In a manufacturing process of a liquid crystal display device, a chemical liquid is supplied and coated on the surface of a glass substrate in order to manufacture a color filter, an alignment film, and the like. The chemical liquid application device for applying such a chemical liquid includes an inkjet chemical liquid application device for ejecting the chemical liquid onto the surface of the substrate and applying the chemical liquid. This chemical solution applying apparatus applies a chemical solution by an inkjet printing method using a plurality of inkjet head units. The inkjet head unit includes a head having a plurality of nozzles that move in various directions with respect to a substrate to supply a chemical solution. The head receives the chemical liquid from the reservoir which temporarily stores the chemical liquid on the upper side, and discharges the chemical liquid onto the surface of the substrate by each of the nozzles.

한국 공개특허 제10-2012-0007378호에는 이러한 약액 도포 장치가 개시된다. 약액은 가스 압력에 의해 액정 공급원으로부터 레저버로 공급되며, 레저버를 거쳐 헤드의 노즐들을 통해 기판 표면으로 토출된다.Korean Patent Laid-Open No. 10-2012-0007378 discloses such a chemical liquid application device. The chemical liquid is supplied from the liquid crystal source to the reservoir by the gas pressure, and is discharged to the substrate surface through the nozzles of the head via the reservoir.

액정 공급원에서 레저버로 약액이 공급되는 과정에서, 레저버 내부에는 압력 변화와 수위 변동에 따른 파동이 발생한다. 이러한 파동은 공압라인으로 약액의 역류를 발생시키며, 역류하는 약액은 압력 조절기로 유입되어 압력 조절기를 손상시킨다. 이러한 압력 조절기의 손상을 방지하기 위해 약액의 역류를 감지하는 센서와 약액의 역류 발생시 공압 라인을 차단하는 밸브가 제공되나, 밸브의 응답속도는 약액의 역류 속도에 미치지 못하여 여전히 압력 조절기의 손상이 발생한다.During the supply of the chemical liquid from the liquid crystal source to the reservoir, waves are generated in the reservoir due to the pressure change and the water level fluctuation. These pulses generate backflow of the chemical liquid through the pneumatic line, and the countercurrent chemical liquid flows into the pressure regulator and damages the pressure regulator. In order to prevent damage to the pressure regulator, a sensor for detecting the backflow of the chemical liquid and a valve for shutting off the pneumatic line when the backflow of the chemical liquid is provided are provided. However, the response speed of the valve does not reach the backflow rate of the chemical liquid, do.

본 발명은 약액의 역류로 인한 압력 제어기의 손상을 방지할 수 있는 약액 토출 장치를 제공한다.The present invention provides a chemical liquid ejection apparatus capable of preventing damage to a pressure controller due to backflow of a chemical liquid.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 실시예에 따르면, 약액 토출 장치는 잉크젯 방식으로 기판으로 약액을 토출하는 노즐들을 갖는 헤드; 내부에 약액을 저장하는 레저버 공간이 형성되며, 상기 헤드에 약액을 공급하는 레저버; 및 상기 레저버 공간의 압력을 제어하는 압력 제어 유닛을 포함하되, 상기 압력 제어 유닛은 압력 제어기; 상기 압력 제어기와 상기 레저버를 연결하는 공압 라인; 및 상기 공압 라인 상에 제공되며, 상기 공압 라인 내의 유로보다 큰 단면적을 갖는 버퍼 공간이 형성된 버퍼 박스를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, a chemical liquid ejecting apparatus includes a head having nozzles for ejecting a chemical liquid into a substrate by an inkjet method; Wherein a reservoir space for storing a chemical solution is formed inside the reservoir, and a reservoir for supplying a chemical solution to the head; And a pressure control unit for controlling a pressure of the reservoir space, wherein the pressure control unit comprises: a pressure controller; A pneumatic line connecting the pressure controller and the reservoir; And a buffer box provided on the pneumatic line and formed with a buffer space having a larger cross-sectional area than the flow path in the pneumatic line.

또한, 상기 버퍼 공간은 상기 공압 라인의 유로보다 단위 길이당 부피가 클 수 있다.In addition, the buffer space may have a larger volume per unit length than the flow path of the pneumatic line.

또한, 상기 압력 제어 유닛은 상기 압력 제어기 측으로 약액의 역류 발생을 감지하는 역류 감지 센서; 상기 압력 제어기와 상기 버퍼 박스 사이 구간에서 상기 공압 라인에 설치되는 압력 제어 밸브; 및 상기 역류 감지 센서에서 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 약액이 상기 압력 제어기 측으로 흐르지 않도록 상기 압력 제어 밸브를 조절하는 밸브 제어부를 포함할 수 있다.Further, the pressure control unit may include a backflow sensor that senses backflow of the chemical liquid to the pressure controller side; A pressure control valve installed in the pneumatic line in a section between the pressure controller and the buffer box; And a valve control unit for controlling the pressure control valve so that the chemical solution does not flow to the pressure controller when the backflow sensor detects the backflow of the chemical solution.

또한, 상기 역류 감시 센서는 상기 버퍼 공간을 통해 상기 약액의 역류 발생을 감지할 수 있다.In addition, the backflow monitoring sensor can detect the backflow of the chemical liquid through the buffer space.

또한, 상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 압력 조절 밸브를 닫아 상기 공압 라인의 유로를 차단할 수 있다.The valve control unit may block the flow path of the pneumatic line by closing the pressure control valve when the backflow of the chemical liquid is detected.

또한, 상기 압력 제어 밸브는 삼방 밸브이며, 상기 압력 제어 유닛은 상기 압력 제어 밸브와 연결되며, 상기 공압 라인의 유로에서 분기되는 바이 패스 라인을 더 포함하되, 상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 압력 제어기 측으로 약액의 흐름이 차단되고, 상기 바이 패스 라인 측으로 약액이 배출되도록 상기 압력 제어 밸브를 조절할 수 있다.Further, the pressure control valve may be a three-way valve, and the pressure control unit may further include a bypass line connected to the pressure control valve and branched from the flow path of the pneumatic line, The pressure control valve may be controlled so that the flow of the chemical liquid is shut off to the pressure controller side and the chemical liquid is discharged to the bypass line side.

또한, 상기 압력 제어 유닛은 상기 버퍼 박스와 연결되며, 배출 밸브가 설치된 바이 패스 라인을 더 포함하되, 상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류가 감지되는 경우, 상기 배출 밸브를 개방시킬 수 있다.The pressure control unit further includes a bypass line connected to the buffer box and having a discharge valve. The valve control unit may open the discharge valve when the backflow of the chemical liquid is sensed.

또한, 상기 압력 제어 유닛은 상기 압력 제어기와 상기 압력 제어 밸브 사이 구간에서 상기 공압 라인에 설치되는 필터를 더 포함할 수 있다.The pressure control unit may further include a filter installed in the pneumatic line in a section between the pressure controller and the pressure control valve.

또한, 상기 버퍼 박스는 상기 레저버에 인접한 상기 공압 라인의 전단부에 제공될 수 있다.Also, the buffer box may be provided at the front end of the pneumatic line adjacent to the reservoir.

또한, 상기 버퍼 박스는 상기 압력 제어기에 인접한 상기 공압 라인의 후단부에 제공될 수 있다.The buffer box may also be provided at the rear end of the pneumatic line adjacent to the pressure controller.

본 발명의 실시예에 따르면 기판 처리 장치는 기판이 놓이는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 일 방향으로 이동가능한 갠트리; 상기 갠트리에 장착되며, 잉크젯 방식으로 상기 기판에 약액을 토출하는 노즐들을 갖는 복수의 헤드; 내부에 약액을 저장하는 레저버 공간이 형성되며, 상기 헤드에 약액을 공급하는 레저버; 및 상기 레저버 공간을 음압으로 유지시키는 압력 제어 유닛을 포함하되, 상기 압력 제어 유닛은 압력 제어기; 상기 압력 제어기와 상기 레저버를 연결하는 공압 라인; 및 상기 공압 라인 상에 제공되며, 상기 공압 라인 내의 유로보다 단위길이당 부피가 큰 버퍼 공간이 형성된 버퍼 박스를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus includes a substrate supporting unit on which a substrate is placed; A gantry provided on a moving path of the substrate supporting unit and movable in one direction; A plurality of heads mounted on the gantry and having nozzles for ejecting a chemical liquid onto the substrate by an inkjet method; Wherein a reservoir space for storing a chemical solution is formed inside the reservoir, and a reservoir for supplying a chemical solution to the head; And a pressure control unit for maintaining the reservoir space at a negative pressure, wherein the pressure control unit comprises: a pressure controller; A pneumatic line connecting the pressure controller and the reservoir; And a buffer box provided on the pneumatic line, wherein a buffer space having a larger volume per unit length than the flow path in the pneumatic line is formed.

또한, 상기 압력 제어 유닛은 상기 버퍼 공간을 통해 상기 압력 제어기 측으로 약액의 역류 발생을 감지하는 역류 감지 센서; 상기 압력 제어기와 상기 버퍼 박스 사이 구간에서 상기 공압 라인에 설치되는 압력 제어 밸브; 및 상기 역류 감지 센서에서 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 약액이 상기 압력 제어기 측으로 흐르지 않도록 상기 압력 제어 밸브를 조절하는 밸브 제어부를 포함할 수 있다.Further, the pressure control unit may include a backflow sensor that senses backflow of the chemical liquid to the pressure controller through the buffer space; A pressure control valve installed in the pneumatic line in a section between the pressure controller and the buffer box; And a valve control unit for controlling the pressure control valve so that the chemical solution does not flow to the pressure controller when the backflow sensor detects the backflow of the chemical solution.

또한, 상기 압력 제어 밸브는 삼방 밸브이며, 상기 압력 제어 유닛은 상기 압력 제어 밸브와 연결되며, 상기 공압 라인의 유로에서 분기되는 바이 패스 라인을 더 포함하되, 상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 압력 제어기 측으로 약액의 흐름이 차단되고, 상기 바이 패스 라인 측으로 약액이 배출되도록 상기 압력 제어 밸브를 조절할 수 있다.Further, the pressure control valve may be a three-way valve, and the pressure control unit may further include a bypass line connected to the pressure control valve and branched from the flow path of the pneumatic line, The pressure control valve may be controlled so that the flow of the chemical liquid is shut off to the pressure controller side and the chemical liquid is discharged to the bypass line side.

또한, 상기 압력 제어 유닛은 상기 버퍼 박스와 연결되며, 배출 밸브가 설치된 바이 패스 라인을 더 포함하되, 상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류가 감지되는 경우, 상기 배출 밸브를 개방시킬 수 있다.The pressure control unit further includes a bypass line connected to the buffer box and having a discharge valve. The valve control unit may open the discharge valve when the backflow of the chemical liquid is sensed.

또한, 상기 버퍼 박스는 상기 레저버에 인접한 상기 공압 라인의 전단부에 제공될 수 있다.Also, the buffer box may be provided at the front end of the pneumatic line adjacent to the reservoir.

또한, 상기 버퍼 박스는 상기 압력 제어기에 인접한 상기 공압 라인의 후단부에 제공될 수 있다.The buffer box may also be provided at the rear end of the pneumatic line adjacent to the pressure controller.

본 발명의 실시예들에 따르면, 버퍼 박스의 제공으로 약액이 역류하여 압력 제어기에 도달하는 시간이 증가하므로, 약액이 압력 제어기로 유입되는 것을 차단할 수 있다.According to the embodiments of the present invention, since the time for the chemical solution to flow back to the pressure controller is increased by the provision of the buffer box, the chemical solution can be prevented from flowing into the pressure controller.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 방식 액정 도포 설비의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 액정 토출부의 사시도이다.
도 3은 도 1의 액정 토출부의 평면도이다.
도 4는 도 3의 제 1 구동 유닛을 보여주는 도면이다.
도 5는 도 3의 제 2 구동 유닛을 보여주는 도면이다.
도 6은 갠트리의 직선 이동 및 회전 과정을 보여주는 도면이다.
도 7은 도 2 및 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 보여주는 도면이다.
도 8은 도 7의 제 1 이동 유닛의 정면도이다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 헤드유닛의 구성을 도시한 도면들이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 잉크젯 헤드 유닛에 연결된 액정 공급 유닛과 압력 제어 유닛을 나타내는 도면이다.
도 12 내지 도 15는 본 발명의 서로 다른 실시예에 따른 잉크젯 헤드 유닛에 연결된 액정 공급 부와 압력 제어 유닛을 나타내는 도면이다.
1 is a view showing a configuration of an inkjet type liquid crystal coating equipment according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of the liquid crystal discharge portion of FIG.
3 is a plan view of the liquid crystal discharge portion of FIG.
Fig. 4 is a view showing the first drive unit of Fig. 3. Fig.
FIG. 5 is a view showing the second drive unit of FIG. 3. FIG.
6 is a view showing a linear movement and a rotation process of the gantry.
Fig. 7 is a side view of the head moving unit of Figs. 2 and 3. Fig.
Figure 8 is a front view of the first mobile unit of Figure 7;
9 and 10 are views illustrating the configuration of an inkjet head unit according to an embodiment of the present invention.
11 is a view showing a liquid crystal supply unit and a pressure control unit connected to an inkjet head unit according to an embodiment of the present invention.
12 to 15 are views showing a liquid crystal supply unit and a pressure control unit connected to an inkjet head unit according to another embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The above and other objects, features, and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings. Each drawing has been partially or exaggerated for clarity. It should be noted that, in adding reference numerals to the constituent elements of the respective drawings, the same constituent elements are shown to have the same reference numerals as possible even if they are displayed on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

이하에서는, 잉크젯 방식으로 대상물에 약액을 도포하는 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, an apparatus for applying a chemical liquid to an object by an inkjet method will be described.

예를 들어, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 약액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다.For example, the object may be a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate of a liquid crystal display panel. The chemical liquid may be a liquid crystal, an alignment liquid, red (R) Green (G), or blue (B) ink. As the alignment liquid, polyimide may be used.

배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.The alignment liquid can be applied to the entire surface of the color filter (CF) substrate and the thin film transistor (TFT) substrate, and the liquid crystal can be applied to the entire surface of the color filter (CF) substrate or the thin film transistor (TFT) substrate. The ink may be applied to the interior area of the black matrix arranged in a lattice pattern on a color filter (CF) substrate.

본 실시 예에서는, 약액으로 액정을 사용하는 설비를 예로 들어 설명하지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되는 것은 아니다.In this embodiment, a facility using liquid crystal as a chemical liquid is described as an example, but the technical idea of the present invention is not limited thereto.

도 1은 잉크젯 방식 액정 도포 설비의 구성을 보여주는 도면이다. 도 1의 액정 도포 설비(1)는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.1 is a view showing a configuration of an inkjet type liquid crystal coating equipment. The liquid crystal coating equipment 1 shown in Fig. 1 is a facility for applying a liquid crystal to a substrate by an inkjet method for discharging droplets.

기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.The substrate may be a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate of a liquid crystal display panel, and the liquid crystal may be applied to an entire surface of a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate.

도 1을 참조하면, 액정 도포 설비(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 1, the liquid crystal coating equipment 1 includes a liquid crystal discharge unit 10, a substrate transfer unit 20, a loading unit 30, an unloading unit 40, a liquid crystal supply unit 50, and a main controller 90 ). The liquid crystal discharge portion 10 and the substrate transfer portion 20 are arranged in a line in the first direction I and can be positioned adjacent to each other. A liquid crystal supply part 50 and a main control part 90 are disposed at positions facing the substrate transfer part 20 with the liquid crystal discharge part 10 as a center. The liquid crystal supply part 50 and the main control part 90 may be arranged in a line in the second direction II. The loading unit 30 and the unloading unit 40 are disposed at positions facing the liquid crystal discharge unit 10 with the substrate transfer unit 20 as a center. The loading section 30 and the unloading section 40 may be arranged in a line in the second direction II.

여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다. 액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.Here, the first direction I is an arrangement direction of the liquid crystal discharge portion 10 and the substrate transfer portion 20, the second direction II is a direction perpendicular to the first direction I on the horizontal plane, (III) is a direction perpendicular to the first direction (I) and the second direction (II). The substrate to which the liquid crystal is to be applied is brought into the loading section 30. The substrate transferring unit 20 transfers the substrate loaded into the loading unit 30 to the liquid crystal discharging unit 10. The liquid crystal discharging portion 10 receives liquid crystal from the liquid crystal supplying portion 50 and discharges the liquid crystal onto the substrate by an ink jet method for discharging liquid droplets. When the liquid crystal discharge is completed, the substrate transfer section 20 transfers the substrate from the liquid crystal discharge section 10 to the unloading section 40. The substrate coated with the liquid crystal is taken out of the unloading portion 40. The main control unit 90 controls the overall operations of the liquid crystal discharge unit 10, the substrate transfer unit 20, the loading unit 30, the unloading unit 40, and the liquid crystal supply unit 50.

도 2는 도 1의 액정 토출부의 사시도이고, 도 3은 도 1의 액정 토출부의 평면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 액정 토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 잉크젯 헤드유닛들(400), 헤드 이동 유닛(500), 액정 공급 유닛(600), 압력 제어 유닛(700), 액정 토출량 측정 유닛(800), 노즐 검사 유닛(900), 그리고 헤드 세정 유닛(1000)을 포함한다.FIG. 2 is a perspective view of the liquid crystal discharge portion of FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal discharge portion of FIG. 2 and 3, the liquid crystal discharging portion 10 includes a base B, a substrate supporting unit 100, a gantry 200, a gantry moving unit 300, inkjet head units 400, Unit 500, a liquid crystal supply unit 600, a pressure control unit 700, a liquid crystal discharge amount measurement unit 800, a nozzle inspection unit 900, and a head cleaning unit 1000.

이하에서는 액정 토출부의 각각의 구성에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, each configuration of the liquid crystal discharge portion will be described in detail.

베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.The base (B) may be provided in a rectangular parallelepiped shape having a constant thickness. A substrate supporting unit 100 is disposed on the upper surface of the base B. The substrate supporting unit 100 has a supporting plate 110 on which the substrate S is placed. The support plate 110 may be a rectangular plate. The rotation driving member 120 is connected to the lower surface of the support plate 110. The rotation drive member 120 may be a rotary motor. The rotation driving member 120 rotates the support plate 110 around a rotation center axis perpendicular to the support plate 100. [

지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.When the support plate 110 is rotated by the rotation drive member 120, the substrate S can be rotated by the rotation of the support plate 110. [ When the long-side direction of the cell formed on the substrate to which the liquid crystal is to be applied faces the second direction II, the rotation driving member 120 can rotate the substrate such that the long-side direction of the cell is in the first direction I.

지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.The support plate 110 and the rotation driving member 120 may be linearly moved in the first direction I by the linear driving member 130. The linear driving member 130 includes a slider 132 and a guide member 134. The rotation driving member 120 is provided on the upper surface of the slider 132. [ The guide member 134 is elongated in the first direction I in the center of the upper surface of the base B. A linear motor (not shown) may be incorporated in the slider 132 and the slider 132 is linearly moved in the first direction I along the guide member 134 by a linear motor (not shown).

갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.The gantry 200 is provided at an upper portion of a path through which the support plate 110 is moved. The gantry 200 is disposed upwardly away from the upper surface of the base B and the gantry 200 is arranged such that its longitudinal direction is in the second direction II. The inkjet head unit 400 is coupled to the gantry 200 by the head moving unit 500. The inkjet head unit 400 can be linearly moved by the head moving unit 500 in the longitudinal direction of the gantry, that is, in the second direction II, and linearly in the third direction III.

갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제1방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(200)의 회전에 의해, 잉크젯 헤드유닛(400)의 노즐들(미도시)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬된다.The gantry moving unit 300 moves the gantry 200 in a first direction I or moves the gantry 200 in such a direction that the longitudinal direction of the gantry 200 is inclined in the first direction I . By the rotation of the gantry 200, the nozzles (not shown) of the inkjet head unit 400 are aligned in an oblique direction in the first direction I.

갠트리 이동 유닛(300)은, 이하에서 설명하는 바와 같이, 갠트리(200)의 일단을 회전 중심으로 하여 갠트리(200)의 타단을 회전시킬 수 있다. 이와 달리, 갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)의 센터를 회전 중심으로 하여 갠트리(200)를 회전시킬 수 있도록 구성될 수도 있다. 갠트리 구동 유닛(300) 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)을 포함한다. The gantry moving unit 300 can rotate the other end of the gantry 200 with the one end of the gantry 200 as the center of rotation as will be described below. Alternatively, the gantry moving unit 300 may be configured to rotate the gantry 200 with the center of the gantry 200 as the center of rotation. The gantry drive unit 300 includes a first drive unit 310 and a second drive unit 320.

제 2 구동 유닛(320)은 회전중심이 되는 갠트리(200)의 일단에 제공되고, 제 1 구동 유닛(310)은 갠트리(200)의 타단에 제공된다.The second drive unit 320 is provided at one end of the gantry 200 serving as a rotation center, and the first drive unit 310 is provided at the other end of the gantry 200.

도 4는 도 3의 제 1 구동 유닛을 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 제 1 구동 유닛(310)은 슬라이더(312), 제 1 회전 지지 부재(314), 그리고 제 1 직선 구동 부재(318)를 포함한다. 갠트리(200)의 타단측 하단부에는 갠트리(200)의 길이 방향을 따라 가이드 레일(210)이 제공되고, 슬라이더(312)는 가이드 레일(210)에 의해 안내되어 직선 이동한다. 슬라이더(312)의 하단부에는 제 1 회전 지지 부재(314)가 결합된다. 제 1 회전 지지 부재(314)는 상부와 하부의 상대 회전이 가능한 베어링일 수 있다. 제 1 회전 지지 부재(314)의 하면에는 제 1 직선 구동 부재(318)가 결합된다. 제 1 직선 구동 부재(318)는 제 1 회전 지지 부재(314)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다.Fig. 4 is a view showing the first drive unit of Fig. 3. Fig. Referring to FIG. 4, the first drive unit 310 includes a slider 312, a first rotation support member 314, and a first linear drive member 318. A guide rail 210 is provided along the longitudinal direction of the gantry 200 at the lower end of the other end of the gantry 200. The slider 312 is guided by the guide rail 210 and linearly moved. The first rotation support member 314 is coupled to the lower end of the slider 312. The first rotation support member 314 may be a bearing capable of relative rotation between the upper and lower portions. A first linear driving member 318 is coupled to the lower surface of the first rotation support member 314. The first linear driving member 318 linearly moves the first rotation supporting member 314 in the first direction I.

제 1 직선 구동 부재(318)는 가이드 레일(315)과 슬라이더(317)를 포함한다. 가이드 레일(315)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 타측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(315)에는 슬라이더(317)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(317)의 상면에는 제1 회전 지지 부재(314)가 결합된다. 슬라이더(317)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(317)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The first linear driving member 318 includes a guide rail 315 and a slider 317. The guide rail 315 is disposed in the other side edge of the upper surface of the base B with the guide member 134 of the substrate supporting unit 100 as the center, with the longitudinal direction thereof facing the first direction I. A slider 317 is movably coupled to the guide rail 315. The first rotation support member 314 is coupled to the upper surface of the slider 317. The slider 317 may include a linear motor (not shown). The slider 317 linearly moves in the first direction I along the guide rail 315 by the driving force of a linear motor (not shown).

도 5는 도 3의 제 2 구동 유닛을 보여주는 도면이다. 도 5를 참조하면, 제 2 구동 유닛(320)은 갠트리(200)의 직선 이동시 갠트리(200)의 일단을 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키고, 갠트리(200)의 회전시 갠트리(200)의 회전 중심으로 동작한다.FIG. 5 is a view showing the second drive unit of FIG. 3. FIG. 5, the second driving unit 320 linearly moves one end of the gantry 200 in the first direction I when the gantry 200 is linearly moved. When the gantry 200 is rotated, As shown in Fig.

제 2 구동 유닛(320)은 제 2 회전 지지 부재(324)와 제 2 직선 구동 부재(328)를 포함한다. 갠트리(200)의 일단하면에는 연결 부재(322)가 결합되고, 연결 부재(322)의 하면에는 제 2 회전 지지 부재(324)가 결합된다. 제 2 회전 지지 부재(324)는 상부와 하부의 상대 회전이 가능한 베어링일 수 있다. 제 2 회전 지지 부재(324)의 하면에는 제 2 직선 구동 부재(328)가 결합된다. 제 2 직선 구동 부재(328)는 제 2 회전 지지 부재(324)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다. 제 2 회전 지지 부재(324)의 직선 이동에 의해, 그 상부에 순차적으로 결합된 연결 부재(322)와 갠트리(200)의 일단이 직선 이동된다.The second drive unit 320 includes a second rotation support member 324 and a second linear drive member 328. A connecting member 322 is coupled to a lower end of the gantry 200 and a second rotation supporting member 324 is coupled to a lower surface of the connecting member 322. The second rotation support member 324 may be a bearing capable of relative rotation between the upper and lower portions. And a second linear driving member 328 is coupled to a lower surface of the second rotation supporting member 324. [ The second linear driving member 328 linearly moves the second rotation supporting member 324 in the first direction I. The connection member 322 and the one end of the gantry 200 are linearly moved by the linear movement of the second rotation support member 324.

제 2 직선 구동 부재(328)는 가이드 레일(325)과 슬라이더(327)를 포함한다. 가이드 레일(325)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 일측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(325)에는 슬라이더(327)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(327)의 상면에는 제 2 회전 지지 부재(324)가 결합된다. 슬라이더(327)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(327)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(325)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The second linear drive member 328 includes a guide rail 325 and a slider 327. The guide rail 325 is disposed in one side edge portion of the upper surface of the base B about the guide member 134 of the substrate supporting unit 100 with its longitudinal direction directed in the first direction I. A slider 327 is movably coupled to the guide rail 325. And the second rotation support member 324 is coupled to the upper surface of the slider 327. [ The slider 327 may include a linear motor (not shown). The slider 327 linearly moves in the first direction I along the guide rail 325 by the driving force of a linear motor (not shown).

도 6은 갠트리의 회전 및 직선 이동 과정을 보여주는 도면이다. 도 3 및 도 6에서는 도면 편의상 액정 공급 유닛을 생략하였다.6 is a view showing the rotation and linear movement of the gantry. In Figs. 3 and 6, the liquid crystal supply unit is omitted for convenience of illustration.

도 4 및 도 5와, 도 6을 참조하면, 갠트리(200)는 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 회전되고, 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다.4, 5 and 6, the gantry 200 is rotated by the first drive unit 310 and the second drive unit 320 so as to be inclined in the first direction I , And can be linearly moved in the first direction (I).

제 2 구동 유닛(320)의 제 2 직선 구동 부재(328)가 고정된 상태에서, 제 1 구동 유닛(310)의 제 1 직선 구동 부재(318)가 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동하면 갠트리(200)가 회전된다. 이에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다.When the first linear driving member 318 of the first driving unit 310 linearly moves in the first direction I in a state where the second linear driving member 328 of the second driving unit 320 is fixed, (200) is rotated. This will be described in detail as follows.

먼저, 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)가 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동한다. 이때, 갠트리(200)의 일단은 제 2 직선 구동 부재(328)가 구동되지 않으므로 제 1 방향(Ⅰ)으로의 이동이 없는 상태에서 제 2 회전 지지 부재(324)에 의해 회전된다.First, the slider 317 of the first linear driving member 318 moves in the first direction I along the guide rail 315 by the driving force of a linear motor (not shown). At this time, one end of the gantry 200 is rotated by the second rotation supporting member 324 in the state where there is no movement in the first direction I because the second linear driving member 328 is not driven.

제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)가 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동함에 따라, 그 상부에 배치된 제 1 회전 지지 부재(314)가 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다. 동시에, 제 1 회전 지지 부재(314)의 상단에 결합된 슬라이더(312)는 제 1 회전 지지 부재(314)의 상부와 하부 간의 상대 회전에 의해 회전되면서, 갠트리(200)에 제공된 가이드 레일(210)을 따라 갠트리(200)의 타단측으로 이동한다. 결과적으로, 갠트리(200)는 제 2 구동 유닛(320)의 지지 위치를 중심으로 회전하고, 제 1 구동 유닛(310)의 갠트리(200) 지지 위치는 타단의 바깥 쪽으로 이동한 상태가 된다. 이러한 동작을 통해, 갠트리(200)는 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 회전될 수 있으며, 이에 따라 잉크젯 헤드유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬된다. 이와 같이, 잉크젯 헤드유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬되면, 액정이 도포될 기판(S)의 픽셀 피치 변화에 대응하여 유연성있게 액정 토출 피치를 조절할 수 있으며, 이를 통해 기판에 도포되는 액정의 막균일도를 높일 수 있다.As the slider 317 of the first linear driving member 318 moves in the first direction I, the first rotation supporting member 314 disposed on the upper portion thereof is moved along the guide rail 315 in the first direction I). At the same time, the slider 312 coupled to the upper end of the first rotation support member 314 is rotated by the relative rotation between the upper and lower portions of the first rotation support member 314, and the guide rail 210 To the other end side of the gantry 200. As a result, the gantry 200 rotates about the supporting position of the second driving unit 320, and the supporting position of the gantry 200 of the first driving unit 310 is shifted to the outside of the other end. Through this operation, the gantry 200 can be rotated in an oblique direction in the first direction I, so that the inkjet head unit 400 is aligned in an inclined direction in the first direction I. As such, when the ink jet head unit 400 is aligned in the oblique direction in the first direction I, the liquid crystal discharge pitch can be flexibly adjusted in accordance with the pixel pitch change of the substrate S to which the liquid crystal is to be applied, It is possible to increase the film uniformity of the liquid crystal applied to the substrate.

갠트리(200)는 상기와 같은 방법에 의해 회전될 수 있으며, 갠트리(200)는 회전된 상태에서 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)와 제 2 직선 구동 부재(328)의 슬라이더(327)에 의해 추가적으로 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있다. 갠트리(200)의 일단은 제 2 직선 구동 부재(328)의 슬라이더(327)의 이동에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동되고, 갠트리(200)의 타단은 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)의 이동에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다.The gantry 200 can be rotated in the same manner as described above and the gantry 200 can be rotated in a state where the slider 317 of the first linear driving member 318 and the slider 317 of the second linear driving member 328 327 in the first direction I further. One end of the gantry 200 is linearly moved in the first direction I by the movement of the slider 327 of the second linear driving member 328 and the other end of the gantry 200 is moved in the first direction I by the first linear driving member 318, Can be linearly moved in the first direction (I) by the movement of the slider (317).

갠트리(200)가 고정되고 기판이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동하는 경우, 기판이 갠트리(200)의 일측에서 타측으로 이동되어야 하므로, 설비의 풋프린트(Footprint)가 증가될 수 있다. 그러나, 본 발명은, 기판을 고정시킨 상태에서 또는 기판의 직선 이동과 함께, 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있기 때문에, 설비의 풋프린트를 줄일 수 있다.When the gantry 200 is fixed and the substrate moves in the first direction I, the substrate can be moved from one side of the gantry 200 to the other side, so that the footprint of the equipment can be increased. However, according to the present invention, since the gantry 200 can be linearly moved in the first direction I with the substrate fixed or with the linear movement of the substrate, the footprint of the facility can be reduced.

헤드 이동 유닛(500)은 잉크젯 헤드유닛(400)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 잉크젯 헤드 유닛(400a,400b,400c)가 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 유닛(500) 또한 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 유닛(500)은 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 잉크젯 헤드유닛(400)은 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다.The head moving unit 500 may be provided to the inkjet head unit 400, respectively. In the case of this embodiment, since three inkjet head units 400a, 400b and 400c are provided as an example, three head moving units 500 can also be provided corresponding to the number of heads. Alternatively, one head moving unit 500 may be provided, in which case the ink jet head unit 400 can be moved integrally, not individually.

도 7은 도 2 및 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 보여주는 도면이고, 도 8은 도 7의 제 1 이동 유닛의 정면도이다.Fig. 7 is a side view of the head moving unit of Figs. 2 and 3, and Fig. 8 is a front view of the first moving unit of Fig.

도 7 및 도 8을 참조하면, 헤드 이동 유닛(500)은 제 1 이동 유닛(520)과 제 2 이동 유닛(540)을 포함한다. 제 1 이동 유닛(520)은 잉크젯 헤드유닛(400a)를 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키고, 제 2 이동 유닛(540)은 잉크젯 헤드유닛(400a)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킨다.Referring to FIGS. 7 and 8, the head moving unit 500 includes a first moving unit 520 and a second moving unit 540. The first moving unit 520 linearly moves the inkjet head unit 400a in the longitudinal direction of the gantry, that is, in the second direction II, and the second moving unit 540 moves the inkjet head unit 400a in the third direction (III).

제 1 이동 유닛(520)은 가이드 레일들(522a,522b), 슬라이더들(524a, 524b), 그리고 이동 플레이트(526)를 포함한다. 가이드 레일들(522a,522b)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 길게 연장되며, 갠트리(200)의 전면에 제 3 방향(Ⅲ)으로 이격 설치될 수 있다. 가이드 레일들(522a,522b)에는 슬라이더들(524a, 524b)이 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더들(524a, 524b)에는 직선 구동기, 예를 들어 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 이동 플레이트(526)는 슬라이더들(524a, 524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)의 상부 영역은 상부에 위치한 슬라이더(524a)에 결합되고, 이동 플레이트(526)의 하부 영역은 하부에 위치한 슬라이더(524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일들(522a,522b)을 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 이와 같이, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 개별 이동됨에 따라, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c) 간의 간격이 조절될 수 있다.The first moving unit 520 includes guide rails 522a and 522b, sliders 524a and 524b, and a moving plate 526. [ The guide rails 522a and 522b may extend in the second direction II and be spaced apart from the gantry 200 in the third direction III. Sliders 524a and 524b are movably coupled to the guide rails 522a and 522b and linear actuators such as a linear motor (not shown) may be incorporated in the sliders 524a and 524b. The moving plate 526 is coupled to the sliders 524a and 524b. The upper region of the moving plate 526 is coupled to the upper slider 524a and the lower region of the moving plate 526 is coupled to the lower slider 524b. The moving plate 526 linearly moves in the second direction II along the guide rails 522a and 522b by the driving force of a linear motor (not shown) as shown in Fig. Thus, as the inkjet head units 400a, 400b, 400c are individually moved along the second direction II, the gap between the inkjet head units 400a, 400b, 400c can be adjusted.

제 2 이동 유닛(540)은 가이드 부재(542), 슬라이더(544), 검출기(546), 제어기(548)를 포함한다. 가이드 부재(542)는 제 1 이동 유닛(520)의 이동 플레이트(526)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동을 안내한다. 슬라이더(544)는 가이드 부재(542)에 직선 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더(544)에는 직선 구동기, 예를 들어 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 잉크젯 헤드유닛(400a)는 슬라이더(544)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동에 의해 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동된다.The second moving unit 540 includes a guide member 542, a slider 544, a detector 546, and a controller 548. The guide member 542 is engaged with the moving plate 526 of the first moving unit 520 and guides the linear movement of the slider 544 in the third direction III. The slider 544 is coupled to the guide member 542 so as to be linearly movable. A linear actuator such as a linear motor (not shown) may be incorporated in the slider 544. The inkjet head unit 400a is coupled to the slider 544 and is moved in the third direction III by the linear movement of the slider 544 in the third direction III.

검출기(546)는 갠트리(200)에 설치될 수 있으며, 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격을 검출한다. 검출기(546)는 레이저 센서일 수 있다. 제어기(548)는 검출기(546)의 검출 신호에 대응하는 제어 신호를 생성하고, 슬라이더(544)에 내장된 리니어 모터에 제어 신호를 전달하여 리니어 모터의 구동을 제어한다. 검출기(546)의 검출 결과에 따라 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격이 기설정된 기준치를 벗어나는 것으로 판단되면, 제어기(548)는 리니어 모터(미도시)의 구동을 제어하여 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격을 조절한다.The detector 546 may be installed in the gantry 200 and detects the distance between the inkjet head unit 400a and the substrate S. [ The detector 546 may be a laser sensor. The controller 548 generates a control signal corresponding to the detection signal of the detector 546 and transmits a control signal to the linear motor built in the slider 544 to control the driving of the linear motor. If it is determined that the interval between the inkjet head unit 400a and the substrate S deviates from a preset reference value in accordance with the detection result of the detector 546, the controller 548 controls the driving of the linear motor (not shown) The distance between the head unit 400a and the substrate S is adjusted.

잉크젯 헤드유닛(400)은 기판에 액정의 액적을 토출한다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.The inkjet head unit 400 discharges droplets of liquid crystal onto the substrate. A plurality of inkjet head units 400 may be provided. In this embodiment, three inkjet head units 400a, 400b and 400c are provided, but the present invention is not limited thereto. The inkjet head units 400 may be arranged in a line in a row in the second direction II and are coupled to the gantry 200.

잉크젯 헤드유닛(400)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들(미도시)은 μg 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다. 종래의 씨린지(Syringe)를 이용한 포인트 도팅(Point Dotting) 방식의 경우, 액정의 토출 피치가 크고, 토출되는 액정의 양이 mg 단위이므로, 액정의 점성 유동 저항 때문에 기판상에 액정이 고르게 퍼지지 못하는 문제점이 있었다. 그러나 본 발명은, 좁은 피치 간격을 가지는 다수의 노즐들(미도시)을 통해 μg 단위로 액정을 토출하므로, 액정의 점성 유동 저항에 불구하고 기판상에 보다 고르게 액정을 도포할 수 있다.A plurality of nozzles (not shown) for ejecting droplets of liquid crystal are provided on the bottom surface of the inkjet head unit 400. For example, 128 or 256 nozzles (not shown) may be provided in each of the heads. The nozzles (not shown) may be arranged in a line at intervals of a predetermined pitch. The nozzles (not shown) can eject the liquid crystal in an amount of μg. In the conventional point dotting method using a syringe, since the ejection pitch of the liquid crystal is large and the amount of liquid crystal to be ejected is in the unit of mg, the liquid crystal is not spread evenly on the substrate due to the viscous flow resistance of the liquid crystal There was a problem. However, since the liquid crystal is ejected in units of micrograms through a plurality of nozzles (not shown) having a narrow pitch interval, the liquid crystal can be coated more evenly on the substrate despite the viscous flow resistance of the liquid crystal.

각각의 잉크젯 헤드유닛(400)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.The number of piezoelectric elements corresponding to the nozzles (not shown) may be provided in each of the inkjet head units 400, and the amount of droplets discharged from the nozzles (not shown) may be controlled by controlling the voltage applied to the piezoelectric elements Respectively.

도 9 및 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 헤드유닛의 구성을 도시한 도면들이다. 잉크젯 헤드유닛들(400a,400b,400c) 동일한 구성을 가지므로, 이하에서는 잉크젯 헤드유닛(400a)을 예로 들어 설명한다.9 and 10 are views illustrating the configuration of an inkjet head unit according to an embodiment of the present invention. Since the ink jet head units 400a, 400b and 400c have the same configuration, the ink jet head unit 400a will be described below as an example.

도 9 및 도 10을 참조하면, 잉크젯 헤드유닛(400a)는 몸체(412)와, 몸체(412) 내부에 액정을 저장하는 레저버(reservoir 또는 buffer tank)(420)와, 레저버(420)로부터 액정을 공급받아서 기판 표면에 약액을 토출하는 헤드(440), 몸체(412)를 이동 플레이트(526)의 전면에 결합하는 결합부재(214)를 포함한다. 또한, 잉크젯 헤드유닛(400a)는 레저버(420) 내부에 저장된 액정의 수위를 감지하는 센서(430)들을 포함한다.9 and 10, the inkjet head unit 400a includes a body 412, a reservoir 420 for storing liquid crystal in the body 412, a reservoir 420, And a coupling member 214 for coupling the body 412 to the front surface of the moving plate 526. The head 440 has a function of receiving the liquid crystal from the liquid crystal display panel 412 and discharging the liquid chemical onto the surface of the substrate. In addition, the inkjet head unit 400a includes sensors 430 that sense the level of the liquid crystal stored in the reservoir 420. [

몸체(412)는 하부면에 헤드(440)가 배치되고, 적어도 하나의 방향으로 이동 가능하도록 이동 플레이트(526)와 결합된다. 몸체(412)는 내부 하단에 레저버(420)가 제공된다.The body 412 has a head 440 disposed on the lower surface thereof and is coupled with the moving plate 526 so as to be movable in at least one direction. The body 412 is provided with a reservoir 420 at its inner bottom.

헤드(440)는 지지판(110)에 안착된 기판 표면과 대향하는 하부면에 기판(S)으로 액정을 공급하는 복수 개의 노즐(미도시됨)들이 제공되는 노즐면(242)을 갖는다. 하나의 노즐면(242)에는 예를 들어, 128 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들(미도시)은 μg 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.The head 440 has a nozzle surface 242 provided with a plurality of nozzles (not shown) for supplying liquid crystal to the substrate S on the lower surface opposite to the substrate surface resting on the support plate 110. One nozzle face 242 may be provided with, for example, 128 or 256 nozzles (not shown). The nozzles (not shown) may be arranged in a line at intervals of a predetermined pitch. The nozzles (not shown) can eject the liquid crystal in an amount of μg.

종래의 씨린지(Syringe)를 이용한 포인트 도팅(Point Dotting) 방식의 경우, 액정의 토출 피치가 크고, 토출되는 액정의 양이 mg 단위이므로, 액정의 점성 유동 저항 때문에 기판상에 액정이 고르게 퍼지지 못하는 문제점이 있었다. 그러나 본 발명은, 좁은 피치 간격을 가지는 다수의 노즐들(미도시)을 통해 μg 단위로 액정을 토출하므로, 액정의 점성 유동 저항에 불구하고 기판상에 보다 고르게 액정을 도포할 수 있다.In the conventional point dotting method using a syringe, since the ejection pitch of the liquid crystal is large and the amount of liquid crystal to be ejected is in the unit of mg, the liquid crystal is not spread evenly on the substrate due to the viscous flow resistance of the liquid crystal There was a problem. However, since the liquid crystal is ejected in units of micrograms through a plurality of nozzles (not shown) having a narrow pitch interval, the liquid crystal can be coated more evenly on the substrate despite the viscous flow resistance of the liquid crystal.

헤드(440)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.The number of piezoelectric elements corresponding to the nozzles (not shown) may be provided in the head 440, and the amount of liquid droplets discharged from the nozzles (not shown) may be independently controlled by controlling the voltage applied to the piezoelectric elements Lt; / RTI >

레저버(420)는 액정의 버퍼 탱크 역할을 하는 구성으로, 내부에 액정이 저장되는 레저버 공간(421)을 갖는다. 레저버 공간(421)은 몸체(412) 내부에 형성되어 약액 공급유닛(600)로부터 액정을 받아서 저장하고 노즐(미도시)들로 액정을 공급한다. The reservoir 420 has a reservoir space 421 in which the liquid crystal is stored therein, serving as a buffer tank for the liquid crystal. The reservoir space 421 is formed inside the body 412 to receive and store the liquid crystal from the chemical liquid supply unit 600 and supply the liquid crystal to the nozzles (not shown).

레저버(420)의 전면에는 투명 재질의 덮개(411)가 결합, 밀폐되어 내부를 모니터링할 수 있다. 레저버(420)의 하부면(417)은 양측에 노즐들로 액정을 공급하는 제 1 및 제 2 배출구(422, 424)들과, 하부면(417) 내부에 형성되어 노즐들과 제 1 및 제 2 배출구(422, 424)들을 연결하는 유로(428)를 포함한다. 따라서 노즐들은 유로(428)를 통해 레저버(420)로부터 액정을 공급받는다. 또 레저버(420)의 하부면(417)은 제 1 및 제 2 배출구(422, 424)가 서로 다른 높이를 갖도록 단차가 제공된다. 이는 제 1 및 제 2 배출구(422, 424)의 압력차를 이용하여 레저버(420)에 저장된 액정에 포함된 기포를 용이하게 제거하기 위함이다. 또 레저버(420)의 후면에는 내부 압력 조절을 위한 공압라인이 연결되는 제 1 연결부(416)와, 액정 공급을 위한 약액공급라인이 연결되는 제 2 연결부(418)가 제공된다. 제 1 연결부(416)는 압력을 안정적으로 제어하기 위하여 레저버(420) 상부에 배치된다. 제 1 연결부(416)는 압력이 안정되고 상부에 배치됨으로써, 액정이 제 1 연결부(416) 및 공압라인으로 역류되는 현상을 제거할 수 있다.A cover 411 made of a transparent material is coupled to the front surface of the reservoir 420, and the inside can be monitored. The lower surface 417 of the reservoir 420 has first and second outlets 422 and 424 for supplying the liquid crystal to the nozzles on both sides and a second outlet 422 and 424 formed in the lower surface 417, And a flow path 428 connecting the second outlets 422 and 424. Accordingly, the nozzles are supplied with the liquid crystal from the reservoir 420 through the flow path 428. The lower surface 417 of the reservoir 420 is provided with a step so that the first and second outlets 422 and 424 have different heights. This is to easily remove bubbles contained in the liquid crystal stored in the reservoir 420 using the pressure difference between the first and second outlets 422 and 424. The reservoir 420 is provided at its rear surface with a first connection part 416 to which a pneumatic line for controlling the internal pressure is connected and a second connection part 418 to which a chemical solution supply line for supplying liquid crystal is connected. The first connection portion 416 is disposed above the reservoir 420 to stably control the pressure. The first connection portion 416 is stable in pressure and disposed at the upper portion, thereby eliminating the phenomenon that the liquid crystal flows back to the first connection portion 416 and the pneumatic line.

레저버(420)는 상부벽(415) 중앙에는 센서(430)들이 관통되어 내부에 저장된 액정의 수위를 감지한다. 센서(430)들은 제 1 및 제 2 레벨 센서(432, 434)들로 구비된다. 제 1 레벨 센서(432)는 레저버(420)의 액정 공급이 필요한 수위를 감지하고, 제 2 레벨 센서(434)는 액정 공급을 중단하기 위한 수위를 감지한다. 예를 들어, 제 1 및 제 2 레벨 센서(432, 436)는 액정의 온도를 측정하여 레저버(420) 내부의 액정 수위를 감지한다. 제 1 및 제 2 레벨 센서(432, 434)들은 레저버(420)의 상부벽(415)을 관통하여 수위 차에 대응하여 단차(L) 갖도록 설치된다.The reservoir 420 penetrates through the center of the upper wall 415 and senses the liquid level of the liquid crystal stored therein. The sensors 430 are provided with first and second level sensors 432 and 434. The first level sensor 432 senses the level at which the liquid crystal supply of the reservoir 420 is required, and the second level sensor 434 senses the level at which the liquid crystal supply is stopped. For example, the first and second level sensors 432 and 436 measure the liquid crystal temperature and sense the liquid crystal level inside the reservoir 420. The first and second level sensors 432 and 434 pass through the upper wall 415 of the reservoir 420 and are installed to have a level difference L corresponding to the level difference.

제1연결부(416)에는 압력 조절 유닛(460)이 연결되고, 제2연결부(418)에는 액정 공급유닛(600)이 연결된다.
A pressure control unit 460 is connected to the first connection unit 416 and a liquid crystal supply unit 600 is connected to the second connection unit 418.

도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 잉크젯 헤드 유닛에 연결된 액정 공급 유닛과 압력 제어 유닛을 나타내는 도면이다.11 is a view showing a liquid crystal supply unit and a pressure control unit connected to an inkjet head unit according to an embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 액정 공급 유닛(600)은 레저버 공간(421)으로 액정을 공급한다. 액정 공급 유닛(600)은 액정 공급원(672), 가압 부재(674), 액정 공급라인(675)를 포함한다. 액정 공급원(672)은 예를 들어 통 형상으로 제공될 수 있으며, 액정 공급원(672) 내에는 액정이 채워져 있다. 가압 부재(674)는 액정 공급원(672)에 가스 압력을 작용시킨다. 액정 공급원(672) 내의 액정은 가압 부재(674)의 가스 압력에 의해 액정 공급라인(675)를 통해 레저버 공간(421)으로 전달된다. 액정 공급 라인(675)의 일단은 액정 공급원(672)에 연결되고, 타단은 레저버(420)의 제2연결부(418)에 연결된다. 액정 공급라인(675)에는 파티클 여과 부재(676), 기포 여과 부재(677)이 설치된다. 파티클 여과 부재(676)는 액정에 포함된 파티클을 여과하고, 기포 여과 부재(677)는 액정에 포함된 기포를 제거한다. Referring to Fig. 11, the liquid crystal supply unit 600 supplies the liquid crystal to the reservoir space 421. Fig. The liquid crystal supply unit 600 includes a liquid crystal supply source 672, a pressing member 674, and a liquid crystal supply line 675. The liquid crystal supply source 672 may be provided in a cylindrical shape, for example, and the liquid crystal supply source 672 is filled with liquid crystal. The pressing member 674 applies a gas pressure to the liquid crystal supply source 672. The liquid crystal in the liquid crystal supply source 672 is transferred to the reservoir space 421 through the liquid crystal supply line 675 by the gas pressure of the pressure member 674. One end of the liquid crystal supply line 675 is connected to the liquid crystal supply source 672 and the other end is connected to the second connection portion 418 of the reservoir 420. The liquid crystal supply line 675 is provided with a particle filter member 676 and a bubble filter member 677. The particle filter member 676 filters the particles contained in the liquid crystal, and the bubble filtering member 677 removes bubbles contained in the liquid crystal.

압력 제어 유닛(460)은 레저버(420)의 내부 압력을 일정하게 유지시킨다. 압력 제어 유닛(460)은 압력 제어기(461), 공압 라인(463), 버퍼 박스(465), 역류 감지 센서(467), 압력 제어 밸브(471), 그리고 밸브 제어부(473)를 포함한다.The pressure control unit 460 maintains the internal pressure of the reservoir 420 constant. The pressure control unit 460 includes a pressure controller 461, a pneumatic line 463, a buffer box 465, a backflow sensor 467, a pressure control valve 471, and a valve control unit 473.

압력 제어기(461)는 히팅에 따른 레저버(420)의 내압 조건을 실시간으로 피드백 받아 압력 제어 밸브(471)를 제어하여 온도 변화에 따른 레저버(420)의 내압 변화를 보상한다. 압력 제어기(461)는 레저버 공간(421)의 압력을 조절하기 위한 압력 제어(Meniscus Pressure Control : MPC) 유닛을 포함할 수 있다. 압력 제어기(461)는 양압과 음압을 제어하여 레저버(420)의 내부 압력을 일정하게 유지할 수 있다. The pressure controller 461 feedbacks the internal pressure condition of the reservoir 420 according to the heating in real time to control the pressure control valve 471 to compensate for the internal pressure change of the reservoir 420 according to the temperature change. The pressure controller 461 may include a meniscus pressure control (MPC) unit for regulating the pressure of the reservoir space 421. The pressure controller 461 can maintain the internal pressure of the reservoir 420 constant by controlling the positive pressure and the negative pressure.

공압 라인(463)은 압력 제어기(461)와 레저버(420)를 연결한다. 공압 라인(463)의 내부에는 유로가 형성되며, 유로는 레저버 공간(421)과 통한다. The pneumatic line 463 connects the pressure controller 461 and the reservoir 420. A flow path is formed inside the pneumatic line 463, and the flow path communicates with the reservoir space 421.

버퍼 박스(465)는 공압 라인(463) 상에 설치되며, 내부에 버퍼 공간(미도시)이 형성된다. 버퍼 공간은 공압 라인(463)의 내부 유로보다 큰 단면적을 갖는다. 버퍼 공간은 공압 라인(463)의 유로보다 단위 길이당 부피가 더 크다.The buffer box 465 is installed on the pneumatic line 463, and a buffer space (not shown) is formed therein. The buffer space has a larger cross-sectional area than the internal flow path of the pneumatic line 463. The buffer space is larger in volume per unit length than the flow path of the pneumatic line 463.

역류 감지 센서(467)는 압력 제어기(461) 측으로 액정의 역류 발생 여부를 감지한다. 실시예에 의하면, 역류 감지 센서(467)는 버퍼 박스(461) 내부를 통해 액정의 역류 발생을 감지한다. 역류 감지 센서(467)는 전정용량센서 또는 광센서가 사용될 수 있다.The backflow sensor 467 detects whether backflow of the liquid crystal occurs to the pressure controller 461 side. According to the embodiment, the backflow sensor 467 detects the backflow of the liquid crystal through the inside of the buffer box 461. The backflow sensor 467 may be a volumetric sensor or an optical sensor.

이와 달리, 역류 감지 센서(467)은 공압 라인(463)의 내부 유로를 통해 액정의 역류 발생을 감지할 수 있다. 이 경우, 역류 감지 센서(467)은 버퍼 박스(461)와 레저버(420) 사이 구간에서 공압 라인(463)의 내부 유로를 감지한다.Alternatively, the backflow sensor 467 may detect the backflow of the liquid crystal through the internal flow path of the pneumatic line 463. In this case, the backflow sensor 467 senses the internal flow path of the pneumatic line 463 between the buffer box 461 and the reservoir 420.

압력 제어 밸브(471)는 압력 제어기(461)와 버퍼 박스(465) 사이 구간에서 공압 라인(463)에 설치된다. 압력 제어 밸브(471)는 공압 라인(463)의 유로를 개폐하거나, 개방 정도를 조절할 수 있다. 압력 제어 밸브(471)는 서보 밸브(servo v/v)가 사용될 수 있다.A pressure control valve 471 is installed in the pneumatic line 463 in the interval between the pressure controller 461 and the buffer box 465. The pressure control valve 471 can open or close the flow path of the pneumatic line 463 or adjust the degree of opening. The pressure control valve 471 may be a servo valve (servo v / v).

필터(469)는 압력 감지기(461)와 압력 제어 밸브(471) 사이 구간에서 공압 라인(463)에 설치되며, 공압 라인(463)으로 역류하는 액정을 걸러낸다.The filter 469 is installed in the pneumatic line 463 in the interval between the pressure sensor 461 and the pressure control valve 471 and filters the liquid crystal flowing back to the pneumatic line 463.

밸브 제어부(473)는 액정의 역류 발생이 감지되는 경우, 액정이 압력 제어기(461) 측으로 흐르지 않도록 압력 제어 밸브(471)를 조절한다. 역류 감지 센서(467)에서 액정의 역류 흐름 발생이 감지되면, 감지 신호가 밸브 제어부(473)에 전달된다. 밸브 제어부(473)는 압력 제어 밸브(471)에 전기적 신호를 인가하여 압력 제어 밸브(471)를 닫힘(close) 상태로 전환시킨다. The valve control unit 473 adjusts the pressure control valve 471 so that the liquid crystal does not flow to the pressure controller 461 side when the backflow of liquid crystal is detected. When the backflow sensor 467 detects the occurrence of the backflow of the liquid crystal, the detection signal is transmitted to the valve controller 473. The valve control unit 473 applies an electrical signal to the pressure control valve 471 to switch the pressure control valve 471 to the close state.

액정 공급 유닛(600)에서 레저버 공간(421)으로 액정 공급시, 레저버(420) 내부에는 압력 변화와 수위 변동에 따른 파동이 발생하며, 이로 인해 공압 라인(463) 내부로 액정이 역류하는 현상이 빈번하게 발생한다. 역류하는 액정은 공압 라인(463)을 따라 버퍼 박스(465)로 유입된다. 액정은 버퍼 공간을 충분히 채운 후 압력 제어기(461) 측으로 역류하며, 이 과정에서 압력 제어기(461) 측으로 액정의 이동 시간이 증가한다. 액정이 버퍼 공간을 채우는 동안, 역류 감지 센서(467)는 액정의 역류를 감지한다. 버퍼 공간은 공압 라인(463)의 유로보다 단위 길이당 부피가 크므로, 역류 감지 센서(467)가 액정의 역류를 감지할 수 있는 시간이 충분히 확보된다.When the liquid crystal is supplied from the liquid crystal supply unit 600 to the reservoir space 421, a fluctuation occurs in the reservoir 420 due to a pressure change and a water level fluctuation, thereby causing liquid crystals to flow back into the pneumatic line 463 The phenomenon occurs frequently. The countercurrent liquid crystal flows into the buffer box 465 along the pneumatic line 463. After the liquid crystal sufficiently fills the buffer space, the liquid crystal flows back to the pressure controller 461 side. In this process, the liquid crystal movement time increases toward the pressure controller 461 side. While the liquid crystal fills the buffer space, the backflow sensor 467 detects the back flow of the liquid crystal. Since the buffer space is larger in volume per unit length than the flow path of the pneumatic line 463, a sufficient time is taken for the backflow sensor 467 to sense the back flow of the liquid crystal.

역류 감지 센서(467)에서 액정의 역류가 감지되면, 압력 제어 밸브(471)에 전기적 신호가 인가되며, 압력 제어 밸브(471)가 공압 라인(463)을 차단한다. 버퍼 공간으로 인해 역류하는 액정이 압력 제어기(461)에 도달하기 전에 공압 라인(463)이 차단된다. 따라서, 액정의 역류로 인한 압력 제어기(461)의 손상이 예방될 수 있다.
When the backflow of the liquid crystal is detected in the backflow sensor 467, an electrical signal is applied to the pressure control valve 471, and the pressure control valve 471 blocks the pneumatic line 463. The pneumatic line 463 is blocked before the liquid crystal that flows back due to the buffer space reaches the pressure controller 461. [ Therefore, damage of the pressure controller 461 due to backflow of the liquid crystal can be prevented.

도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 잉크젯 헤드 유닛에 연결된 액정 공급 부와 압력 제어 유닛을 나타내는 도면이다.12 is a view showing a liquid crystal supply unit and a pressure control unit connected to an inkjet head unit according to another embodiment of the present invention.

도 12을 참조하면, 압력 제어 유닛(460a)은 바이 패스 라인(475)를 더 포함한다. 바이 패스 라인(475)은 압력 제어 밸브(471a)와 연결되며, 공압 라인(463)의 유로에서 분기된다. 압력 제어 밸브(471a)는 삼방 밸브(three-way valve)가 사용된다. 삼방 밸브(471a)는 압력 제어기(461) 측으로 공압 라인(463)의 유로를 개방하거나, 압력 제어기(461) 측으로 공압 라인(463)의 유로를 폐쇄하고 바이 패스 라인(475) 측으로 유로를 개방할 수 있다.Referring to FIG. 12, the pressure control unit 460a further includes a bypass line 475. The bypass line 475 is connected to the pressure control valve 471a and branches from the flow path of the pneumatic line 463. A three-way valve is used as the pressure control valve 471a. Way valve 471a opens the flow path of the pneumatic line 463 to the pressure controller 461 side or closes the flow path of the pneumatic line 463 to the pressure controller 461 side and opens the flow path to the bypass line 475 side .

정상 구동 시, 압력 제어 밸브(471a)는 압력 제어기(461) 측으로 공압 라인(463)의 유로를 개방하여 레저버(420)의 내압을 조절한다. In normal operation, the pressure control valve 471a opens the flow path of the pneumatic line 463 to the pressure controller 461 side to regulate the internal pressure of the reservoir 420.

역류 감지 센서(467)에서 액정의 역류가 감지되는 경우, 압력 제어 밸브(471a)는 압력 제어기(461) 측으로 공압 라인(463)의 유로를 폐쇄하고 바이 패스 라인(473) 측으로 유로를 개방한다. 버퍼 박스(465)로 인해 액정의 역류를 감지하고, 압력 제어 밸브(471a)를 제어할 수 있는 시간이 충분히 확보된다. 이로 인해 역류하는 액정은 바이 패스 라인(475)을 통해 외부로 배출되며, 압력 제어기(461) 측으로 흐르지 않는다.
The pressure control valve 471a closes the flow path of the pneumatic line 463 to the side of the pressure controller 461 and opens the flow path to the side of the bypass line 473 when the reverse flow detection sensor 467 detects the back flow of the liquid crystal. The buffer box 465 senses the back flow of the liquid crystal and a sufficient time for controlling the pressure control valve 471a is secured. Due to this, the liquid crystal flowing backward is discharged to the outside through the bypass line 475, and does not flow toward the pressure controller 461 side.

도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 잉크젯 헤드 유닛에 연결된 액정 공급 부와 압력 제어 유닛을 나타내는 도면이다.13 is a view illustrating a liquid crystal supply unit and a pressure control unit connected to an inkjet head unit according to another embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 압력 제어 유닛(460b)은 바이 패스 라인(477)과 배출 밸브(479)를 더 포함한다. 바이 패스 라인(477)은 버퍼 박스(465)와 직접 연결된다. 배출 밸브(479)는 바이 패스 라인(477)에 설치되며, 바이 패스 라인(477)을 개폐한다.Referring to Fig. 13, the pressure control unit 460b further includes a bypass line 477 and a discharge valve 479. Fig. The bypass line 477 is directly connected to the buffer box 465. The discharge valve 479 is installed in the bypass line 477 and opens and closes the bypass line 477.

밸브 제어기(473)는 압력 제어 밸브(469)와 배출 밸브(479)를 각각 제어한다. 역류 감지 센서(467)에서 액정의 역류가 감지되는 경우, 밸브 제어기(473)는 압력 제어 밸브(469)를 닫힘 상태로, 배출 밸브(479)를 열림 상태로 전환한다. 버퍼 박스(465)로 제공으로 액정의 역류를 감지하고, 압력 제어 밸브(469)와 배출 밸브(479)를 제어할 수 있는 시간이 충분히 확보된다. 역류하는 액정은 버퍼 박스(465)로 유입됨과 동시에 바이 패스 라인(477)을 통해 외부로 배출된다. 압력 제어기(461)와 버퍼 박스(465) 사이 구간으로 액정의 유입이 차단되므로, 액정 유인으로 인한 공압 라인(463)의 세정 작업 없이 공정을 재가동할 수 있다.
The valve controller 473 controls the pressure control valve 469 and the discharge valve 479, respectively. When the backflow of the liquid crystal is detected in the backflow sensor 467, the valve controller 473 switches the pressure control valve 469 to the closed state and the discharge valve 479 to the open state. It is provided to the buffer box 465 to sense the back flow of the liquid crystal and to secure enough time to control the pressure control valve 469 and the discharge valve 479. [ The liquid crystals flowing backward flow into the buffer box 465 and are simultaneously discharged to the outside through the bypass line 477. The flow of liquid crystal is blocked between the pressure controller 461 and the buffer box 465, so that the process can be restarted without cleaning the pneumatic line 463 due to the liquid crystal attraction.

도 14와 도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 잉크젯 헤드 유닛에 연결된 액정 공급 부와 압력 제어 유닛을 각각 나타내는 도면이다.FIGS. 14 and 15 are views respectively showing a liquid crystal supply unit and a pressure control unit connected to the inkjet head unit according to another embodiment of the present invention.

버퍼 박스(465a)는 도 14와 같이 레저버(420)에 인접하여 공압 라인(463)의 전단부에 제공될 수 있다. 이와 달리, 버퍼 박스(465b)는 도 15와 같이 압력 제어기(461)에 인접하여 공압 라인(463)의 후단에 제공될 수 있다. 이러한 버퍼 박스(465a, 465b)의 위치는 압력 제어 유닛(460c, 460d)의 유지 보수를 용이하게 한다.
The buffer box 465a may be provided at the front end of the pneumatic line 463 adjacent to the reservoir 420 as shown in Fig. Alternatively, the buffer box 465b may be provided at the rear end of the pneumatic line 463 adjacent to the pressure controller 461 as shown in Fig. The positions of the buffer boxes 465a and 465b facilitate the maintenance of the pressure control units 460c and 460d.

다시 도 2 및 도 3을 참조하면, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c) 마다 전부의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정 량을 측정한다. 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)의 액정 토출량 측정을 통해, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)의 노즐들(미도시)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)의 액정 토출량이 기준치를 벗어나면, 노즐들(미도시) 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다.2 and 3, the liquid crystal discharge amount measurement unit 800 measures the liquid crystal discharge amount of the inkjet head units 400a, 400b and 400c. Specifically, the liquid crystal discharge amount measurement unit 800 measures the amount of liquid crystal discharged from all of the nozzles (not shown) for each of the inkjet head units 400a, 400b and 400c. The presence or absence of abnormality in the nozzles (not shown) of the inkjet head units 400a, 400b and 400c can be confirmed macroscopically by measuring the liquid crystal discharge amount of the inkjet head units 400a, 400b and 400c. That is, when the liquid crystal discharge amount of the inkjet head units 400a, 400b, 400c is out of the reference value, it is found that at least one of the nozzles (not shown) is abnormal.

잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 액정 토출량 측정 유닛(800)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)과 액정 토출량 측정유닛(800)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.The inkjet head units 400a, 400b and 400c are moved in the first direction I and the second direction II by the gantry moving unit 300 and the head moving unit 500 to move the liquid crystal discharge amount measuring unit 800 As shown in FIG. The head moving unit 500 moves the inkjet head units 400a, 400b and 400c in the third direction III to move the inkjet head units 400a, 400b and 400c and the liquid crystal discharge volume measuring unit 800 in the vertical direction Can be adjusted.

노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다. The nozzle inspection unit 900 confirms whether or not the individual nozzles provided to the inkjet head units 400a, 400b and 400c are abnormal through the optical inspection. When the abnormality of the macroscopic nozzle is checked by the liquid crystal discharge quantity measurement unit 800 and it is judged that there is an abnormality in the unspecified nozzle, the nozzle inspection unit 900 checks the existence of abnormality of the individual nozzle, .

노즐 검사 유닛(900)은 베이스(B) 상의 기판 지지 유닛(100) 일측에 배치될 수 있다. 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 노즐 검사 유닛(900)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드들(410,420,430)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)과 노즐 검사 유닛(900)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.The nozzle inspection unit 900 may be disposed on one side of the substrate supporting unit 100 on the base B. [ The inkjet head units 400a, 400b and 400c are moved in the first direction I and the second direction II by the gantry moving unit 300 and the head moving unit 500, Lt; / RTI > The head moving unit 500 can move the heads 410, 420 and 430 in the third direction III to adjust the vertical distance between the inkjet head units 400a, 400b and 400c and the nozzle inspection unit 900. [

헤드 세정 유닛(1000)은 퍼징(Purging) 공정과 흡입(Suction) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정은 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)의 내부에 수용된 액정의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 흡입(Suction) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 제거하는 공정이다.
The head cleaning unit 1000 performs a purging process and a suction process. The purging process is a process in which a part of the liquid crystal accommodated in the inkjet head units 400a, 400b and 400c is injected at a high pressure. The suction process is a process of sucking and removing residual liquid crystal on the nozzle surface of the inkjet head units 400a, 400b, and 400c after the purging process.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

B: 베이스 100: 기판 지지 유닛
200: 갠트리 300: 갠트리 이동 유닛
400: 잉크젯 헤드 유닛 412: 몸체
420: 레저버 430: 센서
440: 헤드 460: 압력 제어 유닛
461: 압력 제어기 463: 공압 라인
465: 버퍼 박스 467: 역류 감지 센서
471: 압력 제어 밸브 473: 밸브 제어부
500: 잉크젯 이동 유닛 600: 액정 공급 유닛
672: 액정 공급원 674: 가압 부재
675: 액정 공급라인
B: Base 100: Substrate supporting unit
200: Gantry 300: Gantry moving unit
400: inkjet head unit 412: body
420: Lever 430: Sensor
440: Head 460: Pressure control unit
461: pressure controller 463: pneumatic line
465: Buffer box 467: Reverse flow sensor
471: Pressure control valve 473: Valve control part
500: inkjet mobile unit 600: liquid crystal supply unit
672: liquid crystal source 674:
675: liquid crystal supply line

Claims (16)

잉크젯 방식으로 기판으로 약액을 토출하는 노즐들을 갖는 헤드;
내부에 약액을 저장하는 레저버 공간이 형성되며, 상기 헤드에 약액을 공급하는 레저버; 및
상기 레저버 공간의 압력을 제어하는 압력 제어 유닛을 포함하되,
상기 압력 제어 유닛은
압력 제어기;
상기 압력 제어기와 상기 레저버를 연결하는 공압 라인; 및
상기 공압 라인 상에 제공되며, 상기 공압 라인 내의 유로보다 큰 단면적을 갖는 버퍼 공간이 형성된 버퍼 박스를 포함하는 약액 토출 장치.
A head having nozzles for ejecting a chemical liquid onto a substrate by an inkjet method;
Wherein a reservoir space for storing a chemical solution is formed inside the reservoir, and a reservoir for supplying a chemical solution to the head; And
And a pressure control unit for controlling the pressure of the reservoir space,
The pressure control unit
Pressure controller;
A pneumatic line connecting the pressure controller and the reservoir; And
And a buffer box provided on the pneumatic line and having a buffer space having a cross-sectional area larger than that of the passage in the pneumatic line.
제 1 항에 있어서,
상기 버퍼 공간은 상기 공압 라인의 유로보다 단위 길이당 부피가 큰 약액 토출 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the buffer space has a larger volume per unit length than the flow path of the pneumatic line.
제 1 항에 있어서,
상기 압력 제어 유닛은
상기 압력 제어기 측으로 약액의 역류 발생을 감지하는 역류 감지 센서;
상기 압력 제어기와 상기 버퍼 박스 사이 구간에서 상기 공압 라인에 설치되는 압력 제어 밸브; 및
상기 역류 감지 센서에서 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 약액이 상기 압력 제어기 측으로 흐르지 않도록 상기 압력 제어 밸브를 조절하는 밸브 제어부를 포함하는 약액 토출 장치.
The method according to claim 1,
The pressure control unit
A backflow sensor for detecting the backflow of the chemical liquid to the pressure controller;
A pressure control valve installed in the pneumatic line in a section between the pressure controller and the buffer box; And
And a valve control unit for controlling the pressure control valve so that the chemical liquid does not flow to the pressure controller when the backflow sensor senses backflow of the chemical liquid.
제 3 항에 있어서,
상기 역류 감시 센서는 상기 버퍼 공간을 통해 상기 약액의 역류 발생을 감지하는 약액 토출 장치.
The method of claim 3,
Wherein the backflow monitoring sensor senses backflow of the chemical solution through the buffer space.
제 3 항에 있어서,
상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 압력 조절 밸브를 닫아 상기 공압 라인의 유로를 차단하는 약액 토출 장치.
The method of claim 3,
Wherein the valve control unit closes the pressure regulating valve to shut off the flow path of the pneumatic line when the backflow of the chemical liquid is sensed.
제 3 항에 있어서,
상기 압력 제어 밸브는 삼방 밸브이며,
상기 압력 제어 유닛은
상기 압력 제어 밸브와 연결되며, 상기 공압 라인의 유로에서 분기되는 바이 패스 라인을 더 포함하되,
상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 압력 제어기 측으로 약액의 흐름이 차단되고, 상기 바이 패스 라인 측으로 약액이 배출되도록 상기 압력 제어 밸브를 조절하는 약액 토출 장치.
The method of claim 3,
Wherein the pressure control valve is a three-way valve,
The pressure control unit
And a bypass line connected to the pressure control valve and branched from the flow path of the pneumatic line,
Wherein the valve control unit controls the pressure control valve so that the flow of the chemical liquid is shut off to the pressure controller when the backflow of the chemical liquid is detected and the chemical liquid is discharged to the bypass line side.
제 3 항에 있어서,
상기 압력 제어 유닛은
상기 버퍼 박스와 연결되며, 배출 밸브가 설치된 바이 패스 라인을 더 포함하되,
상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류가 감지되는 경우, 상기 배출 밸브를 개방시키는 약액 토출 장치.
The method of claim 3,
The pressure control unit
Further comprising a bypass line connected to the buffer box and having a discharge valve,
Wherein the valve control unit opens the discharge valve when the backflow of the chemical liquid is sensed.
제 3 항에 있어서,
상기 압력 제어 유닛은
상기 압력 제어기와 상기 압력 제어 밸브 사이 구간에서 상기 공압 라인에 설치되는 필터를 더 포함하는 약액 토출 장치.
The method of claim 3,
The pressure control unit
And a filter installed in the pneumatic line in a section between the pressure controller and the pressure control valve.
제 1 항에 있어서,
상기 버퍼 박스는 상기 레저버에 인접한 상기 공압 라인의 전단부에 제공되는 약액 토출 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the buffer box is provided at a front end of the pneumatic line adjacent to the reservoir.
제 1 항에 있어서,
상기 버퍼 박스는 상기 압력 제어기에 인접한 상기 공압 라인의 후단부에 제공되는 약액 토출 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the buffer box is provided at a rear end of the pneumatic line adjacent to the pressure controller.
기판이 놓이는 기판 지지 유닛;
상기 기판 지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 일 방향으로 이동가능한 갠트리;
상기 갠트리에 장착되며, 잉크젯 방식으로 상기 기판에 약액을 토출하는 노즐들을 갖는 복수의 헤드;
내부에 약액을 저장하는 레저버 공간이 형성되며, 상기 헤드에 약액을 공급하는 레저버; 및
상기 레저버 공간을 음압으로 유지시키는 압력 제어 유닛을 포함하되,
상기 압력 제어 유닛은
압력 제어기;
상기 압력 제어기와 상기 레저버를 연결하는 공압 라인; 및
상기 공압 라인 상에 제공되며, 상기 공압 라인 내의 유로보다 단위길이당 부피가 큰 버퍼 공간이 형성된 버퍼 박스를 포함하는 기판 처리 장치.
A substrate supporting unit on which a substrate is placed;
A gantry provided on a moving path of the substrate supporting unit and movable in one direction;
A plurality of heads mounted on the gantry and having nozzles for ejecting a chemical liquid onto the substrate by an inkjet method;
Wherein a reservoir space for storing a chemical solution is formed inside the reservoir, and a reservoir for supplying a chemical solution to the head; And
And a pressure control unit for maintaining the reservoir space at a negative pressure,
The pressure control unit
Pressure controller;
A pneumatic line connecting the pressure controller and the reservoir; And
And a buffer box provided on the pneumatic line and having a buffer space having a larger volume per unit length than the flow path in the pneumatic line.
제 11 항에 있어서,
상기 압력 제어 유닛은
상기 버퍼 공간을 통해 상기 압력 제어기 측으로 약액의 역류 발생을 감지하는 역류 감지 센서;
상기 압력 제어기와 상기 버퍼 박스 사이 구간에서 상기 공압 라인에 설치되는 압력 제어 밸브; 및
상기 역류 감지 센서에서 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 약액이 상기 압력 제어기 측으로 흐르지 않도록 상기 압력 제어 밸브를 조절하는 밸브 제어부를 포함하는 기판 처리 장치.
12. The method of claim 11,
The pressure control unit
A backflow sensor for detecting the backflow of the chemical liquid to the pressure controller through the buffer space;
A pressure control valve installed in the pneumatic line in a section between the pressure controller and the buffer box; And
And a valve control unit for adjusting the pressure control valve so that the chemical solution does not flow to the pressure controller when the backflow sensor detects the backflow of the chemical solution.
제 12 항에 있어서,
상기 압력 제어 밸브는 삼방 밸브이며,
상기 압력 제어 유닛은
상기 압력 제어 밸브와 연결되며, 상기 공압 라인의 유로에서 분기되는 바이 패스 라인을 더 포함하되,
상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류 발생이 감지되는 경우, 상기 압력 제어기 측으로 약액의 흐름이 차단되고, 상기 바이 패스 라인 측으로 약액이 배출되도록 상기 압력 제어 밸브를 조절하는 기판 처리 장치.
13. The method of claim 12,
Wherein the pressure control valve is a three-way valve,
The pressure control unit
And a bypass line connected to the pressure control valve and branched from the flow path of the pneumatic line,
Wherein the valve control unit controls the pressure control valve so that the flow of the chemical liquid is blocked to the pressure controller side and the chemical liquid is discharged to the bypass line side when the backflow of the chemical liquid is detected.
제 12 항에 있어서,
상기 압력 제어 유닛은
상기 버퍼 박스와 연결되며, 배출 밸브가 설치된 바이 패스 라인을 더 포함하되,
상기 밸브 제어부는 상기 약액의 역류가 감지되는 경우, 상기 배출 밸브를 개방시키는 기판 처리 장치.
13. The method of claim 12,
The pressure control unit
Further comprising a bypass line connected to the buffer box and having a discharge valve,
Wherein the valve control unit opens the discharge valve when the backflow of the chemical liquid is sensed.
제 11 항에 잇어서,
상기 버퍼 박스는 상기 레저버에 인접한 상기 공압 라인의 전단부에 제공되는 기판 처리 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the buffer box is provided at a front end of the pneumatic line adjacent to the reservoir.
제 11 항에 있어서,
상기 버퍼 박스는 상기 압력 제어기에 인접한 상기 공압 라인의 후단부에 제공되는 기판 처리 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the buffer box is provided at a rear end of the pneumatic line adjacent to the pressure controller.
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