KR20110062886A - Particle removal device for a laser processing apparatus and laser processing apparatus haivng the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 레이저 가공장비의 파티클 제거장치 및 이를 구비한 레이저 가공장비에 관한 것으로, 레이저를 이용하여 가공대상물을 가공할 때 발생하여 비산하는 파티클을 흡입 제거하거나 적어도 최소화하여 가공 효율을 향상시키고, 파티클 제거 또는 세정 공정 등의 후속 공정을 생략하거나 간소화할 수 있도록 한 레이저 가공장비의 파티클 제거장치 및 이를 구비한 레이저 가공장비에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for removing particles of a laser processing apparatus and a laser processing apparatus having the same, to improve processing efficiency by suction-removing or at least minimizing particles generated and scattered when processing an object by using a laser, and particle processing. The present invention relates to a particle removing apparatus of a laser processing apparatus and a laser processing apparatus having the same, so as to omit or simplify subsequent processes such as a removal or cleaning process.
최근 반도체 산업은 많은 발전을 해오고 있고, 이에 따라 레이저를 이용하여 반도체 재료기판, 압전 재료기판이나 유리기판 등의 기재(substrate)를 절단, 스크라이빙, 또는 패터닝 등의 가공 기술에 있어서도 많은 발전이 이루어지고 있다.Recently, the semiconductor industry has developed a lot, and accordingly, many developments have been made in processing technologies such as cutting, scribing, or patterning substrates such as semiconductor material substrates, piezoelectric material substrates, and glass substrates using lasers. This is being done.
일반적으로 메모리 반도체 소자의 집적도가 증가함에 따라 디바이스(device)에 영향을 주는 요인들이 발생하는데, 그 대표적인 장애 요인으로는 레이저 가공시 발생하는 파티클(particle)을 예로 들 수 있다.In general, as the degree of integration of a memory semiconductor device increases, factors affecting a device occur. A representative obstacle factor is a particle generated during laser processing.
이러한 파티클 중에서도 종류에 따라서 디바이스에 영향을 미치는 것과 그렇지 않은 것이 있다. 특히 반도체 제조 공정 중 기재의 절단, 스크리이빙과 같은 가공에 의해 발생하는 파티클은 제품 자체에 손상을 주거나, 제품 수율에 악영향을 미치게 된다.Some of these particles affect the device depending on the type, and others do not. Particularly, particles generated by processing such as cutting and scrubbing of the substrate during the semiconductor manufacturing process may damage the product itself or adversely affect the product yield.
따라서, 이러한 레이저가공에 의해서 발생하는 파티클의 제거는 반드시 후속되는 제거공정 또는 세정공정이 따라야만 한다. 이러한 파티클을 제거하기 위해 사용되고 있는 방법으로서는 수세방식, 블로잉(blowing) 방식 또는 스크러버를 이용하는 방식이 있다.Therefore, the removal of particles generated by such laser processing must be followed by a subsequent removal or cleaning process. As a method used to remove such particles, there are a washing method, a blowing method, or a method using a scrubber.
먼저 수세방식은 기재를 조(bath)에 넣은 후, 조의 하부로부터 탈이온수(deionized water)를 공급하여 기재 표면을 세정한 탈이온수가 조를 넘쳐 흐르게 하는 방식을 말한다. 이와 같은 수세 방식은 웨이퍼 표면에 직접적으로 어떠한 물리적인 힘을 가하지 않는 장점이 있으나, 기재 표면에 물리 화학적으로 고착된 파티클을 완전히 제거하기 어려운 문제점이 있다.First, the washing method refers to a method in which the deionized water, which cleans the surface of the substrate by flowing deionized water from the bottom of the bath, is poured into the bath after the substrate is placed in a bath. Such a washing method has an advantage of not applying any physical force directly to the wafer surface, but it is difficult to completely remove particles physically and chemically fixed to the substrate surface.
다음으로 스크러버를 이용하는 방식에서는, 브러쉬를 이용하여 기재 표면을 중심 방향에서 바깥 방향으로 쓸어내는 동작을 하면서 기재의 표면을 세정한다. 그러나 이러한 방법은 브러쉬와 기재 간의 간격의 조정이 잘못될 경우 상호 마찰에 의한 미세한 긁힘이나 이로 인해 또 다른 파티클을 유발하는 문제점이 있다. 또한 이러한 방식에서도 상기한 방식들에서와 마찬가지로, 기재 표면에 물리 화학적으로 고착된 파티클에 대해서는 완전히 제거하지 못하는 문제점이 있다.Next, in the method using a scrubber, the surface of the substrate is cleaned while sweeping the substrate surface from the center direction to the outside using a brush. However, this method has a problem that when the adjustment of the distance between the brush and the substrate is incorrectly caused fine scratches due to mutual friction or thereby another particle. Also in this manner, as in the above-described manners, there is a problem in that the particles that are physically and chemically fixed to the substrate surface cannot be completely removed.
한편, 본 발명과 관련되는 블로잉 방식을 도 1을 참조하여 설명한다. 도 1은 가공시 발생하는 파티클을 가공대상물로부터 블로잉시켜 파티클을 제거하는 블로잉 방식의 레이저 가공장비를 개략적으로 나타내는 구성도이다.On the other hand, the blowing method according to the present invention will be described with reference to FIG. 1 is a block diagram schematically illustrating a blowing type laser processing apparatus that removes particles by blowing particles generated during processing from an object to be processed.
도 1에 나타낸 바와 같이, 레이저 가공장비의 파티클 제거 구성은 스테이지(1)에 위치된 가공대상물(2)에서 레이저(3)에 의해 발생한 파티클(4)을 레이저 헤드(10)와 별개로 구비된 고압발생장치(5)로부터 공급되는 고압의 토출 공기(6)를 이용하여 가공 대상물(2)의 표면으로부터 제거하도록 구성된다.As shown in FIG. 1, the particle removal configuration of the laser processing equipment includes a particle 4 generated by the
그러나 이와 같은 블로잉 방식에 의한 파티클 제거에 있어서, 토출 공기를 이용하여 파티클이 비산되는 과정에서 가공대상물(기재) 표면의 다른 부분, 특히 반도체 소자로 떨어질 가능성이 있는 문제가 있으며, 상기한 수세 방식에서와 같이 가공대상물 표면에 물리 화학적으로 고착된 파티클에 대해서는 완전히 불어내지 못하는 문제점이 있다.However, in the particle removal by the blowing method, there is a problem that the particles may fall into other parts of the surface of the workpiece (substrate), in particular the semiconductor element in the process of scattering the particles by using the discharge air, in the above water washing method As described above, there is a problem in that the particles that are physically and chemically fixed to the surface of the workpiece cannot be blown out completely.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 레이저를 이용하여 가공대상물을 가공할 때 비산하는 파티클을 비산 과정에서 즉시 흡입 제거하거나 적어도 최소화하고, 또한 가공대상물로 다시 침작되어 고착되는 파티클을 최소화함으로써 가공대상물의 가공 효율을 향상시키는 레이저 가공장비의 파티클 제거장치 및 이를 구비한 레이저 가공장비를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed in order to solve the above-mentioned conventional problems, and the particles which are scattered when the workpiece is processed using a laser are immediately sucked off or at least minimized during the scattering process, and are again deposited and fixed to the workpiece. An object of the present invention is to provide a particle removing device of a laser processing device and a laser processing device having the same, which minimizes particles and improves processing efficiency of a processing object.
또한, 본 발명은 가공시 발생하는 파티클을 비산 과정에서 제거하거나 최소화하여, 파티클 제거 공정 또는 세정 공정 등의 후속 공정을 생략하거나 간소화할 수 있도록 한 가공장비의 파티클 제거장치 및 이를 구비한 레이저 가공장비를 제공하는데 다른 목적이 있다.In addition, the present invention is to remove or minimize the particles generated during processing in the scattering process, to remove or simplify the subsequent process, such as particle removal process or cleaning process particle removal device of the processing equipment and laser processing equipment having the same There is another purpose to provide.
또한, 본 발명은 가공시 발생하는 파티클을 비산 과정에서 제거하거나 최소화함과 동시에, 그 가공대상물의 가공 영역에서 다른 영역으로 튀는 것을 방지하여 가공 효율을 더욱 극대화할 수 있는 레이저 가공장비의 파티클 제거장치 및 이를 구비한 레이저 가공장비를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.In addition, the present invention removes or minimizes the particles generated during processing in the process of scattering, and at the same time prevent the particles from processing in the processing area of the processing object to remove the particle of the laser processing equipment that can further maximize the processing efficiency And another object to provide a laser processing equipment having the same.
상기 목적들을 달성하기 위한 제1 관점에 따른 본 발명은, 레이저 장비에서 가공대상물의 레이저 가공중 발생하는 파티클을 제거하는 장치로서, 레이저빔을 가공대상물로 안내하는 레이저빔 헤드를 포함하며, 상기 레이저빔 헤드는 가공대상물 에 대한 레이저빔 조사방향 측으로 고압공기를 토출하도록 안내하는 하나 이상의 고압공기 토출통로; 및 상기 고압공기 토출통로보다 외측에 형성되고, 공기를 흡인하도록 안내하는 하나 이상의 흡인통로를 구비하는 레이저 장비의 파티클 제거장치를 제공한다.According to a first aspect of the present invention, an apparatus for removing particles generated during laser processing of a workpiece in laser equipment includes a laser beam head for guiding a laser beam to a workpiece. The beam head may include at least one high pressure air discharge passage guiding discharge of the high pressure air toward the laser beam irradiation direction to the object to be processed; And at least one suction passage formed outside the high pressure air discharge passage and configured to guide air to be sucked.
본 발명의 제2 관점에 따르면, 레이저 장비에서 가공대상물의 레이저 가공중 발생하는 파티클을 제거하는 장치로서, 레이저빔을 가공대상물로 안내하는 레이저빔 헤드를 포함하며, 상기 레이저빔 헤드는 레이저빔 조사 통로를 통해 고압공기를 토출하도록 안내하는 고압공기 토출통로; 및 상기 고압공기 토출통로보다 외측에 형성되고, 공기를 흡인하도록 안내하는 하나 이상의 흡인통로를 구비하는 레이저 장비의 파티클 제거장치를 제공한다.According to a second aspect of the present invention, an apparatus for removing particles generated during laser processing of a workpiece in laser equipment, comprising a laser beam head for guiding a laser beam to the workpiece, wherein the laser beam head is irradiated with a laser beam. A high pressure air discharge passage guiding discharge of the high pressure air through the passage; And at least one suction passage formed outside the high pressure air discharge passage and configured to guide air to be sucked.
본 발명의 제3 관점에 따르면, 레이저빔을 발생시키는 레이저빔 발생원; 상기 레이저빔 발생원으로부터 레이저를 가공대상물에 조사하는 광학계; 상기한 제1관점 또는 제2 관점에 따른 파티클 제거장치; 상기 고압공기 토출통로로 고압공기를 제공하기 위한 고압공기 공급장치; 및 상기 흡인통로를 통해 공기를 흡인하는 공기흡입장치를 포함하는 레이저 가공장비를 제공한다.According to a third aspect of the present invention, there is provided a laser beam generator for generating a laser beam; An optical system for irradiating a laser beam to a workpiece from the laser beam generation source; A particle removing device according to the first aspect or the second aspect; A high pressure air supply device for providing high pressure air to the high pressure air discharge passage; And it provides a laser processing equipment comprising an air suction device for sucking air through the suction passage.
상기 흡인 통로의 단부는 상기 고압공기 토출통로의 단부보다 가공대상물 측으로 연장되어 단차를 갖도록 구성되거나, 상기 고압공기 토출통로와 흡인 통로의 포트들은 조사되는 레이저빔을 중심으로 외측으로 갈수록 가공대상물에 근접하게 형성되도록 구성되는 것이 바람직하다.The end of the suction passage is configured to have a step extending from the end of the high-pressure air discharge passage to the object to be processed, or the ports of the high-pressure air discharge passage and the suction passage are closer to the object toward the outside toward the laser beam to be irradiated It is preferably configured to be formed.
상기 고압공기 토출통로 및 흡인 통로는 가공대상물 측으로 갈수록 가공지점 에 대하여 수렴되게 구성되는 것이 바람직하다.The high-pressure air discharge passage and the suction passage is preferably configured to converge toward the processing point toward the processing target side.
상기 레이저 헤드의 최외측에는 보조공기 토출통로가 더 형성될 수 있다.An auxiliary air discharge passage may be further formed at the outermost side of the laser head.
상기와 같은 본 발명의 레이저 가공장비 파티클 제거장치에 따르면, 가공대상물을 가공할 때 비산하는 파티클을 비산 과정에서 바로 흡입 제거하거나 적어도 최소화함으로써 가공대상물의 가공 효율을 향상시키며, 그 가공대상물의 가공 영역에서 다른 영역으로 튀는 것을 방지하여 가공 효율을 더욱 극대화할 수 있는 효과가 있다.According to the laser processing equipment particle removing device of the present invention as described above, by removing or at least minimize the particles scattered when processing the workpiece during the scattering process to improve the processing efficiency of the object, the processing area of the object It is effective to maximize the processing efficiency by preventing splashing to another area in the.
또한 본 발명에 따르면, 가공시 발생하는 파티클을 비산 과정에서 제거하거나 최소화하여, 파티클 제거 공정 또는 세정 공정 등의 후속 공정을 생략하거나 간소화할 수 있어 전체 공정 속도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, by removing or minimizing the particles generated during processing in the scattering process, it is possible to omit or simplify the subsequent process, such as particle removal process or cleaning process has the effect of improving the overall process speed.
본 발명의 추가적인 목적들, 특징들 및 장점들은 다음의 상세한 설명 및 첨부도면으로부터 보다 명료하게 이해될 수 있다. Further objects, features and advantages of the present invention can be more clearly understood from the following detailed description and the accompanying drawings.
본 발명에 따른 파티클 제거장치를 구비한 레이저 가공장비는, 레이저빔을 발생시키는 레이저빔 발생원; 상기 레이저빔 발생원으로부터 레이저를 가공대상물에 조사하는 광학계; 상기 광학계를 구성하는 포커싱 부재를 수용하며, 레이저빔을 가공대상물로 안내하는 레이저빔 헤드; 상기 레이저빔 헤드에 형성되며, 레이저빔 조사방향으로 고압공기를 토출하도록 안내하는 고압공기 토출통로; 상기 고압공기 토출통로 외측의 레이저빔 헤드에 형성되며, 공기를 흡인하도록 안내하는 흡인통로; 상기 고압공기 토출통로로 고압공기를 제공하기 위한 고압공기 공급장치; 및 상기 흡인통로를 통해 공기를 흡인하는 공기흡입장치를 포함한다. 여기에서, 상기 고압공기 토출통로는 하나 이상 형성되고, 상기 흡인 통로도 하나 이상 형성될 수 있다.Laser processing equipment having a particle removing device according to the present invention, the laser beam generating source for generating a laser beam; An optical system for irradiating a laser beam to a workpiece from the laser beam generation source; A laser beam head accommodating a focusing member constituting the optical system and guiding a laser beam to a workpiece; A high pressure air discharge passage formed in the laser beam head and configured to guide high pressure air in a laser beam irradiation direction; A suction passage formed in the laser beam head outside the high pressure air discharge passage and configured to guide air to be sucked; A high pressure air supply device for providing high pressure air to the high pressure air discharge passage; And an air suction device for sucking air through the suction passage. Here, at least one high pressure air discharge passage may be formed, and at least one suction passage may be formed.
상기 흡인 통로를 형성하는 외벽 단부는 고압공기 토출통로를 형성하는 벽의 단부보다 가공대상물 측으로 돌출하는 것을 특징으로 한다.The outer wall end forming the suction passage is characterized in that it protrudes toward the workpiece rather than the end of the wall forming the high-pressure air discharge passage.
또한, 상기 고압공기 토출통로 중 적어도 하나는 레이저빔이 조사되는 통로를 통해 토출되는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 고압공기 토출통로 중 적어도 하나는 흡인통로가 형성된 위치보다 외측의 레이저 헤드에 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, at least one of the high-pressure air discharge passage is characterized in that the discharge through the passage to which the laser beam is irradiated. In addition, at least one of the high-pressure air discharge passage is characterized in that formed on the laser head outside the position where the suction passage is formed.
이하, 본 발명에 따른 레이저 가공장비의 파티클 제어장치에 대한 구체적인 실시 예를 첨부도면을 참조하여 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 파티클 제어장치를 구비하는 레이저 가공장비를 개략적으로 나타내는 구성도이다.Hereinafter, a specific embodiment of a particle control device of a laser processing apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Figure 2 is a schematic diagram showing a laser processing apparatus having a particle control apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 레이저 장비의 파티클 제거장치(100)는, 레이저빔을 발생시키는 레이저빔 발생원(110)과 상기 레이저빔 발생원(110)으로부터 레이저를 가공대상물에 조사하는 광학계를 포함하는 레이저 장비에서, 상기 광학계를 구성하는 포커싱 부재(210)를 수용하며, 레이저빔을 가공대상물로 안내하는 레이저빔 헤드(200)를 포함하되, 상기 레이저빔 헤드(200) 에 형성되며, 레이저빔 조사방향으로 고압공기를 토출(실선 화살표 참조)하도록 안내하는 하나 이상의 고압공기 토출통로(220); 상기 고압공기 토출통로(220) 외측(즉, 레이저빔이 조사되는 조사라인을 중심으로 반경방향 외측)의 레이저빔 헤드(200)에 형성되며, 공기를 흡인(점선 화살표 참조)하도록 안내하는 하나 이상의 흡인통로(230)를 구비한다. As shown in FIG. 2, the
또한, 본 실시 예의 파티클 제거장치(100)는 흡인통로(230)가 형성된 위치보다 외측의 레이저 헤드(200)에 보조공기 토출통로(미도시)가 더 형성될 수 있다. 이러한 보조공기 토출통로의 구성에 대해서는 후술하는 다른 실시 예의 파티클 제거장치에서 상세히 설명되므로, 여기에서는 이에 대한 설명은 생략한다. 도 2에서 미설명부호 250은 보호 미러(protect mirror)이다. In addition, in the
본 발명의 파티클 제거장치(100)는 상기 고압공기 토출통로(220)와 연결되고, 레이저빔 헤드(200) 외측에 구비되는 고압공기 공급장치(300)를 통해 그 토출통로(220)로 고압공기를 제공한다.
또한, 본 발명의 파티클 제거장치(100)는 상기 흡인통로(230)와 연결되고, 레이저빔 헤드(200) 외측에 구비되는 공기흡입장치(400)를 통해 그 흡인통로(230)로 가공 시 고압공기에 의해 비산하는 파티클을 함께 흡인할 수 있도록 흡인통로(230)에 흡입력을 제공한다.In addition, the
도면에서는 도시의 간략화를 위하여 고압공기 토출통로(220)와 흡인통로(230)를 정면으로 바라볼 때, 2개로 나타나 있지만 상기 고압공기 토출통로(220) 및 흡인통로(230)를 하나 이상, 바람직하게는 복수로 형성하는 것은 가공 시 발생 하는 파티클의 비산 정도를 증대시키고, 그 복수의 흡인통로를 통해 다량의 파티클이 빠져나갈 수 있도록 하여 파티클 제거 정도를 증대시키고, 파티클 잔존량을 최소화할 수 있다.In the drawing, when the high pressure
또한, 본 발명의 파티클 제거장치(100)는 상기 흡인 통로(230)를 형성하는 벽 단부(흡인 통로의 단부 또는 포트)(231)가 고압공기 토출통로(220)를 형성하는 벽의 단부(토출통로의 단부 또는 포트)(221)보다 하방향으로 연장되는 단차(△t)를 갖도록 고압공기 토출통로(220)의 벽 단부(221)보다 가공대상물 측으로 돌출되도록 형성된다.In addition, the
이러한 구성의 다른 실시 형태에서, 본 발명의 파티클 제거장치에서 상기 고압공기 토출통로(220)와 흡인 통로(230)의 포트들은 조사되는 레이저빔을 중심으로 외측으로 갈수록 가공대상물에 근접하게 형성되도록 구성된다.In another embodiment of the configuration, in the particle removal device of the present invention, the ports of the high-pressure
이와 같은 구성은 가공대상물의 가공시 발생하는 파티클을 고압공기 토출통로(220) 및 흡인통로(230)를 통해 토출 및 흡인하는 과정에서 가공대상 영역(A)은 압력이 낮은 반면, 그 외측(A1)은 가공대상 영역(A)에 비하여 상대적으로 압력이 높다. 따라서, 가공 영역(A)에서 발생한 파티클이 가공 대상 외 영역(다른 영역)(A1)으로 나가는 것을 방지할 수 있는 효과와 더불어, 흡인 통로(230)를 형성하는 외벽 단부(231)가 고압공기 토출통로(220)를 형성하는 벽의 단부(221)보다 가공대상물 측으로 더 돌출되어 형성되기 때문에, 파티클이 그 가공대상물의 가공 영역(A)에서 다른 영역(A1)으로 비산되거나 튀는 것을 방지하여 가공 효율을 더욱 극대화할 수 있다.Such a configuration allows the processing target area A to have a low pressure in the process of discharging and sucking particles generated during processing of the processing object through the high-pressure
한편, 도 2에서 고압공기 토출통로(220) 및 흡인 통로(230)는 각각 대칭되게 별개로 형성된 것으로 도시되어 있지만, 도면에서와 같이 각각 별개로 형성될 수 있지만, 헤드 내에서 고압공기 토출통로끼리 및 흡인 통로끼리 서로 연통되게 형성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, although the high pressure
다시 말해서, 도 3은 레이저 헤드(200)에 형성되는 고압공기 토출통로와 흡인 통로가 형성되는 일 형태를 나타내는 레이저 헤드 평면도로서, 도 3에 나타낸 바와 같이 고압공기 토출통로(220)는 평면에서 바라본 경우, 가공대상물 방향으로 갈수록 수렴되는 형태(대략 단면 원추형 형태)(도 3에서 이점 쇄선으로 도시됨)를 가지며 일측에서 레이저 헤드(200) 외측으로 연통되고, 흡인 통로(230) 또한 평면에서 바라본 경우, 가공대상물 방향으로 갈수록 수렴되는 형태(대략 단면 원추형 형태)(도 3에서 평면으로부터 본 경우 점선으로 도시됨)을 갖고 레이저 헤드(200) 외측으로 연통된다.In other words, FIG. 3 is a plan view of a laser head showing a form in which the high pressure air discharge passage and the suction passage formed in the
상기한 바와 같이 구성되는 파티클 제거장치는 레이저 가공장비에 채용된다.The particle removing device configured as described above is employed in laser processing equipment.
다음으로, 도 4를 참조하여 본 발명의 다른 실시 예에 따른 파티클 제거장치를 설명한다. 도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 파티클 제거장치를 구비하는 레이저 가공장비를 개략적으로 나타낸 구성도이다. 앞서 설명한 일 실시 예와 동일한 구성요소에 대해서는 동일 부호를 부여하며, 그에 대한 상세한 설명은 간략하게 하거나 생략한다.Next, a particle removal apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4. Figure 4 is a schematic diagram showing a laser processing apparatus having a particle removal apparatus according to another embodiment of the present invention. Like reference numerals denote the same elements as in the above-described exemplary embodiment, and a detailed description thereof will be briefly or omitted.
도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 파티클 제거장치(500)는 레이저빔을 발생시키는 레이저빔 발생원(110)과 상기 레이저빔 발생 원(110)으로부터 레이저를 가공대상물에 조사하는 광학계를 포함하는 레이저 장비에서, 상기 광학계를 구성하는 포커싱 부재(210)를 수용하며, 레이저빔을 가공대상물로 안내하는 레이저빔 헤드(200)를 포함하되, 상기 레이저빔 헤드(200)에 형성되며, 레이저빔 조사 통로를 통해 고압공기를 토출하도록 안내하는 하나 이상의 고압공기 토출통로(510); 상기 고압공기 토출통로(510) 외측(즉, 레이저빔이 조사되는 조사라인을 중심으로 반경방향 외측)의 레이저빔 헤드(200)에 형성되며, 공기를 흡인하도록 안내하는 하나 이상의 흡인통로(520)를 구비한다.As shown in FIG. 4, the
또한, 상기 실시 예의 파티클 제거장치(500)는 흡인통로(520)가 형성된 위치보다 외측의 레이저 헤드(200)에 보조 공기토출통로(530)가 더 형성될 수 있다.In addition, in the
본 발명의 파티클 제거장치(500) 또한 앞서 설명한 일 실시 예와 같이 고압공기 토출통로(510)와 연결되고, 레이저빔 헤드(200) 외측에 구비되는 고압공기 공급장치(미도시)를 통해 그 토출통로(510)로 고압공기를 제공하며, 상기 흡인통로(520)와 연결되고, 레이저빔 헤드(200) 외측에 구비되는 공기흡입장치(미도시)를 통해 그 흡인통로(520)로 가공 시 고압공기에 의해 비산하는 파티클을 함께 흡인할 수 있도록 흡인통로(520)에 흡입력을 제공한다.The
도면에서는 도시의 간략화를 위하여 흡인 통로(520)와 보조공기 토출통로(530)를 정면에서 바라볼 때, 4개의 흡인 통로(520)와 2개의 보조공기 토출통로(530)로 나타나 있지만, 앞서 설명한 바와 같이 도 3의 형태로 구성될 수 있다.In the drawing, when the
또한, 본 발명의 파티클 제거장치(500)는 고압공기 토출통로(510). 흡인 통로(520) 및/또는 보조공기 토출통로(530)의 포트들은 조사되는 레이저빔을 중심으 로 외측으로 갈수록 가공대상물에 대하여 근접하게 형성되도록 구성된다. 이와 같이 구성됨으로써, 고압공기를 토출하고 파티클을 포함하는 공기를 흡인하는 과정에서 가공대상 영역은 압력이 낮은 반면, 그 외측은 가공대상 영역에 비하여 상대적으로 압력이 높다. 따라서, 가공 영역에서 발생한 파티클이 가공 대상 외 영역(다른 영역)으로 나가는 것을 방지할 수 있는 효과와 더불어, 보조공기 토출통로(530)는 에어커튼 기능을 함으로써 파티클이 그 가공대상물의 가공 영역에서 다른 영역으로 비산되거나 튀는 것을 방지하여 가공 효율을 더욱 극대화할 수 있다.In addition, the
이와 같이 구성되는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 파티클 제거장치는 레이저 가공과 동시에 파티클을 외부로 배출시킬 수 있는 레이저 장비에 채용될 수 있다.The particle removing device according to another embodiment of the present invention configured as described above may be employed in laser equipment capable of discharging particles to the outside at the same time as laser processing.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경의 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes within the scope not departing from the technical spirit of the present invention are possible in the art. It will be evident to those who have knowledge of.
도 1은 종래 레이저 가공장비에서 가공시 발생하는 파티클을 가공대상물로부터 블로잉시켜 파티클을 제거하는 블로잉 방식의 레이저 가공장비를 개략적으로 나타내는 구성도.1 is a block diagram schematically illustrating a blowing type laser processing equipment for removing particles by blowing particles generated during processing in a conventional laser processing equipment from a processing object.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 파티클 제어장치를 구비하는 레이저 가공장비를 개략적으로 나타내는 구성도.Figure 2 is a schematic diagram showing a laser processing equipment having a particle control apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 레이저 헤드에 형성되는 고압공기 토출통로와 흡인 통로가 형성되는 일 형태를 나타내는 레이저 헤드 평면도.3 is a plan view of a laser head showing one embodiment in which a high pressure air discharge passage and a suction passage are formed in the laser head;
도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 파티클 제거장치를 구비하는 레이저 가공장비를 개략적으로 나타낸 구성도.Figure 4 is a schematic diagram showing a laser processing apparatus having a particle removal apparatus according to another embodiment of the present invention.
*주요 도면부호에 대한 간단한 설명** A brief description of the main drawing codes *
100, 500: 파티클 제거장치 200: 레이저 헤드100, 500: particle removal device 200: laser head
210: 포커싱 부재 220, 510: 고압공기 토출통로210: focusing
230, 520: 공기 흡인 통로 300: 고압공기 토출장치230, 520: air suction passage 300: high pressure air discharge device
400: 공기흡입장치 530: 보조공기 토출통로400: air suction device 530: auxiliary air discharge passage
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