KR20050107861A

KR20050107861A - 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치 및배면기판의 제조방법, 배면기판

Info

Publication number: KR20050107861A
Application number: KR1020040032609A
Authority: KR
Inventors: 조철래; 조식
Original assignee: 조철래
Priority date: 2004-05-10
Filing date: 2004-05-10
Publication date: 2005-11-16
Also published as: CA2479546A1; KR100664577B1

Abstract

본 발명은, 격벽의 가공공정이 간단하고, 제작 원가를 감소시키며, 고화질에 필요한 좁은 간격의 격벽 피치를 얻을 수 있도록 하는 것을 목적으로 하며,

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치는, 상부가 개방된 도금조와; 상기 도금조의 양측벽에 회전축을 매개로 회전 가능하게 설치되고, 배면기판부에 돌출되는 격벽을 형성하기 위한 요철부가 연속하여 외주면에 형성되어 상기 도금조내에 수용되는 격벽형성수단과; 상기 도금조내에 수용된 격벽형성수단의 외주면과 일정 공간(s)을 유지한 상태에서 이를 커버하도록 설치되어 상기 배면기판부를 형성하는 배면기판부 형성수단과; 상기 배면기판부 형성수단을 통해 도금액을 상기 격벽형성수단과 배면기판부 형성수단 사이의 공간(s)으로 공급하는 도금액 공급수단을 포함하며, 상기 격벽형성수단과 배면기판부 형성수단에 각각 전극을 인가하는 것을 특징으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판의 제조방법은, 외면에 요철부를 갖는 격벽형성수단과 배면기판부 형성수단 사이에 도금액을 공급함과 아울러 상기 격벽형성수단과 배면기판부 형성수단에 전극을 인가하는 제1 단계와; 상기 격벽형성수단의 외면에 도금된 도금물을 박리하여 하는 단계와; 상기 격벽형성수단에서 박리된 도금물을 열처리하여 평탄화하는 단계와; 상기 열처리된 도금물을 소정 크기로 절단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판은, 배면기판부와, 상기 배면기판부의 상면에 일정 간격 이격된 격벽을 가지며, 금속재질로 이루어진 것을 특징으로 한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치 및 배면기판의 제조방법, 배면기판{An apparatus for manufacturing of rear substrate in Plasma Display Panel,and method for manufacturing of rear substrate, rear substrate}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치 및 배면기판의 제조방법, 배면기판에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 격벽의 가공공정이 간단하고, 제작 원가를 감소시키며, 고화질에 필요한 좁은 간격의 격벽 피치를 얻을 수 있도록 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치 및 배면기판의 제조방법, 배면기판에 관한 것이다.

평판 디스플레이 장치는 크게 Emissive 디스플레이 즉 스스로 발광하는 소자와, non-emissive 디스플레이 즉 스스로 발광하지 못하는 소자로 구분된다.

Emissive 디스플레이에는 FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), EL(Electro-Luminescence), PDP(Plasma Display Panel)등이 있다.

반면에 non-emissive 디스플레이에는 LCD(Liquid Crystal Display), ECD(Electro Chromic Dispaly)등이 있다.

이상과 같은 다양한 평판 디스플레이 장치중 최근 들어 가장 주목받고 있는 디스플레이중의 하나가 PDP이다.

도 1은 플라즈마 디스플레이 패널장치에 대한 개략적인 분해 사시도이다.

도면을 참조하면, 전면 유리 기판(11)과 배면 유리 기판(12) 사이에 투명한 디스플레이 전극인 제 1 전극(13a)과 어드레스 전극인 제 2 전극(13b)이 형성된다. 제 1 전극(13a)은 X 전극과 Y 전극이 한쌍을 이루게 되며, 상기 한쌍의 제1 전극(13a) 사이에서는 작동시에 유지 방전이 발생한다. 제 1 전극(13a)과 제 2 전극(13b)은 전면 유리 기판(11)및 배면 유리 기판(12)의 내표면에 각각 스트립 형상으로 형성되며, 기판(11,12)이 상호 조립되었을 때 상호 직각으로 교차하게 된다. 전면 유리 기판(11)의 내표면에는 유전층(14)과 보호층(15)이 차례로 적층된다. 한편, 배면 유리 기판(12)에는 유전층(14')의 상부 표면에 격벽(17)이 형성되며, 격벽(17)에 의해 셀(19)이 형성된다. 셀(19)내에는 네온 및 제논 같은 불활성 개스가 충전된다. 또한 각각의 셀(19)을 형성하는 격벽(17)의 내측에는 소정 부위에 형광체(18)가 도포된다.

한편, 도면 번호 13c 로 표시된 것은 버스 전극으로서, 제 1 전극(13a)의 길이가 증가할수록 라인저항도 함께 증가하는 현상을 방지하기 위한 목적으로 제 1 전극(13a)의 표면에 형성하는 것이다.

도 2는 조립된 상태의 플라즈마 디스플레이를 단면으로 도시한 것으로서, 이것은 격벽을 횡방향으로 절단하여 도시한것이다.

도 1 에 표시된 번호와 동일한 부분에 대해서는 도 2에서도 동일한 번호로써 표시하였다.

도면을 참조하면, 전면 유리 기판(11)과 배면 유리 기판(12)은 격벽(17)을 사이에 두고 상하로 접합된다. 이러한 접합은 유리 기판(11,12)의 사이에 도포되는 프리트 글래스(22)에 의해서 이루어진다.

실제에 있어서, 프리트 글래스(22)는 기판(11,12)의 가장자리를 따라서 내표면에 도포된다. 이러한 프리트 글래스(22)는 기판(11,12)들을 상호 가압하는 상태에서 가열 용융된 이후에 응고됨으로써 기판(11,12)을 상호 부착시키게 된다.

위와 같은 구성을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 작동을 개략적으로 설명하면, 우선 한쌍의 제 1 전극(13a)의 X전극과 제 2 전극(13b) 사이의 방전을 일으킬 수 있도록 고전압인 트리거 전압(trigger voltage)이 인가된다. 트리거전압에 의해 유전층(14)에 양이온이 축전되면 방전이 발생하게 된다. 트리거 전압이 쓰레숄드 전압(threshold voltage)을 넘어서면 셀(19)내에 충전된 방전 개스등은 방전에 의해 플라즈마 상태가 되며, 상기 제 1 전극(13)의 쌍들 사이에서 안정적인 방전 상태를 유지할 수 있다 (도 2 참조). 이러한 유지 방전 상태에서는 방전광중에서 자외선 영역의 광들이 형광체(18)에 충돌하여 발광하게 되며, 그에 따라서 셀(19)별로 형성되는 각각의 화소는 화상을 디스플레이할수 있게 된다.

상기와 같이 설명된 플라즈마 디스플레이 패널의 구성중에서 배면유리기판(12)에 격벽(17)을 형성하는 종래 방법으로는 스크린 인쇄법과 샌드 블라스트 법을 들 수 있다.

스크린 인쇄법은 유리 재료의 배면 기판위에 격벽 재료인 페이스트를 스크린 인쇄 방식으로 반복 인쇄함으로써 중첩시키고, 건조 및 소정 과정을 수행함으로써 정의 형태로 성형하는 방법이다.

이러한 방법은 공정이 복잡하고 특히 양호한 선폭의 정밀도를 얻기 어렵다는 것이다.

그리고, 최근에 많이 적용되는 샌드 블라스트법은 배면 유리 기판위에 격벽 재료의 페이스트를 일정한 두께로 도포하고 건조시킨 다음, 그 위에 원하는 격벽 모양의 보호막을 형성하거나 또는 샌드 블라스트용 마스크를 삽입한 상태에서 연마 입자인 샌드를 고압 분사함으로써 불필요한 부분을 제거하는 방식이다.

상기와 같은 샌드 블라스트법을 이용하여 격벽을 형성하는 과정을 도 3 및 도 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다.

도면을 참조하면, 기판(21)상에는 선공정에서 형성된 소정 패턴의 투명 전극(22)과, 상기 투명 전극(22)을 덮는 유전층(23)이 형성되어 있다.

이 유전층(23)은 유전체 재료를 도포 및 건조하여 소정된 상태로 형성된다.

격벽을 형성하기 위해서는 상기 유전층(23)의 상부에 격벽 재료 페이스트의 적층부(24)를 형성하고 있는 마스크(25)를 씌우게 된다.

마스크(25)에는 차폐부(26)와 통공부(27)가 형성되어 있으며, 차폐부(26)에는 고속으로 분사되는 연마입자(28)를 격벽 페이스트의 적층부(24)에 대하여 차폐하는 반면에, 통공부(27)를 통해 분사되는 연마 입자(28)는 격벽 페이스트 적층부(24)를 소정 형태로 마모시키게 된다.

도 4를 참조하면, 유전층(23)의 상부에 소정 형태의 격벽(24a)이 형성된 것을 알 수 있다.

상기 격벽(24a)이 형성된 이후에는 다시 소성 과정을 거치게 된다.

상기와 같은 샌드 블라스트법은 다음과 같은 문제점이 있다.

우선, 연마입자(28)를 격벽 페이스트의 적층부(24)만을 마모시킬 뿐만 아니라, 통공부(27)의 긱하방에 위치한 유전층(23)의 표면 일부도 마모시키게 된다.

즉, 격벽 페이스트(24)를 완전히 마모시킨 후에 연마 입자가 유전층(23)의 표면을 마모시킴으로써 마모 부분이 발생되는 문제점이 있다.

더욱이, 유전층(32)을 위한 소성과, 격벽(24a)을 위한 소정이 별개로 진행되어야 하므로 공정이 복잡해지고 시간도 지연된다.

다른 한편으로는 연마 입자가 유전층(23)의 표면에 충돌할때 축적되는 전하에 의한 스파크 현상이 일어나게 된다.

이를 해결하기 위해서 유전층을 접지하기도 하지만, 실제에 있어서 유전층의 도전성이 크지 않기 때문에 표면 전하를 완전히 제거할 수 없다는 문제점도 있다.

결국, 전술한 종래 두가지의 방법으로는 가공 공정이 많고 제작 원가가 상승되었으며, 고화질에 필요한 좁은 간격의 격벽 피치를 얻기 어려우며, 격벽에 방전광 침투로 화상의 혼색 불량이 생기는 문제점도 있었다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, 격벽의 가공공정이 간단하고, 제작 원가를 감소시키며, 고화질에 필요한 좁은 간격의 격벽 피치를 얻을 수 있도록 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치 및 배면기판의 제조방법, 배면기판을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치는, 상부가 개방된 도금조와; 상기 도금조의 양측벽에 회전축을 매개로 회전 가능하게 설치되고, 배면 기판부에 돌출되는 격벽을 형성하기 위한 요철부가 연속하여 외주면에 형성되어 상기 도금조내에 수용되는 격벽형성수단과; 상기 도금조내에 수용된 격벽형성수단의 외주면과 일정 공간(s)을 유지한 상태에서 이를 커버하도록 설치되어 상기 배면기판부를 형성하는 배면기판부 형성수단과; 상기 배면기판부 형성수단을 통해 도금액을 상기 격벽형성수단과 배면기판부 형성수단 사이의 공간(s)으로 공급하는 도금액 공급수단을 포함하며, 상기 격벽형성수단과 배면기판부 형성수단에 각각 전극을 인가하는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.

도 5는 본 발명에 의한 배면기판 및 격벽의 제조장치의 구성을 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 제조장치의 구성중 격벽형성수단의 제작과정을 도시한 도면이며, 도 7은 본 발명의 제조장치의 구성중 격벽형성수단의 외관을 도시한 사시도이며, 도 8은 본 발명의 제조장치의 구성중 배면기판부 형성수단의 구성을 도시한 단면도이며, 도 9는 본 발명의 배면기판의 단면도이고, 도 10은 본 발명의 배면기판부 형성수단의 구성중 커버판의 외관을 도시한 사시도이다.

본 발명에 의한 배면기판 제조장치는, 상부가 개방된 도금조(100)와, 이 도금조(100)의 양측벽(110)에 회전축(210)을 매개로 회전 가능하게 설치되고, 배면 기판에 돌출되는 격벽을 형성하기 위한 요철부(220)(221)가 연속하여 외주면에 형성되어 상기 도금조(100)내에 수용되는 격벽형성수단(200)과, 상기 도금조(100)내에 수용된 격벽형성수단(200)의 외주면과 일정 공간(s)을 유지한 상태에서 이를 커버하도록 설치되어 상기 배면기판부를 형성하는 배면기판부 형성수단(300)과, 이 배면기판부 형성수단(300)을 통해 도금액을 상기 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300) 사이의 공간(s)으로 공급하는 도금액 공급수단(400)을 포함하며, 상기 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300)에 각각 전극을 인가하는 것으로 구성된다.

상기 격벽형성수단(200)의 요철부(220)(221)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 격벽형성수단(200)의 외주면에 소정 두께로 수지(222)를 코팅하여 경화시킨 후(b), 상기 요부(220) 부부에 해당되는 상기 격벽형성수단(200)의 외주면 외부로 노출되도록 선삭 가공에 의해 형성되는 것이다.(c)

좀더 상세하게 설명하면, 상기 수지(222)를 코팅하기 전에 상기 격벽형성수단(200)의 외주면에 상기 수지(222)의 부착을 용이하게 하기 위해 스크래치부(scratch)(230)를 형성한다.(a)

여기서, 본 발명에서는 상기 격벽형성수단(200)의 재질은 티타늄(Ti)으로 하였고, 그 형상은 원형봉 형상으로 형성하였다.

상기 배면기판부 형성수단(300)은, 도 8에 도시된 바와 같이, 커버판(310)과, 부시(320)와, 이동봉(330)과, 간극 조절판(340)으로 이루어진다.

상기 커버판(310)은 상기 격벽형성수단(200)의 축방향을 따라 일부분을 커버하는 소정 크기를 갖으며, 수십개의 통공(311)이 구비된다.

상기 부시(320)는 상기 통공(311)들 내에 각각 회전 가능하게 설치되며, 상기 커버판(310)의 외측으로 돌출된 볼트부(321)를 구비하며, 양단이 관통되며, 내주면에 나사공(322)이 구비된다.

상기 이동봉(330)은, 상기 부시(320)의 나사공(322)내에 나사 결합되어 상기 부시(320)의 회전에 따라 전후진 이동하게 된다.

상기 간극 조절판(340)은, 상기 이동봉(330)의 양단중 상기 상기 커버판(310)의 내측에 해당되는 단부에 설치되되, 서로 면접촉 가능하게 설치되어 상기 요철부(220)(221)와 간극이 조절된다.

여기서, 상기와 같이 구성된 배면기판부 형성수단(300)의 작용을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 본 발명의 배면기판 제조과정을 시작하기 전에 작업자가 부시(320)를 소정 방향으로 회전시키면, 이에 나사 결합된 이동봉(330)이 전후 방향으로 이동하게 된다.

여기서, 이동봉(330)이 전후 방향으로 이동하게 되는 이유는 간극 조절판(340)들이 서로 이웃한 다른 간극 조절판(340)들과 면접촉하고 있기 때문에, 부시(320)가 회전될때 이동봉(330)은 직선 왕복 이동하게 되는 것이다.

상기와 같이 이동봉(330)이 직선 왕복 이동함에 따라 상기 도 8에 도시된 바와 같이, 간극 조절판(340) 역시 전,후진 하게 되는 것이다.

따라서, 상기 간극 조절판(340)이 이동함에 따라 격벽형성수단(200)을 구성하는 요철부(220)(221) 사이의 간극이 조절되어, 배면기판을 구성하는 배면기판부(610)의 두께를 조절할 수 있음과 아울러 배면기판부(610)의 양면중 격벽(620) 반대편의 면을 평탄하게 조절할 수 있게 되는 것이다.

한편, 본 발명의 배면기판 형성수단(300)은 시험적으로 배면기판을 제작한 후 배면기판부(610)의 두께가 설계치보다 상이할 경우에 이를 수정할 수 있는 것이다.

즉, 배면기판부(610)의 양면중 격벽(620)의 반대편의 면이 고르지 않을 경우에 이 부분에 해당되는 간극 조절판(340)의 출몰 정도를 재조정하면 되는 것이다.

상기 도금액 공급수단(400)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 도금액 저장조(410)와, 도금액 공급수단(420)과, 압송 펌프(430)로 이루어진다.

상기 도금액 저장조(410)는 상기 도금조(100)에 인접하여 설치되어 도금액을 저장하는 역할을 한다.

상기 도금액 공급 배관(420)은, 그 일단은 상기 도금액 저장조(410)내에 연통 가능하게 설치되고, 그 타단은 상기 공간(s)과 연통되도록 배면기판부 형성수단(300)에 설치된다.

상기 압송 펌프(430)는 상기 도금액 공급배관(420)상에 설치되어 도금액 저장조(410)의 도금액을 압송하여 상기 공간(s)으로 압송하는 역할을 한다.

한편, 본 발명은 상기와 같은 구성에서 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 공간(s)으로 유입된 도금액이 상기 배면기판부 형성수단(300)의 상부측을 통해 오버플로우 되어 상기 도금조(100)로 모인 도금액을 상기 도금액 저장조(410)로 리턴시키는 리턴수단(500)을 더 구비한다.

상기 리턴수단(500)은, 도금 용해조(510)와, 리턴 배관(520)과, 리턴 펌프(530)와, 도금액 금속 이온센서(540)와, 개폐밸브(550)로 이루어진다.

상기 도금 용해조(510)는 상기 도금액 저장조(410)의 상부측에 연통 파이프(511)를 매개로 연결 설치된다.

상기 리턴 배관(520)은, 그 일단은 상기 도금 용해조(510)내에 위치되고, 타단은 상기 도금조(100)에 연결된다.

상기 리턴 펌프(530)는 상기 리턴 배관(520)상에 설치되어 도금조(100)의 도금액을 상기 도금 용해조(510)로 리턴시키는 역할을 한다.

상기 도금액 금속 이온센서(540)는 상기 도금 용해조(510)내에 설치되어 도금액의 금속 이온수치를 센싱하는 역할을 한다.

상기 개폐밸브(550)는 상기 연통 파이프(511)에 설치되어 상기 도금 용해조(510)의 도금액이 상기 도금액 저장조(410)로 유동되는 것을 선택적으로 차단하는 역할을 한다.

여기서, 상기 리턴수단(500)의 작용을 설명하면 다음과 같다.

상기 리턴 배관(520)을 통해 리턴 펌프(530)에 의해 도금조(100)의 도금액이 도금 용해조(510)로 이송된 상태에서 상기 도금액 금속 이온센서(540)에 의해 금속 이온수치가 설정치 이하인 것으로 감지된 경우에, 작업자가 이를 인식할 수 있도록 별도의 경보수단(미도시)를 작동시키게 되면, 작업자는 도금액 원재료인 니켈 또는 구리를 소정량 도금 용해조(510)에 투입하게 된다.

이렇게 되면, 도금 용해조(510)내에 수용된 도금액의 이온 수치는 정상치로 복귀되는데, 이를 도금액 금속 이온센서(540)가 감지하여 제어수단(미도시)로 신호를 전달하게 되면, 제어수단에서는 개폐밸브(550)를 작동시켜 연통 파이프(511)의 통로를 개방하여 주게 된다.

이렇게 되면, 도금 용해조(510)내의 도금액은 상기 연통 파이프(511)를 통해 도금액 저장조(410)로 도금액이 보충되게 된다.

한편, 이제까지 설명한 도금액은 금속 재질로서, 니켈과 구리, 금, 은, 아연, 주석, 백금, 철, 알루미늄, 두가지의 금속 재질의 합금(예를 들어 구리와 아연)중의 어느 하나를 사용한다.

상기와 같이 구성된 본 발명의 배면기판을 제조하는 과정을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 압송펌프(430)가 작동되면, 도금액 저장조(410)내의 도금액은 도금액 공급배관(420)을 통해 배면기판부 형성수단(300)을 지나 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300) 사이의 일정 공간(s)내로 고속 공급된다.

이와 동시에 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300)에 전극을 인가하되, 격벽형성수단(200)에 -극을 인가하고, 배면기판부 형성수단(300)에 +극을 인가한다.

상기와 같은 과정을 진행한 후, 소정 시간이 경과하게 되면, 격벽형성수단(200)의 외면에는 도금액이 고속 펌핑 공급되어 고전류 밀도 도금이됨으로 연속 고속 도금이 되어 생산성이 향상된다.

이후, 상기 격벽형성수단(200)을 회전시켜 도금된 도금물이 도금조(100)의 외부로 노출되도록 한 다음, 작업자가 도금물을 격벽형성수단(200)으로부터 박리하여 하는 단계를 진행한다.

이후, 상기 격벽형성수단(200)에서 박리된 도금물을 열처리하여 평탄화하는 단계를 진행한다.

다음으로, 상기 열처리된 도금물을 소정 크기로 절단하는 단계를 진행한다.

이상과 같이 함으로써, 본 발명의 배면기판을 기본적으로 완성할 수 있게 된다.

이후, 상기 도금물을 소정 크기로 절단하는 하는 단계를 진행한 후, 도 9에 도시된 바와 같이, 전체를 저온 유리 무전체(630)로 코팅하는 단계와; 상기 무전체 코팅단계를 진행한 후, 격벽 사이의 공간에 어드레스 전극(640)을 노광 현상하는 단계와; 상기 어드레스 전극(640)을 노광 현상하는 단계를 진행한 후, 상기 어드레스 전극위에 유전체(650)로 코팅하는 단계를 더 포함할수도 있다.

상기와 같은 과정을 거치게 되면, 본 발명은 도 9에 도시된 바와 같이, 배면기판부(610)와, 상기 배면기판부(610)의 상면에 일정 간격 이격된 격벽(620)을 가지며, 금속재질로 이루어진 배면기판(600)을 완성하게 되는 것이다.

이상 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따르면, 격벽의 가공공정이 간단하고, 제작 원가를 감소시키며, 고화질에 필요한 좁은 간격의 격벽 피치를 얻을 수 있게 된다.

그리고, 본 발명에 따르면, 격벽을 갖는 배면기판을 1개 형성하는데 소요되는 시간은 고속 도금을 실시함으로 인해 피디피 배면기판 42인치 한장 생산에 3분 정도 소요되어 생산성을 향상시킬 수 있게 된다.

도 1은 통상적인 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 분해 사시도이다.

도 2는 도 1 에 도시된 패널의 개략적인 단면도이다.

도 3 및 도 4는 종래 샌드 블라스트법을 이용한 격벽을 형성하는 과정을 도시한 도면,

도 5는 본 발명에 의한 배면기판 및 격벽의 제조장치의 구성을 나타낸 도면.

도 6은 본 발명의 제조장치의 구성중 격벽형성수단의 제작과정을 도시한 도면.

도 7은 본 발명의 제조장치의 구성중 격벽형성수단의 외관을 도시한 사시도.

도 8은 본 발명의 제조장치의 구성중 배면기판부 형성수단의 구성을 도시한 단면도.

도 9는 본 발명의 배면기판의 단면도.

도 10은 본 발명의 배면기판부 형성수단의 구성중 커버판의 외관을 도시한 사시도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

100 : 도금조

200 : 격벽형성수단

300 : 배면기판부 형성수단

400 : 도금액 공급수단

Claims

상부가 개방된 도금조(100)와;

상기 도금조(100)의 양측벽(110)에 회전축(210)을 매개로 회전 가능하게 설치되고, 배면 기판에 돌출되는 격벽을 형성하기 위한 요철부(220)(221)가 연속하여 외주면에 형성되어 상기 도금조(100)내에 수용되는 격벽형성수단(200)과;

상기 도금조(100)내에 수용된 격벽형성수단(200)의 외주면과 일정 공간(s)을 유지한 상태에서 이를 커버하도록 설치되어 상기 배면기판부를 형성하는 배면기판부 형성수단(300)과;

상기 배면기판부 형성수단(300)을 통해 도금액을 상기 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300) 사이의 공간(s)으로 공급하는 도금액 공급수단(400)을 포함하며,

상기 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300)에 각각 전극을 인가하는 것을 특징으로 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 1 항에 있어서,

상기 격벽형성수단(200)의 요철부(220)(221)는,

상기 격벽형성수단(200)의 외주면에 소정 두께로 수지를 코팅하여 경화시킨 후, 상기 요부(220) 부분에서 상기 격벽형성수단(200)의 외주면이 외부로 노출되도록 선삭 가공에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 2 항에 있어서,

상기 수지를 코팅하기 전에 상기 격벽형성수단(200)의 외주면에 상기 수지의 부착을 용이하게 하기 위해 스크래치부(scratch)(230)가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 1 항에 있어서,

상기 배면기판부 형성수단(300)은,

상기 격벽형성수단(200)의 축방향을 따라 일부분을 커버하는 소정 크기를 갖으며, 수십개의 통공(311)이 구비된 커버판(310)과;

상기 통공(311)들 내에 각각 회전 가능하게 설치되며, 상기 커버판(310)의 외측으로 돌출된 볼트부(321)를 구비하며, 양단이 관통되며, 내주면에 나사공(322)이 구비된 부시(320)와;

상기 부시(320)의 나사공(322)내에 나사 결합되어 상기 부시(320)의 회전에 따라 전후진 이동하는 이동봉(330)과;

상기 이동봉(330)의 양단중 상기 상기 커버판(310)의 내측에 해당되는 단부에 설치되되, 서로 면접촉 가능하게 설치되어 상기 요철부(220)(221)와 간극이 조절되는 간극 조절판(340)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 1 항에 있어서,

상기 도금액 공급수단(400)은,

상기 도금조(100)에 인접하여 설치되는 도금액이 저장되는 도금액 저장조(410)와;

일단은 상기 도금액 저장조(410)내에 연통 가능하게 설치되고, 타단은 상기 상기 공간(s)과 연통되도록 배면기판 형성수단(300)에 설치되는 도금액 공급 배관(420)과;

상기 도금액 공급배관(420)상에 설치되는 압송 펌프(430)로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 5 항에 있어서,

상기 공간(s)으로 유입된 도금액이 상기 배면기판부 형성수단(300)의 상부측을 통해 오버플로우 되어 상기 도금조(100)로 모인 도금액을 상기 도금액 저장조(410)로 리턴시키는 리턴수단(500)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 6 항에 있어서,

상기 리턴수단(500)은,

상기 도금액 저장조(410)의 상부측에 연통 파이프(511)를 매개로 연결 설치되는 도금 용해조(510)와;

일단은 상기 도금 용해조(510)내에 위치되고, 타단은 상기 도금조(100)에 연결되는 리턴 배관(520)과;

상기 리턴 배관(520)상에 설치되어 도금조(100)의 도금액을 상기 도금 용해조(510)로 리턴시키는 리턴 펌프(530)와;

상기 도금 용해조(510)내에 설치되어 도금액의 금속 이온수치를 센싱하는 도금액 금속 이온센서(540)와;

상기 도금 용해조(510)의 도금액이 상기 도금액 저장조(410)로 유동되는 것을 선택적으로 차단하기 위해 상기 연통 파이프(511)에 설치되는 개폐밸브(550)로 이루어진 것을 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 1 항 내제 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,

상기 격벽형성수단(200)의 재질은 티타늄(Ti)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 8 항에 있어서,

상기 격벽형성수단(200)은 원형봉 형상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서,

상기 도금액은 금속 재질인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
제 10 항에 있어서,

상기 도금액은 니켈, 구리, 은, 아연, 주석, 금,백금, 철, 알루미늄, 두가지의 금속 재질의 합금중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디스플레이 패널의 배면기판 제조장치.
외면에 요철부(220)(221)를 갖는 격벽형성수단(200)과 배면기판 형성수단(300) 사이에 도금액을 공급함과 아울러 상기 격벽형성수단(200)과 배면기판부 형성수단(300)에 전극을 인가하는 제1 단계와;

상기 격벽형성수단(200)의 외면에 도금된 도금물을 박리하여 하는 단계와;

상기 격벽형성수단(200)에서 박리된 도금물을 열처리하여 평탄화하는 단계와;

상기 열처리된 도금물을 소정 크기로 절단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 패널의 배면기판 제조방법.
제 12 항에 있어서,

상기 도금물을 소정 크기로 절단하는 하는 단계를 진행한 후, 전체를 무전체로 코잉하는 단계와;

상기 무전체 코팅단계를 진행한 후, 격벽 사이의 공간에 어드레스 전극을 노관 현상하는 단계와;

상기 어드레스 전극을 노광 현상하는 단계를 진행한 후, 상기 어드레스 전극위에 유전체로 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 패널의 배면기판.
배면기판부(610)와, 상기 배면기판부(610)의 상면에 일정 간격 이격된 격벽(620)을 가지며, 금속재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 패널의 배면기판.
제 14 항에 있어서,

상기 배면기판부(610)와 격벽(620)의 외면에는 무전체 코팅층(630)이 형성되고,

상기 격벽(620)사이의 공간에 해당되는 상기 무전체 코팅층(630)의 상면에는 어드레스 전극(640)이 노광 현상되며,

상기 어드레스 전극(640)의 위에는 유전체 코팅층(650)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 패널의 배면기판.
제 14 항에 있어서,

상기 배면기판부(610)와 격벽(620)의 재질은 니켈, 구리, 은, 아연, 주석, 금,백금, 철, 알루미늄, 두가지의 금속 재질의 합금중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디스플레이 패널의 배면기판.