KR20050102290A - Plasma display panel and the fabrication methode thereof - Google Patents
Plasma display panel and the fabrication methode thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050102290A KR20050102290A KR1020040027565A KR20040027565A KR20050102290A KR 20050102290 A KR20050102290 A KR 20050102290A KR 1020040027565 A KR1020040027565 A KR 1020040027565A KR 20040027565 A KR20040027565 A KR 20040027565A KR 20050102290 A KR20050102290 A KR 20050102290A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrodes
- front substrate
- raw material
- substrate
- laser beam
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/22—Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
- H01J11/24—Sustain electrodes or scan electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/22—Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
- H01J11/32—Disposition of the electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/38—Dielectric or insulating layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/42—Fluorescent layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
플라즈마 디스플레이 패널과, 이의 제조 방법을 개시한다. 본 발명은 전면 기판상에 X 및 Y 전극용 원소재를 형성하고, X 및 Y 전극용 원소재가 형성된 전면 기판의 반대면으로부터 레이저 빔을 조사하여 X 및 Y 전극을 패턴화시키는 것으로서, 레이저 빔을 기판의 하부로부터 조사하는 방식이므로 레이저 가공시에 발생하는 이물질이 기판상에 잔존하는 현상이나, 기판상에 얼룩지는 현상을 방지할 수가 있다. A plasma display panel and a method of manufacturing the same are disclosed. The present invention forms the raw material for the X and Y electrodes on the front substrate, and irradiates a laser beam from the opposite surface of the front substrate on which the raw material for the X and Y electrodes is formed, thereby patterning the X and Y electrodes. Since it is a system irradiated from the lower part of a board | substrate, the phenomenon which the foreign material which generate | occur | produces at the time of laser processing remains on a board | substrate, or the phenomenon which a stain on a board | substrate can be prevented.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 레이저 가공에 의하여 X 및 Y 전극을 형성시키도록 구조와 이에 따른 방법이 개선된 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel having an improved structure and method thereof to form X and Y electrodes by laser processing, and a method of manufacturing the same.
통상적으로, 플라즈마 디스플레이 패널은 전극이 형성된 대향되는 기판사이에 밀봉된 방전 가스를 방전시키고, 이로 인하여 발생되는 자외선에 의하여 형광체층을 여기시켜 소망하는 숫자, 문자 또는 그래픽을 구현하는 표시 장치이다.Typically, a plasma display panel is a display device that discharges a sealed discharge gas between opposing substrates on which electrodes are formed, and excites the phosphor layer by ultraviolet rays generated thereby to implement desired numerals, letters, or graphics.
플라즈마 디스플레이 패널은 방전 셀에 인가되는 구동 전압의 형식, 예컨대 방전 형식에 따라 직류형과 교류형으로 분류하고, 전극들의 구성 형태에 따라 대향 방전형 및 면 방전형으로 구분할 수가 있다.The plasma display panel may be classified into a direct current type and an alternating current type according to a type of driving voltage applied to a discharge cell, for example, a discharge type, and may be classified into a counter discharge type and a surface discharge type according to the configuration of the electrodes.
직류형 플라즈마 디스플레이 패널은 모든 전극들이 방전 공간에 노출되는 구조로서, 대응 전극들 사이에 전하의 이동이 직접적으로 이루어진다. 반면에, 교류형 플라즈마 디스플레이 패널은 적어도 한 전극이 유전체층에 매립되고, 대응하는 전극들 사이에 직접적인 전하의 이동이 이루어지지 않는 대신에, 유전체층 표면에 방전에 의하여 생성된 이온과 전자가 부착하여 벽전압(wall voltage)을 형성하고, 유지 전압(sustaing voltage)에 의하여 방전 유지가 가능하다.The DC plasma display panel has a structure in which all electrodes are exposed to a discharge space, and charges are directly transferred between corresponding electrodes. On the other hand, in the AC plasma display panel, at least one electrode is embedded in the dielectric layer, and instead of direct charge transfer between the corresponding electrodes, the ions and electrons generated by the discharge adhere to the surface of the dielectric layer to form a wall. A wall voltage is formed and discharge can be maintained by a sustaining voltage.
한편, 대향 방전형 플라즈마 디스플레이 패널은 단위 화소마다 어드레스 전극과 Y 전극이 대향하여 마련되고, 두 전극간에 어드레싱 방전 및 유지 방전이 일어나는 방식이다. 반면에, 면 방전형 플라즈마 디스플레이 패널을 각 단위 화소마다 어드레스 전극과 그에 해당되는 X 및 Y 전극이 마련되어 어드레싱 방전과 유지 방전이 발생하게 되는 방식이다.In the opposite discharge type plasma display panel, an address electrode and a Y electrode are provided to face each unit pixel, and addressing discharge and sustain discharge are generated between the two electrodes. On the other hand, in the surface discharge type plasma display panel, an address electrode and corresponding X and Y electrodes are provided for each unit pixel to generate addressing discharge and sustain discharge.
이러한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판과, 이와 대향되게 배치된 배면 기판과, 전면 기판의 아랫면에 배치된 X 및 Y 전극과, X 및 Y 전극과 전기적으로 연결된 버스 전극과, X 및 Y 전극과 버스 전극을 매립하는 전면 유전체층과, 전면 유전체층의 표면에 코팅된 보호막층과, 배면 기판의 윗면에 코팅된 어드레스 전극과, 어드레스 전극을 매립하는 배면 유전체층과, 전면 및 배면 기판 사이에 설치된 격벽과, 격벽 내측의 방전 공간에 코팅된 적,녹,청색의 형광체층을 포함하고 있다.The conventional plasma display panel includes a front substrate, a rear substrate disposed to face the substrate, an X and Y electrode disposed on a lower surface of the front substrate, a bus electrode electrically connected to the X and Y electrodes, and an X and Y electrode. A front dielectric layer embedding the bus electrode, a protective film layer coated on the surface of the front dielectric layer, an address electrode coated on the top surface of the back substrate, a back dielectric layer embedding the address electrode, and partition walls provided between the front and back substrates; It includes a red, green, and blue phosphor layer coated in the discharge space inside the partition wall.
이때, X 및 Y 전극은 ITO막(Indium Tin Oxide Film)과 같은 투명한 도전막으로 이루어지며, 통상적인 제조 공정은 ITO막용 원소재가 코팅된 기판상에 감광성 필름을 라미네이팅하고, 포토 마스크를 이용하여 노광하고, 현상액을 이용하여 현상하고, 에칭액을 이용하여 에칭하고, 박리액을 통하여 박리하여 패턴화시킨다. At this time, the X and Y electrodes are made of a transparent conductive film such as an ITO film (Indium Tin Oxide Film), a typical manufacturing process is to laminate a photosensitive film on a substrate coated with the raw material for the ITO film, using a photo mask It is exposed, developed using a developing solution, etched using an etching solution, and peeled and patterned through a peeling solution.
최근에는 에칭으로 인한 언더컷(undercut) 현상의 문제점을 해결하기 위하여 레이저 가공을 수행하고 있다. 즉, 기판상에 ITO막용 원소재를 코팅하고, 그 상부로부터 레이저 빔을 조사하여 X 및 Y 전극을 패턴화시킨다. Recently, laser processing is performed to solve the problem of undercut due to etching. That is, the raw material for ITO film is coated on a board | substrate, and a X and Y electrode are patterned by irradiating a laser beam from the upper part.
그런데, 기판의 상부로부터 레이저 빔을 조사하는 방식은 레이저 빔의 불균일로 인하여 가공된 부분에서 얼룩진 부분이 발생하게 된다. 또한, 레이저 빔 가공으로 인한 ITO막용 원소재의 파편으로 인하여 소망하는 패턴이 형성되기가 어렵다.By the way, in the method of irradiating the laser beam from the upper portion of the substrate, a stained portion occurs in the processed portion due to the non-uniformity of the laser beam. In addition, the desired pattern is difficult to be formed due to the fragmentation of the raw material for the ITO film due to the laser beam processing.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 레이저 빔을 이용하여 X 및 Y 전극을 형성하여 제조 공정이 단순화된 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same, wherein the manufacturing process is simplified by forming X and Y electrodes using a laser beam.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, In order to achieve the above object, the manufacturing method of the plasma display panel according to an aspect of the present invention,
전면 기판상에 X 및 Y 전극용 원소재를 형성하는 단계; 및Forming raw materials for X and Y electrodes on the front substrate; And
X 및 Y 전극용 원소재가 형성된 전면 기판의 반대면으로부터 레이저 빔을 조사하여 X 및 Y 전극을 패턴화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.And patterning the X and Y electrodes by irradiating a laser beam from opposite surfaces of the front substrate on which the X and Y electrode raw materials are formed.
또한, 상기 X 및 Y 전극용 원소재는 상기 전면 기판의 표면에 전면 코팅하는 것을 특징으로 한다.In addition, the X and Y electrode raw material is characterized in that the entire surface is coated on the surface of the front substrate.
게다가, 상기 X 및 Y 전극용 원소재는 ITO 막으로 이루어진 것을 특징으로 한다. In addition, the raw material for the X and Y electrodes is characterized by consisting of an ITO film.
더욱이, 레이저 빔을 조사하는 단계에서는,Furthermore, in the step of irradiating a laser beam,
상기 레이저 빔은 X 및 Y 전극이 패턴화되는 부분이외의 X 및 Y 전극용 원소재를 제거하기 위하여 전면 기판을 관통하여 X 및 Y 전극용 원소재에 조사되는 것을 특징으로 한다.The laser beam is irradiated to the raw material for the X and Y electrodes through the front substrate to remove the raw material for the X and Y electrodes other than the portion where the X and Y electrodes are patterned.
아울러, 상기 레이저 빔은 1064 나노미터의 파장으로 조사되는 것을 특징으로 한다.In addition, the laser beam is characterized in that irradiated with a wavelength of 1064 nanometers.
나아가, 상기 X 및 Y 전극과 전기적으로 연결되는 버스 전극을 패턴화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Furthermore, the method may further include patterning a bus electrode electrically connected to the X and Y electrodes.
또한, 상기 X 및 Y 전극과, 버스 전극을 매립하는 전면 유전체층을 형성시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include forming a front dielectric layer filling the X and Y electrodes and the bus electrode.
본 발명의 다른 측면에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, Plasma display panel according to another aspect of the present invention,
전면 기판의 일면에 X 및 Y 전극용 원소재를 형성하고, 이와 반대되는 전면 기판으로부터 레이저 빔을 조사하여서, 상기 레이저 빔이 전면 기판을 통과하여 X 및 Y 전극을 패턴화시키는 것에 의하여 제조된 것을 특징으로 한다.By forming a raw material for the X and Y electrodes on one surface of the front substrate, and irradiating a laser beam from the front substrate opposite to the front substrate, wherein the laser beam passes through the front substrate to pattern the X and Y electrodes. It is done.
이하에서 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 상세하게 설명하고자 한다. Hereinafter, a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(100)을 일부 절제하여 도시한 것이다. 1 illustrates a partial cutting of the plasma display panel 100 according to an exemplary embodiment of the present invention.
도면을 참조하면, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 전면 기판(110)과 배면 기판(120)을 포함한다. Referring to the drawings, the plasma display panel 100 includes a front substrate 110 and a back substrate 120.
상기 전면 기판(110)은 소다 라임 글래스로 이루어진다. 상기 전면 기판(110)에는 상기 배면 기판(120)과 대향되는 면에 복수의 X 및 Y 전극(131)(132)이 배열되어 있다. 상기 X 및 Y 전극(131)(132)은 x 방향으로 연장되어 있으며, y 방향으로 서로 이격되어 있다. 상기 X 전극(131)은 어드레싱이 수행될 때 스캔 전극으로 사용된다. 상기 X 및 Y 전극(131)에는 버스 전극(133)이 전기적으로 연결되어 있다. The front substrate 110 is made of soda lime glass. A plurality of X and Y electrodes 131 and 132 are arranged on the front substrate 110 on a surface of the front substrate 110 that faces the rear substrate 120. The X and Y electrodes 131 and 132 extend in the x direction and are spaced apart from each other in the y direction. The X electrode 131 is used as a scan electrode when addressing is performed. The bus electrode 133 is electrically connected to the X and Y electrodes 131.
복수의 X 및 Y 전극(131)(132)과 버스 전극(133)을 구비한 유지 전극(130)이 베열된 전면 기판(110)의 표면에는 리이드 옥사이드(lead oxide) 조합물로 된 전면 유전체층(140)이 형성되어 있다. 복수의 유지 전극(130)은 전면 유전체층(140)내에 매립되어 있다. 상기 전면 유전체층(140)의 표면에는 마그네슘 옥사이드(Magnesium Oxide)로 형성된 보호막층(150)이 형성되어 있다.On the surface of the front substrate 110 where the sustain electrodes 130 including the plurality of X and Y electrodes 131 and 132 and the bus electrode 133 are arranged, a front dielectric layer made of a lead oxide combination ( 140 is formed. The plurality of sustain electrodes 130 are embedded in the front dielectric layer 140. A passivation layer 150 formed of magnesium oxide is formed on the front surface of the front dielectric layer 140.
전면 기판(110)과 대향되게 설치된 배면 기판(120) 상에는 x 방향으로 소정 간격 이격되게 복수의 어드레스 전극(160)이 배열되어 있다. 상기 어드레스 전극(160)은 전면 기판(110) 상의 복수의 유지 전극(130)과 그리드 패턴을 형성하고 있다. A plurality of address electrodes 160 are arranged on the rear substrate 120 facing the front substrate 110 to be spaced apart by a predetermined interval in the x direction. The address electrode 160 forms a grid pattern with the plurality of sustain electrodes 130 on the front substrate 110.
상기 배면 기판(120)의 표면에는 상기 전면 유전체층(140)과 실질적으로 동일한 소재로 된 배면 유전체층(170)이 형성되어 있다. 상기 배면 유전체층(170)은 어드레스 전극(160)을 매립하고 있다. The back dielectric layer 170 is formed on the surface of the back substrate 120 substantially of the same material as the front dielectric layer 140. The back dielectric layer 170 fills the address electrode 160.
상기 배면 유전체층(170)의 표면에는 x 및 y 방향을 따라서 균일한 폭과 높이를 가지는 격벽(180)이 형성되어 있다. 상기 격벽(180)은 어드레스 전극(160)과 직교하는 방향으로 배치된 가로 격벽(181)과, 상기 어드레스 전극(160)과 나란한 방향으로 배치된 세로 격벽(182)을 포함하고 있다. 상기 가로 격벽(181)과 세로 격벽(182)은 서로 결합되어서 격자형을 이루고 있다. A partition wall 180 having a uniform width and height is formed on the surface of the rear dielectric layer 170 along the x and y directions. The partition wall 180 includes a horizontal partition wall 181 disposed in a direction orthogonal to the address electrode 160, and a vertical partition wall 182 disposed in a direction parallel to the address electrode 160. The horizontal partition wall 181 and the vertical partition wall 182 are combined with each other to form a grid.
상기 격벽(180)의 측벽과, 배면 유전체층(170)의 표면에는 적,녹,청색의 형광체층(190)이 교대로 형성되어 있다.Red, green, and blue phosphor layers 190 are alternately formed on the sidewalls of the barrier 180 and the surface of the rear dielectric layer 170.
상기 전면 기판(110)과, 배면 기판(120)은 밀봉 글래스를 이용하여 서로 결합되어 있다. 이때, 격벽(180)으로 구획된 방전 공간에는 불활성 가스를 포함한 방전 가스가 주입되어 있다. 한 쌍의 유지 전극(130)과, 이와 교차하는 방향으로 설치된 어드레스 전극(160)이 배열된 방전 공간내의 영역은 화상을 디스플레이하기 위한 방전 셀이다. 방전 셀은 x 방향과 y 방향으로 행열로 배열되어 있다. 이러한 결과로서, 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 개별적인 방전 셀을 스위칭하는 것에 의하여 매트릭스 디스플레이를 형성할 수가 있다.The front substrate 110 and the rear substrate 120 are coupled to each other using a sealing glass. At this time, a discharge gas including an inert gas is injected into the discharge space partitioned by the partition wall 180. The region in the discharge space where the pair of sustain electrodes 130 and the address electrodes 160 arranged in the direction crossing the same is a discharge cell for displaying an image. The discharge cells are arranged in rows in the x direction and the y direction. As a result of this, the plasma display panel 100 can form a matrix display by switching individual discharge cells.
도 2는 도 1의 유지 전극(130)과 어드레스 전극(160)의 패턴을 도시한 것이다.2 illustrates a pattern of the sustain electrode 130 and the address electrode 160 of FIG. 1.
여기서는, 격벽(180)이 도시되어 있지 않다.Here, the partition wall 180 is not shown.
도면을 참조하면, 상기 유지 전극(130)은 투명한 전극으로 된 X 및 Y 전극(131)(132)과, 금속재로 된 버스 전극(133)을 포함하고 있다. Referring to the drawings, the sustain electrode 130 includes X and Y electrodes 131 and 132 made of a transparent electrode and a bus electrode 133 made of a metal material.
상기 버스 전극(133)은 각각의 X 및 Y 전극(131)(132)의 최외곽 부분에 형성되어 있다. 상기 X 및 Y 전극(131)(132)은 각각 돌출부(131)(132)가 형성되어 있다. 상기 돌출부(131)(132)는 한 쌍의 유지 전극(130) 사이의 갭(g)에서 서로 대향되게 형성되어 있다. 상기와 같은 패턴으로 돌출부(131)(132)가 형성되는 것은 표면 방전 개시 전압을 제한하고, 충분한 크기의 표면 방전을 얻기 위해서이다. The bus electrode 133 is formed at the outermost part of each of the X and Y electrodes 131 and 132. The X and Y electrodes 131 and 132 have protrusions 131 and 132, respectively. The protrusions 131 and 132 are formed to face each other at a gap g between the pair of storage electrodes 130. The protrusions 131 and 132 are formed in the above pattern in order to limit the surface discharge start voltage and to obtain a sufficient surface discharge.
상기와 같은 구조를 가지는 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 전면 기판(110)을 제조하기 위한 과정을 상세하게 설명하면 도 3a 내지 도 3d에 도시된 바와 같다.A process for manufacturing the front substrate 110 of the plasma display panel 100 having the above structure will be described in detail with reference to FIGS. 3A to 3D.
우선, 도 3a에 도시된 바와 같이, 소다 라임 글라스로 된 전면 기판(110)의 전체 표면에 X 및 Y 전극용 원소재(134)가 코팅에 의하여 형성되어진다. 상기 X 및 Y 전극용 원소재(134)는 투명한 도전막, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide) 막으로 이루어져 있다. 상기 X 및 Y 전극용 원소재(134)는 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition,CVD)에 의하여 형성되어진다. First, as shown in FIG. 3A, the raw material 134 for the X and Y electrodes is formed by coating on the entire surface of the front substrate 110 made of soda lime glass. The X and Y electrode raw material 134 is made of a transparent conductive film, for example, an indium tin oxide (ITO) film. The X and Y electrode raw material 134 is formed by chemical vapor deposition (CVD).
다음으로, 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 X 및 Y 전극용 원소재(134)는 투명한 X 및 Y 전극(131)(132)으로 패턴화된다. 이러한 과정은 레이저 장치에 의한 레이저 프로세싱에 의하여 이루어진다. 즉, ITO막과 같은 투명한 도전막으로 이루어진 X 및 Y 전극용 원소재(134)는 YAG 레이저(Yttrium-Aluminum-Garnet Laser)와 같은 레이저 장치에 의하여 패턴화되어진다.Next, as shown in FIG. 3B, the raw material 134 for the X and Y electrodes is patterned into transparent X and Y electrodes 131 and 132. This process is accomplished by laser processing with a laser device. That is, the raw material for X and Y electrodes 134 made of a transparent conductive film such as an ITO film is patterned by a laser device such as a YAG laser (Yttrium-Aluminum-Garnet Laser).
레이저 장치로부터 조사되는 레이저 빔은 상기 X 및 Y 전극용 원소재(134)가 형성된 전면 기판(110)의 상부로부터 조사되는 것이 아니라, 상기 X 및 Y 전극용 원소재(134)가 형성된 전면 기판(110)의 반대면인 전면 기판(110)의 하부로부터 조사된다. The laser beam irradiated from the laser device is not irradiated from the upper portion of the front substrate 110 on which the raw materials 134 for the X and Y electrodes are formed, and the front substrate on which the raw materials 134 for the X and Y electrodes are formed ( It is irradiated from the bottom of the front substrate 110, which is the opposite side of the 110.
이에 따라, 레이저 빔은 전면 기판(110)을 관통하여 X 및 Y 전극용 원소재(134)에 조사되고, X 전극(131)과 Y 전극(132)이 형성되는 부분이외의 X 및 Y 전극용 원소재(134)를 제거하게 된다. 이에 따라, 소망하는 패턴의 X 및 Y 전극(131)(132)을 형성하게 된다.Accordingly, the laser beam penetrates the front substrate 110 and irradiates the raw material 134 for the X and Y electrodes, and for the X and Y electrodes other than the portion where the X electrode 131 and the Y electrode 132 are formed. The raw material 134 is removed. As a result, the X and Y electrodes 131 and 132 having a desired pattern are formed.
이때, 레이저 장치로부터 조사되는 레이저 빔은 상기 전면 기판(110)을 관통시에 소다 라임 글래스로 이루어진 전면 기판(110)에 흡수되지 않는 파장, 예컨대 1064 나노미터의 파장을 가지는 것이 바람직하다. In this case, the laser beam irradiated from the laser device preferably has a wavelength that is not absorbed by the front substrate 110 made of soda lime glass when passing through the front substrate 110, for example, a wavelength of 1064 nanometers.
또한, 레이저 가공시에는 기화된 X 및 Y 전극용 원소재(134)가 잘 배출될 수 있도록 이를 흡입할 수 있는 흡입 장치나, 송풍 장치가 추가적으로 설치되는 것이 유리하다고 할 것이다.In addition, it will be advantageous to additionally install a suction device or a blower device that can suck the vaporized X and Y electrode raw material 134 so that it can be discharged well during laser processing.
이와 같은 레이저 어블레이션(Laser Ablation)이 수행된 다음에는 도 3c에 도시된 바와 같이 버스 전극(133)을 형성하기 위하여 상기 X 및 Y 전극(131)(132) 상에 버스 전극용 원소재(135)가 형성된다. 상기 버스 전극용 원소재(135)는 상기 전면 기판(110) 상에 코팅가능하다. 상기 버스 전극용 원소재(135)는 은(Ag) 페이스트나, 크롬-구리-크롬(Cr-Cu-Cr)과 같은 도전성이 우수한 금속재로 이루어진다. After such laser ablation is performed, the raw material 135 for the bus electrode 135 on the X and Y electrodes 131 and 132 to form the bus electrode 133 as shown in FIG. 3C. ) Is formed. The bus electrode raw material 135 may be coated on the front substrate 110. The bus electrode raw material 135 is made of silver (Ag) paste or a metal material having excellent conductivity such as chromium-copper-chromium (Cr-Cu-Cr).
버스 전극용 원소재(135)는 포토 리소 그래피 공정에 의하여 버스 전극(133)을 형성하게 된다. 즉, 감광성 전극 페이스트를 전면 기판(110) 상에 인쇄하고, 이를 소정온도에서 건조하고, 포토 마스크를 이용하여 노광하고, 현상액을 이용하여 현상하고, 소정 온도에서 소성하여서 형성하게 된다.The bus electrode raw material 135 forms the bus electrode 133 by a photolithography process. That is, the photosensitive electrode paste is printed on the front substrate 110, dried at a predetermined temperature, exposed using a photo mask, developed using a developer, and baked at a predetermined temperature.
이러한 버스 전극(133)은 도 3d에 도시된 바와 같이 X 및 Y 전극(131)(132)의 최외곽 가장자리를 따라서 형성되어서, 상기 X 및 Y 전극(131)(132)과 전기적으로 연결된다.The bus electrode 133 is formed along the outermost edges of the X and Y electrodes 131 and 132, as shown in FIG. 3D, and is electrically connected to the X and Y electrodes 131 and 132.
그 이후의 공정으로는, 전면 기판(110) 상에 X 및 Y 전극(131)(132)과 버스 전극(133)을 매립하기 위하여 전면 유전체층(140)이 형성되고, 상기 전면 유전체층(140)의 표면에 마그네슘 옥사이드로 된 보호막층(150)이 순차적으로 코팅된다. In a subsequent process, the front dielectric layer 140 is formed on the front substrate 110 to bury the X and Y electrodes 131 and 132 and the bus electrode 133. The protective layer 150 of magnesium oxide is coated on the surface sequentially.
이상의 설명에서와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법은 레이저 빔을 기판의 하부로부터 조사하여 투명한 도전막으로 된 X 및 Y 전극을 패터닝하며, 레이저 빔에 소망하는 형상의 마스크를 사용하여 동일한 형상을 계속 스텝 이동하여 가공하게 된다. 이에 따라, 레이저 가공시에 발생하는 이물질이 기판상에 잔존하는 현상이나, 기판상에 얼룩지는 현상을 방지할 수가 있다. As described above, the plasma display panel of the present invention and a method of manufacturing the same are patterned by irradiating a laser beam from the lower part of the substrate to pattern X and Y electrodes made of a transparent conductive film, and using a mask having a desired shape for the laser beam. The shape is continuously moved by stepping. Thereby, the phenomenon which the foreign material which generate | occur | produces at the time of laser processing remains on a board | substrate, or the phenomenon which a stain on a board | substrate can be prevented.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 일부 절제하여 도시한 분리 사시도,1 is an exploded perspective view illustrating a part of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention;
도 2는 도 1의 전극 배치를 도시한 평면도,2 is a plan view showing the electrode arrangement of FIG.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 ITO막을 형성하기 위한 과정을 순차적으로 도시한 것으로서, 3A to 3D sequentially illustrate a process for forming an ITO film according to an embodiment of the present invention.
도 3a는 기판상에 ITO막용 원소재가 도포된 이후의 상태를 도시한 단면도,3A is a cross-sectional view showing a state after the raw material for ITO film is applied on a substrate;
도 3b는 도 3a의 기판상에 레이저 가공을 한 이후의 상태를 도시한 단면도,3B is a cross-sectional view showing a state after laser processing on the substrate of FIG. 3A;
도 3c는 도 3c의 기판상에 버스 전극용 원소재가 도포된 이후의 상태를 도시한 단면도,3C is a cross-sectional view showing a state after the raw material for a bus electrode is applied on the substrate of FIG. 3C;
도 3d는 도 3c의 기판상에 버스 전극을 패턴화한 이후의 상태를 도시한 단면도.3D is a sectional view showing a state after patterning a bus electrode on the substrate of FIG. 3C.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
100...플라즈마 디스플레이 패널100 ... plasma display panel
110...전면 기판 120...배면 기판110 ... front substrate 120 ... back substrate
130...유지 전극 131...X 전극 130 ... hold electrode 131 ... X electrode
132...Y 전극 133...버스 전극132 ... Y electrode 133 ... bus electrode
140...전면 유전체층 150...보호막층140.Front dielectric layer 150.Protective layer
160...어드레스 전극 170...배면 유전체층160 ... address electrode 170 ... backside dielectric layer
180...격벽 190...형광체층180 ... bulk 190 ... phosphor layer
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040027565A KR20050102290A (en) | 2004-04-21 | 2004-04-21 | Plasma display panel and the fabrication methode thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040027565A KR20050102290A (en) | 2004-04-21 | 2004-04-21 | Plasma display panel and the fabrication methode thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050102290A true KR20050102290A (en) | 2005-10-26 |
Family
ID=37280516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040027565A KR20050102290A (en) | 2004-04-21 | 2004-04-21 | Plasma display panel and the fabrication methode thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20050102290A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100777731B1 (en) * | 2006-02-15 | 2007-11-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | Apparatus for manufacturing electrode for display panel and method of manufacturing the electrode using the same |
KR101372036B1 (en) * | 2007-01-18 | 2014-03-10 | 엘지전자 주식회사 | Apparatus of forming reference mark for exposing |
-
2004
- 2004-04-21 KR KR1020040027565A patent/KR20050102290A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100777731B1 (en) * | 2006-02-15 | 2007-11-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | Apparatus for manufacturing electrode for display panel and method of manufacturing the electrode using the same |
KR101372036B1 (en) * | 2007-01-18 | 2014-03-10 | 엘지전자 주식회사 | Apparatus of forming reference mark for exposing |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003288847A (en) | Plasma display device | |
JP2003331734A (en) | Plasma display device | |
JP2003338246A (en) | Plasma display device and its manufacturing method | |
KR20050102290A (en) | Plasma display panel and the fabrication methode thereof | |
JP4085223B2 (en) | Plasma display device | |
JP4375113B2 (en) | Plasma display panel | |
KR100573139B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method the such | |
KR100416090B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method thereof | |
US7220653B2 (en) | Plasma display panel and manufacturing method thereof | |
KR100670285B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method thereof | |
KR100412089B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method thereof | |
KR20060032109A (en) | Plasma display panel including scan electrode and sustain electrode | |
KR100467686B1 (en) | Fabrication method for plasma display panel | |
KR100457619B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method thereof | |
KR100718995B1 (en) | Plasma Display Panel Including Barrier and Method for Manufacturing Plasma Display Panel | |
KR100667129B1 (en) | Method for Manufacturing Plasma Display Panel | |
KR100553928B1 (en) | Plasma Display Panel and Manufacturing Method | |
EP1739710A2 (en) | Plasma display panel and method of manufacturing the same | |
KR100278785B1 (en) | Manufacturing method of bulkhead of plasma display panel | |
KR100445031B1 (en) | Plasma dispaly panel and the fabrication method thereof | |
KR100718996B1 (en) | Plasma Display Panel of Electrode Including | |
JP2005026138A (en) | Manufacturing method of plasma display panel | |
KR100298404B1 (en) | Plasma Display Panel | |
US20060138955A1 (en) | Plasma display panel and manufacturing method thereof | |
KR20000056503A (en) | Menufacture methode of PDP |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |