KR20050081078A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 PDP 상판용 유전층 상에 산화마그네슘 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO2 분말이 혼합된 보호막을 형성하여 이차전자 방출계수를 높여 방출 전압을 낮추고, 효율을 높일 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 산화마그네슘(MgO) 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성한 보호막을 포함하여 구성하고, 또한, 상부 기판 상에 방전유지 전극(투명전극+버스전극)과 상부 유전층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 상부 유전층 상에 산화마그네슘(MgO) 분말과 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어짐으로써, 이차전자 방출 계수를 높여 방출 전압을 낮추고, 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법{PLASMA DISPLAY PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 PDP 상판용 유전층 상에 산화마그네슘 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO2 분말이 혼합된 보호막을 형성하여 이차전자 방출계수를 높여 방출 전압을 낮추고, 효율을 높일 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

정보처리 시스템의 발전과 보급 증가에 따라 시각정보 전달 수단으로 디스플레이 장치의 중요성이 증대되고 있다. 특히 종래 CRT(Cathod Ray Tube)는 사이즈가 크고 동작전압이 높으며 표시 일그러짐이 발생하는 여러 가지 문제점을 가지고 있어 화면의 대형화, 평면화를 목표로 하는 최근의 추세가 적합하지 않아 최근에는 매트릭스 구조를 가지는 각종 평면 디스플레이의 연구가 활발히 진행 중이다.

일반적인 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 He+Xe 또는 Ne+Xe 불활성 혼합가스의 방전시 발생하는 147[㎚]의 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상을 표시하는 장치로서, 대형화가 용이할 뿐만 아니라 표시품질이 우수하고, 응답속도가 빠르다는 특징이 있다. 또한, 박형화가 가능하기 때문에 액정 디스플레이 장치(LCD) 등과 함께 벽걸이용 디스플레이 용도로도 주목받고 있다.

PDP는 전극의 배치 구조에 따라 크게 면방전형과 대향형으로 구별되며, 전극의 노출여부에 따라 교류 방전형(AC type), 직류 방전형(DC type) 또는 혼합형(hybrid type)으로 구별되고, 특히, 3전극 교류 면방전형 PDP는 방전시 표면에 벽전하가 축적되며 방전에 의해 발생되는 스퍼터링으로부터 전극들을 보호하기 때문에 저전압 구동과 장수명의 장점을 가진다.

도1은 일반적인 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도를 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 하부기판(1)과, 상기 하부기판(1) 상부에 형성된 어드레스 전극(2)과, 상기 어드레스 전극(2) 상부에 형성된 하부 유전층(3)과, 상기 하부 유전층(3) 상부에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 전기적 광학적 크로스 토크를 방지하며 형광체층(5)을 수용하는 격벽(4)을 포함한다.

또한, 상부 유전층(7) 상에는 보호막(6)이 형성되는데, 보호막(6)은 방전중 가스이온에 의한 상부 유전층(7)의 스퍼터링을 방지함으로써 수명을 증대시키고 이차 전자 방출에 의해 방전 개시 전압을 저하시키는 역할을 하는데, 방전 개시 전압이 낮아지면 안정된 방전을 얻을 수 있을 뿐만 아니라 전극의 수명 또한 길어지기 된다. 상기 보호막(7)과 형광체층(5) 사이의 공간은 Ne+Xe, He+Xe 등의 불활성 가스로 충전된다.

또한, PDP의 상부기판(9) 상에는 두개의 전극으로 구성된 방전유지 전극(8)이 형성되고, 그 방전유지 전극(8)은 상부기판(9)의 광투과를 저해하지 아니하도록 투명전극(8a, 8b)인 ITO(Indium-Tin-Oxide) 전극으로 구성된다. 그리고, 상기 방전유지 전극(8)의 전압강하 방지를 위해, 이보다 좁은 면적의 금속전극인 버스전극(8'a, 8'b)을 구비한다.

상기 방전유지 전극(8) 상에 상부 유전층(7)을 형성하는데, 그 상부 유전층(7)은 플라즈마 방전전류를 제한함과 아울러 방전시 벽전하를 축적하는 역할을 한다.

그럼, 도1을 참조하여 PDP의 작동 원리를 설명하면 다음과 같다. 먼저, 방전유지 전극(8)을 구성하는 두 전극(8a, 8b) 사이에 방전유지전압에 상당하는 전압을 인가하여 상부 유전층(7)에 전하를 축적시킨다.

그 후 어드레스 전극(2)에 방전개시전압에 상당하는 전압을 인가하면 글로우 방전에 의해 불활성 가스가 전자와 이온으로 분리되어 플라즈마화 되고, 상기 전자와 이온이 재결합하는 순간에 발생하는 자외선에 의해 형광체층(5)이 발색한다.

그럼, 이러한 PDP의 상부 기판 제조 과정을 도2를 참고하여 설명한다.

도2는 종래 PDP의 상부기판(9) 제조 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상부기판(9)인 유리를 가공하는 단계와, 그 상부기판(9) 상에 방전유지 전극(8)을 형성하는 단계와, 상기 방전유지 전극(8) 상에 상부 유전층(7)을 형성하는 단계와, 상기 상부 유전층(7) 상에 실링(sealing)을 하고, 산화마그네슘(MgO) 보호막(6)을 형성하는 단계로 이루어진다.

상기 방전유지 전극(8)은 상부기판(9) 상에 투명전극인 두 전극(8a, 8b)을 형성하는 단계와, 상기 형성된 두 전극(8a, 8b)의 일부분 상에 보조 전극인 버스전극(8'a, 8'b)을 형성하는 단계로 이루어진다.

이러한 단계로 이루어진 상부기판(9)에서의 제조 과정을 설명하면, 상부 기판(9) 상에 투명 전극(8a, 8b)을 스퍼터링(sputtering)이나 진공증착 등의 방법을 이용하여 형성하고, 그 투명전극 상에 Cr/Cu/Cr로 이루어진 버스전극(8'a, 8'b)을 스퍼터링 방식에 의해 형성한다.

상기 투명전극(8a, 8b)과 버스전극(8'a, 8'b)으로 형성된 방전유지 전극(8) 상에 스크린 인쇄법을 이용하여 상부 유전층(7)을 형성하고, 그 상부 유전층(7) 상에 실링을 한다.

그 다음 상기 상부 유전층(7) 표면에 보호막(6)을 형성하는데, 이 보호막(6)은 통상 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지고, 이 산화마그네슘은 E-beam 또는 액상 산화마그네슘을 코팅하여 약 500[㎚] 정도로 증착한다.

하지만, 산화마그네슘만으로 형성된 보호막은 이차전자 방출계수를 어느 정도 높일 수 있으나 그에 한계가 있으며, 또한, PDP의 구동전압이 높고, 효율이 낮아서 보호막의 개선이 요구된다.

상기와 같이 종래 E-beam 또는 액상 산화마그네슘만으로 형성된 보호막은 이차전자 방출계수를 어느 정도 높일 수 있으나 그에 한계가 있고, 또한 PDP의 높은 구동전압과 낮은 효율 등의 문제점이 있었다.

따라서, 이와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 보호막을 산화마그네슘 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성함으로써, 이차전자 방출 계수를 높여 방출 전압을 낮추고, 효율을 높일 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널은 산화마그네슘(MgO) 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성한 보호막을 포함하여 구성한 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 알카리 금속과 TiO₂는 50[㎚] 이하의 나노 분말이고, 상기 보호막을 산화마그네슘 분말에 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성한 경우 그 상부에 100[㎚] 이하의 산화마그네슘 보호막이 더 형성된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 알카리 금속 분말은 상기 산화마그네슘 분말에 1 wt%(weight%, 중량퍼센트) 이하 혼합되고, 상기 TiO₂ 분말은 상기 산화마그네슘 분말에 3 wt% 이하 혼합된 것을 특징으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은 상부 기판 상에 방전유지 전극(투명전극+버스전극)과 상부 유전층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 상부 유전층 상에 산화마그네슘(MgO) 분말과 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 보호막을 형성하는 단계는 용제와 고분자 분산제 그리고 산화마그네슘 분말과 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 액상 산화마그네슘을 생성하는 단계와; 상기 액상 산화마그네슘을 상기 상부 유전층 상에 코팅하고, 기 설정된 소정의 온도에서 건조 및 소성하여 산화마그네슘에 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 보호막을 형성하는 단계는 고분자 용매와 산화마그네슘 분말 그리고 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 고점도의 산화마그네슘 용액을 생성하는 단계와; 상기 고점도의 산화마그네슘 용액을 필름으로 형성하고 상기 상부 유전층 상에 적층(lamination)한 후 소성하여 산화마그네슘에 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

상기와 같은 특징을 갖는 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 대한 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참고하여 설명한다.

도3은 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널에서 상부 기판 상에 보호막을 형성하기까지의 제조 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상부기판인 유리를 가공하는 단계와, 그 상부기판 상에 투명전극인 두 전극과 그 두 전극의 일부분 상에 보조 전극인 버스전극을 순차적으로 증착하여 방전유지 전극을 형성하는 단계와, 상기 방전유지 전극 상에 상부 유전층을 형성하는 단계와, 상기 상부 유전층 상에 산화마그네슘(이하, MgO라 칭함) 분말과 소정의 알카리 금속(Li, Na, K 등) 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 보호막을 형성하는 단계로 이루어진다.

이때, 상기 보호막은 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말이 소정 첨가된 액상 MgO을 코팅하여 형성할 수도 있고, 필름으로 제조한 후 적층(lamination)하여 형성할 수도 있으며, 상기 알카리 금속 분말 및 TiO₂ 분말의 크기는 50[㎚] 이하이다.

도4는 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말이 소정 첨가된 액상 MgO를 제조하고, 그 액상 MgO를 이용하여 보호막을 형성하는 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 용제와 분산제 그리고 MgO 분말 및 미량 첨가제(알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말)를 혼합하여 액상 MgO를 제조하는(Pre-mixing) 단계와, 상기 미량 첨가제가 혼합된 액상 MgO를 밀링기를 이용하여 밀링하고, 상부 유전층 상에 코팅하는 단계와, 상기 코팅된 혼합물을 기 설정된 소정의 온도로 건조하고, 소성하여 보호막을 형성하는 단계로 이루어진다.

그리고, 상기 액상 MgO를 상부 유전층 상에 코팅하고, 소성 공정을 하기 위해 실링(sealing) 공정을 상부기판 상이 아닌 하부기판 상에서 이루어지도록 하여 상부기판과 하부기판을 흡착한다.

그럼, 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 액상 MgO를 이용하여 보호막을 형성하는 일 실시예 과정을 설명하면 다음과 같다.

먼저, MgO 분말을 1~20 wt%(weight%, 중량퍼센트), 용제 및 고분자 분사제를 0.5~10 wt% 그리고 미량 첨가제, 즉, 50[㎚] 이하의 알카리 금속 분말을 1 wt% 또는 TiO₂ 분말을 2~3 wt% 혼합하여 혼합물을 만든다. 이때, 용제로는 Alcohol계, Glycol계, Propylene Glycol Ether류, Propylene Glycol Acetate류, Ketone류, BCA, Xylene, Terpineol, Texanol, 물 등이 사용될 수 있다.

또한, 상기 고분자 분산제로는 분산효과가 큰 Acryl계 분산제를 주로 사용하고, 용제와 분산제의 혼합 비율은 종류에 따라 달라지는데, 이러한 사항들은 실험을 통해서 얻어질 수 있다.

상기 용제와 고분자 분산제 그리고 MgO 분말 및 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말이 일정 비율로 혼합된 혼합물을 소정 시간(예를 들어, 1시간) 동안의 휘저음(stirring)과 초음파 분산기를 이용한 초음파 분산을 통해 액상 MgO를 생성한다.

이렇게 생성된 액상 MgO를 밀링(milling)기를 통해 밀링하고, 스크린 프린팅(screen printing), 딥핑(dipping), 다이 코팅(dye coating), 스핀 코팅(spin coating), 그린 시트 코팅(green sheet coating), 잉크젯(ink-jet) 등의 코팅 방법을 이용하여 상부 유전층 상에 코팅한다. 여기서, 혼합물의 MgO 분말은 코팅 방법에 따라 그 비율이 달라지는데, 예를 들어, 다이 코팅과 딥핑의 경우에는 2 wt% 이하가 좋으며 잉크젯의 경우에는 10 wt% 정도 그리고 그린 시트 코팅과 스핀 코팅의 경우에는 10~20 wt%가 적당하다.

상기 상부 유전층 상에 액상 MgO가 코팅되면, 용제의 종류에 따라 100~200[℃]로 건조하고, 다시 400~600[℃]의 소성 공정을 거치면 MgO에 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 보호막이 형성된다.

도5는 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말이 소정 첨가된 MgO 필름을 제조하고, 그 MgO 필름을 이용하여 보호막을 형성하는 과정을 도시한 것으로, 고점도의 MgO 용액을 이용하여 미량 첨가제(알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말)가 포함된 MgO 필름을 제조하고, 그 MgO 필름을 이용하여 보호막을 형성하는 것을 알 수 있다.

그럼, MgO 필름을 이용하여 보호막을 형성하는 일 실시예 과정을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 고분자 용매와 MgO 분말 및 50[㎚] 이하인 소정의 알카리 금속 분말또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 고점도의 MgO 용액을 제조한다.

상기 고점도의 MgO 용액을 필름으로 형성하고, 그 형성된 필름을 상기 상부 유전층 상에 적층(lamination)한 후 소성하면 MgO에 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 보호막이 형성된다.

이와 같이 본 발명은 MgO 분말에 50[㎚] 이하의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 소량 혼합하여 만들어진 액상 MgO 또는 고점도 MgO 용액을 통해 보호막을 형성할 수 있고, MgO 분말과 소정의 TiO₂ 분말을 혼합하여 보호막(MgO+TiO₂)을 형성하는 경우 방전시 스퍼터링에 의해 Ti와 O가 분리되면 Ti가 전극표면의 절연성을 열화시켜 PDP의 성능을 약화시키므로 MgO+TiO₂ 보호막 상에 약 100[㎚] 정도의 MgO 보호막을 더 형성하여 이러한 문제를 방지할 수 있다. 또한, 상기 MgO+TiO₂ 보호막 상에 형성될 MgO 보호막에 대한 액상 코팅 방법은 동일하고, 필름 형태로 코팅시에는 상기 MgO+TiO₂ 보호막과 MgO 보호막을 필름화 시킨 후 상부 유전층 상에 한번에 적층시키는 것이 바람직하다.

도6과 도7은 본 발명에 따른 소량의 알카리 금속 분말에 의해 형성된 보호막(도6)과 소량의 TiO₂ 분말에 의해 형성된 보호막(도7)에 대한 일부 단면을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, MgO 분말에 알카리 금속 분말이 혼합된 경우 PDP의 보호막은 상부 유전층(7) 상에 MgO와 알카리 금속이 혼합(MgO+알카리 금속)된 하나의 층을 갖는 보호막(10)으로 형성되고, MgO 분말에 TiO₂ 분말이 혼합된 경우 PDP의 보호막은 상부 유전층(7) 상에 MgO와 TiO₂가 혼합(MgO+TiO₂)된 하나의 층(21)과 그 상부에 형성된 약 100[㎚] 이하의 MgO 층(22)을 갖는 보호막(20)이 형성된다.

또한, 보호막을 MgO 분말과 소정의 알카리 금속 분말 및 TiO2 분말을 함께 혼합하여 형성할 수도 있으며, 상기 첨가되는 두 분말의 비율을 적절히 조절하면 이차전자 방출계수를 증가시키는데 훨씬 더 효과적일 것이다.

이와 같이 본 발명은 MgO 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성함으로써 이자 전자 방출 계수를 높일 수 있으며 그에 대한 일 예의 데이터를 표1에 도시하였다.

표1에 도시된 바와 같이, 종래 MgO 만으로 형성된 보호막에 비해 MgO에 TiO₂가 첨가되어 형성된 보호막의 이차전자 방출계수가 높은 것을 알 수 있으며, 이렇듯 본 발명은 미량의 첨가제를 적절히 사용하여 보호막을 형성함으로써, 이차전자 방출 계수를 높여 방출 전압을 낮출 수 있을 뿐만 아니라 효율도 높일 수 있다.

상기에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명은 보호막을 산화마그네슘 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성함으로써, 이차전자 방출 계수를 높여 방출 전압을 낮추고, 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.

도1은 일반적인 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도.

도2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널 상부기판 상에서의 제조 과정 순서도.

도3은 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 상부기판 상에서의 제조 과정 순서도.

도4는 본 발명에 따른 보호막을 형성하는 제조 과정을 도시한 일 실시예 순서도.

도5는 본 발명에 따른 보호막을 형성하는 제조 과정을 도시한 또 다른 일 실시예 순서도.

도6은 본 발명에 따른 보호막 구조를 도시한 일 실시예 단면도.

도7은 본 발명에 따른 보호막 구조를 도시한 또 다른 일 실시예 단면도.

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**

7:상부 유전층 10, 20:보호막

21:MgO+TiO₂ 보호막 22:MgO 보호막

Claims (12)

1. 산화마그네슘(MgO) 분말에 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성한 보호막을 포함하여 구성한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
2. 제1항에 있어서, 상기 알카리 금속과 TiO₂는 50[㎚] 이하의 나노 분말인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
3. 제1항에 있어서, 상기 보호막을 산화마그네슘 분말에 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성하는 경우 그 상부에 100[㎚] 이하의 산화마그네슘 보호막이 더 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
4. 제1항에 있어서, 상기 알카리 금속 분말은 상기 산화마그네슘 분말에 1 wt%(weight%, 중량퍼센트) 이하 혼합된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
5. 제1항에 있어서, 상기 TiO₂ 분말은 상기 산화마그네슘 분말에 3 wt% 이하 혼합된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
6. 상부 기판 상에 방전유지 전극(투명전극+버스전극)과 상부 유전층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 상부 유전층 상에 산화마그네슘(MgO) 분말과 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.
7. 제6항에 있어서, 상기 보호막을 형성하는 단계는 용제와 고분자 분산제 그리고 산화마그네슘 분말과 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 액상 산화마그네슘을 생성하는 단계와; 상기 액상 산화마그네슘을 상기 상부 유전층 상에 코팅하고, 기 설정된 소정의 온도에서 건조 및 소성하여 산화마그네슘에 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.
8. 제7항에 있어서, 상기 보호막은 상기 용제의 종류에 따라 100~200[℃]로 건조하고, 400~600[℃]로 소성하여 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.
9. 제7항에 있어서, 상기 액상 산화마그네슘 코팅 방법은 스크린 프린팅(screen printing), 딥핑(dipping), 다이 코팅(dye coating), 스핀 코팅(spin coating), 그린 시트 코팅(green sheet coating), 잉크젯(ink-jet) 중 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.
10. 제7항에 있어서, 상기 용제는 Alcohol계, Glycol계, Propylene Glycol Ether류, Propylene Glycol Acetate류, Ketone류, BCA, Xylene, Terpineol, Texanol, 물 중 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.
11. 제6항에 있어서, 상기 보호막을 형성하는 단계는 고분자 용매와 산화마그네슘 분말 그리고 소정의 알카리 금속 분말 또는 TiO₂ 분말을 혼합하여 고점도의 산화마그네슘 용액을 생성하는 단계와; 상기 고점도의 산화마그네슘 용액을 필름으로 형성하고 상기 상부 유전층 상에 적층(lamination)한 후 소성하여 산화마그네슘에 소정의 알카리 금속 또는 TiO₂가 포함된 보호막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.
12. 제6항에 있어서, 상기 보호막을 산화마그네슘 분말과 소정의 TiO₂ 분말을 혼합하여 형성한 경우 그 보호막 상부에 산화마그네슘으로 형성된 100[㎚] 이하의 산화마그네슘 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.