KR20040105203A

KR20040105203A - 경질 표면용 세정제 조성물

Info

Publication number: KR20040105203A
Application number: KR1020040040935A
Authority: KR
Inventors: 하시모또료이찌; 린도가쯔히꼬
Original assignee: 카오카부시키가이샤
Priority date: 2003-06-06
Filing date: 2004-06-04
Publication date: 2004-12-14
Also published as: TW200512286A; CN100447226C; TWI247798B; CN1572866A

Abstract

본 발명은, 알킬글리코시드, 글리세릴에테르, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소, 및 물을 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물, 그 세정제 조성물을 사용하여 경질 표면을 세정하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 세정제 조성물은, 예를 들어, 전자 부품, 금속 부품, 전기 부품, 수지가공 부품, 광학 부품 등의 정밀 부품, 그 정밀 부품의 제조, 가공, 조립, 마무리 등의 각종 공정에서 취급하는 야금도구 및 공구 외에, 이들 정밀 부품을 취급하는 각종 기기, 그 부품 등 조립 가공 공정에 사용되는 야금공구류의 세정에 바람직하게 사용할 수 있다.

Description

경질 표면용 세정제 조성물 {DETERGENT COMPOSITION FOR HARD SURFACE}

본 발명은, 경질 표면용 세정제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 정밀 부품, 야금공구류, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질부재의 표면 (이하, 경질 표면이라고도 함) 에 존재하는 오염 성분의 제거성 및 헹굼성(린스성)이 우수하고, 또한 안정성이 높은 세정제 조성물에 관한 것이다. 또, 그 세정제 조성물을 사용하여 경질 표면을 세정하는 방법에 관한 것이다.

종래 정밀 부품 또는 조립 가공 공정에 사용되는 야금공구, 부품 등의 경질부재의 표면에 존재하는 유지, 기계오일, 절삭오일, 그리스, 액정, 로진계 왁스 등의 유기물을 주체로 하는 오염 성분의 제거에는, 트리클로로에탄, 테트라클로로에틸렌 등의 염소계 용제, 트리클로로플루오로에탄 등의 탄화불소(fluorocarbon)계 용제, 오르토규산나트륨이나 수산화나트륨에 계면활성제나 빌더(builder)를 배합한 알칼리성 세정제, 저비등점의 탄화수소계 용제 등이 사용되고 있다. 그러나, 염소계 및 탄화불소계의 용제는 안전성, 독성, 작업 환경 및 환경 오염 등에 있어서 과제를 가지고 있고, 또한 알칼리성 세정제는 정밀 부품 등에 사용하는 경우에 피세정물 표면에 잔존하면 플라스틱 부품 등에 악영향을 미친다는 우려, 또 전기및 전자 부품에서는 전기 특성에 대단히 악영향을 미친다는 우려가 있었다.

이 문제를 해결하기 위해, 예를 들어, 알킬글리세릴에테르와 옥타데센 및/또는 물로 이루어지는 세정제 조성물 (일본 공개특허공보 평6-346092호), 특정한 알킬폴리글리코시드를 함유하는 세정제 조성물 (일본 공개특허공보 평8-319497호), 알킬글리코시드, 알킬폴리글리세릴에테르로 이루어지는 세정제 조성물 (일본 공개특허공보 평3-174496호) 등이 개시되어 있다. 그러나, 이들 세정제 조성물은, 어느 것이나 헹굼성이나 공업용 세정제에 요구되는 반복 세정성 등의 면에서 충분히 만족스런 효과를 갖는다고는 할 수 없었다.

또한, 이들 세정제 조성물을 사용한 세정 방법으로는, 우선 세정 공정으로서 세정제 원액 또는 물로 희석한 세정제액으로 세정하고, 그 후, 헹굼 공정으로서 물로 헹군 후, 건조 공정을 거치는 것이 일반적인 세정 방법으로 되어 있다.

또, 최근에는 정밀 부품의 가공정밀도가 향상되어 매우 요철이 많고, 오목부의 간극도 매우 좁게 되어 있으며, 또한 생산성 향상으로 인해 세정 공정에 걸리는 시간도 보다 단축화되는 경향에 있다.

특히, 액정 오염의 제거에 관해서는, 액정 표시 패널의 박형화에 수반하여 액정 셀의 갭 간격이 보다 좁아져 갭 사이에 존재하는 액정의 세정이 더욱 어려워지고 있다. 이러한 액정 오염에 대하여, 상기한 바와 같은 종래의 세정제 조성물을 사용할 경우, 설령 표면에 존재하는 액정에 대한 세정성은 양호하다고 하여도 갭 사이에 존재하는 액정의 세정성은 불충분했다.

이러한 점에서, 정밀 부품 또는 조립 가공 공정에 사용되는 야금공구, 부품등의 경질부재의 표면에 존재하는 각종 유지 오염 (특히 정밀 부품의 좁은 간극, 오목부에 부착되어 있는 오염) 의 용해성 및 제거성이 우수하고, 또한 헹구기에도 시간을 필요로 하지 않는 세정제가 요구되고 있었다.

한편, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질부재의 표면의 세정에는 종래부터 알칼리성 세정제가 폭넓게 사용되고 있다. 알칼리성 세정제가 사용되고 있는 분야에서는, 세정성을 향상시키기 위해 실온보다 세정 온도를 높여 세정하는 경우가 많다. 예를 들어, 제철소 등에서 강판 (강대) 을 연속 세정하는 경우, 그 세정 설비는 통상적으로 코일형상으로 감긴 강판 (강대) 을 연속하여 세정하는 구조로 되어 있고, 30∼1100m/분 정도의 속도로 조업되어, 강판의 세정 시간은 최대 수 초 정도로 극히 단시간이다. 따라서, 강판용 세정제는, 단시간에 강판 표면에 부착되어 있는 오일 성분을 탈락시키기 위해 세정제 온도가 통상 60∼80℃ 인 것이 일반적이다. 그러나, 경제성의 관점에서 세정 온도를 저하시켜도 고온시의 세정성을 유지할 수 있는 세정제가 요구되고 있었다.

상기한 바와 같은 경질 표면용 세정제 조성물로는, 폴리글리세릴에테르형 비이온 계면활성제와 알칼리제(alkalizing agent)를 함유하는 알칼리성 세정제 조성물 (일본 공개특허공보 평5-194999호), 글리세릴에테르, 테르펜계 탄화수소, 계면활성제, 알칼리제를 함유하는 알칼리성 세정제 조성물 (일본 공개특허공보 평11-256200호) 등이 개시되어 있다. 그러나, 이들 세정제 조성물은, 저온 (50℃ 이하) 에서 단시간 세정하는 조건하에서의 반복 세정성이나 저거품성 등의 면에서는 충분하다고 할 수 없다.

즉, 본 발명의 요지는,

[1] 알킬글리코시드, 글리세릴에테르, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소, 및 물을 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물,

[2] 상기 [1] 에 기재된 세정제 조성물을 사용하여 경질 표면을 세정하는 방법,

에 관한 것이다.

본 발명은, 경질 표면 상의 각종 오염에 대하여 범용적으로 사용할 수 있고, 우수한 용해성 및 제거성을 나타내며, 특히 지금까지 율속인자(rate-determining factor) 로 되어 있는 헹굼성을 크게 개선할 수 있고, 게다가 환경 오염의 우려가 없을 뿐 아니라, 안정성이 높은 경질 표면용 세정제 조성물 및 그 세정제 조성물을 사용하는 경질 표면의 세정 방법에 관한 것이다.

본 발명의 경질 표면용 세정제 조성물 (이하, 간단히 세정제 조성물이라고 함) 은, 알킬글리코시드, 글리세릴에테르, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소, 및 물을 함유하는 것으로서 이러한 성분을 병용하는 것에 커다란 특징이 있다.

특히 본 발명은, 알킬글리코시드와 글리세릴에테르를 조합시킴으로써, 원래 물에 용해되지 않는 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소를 고함수율에서도 분산시킬 수 있는 것이 큰 특징이다.

따라서, 고함수율로도 경질 표면 상에 존재하는 유성 오염을 용해ㆍ제거하는 것이 가능하여 세정제 비용을 크게 저감할 수 있을 뿐만 아니라, 종래의 세정제와 비교하여 인화성을 고려한 엄격한 수분 관리를 할 필요가 없어져 취급이 용이해진다.

또한, 종래의 탄화수소를 함유하는 수계 세정제는, 피세정물에 부착된 세정성분이 헹굼조에 들어가면 백탁되기 때문에 피세정물로부터 세정성분을 씻어 낼 때의 헹굼시의 부하가 컸지만, 본 발명의 세정제 조성물은, 탄화수소를 수분이 많이 함유된 영역에서도 안정적으로 분산시키고 있기 때문에 희석하더라도 균일 투명하여, 세정 후의 헹굼 공정의 부하를 대폭 저감시키는 것이 가능해진다.

또, 액정 셀의 갭 사이에 존재하는 액정을 세정할 수 있어, 특히 세정이 어려웠던 갭 사이가 좁은 액정 셀 내에 존재하는 액정 오염에 대해서도 세정이 가능하다는 효과가 발현된다. 또한, 종래의 세정제는 셀 갭 내에 잔존한 세정성분을 씻어 내기 위해서 헹굼시의 부하가 컸지만, 본 발명의 세정제 조성물을 사용함으로써 헹구기가 매우 용이해진다.

그리고 본 발명은, 후술하는 바와 같이, 알킬글리코시드와 글리세릴에테르의 특정 비율에 있어서 알칼리제와 조합시킴으로써, 알킬글리코시드 단독보다도 표면 장력을 낮춰 오일 오염에 대한 침투ㆍ용해력을 향상시키는 것이 가능해질 뿐만 아니라, 알킬글리코시드에 의한 유화력 및 헹굼의 용이성을 유지할 수 있다.

이것에 의해 본 발명의 세정제 조성물은, 극히 단시간에 저온에서 효율적으로 오일 성분을 제거하는 것이 가능하고, 반복 세정성이나 저거품성이 요구되는 공업용 세정제, 특히 매우 단시간에 탈지성이 요구되는 강판 등의 강판용 세정제 분야에 유용하다.

또, 본 발명의 세정제 조성물은 저온에서도 충분한 경질 표면의 세정 성능을 갖지만, 50℃ 보다 높은 온도에서도 앞서 나타낸 공지의 세정제보다 우수한 성능을 나타낸다.

또, 본 발명에 있어서, 경질 표면이란 피세정물의 정밀 부품, 야금공구류, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질부재의 표면을 말하며, 본 발명의 세정제 조성물은 이 경질 표면 상에 부착되는 액정, 오일 성분, 플럭스 (납땜시에 생기는 잔류물) 등의 각종 오염을 세정 대상으로 하는 것이다.

본 발명에 사용되는 알킬글리코시드는, 하기의 일반식 (1) 로 나타낸다 :

R¹(OR²)_xG_y(1)

[식 중, R¹은 직쇄 또는 분기쇄의 탄소수 8∼18 의 알킬기, 알케닐기, 또는 알킬페닐기를 나타내고, R²는 탄소수 2∼4 의 알킬렌기를 나타내고, G 는 탄소수 5∼6 을 갖는 환원당(糖)에 유래하는 잔기를 나타내고, x (평균치) 는 0∼5 를, y (평균치) 는 1∼5 를 나타낸다.]

식 중, x 는 바람직하게는 0∼2, 보다 바람직하게는 0 이다. y 는 바람직하게는 1∼1.5, 보다 바람직하게는 1∼1.4 이다. R¹의 탄소수는 세정성의 관점에서 바람직하게는 9∼16, 더욱 바람직하게는 10∼14 이다. 그리고, x 및 y는 프로톤 (¹H)NMR 에 의해 구한다.

알킬글리코시드로는 상기 일반식 (1) 을 만족하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 높은 세정성을 얻기 위한 관점에서는, 데실글리코시드, 도데실글리코시드, 미리스틸글리코시드 등이 바람직하다.

알킬글리코시드의 함유량으로는, 세정제 조성물 중, 0.01∼80중량% 가 바람직하다.

그 중에서도 정밀 부품 및 야금공구류의 경질 표면을 세정하는 경우, 높은 헹굼성을 얻기 위한 관점에서 알킬글리코시드의 함유량으로는 1∼80중량% 가 바람직하고, 1∼50중량% 가 보다 바람직하고, 2∼40중량% 가 더욱 바람직하며, 5∼30중량% 가 특히 바람직하다.

금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 표면을 세정하는 경우, 알킬글리코시드와 알칼리제를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 높은 헹굼성을 얻기 위한 관점에서 알킬글리코시드의 함유량으로는 0.01∼20중량% 가 바람직하고, 0.02∼10중량% 가 보다 바람직하고, 0.03∼5중량% 가 더욱 바람직하며, 0.04∼3중량% 가 특히 바람직하다.

본 발명에 사용되는 글리세릴에테르로는, 세정성을 떨어뜨리지 않으면서 사용 온도 범위에서 균일 투명한 제품 성상을 유지하는 관점에서, 탄소수 4∼12 의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬기 또는 알케닐기를 들 수 있고, 예를 들어 n-부틸기, 이소부틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기,n-데실기 등의 탄소수 4∼12 의 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, 특히 탄소수 5∼10, 더욱 바람직하게는 탄소수 5∼8 의 알킬기를 1 또는 2 개, 특히 1 개 갖는 것이 바람직하다. 그리고, 본 발명에 사용하는 글리세릴에테르로서, 글리세릴기가 2 개 이상, 바람직하게는 2∼3 개의 글리세릴기가 에테르 결합으로 연결된 모노알킬디글리세릴에테르 또는 모노알킬폴리글리세릴에테르일 수도 있다. 특히 액정 오염 세정성이 우수하다는 관점에서, 모노알킬글리세릴에테르, 모노알킬디글리세릴에테르가 바람직하다. 이들 글리세릴에테르는 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 본 발명에 있어서는, 이러한 글리세릴에테르를 사용함으로써 유기용제와 물의 분산성을 안정시킬 수 있기 때문에, 보다 오염이 심한 유성 오염 및/또는 액정 오염의 세정성을 얻을 수 있다는 이점이 있다.

특히 바람직한 글리세릴에테르는 2-에틸헥실글리세릴에테르이다.

글리세릴에테르의 함유량으로는, 세정제 조성물 중 0.02∼80중량% 가 바람직하다.

그 중에서도 정밀 부품 및 야금공구류의 경질 표면을 세정하는 경우, 탄화수소와 물을 안정적으로 분산시키고, 높은 세정성과 헹굼성을 양립시키는 관점에서 글리세릴에테르의 함유량으로는 0.2∼80중량% 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5∼50중량%, 더욱 바람직하게는 1∼30중량%, 특히 바람직하게는 1∼20중량% 이다.

금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 표면을 세정하는 경우, 알칼리제를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 오일 오염에 대한 침투성을 향상시키는 관점에서 글리세릴에테르의 함유량으로는 0.02∼40중량% 가 바람직하고, 0.03∼20중량% 가 보다 바람직하고, 0.05∼10중량% 가 더욱 바람직하며, 0.1 ∼5중량% 가 특히 바람직하다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서, 알킬글리코시드/글리세릴에테르의 중량비는 0.25∼10 이 바람직하다.

그 중에서도 정밀 부품 및 야금공구류의 경질 표면을 세정하는 경우, 세정시의 거품 형성성을 억제하는 관점에서 알킬글리코시드/글리세릴에테르의 중량비는 10 이하가 바람직하고, 또한 탄화수소와 물을 안정적으로 분산시키는 관점에서 1 이상이 바람직하다. 따라서 알킬글리코시드/글리세릴에테르의 중량비는 바람직하게는 1∼10, 보다 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6 이다.

금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 표면을 세정하는 경우, 알칼리제를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 알킬글리코시드/글리세릴에테르의 중량비는 침투성과 헹굼성을 양립시키는 관점에서 4 이하가 바람직하고, 헹굼성을 유지하는 관점에서 0.25 이상이 바람직하다. 따라서, 상기 알킬글리코시드/글리세릴에테르의 중량비는 바람직하게는 0.25∼4, 보다 바람직하게는 0.3∼3, 더욱 바람직하게는 0.4∼1 이다.

본 발명에 사용되는 탄화수소는, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소이다.

올레핀계 탄화수소 및 파라핀계 탄화수소로는 탄소수 10∼18, 바람직하게는 10∼14 의 화합물이 바람직하고, 예를 들어, 데칸, 도데칸, 테트라데칸, 헥사데칸,옥타데칸, 데센, 도데센, 테트라데센, 헥사데센, 옥타데센 등의 직쇄 또는 분기쇄의 포화 또는 불포화 탄화수소계 용제: 시클로데칸, 시클로도데센 등의 시클로 화합물 등의 지환식 탄화수소계 용제 등을 들 수 있다. 이들 중, 탄소수 10∼18, 바람직하게는 10∼14 의 직쇄 또는 분기쇄의 포화 또는 불포화의 탄화수소가 바람직하고, 보다 바람직하게는 올레핀계 탄화수소이다.

이들 탄화수소는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.

또한 본 발명에 있어서는, 상기 올레핀계 탄화수소 및 파라핀계 탄화수소에 추가하여, 노닐벤젠, 도데실벤젠 등의 알킬벤젠, 메틸나프탈렌, 디메틸나프탈렌 등의 나프탈렌 화합물 등의 방향족 탄화수소계 용제도 사용할 수 있다.

본 발명의 세정제 조성물 중에서, 이들 탄화수소의 함유량으로는 0.005∼80중량% 가 바람직하다.

그 중에서도 정밀 부품 및 야금공구류의 경질 표면을 세정하는 경우, 높은 세정성을 얻기 위한 관점에서 상기 탄화수소의 함유량은 0.1∼80중량% 가 바람직하고, 0.5∼50중량% 가 보다 바람직하고, 오일 성분 세정성과 헹굼성을 양립시키는 관점에서 1∼20중량% 가 더욱 바람직하고, 4∼20중량% 가 특히 바람직하며, 5∼20중량% 가 가장 바람직하다.

금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 표면을 세정하는 경우, 알칼리제를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 올레핀계 탄화수소 및 파라핀계 탄화수소의 함유량으로는, 오일 오염에 대한 침투성을 높이고 거품 형성성을 억제하는 관점에서 0.005∼10중량% 가 바람직하고, 0.01∼8중량% 가 보다 바람직하고, 0.02∼5중량% 가 더욱 바람직하다.

본 발명에 사용되는 물로는 특별히 한정되지 않고, 이온교환수, 순수, 탈이온수 등을 들 수 있다.

물의 함유량으로는, 세정제 조성물 중 5∼99.8중량% 가 바람직하다. 그 중에서도 정밀 부품 및 야금공구류의 경질 표면을 세정하는 경우, 물의 함유량으로는 세정제 조성물이 인화하지 않도록 하는 관점 및 헹굼성을 향상시키는 관점에서 5∼98중량% 가 바람직하고, 10∼95중량% 가 보다 바람직하고, 30∼90중량% 가 더욱 바람직하고, 50∼90중량% 가 특히 바람직하며, 60∼90중량% 가 가장 바람직하다.

금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 표면을 세정하는 경우, 알칼리제를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 물의 함유량으로는 사용시의 배수 부하를 저감시키고 세정액을 농축화하는 관점에서 5∼99.8중량% 가 바람직하고, 10∼99.5중량% 가 보다 바람직하다.

또, 본 발명에 있어서는, 알킬글리코시드, 글리세릴에테르, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소의 바람직한 조합으로는 알킬글리코시드가 데실글리코시드 및 도데실글리코시드이고, 글리세릴에테르가 2-에틸헥실글리세릴에테르 및 헥실글리세릴에테르이고, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소가 데센, 도데센, 테트라데센, 데칸, 도데칸 및 테트라데칸으로부터 각각 선택되는 것을 들 수 있다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물은, 더욱 높은 세정성을 얻기 위한 관점에서 알칼리제를 함유하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 사용되는 알칼리제로는, 수용성의 알칼리제이면 모두 사용할 수 있다. 구체예로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리금속의 수산화물; 오르토규산나트륨, 메타규산나트륨, 세스키규산나트륨 (예를 들어, 1 호 규산나트륨, 2 호 규산나트륨, 3 호 규산나트륨) 등의 규산염; 인산2수소나트륨, 인산수소2나트륨, 인산3나트륨, 피롤린산나트륨, 트리폴리인산나트륨, 헥사메타인산나트륨 등의 인산염; 탄산2나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산2칼륨, 탄산수소칼륨 등의 탄산염; 붕산나트륨 등의 붕산염 등을 들 수 있다. 2 종 이상의 수용성 알칼리제를 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 알칼리제 중 바람직하게는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 오르토규산나트륨, 메타규산나트륨이다.

세정제 조성물 중의 알칼리제의 함유량으로는 높은 세정성을 유지하고 세정액을 농축하는 관점에서 0.1∼50중량% 가 바람직하고, 0.1∼10중량% 가 보다 바람직하고, 0.2∼8중량% 가 더욱 바람직하고, 0.5∼5중량% 가 더욱 바람직하다.

알칼리제를 사용하는 경우, 특히 강판(강대) 표면에 부착한 압연 오일을 연속 세정하는 경우에 킬레이트제 및/또는 수용성 고분자 카르복실산을 병용하는 것이 바람직하다.

본 발명의 세정제 조성물은 킬레이트제를 병용함으로써 세정 성능을 더욱 향상시킬 수 있고, 사용되는 킬레이트제로는, 글루콘산, 글루코헵톤산 등의 알돈산류, 에틸렌디아민4아세트산 등의 아미노카르복실산류, 시트르산, 말산 등의 히드록시카르복실산류, 아미노트리메틸렌포스폰산, 히드록시에틸리덴디포스폰산 등의 포스폰산류, 및 이들의 알칼리 금속염, 저급 아민염, 암모늄염, 알칸올암모늄염을 들수 있고, 특히 바람직하게는 글루콘산나트륨, 글루코헵톤산나트륨, 에틸렌디아민4아세트산나트륨, 시트르산나트륨, 히드록시에틸리덴디포스폰산나트륨이다.

본 발명의 세정제 조성물 중의 킬레이트제의 함유량은, 세정성 및 경제성의 관점에서 0.01∼15중량% 가 바람직하고, 0.05∼10중량% 가 더욱 바람직하다.

본 발명의 세정제 조성물은 수용성 고분자 카르복실산을 배합함으로써 보존 안정성이나 세정 성능을 더욱 향상시킬 수 있다. 본 발명에 사용되는 수용성 고분자 카르복실산으로는, 일반식 (2) 로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

[식 중, R¹∼R⁶은, 동일하거나 또는 상이하고, 수소원자, 탄소수 1∼5 의 알킬기, 탄소수 1∼5 의 알콕실기, COOM 또는 OH 를 나타내고, M 은 수소원자, 알칼리금속, 탄소수 1∼4 의 알킬아민 또는 탄소수 1∼6 의 알칸올아민을 나타내고, m 및 n 은 각각 괄호 안의 구성 단위의 몰수를 나타내고, m/n (몰비) 은 0/10∼10/1 이다.]

일반식 (2) 의 양 말단의 기로는 특별히 한정되지 않지만, 수소원자, OH, 탄소수 1∼5 의 알킬기, 탄소수 1∼5 의 알콕실기 또는 SO₃M (식 중, M 은 상기와 동일함) 등을 들 수 있고, 양 말단의 기는 동일할 수도 있으며 상이할 수도 있다. m 은 0 이어도 상관없다. 또한, 일반식 (2) 로 표시되는 화합물의 중량평균분자량 (Mw) 은 1,000∼100,000, 바람직하게는 3,000∼50,000, 보다 바람직하게는5,000∼20,000 이다. 중합 형태는 블록 중합일 수도 있고 랜덤 중합일 수도 있다.

일반식 (2) 로 표시되는 수용성 고분자 카르복실산의 구체예로는, 아크릴산 호모폴리머, 아크릴산-말레산 공중합체, α-히드록시아크릴산 호모폴리머, C₅올레핀-말레산 공중합체, 이소부틸렌-말레산 공중합체 등, 및 이들의 알칼리금속염 또는 아민염 등을 들 수 있다. 바람직하게는 아크릴산 호모폴리머, 아크릴산-말레산 공중합체이고, 2 종 이상의 수용성 고분자 카르복실산류를 조합하여 사용할 수도 있다.

본 발명의 세정제 조성물 중의 수용성 고분자 카르복실산의 함유량은, 물의 연수화 성능, 세정성 및 낮은 COD (chemical oxygen demand) 의 관점에서 0.05∼1중량% 가 바람직하고, 0.1∼0.5중량% 가 더욱 바람직하다. 0.05중량% 이상으로 함으로써, 공업용수 등의 경도가 높은 물을 사용한 경우에 칼슘 이온이나 마그네슘 이온이 오염으로서 혼입되는 지방산 등과 수불용성 염을 만들어 세정이 불량해지는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물 중에 세정액의 점도를 낮추고, 세정시의 거품 형성성을 억제하며, 또 세정 직후의 헹굼시 [이하 예비 헹굼이라고 함] 의 배수 부하를 저감시키기 위해 글리콜에테르를 첨가하는 것이 바람직하다. 글리콜에테르로는, 에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼12)에테르, 디에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼12)에테르, 트리에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼12)에테르, 벤질글리콜,벤질디글리콜, 페닐글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜의 모노알킬(탄소수 1∼12)에테르, 디알킬글리콜(탄소수 2∼12) 의 모노알킬(탄소수1∼12)에테르를 들 수 있고, 그 중에서도 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르가 바람직하고, 일본 특허 제2539284호에 기재된 헹굼액의 배수 부하를 저감시키는 세정 방법 (이하, 오일-물 분리법이라고 함) 을 실시하는 관점에서는, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르가 특히 바람직하다.

또한 알칼리제를 병용하는 경우, 세정액의 침투성을 높이고 세정액의 거품 형성성을 억제하는 관점에서는 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르가 특히 바람직하다.

이들 글리콜에테르는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.

글리콜에테르의 함유량으로는 세정제 조성물 중 0.01∼40중량% 가 바람직하다.

그 중에서도 정밀 부품 및 야금공구류를 세정하는 경우, 글리콜에테르의 함유량으로는, 세정제의 담점(cloud point)을 30℃ 이상으로 하여 고온에서 세정하고 또 오일-물 분리법을 실시하는 관점에서 0.01∼40중량% 가 바람직하고, 0.01∼30중량% 가 보다 바람직하고, 0.1∼25중량% 가 더욱 바람직하고, 0.5∼20중량% 가 특히 바람직하며, 0.5∼15중량% 가 가장 바람직하다.

금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 표면을 세정하는 경우, 알칼리제를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 글리콜에테르의 함유량으로는, 오일 오염에 대한 침투성을 높이고 거품 형성성을 억제하는 관점에서 0.02∼40중량% 가 바람직하고, 0.03∼20중량% 가 보다 바람직하고, 0.04∼10중량% 가 더욱 바람직하며, 0.04∼5중량% 가 특히 바람직하다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물은, 필요에 따라 세정제의 분리를 억제시키기 위한 가용화제나, 세정제의 외관을 백색 현탁 상태로 하는 슬러리화제를 첨가하여 제조한 농축 세정제 조성물의 형태로 할 수도 있다.

본 발명에 사용되는 가용화제로는, 지방산 및 그 염, 및 알킬설페이트 및 그 염을 들 수 있고, 구체적으로는 탄소수 6∼18 의 알케닐숙신산 및 그 염, 카프로산, 에난트산(enanthic acid), 카프릴산, 카프르산, 라우르산, 부티르산, 발레르산, 이소부티르산, 2-에틸헥산산 및 그 염을 들 수 있다.

본 발명에서 사용되는 슬러리화제로는, 상기 수용성 고분자 카르복실산, 또는 나프탈렌디카르복실산, 나프탈렌디술폰산 또는 프탈산 및 이들의 알칼리금속염 또는 아민염을 들 수 있다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물에는, 세정 공정에서 발생하는 거품을 억제하는 거품제거제, 예를 들어, 실리콘, 고급 알코올, 고급 지방산 및 그 염, 플루로닉(pluronic)형 코폴리머, 테트라닉형 코폴리머, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등을 배합할 수도 있다.

본 발명의 세정제 조성물을 농축 세정제의 형태로 제공하는 경우에는 그 조성은 특별히 한정되지 않지만, 우수한 제품안정성 및 배관 수송성을 얻기 위한 관점에서 글리세릴에테르는 바람직하게는 0.1∼20중량%, 더욱 바람직하게는 0.5∼5중량% 이고, 알킬글리코시드는 바람직하게는 0.1∼20중량%, 더욱 바람직하게는 0.5∼5중량% 이고, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소는 바람직하게는 0.05∼20중량%, 더욱 바람직하게는 0.1∼5중량% 이고, 글리콜에테르는 바람직하게는 0.1∼20중량%, 더욱 바람직하게는 0.5∼5중량% 이고, 알칼리제는 바람직하게는 1∼50중량%, 더욱 바람직하게는 15∼45중량% 이고, 가용화제 또는 슬러리화제는 바람직하게는 0.05∼40중량%, 더욱 바람직하게는 0.1∼10중량% 이다. 또한, 킬레이트제를 함유시키는 경우는 0.1∼20중량% 가 바람직하고, 0.5∼10중량% 가 더욱 바람직하다. 세정제 조성물이 안정적이면 가용화제 또는 슬러리화제는 사용하지 않아도 된다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 필요에 따라 통상적으로 세정제 조성물에 사용되는 기타 계면활성제, 방부제, 녹방지제, 실리콘 등의 거품제거제 등을 적절하게 병용할 수 있다.

이상의 구성을 갖는 본 발명의 세정제 조성물은, 상기 성분 및 임의 성분 등을 통상적인 방법에 의해 혼합함으로써 제조할 수 있다. 예를 들어, 상기 알킬글리코시드, 상기 글리세릴에테르, 상기 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소, 상기 글리콜에테르를 교반하면서 혼합하고, 추가로 필요에 따라서 그밖의 임의의 성분을 혼합한 후, 마지막으로 물을 첨가함으로써 제조할 수 있다.

또 본 발명의 세정제 조성물은, 농축 제품으로서 제조하여, 세정시에 물 등의 수성 매체에 의해 희석시켜 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명의 세정제 조성물은, 정밀 부품, 야금공구류, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질부재의 표면을 세정하는 공지의 세정 방법에 적용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 세정제 조성물의 원액 또는 물로 희석한 액을 사용하여 세정 공정을 실시하고, 이어서 헹굼 공정, 건조 공정 등을 거침으로써 피세정물의 세정이 이루어진다. 따라서 본 발명은, 상기 세정제 조성물을 사용하여 경질 표면을 세정하는 방법에 관한 것이다.

세정 공정, 헹굼 공정의 물리력은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 침지법, 초음파 세정법, 침지 요동법, 스프레이법, 전해 세정, 핸드와이핑법(hand-wiping method) 등의 각종 공지의 세정 방법을 단독으로 또는 조합하여 세정한다. 온도 등의 세정 조건도 통상적으로 실시되는 공지의 조건이면 되고, 예를 들어 상온에서 90℃ 이하가 바람직하고, 수분의 증발을 생각하면 80℃ 이하가 보다 바람직하다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물은, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등을 저온에서 세정할 때에 유효하고, 특히 제철소 등에서의 강판의 연속 세정, 즉 침지 세정, 스프레이 세정, 브러시 세정, 전해 세정 등에 있어서 그 효과를 발휘할 수 있다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물은, 헹굼액의 배수 부하를 저감시키는 오일-물 분리법에 의한 세정에 사용할 수도 있다.

그 중에서도 본 발명의 세정제 조성물은, 정밀 부품 및 그 조립 가공 공정에 사용되는 야금공구류의 세정에 특히 우수한 효과를 갖는다.

본 발명에서의 정밀 부품이란, 예를 들어, 전자 부품, 금속 부품, 전기 부품, 수지가공 부품, 광학 부품 등을 말한다.

여기서 말하는 전자 부품이란, 예를 들어, 액정 패널, 반도체 패키지, 프린트 배선 기판, IC 리드, 규소나 세라믹 웨이퍼 등의 반도체 재료, 수정 진동자를 들 수 있다. 금속 부품이란, 예를 들어, 정밀 구동기기에 사용되는 베어링, 전자 포트나 전자 보온 밥통의 딥 드로잉 용기나 캔 등의 소성 가공품을 들 수 있다. 전기 부품으로는, 예를 들어, 브러시, 로터, 하우징 등의 전동기(모터) 부품을 들 수 있다. 수지 가공품으로는, 예를 들어, 카메라, 자동차 등에 사용되는 정밀 수지가공 부품을 들 수 있다. 광학 부품으로는, 예를 들어, 카메라, 안경, 광학기기에 사용되는 렌즈를 들 수 있다.

본 발명에 있어서 조립 가공 공정에 사용되는 야금공구류란, 상술한 각종 부품예에서 나타낸 정밀 부품의 제조, 가공, 조립, 마무리 등의 각종 공정에서 취급하는 야금도구, 공구 외에, 이들의 정밀 부품을 취급하는 각종 기기 및 그 부품 등을 말한다.

본 발명의 세정제 조성물은, 특히 상기 서술한 것 중 액정 패널의 갭에 존재하는 누설 액정 오염, 반도체 패키지, 프린트 배선 기판에 잔존하는 플럭스, 규소 잉곳(ingot) 절삭 후에 표면에 부착된 가공오일, 금속 부품의 소성 가공시에 표면에 부착된 가공오일에 대하여 높은 세정성을 발휘하지만, 본 발명의 세정 대상이 되는 정밀 부품류 및 야금공구류는 이러한 예들로 한정되는 것이 아니라, 조립 가공 공정에 있어서 각종 가공오일, 액정이나 플럭스 등의 후공정의 방해 물질, 또는 제품의 특성을 저하시키는 각종 유성 오염 물질이 부착되어 있는 일정 형상의 개체 표면을 갖는 정밀 부품류 및 야금공구류이면 본 발명의 세정제 조성물을 적용할 수 있다.

또, 이들 오염 물질이 예를 들어 유지, 기계오일, 절삭오일, 그리스, 로진계 플럭스, 액정, 석유 피치 등과 같은 주로 유기 오일 성분의 오염인 경우에 본 발명의 세정제 조성물이 특히 유효하고, 여기에 금속 분말, 무기물 분말, 수분 등이 혼입된 오염에 대해서도 높은 세정성을 나타낸다.

실시예

이하 본 발명의 태양을 실시예에 의해 더욱 상세히 기재하고, 개시한다. 이 실시예는 단순한 본 발명의 예시로서, 전혀 한정을 의미하는 것은 아니다.

<시험 기판의 제작>

액정 셀 (갭간 거리 5㎛) 의 갭 내에 TFT (박막 트랜지스터) 액정을 봉입하고, 실온에서 30 분간 정치시킨 것을 시험 기판으로 하였다.

실시예 1∼6, 비교예 1∼3

표 1 에 나타내는 조성이 되도록 각 성분을 첨가 혼합하여, 실시예 1∼6 및 비교예 1∼3 의 세정제 조성물을 각각 제조하였다. 이 제조한 40℃ 의 세정제 조성물 중에서 시험 기판을 10 분간 초음파 세정 (39kHz, 200W) 하고, 그 후, 4 조의 각 순수조 (40℃) 에서 3 분간 헹군 후, 90℃ 의 열풍 건조기로 30 분간 건조시켜, 관찰 샘플로 하였다.

[액정 세정성 평가 방법]

세정 후의 액정 셀의 갭 내에 잔류하고 있는 액정, 및 헹굼시에 충분히 배출되지 않았던 액정과 세정제 조성물의 혼합물을 편광현미경 (배율 25배) 으로 관찰하여, 액정 패널의 세정성을 평가하였다.

액정 세정성의 평가는, 관찰한 갭의 전체 면적으로부터 액정 및 액정과 세정제의 혼합물이 잔류된 부분의 전체 면적을 뺀 면적을, 관찰한 갭의 전체 면적으로 나눈 값으로 나타내었다. 또한, 평가 기준은 아래와 같이 정하였다.

[액정 세정성 평가 기준]

◎: 90% 이상

○: 80∼90% 미만

△: 40∼80% 미만

×: 40% 미만

(반복 세정성)

세정액의 반복 세정성을 평가하기 위해 액정 포화 용해 농도를 조사하였다. 40℃ 로 유지한 세정제 조성물 20g 중에 TFT 액정을 0.02g 첨가하고, 3 분간 40℃ 에서 유지시킨다. 그 상태에서 액의 상태를 확인하여, 투명하면 용해된 것으로 판단하여 동일한 조작을 반복한다. 이 조작을 반복하여 세정액이 백탁되기 시작한 액정량에서 0.01g 을 뺀 양으로부터 포화 용해 농도를 산출하여 액정 포화 용해 농도로 정의하였다.

예를 들어, TFT 액정을 0.24g 첨가했을 때에 처음으로 백탁되었다고 가정하면, 액정 포화 용해 농도는 (0.24－0.01)/(20＋0.24－0.01)×100 에 의해 산출된다. 이러한 액정 포화 용해 농도를 사용하여, 하기 평가 기준에 기초하여 반복 세정성을 평가하였다.

[반복 세정성 평가 기준]

◎: 2% 이상

○: 1% 이상∼2% 미만

△: 0.5% 이상∼1% 미만

×: 0.5% 미만

(헹굼수 평가)

헹굼수의 액 상태를 평가하기 위해, 각 세정액의 5중량% 수용액을 예비 헹굼액, 또 각 세정액의 0.5중량% 수용액을 헹굼액으로서 제조하고, 60℃ 에서 이들 예비 헹굼액 및 헹굼액의 상태를 관찰하여, 헹굼수를 평가하였다.

(헹굼성 평가)

1. 세정액 (60℃) 의 10중량% 수용액 중 (500g) 에 유리 패널 (35×48mm) 을 18 장 10 분간 침지시켰다.

2. 그 후, 20 초에 걸쳐 패널을 천천히 꺼내 올려, 60℃ 의 순수 500g 을 넣은 제 1 헹굼조에 침지시켰다 (2 분).

3. 마찬가지로 패널을 꺼내 올려, 60℃ 의 순수 500g 을 넣은 제 2 헹굼조에침지 (2 분) 시켰다.

4. 다음으로 70℃ 로 유지된 순수에 의한 추출조 (초음파조) 에서 패널 표면에 잔존한 세정제성분을 추출하기 위해 초음파 (38kHz, 400W) 로 10 분간 헹구기를 하였다.

5. 다음으로 각 헹굼조 (제 1, 제 2) 의 헹굼수 및 초음파조의 추출수의 유기물 농도를 TOC (총 유기탄소 측정기) 에 의해 측정하여, 하기 식에 따라서 제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율을 산출하였다.

식: 제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율 (%) =

(제 1 헹굼조의 유기물 중량)/(제 1 헹굼조의 유기물 중량 ＋ 제 2 헹굼조의 유기물 중량 ＋ 초음파조의 유기물 중량) ×100

제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율에 대하여 다음과 같이 평가하였다.

◎: 제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율이 90% 이상

○: 제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율이 70% 이상∼90% 미만

△: 제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율이 50% 이상∼70% 미만

×: 제 1 헹굼조의 오일 성분 제거율이 50% 미만

	실시예1	실시예2	실시예3	실시예4	실시예5	실시예6	비교예1	비교예2	비교예3
세정제 조성물(중량%)	알킬글리코시드¹⁾(평균탄소수 11.3)	21.4	16	10.7	16	-	20	-	25	-
	알킬글리코시드²⁾(평균탄소수 10.2)	-	-	-	-	12	-	40	-	-
	2-에틸헥실글리세릴에테르	5.3	4	2.7	4	3	5	-	-	10
	펜틸글리세릴에테르	-	-	-	-	-	-	-	25	40
	알킬글리코시드/글리세릴에테르 중량비	4	4	4	6	4	4	-	-	-
	α-올레핀(C-12)	13.3	10	6.6	10	5	15	-	-	5
	디에틸렌글리콜모노헥실에테르	-	-	-	-	-	8	-	-	-
	트리에틸렌글리콜모노부틸에테르	-	-	-	-	-	2	-	-	-
	물	60	70	80	70	80	50	60	50	40
	폴리옥시에틸렌올레일에테르(HLB=13.0)	-	-	-	-	-	-	-	-	5
특성평가	액정세정성	◎	◎	◎	◎	◎	◎	×	×	△
	반복 세정성	◎	◎	◎	◎	◎	◎	×	×	○
	예비헹굼액의 상태	투명	투명	투명	투명	투명	백탁	투명	투명	백탁
	헹굼액의 상태	투명	투명	투명	투명	투명	투명	투명	투명	백탁
	헹굼성 평가	◎	◎	◎	◎	◎	◎	◎	○	△
1) 일반식 (1) 에 있어서 x=0, y=1.32) 일반식 (1) 에 있어서 x=0, y=1.3

표 1 의 실시예 1∼5 에서는, 예비 헹굼수 및 헹굼수가 투명하고 헹굼성 평가도 높으며, 액정 용해성도 높은 것으로 보아, 세정 후의 갭에는 액정 및 액정과 세정제 조성물의 혼합물이 없이 높은 액정 세정성을 나타내고 있음을 알 수 있다. 또한 실시예 6 에서는, 오일-물 분리법이 가능한 세정제 조성물로서, 예비 헹굼수가 백탁되지만 헹굼수가 투명한 것으로 보아 충분히 세정성분의 헹굼이 가능함을 알 수 있었다.

이에 대하여 비교예 1 과 2 는, 헹굼수는 투명하지만, 탄화수소를 함유하지 않은 것으로 보아 액정 용해성이 없어 액정 세정성은 낮음을 알 수 있다. 따라서 동일한 세정액으로 반복 세정하는 공업용 세정제에서는, 이들 세정액은 충분한 성능을 가지고 있지 않다. 또한 비교예 3 은, 탄화수소를 함유하고 있어 액정 용해성은 있지만, 헹굼성이 떨어져, 그 결과 액정 세정성이 저하됨을 알 수 있다.

실시예 7∼10 및 비교예 4∼7

표 2 에 나타내는 조성이 되도록 각 성분을 첨가 혼합하여, 실시예 7∼10 및 비교예 4∼7 의 세정제 조성물 (잔량은 탈이온수임) 을 각각 제조하고, 하기 방법에 의해 강판 세정 시험을 실시하여, 강판의 세정성 및 거품 형성성 및 거품 소멸(foam-off)성을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

<강판 세정 시험>

(1) 피세정 강판

피세정 강판은 모두 두께 0.5mm 로 냉각 압연된, 부착 오일 성분량 350㎎/m²의 강판을 세로 50mm×가로 25mm 의 크기에 절단하여 제작하였다.

(2) 유사(psudo) 열화 세정액의 제조

압연기에 부착되어 퇴적된 찌꺼기 중에서 헥산에 의해 추출하여 얻은 찌꺼기 추출 오일을 세정제 조성물 중 1.0중량% 가 되도록 세정제 조성물에 첨가하고, 충분히 교반하여 유사 열화 세정액을 제조하였다.

(3) 세정 및 헹굼 방법

세정제 조성물 (무오염 세정액) 및 유사 열화 세정액 중에 각각 설치한 세로 100mm×가로 50mm 의 크기의 전극판 1 쌍 (전극판간 거리는 20mm) 으로부터 등거리이면서 중심에 피세정 강판을 1 초간 침지시킨다. 그 후 전류밀도 10A/dm²에서 강판 전위를 마이너스로부터 플러스로 한번 전환하고, 각각 0.5 초씩 전류를 흐르게 하여 전해 세정하였다. 그 후 계속해서 스프레이 헤드로부터 10cm 의 위치에서 1 초간 물 스프레이 린스 (수온 20℃, 수압 0.2MPa) 하고, 온풍 건조시켰다. 시험 세정액의 온도는 40℃ 였다.

(4) 강판 세정성의 평가 (잔존 부착 오일 성분량 측정 방법)

무오염 세정액 및 유사 열화 세정액에 대해서, 각각 세정 및 헹굼 후의 강판 부착 오일 성분량을 강판 부착 오일 성분량 측정장치 「EMIA-111」((주) 호리바 세이사꾸쇼 제조) 를 사용하여 측정하고, 5 장의 평균을 측정치로 하여 하기 기준에 의해 강판의 세정성을 평가하였다. 그리고, 유사 열화 세정액을 사용한 평가는, 강판 표면에 부착된 오일 성분이 세정조에 축적된 경우를 상정한 반복 세정성의 세정성 평가이다. 세정성의 평가 기준으로는 측정 후의 잔존 부착 오일 성분량이 45㎎/m²미만이면 합격이다.

(5) 거품 형성성 평가

거품 형성성 평가는 다음과 같이 실시하였다.

25㎖ 시험관에 세정액을 10㎖ 충전시키고, 액온을 40℃ 로 유지시켰다. 그 후, 시험관을 손으로 흔들어 10 회 진탕시켜, 정치 직후의 세정액과 거품 높이를 합친 부피를 초기 거품 높이로서 평가하였다. 또한, 그 시험관을 40℃ 에서 1 분간 유지시킨 후의 동일한 세정액과 거품 높이의 부피를 1 분간 정치 후의 거품 높이로 하였다. 거품 형성성 평가 기준으로는, 초기 거품 높이 (초기 거품 형성성) 가 16㎖ 이하이고, 또 1 분간 정치 후의 거품 높이 (거품 소멸성) 가 11㎖ 이하이면 합격이다.

	실시예7	실시예8	실시예9	실시예10	비교예4	비교예5	비교예6	비교예7
세정제 조성물(중량%)	알킬글리코시드¹⁾(평균탄소수 11.3)	0.3	0.4	0.3	0.15	1	-	0.4	0.4
	2-에틸헥실글리세릴에테르	0.6	0.5	0.4	0.2	-	1	0.6	0.5
	2-에틸헥실글리세릴에테르	0.6	0.5	0.4	0.2	-	1	0.6	0.5	알킬글리코시드/글리세릴에테르 중량비	0.5	0.8	0.75	0.75	-	0	0.66	0.8
	α올레핀(C12)	0.1	0.1	0.1	0.05	-	-	-	-
	에틸렌글리콜2-에틸헥실에테르	-	-	0.2	0.1	-	-	-	-
	D-리모넨	-	-	-	-	-	-	-	0.1
	수산화나트륨	2	2	2	2	2	2	2	2
	물	96.5	96.2	96.25	96.75	97	97	96.34	96.2
	특성평가	강판세정성 (㎎/m²)(무오염 세정액)	11.3	12	12	15	83	220	10	14.2
강판세정성 (㎎/m²)(유사 열화 세정액)		15.6	20	15	35	150	260	12	18.7
초기 거품 형성성(mL)		13	14	11	11	23	13	25	20
거품 소멸성(1 분 후)(mL)		10	10	10	10	23	10	21	13
1) 일반식 (1) 에 있어서 x=0, y=1.3

표 2 의 결과로부터, 실시예 7∼10 에서 얻은 세정제 조성물은, 모두 비교예 4∼7 에서 얻은 것보다도 강판의 세정성이 우수하고, 저거품성의 조성물임을 알 수 있다.

실시예 11

표 3 에 나타내는 희석 전의 조성을 갖는 세정제 조성물 (잔량은 탈이온수)을 제조한 후, 표 3 에 나타내는 희석 후의 농도가 되도록 탈이온수로 희석하여 시험 세정액을 제조하였다. 표 3 에 나타내는 희석 후의 농도가 되도록 탈이온수로 희석하여 시험 세정액을 제조하였다. 이 세정액에 대해서, 실시예 7∼10 과 동일한 방법으로 강판 세정시험을 실시하여, 강판의 세정성, 거품 형성성 및 거품 소멸성을 평가하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.

	실시예11
	희석전	희석후
세정제 조성물(중량%)	알킬글리코시드¹⁾(평균탄소수 11.3)	2.7	0.15
	2-에틸헥실글리세릴에테르	3.6	0.2
	2-에틸헥실글리세릴에테르	3.6	0.2	α-올레핀(C12)	0.9	0.05
	에틸렌글리콜2-에틸헥실에테르	1.8	0.1
	글루콘산나트륨	9	0.5
	폴리아크릴산나트륨(Mw:8000)	0.18	0.01
	수산화나트륨	36	2
	물	45.82	96.99
	특성평가	강판세정성 (㎎/m²)(무오염 세정액)	-	12
강판세정성 (㎎/m²)(유사 열화 세정액)		-	25
초기 거품 형성성(mL)		-	12
거품 소멸성 (1 분 후)(mL)		-	10
1) 일반식 (1) 에 있어서 x=0, y=1.3

표 3 의 결과로부터, 실시예 11 에서 얻은 세정제 조성물은, 마찬가지로 강판의 세정성이 우수하고, 저거품성의 조성물임을 알 수 있다.

본 발명의 경질 표면용 세정제 조성물을 사용함으로써, 경질 표면 상의 각종 오염에 대하여 범용적으로 사용할 수 있고, 이들 오염에 대하여 우수한 용해성 및 제거성을 나타내며, 지금까지 율속인자로 되어 있는 헹굼성을 크게 개선시킬 수 있고, 게다가 환경 오염의 우려가 없을 뿐 아니라, 안정성이 높은 정밀 부품, 야금공구류, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질부재의 표면을 세정할 수 있다는 효과를 나타낸다.

본 발명의 세정제 조성물은, 예를 들어, 전자 부품, 금속 부품, 전기 부품, 수지가공 부품, 광학 부품 등의 정밀 부품, 그 정밀 부품의 제조, 가공, 조립, 마무리 등의 각종 공정에서 취급하는 야금도구, 공구 외에, 이들 정밀 부품을 취급하는 각종 기기, 그 부품 등 조립 가공 공정에 사용되는 야금공구류의 세정에 바람직하게 사용할 수 있다.

Claims

하기를 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물:

- 알킬글리코시드,

- 글리세릴에테르,

- 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소, 및

- 물.
제 1 항에 있어서, 상기 탄화수소가 탄소수 10∼18 의 화합물인 경질 표면용 세정제 조성물.
제 1 항에 있어서, 알킬글리코시드/글리세릴에테르의 중량비가 0.25∼10 인 경질 표면용 세정제 조성물.
제 1 항에 있어서, 세정제 조성물 중의 함유량이 알킬글리코시드 0.01∼80 중량%, 글리세릴에테르 0.02∼80 중량%, 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소 0.005∼80 중량%, 및 물 5∼99.8 중량% 인 경질 표면용 세정제 조성물.
제 1 항에 있어서, 추가로 알칼리제(alkalizing agent)를 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 1 항에 있어서, 추가로 킬레이트제 및/또는 수용성 고분자 카르복실산을 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 5 항에 있어서, 추가로 킬레이트제 및/또는 수용성 고분자 카르복실산을 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 1 항에 있어서, 추가로 글리콜에테르를 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 5 항에 있어서, 추가로 글리콜에테르를 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 6 항에 있어서, 추가로 글리콜에테르를 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 7 항에 있어서, 추가로 글리콜에테르를 함유하는 경질 표면용 세정제 조성물.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 세정제 조성물을 사용하여경질 표면을 세정하는 방법.