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KR20040030640A - 발수성 피복물용 실리콘 조성물 - Google Patents

발수성 피복물용 실리콘 조성물 Download PDF

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KR20040030640A
KR20040030640A KR10-2003-7015533A KR20037015533A KR20040030640A KR 20040030640 A KR20040030640 A KR 20040030640A KR 20037015533 A KR20037015533 A KR 20037015533A KR 20040030640 A KR20040030640 A KR 20040030640A
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KR
South Korea
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sub
weight
parts
silicone composition
formula
Prior art date
Application number
KR10-2003-7015533A
Other languages
English (en)
Inventor
고바야시히데키
사사키모토시
Original Assignee
다우 코닝 도레이 실리콘 캄파니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다우 코닝 도레이 실리콘 캄파니 리미티드 filed Critical 다우 코닝 도레이 실리콘 캄파니 리미티드
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Abstract

화학식 (RO)3Si-Q-{(CH3)2SiO}n-(CH3)2Si-Q-Si(OR)3[여기서 R은 C1내지 C101가 탄화수소 그룹이고, Q는 산소 원자 또는 C2내지 C10알킬렌 그룹이며, n은 10 내지 1000의 정수이다]의 폴리디메틸실록산(A) 100중량부, 화학식 R1 xSi(OR2)4-x[여기서 R1은 C1내지 C61가 탄화수소 그룹이고, R2는 C1내지 C6알킬 그룹이며, x는 0 내지 3의 정수이다]의 알콕시실란의 부분적인 가수분해물/축합물(B) 5 내지 100중량부, 오가노티탄계 촉매(C) 0.1 내지 10중량부, 지방족 탄화수소 용매 또는 에스테르계 용매(D) 50 내지 900중량부, 및 알콜계 용매(E) 0.1 내지 100중량부를 포함하는 발수성 피복물용 실리콘 조성물.

Description

발수성 피복물용 실리콘 조성물 {Silicone composition for water-repellent coating}
통상적인 사용에서 실리콘 조성물은 다양한 기재의 표면에 발수성 또는 내수성을 부여하는 처리제로 사용되었다. 공지된 예는 실리콘 수지 조성물 및 알킬알콕시실란을 주로 함유하는 조성물을 포함한다. 예를 들면, 일본 공개특허공보 제(평)9-255941호는 플루오르알킬실란을 함유하는 발수 처리제에 대해 기술한다. 추가로 일본 공개특허공보 제(평)11-21508호는 가수분해성 실리콘 수지, 페닐실란, 알콕시실란의 부분적인 가수분해물 및 주석 촉매로 이루어진 피복제에 대해 기술한다. 그러나 이러한 표면 처리제는 부적절한 발수성을 갖고, 경화시간이 오래 걸리며, 따라서 추가의 개선이 필요하다는 난점이 있다.
특히 본 발명의 목적은, 저온에서 단시간에 경화하여 유연한 발수성 필름을형성할 수 있는 발수성 피복물용 실리콘 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 발수성 피복물용 실리콘 조성물, 더욱 특히 저온에서 단시간에 경화하여 유연한 발수성 필름을 형성할 수 있는 발수성 피복물용 실리콘 조성물에 관한 것이다.
발수성 피복물용 실리콘 조성물은
화학식 1의 폴리디메틸실록산(A) 100중량부,
화학식 2의 알콕시실란의 부분적인 가수분해물/축합물(B) 5 내지 100중량부,
오가노티탄계 촉매(C) 0.1 내지 10중량부,
지방족 탄화수소 용매 또는 에스테르계 용매(D) 50 내지 900중량부 및
알콜계 용매(E) 0.1 내지 100중량부를 포함한다.
(RO)3Si-Q-{(CH3)2SiO}n-(CH3)2Si-Q-Si(OR)3
R1 xSi(OR2)4-x
위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
R은 C1내지 C101가 탄화수소 그룹이고,
Q는 산소 원자 또는 C2내지 C10알킬렌 그룹이며,
n은 10 내지 1000의 정수이고,
R1은 C1내지 C61가 탄화수소 그룹이며,
R2는 C1내지 C6알킬 그룹이고,
x는 0 내지 3의 정수이다.
성분(A)인 폴리디메틸실록산은 화학식 (RO)3Si-Q-{(CH3)2SiO}n-(CH3)2Si-Q-Si(OR)3으로 기술된다. 당해 화학식에서 R은 메틸, 에틸, 프로필 또는 기타 알킬과 같은 C1내지 C101가 탄화수소 그룹이다. Q는 산소 원자 또는 C2내지 C10알킬렌 그룹이다. 알킬렌 그룹의 예는 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 및 헥실렌을 포함한다. 위의 화학식에서 n은 10 내지 1000, 바람직하게는 100 내지 800, 이상적으로는 300 내지 700의 정수이다. 성분(A)는 공지된 통상적인 방법으로 용이하게 제조될 수 있다. 위의 화학식에서 Q가 산소 원자인 경우, 예를 들면, 촉매의 존재 또는 부재하에 테트라알콕시실란 및 실란올로 차단된 폴리메틸실록산을 축합하여 당해 화합물을 합성할 수 있다. 테트라알콕시실란/실란올 그룹의 몰비로 나타낼 수 있는 이들의 반응비는 바람직하게 5 내지 15가 되어야 한다. 또 다른 가능한 방법에 따르면, 피리딘 또는 기타 할로겐화 수소 수용체의 존재하에 트리알콕시클로로실란 및 실란올로 차단된 폴리디메틸실록산이 축합된다. 위의 화학식에서 Q가 알킬렌 그룹인 경우, 백금 촉매의 존재하에 트리알콕시실란 및 알킬렌으로 차단된 폴리디메틸실록산이 하이드로실화되는 방법, 또는 백금 촉매의 존재하에 알켄일트리알콕시실란 및 SiH로 차단된 폴리디메틸실록산 하이드로실화되는 방법으로 당해 화합물이 제조될 수 있다.
성분(B)는 알콕시실란의 부분적인 가수분해물/축합물이고, 여기서 알콕시실란은 화학식 R1 xSi(OR2)4-x을 갖는다. 당해 화학식에서 R1은 C1내지 C61가 탄화수소 그룹이고, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 또는 기타 알킬 그룹; 비닐, 알릴, 5-헥세닐, 또는 기타 알킬렌 그룹; 또는 페닐 또는 기타 아릴 그룹이며, 이들 중에서 메틸이 바람직하다. 위의 화학식에서 x는 0 내지 3, 바람직하게는 1 또는 0의 정수이다. 성분(B)로 적합한 알콕시실란의 예는 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리이소프로폭시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 및 테트라이소프로폭시실란을 포함한다. 이들 화합물은 단독으로 또는 두개 이상의 화합물의 혼합물로 사용될 수 있다. 성분(B)는 상기 알콕시실란에 물을 첨가하여 부분적인 가수분해반응/축합반응을 수득함으로써 제조될 수 있으며, 생성된 부분적인 가수분해물/축합물은, OR2/Si 비가 0.8 내지 2.6의 범위인 양으로 알콕시 그룹을 포함하는 것이 바람직하다. 당해 비가 2.6을 초과하면 화합물의 휘발성이 증가되고 가교결합도가 더욱 가변적일 수 있는 반면 비가 0.8 미만이면 성분(A)와의 혼화성이 감소된다. 25℃에서 성분(B)의 점도는 바람직하게는 1 내지 100mm2/s가 되어야 한다. 성분(B)는 5 내지 100중량부, 바람직하게는 5 내지 20중량부의 양으로 첨가되어야 하는데, 그 이유는, 성분(A) 100중량부당 성분(B)의 각각의 중량부에서의 경화성과 관련된 고려때문이다.
오가노티탄계 촉매(성분(C))는 알콕시 그룹의 가수분해 및 축합반응을 용이하게 한다. 이러한 화합물의 예는 테트라메틸 티탄산염, 테트라프로필 티탄산염, 테트라부틸 티탄산염, 테트라(2-에틸헥실) 티탄산염, 티탄 테트라아세틸 아세테이트 및 비스(이소프로필)티탄 비스(아세틸 아세테이트)를 포함한다. 성분(C)는 0.1 내지 10중량부, 바람직하게는 0.5 내지 5중량부의 양으로 첨가되어야 하는데, 그 이유는, 성분(A) 100중량부당 성분(C)의 각각의 중량부에서의 경화성과 관련된 고려때문이다.
지방족 탄화수소 용매 또는 에스테르계 용매(성분(D))는 성분(A) 또는 (B)를 용해시키고, 당해 조성물의 도포능을 개선하는 화합물이다. 적합한 지방족 탄화수소 용매의 구체적인 예는 헥산, 옥탄, 헵탄, n-파라핀(예: 니폰 페트로케미칼스에서 제조한 노르말 파라핀 SL, L 및 M®), 및 기타 선형 지방족 탄화수소, 및 이소헥산, 이소파라핀(예: 니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸(Isosol) 200 및 300®), 및 기타 분지된 지방족 탄화수소를 포함한다. 성분(D)는 50 내지 900중량부, 바람직하게는 100 내지 500중량부의 양으로 첨가되어야 하는데, 그 이유는, 성분(A) 100중량부당 성분(D)의 각각의 중량부에서의 경화성과 관련된 고려때문이다.
알콜계 용매(성분(E))는 성분(C)의 분산성 및 당해 조성물의 저장 안정성을 개선하기 위해 설계된 희석용 성분이다. 구체적인 예는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 및 이소부탄올을 포함한다. 이러한 알콜계 용매는 또한 수분을 소량 함유할 수 있다. 성분(E)는, 성분(A) 100중량부당 각각의 경우에 대해, 0.1 내지100중량부, 바람직하게는 0.5 내지 50중량부의 양으로 첨가되어야 한다. 그 이유는, 0.1중량부 미만으로 첨가하면 성분(C)의 저장 안정성에 악영향을 끼치고, 100중량부를 초과하면 도포능에 악영향을 끼치기 때문이다.
본 발명의 조성물이 상기 기재된 성분(A) 내지 성분(E)를 포함하더라도, 착색용 안료, 내부식성 안료, 또는 기타 안료, 항미생물제, 폴리에테르 개질된 실리콘 및 기타 균전제, 방오제 등을 적절한 방식으로 첨가하는 것 또한 가능하다. 하기 성분들도 적합한 방식으로 첨가되어, 생성된 피복 필름의 접착성을 개선시킬 수 있다: 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필트리에톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디에톡시실란 및 기타 아미노실란 커플링제; 3-글리시드옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시드옥시프로필메틸디메톡시실란 및 기타 에폭시실란 커플링제; 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등. 그러나 당해 조성물은 페닐 그룹을 갖는 어떠한 알콕시실란도 포함하지 않는다는 것이 인지되어야 한다.
당해 조성물은, 예를 들면, 침지(dipping), 분무, 또는 브러싱으로 도포될 수 있다. 피복 필름은 임의의 두께를 가질 수 있지만, 1 내지 500㎛ 두께가 바람직하다. 조성물을 도포해서 이를 가열하면 우수한 발수성을 가진 필름이 형성된다는 것이 통상적으로 공지되어 있지만, 본 발명의 조성물은 비교적 저온으로(50 내지 100℃) 가열해도 급속 경화를 얻을 수 있다는 특징이 있다. 예를 들면, 100℃에서 가열하면 0.5 내지 20분 후에, 80℃에서 가열하면 1 내지 30분 후에 경화된 필름이 형성될 수 있다. 추가의 이익은, 당해 조성물이 우수한 저장 안정성을 가지며, 연장된 지속 기간 후에도 저온에서 단시간에 우수한 발수능을 나타내는 필름을 형성할 수 있다는 사실을 포함한다. 따라서 조성물은 아크릴계 수지, ABS 수지, 폴리에스테르 부직포, 피혁, 합성 인조피혁 및 기타 유기 재료용 발수성 피복물로 적합하다. 유리, 철, 알루미늄 및 스테인레스 스틸 기판 또한 당해 조성물이 도포될 수 있는 재료의 예가 될 수 있다. 경화된 필름은 통상적으로 6B 또는 그 이하의 연필 경도를 갖기 때문에, 본 발명의 조성물은, 매우 유연한 필름이 요구되는 재료(예: 벽지, 천장 마감재, 바닥재, 의류, 커텐 및 기타 실내장식용 재료; 문, 지붕재, 씨트재(seats) 및 기타 승용차 및 차량용 내장재; 및 필름, 시트(sheet) 및 기타 포장재) 위에 피복물을 형성하기 위한 발수제로 사용될 수 있다.
본 발명은 작업 실시예 및 비교 실시예를 통해 기술될 것이다. 작업 실시예에서, "부" 는 중량부를 의미하고, "점도"는 25℃에서 측정한 값을 나타내며, "Me"는 메틸 그룹을 의미한다. 추가로, 물에 대한 필름의 접촉각은 접촉각 측정기(쿄오와 인터페이스 싸이언스에서 제조한 CA-Z®)로 측정하였고, 연필 경도는 JIS K5400으로 정의된 방법으로 측정하였다.
합성 실시예
메틸트리메톡시실란 775g 및 메탄올 110g이 교반되는 동안, 1/100N 염산 115g을 적하하여 첨가한다. 적하 방식 첨가 후, 당해 계를 환류하여 7시간 동안 가열하고 교반한다. 감압에서 스트리핑하고, 수득물을 냉각하고 여과하여, 점도 25mm2/s인 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 490g을 수득한다.13C-NMR 분석기로 측정한, 부분적인 가수분해/축합 결과물의 메톡시 잔기/Si 비는 0.9이다.
작업 실시예 1
합성 실시예로부터 수득한 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소파라핀 용매(니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸 300®) 390중량부, 이소프로필 알콜 10중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 밝은 황색의 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각은 106°이고 연필 경도는 6B 이하였다. 당해 실리콘 조성물을 3개월 동안 실내 온도에서 저장한 후, 벽지용 폴리에스테르 부직포의 표면 위에 경화된 필름을 동일한 방식으로 형성하였다. 필름의 물에 대한 접촉각을 측정한 결과, 제조 직후 측정한 값과 동일하다는 것을 알 수 있었다. 또한 제품 외관도 변화가 없었다.
작업 실시예 2
점도가 5mm2/s이고, 에톡시 잔기/Si 비가 2.2인 테트라에톡시실란(타마 케미칼스에서 제조한 에틸 실리케이트 40®)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소파라핀 용매(니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸 300®) 390중량부, 이소프로필 알콜 10중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각은 105°이고 연필 경도는 6B 이하였다.
비교 실시예 1
작업 실시예 2에서 사용된 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부가 분산된 것을 제외하고, 피복용 실리콘 조성물이 작업 실시예 2에서와 동일한 방식으로 제조되었다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각을 측정한 결과, 물이 폴리에스테르 부직포에 침투하기 때문에 당해 필름은 발수성이 될 수 없음을 알 수 있었다.
작업 실시예 3
점도가 5mm2/s이고, 메톡시 잔기/Si 비가 2.5인 메틸트리메톡시실란(미쯔비시 케미칼스에서 제조한 MS51®)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소파라핀 용매(니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸 300®) 390중량부, 이소프로필 알콜 10중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각은 106°이고 연필 경도는 6B 이하였다.
작업 실시예 4
합성 실시예로부터 수득한 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소파라핀 용매(니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸 300®) 390중량부, 이소프로필 알콜 10중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3Si-C2H4-(Me2SiO)300Me2Si-C2H4-Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 피복용 투명실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각은 106°이고 연필 경도는 6B 이하였다.
작업 실시예 5
합성 실시예로부터 수득한 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 에틸 아세테이트 390중량부, 이소프로필 알콜 10중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 10분 동안 80℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각은 105°이고 연필 경도는 6B 이하였다.
비교 실시예 2
합성 실시예로부터 수득한 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소프로필 알콜 400중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각은 106°였다. 당해 실리콘 조성물을 3개월 동안 실내 온도에서 저장한 후, 벽지용 폴리에스테르 부직포의 표면 위에 경화된 필름을 동일한 방식으로 형성하였으며, 필름의 물에 대한 접촉각을 측정한 결과 100°으로 감소함을 알 수 있었다. 따라서 당해 실리콘 조성물은 부적합한 저장 안정성을 가짐이 입증되었다.
비교 실시예 3
합성 실시예로부터 수득한 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소파라핀 용매(니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸 300®) 400중량부, 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 밝은 황색의 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
당해 실리콘 조성물을 실내 온도에서 저장한 결과, 2개월 후에 혼탁 현상(cloudiness)이 관찰되었다. 따라서 당해 실리콘 조성물은 부적합한 저장 안정성을 가짐이 입증되었다.
비교 실시예 4
합성 실시예로부터 수득한 메틸트리메톡시실란(B1)의 부분적인 가수분해물/축합물 20중량부, 이소파라핀 용매(니폰 페트로케미칼스에서 제조한 이소졸 300®)390중량부, 디부틸틴 디라우레이트 3중량부 및 비스(이소프록시)티탄 비스(아세틸 아세테이트) 3중량부를 평균 분자식이 (MeO)3SiO(Me2SiO)300Si(OMe)3이고, 점도가 약 3000mPa.s인 폴리디메틸실록산 유체 100중량부에 첨가하여, 피복용 투명 실리콘 조성물을 수득하였다.
생성된 실리콘 조성물을 벽지용 폴리에스테르 부직포에 도포하고 5분 동안 100℃ 오븐에서 열처리하여, 경화된 필름을 수득하였다. 필름의 물에 대한 접촉각을 측정하여, 접촉각이 100°임을 알 수 있었는데, 이는 당해 필름은 부적합한 저장 안정성을 가짐을 보여준다.
상기 기술된 본 발명의 실리콘 조성물은 저온에서 단시간에 경화하여 유연한 발수성 필름을 형성할 수 있기 때문에, 아크릴계 수지, ABS 수지, 폴리에스테르 부직포, 피혁, 합성 인조피혁 및 기타 유기 재료용 발수성 피복물로 적합하며, 벽지, 천장 마감재, 바닥재, 의류, 커텐 및 기타 실내장식용 재료; 문, 지붕재, 씨트재 및 기타 승용차 및 차량용 내장재; 및 필름, 시트 및 기타 포장재용 발수제로 사용할 수 있다.

Claims (10)

  1. 화학식 1의 폴리디메틸실록산(A) 100중량부,
    화학식 2의 알콕시실란의 부분적인 가수분해물/축합물(B) 5 내지 100중량부,
    오가노티탄계 촉매(C) 0.1 내지 10중량부,
    지방족 탄화수소 용매 또는 에스테르계 용매(D) 50 내지 900중량부 및
    알콜계 용매(E) 0.1 내지 100중량부를 포함하는, 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
    화학식 1
    (RO)3Si-Q-{(CH3)2SiO}n-(CH3)2Si-Q-Si(OR)3
    화학식 2
    R1 xSi(OR2)4-x
    위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
    R은 C1내지 C101가 탄화수소 그룹이고,
    Q는 산소 원자 또는 C2내지 C10알킬렌 그룹이며,
    n은 10 내지 1000의 정수이고,
    R1은 C1내지 C61가 탄화수소 그룹이며,
    R2는 C1내지 C6알킬 그룹이고,
    x는 0 내지 3의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, OR2/Si 비로 표기되는 성분(B)에서의 알콕시 그룹의 함량이 0.8 내지 2.6인 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, R1이 메틸이고, R2가 메틸 및 에틸로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, x는 1 또는 0인 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, n이 100 내지 800의 정수인 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분(B)가 25℃에서의 점도가 1 내지 100mm2/s 인 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분(A) 100중량부당 성분(B)를 5 내지 20중량부 포함하는 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분(A) 100중량부당 성분(D)를 100 내지 500중량부 포함하는 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분(A) 100중량부당 성분(E)를 0.5 내지 50중량부 포함하는 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
  9. 화학식 1의 폴리디메틸실록산(A) 100중량부,
    화학식 2의 알콕시실란의 부분적인 가수분해물/축합물(B) 5 내지 20중량부,
    오가노티탄계 촉매(C) 0.1 내지 10중량부,
    지방족 탄화수소 용매 또는 에스테르계 용매(D) 100 내지 500중량부 및
    알콜계 용매 0.5 내지 50중량부(E)를 포함하는, 발수성 피복물용 실리콘 조성물.
    화학식 1
    (RO)3Si-Q-{(CH3)2SiO}n-(CH3)2Si-Q-Si(OR)3,
    화학식 2
    R1 xSi(OR2)4-x
    위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
    R은 C1내지 C101가 탄화수소 그룹이고,
    Q는 산소 원자 또는 C2내지 C10알킬렌 그룹이며,
    n은 100 내지 800의 정수이고,
    R1은 메틸이며,
    R2는 메틸 및 에틸로 이루어진 그룹으로부터 선택되고,
    x는 1 또는 0이며,
    OR2/Si 비는 0.8 내지 2.6이다.
  10. 제1항, 제2항 및 제9항 중의 어느 한 항에 따르는 조성물로 피복되어 있는 유기 재료.
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