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KR20040006440A - Wafer carrier - Google Patents

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Publication number
KR20040006440A
KR20040006440A KR1020020040721A KR20020040721A KR20040006440A KR 20040006440 A KR20040006440 A KR 20040006440A KR 1020020040721 A KR1020020040721 A KR 1020020040721A KR 20020040721 A KR20020040721 A KR 20020040721A KR 20040006440 A KR20040006440 A KR 20040006440A
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KR
South Korea
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wafer
grips
pair
carrier
wafer carrier
Prior art date
Application number
KR1020020040721A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박문수
신흥수
김태호
Original Assignee
삼성전자주식회사
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67326Horizontal carrier comprising wall type elements whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising sidewalls

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE: A wafer carrier is provided to be capable of preventing the warpage of a wafer and restraining the contamination of an adjacent wafer due to the particles generated from the back side of the wafer by vertically loading and unloading the wafer. CONSTITUTION: A wafer carrier is provided with a case(110) having an inner space(112) for storing a plurality of wafers(W) and a plurality of holding parts installed at the upper and lower portions of the inner space corresponding to each other for vertically holding the wafers. Preferably, each holding part includes a pair of grips(120). Preferably, the wafer carrier further includes a moving part for horizontally moving one pair of grips. Preferably, the moving part includes a motor, a lead screw connected with the motor, and a transfer part for connecting the lead screw to the grip.

Description

웨이퍼 캐리어{WAFER CARRIER}Wafer Carrier {WAFER CARRIER}

본 발명은 반도체 웨이퍼 캐리어에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼의 대구경화에 따른 웨이퍼 처짐을 방지할 수 있도록 웨이퍼를 수직방향으로 세워서 보관 및 운반할 수 있는 반도체 웨이퍼 캐리어에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer carrier, and more particularly, to a semiconductor wafer carrier capable of storing and transporting a wafer in a vertical direction so as to prevent wafer sag due to large diameter of the wafer.

각종 반도체소자가 형성되는 웨이퍼는 운반, 보관 및 공정진행동안 시종일관 최고의 물리적, 화학적 상태를 유지시켜야한다. 만약 웨이퍼가 제한량 이상의 먼지나 기타 오염물에 노출되면, 반도체소자의 불량율이 높아지게 된다. 따라서, 반도체 제조현장에서는 웨이퍼를 운반, 보관 및 공정진행동안 그 보호를 위해 별도의 웨이퍼 관리장치로서, 웨이퍼를 넣어두는 캐리어와 이를 넣어두는 캐리어박스를 사용하고 있다. 최근에는 상기 캐리어와 캐리어박스가 일체로 형성된 FOUP 캐리어가 많이 사용되고 있는데, 특히 웨이퍼의 크기가 대구경화되고 고집적화되고 있는 추세에서, 12inch 웨이퍼에 대해 오염물은 반도체소자의 생산성과 직결되므로 캐리어에 대한 세심한 관리가 요구되고 있다.Wafers in which various semiconductor devices are formed must maintain the best physical and chemical state consistently during transportation, storage and processing. If the wafer is exposed to more than a limited amount of dust or other contaminants, the defect rate of the semiconductor device is increased. Therefore, the semiconductor manufacturing site uses a carrier for storing the wafer and a carrier box for storing the wafer as a separate wafer management device for protecting the wafer during transportation, storage and processing. Recently, many carriers in which the carrier and the carrier box are integrally formed are used. In particular, in the trend that the size of the wafer is large and highly integrated, for 12-inch wafers, contaminants are directly connected to the productivity of semiconductor devices, so careful management of the carrier is performed. Is required.

도 1을 참고하면, FOUP 캐리어(12)는 300mm 반도체 설비(14)의 로드락 포트(load port;16)에 놓여지고, FOUP 캐리어(12)에 보관중인 웨이퍼(w)들은 반도체 설비의 EFEM(Equipment Front End Module;18)을 통해 공정챔버(20)로 이송되어진다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(w)는 FOUP 캐리어(12)에 수평한 상태로 수납되어 있다가, EFEM에 배치된 이송로봇(22)에 의해 수평 상태로 이동하게 된다. 이때, EFEM(18) 내의 다운플로우(down flow)에 의해 웨이퍼 하부 와류로 인한 파티클이 발생하여 웨이퍼 공정면에 전이 및 후속 웨이퍼에 악영향을 미치게 된다.Referring to FIG. 1, the FOUP carrier 12 is placed in the load port 16 of the 300 mm semiconductor facility 14, and the wafers w stored in the FOUP carrier 12 are stored in the EFEM ( It is transferred to the process chamber 20 through the Equipment Front End Module (18). As shown in FIGS. 1 and 2, the wafer w is stored horizontally in the FOUP carrier 12 and then moved horizontally by the transfer robot 22 disposed in the EFEM. At this time, particles due to vortex down the wafer are generated by the downflow in the EFEM 18, which adversely affects the transition to the wafer process surface and subsequent wafers.

그 뿐만 아니라, FOUP 캐리어(12)는 통상 캐리어 자체를 운반하거나 보관할 때도 3에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(w)가 수평한 상태에서 보관 및 운반하게 되고, 공정을 위해 캐리어(12)내에서 웨이퍼(w)를 꺼내거나 삽입시키고자 하는 경우에는 수평한 상태로 웨이퍼(w)를 로딩 및 언로딩시켰던 것이다.In addition, the FOUP carrier 12 is normally stored and transported in a state where the wafer w is horizontal, as shown in Fig. 3, when the carrier itself is carried or stored, and the wafer in the carrier 12 for processing. When (w) was to be taken out or inserted, the wafer w was loaded and unloaded in a horizontal state.

그러나, 대구경(12인치 이상)의 웨이퍼를 상기와 같은 구조의 캐리어(12)에 적재하게 되면, 제3도에 도시된 바와 같이 웨이퍼(w)의 중앙부분에서 처짐현상이 발생하게 되고, 이러한 처짐에 의해 웨이퍼(w)의 표면응력이 증가하게 된다. 이때 웨이퍼(w) 중간부분에서의 처짐 정도는 8인치 웨이퍼의 경우 약 0.2mm 이고, 12인치 웨이퍼의 경우 2~3mm 인 것으로, 대구경일수록 처짐 변형이 증가된다.However, when a large-diameter (12 inches or more) wafer is loaded on the carrier 12 having the above structure, deflection occurs at the center portion of the wafer w as shown in FIG. As a result, the surface stress of the wafer w is increased. At this time, the degree of deflection at the middle portion of the wafer (w) is about 0.2 mm for the 8-inch wafer, and about 2 to 3 mm for the 12-inch wafer.

따라서, 웨이퍼(w)의 표면장력과 웨이퍼의 처짐에 의해 웨이퍼를 슬롯에 넣고 빼낼 때, 인접한 웨이퍼와 이송로봇의 아암간의 간섭(충돌)이 일어나 웨이퍼의로딩 및 언로딩 동작이 원활하지 못해 웨이퍼가 손상되는 문제가 발생되고 있다. 또한, 웨이퍼의 로딩 및 언로딩시 웨이퍼가 수평하게 위치된 것이므로 파티클에 의해 웨이퍼의 표면이 오염되기 쉬우며, 대구경 웨이퍼에서 필요한 웨이퍼를 세로로 세워 반송하거나 장착하기 위해 로더(Loader)에 캐리어를 측면으로 장착하기에 부적합한 문제점이 있었다.Therefore, when the wafer is inserted into the slot due to the surface tension of the wafer w and the deflection of the wafer, interference (collision) occurs between the adjacent wafer and the arms of the transfer robot, and the wafer loading and unloading operations are not smooth. The problem of damage is occurring. In addition, since the wafer is horizontally positioned during loading and unloading of the wafer, it is easy to contaminate the surface of the wafer by particles, and the carrier is sided to the loader in order to vertically transport or mount the required wafer in a large diameter wafer. There was a problem unsuitable for mounting.

본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 웨이퍼가 수직방향으로 세워진 상태에서 로딩 및 언로딩이 가능하게 함으로써 웨이퍼의 처짐에 의한 문제를 해소하고, 웨이퍼 뒷면으로부터 떨어지는 파티클에 의한 인접한 웨이퍼의 오염을 감소시킬 수 있는 반도체 웨이퍼 운반용 캐리어를 제공하는데 있다.The present invention is to solve such a conventional problem, its purpose is to enable loading and unloading in the state that the wafer is standing in the vertical direction to solve the problem caused by the deflection of the wafer, by the particles falling from the wafer back There is provided a semiconductor wafer transport carrier capable of reducing contamination of adjacent wafers.

도 1은 통상의 웨이퍼 캐리어로부터 웨이퍼가 반도체 설비의 EFEM(Equipment Front End Module)을 통해 공정챔버로 이송되는 과정을 보여주는 도면;1 is a view showing a process in which a wafer is transferred from a conventional wafer carrier to a process chamber through an equipment front end module (EFEM) of a semiconductor facility;

도 2는 EFEM상에서 수평상태로 이송되는 웨이퍼에 발생되는 와류현상을 설명하기 위한 도면;2 is a view for explaining the vortex phenomenon generated in the wafer transported in a horizontal state on the EFEM;

도 3은 통상의 웨이퍼 캐리어의 정단면도;3 is a front sectional view of a conventional wafer carrier;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어의 정단면도;4 is a front sectional view of a wafer carrier in accordance with an embodiment of the present invention;

도 5a 및 도 5b는 도 4에 도시된 웨이퍼 캐리어에서 웨이퍼를 홀딩하는 그립(grip)의 작동상태를 보여주는 도면들;5A and 5B show an operating state of a grip for holding a wafer in the wafer carrier shown in FIG. 4;

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어로부터 웨이퍼가 반도체 설비의 EFEM(Equipment Front End Module)을 통해 공정챔버로 이송되는 과정을 보여주는 도면이다.6 is a view illustrating a process in which a wafer is transferred from a wafer carrier to a process chamber through an equipment front end module (EFEM) of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

110 : 케이스110: case

112 : 내부 공간112: interior space

117 : 받침대117: pedestal

118 : 손잡이118: handle

120 : 그립120: grip

130 : 이동장치130: moving device

132 : 스텝핑 모터132: stepping motor

134 : 리드스크류134: lead screw

136 : 이송부136: transfer unit

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 웨이퍼 캐리어는 웨이퍼가 로딩 및 언로딩되는 출입구가 형성되며, 다수의 웨이퍼를 수납할 수 있는 내부공간을 갖는 케이스와; 상기 내부공간의 상부면과 하부면에 서로 대응되게 설치되는 그리고 상기 내부공간으로 수납되는 웨이퍼를 수직한 상태로 홀딩하는 수단을 갖는다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the wafer carrier is formed with an entrance to the wafer is loaded and unloaded, and has a case having an inner space that can accommodate a plurality of wafers; And means for holding the wafers installed on the upper and lower surfaces of the inner space corresponding to each other in a vertical state.

본 발명에서 상기 홀딩 수단은 상기 상,하부면에 설치되는 한 쌍의 그립들로 이루어진다. 본 발명에서 상기 웨이퍼는 상기 한 쌍의 그립들 사이에 위치되며, 상기 한 쌍의 그립들 중 어느 하나는 상기 웨이퍼를 홀딩하기 위해 수평 이동된다.In the present invention, the holding means comprises a pair of grips installed on the upper and lower surfaces. In the present invention, the wafer is positioned between the pair of grips, and either one of the pair of grips is moved horizontally to hold the wafer.

본 발명의 웨이퍼 캐리어는 상기 한쌍의 그립들 사이에 위치된 웨이퍼를 홀딩하기 위해 상기 한 쌍의 그립들 중 어느 하나를 수평이동시키기 위한 장치를 갖는다. 상기 수평 이동 장치는 모터와; 상기 모터에 의해 회전하는 리드스크류; 상기 그립과 연결되고, 상기 리드스트류에 결합되어 상기 리드스크류의 회전에 의해 수평이동되는 이송부를 갖는다.The wafer carrier of the present invention has a device for horizontally moving any one of the pair of grips to hold a wafer located between the pair of grips. The horizontal moving device includes a motor; A lead screw rotating by the motor; It is connected to the grip, and coupled to the lead strip has a conveying portion which is horizontally moved by the rotation of the lead screw.

이하, 첨부된 도면 도 4 내지 도 6을 참조하면서 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명한다. 상기 도면들에 있어서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조 번호가 병기되어 있다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are given to components that perform the same function.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어의 정단면도이다. 도 5a 및 도 5b는 도 4에 도시된 웨이퍼 캐리어에서 웨이퍼를 홀딩하는 그립(grip)의 작동상태를 보여주는 도면들이다. 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어로부터 웨이퍼가 반도체 설비의 EFEM(Equipment Front End Module)을 통해 공정챔버로 이송되는 과정을 보여주는 도면이다.4 is a front sectional view of a wafer carrier according to an embodiment of the present invention. 5A and 5B are views showing an operating state of a grip for holding a wafer in the wafer carrier shown in FIG. 6 is a view illustrating a process in which a wafer is transferred from a wafer carrier to a process chamber through an equipment front end module (EFEM) of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어(100)는 대략 직육면체를 이루며 전방부가 개방된 중공의 케이스(110)로 이루어진다. 상기 케이스(110) 상부면에는 상기 웨이퍼 캐리어(100)를 작업자의 손에 의해 잡을 수 있는 손잡이(118)가 상향 돌출한다. 상기 케이스(110)의 바깥 하부면에는 받침대(117)가 하향 돌출한다. 물론, 상기 손잡이(118)는 케이스의 양측면에 형성될 수 도 있다. 도시되지 않았지만, 상기 웨이퍼 캐리어는 상기 케이스의 출입구를 개폐하는 도어를 포함하는 전면개방형으로 이루어지는 것이 바람직하다. 상기 도어의 개폐를 위한 구조는 통상의 FOUP 캐리어와 동일한 구조를 갖는다.As shown in FIG. 4, the wafer carrier 100 according to the preferred embodiment of the present invention comprises a hollow case 110 having an approximately rectangular parallelepiped and an open front portion thereof. A handle 118 that can hold the wafer carrier 100 by a worker's hand protrudes upward from an upper surface of the case 110. Pedestal 117 protrudes downward on the outer lower surface of the case 110. Of course, the handle 118 may be formed on both sides of the case. Although not shown, the wafer carrier is preferably made of a front open type including a door for opening and closing the entrance and exit of the case. The structure for opening and closing the door has the same structure as a conventional FOUP carrier.

도 4에 도시된 바와 같이, 상기 케이스(110) 내부공간(112)의 상부면(114a)과 하부면(114b)에는 웨이퍼(w)를 한 장씩 수직한 상태로 홀딩하기 위한 한쌍의 그립(grip;120)들이 설치되어 있다.As shown in FIG. 4, a pair of grips are held on the upper surface 114a and the lower surface 114b of the inner space 112 of the case 110 to hold the wafer w vertically one by one. 120 are installed.

도 5a 및 도 5b를 참고하면, 상기 한쌍의 그립(120)들 중 어느 하나는 이동장치(130)에 의해 이동됨으로써, 상기 한쌍의 그립들 사이에 위치하는 웨이퍼(w)를 홀딩하거나 비홀딩할 수 있는 것이다. 상기 웨이퍼 캐리어(100)에는 웨이퍼(w)의 연마면(w1)끼리 마주보도록 배치되는 것이 바람직하다.5A and 5B, any one of the pair of grips 120 may be moved by the moving device 130 to hold or non-hold a wafer w positioned between the pair of grips. It can be. The wafer carrier 100 may be disposed to face the polishing surfaces w1 of the wafer w.

상기 그립(120)을 이동시키기 위한 이동장치(130)는 스텝핑 모터(132)와, 리드 스크류(134) 그리고 상기 그립(120)에 연결된 이송부(136)로 이루어지는 통상의 구동방식을 적용한다.The moving device 130 for moving the grip 120 applies a conventional driving method including a stepping motor 132, a lead screw 134, and a transfer unit 136 connected to the grip 120.

도 6을 참고하면, 상기 웨이퍼 캐리어(100)는 반도체 설비(14)의 로드락 포트(load port;16)에 놓여지고, 웨이퍼 캐리어에 수직상태로 보관중인 웨이퍼(w)들은 반도체 설비의 EFEM(Equipment Front End Module;18)을 통해 공정챔버(20)로 이송되어진다. 도 6에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(w)는 웨이퍼 캐리어(100)에 수직한 상태로 수납되어 있다가, EFEM에 배치된 이송로봇(22)에 의해 수직한 상태로 이동하게 된다. 웨이퍼(w)가 수직한 상태로 이송되기 때문에, 웨이퍼 이송시 EFEM(18) 내의 다운플로우(down flow)에 의한 와류가 전혀 발생되지 않는다. 따라서, 웨이퍼 이송시에 발생되는 와류로 인한 웨이퍼 오염을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 6, the wafer carrier 100 is placed in a load lock port 16 of the semiconductor facility 14, and the wafers w stored vertically in the wafer carrier are EFEMs of the semiconductor facility. It is transferred to the process chamber 20 through the Equipment Front End Module (18). As shown in FIG. 6, the wafer w is accommodated in a state perpendicular to the wafer carrier 100, and then moved in a state perpendicular to the transfer robot 22 disposed in the EFEM. Since the wafer w is transferred in a vertical state, no vortices due to downflow in the EFEM 18 are generated at all during wafer transfer. Therefore, it is possible to prevent wafer contamination due to eddy currents generated during wafer transfer.

여기서 본 발명의 구조적인 특징은 웨이퍼를 수직한 상태로 보관할 수 있는그리고 웨이퍼를 홀딩하는 한 쌍의 그립들을 갖는데 있다.The structural feature of the present invention is that it has a pair of grips that can hold the wafer in a vertical position and hold the wafer.

이상에서, 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the configuration and operation of the wafer carrier according to the present invention have been shown in accordance with the above description and drawings, but this is merely an example, and various changes and modifications are possible without departing from the technical spirit of the present invention. to be.

이와 같은 본 발명의 웨이퍼 캐리어에 의하면, 웨이퍼가 수직방향으로 세워진 상태에서 로딩 및 언로딩이 가능하게 함으로써 웨이퍼의 처짐에 의한 문제를 해소하고, 웨이퍼 뒷면으로부터 떨어지는 파티클에 의한 인접한 웨이퍼의 오염을 감소시킬 수 있다.According to the wafer carrier of the present invention, the wafer can be loaded and unloaded while standing in the vertical direction to solve the problem of sagging of the wafer and to reduce contamination of adjacent wafers by particles falling from the wafer back surface. Can be.

Claims (6)

웨이퍼 캐리어에 있어서:In the wafer carrier: 웨이퍼가 로딩 및 언로딩되는 출입구가 형성되며, 다수의 웨이퍼를 수납할 수 있는 내부공간을 갖는 케이스와;A case having an entrance through which the wafer is loaded and unloaded, the case having an inner space for accommodating a plurality of wafers; 상기 내부공간의 상부면과 하부면에 서로 대응되게 설치되는 그리고 상기 내부공간으로 수납되는 웨이퍼를 수직한 상태로 홀딩하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.And means for holding the wafers installed on the upper and lower surfaces of the inner space corresponding to each other and held in the vertical space in a vertical state. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 홀딩 수단은The holding means 상기 상,하부면에 설치되는 한 쌍의 그립들로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.Wafer carrier, characterized in that consisting of a pair of grips installed on the upper, lower surfaces. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 웨이퍼는 상기 한 쌍의 그립들 사이에 위치되며,The wafer is positioned between the pair of grips, 상기 한 쌍의 그립들 중 어느 하나는 상기 웨이퍼를 홀딩하기 위해 수평 이동되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.Any one of the pair of grips is moved horizontally to hold the wafer. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 웨이퍼는 상기 한 쌍의 그립들 사이에 위치되며,The wafer is positioned between the pair of grips, 상기 한 쌍의 그립들 사이에 위치된 웨이퍼를 홀딩하기 위해 상기 한 쌍의 그립들 중 어느 하나를 수평 이동시키기 위한 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.And a device for horizontally moving any one of the pair of grips to hold a wafer positioned between the pair of grips. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 수평 이동 장치는The horizontal moving device 모터와;A motor; 상기 모터에 의해 회전하는 리드스크류;A lead screw rotating by the motor; 상기 그립과 연결되고, 상기 리드스크류에 결합되어 상기 리드스크류의 회전에 의해 수평이동되는 이송부를 포함하는 웨이퍼 캐리어.And a transfer part connected to the grip and coupled to the lead screw to move horizontally by the rotation of the lead screw. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 출입구에서 오프너에 의해 개폐되는 도어를 포함하는 전면개방형인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.Wafer carrier, characterized in that the front open type including a door that is opened and closed by the opener at the entrance.
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