KR20030047172A - Method of forming spacer - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 셀갭을 균일하게 유지시킬 수 있는 스페이서 형성방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a spacer forming method capable of maintaining a cell gap uniformly.
통상적으로, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 "LCD"라 함)는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상이 표시된다. 이를 위하여, LCD는 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정패널과, 이 액정패널을 구동하기 위한 구동회로를 구비하게 된다. 액정패널에는 액정셀들 각각에 전계를 인가하기 위한 화소전극들과 기준전극, 즉 공통전극이 마련된다. 화소전극은 하부기판 상에 액정셀 별로 형성되는 반면 공통전극은 상부기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 화소전극들 각각은 스위칭소자로 사용되는 박막트랜지스터(Thin FilmTransistor : 이하 "TFT"라 함)에 접속된다. 화소전극은 TFT를 통해 공급되는 데이터신호에 따라 공통전극과 함께 액정셀이 구동된다. 이러한 LCD는 브라운관에 비하여 소형화가 가능하며, 퍼스널 컴퓨터(Personal Computer)와 노트북 컴퓨터(Note Book Computer)는 물론, 복사기 등의 사무자동화기기, 휴대전화기나 호출기 등의 휴대기기까지 광범위하게 이용되고 있다.In general, a liquid crystal display (hereinafter referred to as "LCD") displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal using an electric field. To this end, the LCD includes a liquid crystal panel in which liquid crystal cells are arranged in a matrix, and a driving circuit for driving the liquid crystal panel. The liquid crystal panel is provided with pixel electrodes and a reference electrode, that is, a common electrode, for applying an electric field to each of the liquid crystal cells. The pixel electrode is formed for each liquid crystal cell on the lower substrate, while the common electrode is integrally formed on the front surface of the upper substrate. Each of the pixel electrodes is connected to a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") used as a switching element. The liquid crystal cell is driven along with the common electrode in accordance with the data signal supplied through the TFT. Such LCDs can be miniaturized compared to CRTs, and are widely used in personal computers and notebook computers, as well as office automation devices such as photocopiers, mobile phones and pagers.
도 1을 참조하면, 종래의 LCD는 상부기판(11) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(32)와 칼라필터(30), 투명전극(28) 및 배향막(34)으로 구성되는 상판과, 하부기판(1) 상에 형성된 TFT와 화소전극(22) 및 배향막(24)으로 구성되는 하판과, 상판과 하판 사이에 형성된 스페이서(26)와, 상판 및 하판과 스페이서(26)에 의해 마련된 내부공간에 주입되는 액정(도시되지 않음)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a conventional LCD includes a top plate composed of a black matrix 32, a color filter 30, a transparent electrode 28, and an alignment layer 34 sequentially formed on an upper substrate 11, and a lower substrate. (1) a lower plate composed of a TFT, a pixel electrode 22, and an alignment film 24, a spacer 26 formed between the upper plate and the lower plate, and an inner space provided by the upper plate, the lower plate, and the spacer 26. And liquid crystal (not shown) to be injected.
이러한 구성을 가지는 LCD의 제조공정을 살펴보면, 상판의 제조공정은 도 2a 내지 도 2d에 나타난 바와 같다.Looking at the manufacturing process of the LCD having such a configuration, the manufacturing process of the top plate is as shown in Figures 2a to 2d.
도 2a를 참조하면, 상부기판(11) 상에 블랙매트릭스(32)를 형성한다. 블랙매트릭스(32)는 불투명수지와 크롬과 같은 불투명한 금속을 상부기판(11) 상에 코팅 또는 증착하고 패터닝함으로써 형성된다. 이 경우, 블랙매트릭스(32)는 상부기판(11) 상에 매트릭스 형태로 형성되어 상부기판(11)의 표면을 칼라필터(30)들이 형성되어질 다수의 셀영역들로 나눔과 아울러 인접셀간의 광간섭을 방지하는 역할을 하게 된다.Referring to FIG. 2A, a black matrix 32 is formed on the upper substrate 11. The black matrix 32 is formed by coating or depositing and patterning an opaque metal such as opaque resin and chromium on the upper substrate 11. In this case, the black matrix 32 is formed in the form of a matrix on the upper substrate 11 to divide the surface of the upper substrate 11 into a plurality of cell regions in which the color filters 30 are to be formed, as well as light between adjacent cells. It serves to prevent interference.
도 2b에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(32)가 형성된 상부기판(11) 상에 적, 녹, 청 삼원색의 칼라필터(30A,30B,30C)들이 순차적으로 형성된다. 이 경우,각각의 삼원색의 칼라필터(30)는 블랙 매트릭스(32)에 의해 나누어진 셀영역들 중 일부, 즉 셀영역의 1/3에 해당하는 셀영역에 위치하게 된다. 삼원색의 칼라필터(30) 각각은 블랙매트릭스(32)가 형성된 상부기판(11)의 전면에 백색광원을 흡수하여 특정파장(적색, 녹색, 또는 청색)의 광만을 투과시키는 물질을 도포한 후 패터닝함으로써 형성된다.As shown in FIG. 2B, color filters 30A, 30B, and 30C of red, green, and blue primary colors are sequentially formed on the upper substrate 11 on which the black matrix 32 is formed. In this case, each of the three primary color filters 30 is positioned in some of the cell regions divided by the black matrix 32, that is, in a cell region corresponding to one third of the cell region. Each of the three primary color filters 30 absorbs a white light source on the front of the upper substrate 11 on which the black matrix 32 is formed, and then applies a material that transmits only a specific wavelength (red, green, or blue) light and then patterning the color filter 30. It is formed by.
도 2c를 참조하면, 블랙매트릭스(32) 및 칼라필터(30)가 형성된 상부기판(11) 상에 투명전극(28)이 형성된다. 투명전극(28)에는 공통전압이 공급되며 투명전도막을 증착함으로써 형성된다.Referring to FIG. 2C, a transparent electrode 28 is formed on the upper substrate 11 on which the black matrix 32 and the color filter 30 are formed. The transparent electrode 28 is supplied with a common voltage and is formed by depositing a transparent conductive film.
이렇게 형성된 상부기판(11) 상에 도 2d에 도시된 바와 같이 배향막(34)을 전면 도포한 후, 러빙공정을 수행함으로써 상판이 완성된다.After the entirety of the alignment layer 34 is coated on the upper substrate 11 thus formed as shown in FIG. 2D, the upper plate is completed by performing a rubbing process.
하판에서 TFT는 도 3에 도시된 바와 같이 게이트라인(2) 및 데이터라인(4)의 교차부에 형성되며, 데이터라인(4) 및 게이트라인(2) 중 적어도 어느 하나에 중첩되는 화소전극(22)들은 매트릭스형태로 배열되어 하부기판(1) 상에 형성된다.In the lower panel, the TFT is formed at the intersection of the gate line 2 and the data line 4 as shown in FIG. 3 and overlaps at least one of the data line 4 and the gate line 2 ( 22 are arranged in a matrix and formed on the lower substrate 1.
이를 상세히 하면, 하부기판(1) 상에 금속막을 증착한 후 패터닝함으로써 도 4a에 도시된 바와 같이 게이트라인(미도시)과 게이트전극(6)이 형성된다. 게이트라인 및 게이트전극(6)을 덮도록 하부기판 상에 전면 증착하여 게이트절연막(12)이 형성된다. 게이트절연막(12) 상에 제1 및 제2 반도체물질(14, 16)을 순차적으로 증착한 후 패터닝함으로써 도 4b에 도시된 바와 같이 활성층(14)과 오믹접촉층(16)을 형성하게 된다. 이어서, 게이트절연막(12) 상에 금속막을 증착한 후 패터닝함으로써 도 4c에 도시된 바와 같이 데이터라인(미도시), 소스전극(8) 및드레인전극(10)을 형성한 후, 소정크기의 채널을 형성하기 위해 오믹접촉층(16)을 식각하여 활성층(14)이 노출되도록 한다. 그리고, 게이트절연막 상에 유기 보호막(18)을 표면이 평탄하도록 도포한 후 패터닝함으로써 도 4d에 도시된 바와 같이 드레인전극(10)이 노출되도록 접촉홀(20)을 형성한다. 그 다음, 보호층(18) 상에 투명전도성물질을 증착하여 패터닝함으로써 도 4e에 도시된 바와 같이 드레인전극(10)과 전기적으로 접속되는 화소전극(22)이 형성된다. 도 4f에 도시된 바와 같이 화소전극(22)이 형성된 하부기판(1)의 전면에 배향막(24)을 도포한 후 러빙공정을 수행하여 하판이 완성된다.In detail, a gate line (not shown) and a gate electrode 6 are formed as shown in FIG. 4A by patterning and depositing a metal film on the lower substrate 1. The gate insulating film 12 is formed by entirely depositing on the lower substrate so as to cover the gate line and the gate electrode 6. By sequentially depositing and patterning the first and second semiconductor materials 14 and 16 on the gate insulating layer 12, the active layer 14 and the ohmic contact layer 16 are formed as shown in FIG. 4B. Subsequently, a metal film is deposited on the gate insulating film 12 and then patterned to form a data line (not shown), a source electrode 8, and a drain electrode 10 as shown in FIG. 4C. The ohmic contact layer 16 is etched to form the active layer 14 so that the active layer 14 is exposed. The contact hole 20 is formed to expose the drain electrode 10, as shown in FIG. 4D, by patterning and then patterning the organic passivation layer 18 on the gate insulating layer. Next, a transparent conductive material is deposited and patterned on the protective layer 18 to form a pixel electrode 22 electrically connected to the drain electrode 10 as shown in FIG. 4E. As shown in FIG. 4F, after the alignment layer 24 is coated on the entire surface of the lower substrate 1 on which the pixel electrode 22 is formed, a rubbing process is performed to complete the lower plate.
전술한 바와 같이 별도로 만들어진 상판 또는 하판에 구형상의 스페이서(26)를 분사노즐을 사용하여 산포한다. 이후, 상판과 하판을 합착하고 이 합착된 상판과 하판 사이에 액정을 주입함으로써 LCD가 완성된다.As described above, the spherical spacers 26 are scattered on the separately formed upper or lower plates by using a spray nozzle. Thereafter, the LCD is completed by bonding the upper and lower plates together and injecting liquid crystal between the bonded upper and lower plates.
스페이서(26)는 액정셀의 셀갭(Cell Gap)을 균일하게 유지하기 위하여 고르게 분사되어야 한다. 그러나, 종래의 스페이서(26) 산포방식은 상판이나 하판에 스페이서(26)를 균일하게 산포되지 못하여 스페이서(26)들이 불균일한 밀도를 가지게 된다. 이에 따라, 액정셀의 셀갭이 불균일하게 되어 표시면에 얼룩이 발생되게 된다.The spacers 26 should be sprayed evenly to maintain a uniform cell gap of the liquid crystal cell. However, in the conventional method of dispersing the spacers 26, the spacers 26 may have non-uniform density because the spacers 26 may not be uniformly distributed on the upper and lower plates. As a result, the cell gap of the liquid crystal cell becomes nonuniform, causing unevenness in the display surface.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 도 5에 도시된 바와 같이 잉크젯(Ink-Jet)을 이용한 스페이서 형성방법이 대두되었다.In order to solve this problem, a method of forming a spacer using an ink jet (Ink-Jet) has emerged as shown in FIG.
도 5를 참조하면, 잉크젯 헤드(36)의 노즐(38)을 통해 스페이서(26)를 상부기판 또는 하부기판 상에 산포한다.Referring to FIG. 5, the spacer 26 is spread on the upper substrate or the lower substrate through the nozzle 38 of the inkjet head 36.
잉크젯을 이용하여 스페이서(26)를 산포하는 경우, 스페이서(26)가 형성되어야 할 위치에 대응되도록 잉크젯 헤드(36)의 노즐(38)이 위치된다. 이 잉크젯 헤드(36)의 노즐(38)을 통해 분사된 스페이서(26)는 상판 또는 하판 상에 균일하게 형성된다. 그러나, 잉크젯 헤드(36)는 스페이서(26)를 형성시키기 위해 스캔 방향으로 움직이면서 스페이서(26)를 분사시킬 때, 실제 스페이서(26)가 형성되어야할 위치(39)에 스페이서(26)가 형성되지 못하는 경우가 발생된다. 이는 잉크젯 헤드(36)가 움직이면서 진동하거나 잉크젯 헤드(36)의 움직임 속도에 따라 스페이서(26)가 원하는 위치에 형성되지 못하는 미스어라인(misalign)이 발생된다.When dispersing the spacer 26 using an inkjet, the nozzle 38 of the inkjet head 36 is positioned so as to correspond to the position where the spacer 26 should be formed. The spacers 26 ejected through the nozzles 38 of the inkjet head 36 are uniformly formed on the upper plate or the lower plate. However, when the inkjet head 36 ejects the spacer 26 while moving in the scan direction to form the spacer 26, the spacer 26 is not formed at the position 39 at which the actual spacer 26 should be formed. Failure occurs. This may cause a misalignment in which the inkjet head 36 may vibrate as it moves or the spacer 26 may not be formed at a desired position according to the speed of movement of the inkjet head 36.
따라서, 본 발명의 목적은 미스어라인(misalign)을 방지할 수 있는 액정표시장치의 스페이서 형성방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a spacer forming method of a liquid crystal display device which can prevent misalignment.
도 1은 종래의 액정표시장치를 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display device.
도 2a 내지 도 2d는 도 1에 도시된 상판의 제조공정을 나타내는 단면도.2A to 2D are sectional views showing the manufacturing process of the upper plate shown in FIG.
도 3은 도 1에 도시된 액정표시장치를 나타내는 평면도.3 is a plan view illustrating the liquid crystal display shown in FIG. 1.
도 4a 내지 도 4f는 도 3에 도시된 선 "A-A'"을 따라 절취된 하판의 제조공정을 나타내는 단면도.4A to 4F are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a lower plate cut along the line “A-A '” shown in FIG. 3.
도 5는 도 1에 도시된 스페이서를 잉크젯을 이용하여 형성하는 방법을 나타내는 도면.FIG. 5 is a view showing a method of forming the spacer shown in FIG. 1 using an inkjet. FIG.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 스페이서를 포함하는 액정표시장치를 나타내는 단면도.6 is a cross-sectional view of an LCD including a spacer according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 7은 도 6에 도시된 스페이서 형성방법을 나타내는 도면.7 is a view showing a spacer forming method shown in FIG.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>
1, 41 : 하부기판 2 : 게이트라인1, 41: lower substrate 2: gate line
4 : 데이터라인6, 46 : 게이트전극4: data line 6, 46: gate electrode
8, 48 : 소스전극10, 50 : 드레인전극8, 48 source electrode 10, 50 drain electrode
12, 52 : 게이트절연막14, 54 : 활성층12, 52: gate insulating film 14, 54: active layer
16, 56 : 오믹접촉층18, 58 : 보호층16, 56: ohmic contact layer 18, 58: protective layer
20, 60 : 접촉홀22, 62 : 화소전극20, 60: contact hole 22, 62: pixel electrode
24, 34, 64, 74 : 배향막26, 66 : 스페이서24, 34, 64, 74: alignment layer 26, 66: spacer
28, 68 : 투명전극30, 70 : 컬러필터28, 68: transparent electrode 30, 70: color filter
32, 72 : 블랙매트릭스36, 76 : 잉크젯 헤드32, 72: black matrix 36, 76: inkjet head
38, 78 : 노즐38, 78: nozzle
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 스페이서 형성방법은 잉크젯을 이용하여 스페이서를 형성하는 액정표시장치에 있어서, 소정의 극성을 가지는 스페이서 재료를 마련하는 단계와, 스페이서가 형성되어야 할 기판의 위치에 상기 스페이서의 극성과 반대 극성을 가지게 하는 단계와, 잉크젯 헤드의 노즐을 통해 상기 스페이서 재료를 상기 기판 상에 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the spacer forming method according to the present invention comprises the steps of providing a spacer material having a predetermined polarity in the liquid crystal display device for forming a spacer using an inkjet, the position of the substrate on which the spacer is to be formed And having a polarity opposite to that of the spacer, and spraying the spacer material onto the substrate through a nozzle of the inkjet head.
상기 목적들 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.
이하, 도 6 및 도 7을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7.
도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 LCD는 형성하고자 하는 스페이서(66)의 형성위치에 스페이서(66)와 반대 극성을 띠게 하여 스페이서(66)가 원하는 위치에 정확히 어라인(align)되게 한다.Referring to FIG. 6, the LCD according to the present invention has a polarity opposite to that of the spacer 66 at the formation position of the spacer 66 to be formed so that the spacer 66 is aligned exactly to a desired position.
상부기판(51) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(72)와 칼라필터(70), 투명전극(68) 및 배향막(74)으로 구성되는 상판과, 하부기판(41) 상에 형성된 TFT 어레이와 화소전극(62) 및 배향막(64)으로 구성되는 하판과, 상판과 하판 사이에 형성된 스페이서(66)와, 상판 및 하판과 스페이서(66)에 의해 마련된 내부공간에 주입되는 액정(도시되지 않음)을 구비한다.An upper plate composed of a black matrix 72 and a color filter 70, a transparent electrode 68, and an alignment layer 74 sequentially formed on the upper substrate 51, a TFT array and a pixel formed on the lower substrate 41. Liquid crystals (not shown) injected into the inner space provided by the lower plate composed of the electrode 62 and the alignment layer 64, the spacer 66 formed between the upper plate and the lower plate, and the upper plate, the lower plate and the spacer 66 Equipped.
상판에 형성된 칼라필터(70)는 R, G, B 중에서 하나의 색상을 가지는 색필터로서 각각의 화소에 대응하여 복수개 형성된다. 블랙매트릭스(72)는 각각의 R, G, B 칼라필터(70) 사이에 설치되어 인접한 화소끼리 색이 간섭되지 않도록 광을 차단한다.The color filter 70 formed on the upper plate is a color filter having one of R, G, and B colors, and a plurality of color filters 70 are formed corresponding to each pixel. The black matrix 72 is disposed between each of the R, G, and B color filters 70 to block light so that adjacent pixels do not interfere with color.
하판 상에 형성되는 TFT 어레이는 TFT와 TFT에 연결된 화소전극을 기본 단위로 하는 화소가 종횡으로 배열되어 있고, 각각의 TFT에 전기적으로 연결된 다수의 게이트라인과 데이터라인이 형성되어 있다. 게이트라인 및 데이터라인의 교차점 부근에 설치된 TFT의 게이트전극은 게이트라인에서 분기되고, 소스전극은 데이터라인에서 분기된다. 상부기판과 하부기판 사이에 액정(도시되지 않음)이 주입되어 밀봉되며, 상부기판과 하부기판 사이에 일정한 갭을 유지시켜 주기 위한 스페이서(66)가 설치된다.In the TFT array formed on the lower plate, the TFTs and the pixels based on pixel electrodes connected to the TFTs are vertically and horizontally arranged, and a plurality of gate lines and data lines electrically connected to the respective TFTs are formed. The gate electrode of the TFT provided near the intersection of the gate line and the data line is branched at the gate line, and the source electrode is branched at the data line. Liquid crystals (not shown) are injected and sealed between the upper substrate and the lower substrate, and a spacer 66 is provided to maintain a constant gap between the upper substrate and the lower substrate.
이러한 상판 또는 하판에 액정셀의 셀갭을 균일하게 유지시키기 위하여 스페이서(66)를 형성시킨다. 스페이서(66)는 잉크젯을 사용하여 형성하는데, 잉크젯을 사용하면 세밀한 공정패턴을 만들 수 있어 최근 많이 애용되고 있다. 잉크젯 헤드(76)의 노즐(78)을 통해 분사된 스페이서(66)는 상판 또는 하판 상의 원하는 위치에 정확히 형성된다. 이를 위해, 스페이서(66)는 소정의 극성을 가지게 된다. 상판 또는 하판 상의 스페이서(66) 형성될 위치(80)에 스페이서(66)의 극성과 반대 극성을 국부적으로 대전시킨다. 즉, 스페이서(66)가 형성될 위치를 제외한 영역에 마스크를 씌워 전계가 형성되지 않게 하여 스페이서(66)가 형성될 위치(80)에만 전계를 형성시킨다. 이렇게 스페이서(66)가 가지고 있는 극성과 스페이서(66)가 형성될 위치의 극성이 서로 다름으로 인하여 인력이 작용한다. 이에 따라, 잉크젯 헤드(76)의 노즐(78)에서 분사된 스페이서(66)는 인력에 의해 형성되고자 하는 위치에 정확히 어라인(align)될 수 있다.The spacer 66 is formed on the upper or lower plate to maintain the cell gap of the liquid crystal cell uniformly. The spacer 66 is formed by using an inkjet, and the inkjet can be used to make fine process patterns. The spacer 66 ejected through the nozzle 78 of the inkjet head 76 is exactly formed at a desired position on the upper plate or the lower plate. To this end, the spacer 66 has a predetermined polarity. The polarity opposite to the polarity of the spacer 66 is locally charged at the position 80 where the spacer 66 on the upper or lower plate is to be formed. That is, the electric field is formed only at the position 80 where the spacer 66 is to be formed by covering the mask with an area except the position where the spacer 66 is to be formed. As a result, the attraction force acts because the polarity of the spacer 66 and the polarity of the position where the spacer 66 is to be formed are different from each other. Accordingly, the spacer 66 ejected from the nozzle 78 of the inkjet head 76 may be precisely aligned at the position to be formed by the attraction force.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 스페이서 형성방법은 스페이서의 극성과 스페이서가 형성될 위치의 극성을 서로 다르게 한다. 이에 따라, 잉크젯을 이용하여 스페이서를 형성하고자 하는 위치에 분사시킬 때, 반대 극성의 인력에 의해 스페이서를 원하는 위치에 정확히 형성시킬 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 스페이서 형성방법은 종래와 대비하여 스페이서를 형성시킬 때 미스어라인(misalign)되는 것을 방지할 수 있다.As described above, the spacer forming method according to the present invention makes the polarity of the spacer different from the polarity of the position where the spacer is to be formed. Accordingly, when the spacer is jetted to the position where the spacer is to be formed using the inkjet, the spacer can be accurately formed at the desired position by the attraction force of the opposite polarity. That is, the spacer forming method according to the present invention can prevent the misalignment when forming the spacer as compared to the conventional.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
Claims (2)
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