KR20000018491U - 반도체 제조용 현상액 공급장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 제조용 현상액 공급장치에 관한 것으로, 중앙공급장치로부터 공급되는 현상액을 일정량 저장하는 버퍼 탱크(11)로부터 현상액 분사노즐(12)에 현상액을 공급해 주는 현상액 공급관(13)의 외곽에 항온수가 내재된 워터 재킷(14)을 설치하여 버퍼 탱크(11)로부터 현상액 분사노즐(12)까지 공급되는 현상액의 온도를 일정하게 유지할 수 있게 되므로 공정의 유니포미티(UNIFOMITY)를 향상시킬 수 있게 된다.

Description

반도체 제조용 현상액 공급장치{DEVELOPMENT LIQUID SUPPLYING APPARATUS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR}

본 고안은 반도체 현상액 공급장비에 관한 것으로, 특히 현상공정시 웨이퍼에 분사되는 현상액의 온도를 항상 일정하게 유지할 수 있도록 하여 공정 유니포미티를 향상시킬 수 있도록 한 것이다.

일반적으로 포토 레지스트로 코팅된 웨이퍼는 웨이퍼와 마스크의 위치를 조정하는 기계 위에 놓여진다. 이 기계는 엑스, 와이, 세타 방향의 조정이 가능토록 되어 있고, 진공척에 의해 웨이퍼를 고정시킬 수 있도록 되어 있다.

다음으로 유리 마스크를 포함하는 캐리어를 웨이퍼 위의 마스크 홀더에 위치시킨다. 이 마스크 홀더의 위에는 고배율 현미경과 이동 가능한 자외선원이 있다. 유리 마스크는 통상 사용되는 높은 해상력을 가진 사진용 유리판으로서 웨이퍼 위에 올려놓게 되는 회로 패턴을 포함하고 있다.

마스크가 웨이퍼에 밀착되면 자외선 광원이 마스크 위에 투영되고 통상 약 30초 정도 노광이 이루어진다.

이와 같이 노광공정이 진행된 후에는 도 1에 도시한 바와 같이, 현상액의 완충 역할을 하는 버퍼 탱크(1)로부터 현상액 공급관(3)을 통해 현상액 분사노즐(2)로 웨이퍼(W)에 현상액을 분사하여 웨이퍼(W)를 세척하게 된다. 즉, 현상액은 웨이퍼(W)의 노광된 부분과 노광되지 않은 부분을 구분시켜 주는데, 노광되지 않은 부분의 포토 레지스트는 중합되지 못하므로 그냥 씻겨나간다.

그후, 잔류 포토 레지스트를 단단하게 해 주고 포토 레지스트의 산화막에 대한 밀착성을 확실히 해 주기 위해 현상된 웨이퍼는 약 20분간 베이크 공정을 진행하게 된다.

미설명부호 (4)는 웨이퍼척이다.

그러나, 상기와 같은 종래 기술은 웨이퍼(W)의 현상공정 전에 진행하는 순수로 웨이퍼(W)에 묻어 있는 오염물질을 제거하는 린스공정으로 인한 웨이퍼(W)의 온도 변화를 간과하고 있다. 따라서, 현상액이 노광된 웨이퍼(W)에 분사되어 현상을 할 때 실질적인 온도는 순수의 건조로 인한 증발 잠열로 인해 더 낮은 온도에서 진행되므로 공정 균일도를 저하시키게 되는 문제점이 있었다.

본 고안은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 웨이퍼에 분사되는 현상액의 온도를 항상 일정하게 유지할 수 있도록 한 반도체 현상액 공급장비를 제공하는데 그 목적이 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 현상액 공급장치의 일부 구조를 보인 개략도.

도 2는 본 고안에 의한 현상액 공급장치의 일부 구조를 보인 개략도.

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**

11 ; 버퍼 탱크 12 ; 현상액 분사노즐

13 ; 현상액 공급관 14 ; 워터 재킷

상기 목적을 달성하기 위한 본 고안은 버퍼 탱크로부터 현상액 분사노즐에 현상액을 공급해 주는 현상액 공급관의 외곽에 항온수가 내재된 워터 재킷을 설치하는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 고안에 의한 반도체 제조용 현상액 공급장치를 첨부도면에 도시한 실시예에 따라 설명하면 다음과 같다.

본 고안의 현상액 공급장치는 도 2에 도시한 바와 같이, 중앙공급장치(미도시)로부터 공급되는 현상액을 일정량 저장할 수 있도록 소정의 내용적을 가지는 버퍼 탱크(11)와, 이 버퍼 탱크(11)의 일측에 설치되어 웨이퍼(W)에 현상액을 분사하는 현상액 분사노즐(12)과, 상기 버퍼 탱크(11)로부터 현상액 분사노즐(12)로 현상액을 공급해 주는 현상액 공급관(13)과, 이 현상액 공급관(13)의 외곽을 둘러싸도록 설치되며 그 속으로 항온수가 내재되는 워터 재킷(14)을 포함하여 구성된다.

따라서, 현상공정을 진행하기 위해 상기 버퍼 탱크(11)로부터 현상액 분사노즐(12)로 현상액이 공급될 때 현상액 공급관(13)의 외곽에 설치된 워터 재킷(14)의 항온수에 의해 웨이퍼척(15)에 안착된 웨이퍼(W)에 분사되는 현상액의 온도가 항상 일정하게 유지된다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 고안에 의한 반도체 제조용 현상액 공급장치는 현상액 분사노즐에 현상액을 공급해 주는 현상액 공급관의 외곽에 워터 재킷을 설치하여 버퍼 탱크로부터 현상액 분사노즐까지 공급되는 현상액의 온도를 일정하게 유지할 수 있게 되므로 공정의 유니포미티(UNIFOMITY)를 향상시킬 수 있게 된다.

Claims (1)

1. 버퍼 탱크로부터 현상액 분사노즐에 현상액을 공급해 주는 현상액 공급관의 외곽에 항온수가 내재된 워터 재킷을 설치하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 현상액 공급장치.