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KR102666311B1 - 펌프, 액 공급장치 및 기판처리장치 - Google Patents

펌프, 액 공급장치 및 기판처리장치 Download PDF

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KR102666311B1
KR102666311B1 KR1020220041968A KR20220041968A KR102666311B1 KR 102666311 B1 KR102666311 B1 KR 102666311B1 KR 1020220041968 A KR1020220041968 A KR 1020220041968A KR 20220041968 A KR20220041968 A KR 20220041968A KR 102666311 B1 KR102666311 B1 KR 102666311B1
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gas
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정성철
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Abstract

본 발명은 펌프, 액 공급장치 및 기판처리장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 펌프는 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 갖는 튜브; 및 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스;를 포함한다. 본 발명의 상기 펌프의 구성에 따르면, 케이스 내의 구획된 각각의 챔버로 기체가 공급되거나 배출되는 동작에 의해 챔버 상호 간의 내부압력에 대한 간섭이 없이 독립적으로 튜브의 각각 대응되는 외측둘레면에 압력을 가하거나 해제함으로써 펌프의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.

Description

펌프, 액 공급장치 및 기판처리장치{PUMP, APPARATUS FOR TREATING CHEMICAL AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 펌프, 액 공급장치 및 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조공정에서 증착공정, 식각공정, 포토공정, 세정공정 등을 거쳐 기판을 제조한다. 일 예로, 포토공정 등에서 액 공급장치를 이용하여 기판에 대해 다양한 종류의 약액을 분사하여 포토처리공정을 진행한다. 이러한 액 공급장치는 액을 공급하는 액 공급부와 액을 분사하는 노즐부 사이에 배치되어 노즐부에 토출압력을 제공하는 펌프를 포함한다.
이러한 펌프는 기판에 약액을 토출하는 액 공급장치에 있어서, 토출압력에 대한 정밀한 제어 및 효율성에 대한 요구가 높아지고 있다.
대한민국 공개특허번호 10-2016-0047997(2016.05.03)
본 발명은 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있는 펌프, 액 공급장치 및 이를 포함하는 기판처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 갖는 튜브; 및 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스;를 포함하는 펌프를 제공한다.
나아가, 상기 케이스의 내부공간은 상기 튜브와 케이스의 내측면을 연결하는 격벽에 의해 제1 챔버 및 제2 챔버로 구획되고, 상기 제1 챔버 및 제2 챔버는 기체가 배출되는 진공상태 및 기체가 공급되는 가압상태 중 선택적으로 하나를 형성하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 케이스에는 상기 제1 챔버에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출하는 기체 배출부 및 상기 제2 챔버에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급하는 기체 공급부가 배치될 수 있다.
또한, 상기 튜브는 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 튜브와 상기 케이스 사이에서 상기 튜브의 외측둘레를 커버하며 탄성을 갖는 보호부를 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 상기 튜브의 외측둘레면을 공간을 두고 둘러싸는 보호벽 및 상기 튜브와 보호벽 사이의 공간에 충진되는 보호층을 포함할 수 있다. 이러한 보호층은 액체 또는 기체로 이루어질 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 액을 공급하는 액 공급부; 상기 액 공급부에 연결되어 액을 필터링하는 필터부; 상기 필터부에 연결되어 액을 펌핑하는 펌프장치; 및 상기 펌프장치의 하류측에 연결되어 액을 토출하는 노즐부;를 포함하고, 상기 펌프장치는 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 갖는 튜브; 및 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스;를 포함하는 적어도 하나의 펌프를 포함하는, 액 공급장치를 더 제공한다.
나아가, 상기 펌프장치는 상기 펌프로서 상기 액 공급부의 하류측과 필터부의 상류측 사이에 연결되는 제1 펌프 및 상기 필터부의 하류측과 노즐부의 상류측 사이에 연결되는 제2 펌프; 및 상기 제1 펌프의 상류측에 배치되는 입구밸브, 상기 제1 펌프의 하류측과 상기 필터부의 상류측 사이에 배치되는 제1 밸브, 상기 제2 펌프의 상류측과 상기 필터부의 하류측 사이에 배치되는 제2 밸브 및 상기 제2 펌프의 하류측에 배치되는 출구밸브를 포함하는 밸브부;를 포함할 수 있다.
다른 한편, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 내부에 기판을 처리하는 공간이 제공되는 처리용기; 상기 처리용기 내부에 배치되어 기판을 지지하는 기판 지지부재; 액을 공급하는 액 공급부; 상기 액 공급부에 연결되어 액을 필터링하는 필터부; 상기 필터부에 연결되어 액을 펌핑하는 펌프; 및 상기 펌프의 하류측에 연결되어 기판에 액을 토출하는 노즐부;를 포함하고, 상기 펌프는 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 가지며, 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어진 튜브; 및 내부공간이 상기 튜브와 내측면을 연결하는 격벽에 의해 기체가 배출되어 진공상태를 형성하는 제1 챔버 및 기체가 공급되어 가압상태를 형성하는 제2 챔버로 구획되며, 상기 제1 챔버 및 제2 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스를 포함하는, 기판처리장치를 더 제공한다.
본 발명의 실시예에 따른 펌프, 상기 펌프를 포함한 액 공급장치 및 기판처리장치의 구성에 따르면, 케이스 내의 구획된 각각의 챔버로 기체가 공급되거나 배출되는 동작에 의해 챔버 상호 간의 내부압력에 대한 간섭이 없이 독립적으로 튜브의 각각 대응되는 외측둘레면에 압력을 가하거나 해제함으로써 펌프의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치에서 액 공급장치의 유로도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 구조도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 일부를 절개한 단면 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 종단면도이다.
도 5은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 종단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판처리장치에서 액 공급장치의 유로도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 기판처리장치에서 액 공급장치의 유로도이다.
도 9는 도 8의 액 공급장치에 적용되는 펌프장치, 필터부 및 복수 개의 밸브를 포함한 밸브박스의 배치구조를 나타낸 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다. 본 명세서에서, '내측', '외측' 등의 용어는 해당 구성요소의 '내측', '외측'을 기준으로 한 것이며, 또한, '상류측', '하류측' 등의 용어는 액 또는 유체의 흐름방향을 기준으로 한 것이며, 실제로는 구성요소가 배치되는 방향에 따라 달라질 수 있을 것이다.
덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 '연결'되어 있다고 할 때, 이는 '직접적으로 연결'되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 구성요소를 사이에 두고 '간접적으로 연결'되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 기판을 처리하기 위한 장치로서, 증착공정, 식각공정, 포토공정, 세정공정 등 다양한 공정에 사용될 수 있다. 일 예로, 본 발명의 기판처리장치는 포토공정에 사용될 수 있으며, 구체적으로, 도포단계, 세정단계, 현상단계 등에 사용되어 레지스트액, 시너, 세정액, 현상액 등 처리액을 액 공급장치를 이용하여 기판에 제공하여 기판을 처리할 수 있으며, 또한, 세정공정 등 다른 기판 처리 공정에도 사용될 수 있다.
일 예로, 본 발명의 기판처리장치는 포토공정에 적용되어 액 공급장치를 통해 포토공정에 필요한 액, 예를 들면 레지스트 액의 토출압력을 실시간으로 정밀하게 조절하여 적합한 토출압력으로 레지스트 액을 기판에 분사하여 포토 공정처리를 진행할 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니라, 증착공정, 식각공정, 세정공정 등 액을 제공하는 다양한 공정에 적용할 수 있음은 물론이다.
아래에서 도면을 참조하여 본 발명의 제1 및 제2 실시형태에 따른 기판처리장치, 액 공급장치 및 펌프의 구성을 구체적으로 설명한다.
제1 실시형태
실시예 1
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치에서 액 공급장치의 유로도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 기판처리장치는 밀폐된 처리챔버 내에 위치되어 내부에 기판(W)을 처리하는 공간이 제공되는 처리용기(C), 처리용기(C) 내부에 배치되어 기판(W)을 지지하는 기판 지지부재(S) 및 기판(W)으로 액을 공급하는 액 공급장치(1000)를 포함할 수 있다.
처리용기(C)는 액 공급장치(1000)로부터 액의 토출 시, 기판(W)으로부터 비산되는 액을 받아 처리용기(C) 외부로 배출할 수 있다.
기판 지지부재(S)는 처리용기(C) 내부에서 기판(W)을 회전 및 상하이동 가능하도록 지지할 수 있어, 기판 처리 시 기판(W)이 회전 지지된 상태에서 액 공급장치(1000)를 통해 액을 기판(W)에 공급하여 기판(W)을 처리할 수 있다.
본 발명의 액 공급장치(1000)는 액 공급부(2000), 필터부(3000), 펌프장치(4000) 및 노즐부(5000)를 포함한다.
액 공급부(2000)는 기판(W)에 처리하고자 하는 액을 공급하는 것으로, 탱크 또는 보틀 등일 수 있으며, 액 공급부(2000)로부터 공급된 액은 필터부(3000)를 거쳐 펌프장치(4000)를 통해 일정 압력으로 펌핑되어 노즐부(5000)에 의해 기판(W)으로 토출될 수 있다.
필터부(3000)는 액을 필터링하는 구성으로서 액에 존재하는 분순물, 대전되는 전하 또는 필요에 따라 제거하고자 하는 물질 등을 필터링하여 제거할 수 있다. 또한, 필터부(3000)는 액에 존재하는 기포 등을 필터링하여 외부로 배출하는 기능을 추가로 수행할 수 있다.
여기서, 액 공급부(2000)와 필터부(3000) 사이의 연결라인에는 필요에 따라 다양한 구성요소가 배치될 수 있다. 일 예로, 액 공급부(2000)와 필터부(3000) 사이의 연결라인에는 액 공급부(2000)로부터 공급되는 액을 임시 저장하며 액이 외부로 배출 가능한 트랩탱크(Trap tank), 액 내부의 기포를 분리시키는 기포 분리부 등이 배치될 수 있다. 도면에서 필터부(3000)는 펌프장치(4000)의 상류측에 배치된 구조를 나타내고 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며, 필요에 따라 펌프장치의 하류측, 즉 펌프장치(4000)와 노즐부(5000) 사이의 연결라인에 배치될 수도 있다.
펌프장치(4000)는 필터부(3000)에 연결되어 액을 일정 압력으로 펌핑하여 노즐부(5000)로 공급할 수 있다.
본 실시형태에서, 펌프장치(4000)는 하나의 펌프(100)를 포함하는 경우를 예로 설명하였으나, 필요에 따라 복수 개의 펌프(100)를 포함할 수 있으며, 이에 대한 설명은 아래의 제2 실시형태에서 구체적으로 후술될 것이다.
노즐부(5000)는 펌프장치(4000)의 하류측에 연결되어 기판(W)을 향해 액을 토출하여 기판(W)에 대해 다양한 처리를 수행할 수 있다.
또한, 액 공급장치(1000)는 펌프장치(4000)의 펌프(100)와 펌프(100)로 기체를 공급하는 기체 공급원(S0) 사이의 배관에 연결되는 레귤레이터(6000)를 추가로 포함하여 레귤레이터(6000)를 통해 펌프장치(4000) 내로의 기체의 공급 또는 배출을 조절할 수 있다.
여기서 펌프(100) 내로 유입되는 기체는 구체적인 예로 공기 또는 화학적 반응성이 낮은 불활성 기체 등일 수 있다.
또한, 액 공급장치(1000)는 펌프장치(4000)에서 펌프(100)와 레귤레이터(6000) 사이의 배관에 배치되어 펌프(100)와 레귤레이터(6000) 사이의 배관 내의 기체의 압력을 측정하는 제1 압력센서(7100)를 포함할 수 있다. 또한, 액 공급장치(1000)는 펌프장치(4000)에서 액의 흐름방향을 기준으로 액이 유출되는 펌프(100)의 하류측(펌프(100)와 노즐부(5000) 사이의 배관)에 배치되어 액이 유출되는 펌프(100)의 하류측의 액의 압력을 측정하는 제2 압력센서(7200)를 포함할 수 있다.
나아가, 액 공급장치(1000)는 레귤레이터(6000), 제1 압력센서(7100) 제2 압력센서(7200)에 전기적으로 연결되는 제어부(8000)를 더 포함할 수 있다.
제어부(8000)는 제1 압력센서(7100) 및 제2 압력센서(7200)에 의해 측정된 압력 값을 전달받아 펌프(100)로 공급되거나 배출되는 기체를 제어함으로써, 펌프(100)를 통해 노즐부(5000)로 배출되는 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어 및 효율성을 더욱 효과적으로 확보할 수 있다.
또한, 액 공급장치(1000)는 밸브부(9000)를 포함할 수 있다. 밸브부(9000)는 입구밸브(9100) 및 출구밸브(9200)를 포함할 수 있다. 입구밸브(9100)는 펌프(100)의 입구측에 배치된다. 출구밸브(9200)는 펌프(100)의 출구측에 배치된다.
밸브부(9000)는 추가로 필터부(3000)에 연결되는 벤트라인(V)에 배치되어 배기하도록 배기밸브(9300)를 더 포함할 수 있다.
아래에서 액 공급장치(1000)에 적용되는 펌프(100)의 구체적인 구성에 대해 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액 공급장치에 적용되는 펌프의 구조도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액 공급장치에 적용되는 펌프의 일부를 절개한 단면 사시도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액 공급장치에 적용되는 펌프의 종단면도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 액 공급장치(1000)에 적용되는 펌프(100)는 튜브(200) 및 케이스(300)를 포함한다.
튜브(200)는 내부에 액이 유동하는 유로(210)가 형성되며, 유로(210)의 단면적이 변화할 수 있도록 탄성을 갖는다. 즉, 튜브(200)는 외부로부터 압력이 가해질 때 유로(210)의 단면적이 변화되거나 외부의 압력이 해제될 때 유로(210)의 단면적이 원상태로 복귀할 수 있는 일정한 탄성을 갖는 재질로 이루어질 수 있다.
이러한 튜브(200)는 외부로부터 압력이 가해질 때 변형에 유리하도록, 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어질 수 있다. 여기서 도넛 형태의 의미는 중앙부가 관통된 중공인 도넛(링형) 형태로 구성된 의미만을 포함하는 것이 아니라, 중앙부가 관통되지 않고 액이 흐르도록 외측에서 내측으로 오목한 형태를 이루어 튜브의 전체적인 외곽형태가 대체로 도넛 형태로 구성된 의미도 포함한다.
케이스(300)는 펌프(100)의 외곽형태를 이루며 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 2 개의 챔버(310)로 구획된다. 케이스(300)의 상기 2 개의 챔버(310)는 튜브(200)의 외측둘레를 커버한다. 따라서, 케이스(300) 내의 구획된 각각의 챔버(310)로 기체가 공급되거나 배출되는 동작에 의해 챔버(310) 상호 간의 내부압력에 대한 간섭이 없이 독립적으로 튜브(200)의 각각 대응되는 외측둘레면에 압력을 가하거나 해제함으로써 펌프(100)의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
여기서, 케이스(300)의 2 개의 챔버(310)로 구획하는 형태의 경우, 일 예로, 케이스(300)의 내부공간은 튜브(200)와 케이스(300)의 내측면을 연결하는 격벽(340)에 의해 제1 챔버(320) 및 제2 챔버(330)로 구획될 수 있다.
또한, 상기 케이스(300)에는 튜브(200)의 유로(210)의 입구 및 출구에 연결되며 상기 입구 및 출구와 동일 직선 상에 위치되는 액 유입부(370) 및 액 유출부(380)가 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 케이스(300)의 액 유입부(370) 및 액 유출부(380)는 상기 격벽(340)에 배치되어 튜브(200)의 유로(210)의 입구 및 출구에 연결될 수 있다.
따라서, 액 공급장치(1000)의 유로 상의 적절한 위치에 펌프(100)의 케이스(300)에 배치된 액 유입부(370) 및 액 유출부(380)를 연결하여 용이한 조립 및 유지보수를 구현할 수 있다.
또한, 케이스(300)에는 기체 배출부(350) 및 기체 공급부(360)가 배치될 수 있다. 기체 배출부(350)는 상기 제1 챔버(320)에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출할 수 있다. 기체 공급부(360)는 제2 챔버(330)에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급할 수 있다.
여기서, 구체적인 일 예로 도 1에 도시된 바와 같이, 기체 배출부(350)는 진공펌프(P)에 연결되어 제1 챔버(320) 내의 기체를 배출하여 진공상태를 형성할 수 있다. 기체 공급부(360)는 기체 공급원(S0)에 연결되어 제2 챔버(330)내로 기체를 공급하여 가압상태를 형성할 수 있다. 따라서, 튜브(200)와 케이스(300)의 내측면을 연결하는 격벽(340)을 중심으로 제1 챔버(320)가 진공상태를 형성하고 제2 챔버(330)가 가압상태를 형성하여 튜브(200)의 형상이 변형될 수 있어 튜브(200)의 유로(210) 내의 액을 펌핑할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 미세 조절이 가능하여 정밀한 제어를 구현할 수 있다. 나아가, 기체 공급부(360)와 기체 공급원(S0) 사이의 연결라인에는 전술한 레귤레이터(6000)가 배치되어 레귤레이터(6000)를 통해 제2 챔버(330) 내로 기체의 공급 또는 배출을 조절하여 제2 챔버(330)의 내부압력을 제어할 수 있다.
튜브(200)가 도넛 형태를 이루는 구조에서, 상기 기체 배출부(350)는 케이스(300)에서 상기 제1 챔버(320)를 향하는 튜브(200)의 일측면과 대향되는 제1 측벽(301)에 배치되며 제1 챔버(320)에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출할 수 있고, 기체 공급부(360)는 케이스(300)에서 제2 챔버(330)를 향하는 튜브(200)의 타측면과 대향되는 제2 측벽(302)에 배치되며 제2 챔버(330)에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급할 수 있다.
여기서, 펌프(100)의 동작에 대해, 필요에 따라 다양한 형태로 구현할 수 있으며, 일 예로, 진공펌프(P)에 의해 제1 챔버(320) 내의 기체를 배출하여 진공상태를 유지하고, 제2 챔버(330) 내로 기체의 공급을 조절하는 것을 통해 튜브(200)의 외측둘레면에 가해지는 압력을 조절하여 펌핑할 수 있으며 나아가 튜브(200)의 유로(210) 내의 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다. 즉, 펌프(100)는 제1 챔버(320)에 진공상태를 형성한 다음, 제2 챔버(330)에 기체를 공급하는 것을 통해 펌프(100)의 토출압력을 미세 조절할 수 있으며, 또한 실시간으로 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
다른 일 예로, 기체 공급원(S0)으로부터 제2 챔버(330) 내로 기체를 공급하여 일정한 압력이 가해진 가압상태에서, 진공펌프(P)에 의해 제1 챔버(320) 내의 기체의 배출을 조절함으로써 튜브(200)의 외측둘레면에 가해지는 압력을 조절하여 튜브(200)의 유로(210) 내의 액을 펌핑할 수 있으며 나아가 튜브(200)의 유로(210) 내의 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
또 다른 일 예로, 제1 챔버(320) 및 제2 챔버(330) 내의 압력을 동시에 조절하는 방식으로도 구현 가능하다.
상술한 바, 본 발명의 실시예 1에 따른 액 공급장치(1000)는 상기 구성을 갖는 펌프(100)를 통해 케이스(300) 내의 구획된 제1 챔버(320) 및 제2 챔버(330)로 기체가 공급되거나 배출되는 동작에 의해 제1 챔버(320)과 제2 챔버(330) 상호 간의 내부압력에 대한 간섭이 없이 독립적으로 튜브(200)의 각각 대응되는 외측둘레면에 압력을 가하거나 해제함으로써 펌프(100)의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대해 미세 조절이 가능하여 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
이상에서 제어부는 액 공급장치에 포함되는 구성으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며, 필요에 따라 액 공급장치에 포함되지 않고 액 공급장치가 구비되는 기판처리장치의 적절한 위치에 설치되어 액 공급장치를 통해 획득한 관련 데이터를 전송 받아 관련 구성요소들을 제어할 수도 있음은 물론이다.
실시예 2
도 5는 본 발명의 실시예 2에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 종단면도이다.
본 발명의 실시예 2에 따른 펌프(100A)는 도 5를 참조하여 설명한다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예 2에 따른 펌프(100A)는 튜브(200A), 케이스(300A) 및 보호부(400A)를 포함한다. 이 실시예 2에서 보호부(400A)를 제외한 구성은 실시예 1의 구성과 동일하게 적용될 수 있으며, 이에 중복을 피하기 위해 동일 구성에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
보호부(400A)는 펌프(100A)에서 튜브(200A)와 케이스(300A) 사이에서 튜브(200A)의 외측둘레를 커버하며 케이스(300A) 내부의 제1 챔버(320A) 및 제2 챔버(330A)의 내부압력에 의해 변형 가능하여 튜브(200A)의 외측둘레면에 압력이 가해지거나 해제되도록 탄성을 갖는다.
이러한 보호부(400A)는 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 구체적인 일 예로, 보호부(400A)는 보호벽(410A) 및 보호벽(410A) 내부에 충진되는 보호층(420A)을 포함할 수 있다.
보호부(400A)의 보호벽(410A)은 케이스(300A) 내부에 위치되며 튜브(200A)의 외측둘레면을 공간을 두고 둘러싸여 배치될 수 있다.
보호부(400A)의 보호층(420A)은 튜브(200A)의 외측둘레면과 보호벽(410A) 사이의 공간에 충진되는 액체 또는 기체로 이루어질 수 있다.
따라서, 이러한 보호벽(410A)과 액체 또는 기체로 이루어진 보호층(420A)을 포함한 보호부(400A)의 구성을 통해, 케이스(300A)의 챔버(310A)(제1 챔버(320A))로의 압력 분사에 의한 급격한 압력변화의 발생을 방지할 수 있으며, 또한 튜브 내부로의 수분 침투를 방지할 수 있고, 튜브(200A)의 유로(210A) 내의 액 온도 유지를 구현할 수 있다.
본 실시예에서 보호벽(410A) 및 보호층(420A)을 포함한 보호부(400A)의 구성에 대해 예로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며, 보호부는 급격한 압력변화, 튜브 내부로의 수분 침투 방지 및 액 온도 유지효과 중 적어도 하나를 구현할 수 있다면, 다양한 형태로 구현될 수 있음은 물론이다. 일 변형예로, 보호부는 단일층 구조를 갖는 실리콘부재 등으로 구현될 수도 있다.
한편, 이상의 실시예 1 및 실시예 2에서 제1 챔버에 진공상태를 형성하고 제2 챔버에 가압상태를 형성하는 형태로 설명하였으나, 이에 한정되지 않으며, 제1 챔버 및 제2 챔버가 기체가 배출되는 진공상태 및 기체가 공급되는 가압상태 중 선택적으로 하나를 형성하도록 구성될 수 있으며, 예로 제1 챔버 및 제2 챔버의 기능을 서로 교체하여 제1 챔버에 가압상태를 형성하고 제2 챔버에 진공상태를 형성하는 형태로 구현할 수 있을 뿐만 아니라, 또한 제1 챔버 및 제2 챔버 모두가 기체를 공급 및 배출 가능한 구성으로 구현되어 선택적으로 기체를 공급하거나 배출시키는 효과를 달성하는 것도 가능하다.
또한, 상기 실시예 1 및 실시예 2에서 케이스의 내부공간이 2 개의 챔버로 구획되는 구조인 경우를 예로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며, 필요에 따라 2 개 이상의 챔버를 구성할 수 있음은 물론이다.
아래에서 내부공간이 3 개의 챔버로 구획된 케이스를 예로 설명한다.
실시예 3
도 6은 본 발명의 실시예 3에 따른 기판처리장치의 액 공급장치에 적용되는 펌프의 단면도이다.
본 발명의 실시예 3에 따른 펌프(100B)는 도 6을 참조하여 설명한다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예 3에 따른 펌프(100B)는 튜브(200B) 및 케이스(300B)를 포함한다. 이 실시예 3에서 튜브(200B) 및 케이스(300B)를 포함한 펌프(100B)를 제외한 구성은 실시예 1의 구성과 동일하게 적용될 수 있으며, 이에 중복을 피하기 위해 동일 구성에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 3에 따른 펌프(100B)는 3 개의 챔버(310B)로 이루어진 케이스(300B)를 포함할 수 있다.
구체적으로, 이러한 케이스(300B)는 튜브(200B)와 케이스(300B)의 내측면을 연결하는 격벽(340B)에 의해 내부공간이 3 개의 챔버(310B)로 구획될 수 있다.
이 경우, 각 챔버(310B)의 내부압력에 의해 튜브(200B)의 변형이 용이하도록, 상기 각각의 챔버(310B)에 대응되는 튜브(200B)의 외측둘레면에는 각각 튜브(200B)의 유로(210B) 측으로 오목한 형태를 이루는 오목홈(220B)이 구성될 수 있다.
또한, 상기 튜브(200B)는 중심을 기준으로 대칭되는 형태를 이룰 수 있으며, 이 경우, 케이스(300B)의 각각의 챔버(310B)는 격벽(340B)에 의해 동일한 크기로 구획될 수 있다.
따라서, 각각의 챔버(310B)에 기체를 공급하거나 배출하는 것을 통해 튜브(200B)의 외측둘레면에 형성된 각각의 오목홈(220B)에 압력이 가해지거나 해제됨에 따라 튜브(220B)가 용이하게 변형될 수 있어, 펌프(100B)의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가, 필요에 따라 3 개의 챔버(310B) 각각의 기체의 공급 또는 배출을 다양한 방법으로 조절할 수 있으므로, 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 더욱더 효과적으로 구현할 수 있다.
실시예 4
도 7은 본 발명의 실시예 4에 따른 기판처리장치에서 액 공급장치의 유로도이다.
본 발명의 실시예 4에 따른 액 공급장치(1000C)는 도 7을 참조하여 설명한다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예 4에 따른 액 공급장치(1000C)는 펌프(100C)에서 케이스(300C)의 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C) 각각에 기체 공급원(S0)을 연결하여 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C)에 독립적으로 기체를 공급하거나 배출할 수 있다.
나아가, 케이스(300C)의 각각의 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C)와 기체 공급원(S0) 사이의 연결라인에는 전술한 레귤레이터(6000C)가 배치되어 레귤레이터(6000C)를 통해 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C) 내로 기체의 공급 또는 배출을 조절하여 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C)의 내부압력을 제어할 수 있다.
따라서, 튜브(200C)와 케이스(300C)의 내측면을 연결하는 격벽에 의해 서로 구획된 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C)에 대해 독립적으로 기체의 공급 또는 배출을 조절하여 튜브(200C)의 외측둘레면에 가해지는 제1 챔버(320C) 및 제2 챔버(330C)의 내부압력을 각각 제어함으로써 튜브(200C)의 형상이 변형될 수 있어 튜브(200C)의 유로(210C) 내의 액을 펌핑할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 미세 조절이 가능하여 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 액 공급장치(1000C)에서, 펌프(100C)는 이상의 실시예 1 내지 3에 적용된 펌프(100, 100A, 100B)의 구성과 동일하게 적용될 수 있으며, 이에 중복을 피하기 위해 동일 구성에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
또한, 실시예 1 내지 4에서 모두 케이스 내에 배치된 격벽에 의해 2 개의 챔버로 구획되는 경우를 예로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 구성요소에 의해 복수 개의 챔버로 구획될 수 있고, 또한 튜브에 의해 케이스의 내부공간을 직접적으로 복수 개의 챔버로 구획할 수 있으며, 구체적으로, 튜브의 돌출된 일부분과 케이스의 내측벽에 접하는 구조에 의해 케이스의 내부공간이 복수 개의 챔버로 구획할 수도 있음은 물론, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 명백할 것이다.
제2 실시형태
실시예 5
도 8은 본 발명의 제2 실시형태의 실시예 5에 따른 기판처리장치에서 액 공급장치의 유로도이고, 도 9는 도 8의 액 공급장치에 적용되는 펌프장치, 필터부 및 복수 개의 밸브를 포함한 밸브박스의 배치구조를 나타낸 도면이다.
본 발명의 제2 실시형태의 실시예 5에 따른 액 공급장치는 도 8 및 도 9를 참조하여 설명한다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 본 발명의 실시예 5에 따른 액 공급장치(1000D)는 액을 공급하는 액 공급부(2000), 액 공급부(2000)에 연결되어 액을 필터링하는 필터부(3000D), 필터부(3000D)에 연결되어 액을 펌핑하는 펌프장치(4000D) 및 펌프장치(4000D)의 하류측에 연결되어 액을 토출하는 노즐부(5000);를 포함한다.
본 실시예에서 펌프장치(4000D)를 제외한 구성은 제1 실시형태의 실시예 1 내지 4의 구성과 동일하게 적용될 수 있으며, 이에 중복을 피하기 위해 동일 구성에 대한 설명은 생략하기로 한다.
본 발명의 실시예 5에 따른 펌프장치(4000D)는 제1 펌프(110D)와 제2 펌프(120D)를 포함한 2 개의 펌프(100D)를 포함한다. 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)는 각각 내부에 액이 유동하는 유로(210D)가 형성되며 탄성을 갖는 튜브(200D) 및 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버(310D)로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버(310D)가 튜브(200D)의 외측둘레를 커버하는 케이스(300D);를 포함한다.
본 실시예에서는 2 개의 챔버(310D)로 구획된 케이스의 구성을 구체적인 예로 설명한다.
제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 튜브(200D)는 외부로부터 압력이 가해질 때 변형에 유리하도록, 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어질 수 있다. 여기서 도넛 형태의 의미는 중앙부가 관통되지 않고 액이 흐르도록 외측에서 내측으로 오목한 형태를 이루어 튜브의 전체적인 외곽형태가 대체로 도넛 형태로 구성된 의미를 포함한다.
케이스(300D)는 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 외곽형태를 이루며 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 2 개의 챔버(310D)로 구획된다. 케이스(300D)의 상기 2 개의 챔버(310D)는 튜브(200D)의 외측둘레를 커버한다. 따라서, 케이스(300D) 내의 구획된 각각의 챔버(310D)로 기체가 공급되거나 배출되는 동작에 의해 챔버(310D) 상호 간의 내부압력에 대한 간섭이 없이 독립적으로 튜브(200D)의 각각 대응되는 외측둘레면에 압력을 가하거나 해제함으로써 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
여기서, 케이스(300D)의 2 개의 챔버(310D)로 구획하는 형태의 경우, 일 예로, 케이스(300D)의 내부공간은 튜브(200D)와 케이스(300D)의 내측면을 연결하는 격벽(340D)에 의해 제1 챔버(320D) 및 제2 챔버(330D)로 구획될 수 있다.
또한, 상기 케이스(300D)에는 튜브(200D)의 유로(210D)의 입구 및 출구에 연결되며 상기 입구 및 출구와 동일 직선 상에 위치되는 액 유입부(370D) 및 액 유출부(380D)가 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 케이스(300D)의 액 유입부(370D) 및 액 유출부(380D)는 상기 격벽(340D)에 배치되어 튜브(200D)의 유로(210D)의 입구 및 출구에 연결될 수 있다.
따라서, 액 공급장치(1000D)의 유로 상의 적절한 위치에 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 케이스(300D)에 배치된 액 유입부(370D) 및 액 유출부(380D)를 연결하여 용이한 조립 및 유지보수를 구현할 수 있다.
또한, 케이스(300D)에는 기체 배출부(350D) 및 기체 공급부(360D)가 배치될 수 있다. 기체 배출부(350D)는 상기 제1 챔버(320D)에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출할 수 있다. 기체 공급부(360D)는 제2 챔버(330D)에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급할 수 있다.
여기서, 구체적인 일 예로 도 8에 도시된 바와 같이, 기체 배출부(350D)는 진공펌프(P)에 연결되어 제1 챔버(320D) 내의 기체를 배출하여 진공상태를 형성할 수 있다. 기체 공급부(360D)는 기체 공급원(S0)에 연결되어 제2 챔버(330D)내로 기체를 공급하여 가압상태를 형성할 수 있다. 따라서, 튜브(200D)와 케이스(300D)의 내측면을 연결하는 격벽(340D)을 중심으로 제1 챔버(320D)가 진공상태를 형성하고 제2 챔버(330D)가 가압상태를 형성하여 튜브(200D)의 형상이 변형될 수 있어 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액을 펌핑할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대한 미세 조절이 가능하여 정밀한 제어를 구현할 수 있다. 나아가, 기체 공급부(360D)와 기체 공급원(S0) 사이의 연결라인에는 전술한 레귤레이터(6000D)가 배치되어 레귤레이터(6000D)를 통해 제2 챔버(330D) 내로 기체의 공급 또는 배출을 조절하여 제2 챔버(330D)의 내부압력을 제어할 수 있다.
여기서, 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 동작에 대해, 필요에 따라 다양한 형태로 구현할 수 있으며, 일 예로, 진공펌프(P)에 의해 제1 챔버(320D) 내의 기체를 배출하여 진공상태를 유지하고, 제2 챔버(330D) 내로 기체의 공급을 조절하는 것을 통해 튜브(200D)의 외측둘레면에 가해지는 압력을 조절하여 펌핑할 수 있으며 나아가 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다. 즉, 펌프(100D)는 제1 챔버(320D)에 진공상태를 형성한 다음, 제2 챔버(330D)에 기체를 공급하는 것을 통해 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 토출압력을 미세 조절할 수 있으며, 또한 실시간으로 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
다른 일 예로, 기체 공급원(S0)으로부터 제2 챔버(330D) 내로 기체를 공급하여 일정한 압력이 가해진 가압상태에서, 진공펌프(P)에 의해 제1 챔버(320D) 내의 기체의 배출을 조절함으로써 튜브(200D)의 외측둘레면에 가해지는 압력을 조절하여 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액을 펌핑할 수 있으며 나아가 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액의 토출압력에 대한 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
또 다른 일 예로, 제1 챔버(320D) 및 제2 챔버(330D) 내의 압력을 동시에 조절하는 방식으로도 구현 가능하다.
상술한 바, 본 발명의 실시예 5에 따른 액 공급장치(1000D)는 상기 구성을 갖는 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)를 통해 케이스(300D) 내의 구획된 제1 챔버(320D) 및 제2 챔버(330D)로 기체가 공급되거나 배출되는 동작에 의해 제1 챔버(320D)과 제2 챔버(330D) 상호 간의 내부압력에 대한 간섭이 없이 독립적으로 튜브(200D)의 각각 대응되는 외측둘레면에 압력을 가하거나 해제함으로써 펌프(100D)의 효율적인 펌핑 동작을 확보할 수 있으며, 나아가 액의 토출압력에 대해 미세 조절이 가능하여 정밀한 제어를 구현할 수 있다.
여기서, 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)는 상기 제1 실시형태의 실시예 1 내지 4 중 어느 하나의 펌프(100, 100A, 100B, 100C)의 구성을 적용할 수 있으며, 여기서 중복을 피하기 위해 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
제1 펌프(110D)는 액 공급부(2000)의 하류측과 필터부(3000D)의 상류측 사이에 연결되어 액 공급부(2000)로부터 공급되는 액을 임시 저장하는 공급용 펌프로 사용될 수 있다. 제2 펌프(120D)는 필터부(3000D)의 하류측과 노즐부(5000)의 상류측 사이에 연결되어 제1 펌프(110D)에 저장된 액을 공급 받아 제2 펌프(120D)를 통해 액을 펌핑하여 노즐부(5000)에 의해 기판(W)에 토출하는 분배용 펌프로 사용될 수 있다.
또한, 액 공급장치(1000D)는 밸브부(9000D)를 포함할 수 있다. 밸브부(9000D)는 입구밸브(9100D), 제1 밸브(9400D), 제2 밸브(9500D) 및 출구밸브(9200D)를 포함할 수 있다. 밸브부(9000D)는 추가로 필터부(3000D)에 연결되는 벤트라인(V)에 배치되어 배기하도록 배기밸브(9300D)를 더 포함할 수 있다. 이러한 입구밸브(9100D), 출구밸브(9200D) 및 배기밸브(9300D)는 밸브부(9000D)의 밸브박스(9001D) 내부에 집적되어 배치될 수 있다. 입구밸브(9100D)는 제1 펌프(110D)의 상류측에 배치된다. 제1 밸브(9400D)는 제1 펌프(110D)의 하류측과 필터부(3000D)의 상류측 사이에 배치된다. 제2 밸브(9500D)는 제2 펌프(120D)의 상류측과 필터부(3000D)의 하류측 사이에 배치된다. 출구밸브(9200D)는 제2 펌프(120D)의 하류측에 배치된다.
나아가, 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)는 필터부(3000D)와 상기 밸브부(9000D)의 밸브박스(9001D) 사이에서 나란하게 배치되어 펌프장치(4000D)와 필터부(3000D) 및 밸브부(9000D) 간의 콤팩트한 배치구조를 구현함으로써 제한된 배치공간에 있어서 활용성을 높일 수 있다.
아래에서 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)의 동작에 대해 설명한다.
제1 펌프(110D)로 액을 공급 시, 입구밸브(9100D)를 개방하여 액 공급부(2000)로부터 액이 제1 펌프(110D)의 튜브(200D)의 유로(210D) 내로 공급시킨다. 충분한 양의 액이 제1 펌프(110D)의 튜브(200D)의 유로(210D) 내로 공급되면, 입구밸브(9100D)를 폐쇄시킨다. 제1 밸브(9400D) 및 제2 밸브(9500D)를 개방시키고 제1 펌프(110D)의 제2 챔버(330D)로 기체를 공급하여 가압상태를 형성(여기서 선택적으로 진공펌프(P)를 작동시켜 제1 챔버(320D))가 진공상태를 형성하도록 할 수 있음)하여 튜브(200D)의 외측둘레면에 압력이 가해짐에 따라 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액이 필터부(3000D)를 통과하여 제2 펌프(120D)의 튜브(200D)의 유로(210D)로 유동하게 된다. 여기서, 제1 밸브(9400D) 및 제2 밸브(9500D)를 개방시킬 때 우선적으로 제1 밸브(9400D)를 개방하여 필터부(3000D)에서 압력이 상승한 다음 제2 밸브(9500D)를 개방시켜 제2 펌프(120D)의 튜브(200D)의 유로(210D)로 액이 유동하게 할 수 있다. 또한, 제1 밸브(9400D) 및 제2 밸브(9500D)를 동시에 개방시켜 제1 펌프(110D)의 제1 챔버(320D) 또는 제2 챔버(330D)의 내부압력을 조절하는 것을 통해 필터부(3000D) 측의 압력을 상승시키고 필터부(3000D)를 통과하여 제2 펌프(120D)의 튜브(200D)의 유로(210D)로 액이 유동하게 할 수 있다.
또한, 필터부(3000D)를 통해 배기하고자 할 경우, 제1 밸브(9400D)를 개방시키고 배기밸브(9300D)를 개방시킴으로써 제1 펌프(110D)의 튜브(200D)의 외측둘레면에 압력을 가함으로써 액 중의 기포가 벤트라인(V)을 통해 배기될 수 있다. 여기서, 배기하는 과정에서 제2 밸브(9500D)는 선택적으로 개방시키거나 폐쇄시킬 수 있다.
제2 펌프(120D)의 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액을 노즐부(5000)를 통해 토출하고자 할 경우, 입구밸브(9100D)를 폐쇄시키고 출구밸브(9200D)를 개방시키고 제2 펌프(120D)의 제2 챔버(330D)에 기체를 공급하여 가압상태를 형성하여 튜브(200D)의 외측둘레면에 압력이 가해짐으로써 제2 펌프(120D)의 튜브(200D)의 유로(210D) 내의 액이 노즐부(5000)를 통해 기판(W)에 토출될 수 있다.
결과적으로, 제1 펌프(110D) 및 제2 펌프(120D)를 포함한 펌프장치(4000D)의 구성에 의하면, 제1 펌프(110D)의 튜브(200D)의 유로 내에 공급된 액을 노즐부에서의 액 도포시간에 비해 신속하게 제2 펌프(120D)의 튜브(200D)의 유로 내로 공급될 수 있어, 연속적으로 기판에 대하여 액 공급을 수행할 수 있으므로, 작업효율을 효과적으로 향상시킬 수 있다.
이상의 제2 실시형태의 실시예 5에서는 제1 실시형태의 실시예 1의 펌프의 구성을 적용한 것으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니라, 제1 실시형태의 실시예 2 내지 4에서 설명한 펌프의 구성을 적용할 수 있음은 물론이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.
또한, 본 실시예에서 제1 펌프 및 제2 펌프를 동일한 구성을 갖는 실시예로 설명하였으나, 제1 펌프 및 제2 펌프는 서로 다른 구성을 갖는 펌프일 수 있으며, 실시예 1 내지 4에 설명한 펌프 중 어느 펌프일 수 있으며, 또한, 제1 펌프 및 제2 펌프 중 하나는 기존의 펌프를 사용할 수도 있음은 당업자로부터 자명할 것이다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 가능함은 물론이다.
1000,1000C,1000D 액 공급장치 2000 액 공급부
3000,3000D 필터부 4000,4000D 펌프장치
5000 노즐부 6000,6000C,6000D 레귤레이터
7100 제1 압력센서 7200 제2 압력센서
8000 제어부 9000,9000D 밸브부
9001D 밸브박스 9100,9100D 입구밸브
9200,9200D 출구밸브 9300,9300D 배기밸브
9400D 제1 밸브 9500D 제2 밸브
100,100A,100B,100C,100D 펌프 110D 제1 펌프
120D 제2 펌프 200,200A,200B,200C,200D 튜브
210,210A,210B,210C,210D 유로 220B 오목홈
300,300A,300B,300C,300D 케이스 301 제1 측벽
302 제2 측벽 310,310A,310B,310D 챔버
320,320A,320C,320D 제1 챔버 330,330A,330C,330D 제2 챔버
340,340B,340D 격벽 350,350D 기체 배출부
360,360D 기체 공급부 370,370D 액 유입부
380,380D 액 유출부 400A 보호부
410A 보호벽 420A 보호층
C 처리용기 P 진공펌프
S 기판 지지부재 S0 기체 공급원
V 벤트라인 W 기판

Claims (20)

  1. 삭제
  2. 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 갖는 튜브; 및
    내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스;를 포함하며,
    상기 케이스의 내부공간은 상기 튜브와 케이스의 내측면을 연결하는 격벽에 의해 제1 챔버 및 제2 챔버로 구획되고,
    상기 제1 챔버 및 제2 챔버는 기체가 배출되는 진공상태 및 기체가 공급되는 가압상태 중 선택적으로 하나를 형성하도록 구성된, 펌프.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 케이스에는 상기 제1 챔버에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출하는 기체 배출부 및 상기 제2 챔버에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급하는 기체 공급부가 배치되는, 펌프.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 튜브는 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어진, 펌프.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 케이스에서 상기 제1 챔버를 향하는 상기 튜브의 일측면과 대향되는 제1 측벽에는 상기 제1 챔버에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출하는 기체 배출부가 배치되고,
    상기 케이스에서 상기 제2 챔버를 향하는 상기 튜브의 타측면과 대향되는 제2 측벽에는 상기 제2 챔버에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급하는 기체 공급부가 배치되는, 펌프.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 케이스에는 상기 튜브의 유로의 입구 및 출구에 연결되며 상기 입구 및 출구와 동일 직선 상에 위치되는 액 유입부 및 액 유출부가 배치되는, 펌프.
  7. 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 갖는 튜브; 및
    내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스;를 포함하며,
    상기 케이스는 상기 튜브와 케이스의 내측면을 연결하는 격벽에 의해 3 개의 챔버로 구획되고,
    상기 각각의 챔버에 대응되는 상기 튜브의 외측둘레면에는 각각 상기 유로 측으로 오목한 형태를 이루는 오목홈이 구성되는, 펌프.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 튜브는 중심을 기준으로 대칭되는 형태를 이루고, 상기 각각의 챔버는 동일한 크기로 이루어진, 펌프.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 튜브와 상기 케이스 사이에서 상기 튜브의 외측둘레를 커버하며 탄성을 갖는 보호부를 포함하는, 펌프.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 보호부는 상기 튜브의 외측둘레면을 공간을 두고 둘러싸는 보호벽 및 상기 튜브와 보호벽 사이의 공간에 충진되는 보호층을 포함하는, 펌프.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 보호층은 액체 또는 기체로 이루어진, 펌프.
  12. 액을 공급하는 액 공급부;
    상기 액 공급부에 연결되어 액을 필터링하는 필터부;
    상기 필터부에 연결되어 액을 펌핑하는 펌프장치; 및
    상기 펌프장치의 하류측에 연결되어 액을 토출하는 노즐부;를 포함하고,
    상기 펌프장치는 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 갖는 튜브; 및 내부공간이 기체가 공급되거나 배출되는 적어도 2 개의 챔버로 구획되며, 상기 적어도 2 개의 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스;를 포함하는 적어도 하나의 펌프를 포함하며,
    상기 케이스의 내부공간은 상기 튜브와 케이스의 내측면을 연결하는 격벽에 의해 제1 챔버 및 제2 챔버로 구획되고,
    상기 제1 챔버 및 제2 챔버는 기체가 배출되는 진공상태 및 기체가 공급되는 가압상태 중 선택적으로 하나를 형성하도록 구성된, 액 공급장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 펌프장치는,
    상기 펌프로서 상기 액 공급부의 하류측과 필터부의 상류측 사이에 연결되는 제1 펌프 및 상기 필터부의 하류측과 노즐부의 상류측 사이에 연결되는 제2 펌프; 및
    상기 제1 펌프의 상류측에 배치되는 입구밸브, 상기 제1 펌프의 하류측과 상기 필터부의 상류측 사이에 배치되는 제1 밸브, 상기 제2 펌프의 상류측과 상기 필터부의 하류측 사이에 배치되는 제2 밸브 및 상기 제2 펌프의 하류측에 배치되는 출구밸브를 포함하는 밸브부;를 포함하는, 액 공급장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 펌프 및 제2 펌프는 상기 필터부와 상기 밸브부의 밸브박스 사이에서 상기 액이 유동하는 유로의 방향과 수직한 방향으로 나란하게 배치되는, 액 공급장치.
  15. 삭제
  16. 제12항에 있어서,
    상기 케이스에는 상기 제1 챔버에 연결되어 상기 진공상태를 형성하도록 기체를 배출하는 기체 배출부 및 상기 제2 챔버에 연결되어 상기 가압상태를 형성하도록 기체를 공급하는 기체 공급부가 배치되는, 액 공급장치.
  17. 제12항에 있어서,
    상기 튜브는 상기 제1 챔버 및 제 2 챔버를 향하는 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어진, 액 공급장치.
  18. 제12항에 있어서, 상기 튜브와 상기 케이스 사이에서 상기 튜브의 외측둘레를 커버하며 탄성을 갖는 보호부를 포함하는, 액 공급장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 보호부는 상기 튜브의 외측둘레면을 공간을 두고 둘러싸는 보호벽 및 상기 튜브와 보호벽 사이의 공간에 충진되는 액체 또는 기체로 이루어진 보호층을 포함하는, 액 공급장치.
  20. 내부에 기판을 처리하는 공간이 제공되는 처리용기;
    상기 처리용기 내부에 배치되어 기판을 지지하는 기판 지지부재;
    액을 공급하는 액 공급부;
    상기 액 공급부에 연결되어 액을 필터링하는 필터부;
    상기 필터부에 연결되어 액을 펌핑하는 펌프; 및
    상기 펌프의 하류측에 연결되어 기판에 액을 토출하는 노즐부;를 포함하고,
    상기 펌프는 내부에 액이 유동하는 유로가 형성되며 탄성을 가지며, 양 측면의 중앙부가 상기 유로 측으로 오목한 도넛 형태로 이루어진 튜브; 및
    내부공간이 상기 튜브와 내측면을 연결하는 격벽에 의해 기체가 배출되어 진공상태를 형성하는 제1 챔버 및 기체가 공급되어 가압상태를 형성하는 제2 챔버로 구획되며, 상기 제1 챔버 및 제2 챔버가 상기 튜브의 외측둘레를 커버하는 케이스를 포함하는, 기판처리장치.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3559632B2 (ja) * 1995-11-28 2004-09-02 日機装株式会社 ダブルチューブフラムポンプ、ダブルチューブフラムおよびダブルチューブフラムの製造方法
JP2013036396A (ja) * 2011-08-08 2013-02-21 Tokyo Keiso Co Ltd 流量調整装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6442377B2 (ja) 2014-10-23 2018-12-19 東京エレクトロン株式会社 ポンプ装置セット及び液供給システム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3559632B2 (ja) * 1995-11-28 2004-09-02 日機装株式会社 ダブルチューブフラムポンプ、ダブルチューブフラムおよびダブルチューブフラムの製造方法
JP2013036396A (ja) * 2011-08-08 2013-02-21 Tokyo Keiso Co Ltd 流量調整装置

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