KR102467881B1 - OLED display Panel - Google Patents
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Abstract
본 발명은 베젤을 최소화하기 위하여 GIP 구동회로를 표시 영역에 배치하고, 인접 화소 간 휘도 편차를 최소화 하기 위한 OLED 표시패널에 관한 것으로, 데이터 라인들과 스캔 라인들이 교차되고, 상기 각 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및 상기 표시 영역 내의 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 스테이지를 구비한 GIP 구동회로를 구비하고, 상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP 구동회로를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP 구동회로의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고, 상기 GIP부에는 상기 GIP 구동회로를 구동하기 위한 신호 라인이 배치되고, 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자의 전극 중 하나가 상기 신호 라인과 중첩하여 배치됨을 특징으로 한다.The present invention relates to an OLED display panel for arranging a GIP driving circuit in a display area to minimize a bezel and minimizing a luminance deviation between adjacent pixels, wherein data lines and scan lines intersect and are disposed at each intersection. a display area including sub-pixels; and a GIP driving circuit including a plurality of stages that are distributed in unit pixel areas within the display area and supply scan pulses to corresponding gate lines, wherein the unit pixel areas include at least three sub-pixel units, and a GIP drive circuit. A GIP unit in which one element constituting the driving circuit is disposed, and a GIP internal connection wiring unit in which connection wires connecting each element of the GIP driving circuit are disposed, and in the GIP unit, a signal for driving the GIP driving circuit is provided. A line is disposed, and one of the electrodes of the elements constituting the GIP driving circuit is disposed overlapping with the signal line.
Description
본 발명은 화소 어레이 내에 GIP 구동 회로의 스테이지가 배치되는 OLED 표시 패널에 있어서, 인접 화소 간 휘도 편차를 저감하기 위한 OLED 표시패널에 관한 것이다.The present invention relates to an OLED display panel for reducing a luminance deviation between adjacent pixels in an OLED display panel in which a stage of a GIP driving circuit is disposed in a pixel array.
정보화 사회가 발전하고, 이동통신 단말기 및 노트북 컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판 표시 장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. As the information society develops and various portable electronic devices such as mobile communication terminals and notebook computers develop, the demand for a flat panel display device applicable thereto is gradually increasing.
이와 같은 평판 표시 장치로는, 액정을 이용한 액정 표시 장치(LCD: Liquid Crystal Display)와 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode; 이하 OLED)를 이용한 OLED 표시 장치가 활용되고 있다.As such a flat panel display, a liquid crystal display (LCD) using a liquid crystal and an OLED display using an organic light emitting diode (OLED) are used.
이러한 평판 표시 장치들은 영상을 표시하기 위해 복수개의 게이트 라인들 및 복수개의 데이터 라인들을 구비한 표시 패널과, 상기 표시 패널을 구동하기 위한 구동회로로 구성된다.These flat panel display devices are composed of a display panel having a plurality of gate lines and a plurality of data lines to display an image, and a driving circuit for driving the display panel.
상기와 같은 표시 장치들 중 액정 표시 장치의 표시 패널은, 유리 기판상에 박막트랜지스터 어레이가 형성되는 박막트랜지스터 어레이 기판과, 유리 기판상에 칼라 필터 어레이가 형성되는 칼라 필터 어레이 기판과, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판과 상기 칼라 필터 어레이 기판 사이에 충진된 액정층을 구비한다.Among the above display devices, a display panel of a liquid crystal display device includes a thin film transistor array substrate having a thin film transistor array formed on a glass substrate, a color filter array substrate having a color filter array formed on a glass substrate, and the thin film transistors A liquid crystal layer filled between the array substrate and the color filter array substrate is provided.
상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은, 제1방향으로 연장되는 복수개의 게이트 라인들(GL)과, 제1방향과 수직인 제2방향으로 연장되는 복수개의 데이터 라인들(DL)을 포함하며, 각 게이트 라인과 각 데이터 라인에 의하여 하나의 서브 화소 영역(Pixel; P)이 정의된다. 하나의 서브 화소 영역(P) 내에는 하나의 박막 트랜지스터와 화소 전극이 형성된다.The thin film transistor array substrate includes a plurality of gate lines GL extending in a first direction and a plurality of data lines DL extending in a second direction perpendicular to the first direction, each gate line One sub-pixel area (Pixel; P) is defined by and each data line. One thin film transistor and one pixel electrode are formed in one sub-pixel region P.
이러한 액정 표시 장치의 표시 패널은, 전기장 생성 전극 (화소 전극 및 공통 전극)에 전압을 인가하여 상기 액정층에 전기장을 생성하고, 상기 전기장에 의해 액정층의 액정 분자들의 배열 상태를 조절하여 입사광의 편광을 제어함으로써 영상을 표시한다. In the display panel of such a liquid crystal display device, an electric field is generated in the liquid crystal layer by applying a voltage to an electric field generating electrode (a pixel electrode and a common electrode), and an arrangement state of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is controlled by the electric field, thereby reducing incident light. An image is displayed by controlling the polarization.
또한, 상기와 같은 표시 장치들 중 OLED 표시 장치의 표시 패널은, 상기 복수개의 게이트 라인들과 복수개의 데이터 라인들이 교차하여 서브 화소가 정의되고, 각 서브 화소들은, 애노드 및 캐소드와 상기 애노드 및 캐소드 사이의 유기 발광층으로 구성된 OLED와, 상기 OLED를 독립적으로 구동하는 화소 회로를 구비한다.In addition, in the display panel of an OLED display device among the above display devices, sub-pixels are defined by crossing the plurality of gate lines and the plurality of data lines, and each sub-pixel has an anode and a cathode and the anode and cathode An OLED composed of an organic light emitting layer therebetween, and a pixel circuit independently driving the OLED.
상기 화소 회로는 다양하게 구성될 수 있으나, 적어도 하나의 스위칭 TFT, 커패시터 및 구동 TFT를 포함한다. The pixel circuit may be configured in various ways, but includes at least one switching TFT, a capacitor, and a driving TFT.
상기 적어도 하나의 스위칭 TFT는 스캔 펄스에 응답하여 데이터 전압을 상기 커패시터에 충전한다. 상기 구동 TFT는 상기 커패시터에 충전된 데이터 전압에 따라 OLED로 공급되는 전류량을 제어하여 OLED의 발광량을 조절한다. The at least one switching TFT charges the capacitor with a data voltage in response to a scan pulse. The driving TFT controls the amount of light emitted by the OLED by controlling the amount of current supplied to the OLED according to the data voltage charged in the capacitor.
이러한 표시 장치용 표시 패널은, 사용자에게 이미지를 제공하는 표시 영역(active area, AA)과 상기 표시영역(AA)의 주변 영역인 비표시 영역(non-active area, NA)으로 정의된다.A display panel for such a display device is defined by an active area (AA) providing images to a user and a non-active area (NA) that is a peripheral area of the display area (AA).
또한, 상기 표시 패널을 구동하기 위한 상기 구동회로는 상기 표시 패널의 상기 복수개의 게이트 라인(스캔 라인)들에 게이트 펄스(또는 스캔 펄스)를 순차적으로 공급하는 게이트 구동 회로와, 상기 표시 패널의 상기 복수개의 데이터 라인들에 데이터 전압을 공급하는 데이터 구동 회로와, 상기 게이트 구동 회로와 상기 데이터 구동 회로에 영상 데이터 및 각종 제어신호를 공급하는 타이밍 콘트롤러 등으로 이루어진다.In addition, the driving circuit for driving the display panel includes a gate driving circuit for sequentially supplying gate pulses (or scan pulses) to the plurality of gate lines (scan lines) of the display panel; It includes a data driving circuit supplying data voltages to a plurality of data lines, and a timing controller supplying image data and various control signals to the gate driving circuit and the data driving circuit.
상기 게이트 구동 회로는, 적어도 하나의 게이트 드라이브 IC로 구성될 수도 있지만, 상기 표시 패널의 상기 복수개의 신호 라인 (게이트 라인들 및 데이터 라인들)과 서브 화소를 형성하는 과정에서 상기 표시 패널의 비표시 영역상에 동시에 형성될 수 있다. The gate driving circuit may be composed of at least one gate drive IC, but in the process of forming sub-pixels with the plurality of signal lines (gate lines and data lines) of the display panel, the display panel is not displayed. can be formed simultaneously on the area.
즉, 상기 게이트 구동 회로를 상기 표시 패널에 직접화시키는 게이트-인-패널(Gate-In-Panel; 이하 "GIP 구동회로"라고 함) 방식이 적용되고 있다.That is, a gate-in-panel (hereinafter, referred to as “GIP driving circuit”) scheme is applied in which the gate driving circuit is directly integrated into the display panel.
도 1은 종래의 OLED 표시 장치의 구동회로 및 구동회로의 관계를 나타내는 블록도이다. 1 is a block diagram showing the relationship between a driving circuit and a driving circuit of a conventional OLED display device.
도 1을 참조하면, OLED 표시 장치(100)는 OLED 표시 패널(PNL)과 상기 OLED 표시 패널(PNL)의 화소 어레이(pixel array)(110)에 입력 영상의 데이터를 입력하기 위한 구동회로를 포함한다.Referring to FIG. 1 , the
상기 OLED 표시패널(PNL)은 서로 교차하여 배열되는 복수의 게이트 라인(149, 스캔 라인) 및 복수의 데이터 라인(139)과, 상기 복수의 게이트 라인(149) 및 복수의 데이터 라인(139)에 의해 정의된 매트릭스 형태의 서브 화소들이 배치된 화소 어레이(110)를 포함한다.The OLED display panel PNL includes a plurality of gate lines 149 (scan lines) and a plurality of
상기 각 서브 화소는, 애노드 및 캐소드와 상기 애노드 및 캐소드 사이의 유기 발광층으로 구성된 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode; OLED)와, 상기 OLED를 독립적으로 구동하는 화소 회로를 구비한다. Each of the sub-pixels includes an organic light emitting diode (OLED) composed of an anode and a cathode and an organic light emitting layer between the anode and the cathode, and a pixel circuit independently driving the OLED.
상기 화소 회로는 다양하게 구성될 수 있으나, 적어도 하나의 스위칭 TFT, 커패시터 및 구동 TFT를 포함한다.The pixel circuit may be configured in various ways, but includes at least one switching TFT, a capacitor, and a driving TFT.
상기 OLED 표시패널(PNL)를 구동하는 구동회로는 비표시 영역에 형성되어 복수의 데이터 라인(139)에 데이터 전압을 공급하는 데이터 구동회로(130)와, 상기 비표시 영역에 형성되어 상기 데이터 전압에 동기되는 게이트(스캔) 신호를 복수의 게이트 라인(149)에 순차적으로 공급하는 GIP(Gate In Panel) 구동회로(140), 그리고 타이밍 콘트롤러(Timing Controller, TCON)(120)를 포함한다.The driving circuit for driving the OLED display panel PNL includes a
상기 타이밍 콘트롤러(120)는, 인쇄회로기판(PCB)에 배치되고, 외부의 호스트 시스템으로부터 수신된 입력 영상의 데이터를 정렬하여 데이터 구동회로(130)에 공급한다. 또한, 상기 타이밍 콘트롤러(120)는 상기 외부의 시스템으로부터 입력 영상에 동기되는 수직 동기신호, 수평 동기신호, 데이터 인에이블 신호 및 도트 클럭 등의 타이밍 신호를 수신하여 상기 데이터 구동회로(130)와 상기 GIP 구동회로(140)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 제어 신호(Data Driver Control signal; DDC, Gate Driver Control signal; GDC)를 생성한다. The
상기 데이터 구동회로(130)는 타이밍 콘트롤러(120)로부터 입력 영상의 데이터와 데이터 드라이버 제어 신호(DDC)를 수신하여 입력된 영상의 데이터를 감마 보상 전압으로 변환하여 데이터 전압을 생성하고, 데이터 전압을 복수의 데이터 라인(150)으로 출력한다.The
상기 데이터 구동회로(130)는 복수의 소스 전극 드라이버 IC(Integrated Circuit)를 포함하고, 각 소스 전극 드라이브IC는 COF(Chip On Film)으로 구성되어 상기 타이밍 콘트롤러(120)가 실장되는 상기 인쇄회로기판의 패드부와 상기 표시패널(PNL)의 패드부 사이에 연결된다.The
상기 GIP 구동회로(140)는 구동방식에 따라 표시 패널(PNL)의 일측 가장자리에 배치되거나 양측 가장자리에 배치될 수 있다. 도 1에 도시된 게이트 구동회로는, 인터레이스(Interlace) 방식의 GIP 구동회로(140)로서, 표시 패널(PNL)의 좌측에 배치된 제1 GIP 구동회로(140L) 및 표시 패널(PNL)의 우측에 배치된 제2 GIP 구동회로(140R)를 구비한다.The
상기 GIP 구동회로(140)는 적어도 하나의 게이트 드라이브 IC로 구성될 수도 있지만, 상기 OLED 표시패널(PNL)의 화소 어레이(110)를 구성하는 상기 복수개의 신호 라인 (게이트 라인들 및 데이터 라인들)과 서브 화소를 형성하는 과정에서 상기 표시 패널의 비표시 영역상에 동시에 형성될 수 있다. The
상기 GIP 구동회로(140)는 상기 타이밍 컨트롤러(120)로부터 전송된 제어 신호(GDC)에 따라 각 게이트 라인(149)에 순차적으로 게이트(스캔) 신호를 공급한다.The
상기와 같은 GIP 구동회로(140)는 각 게이트 라인들에 스캔 펄스를 순차적으로 공급하기 위하여, 게이트 라인의 개수 이상의 복수개의 스테이지(stage; 이하 "GIP"로 표현한다)를 포함하여 구성되고, 구동 특성을 향상시키기 위하여 산화물 반도체 박막트랜지스터들을 이용한다.The
즉, 상기 GIP 구동회로(140)는 종속적으로 접속된 복수개의 스테이지(GIP)를 포함한다. 그리고, 각 스테이지(GIP)는 각 게이트 라인에 연결되어, 상기 타이밍 콘트롤러로부터 인가되는 클럭신호, 게이트 스타트 신호, 게이트 하이 전압 및 게이트 로우 전압을 수신하여, 하나의 캐리 펄스와 하나의 스캔 펄스를 생성하는 출력부를 포함한다.That is, the
도2는 일반적인 (n)번째 스테이지(GIP)의 구성 블럭도이다. 2 is a block diagram of a general (n)th stage (GIP).
상기 각 스테이지(GIP)는, 도 2에 도시한 바와 같이, 스타트 펄스(start pulse) 또는 전단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(SET)에 의해 셋팅되고, 후단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(RST)에 의해 리셋팅되어 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압을 제어하는 노드 제어부(100)와, 다수의 스캔 펄스 출력용 클럭신호(SCCLKs) 중 하나의 스캔 펄스 출력용 클럭신호와 상기 다수의 캐리 펄스 출력용 클럭신호(CRCLKs) 중 하나의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호를 수신하여, 상기 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압 레벨에 따라 하나의 스캔 펄스((So(n)) 및 하나의 캐리 펄스(Co(n))를 출력하는 출력부(200)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 2, each stage GIP is set by a start pulse or a carry pulse SET output from the previous stage GIP, and output from the next stage GIP. The
6상의 클럭 신호에 의해 구동되는 스테이지(GIP)의 경우, 상기 노드 제어부(100)는 3번째 전단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n-3))에 의해 셋팅되고, 3번째 후단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n+3))에 의해 리셋팅되어 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압을 제어한다.In the case of a stage GIP driven by a 6-phase clock signal, the
도면에는 도시되지 않았지만, 상기 스테이지(GIP)의 출력부(200)는, 캐리 펄스 출력부 및 스캔 펄스 출력부를 구비하여 구성된다.Although not shown in the drawing, the
상기 캐리 펄스 출력부는 복수개의 캐리용 클럭 신호 중 하나의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 단과 제 1 게이트 로우 전압단(VGL1) 사이에 직렬 연결되는 제 1 풀업 트랜지스터 및 제 1 풀다운 트랜지스터를 구비하여 구성된다. The carry pulse output unit includes a first pull-up transistor and a first pull-down connected in series between a clock signal terminal for outputting a carry pulse to which one of a plurality of clock signals for outputting a carry pulse is applied and a first gate low voltage terminal (VGL1) It is configured with a transistor.
상기 제 1 풀업 트랜지스터는 상기 제 1 노드(Q)의 전압 레벨에 따라 온/오프되고, 상기 제 1 풀다운 트랜지스터는 상기 제 2 노드(Qb)의 전압 레벨에 따라 온/오프되어 상기 입력된 캐리 펄스 출력용 클럭 신호를 캐리 펄스(Co(n))로 출력한다.The first pull-up transistor is turned on/off according to the voltage level of the first node (Q), and the first pull-down transistor is turned on/off according to the voltage level of the second node (Qb) to receive the input carry pulse. The output clock signal is output as a carry pulse (Co(n)).
상기 스캔 펄스 출력부는 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 단과 제 2 게이트 로우 전압단(VGL2) 사이에 직렬 연결되는 제 2 풀업 트랜지스터 및 제 2 풀다운 트랜지스터와, 상기 제 2 풀업 트랜지스터의 게이트 전극과 소오스 전극 사이에 연결되는 부트스트랩(bootstrap) 커패시터를 구비하여 구성된다. The scan pulse output unit includes a second pull-up transistor connected in series between a clock signal terminal for outputting scan pulses to which one of a plurality of clock signals for outputting scan pulses is applied and a second gate low voltage terminal (VGL2); It is configured to include a pull-down transistor and a bootstrap capacitor connected between the gate electrode and the source electrode of the second pull-up transistor.
상기 제 2 풀업 트랜지스터는 상기 제 1 노드(Q)의 전압 레벨에 따라 온/오프되고, 상기 제 2 풀다운 트랜지스터는 상기 제 2 노드(Qb)의 전압 레벨에 따라 온/오프되어 상기 입력된 스캔 펄스 출력용 클럭 신호를 스캔 펄스(So(n))로 출력한다.The second pull-up transistor is turned on/off according to the voltage level of the first node (Q), and the second pull-down transistor is turned on/off according to the voltage level of the second node (Qb) and receives the input scan pulse. The clock signal for output is output as a scan pulse (So(n)).
도 3은 도 2에 도시된 (n) 번째 스테이지(GIP)의 동작을 보여 주는 파형도이다. FIG. 3 is a waveform diagram showing the operation of the (n)th stage GIP shown in FIG. 2 .
도 3에서는, 상술한 바와 같이, 상기 노드 제어부(100)는 3번째 전단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n-3))에 의해 셋팅되고, 3번째 후단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n+3))에 의해 리셋팅되어 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압을 제어함을 도시한 것이다.In FIG. 3, as described above, the
상기 (n)번째 스테이지(GIP(n))는 3번째 전단의 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n-3))에 의해 셋팅되어 상기 제 1 노드(Q)를 게이트 하이 전압(VGH)으로 충전하고, 상기 제 2 노드(Qb)를 게이트 로우 전압(VGL) 상태로 방전한다. 따라서, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀업 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀업 트랜지스터는 턴-온 되고, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀다운 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀다운 트랜지스터는 턴-오프 된다.The (n)th stage GIP(n) is set by the carry pulse Co(n−3) output from the third previous stage GIP, and sets the first node Q to a gate high voltage ( VGH), and the second node Qb is discharged to the gate low voltage VGL. Accordingly, the first pull-up transistor of the carry pulse output unit and the second pull-up transistor of the scan pulse output unit are turned on, and the first pull-down transistor of the carry pulse output unit and the second pull-down transistor of the scan pulse output unit are turned off. do.
그리고, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀업 트랜지스터의 드레인 전극과 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀업 트랜지스터의 드레인 전극에는 동일 위상을 갖는 클럭 신호(CRCLK, SCCLK)가 인가된다.Clock signals CRCLK and SCCLK having the same phase are applied to the drain electrode of the first pull-up transistor of the carry pulse output unit and the drain electrode of the second pull-up transistor of the scan pulse output unit.
상기 제 1 풀업 트랜지스터의 드레인 전극과 상기 제 2 풀업 트랜지스터의 드레인 전극에 하이 레벨의 클럭 신호(CRCLK, SCCLK)가 인가되면, 상기 부트스트랩 커패시터에 의해 상기 플로팅된 제 1 노드(Q)의 전압이 부트스트래핑되어 2VGH 만큼 상승된다.When high-level clock signals CRCLK and SCCLK are applied to the drain electrode of the first pull-up transistor and the drain electrode of the second pull-up transistor, the voltage of the first node Q floated by the bootstrap capacitor is It is bootstrapped and raised by 2VGH.
이와 같이 상기 제 1 노드(Q)가 브트스트랩핑된 상태에서, 상기 캐리 펄스 출력부 및 상기 스캔 펄스 출력부는 입력되는 클럭 펄스(CRCLK, SCCLK)를 각각 캐리 펄스(Co(n)) 및 스캔 펄스(So(n))로 출력한다.In this way, in a state where the first node Q is bootstrapped, the carry pulse output unit and the scan pulse output unit convert the input clock pulses CRCLK and SCCLK to carry pulses Co(n) and scan pulses, respectively. Output as (So(n)).
그리고, 상기 3번째 후단 스테이지(GIP)에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n+3))에 의해 리셋되어 상기 제 1 노드(Q)는 로우 상태가 되고, 상기 제 2 노드(Qb)를 하이 상태가 된다. 따라서, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀업 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀업 트랜지스터는 턴-오프 되고, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀다운 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀다운 트랜지스터는 턴-온 되어, 캐리 펄스(Co(n)) 및 스캔 펄스(So(n))로 게이트 로우 전압(VGL)을 출력한다.And, reset by the carry pulse Co(n+3) output from the third post stage GIP, the first node Q is in a low state, and the second node Qb is in a high state becomes Accordingly, the first pull-up transistor of the carry pulse output unit and the second pull-up transistor of the scan pulse output unit are turned off, and the first pull-down transistor of the carry pulse output unit and the second pull-down transistor of the scan pulse output unit are turned on. Then, the gate low voltage VGL is output with the carry pulse Co(n) and the scan pulse So(n).
그러나, 이와 같이 종래의 OLED 표시패널은 상기 GIP 구동회로가 상기 표시 패널의 비표시 영역에 직접화되므로, 표시 장치의 네로우 베젤(Narrow bezel) 설계가 어렵다. However, in the conventional OLED display panel, since the GIP driving circuit is directly integrated in the non-display area of the display panel, it is difficult to design a narrow bezel of the display device.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 베젤을 최소화하기 위하여 GIP 구동회로를 표시 영역에 배치하고, 인접 화소 간 휘도 편차를 최소화 하기 위한 OLED 표시패널을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide an OLED display panel for arranging a GIP driving circuit in a display area to minimize a bezel and minimizing a luminance deviation between adjacent pixels.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 OLED 표시 패널은, 데이터 라인들과 스캔 라인들이 교차되고, 상기 각 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및 상기 표시 영역 내의 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 스테이지를 구비한 GIP 구동회로를 구비하고, 상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP 구동회로를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP 구동회로의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고, 상기 GIP부에는 상기 GIP 구동회로를 구동하기 위한 신호 라인이 배치되고, 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자의 전극 중 하나가 상기 신호 라인과 중첩하여 배치됨에 그 특징이 있다.An OLED display panel according to the present invention for achieving the above object includes: a display area in which data lines and scan lines intersect and include sub-pixels disposed at each intersection; and a GIP driving circuit including a plurality of stages that are distributed in unit pixel areas within the display area and supply scan pulses to corresponding gate lines, wherein the unit pixel areas include at least three sub-pixel units, and a GIP drive circuit. A GIP unit in which one element constituting the driving circuit is disposed, and a GIP internal connection wiring unit in which connection wires connecting each element of the GIP driving circuit are disposed, and in the GIP unit, a signal for driving the GIP driving circuit is provided. The line is disposed, and one of the electrodes of the elements constituting the GIP driving circuit is disposed overlapping with the signal line.
상기 신호 라인은 상기 데이터 라인들과 평행하게 배치됨을 특징으로 한다.The signal line is characterized in that it is disposed parallel to the data lines.
상기 신호 라인은, 라인 선택 신호 라인, 실시간 보상용 신호 라인, 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 라인, 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 라인, 리세트 신호 라인, 스타트 펄스 신호 라인 및 정전압 라인들을 포함함을 특징으로 한다.The signal lines include a line selection signal line, a signal line for real-time compensation, a clock signal line for outputting a carry pulse, a clock signal line for outputting a scan pulse, a reset signal line, a start pulse signal line, and constant voltage lines.
상기 GIP부에 배치되는 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자의 게이트 전극, 소오스 전극 및 드레인 전극 중 하나가 상기 신호 라인에 중첩됨을 특징으로 한다.It is characterized in that one of a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode of an element constituting the GIP driving circuit disposed in the GIP unit overlaps the signal line.
상기와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 OLED 표시패널에 있어서는 다음과 같은 효과가 있다.The OLED display panel according to the present invention having the above characteristics has the following effects.
즉, GIP 구동회로를 구동하기 위한 신호 라인에 중첩되도록 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자가 GIP부에 배치되므로, 상기 GIP부가 차지하는 면적을 줄일 수 있다.That is, since elements constituting the GIP driving circuit are disposed in the GIP part so as to overlap a signal line for driving the GIP driving circuit, the area occupied by the GIP part can be reduced.
따라서, 상기 GIP부가 차지하는 면적을 줄일 수 있으므로, 적어도 3개의 서브 화소부와 상기 GIP부 사이의 간격을 더 늘릴 수 있으므로, 상기 적어도 3개의 서브 화소부와 상기 GIP부 간의 커패시턴스 발생을 방지할 수 있고, 더불어 상기 적어도 3개의 서브 화소부와 상기 GIP부 간의 커패시턴스 편차를 최소화하고 인접 화소 간의 휘도 편차를 방지할 수 있다.Therefore, since the area occupied by the GIP unit can be reduced, the distance between the at least three sub-pixel units and the GIP unit can be further increased, and thus the generation of capacitance between the at least three sub-pixel units and the GIP unit can be prevented. , In addition, capacitance variation between the at least three sub-pixel units and the GIP unit can be minimized and luminance variation between adjacent pixels can be prevented.
도 1은 종래의 OLED 표시 장치의 구동회로 및 구동회로의 관계를 나타내는 블록도
도 2는 종래의 (n)번째 스테이지(GIP)의 구성 블럭도
도 3은 도 2에 도시된 (n) 번째 스테이지(GIP)의 동작을 보여 주는 파형도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 OLED 표시패널에서 하나의 서브 화소의 회로 구성도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 GIP구동회로의 (k)번째 스테이지의 회로 구성도
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 OLED 표시 패널의 표시 영역 구성도
도 7은 도 6의 OLED 표시 패널의 표시 영역에 배치된 인접한 2개의 단위 화소 영역을 보다 구체적으로 도시한 구성도
도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 상기 GIP부(31)에 형성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자의 레이 아웃도
도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 상기 GIP부(31)에 형성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자의 레이 아웃도
도 10은 도 9의 I-I'선상의 단면도
도 11은 도 9의 II-II'선상의 단면도1 is a block diagram showing a driving circuit of a conventional OLED display device and the relationship between driving circuits;
2 is a block diagram of a conventional (n)th stage (GIP)
3 is a waveform diagram showing the operation of the (n)th stage (GIP) shown in FIG. 2;
4 is a circuit diagram of one sub-pixel in an OLED display panel according to an embodiment of the present invention.
5 is a circuit diagram of a (k)th stage of a GIP driving circuit according to an embodiment of the present invention.
6 is a configuration diagram of a display area of an OLED display panel according to a first embodiment of the present invention;
FIG. 7 is a configuration diagram showing two adjacent unit pixel areas disposed in the display area of the OLED display panel of FIG. 6 in more detail.
8 is a layout view of arbitrary elements constituting one stage of the GIP driving circuit formed in the
9 is a layout view of arbitrary elements constituting one stage of the GIP driving circuit formed in the
10 is a cross-sectional view taken along line II' of FIG. 9
11 is a cross-sectional view taken along line II-II' of FIG. 9
먼저, 본 출원인은 표시 패널의 베젤을 최소화하기 위하여 표시 패널의 표시 영역에 GIP 구동회로를 분산 배치하는 발명에 관하여 기 출원한 바 있다 (한국 특허출원번호: 10-2017-0125355호(출원일: 2017년 09월 27일) 참고).First, the present applicant has previously applied for an invention of distributing and arranging GIP driving circuits in the display area of a display panel in order to minimize the bezel of the display panel (Korean Patent Application No.: 10-2017-0125355 (filing date: 2017) September 27, 2009) reference).
상기 기 출원된 특허 출원(10-2017-0125355호)의 발명을 간단하게 설명하면 다음과 같다.The invention of the previously filed patent application (No. 10-2017-0125355) is briefly described as follows.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 OLED 표시패널에서 하나의 서브 화소의 회로 구성도이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 GIP구동회로의 (k)번째 스테이지의 회로 구성도이다.4 is a circuit diagram of one sub-pixel in an OLED display panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a circuit diagram of a (k)th stage of a GIP driving circuit according to an embodiment of the present invention.
즉, 도 4는 상기 기 출원된 상기 특허 출원(10-2017-000000호)의 도 4에 해당되고, 도 5는 상기 기 출원된 상기 특허 출원(10-2017-000000호)의 도 5에 해당된다.That is, FIG. 4 corresponds to FIG. 4 of the previously filed patent application (No. 10-2017-000000), and FIG. 5 corresponds to FIG. 5 of the previously filed patent application (No. 10-2017-000000). do.
본 발명의 실시예에 따른 OLED 표시패널의 각 서브 화소는, 도 4에 도시한 바와 같이, 유기 발광 다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)와, 상기 유기 발광 다이오드는 구동하는 화소 회로를 구비한다.As shown in FIG. 4 , each sub-pixel of the OLED display panel according to the embodiment of the present invention includes an organic light emitting diode (OLED) and a pixel circuit that drives the organic light emitting diode.
상기 화소 회로는 제 1 및 제 2 스위칭 TFT(T1, T2), 스토리지 커패시터(Cst), 및 구동 TFT(DT)를 포함한다. The pixel circuit includes first and second switching TFTs (T1, T2), a storage capacitor (Cst), and a driving TFT (DT).
상기 제 1스위칭 TFT(T1)는 스캔 펄스(Scan)에 응답하여 데이터(DATA) 전압을 상기 스토리지 커패시터(Cst)에 충전한다. 상기 구동 TFT(DT)는 상기 스토리지 커패시터(Cst)에 충전된 데이터 전압에 따라 OLED로 공급되는 전류량을 제어하여 OLED의 발광량을 조절한다. 상기 제 2 스위칭 TFT(T2)는 센싱(Sense) 신호에 응답하여 상기 구동 TFT(DT)의 문턱 전압 및 이동도를 센싱한다.The first switching TFT (T1) charges the storage capacitor (Cst) with a data (DATA) voltage in response to a scan pulse (Scan). The driving TFT DT controls the amount of current supplied to the OLED according to the data voltage charged in the storage capacitor Cst to adjust the amount of light emitted from the OLED. The second switching TFT (T2) senses the threshold voltage and mobility of the driving TFT (DT) in response to a sensing signal.
상기 유기 발광 다이오드(OLED)는 제1전극(예: 애노드 전극 또는 캐소드 전극), 유기 발광층 및 제2전극(예: 캐소드 전극 또는 애노드 전극) 등으로 이루어질 수 있다.The organic light emitting diode (OLED) may include a first electrode (eg, an anode electrode or a cathode electrode), an organic light emitting layer, and a second electrode (eg, a cathode electrode or an anode electrode).
상기 스토리지 커패시터(Cst)는 상기 구동 TFT(DT)의 게이트 전극(gate)과 소오스 전극(source) 사이에 전기적으로 연결되어, 영상 신호 전압에 해당하는 데이터 전압 또는 이에 대응되는 전압을 한 프레임 시간 동안 유지해줄 수 있다. The storage capacitor (Cst) is electrically connected between the gate electrode (gate) and the source electrode (source) of the driving TFT (DT), and a data voltage corresponding to the image signal voltage or a voltage corresponding thereto is supplied for one frame time. can keep you
도 4에서는 3개의 TFT(T1, T2, DT)와 하나의 스토리지 커패시터(Cst)로 구성되는 3T1C 서브 화소의 구성을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 본 발명에 따른 OLED 표시패널의 각 서브 화소는 4T1C, 4T2C, 5T1C, 5T2C 등의 서브 화소를 갖을 수 있다.Although FIG. 4 shows the configuration of a 3T1C sub-pixel composed of three TFTs (T1, T2, DT) and one storage capacitor (Cst), it is not limited thereto, and each sub-pixel of the OLED display panel according to the present invention is Sub-pixels such as 4T1C, 4T2C, 5T1C, and 5T2C may be provided.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 GIP구동회로의 (k)번째 스테이지의 회로는, 도 5에 도시한 바와 같이, 트랜지스터(TA, TB, T3qA, T1B, T1C, T5A, T5B) 및 커패시터(C1)를 구비하여 구성되어, 라인 선택 신호(LSP; Line select pulse)에 따라 세트 신호(CP(k))를 선택적으로 저장하고, 해당 스테이지를 블랭크 구간(Blank time)에 실시간 보상용 신호(VRT; Vertical real time)에 따라 제 1 노드(Q)를 제 1 정전압(GVDD)으로 충전하고 제 2 노드(Qb)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전하는 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26); 트랜지스터(T1, T1A, T3n, T3nA, T3q, T3, T3A, T5)를 구비하여 구성되어 해당 스테이지를 구동 구간에 3번째 전단의 캐리 펄스(CP(k-3))에 따라 상기 제 1 노드(Q)를 상기 캐리 펄스(CP(k-3)) 전압으로 충전하고 3번째 후단의 캐리 펄스(CP(k+3))에 따라 상기 제 1 노드(Q) 및 제 3 노드(Qh)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전하며, 상기 제 1 노드(Q)의 전압에 따라 제 3노드(Qh)를 상기 제 1정전압(GVDD)으로 충전하는 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25); 트랜지스터(T4, T4l, T4q, T5q) 및 커패시터(C2)를 구비하여 구성되어 상기 제 1 노드(Q)의 전압을 반전하여 제 2 노드(Qb)에 인가하는 인버터부(24); 풀업 트랜지스터(T6cr, T6) 및 풀다운 트랜지스터(T7cr, T7) 및 부트스트랩핑 커패시터(C3)를 구비하여 구성되어 복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(CRCLK(k)) 및 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(SCCLK(k))을 수신하여 상기 제 1 노드(Q) 및 상기 제 2 노드(Qb)의 전압에 따라 캐리 펄스(CP(k)) 및 스캔 펄스(SP(k))를 출력하는 출력 버퍼부(27); 그리고, 트랜지스터(T3nB, T3nC)를 구비하여 구성되어 상기 블랭크 구간(Blank time)에 상기 타이밍 컨트롤러에서 출력되는 리세트 신호(RST)에 따라 상기 제 1 노드(Q)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전하는 리세트부(22)를 구비하여 구성된다.On the other hand, the circuit of the (k)th stage of the GIP driving circuit according to the embodiment of the present invention, as shown in FIG. ), selectively stores the set signal CP(k) according to a line select pulse (LSP), and sets the corresponding stage to a blank time during a real-time compensation signal (VRT; The first and second nodes (Q, Qb) of the blank period in which the first node (Q) is charged to the first constant voltage (GVDD) and the second node (Qb) is discharged to the second constant voltage (GVSS2) according to vertical real time )
상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26)는 상기 라인 선택 신호(LSP)가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(TA, TB, T3q)가 턴-온 되어 세트 신호(CP(k))를 상기 커패시터(C1)에 저장한다.When the line select signal LSP is at a high level, the
그리고, 상기 블랭크 구간에 상기 실시간 보상용 신호(VRT)가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T1C, T5B)가 턴-온 되어 상기 제 1 노드(Q)를 제 1 정전압(GVDD)으로 충전하고, 상기 제 2 노드(Qb)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다.In the blank period, when the real-time compensation signal VRT is at a high level, the transistors T1C and T5B are turned on to charge the first node Q with a first constant voltage GVDD. The second node Qb is discharged to the second constant voltage GVSS2.
상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25)는 구동 구간에 상기 3번째 전단의 캐리 펄스(CP(k-3))가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T1, T1A, T5)가 턴-온되어 상기 제 1 노드(Q)를 상기 3번째 전단의 캐리 펄스(CP(k-3)) 전압으로 충전하고 상기 제 2 노드(Qb)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다. 이와 같이 상기 제 1 노드(Q)가 충전되고 상기 제 2 노드(Qb)가 방전 될 때 상기 트랜지스터(T3q)가 턴-온되어 상기 제 3 노드(Qh)를 제 1 정전압(GVDD)으로 충전한다.In the first to
그리고 3번째 후단의 캐리 펄스(CP(k+3))가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T3n, T3nA)가 턴-온되어 상기 제 1 노드(Q) 및 상기 제 3 노드(Qh)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다.Also, when the carry pulse CP(k+3) of the third stage is at a high level, the transistors T3n and T3nA are turned on to connect the first node Q and the third node Qh to the second node Qh. Discharge with constant voltage (GVSS2).
상기 인버터부(24)는 상기 제 1 노드(Q)의 전압을 반전하여 제 2 노드(Qb)에 인가한다. The inverter unit 24 inverts the voltage of the first node Q and applies it to the second node Qb.
상기 출력 버퍼부(27)는 상기 제 1 노드(Q)가 하이 레벨이고 상기 제 2 노드(Qb)가 로우 레벨일 때 상기 풀업 트랜지스터(T6cr)가 턴-온되고 상기 풀다운 트랜지스터(T7cr)가 턴-오프되어 상기 복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(CRCLK(k))를 캐리 펄스(CP(k))로 출력한다. 또한 상기 제 1 노드(Q)가 하이 레벨이고 상기 제 2 노드(Qb)가 로우 레벨일 때 상기 풀업 트랜지스터(T6)가 턴-온되고 상기 풀다운 트랜지스터(T7)가 턴-오프되어 상기 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(SCCLK(k))을 스캔 펄스(SP(k))로 출력한다.In the output buffer unit 27, when the first node Q is at a high level and the second node Qb is at a low level, the pull-up transistor T6cr is turned on and the pull-down transistor T7cr is turned on. - It is turned off to output one clock signal CRCLK(k) among the plurality of carry pulse output clock signals as a carry pulse CP(k). In addition, when the first node Q is at a high level and the second node Qb is at a low level, the pull-up transistor T6 is turned on and the pull-down transistor T7 is turned off so that the plurality of scans One of the pulse output clock signals SCCLK(k) is output as the scan pulse SP(k).
이 때, 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호(SCCLK(k))가 하이 레벨로 인가되면 상기 출력 버퍼부(27)의 상기 부트스트랩핑 커패시터(C3)에 의해 상기 제 1노드(Q)는 부트스트랩핑(또는 커플링(Coupling))되어 더 높은 전위를 갖는다.At this time, when the clock signal SCCLK(k) for outputting the scan pulse is applied at a high level, the first node Q is bootstrapping by the bootstrapping capacitor C3 of the output buffer unit 27. (or coupled) to have a higher potential.
이와 같이 상기 제 1 노드(Q)가 브트스트랩핑된 상태에서, 상기 출력 버퍼부(27)는 각각 입력된 캐리 펄스 출력용 클럭 신호(CRCLK(k)) 및 스캔 펄스 출력용 클럭 신호(SCCLK(k))를 캐리 펄스(CP(k)) 및 스캔 펄스(SP(k))로 출력하므로 출력 손실(Loss)을 방지할 수 있다.In this way, in the state where the first node Q is bootstrapped, the output buffer unit 27 outputs the clock signal CRCLK(k) for outputting the carry pulse and the clock signal SCCLK(k) for outputting the scan pulse, respectively. ) as the carry pulse CP(k) and the scan pulse SP(k), output loss can be prevented.
상기 리세트부(22)는 상기 블랭크 구간(Blank time)에 상기 타이밍 컨트롤러(4)에서 출력되는 리세트 신호(RST)가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T3nB, T3nC)가 턴-온되어 상기 제 1 노드(Q)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다.The reset unit 22 turns on the transistors T3nB and T3nC when the reset signal RST output from the timing controller 4 is at a high level during the blank time, 1 node (Q) is discharged to the second constant voltage (GVSS2).
상기 도 5에서는 6상(Phase)으로 구동되는 GIP구동회로의 스테이지를 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 본 발명에 따른 GIP구동회로의 스테이지는 다양하게 구성될 수 있다.Although the stage of the GIP driving circuit driven in 6 phases is shown in FIG. 5, it is not limited thereto, and the stage of the GIP driving circuit according to the present invention can be configured in various ways.
상기 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 GIP구동회로의 각 스테이지는 25개의 트랜지스터와 3개의 커패시터를 구비하여 구성된다.As shown in FIG. 5, each stage of the GIP driving circuit includes 25 transistors and 3 capacitors.
따라서, 하나의 단위 화소 영역에 상기 GIP구동회의 스테이지를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)를 분산 배치하면, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 하나의 스테이지의 회로를 배치할 수 있다.Therefore, if one unit element (transistor or capacitor) constituting the stage of the GIP driving circuit is distributed and arranged in one unit pixel area, one stage circuit for driving one gate line (scan line) can be arranged. can
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 OLED 표시 패널의 표시 영역 구성도이고, 도 7은 도 6의 OLED 표시 패널의 표시 영역에 배치된 인접한 2개의 단위 화소 영역을 보다 구체적으로 도시한 구성도이다.FIG. 6 is a configuration diagram of the display area of the OLED display panel according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a structure showing two adjacent unit pixel areas disposed in the display area of the OLED display panel of FIG. 6 in more detail. It is also
즉, 도 6은 상기 기 출원된 상기 특허 출원(10-2017-000000호)의 도 6에 해당되고, 도 7은 상기 기 출원된 상기 특허 출원(10-2017-000000호)의 도 7에 해당된다.That is, FIG. 6 corresponds to FIG. 6 of the previously filed patent application (No. 10-2017-000000), and FIG. 7 corresponds to FIG. 7 of the previously filed patent application (No. 10-2017-000000). do.
도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, OLED 표시 패널의 표시 영역에 GIP 구동회로를 배치함에 있어, 표시 영역의 단위 화소 영역은 적어도 3개의 서브 화소부(R, G, B, W)(33), GIP부(31), 및 GIP 내부 연결 배선부(32) 등으로 구분된다.6 and 7, in arranging the GIP driving circuit in the display area of the OLED display panel, the unit pixel area of the display area includes at least three sub-pixel parts (R, G, B, W) 33 ),
상기 적어도 3개의 서브 화소부(R, G, B, W)(33)들은 복수개의 데이터 라인(DL1~DL8), 복수개의 기준 전압 라인(Vref) 및 제 1 및 제 2 정전압 라인(EVDD, EVSS) 들이 수직 방향으로 배열되고, 복수개의 게이트 라인(스캔 라인, SCAN)이 수평 방향으로 배열되어 구성된다.The at least three sub-pixel parts R, G, B, and
상기 GIP부(31)는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)에 해당된다. 즉, 적색(R), 녹색(G), 청색(B), 및 백색(W) 서브 화소들로 구성되는 단위 화소 영역에, GIP구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)가 분산 배치된다. The
즉, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 GIP 구동회로의 적어도하나의 스테이지(ST)가 하나의 게이트 라인(스캔 라인)에 의해 구동되는 복수개의 단위 화소 영역에 분산하여 배치된다.That is, at least one stage ST of the GIP driving circuit for driving one gate line (scan line) is disposed in a distributed manner in a plurality of unit pixel areas driven by one gate line (scan line).
그리고, 상기 GIP부(31)는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)에 해당되므로, 상기 GIP부(31)에, 도 5에 도시한 바와 같은 LSP, VRT, GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2, VST, CRCLK, SCCLK 신호들 중 하나가 인가된다.And, since the
상기 GIP 내부 연결 배선부(32)는, GIP 구동회로의 하나의 스테이지에서 각 소자들을 연결하는 연결 배선들(Q 노드, Qb 노드, Qh 노드, 전단 스테이지의 캐리 펄스 출력단 및 후단 스테이지의 캐리 펄스 출력단과의 연결 라인 등)이 배치되는 영역이다.The GIP internal
이와 같이, GIP 구동회로를 표시 영역에 배치함에 따라, 도 7에 도시한 바와 같이, 상기 서브 화소부(R, G, B, W)(33)들을 구동하기 위한 복수개의 데이터 라인들(DL1~DL8), 기준 전압 라인(Vref) 정전압 라인(EVDD)뿐만 아니라 상기 GIP 구동회로를 구동하기 위한 LSP, VRT, GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2, VST, CRCLK, SCCLK 등의 신호 라인들이 수직 방향으로 배치된다. 즉, 상기 GIP부(31)에 인접한 영역에, 상기 복수개의 데이터 라인들(DL1~DL8)과 평행하게 상기 신호 라인들이 배치된다.As such, as the GIP driving circuit is disposed in the display area, as shown in FIG. 7 , a plurality of data lines DL1 to DL1 to drive the sub-pixel parts R, G, B, and
즉, 상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터들(T3qA, T1B, T3q, T4 T4l) 중 하나가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 GVDD 신호가 인가되어야 한다.That is, when it is assumed that one of the transistors T3qA, T1B, T3q, and T4 T4l shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터들(T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, T7cr) 중 하나가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 GVSS2 신호가 인가되어야 한다.Assuming that one of the transistors T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, and T7cr shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T6cr)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 CRCLK(k) 신호가 인가되어야 한다.Assuming that the transistor T6cr shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T6)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 SCCLK(k) 신호가 인가되어야 한다.Assuming that the transistor T6 shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T7)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 GVSS0 신호가 인가되어야 한다.Assuming that the transistor T7 shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T4q)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 GVSS1 신호가 인가되어야 한다.Assuming that the transistor T4q shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터들(TA, TB) 중 하나가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 LSP 신호가 인가되어야 한다.Assuming that one of the transistors TA and TB shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T5A)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 VRT 신호가 인가되어야 한다.Assuming that the transistor T5A shown in FIG. 5 is disposed in the
도 7에서는, 상기 GIP 구동회로를 구동하기 위한 신호 라인들 중 일 예로GVDD 신호 라인만 도시하였다.In FIG. 7, only the GVDD signal line is shown as an example of signal lines for driving the GIP driving circuit.
이와 같이, GIP 구동회로를 표시 영역에 배치함에 있어, GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 각 소자들을 연결하는 연결 배선들(Q 노드, Qb 노드, Qh 노드, 전단 스테이지의 캐리 펄스 출력단 및 후단 스테이지의 캐리 펄스 출력단)은 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되고, 상기 LSP, VRT, GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2, VST, CRCLK, SCCLK 등의 신호 라인들은 상기 서브 화소부(R, G, B, W)들을 구동하기 위한 복수개의 데이터 라인들(DL1~DL8) 및 기준 전압 라인(Vref)과 같이 수직 방향으로 배치되어야 한다.In this way, in arranging the GIP driving circuit in the display area, the connection wires (Q node, Qb node, Qh node, carry pulse output end and rear end of the previous stage) connecting each element constituting one stage of the GIP driving circuit The carry pulse output terminal of the stage) is disposed on the GIP internal
이와 같이 구성되는 본 발명에 따른 OLED 표시 패널에서, 상기 GIP부(31)에 구성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.In the OLED display panel according to the present invention configured as described above, an arbitrary element constituting one stage of the GIP driving circuit configured in the
도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 상기 GIP부(31)에 형성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자의 레이 아웃도이다.8 is a layout diagram of arbitrary elements constituting one stage of the GIP driving circuit formed in the
도 8에서는, 도 5에서 설명한 GIP구동회로의 (k)번째 스테이지의 회로 중 트랜지스터(T3q)를 예를들어 도시하였다.In FIG. 8, the transistor T3q among the circuits of the (k)th stage of the GIP driving circuit described in FIG. 5 is shown as an example.
도 5에서, 상기 트랜지스터(T3q)의 게이트 전극은 Q 노드에 연결되고, 상기 트랜지스터(T3q)의 드레인 전극은 Qh 노드에 연결되며, 상기 트랜지스터(T3q)의 소오스 전극은 제 1 정전압 라인(GVDD)에 연결된다.5, the gate electrode of the transistor T3q is connected to the Q node, the drain electrode of the transistor T3q is connected to the Qh node, and the source electrode of the transistor T3q is connected to the first constant voltage line GVDD. connected to
따라서, 도 8에는 GIP 구동회로의 트랜지스터(T3q)의 레이 아웃을 도시하였다.Therefore, FIG. 8 shows the layout of the transistor T3q of the GIP driving circuit.
도 8에 도시한 바와 같이, 기판상에 활성층(A)이 형성되고, 상기 활성층(A)을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막(도면에는 도시되지 않음)이 형성되고, 상기 활성층(A) 상측의 게이트 절연막 상에 게이트 전극(G)이 형성된다. As shown in FIG. 8, an active layer (A) is formed on a substrate, a gate insulating film (not shown) is formed on the entire surface of the substrate including the active layer (A), and a gate on the upper side of the active layer (A). A gate electrode G is formed on the insulating film.
상기 게이트 전극(G) 양측의 상기 활성층(A)에는 불순물 이온 주입 등으로 소오스 영역 및 드레인 영역(도면에는 도시되지 않음)이 형성되고, 상기 게이트 전극(G)을 포함한 기판 전면에 층간 절연막(도면에는 도시되지 않음)이 형성되고, 상기 소오스 영역 및 드레인 영역 상측의 상기 층간 절연막 및 상기 게이트 절연막이 선택적으로 제거되어 각각 콘택 홀이 형성된다.A source region and a drain region (not shown in the drawing) are formed in the active layer (A) on both sides of the gate electrode (G) by impurity ion implantation, and an interlayer insulating film (shown in the drawing) is formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode (G). (not shown) is formed, and the interlayer insulating layer and the gate insulating layer above the source and drain regions are selectively removed to form contact holes, respectively.
그리고, 상기 콘택 홀을 통해 상기 소오스 영역 및 드레인 영역에 연결되도록 상기 층간 절연막위에 소오스 전극(S) 및 드레인 전극(D)이 형성된다.A source electrode S and a drain electrode D are formed on the interlayer insulating layer to be connected to the source region and the drain region through the contact hole.
여기서, 상술한 바와 같이, 상기 게이트 전극(G)은 Q 노드에 연결되고, 상기 소오스 전극(S)은 제 1 정전압 라인(GVDD)에 연결되고, 상기 드레인 전극(D)은 Qh 노드에 연결된다.Here, as described above, the gate electrode G is connected to the Q node, the source electrode S is connected to the first constant voltage line GVDD, and the drain electrode D is connected to the Qh node. .
즉, 상기 서브 화소부(R, G, B, W)들을 구동하기 위한 복수개의 데이터 라인들(DL1~DL8) 및 기준 전압 라인(Vref)과 평행하게 수직 방향으로 배치되는 제 1 정전압 라인(GVDD)은 상기 GIP부(31)로 돌출된 연장 전극부를 구비하고, 상기 연장 전극부와 상기 트랜지스터(T3q)의 상기 소오스 전극(S)이 전기적을 연결된다.That is, the first constant voltage line GVDD is vertically disposed in parallel with the plurality of data lines DL1 to DL8 and the reference voltage line Vref for driving the sub-pixel units R, G, B, and W. ) has an extension electrode portion protruding into the
이와 같이, 상기 GIP 구동회로의 스테이지를 구동하기 위한 신호 라인에 연장 전극부가 형성되어, 상기 연장 전극부를 통해 상기 GIP부(31)에 형성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자와 전기적으로 연결되므로 상기 GIP부(31)가 차지하는 면적이 크다.In this way, an extension electrode part is formed on the signal line for driving the stage of the GIP driving circuit, and an arbitrary element constituting one stage of the GIP driving circuit formed in the
따라서, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 확보하는데 한계가 있고, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 간에 커패시턴스가 발생하게 된다.Therefore, there is a limit to securing a distance between the at least three
그런데, 제조 공정 상, OLED 표시 패널의 전 영역에서 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 일정하게 유지하기 곤란하므로, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 간의 커패시턴스 편차가 발생하게 되고, 이와 같은 커패시턴스의 편차로 인하여 인접 화소 간의 휘도 편차가 야기된다.However, since it is difficult to maintain a constant distance between the at least three
이와 같은 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 간의 커패시턴스의 편차를 줄이기 위해서는, OLED 표시 패널의 전 영역에서 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 일정하게 유지하면 되지만, 제조 공정상 어려움이 있다. 따라서, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 최대한 넓게 하여야 한다.In order to reduce the capacitance deviation between the at least three
따라서, 상기 GIP부의 면적을 줄여서 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 최대한 확보할 수 있는 방안을 제안한다.Therefore, a method of securing a maximum distance between the at least three
도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 상기 GIP부(31)에 형성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자의 레이 아웃도이고, 도 10은 도 9의 I-I'선상의 단면도이며, 도 11은 도 9의 II-II'선상의 단면도이다.9 is a layout diagram of arbitrary elements constituting one stage of the GIP driving circuit formed in the
마찬가지로, 도 5에서 설명한 GIP구동회로의 (k)번째 스테이지의 회로 중 트랜지스터(T3q)를 예를 들어 도시하였다.Similarly, among the circuits of the (k)th stage of the GIP driving circuit described in FIG. 5, the transistor T3q is shown as an example.
본 발명의 제 2 실시예에 따른 상기 GIP부에 형성되는 GIP 구동회로의 하나의 스테이지를 구성하는 임의의 소자는, 도 9 내지 도 11에 도시한 바와 같이, 기판(Substrate)상에 GIP 구동회로를 구동하기 위한 LSP, VRT, GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2, VST, CRCLK, SCCLK 등의 신호 라인들이 수직한 방향으로 형성된다. 도 9 내지 도 11에서는, 상기 신호 라인들의 일 예로 제 1 정전압 라인(GVDD)를 도시하였다.Arbitrary elements constituting one stage of the GIP driving circuit formed in the GIP unit according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 9 to 11, a GIP driving circuit on a substrate Signal lines such as LSP, VRT, GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2, VST, CRCLK, and SCCLK for driving are formed in a vertical direction. 9 to 11 illustrate the first constant voltage line GVDD as an example of the signal lines.
상기 신호 라인들을 포함한 기판(substrate) 전면에 버퍼층(Buffer)이 형성되고, 상기 GIP부(31) 상의 상기 버퍼층(Buffer) 상에 활성층(A)이 형성되고, 상기 활성층(A)을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막(GI)이 형성되며, 상기 활성층(A) 상측의 게이트 절연막(GI) 상에 트랜지스터(T3q)의 게이트 전극(G)이 형성된다. 이 때, 상기 활성층(A)은 상기 신호 라인(GVDD)에 중첩되도록 형성된다.A buffer layer is formed on the entire surface of the substrate including the signal lines, an active layer (A) is formed on the buffer layer on the
상기 게이트 전극(G) 양측의 상기 활성층(A)에는 불순물 이온 주입 등으로 소오스 영역 및 드레인 영역(N+)이 형성되고, 상기 게이트 전극(G)을 포함한 기판 전면에 층간 절연막(ILD)이 형성되고, 상기 소오스 및 드레인 영역(N+) 상측의 상기 층간 절연막(ILD) 및 상기 게이트 절연막(GI)이 선택적으로 제거되어 각각 제 1콘택 홀(C1)이 형성된다.A source region and a drain region (N+) are formed in the active layer (A) on both sides of the gate electrode (G) by impurity ion implantation, and an interlayer insulating film (ILD) is formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode (G). , the interlayer insulating layer ILD and the gate insulating layer GI on the upper side of the source and drain regions N+ are selectively removed to form first contact holes C1, respectively.
그리고, 상기 제 1 콘택 홀(C1)을 통해 상기 소오스 및 드레인 영역(N+)에 연결되도록 상기 층간 절연막(ILD)위에 트랜지스터(T3q)의 소오스 전극(S) 및 트랜지스터(T3q)의 드레인 전극(D)이 형성된다.Further, the source electrode S of the transistor T3q and the drain electrode D of the transistor T3q are connected to the source and drain regions N+ through the first contact hole C1 on the interlayer insulating layer ILD. ) is formed.
여기서, 상술한 바와 같이, 상기 게이트 전극(G)은 Q 노드에 연결되고, 상기 소오스 전극(S)은 제 1 정전압 라인(GVDD)에 연결되고, 상기 드레인 전극(D)은 Qh 노드에 연결된다.Here, as described above, the gate electrode G is connected to the Q node, the source electrode S is connected to the first constant voltage line GVDD, and the drain electrode D is connected to the Qh node. .
이 때, 상기 소오스 전극(S)은 상기 신호 라인(GVDD)에 중첩되도록 형성되고,상기 활성층(A)와 중첩되지 않은 영역의 상기 신호 라인(GVDD) 상의 상기 층간 절연막(ILD) 및 상기 게이트 절연막(GI)이 선택적으로 제거되어 제 2 콘택 홀(C2)이 형성되고, 상기 제 2 콘택 홀(C2)를 통해 상기 신호 라인(GVDD)와 상기 소오스 전극(S)이 전기적으로 연결된다.In this case, the source electrode S is formed to overlap the signal line GVDD, and the interlayer insulating layer ILD and the gate insulating layer on the signal line GVDD do not overlap with the active layer A. (GI) is selectively removed to form a second contact hole (C2), and the signal line (GVDD) and the source electrode (S) are electrically connected through the second contact hole (C2).
상기 제 1 콘택 홀(C1)과 상기 제 2 콘택 홀(C2)는 동시에 형성된다.The first contact hole C1 and the second contact hole C2 are formed simultaneously.
이와 같이, 상기 GIP 구동회로의 스테이지를 구동하기 위한 신호 라인에 중첩되도록 상기 활성층(A)이 형성되고, 상기 소오스 전극(S)도 상기 신호 라인(GVDD)에 중첩되도록 형성되므로, 상기 GIP부(31)가 차지하는 면적을 본 발명의 제 1 실시예보다 더 줄일 수 있다.As such, since the active layer (A) is formed to overlap the signal line for driving the stage of the GIP driving circuit, and the source electrode (S) is also formed to overlap the signal line (GVDD), the GIP unit ( 31) can be further reduced than in the first embodiment of the present invention.
따라서, 본 발명의 제 2 실시예에서는 상기 GIP부(31)가 차지하는 면적을 줄일 수 있으므로, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 본 발명의 제 1 실시예보다 더 늘릴 수 있다. Therefore, in the second embodiment of the present invention, since the area occupied by the
이와 같이, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 사이의 간격을 늘릴 수 있으므로, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 간의 커패시턴스 발생을 방지할 수 있고, 더불어 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)와 상기 GIP부(31) 간의 커패시턴스 편차를 최소화하고 인접 화소 간의 휘도 편차를 방지할 수 있다.In this way, since the distance between the at least three
상기 도 9 내지 도 11에서는 상기 트랜지스터(T3q)의 소오스 전극(S)이 상기 제 1 정전압 라인(GVDD)에 중첩됨을 도시하였지만, 이에 한정되지 않는다.9 to 11 show that the source electrode S of the transistor T3q overlaps the first constant voltage line GVDD, but is not limited thereto.
즉, 상기 GIP부(31)에서, GIP 구동회로를 구동하기 위한 LSP, VRT, GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2, VST, CRCLK, SCCLK 등의 신호 라인들 중 하나와, 상기 표시 영역 내의 단위 화소 영역들에 분산 배치되는 GIP 구동회로의 소자의 임의의 전극이 서로 중첩되도록 설계된다.That is, in the
예를들면, 상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터들(T3qA, T1B, T3q, T4 T4l) 중 하나가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에서, 제 1 정전압 라인(GVDD)과 상기 트랜지스터들이 중첩된다. For example, assuming that one of the transistors T3qA, T1B, T3q, and T4 T4l shown in FIG. 5 is disposed in the
구체적으로, 트랜지스터들(T3qA, T1B, T4)는 소오스 전극이 상기 제 1 정전압 라인(GVDD)에 중첩되고, 트랜지스터들(T3q, T4l)은 게이트 전극 또는 소오스 전극이 상기 제 1 정전압 라인(GVDD)에 중첩된다.Specifically, the source electrodes of the transistors T3qA, T1B, and T4 overlap the first constant voltage line GVDD, and the gate electrodes or source electrodes of the transistors T3q and T4l overlap the first constant voltage line GVDD. nested in
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터들(T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, T7cr) 중 하나가 배치된다고 가정할 경우, 상기 트랜지스터들(T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, T7cr)은 제 2 정전압 라인(GVSS2)에 중첩된다.Assuming that one of the transistors T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, and T7cr shown in FIG. 5 is disposed in the
구체적으로, 상기 트랜지스터들(T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, T7cr)의 드레인 전극들이 제 2 정전압 라인(GVSS2)에 중첩된다.Specifically, drain electrodes of the transistors T3nC, T3nA, T3A, T5q T5, T5B, and T7cr overlap the second constant voltage line GVSS2.
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T6cr)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 트랜지스터(T6cr)는 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 라인(CRCLK(k))에 중첩된다.Assuming that the transistor T6cr shown in FIG. 5 is disposed in the
구체적으로, 상기 트랜지스터(T6cr)의 소오스 전극이 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 라인(CRCLK(k))에 중첩된다.Specifically, the source electrode of the transistor T6cr overlaps the clock signal line CRCLK(k) for outputting the carry pulse.
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T6)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 트랜지스터(T6)가 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 라인(SCCLK(k))에 중첩된다.Assuming that the transistor T6 shown in FIG. 5 is disposed in the
구체적으로, 상기 트랜지스터(T6)의 소오스 전극이 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 라인(SCCLK(k))에 중첩된다. Specifically, the source electrode of the transistor T6 overlaps the clock signal line SCCLK(k) for outputting the scan pulse.
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T7)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 GIP부(31)에는 GVSS0 신호가 인가되어야 한다.Assuming that the transistor T7 shown in FIG. 5 is disposed in the
상기 GIP부(31)에 도 6에 도시된 트랜지스터(T4q)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 트랜지스터(T7)가 제 3 정전압 라인(GVSS1)에 중첩된다.Assuming that the transistor T4q shown in FIG. 6 is disposed in the
구체적으로, 상기 트랜지스터(T7)의 드레인 전극이 상기 제 3 정전압 라인(GVSS1)에 중첩된다.Specifically, the drain electrode of the transistor T7 overlaps the third constant voltage line GVSS1.
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터들(TA, TB) 중 하나가 배치된다고 가정할 경우, 상기 트랜지스터들(TA, TB)은 라인 선택 신호 라인(LSP)에 중첩된다.Assuming that one of the transistors TA and TB shown in FIG. 5 is disposed in the
구체적으로, 상기 트랜지스터들(TA, TB)의 게이트 전극들이 상기 라인 선택 신호 라인(LSP)에 중첩된다Specifically, the gate electrodes of the transistors TA and TB overlap the line select signal line LSP.
상기 GIP부(31)에 도 5에 도시된 트랜지스터(T5A)가 배치된다고 가정할 경우, 상기 트랜지스터(T5A)가 실시간 보상용 신호 라인(VRT)에 중첩된다.Assuming that the transistor T5A shown in FIG. 5 is disposed in the
구체적으로, 상기 트랜지스터(T5A)의 게이트 전극이 상기 실시간 보상용 신호 라인(VRT)에 중첩된다.Specifically, the gate electrode of the transistor T5A overlaps the signal line VRT for real time compensation.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Through the above description, those skilled in the art will understand that various changes and modifications are possible without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be determined by the claims.
A: 활성층 G: 게이트 전극
D: 드레인 전극 S: 소오스 전극
C1, C2: 콘택 홀 GI: 게이트 절연막
Buffer: 버퍼층 GVDD: 정전압 라인
ILD: 층간 절연막 Substrate: 기판
31: GIP부 32: GIP 내부 연결 배선부
33: 적어도 3개의 서브 화소부A: active layer G: gate electrode
D: drain electrode S: source electrode
C1, C2: contact hole GI: gate insulating film
Buffer: buffer layer GVDD: constant voltage line
ILD: Interlayer insulating film Substrate: Substrate
31: GIP part 32: GIP internal connection wiring part
33: at least three sub pixel units
Claims (6)
상기 표시 영역 내의 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 스테이지를 구비한 GIP 구동회로를 구비하고,
상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, 상기 GIP 구동회로를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP 구동회로의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고,
상기 GIP부에는 상기 GIP 구동회로를 구동하기 위한 신호 라인이 배치되고, 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자의 전극 중 하나가 상기 신호 라인과 중첩하여 배치되는 OLED 표시 패널.a display area in which data lines and scan lines intersect, including sub-pixels disposed at each intersection, and displaying a real image; and
A GIP driving circuit having a plurality of stages distributed in unit pixel areas within the display area and supplying scan pulses to corresponding gate lines;
The unit pixel area includes at least three sub-pixel parts, a GIP part in which one element constituting the GIP driving circuit is disposed, and a GIP internal connection wiring part in which connection wires connecting each element of the GIP driving circuit are disposed. equipped,
A signal line for driving the GIP driving circuit is disposed in the GIP unit, and one of electrodes of elements constituting the GIP driving circuit is disposed overlapping with the signal line.
상기 신호 라인은 상기 데이터 라인들과 평행하게 배치되는 OLED 표시 패널.According to claim 1,
The signal line is disposed parallel to the data lines.
상기 신호 라인은, 라인 선택 신호 라인, 실시간 보상용 신호 라인, 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 라인, 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 라인, 리세트 신호 라인, 스타트 펄스 신호 라인 및 정전압 라인들을 포함하는 OLED 표시 패널.According to claim 1,
The signal lines include a line selection signal line, a signal line for real-time compensation, a clock signal line for outputting a carry pulse, a clock signal line for outputting a scan pulse, a reset signal line, a start pulse signal line, and constant voltage lines.
상기 GIP부에 배치되는 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자는,
상기 신호 라인을 포함한 기판 전면에 형성되는 버퍼층과,
상기 버퍼층 상에 상기 신호 라인에 중첩되도록 형성되는 활성층과,
상기 활성층을 포함한 기판 전면에 형성되는 게이트 절연막과,
상기 활성층 상측의 게이트 절연막 상에 형성되는 게이트 전극과,
상기 게이트 전극(G) 양측의 상기 활성층(A)에 형성되는 소오스 및 및 드레인 영역과,
상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 형성되는 층간 절연막과,
상기 소오스 및 드레인 영역에 전기적으로 연결되어 상기 층간 절연막 상에형성되는 소오스 전극 및 드레인 전극을 구비하고,
상기 소오스 전극이 상기 신호 라인에 중첩되는 OLED 표시 패널.According to claim 1,
The elements constituting the GIP driving circuit disposed in the GIP unit,
A buffer layer formed on the entire surface of the substrate including the signal line;
an active layer formed on the buffer layer to overlap the signal line;
A gate insulating film formed on the entire surface of the substrate including the active layer;
A gate electrode formed on the gate insulating film on the upper side of the active layer;
Source and drain regions formed in the active layer (A) on both sides of the gate electrode (G);
An interlayer insulating film formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode;
a source electrode and a drain electrode electrically connected to the source and drain regions and formed on the interlayer insulating film;
An OLED display panel in which the source electrode overlaps the signal line.
상기 GIP부에 배치되는 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자는,
상기 신호 라인을 포함한 기판 전면에 형성되는 버퍼층과,
상기 버퍼층 상에 상기 신호 라인에 중첩되도록 형성되는 활성층과,
상기 활성층을 포함한 기판 전면에 형성되는 게이트 절연막과,
상기 활성층 상측의 게이트 절연막 상에 형성되는 게이트 전극과,
상기 게이트 전극(G) 양측의 상기 활성층(A)에 형성되는 소오스 및 및 드레인 영역과,
상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 형성되는 층간 절연막과,
상기 소오스 및 드레인 영역에 전기적으로 연결되어 상기 층간 절연막 상에형성되는 소오스 전극 및 드레인 전극을 구비하고,
상기 드레인 전극이 상기 신호 라인에 중첩되는 OLED 표시 패널.According to claim 1,
The elements constituting the GIP driving circuit disposed in the GIP unit,
A buffer layer formed on the entire surface of the substrate including the signal line;
an active layer formed on the buffer layer to overlap the signal line;
A gate insulating film formed on the entire surface of the substrate including the active layer;
A gate electrode formed on the gate insulating film on the upper side of the active layer;
Source and drain regions formed in the active layer (A) on both sides of the gate electrode (G);
An interlayer insulating film formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode;
a source electrode and a drain electrode electrically connected to the source and drain regions and formed on the interlayer insulating film;
An OLED display panel in which the drain electrode overlaps the signal line.
상기 GIP부에 배치되는 상기 GIP 구동회로를 구성하는 소자는,
상기 신호 라인을 포함한 기판 전면에 형성되는 버퍼층과,
상기 버퍼층 상에 상기 신호 라인에 중첩되도록 형성되는 활성층과,
상기 활성층을 포함한 기판 전면에 형성되는 게이트 절연막과,
상기 활성층 상측의 게이트 절연막 상에 형성되는 게이트 전극과,
상기 게이트 전극(G) 양측의 상기 활성층(A)에 형성되는 소오스 및 및 드레인 영역과,
상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 형성되는 층간 절연막과,
상기 소오스 및 드레인 영역에 전기적으로 연결되어 상기 층간 절연막 상에형성되는 소오스 전극 및 드레인 전극을 구비하고,
상기 게이트 전극이 상기 신호 라인에 중첩되는 OLED 표시 패널.According to claim 1,
The elements constituting the GIP driving circuit disposed in the GIP unit,
A buffer layer formed on the entire surface of the substrate including the signal line;
an active layer formed on the buffer layer to overlap the signal line;
A gate insulating film formed on the entire surface of the substrate including the active layer;
A gate electrode formed on the gate insulating film on the upper side of the active layer;
Source and drain regions formed in the active layer (A) on both sides of the gate electrode (G);
An interlayer insulating film formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode;
a source electrode and a drain electrode electrically connected to the source and drain regions and formed on the interlayer insulating film;
An OLED display panel in which the gate electrode overlaps the signal line.
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