KR102413192B1 - Nbti 또는 pbit를 모니터링하는 테스트 회로 - Google Patents
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- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000001934 delay Effects 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 23
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 22
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 11
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- KRXMYBAZKJBJAB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-1,2-benzothiazol-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1C(=O)C2=CC=CC=C2S1 KRXMYBAZKJBJAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 5
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
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- G01R31/2607—Circuits therefor
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- G01R31/2642—Testing semiconductor operation lifetime or reliability, e.g. by accelerated life tests
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- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
- G01R31/2601—Apparatus or methods therefor
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
- G01R31/2607—Circuits therefor
- G01R31/2621—Circuits therefor for testing field effect transistors, i.e. FET's
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
- G01R31/2856—Internal circuit aspects, e.g. built-in test features; Test chips; Measuring material aspects, e.g. electro migration [EM]
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2882—Testing timing characteristics
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/317—Testing of digital circuits
- G01R31/31725—Timing aspects, e.g. clock distribution, skew, propagation delay
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- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/317—Testing of digital circuits
- G01R31/31727—Clock circuits aspects, e.g. test clock circuit details, timing aspects for signal generation, circuits for testing clocks
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- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
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- H03K3/0315—Ring oscillators
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00012—Relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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Abstract
Description
도 2는 도 1의 테스트 회로의 트랜지스터들 일부를 열화시키기 위한 스위치 회로의 동작을 예시적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 테스트 회로를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 4 내지 도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 테스트 회로를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 8은 도 4 내지 도 7에서 도시된 테스트 신호, 기준 신호, NBTI 모니터링 신호, PBTI 모니터링 신호, 및 NBTI 및 PBTI 모니터링 신호를 예시적으로 보여주는 타이밍도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 테스트 회로를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 테스트 회로를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 테스트 회로를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 테스트 회로를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 13은 도 1 내지 도 7 및 도 9 내지 도 12에서 도시된 스위치를 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 14는 본 발명의 실시 예에 따른 테스트 시스템을 예시적으로 보여주는 블록도이다.
도 15는 도 14의 테스트 시스템의 테스트 방법을 예시적으로 보여주는 순서도이다.
111~114: 제 1 내지 제 4 인버터들;
121~124: 제 1 내지 제 4 입력 스위치 회로들;
131~134: 제 1 내지 제 4 전원 스위치들;
141~144: 제 1 내지 제 4 입력 스위치들;
151~154: 제 1 내지 제 5 출력 스위치들;
Claims (10)
- 테스트 신호 또는 제 1 전압을 수신하는 제 1 로직 게이트;
상기 테스트 신호를 수신하는 제 2 로직 게이트;
상기 제 1 로직 게이트의 출력, 상기 제 2 로직 게이트의 출력, 또는 제 2 전압을 수신하는 제 3 로직 게이트;
상기 제 1 로직 게이트의 출력 또는 상기 제 2 로직 게이트의 출력을 수신하는 제 4 로직 게이트; 및
상기 제 1 로직 게이트가 상기 제 1 전압을 수신하고 상기 제 3 로직 게이트가 상기 제 2 전압을 수신할 때, 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들이 구동되지 않도록, 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들에 전원을 공급하도록 구성되는 전원 회로를 포함하는 테스트 회로. - 제 1 항에 있어서,
상기 테스트 신호가 입력되기 전에, 상기 제 1 전압을 상기 제 1 로직 게이트로 제공하고, 상기 제 2 전압을 상기 제 3 로직 게이트로 제공하도록 구성되는 스위치 회로를 더 포함하는 테스트 회로. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 전압들에 의해 상기 제 1 및 제 3 로직 게이트들의 전파 지연들은 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들의 전파 지연들보다 더 긴 테스트 회로. - 제 2 항에 있어서,
상기 스위치 회로는 상기 테스트 신호가 상기 제 1 내지 제 4 로직 게이트들 중 두 개를 통해 출력되도록 상기 제 1 내지 제 4 로직 게이트들 중 상기 두 개를 연결하도록 더 구성되는 테스트 회로. - 제 4 항에 있어서,
상기 스위치 회로가 상기 제 1 및 제 4 로직 게이트들을 연결하는 경우의 상기 테스트 신호의 지연 시간은, 상기 스위치 회로가 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들을 연결하는 경우의 상기 테스트 신호의 지연 시간보다 긴 테스트 회로. - 제 4 항에 있어서,
상기 스위치 회로가 상기 제 2 및 제 3 로직 게이트들을 연결하는 경우의 상기 테스트 신호의 지연 시간은, 상기 스위치 회로가 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들을 연결하는 경우의 상기 테스트 신호의 지연 시간보다 긴 테스트 회로. - 제 4 항에 있어서,
상기 스위치 회로가 상기 제 1 및 제 3 로직 게이트들을 연결하는 경우의 상기 테스트 신호의 지연 시간은, 상기 스위치 회로가 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들을 연결하는 경우의 상기 테스트 신호의 지연 시간보다 긴 테스트 회로. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 내지 제 4 로직 게이트들은 서로 동일하게 구현되는 테스트 회로. - 제 1 노드 및 제 2 노드 사이에 병렬로 연결되는 제 1 및 제 2 로직 게이트들;
상기 제 2 노드 및 제 3 노드 사이에 병렬로 연결되는 제 3 및 제 4 로직 게이트들; 및
상기 제 1 및 제 2 로직 게이트들 중 하나 그리고 상기 제 3 및 제 4 로직 게이트들 중 하나를 선택하도록 구성되는 스위치 회로를 포함하는 테스트 회로. - 제 1 입력 스위치 회로를 통해 테스트 신호 또는 제 1 전압을 수신하고, 제 1 출력 스위치를 통해 제 1 지연 신호를 출력하는 제 1 로직 게이트;
제 2 입력 스위치 회로를 통해 상기 테스트 신호를 수신하고, 제 2 출력 스위치를 통해 제 2 지연 신호를 출력하는 제 2 로직 게이트;
제 3 입력 스위치 회로를 통해 상기 제 1 지연 신호, 상기 제 2 지연 신호, 또는 제 2 전압을 수신하고, 제 3 출력 스위치를 통해 제 3 지연 신호를 출력하는 제 3 로직 게이트;
제 4 입력 스위치 회로를 통해 상기 제 1 지연 신호 또는 상기 제 2 지연 신호를 수신하고, 제 4 출력 스위치를 통해 제 4 지연 신호를 출력하는 제 4 로직 게이트; 및
상기 제 1 로직 게이트가 상기 제 1 전압을 수신하고 상기 제 3 로직 게이트가 상기 제 2 전압을 수신할 때, 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들이 구동되지 않도록, 상기 제 2 및 제 4 로직 게이트들에 전원을 공급하도록 구성되는 전원 회로를 포함하되,
상기 제 1 내지 제 4 입력 스위치 회로들은 서로 동일하게 구현되고, 상기 제 1 내지 제 4 출력 스위치들은 서로 동일하게 구현되고, 그리고 상기 제 1 내지 제 4 로직 게이트들은 서로 동일하게 구현되는 테스트 회로.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170146117A KR102413192B1 (ko) | 2017-11-03 | 2017-11-03 | Nbti 또는 pbit를 모니터링하는 테스트 회로 |
US16/023,736 US10969420B2 (en) | 2017-11-03 | 2018-06-29 | Test circuits for monitoring NBTI or PBTI |
CN201811301058.4A CN109752636B (zh) | 2017-11-03 | 2018-11-02 | 用于监测温度不稳定性的测试电路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170146117A KR102413192B1 (ko) | 2017-11-03 | 2017-11-03 | Nbti 또는 pbit를 모니터링하는 테스트 회로 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190050578A KR20190050578A (ko) | 2019-05-13 |
KR102413192B1 true KR102413192B1 (ko) | 2022-06-24 |
Family
ID=66328484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170146117A KR102413192B1 (ko) | 2017-11-03 | 2017-11-03 | Nbti 또는 pbit를 모니터링하는 테스트 회로 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10969420B2 (ko) |
KR (1) | KR102413192B1 (ko) |
CN (1) | CN109752636B (ko) |
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2017
- 2017-11-03 KR KR1020170146117A patent/KR102413192B1/ko active IP Right Grant
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2018
- 2018-06-29 US US16/023,736 patent/US10969420B2/en active Active
- 2018-11-02 CN CN201811301058.4A patent/CN109752636B/zh active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109752636A (zh) | 2019-05-14 |
CN109752636B (zh) | 2022-06-21 |
KR20190050578A (ko) | 2019-05-13 |
US20190137563A1 (en) | 2019-05-09 |
US10969420B2 (en) | 2021-04-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20171103 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20201102 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20171103 Comment text: Patent Application |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20220322 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20220621 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20220622 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |