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KR102366863B1 - Digitizer and image display device including the same - Google Patents

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KR102366863B1
KR102366863B1 KR1020210020615A KR20210020615A KR102366863B1 KR 102366863 B1 KR102366863 B1 KR 102366863B1 KR 1020210020615 A KR1020210020615 A KR 1020210020615A KR 20210020615 A KR20210020615 A KR 20210020615A KR 102366863 B1 KR102366863 B1 KR 102366863B1
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KR
South Korea
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digitizer
conductive
traces
conductive lines
disposed
Prior art date
Application number
KR1020210020615A
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Korean (ko)
Inventor
최병진
이재현
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
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Publication date
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Priority to KR1020220021771A priority patent/KR20220117173A/en
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Abstract

One objective of the present invention is to provide a digitizer having improved mechanical and electrical reliability. The digitizer comprises: a substrate layer including an active region, a peripheral region surrounding the active region, and a circuit connection region assigned to one end of the substrate layer; a conductive coil including a first conductive coil disposed on the active region of the substrate layer and extending in a row direction and a second conductive coil extending in a column direction; and traces disposed on the active region of the base layer, extending to the circuit connection region, and respectively connected to the first conductive coil and the second conductive coil. At least one of the traces has a variable width that increases as the at least one trace moves away from the circuit connection region.

Description

디지타이저 및 이를 포함하는 화상 표시 장치{DIGITIZER AND IMAGE DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME}Digitizer and image display device including same

본 발명은 디지타이저 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 복층 도전 구조를 포함하는 디지타이저 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a digitizer and an image display device including the same. More particularly, it relates to a digitizer including a multilayer conductive structure and an image display device including the same.

최근, 화상 표시 장치에 각종 센싱 기능 및 통신 기능이 결합되어, 예를 들면 스마트폰 형태로 구현되고 있다. 예를 들면, 상기 화상 표시 장치의 표시 패널 상에 터치 패널 또는 터치 센서가 부착되어 윈도우 면에 표시되는 메뉴를 선택하여 정보 입력 기능이 함께 구현된 전자 기기들이 개발되고 있다. Recently, various sensing functions and communication functions are combined in an image display device, and are implemented in the form of, for example, a smartphone. For example, electronic devices in which a touch panel or a touch sensor is attached to a display panel of the image display device to select a menu displayed on a window surface to implement an information input function are being developed.

또한, 한국등록특허 제10-1750564호에 개시된 바와 같이, 화상 표시 장치의 배면부 측으로 전자기 방식에 의해 아날로그 좌표 정보를 디지털 신호로 변환시키는 디지타이저가 배치되고 있다,In addition, as disclosed in Korean Patent No. 10-1750564, a digitizer that converts analog coordinate information into a digital signal by an electromagnetic method is disposed on the back side of the image display device.

디지타이저는 전자기 유도 효율 향상을 위해 저저항을 갖는 회로 설계가 필요하다. 그러나, 디지타이저의 감도를 높이기 위해 배선 두께가 증가되는 경우, 화상 표시 장치에 단차가 초래될 수 있다. 또한, 디지타이저에 포함되는 회로들의 위치에 따라 저항 차이가 발생하는 경우 화상 표시 장치의 영역별 감도 차이가 초래될 수도 있다.The digitizer needs a circuit design with low resistance to improve electromagnetic induction efficiency. However, when the wiring thickness is increased in order to increase the sensitivity of the digitizer, a step may be caused in the image display device. Also, when a difference in resistance occurs according to positions of circuits included in the digitizer, a difference in sensitivity for each region of the image display device may be caused.

최근 접히거나 구부릴 수 있는 유연성을 갖는 플렉시블 디스플레이가 개발되고 있으며, 이에 따라, 상기 디지타이저와 같은 센서 구조 역시 플렉시블 디스플레이에 적용될 수 있도록 적절한 물성, 설계, 구조를 갖도록 개발될 필요가 있다. Recently, a flexible display having flexibility that can be folded or bent is being developed, and accordingly, a sensor structure such as the digitizer needs to be developed to have appropriate properties, design, and structure to be applied to the flexible display.

한국등록특허공보 제10-1750564호Korean Patent Publication No. 10-1750564

본 발명의 일 과제는 향상된 기계적, 전기적 신뢰성을 갖는 디지타이저를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a digitizer having improved mechanical and electrical reliability.

본 발명의 일 과제는 향상된 향상된 기계적, 전기적 신뢰성을 갖는 디지타이저를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an image display device including a digitizer having improved mechanical and electrical reliability.

1. 활성 영역, 상기 활성 영역을 둘러싸는 주변 영역 및 상기 기재층의 일단부에 할당된 회로 연결 영역을 포함하는 기재층; 상기 기재층의 상기 활성 영역 상에 배치되며 행 방향으로 연장하는 제1 도전 코일 및 열 방향으로 연장하는 제2 도전 코일을 포함하는 도전 코일; 및 상기 기재층의 상기 활성 영역 상에 배치되어 상기 회로 연결 영역으로 연장하며 상기 제1 도전 코일 및 상기 제2 도전 코일에 각각 연결되는 트레이스들을 포함하며, 상기 트레이스들 중 적어도 하나의 트레이스는 상기 회로 연결 영역으로부터 멀어지면서 폭이 증가하는 가변 폭을 갖는, 디지타이저.1. A substrate layer comprising an active region, a peripheral region surrounding the active region, and a circuit connection region allocated to one end of the substrate layer; a conductive coil disposed on the active region of the base layer and including a first conductive coil extending in a row direction and a second conductive coil extending in a column direction; and traces disposed on the active region of the base layer to extend to the circuit connection region and respectively connected to the first conductive coil and the second conductive coil, wherein at least one of the traces comprises the circuit A digitizer having a variable width that increases in width as it moves away from the connection area.

2. 위 1에 있어서, 상기 적어도 하나의 트레이스는 상기 행 방향으로 폭이 증가하는 확장부를 포함하는, 디지타이저.2. The digitizer according to 1 above, wherein the at least one trace includes an extension that increases in width in the row direction.

3. 위 2에 있어서, 상기 적어도 하나의 트레이스는 평면 방향에서 계단 형상을 갖는, 디지타이저.3. The digitizer according to 2 above, wherein the at least one trace has a stepped shape in a planar direction.

4. 위 2에 있어서, 상기 적어도 하나의 트레이스는 복수의 확장부들을 포함하고, 상기 회로 연결 영역으로부터 멀어질수록 상기 확장부들의 폭이 증가하는, 디지타이저.4. The digitizer according to 2 above, wherein the at least one trace includes a plurality of extensions, and the width of the extensions increases as the distance from the circuit connection area increases.

5. 위 2에 있어서, 상기 트레이스들 중 상기 행 방향으로 인접하게 배치된 트레이스들에 의해 트레이스 그룹이 정의되며, 상기 트레이스 그룹에 포함된 트레이스들은 상기 행 방향을 따라 순차적으로 길이가 증가하도록 배열된, 디지타이저.5. In the above 2, a trace group is defined by the traces disposed adjacently in the row direction among the traces, and the traces included in the trace group are arranged to increase in length sequentially along the row direction. , digitizer.

6. 위 5에 있어서, 상기 트레이스 그룹에 포함된 상기 트레이스들은 길이가 증가할수록 확장부들의 개수가 증가하는, 디지타이저.6. The digitizer according to 5 above, wherein the number of extensions increases as the length of the traces included in the trace group increases.

7. 위 1에 있어서, 상기 제1 도전 코일은 상기 행 방향으로 연장하는 제1 상부 도전 라인들, 상기 열 방향으로 연장하는 제2 하부 도전 라인들, 및 상기 제2 하부 도전 라인들 및 상기 제1 상부 도전 라인들을 전기적으로 연결시키는 제1 콘택들을 포함하고,7. The method of 1 above, wherein the first conductive coil includes first upper conductive lines extending in the row direction, second lower conductive lines extending in the column direction, and the second lower conductive lines and the second conductive coil. 1 comprising first contacts electrically connecting the upper conductive lines;

상기 제2 도전 코일은 상기 열 방향으로 연장하는 제1 하부 도전 라인들, 상기 행 방향으로 연장하는 제2 상부 도전 라인들, 및 상기 제1 하부 도전 라인들 및 상기 제2 상부 도전 라인들을 전기적으로 연결시키는 제2 콘택들을 포함하는, 디지타이저.The second conductive coil electrically connects first lower conductive lines extending in the column direction, second upper conductive lines extending in the row direction, and the first lower conductive lines and the second upper conductive lines A digitizer comprising second contacts for coupling.

8. 위 7에 있어서, 상기 기재층 상에 형성된 층간 절연층을 더 포함하고,8. The method of 7 above, further comprising an interlayer insulating layer formed on the base layer,

상기 제1 하부 도전 라인들 및 상기 제2 하부 도전 라인들은 상기 트레이스들과 함께 상기 기재층의 상면 상에 배치되고, 상기 층간 절연층은 상기 기재층의 상기 상면 상에 형성되어 상기 제1 하부 도전 라인들, 상기 제2 하부 도전 라인들 및 상기 트레이스들을 덮고, 상기 제1 상부 도전 라인들 및 상기 제2 상부 도전 라인들은 상기 층간 절연층의 상면 상에 배치된, 디지타이저.The first lower conductive lines and the second lower conductive lines are disposed on the upper surface of the base layer together with the traces, and the interlayer insulating layer is formed on the upper surface of the base layer to form the first lower conductive line lines, the second lower conductive lines, and the traces, the first upper conductive lines and the second upper conductive lines being disposed on a top surface of the interlayer insulating layer.

9. 위 8에 있어서, 상기 트레이스들 중 상기 행 방향으로 인접하게 배치된 트레이스들에 의해 트레이스 그룹이 정의되며,9. In the above 8, a trace group is defined by the traces arranged adjacently in the row direction among the traces,

복수의 상기 트레이스 그룹들이 상기 행 방향을 따라 이격되어 배열된, 디지타이저.A digitizer, wherein a plurality of the trace groups are arranged to be spaced apart along the row direction.

10. 위 9에 있어서, 상기 기재층의 상면 상에서 상기 트레이스 그룹들 사이에 배치되며 상기 트레이스들과 분리된 제1 더미 패턴을 더 포함하는, 디지타이저.10. The digitizer according to 9 above, further comprising a first dummy pattern disposed between the trace groups on the upper surface of the base layer and separated from the traces.

11. 위 8에 있어서, 상기 열 방향을 따라 복수의 상기 제1 도전 코일들이 배열되고, 상기 행 방향을 따라 복수의 상기 제2 도전 코일들이 배열되며,11. The method of 8 above, wherein a plurality of the first conductive coils are arranged along the column direction, and a plurality of the second conductive coils are arranged along the row direction,

평면 방향에서 서로 교차하는 상기 제1 도전 코일들 및 상기 제2 도전 코일들에 의해 격자 공간들이 정의되는, 디지타이저.A digitizer, wherein lattice spaces are defined by the first conductive coils and the second conductive coils intersecting each other in a planar direction.

12. 위 11에 있어서, 상기 기재층의 상기 상면 상에서 상기 격자 공간들 내에 배치된 제2 더미 패턴을 더 포함하는, 디지타이저.12. The digitizer of the above 11, further comprising a second dummy pattern disposed in the lattice spaces on the upper surface of the base layer.

13. 위 8에 있어서, 상기 제1 하부 도전 라인들의 두께는 상기 제1 상부 도전 라인들의 두께보다 큰, 디지타이저.13. The digitizer according to 8 above, wherein a thickness of the first lower conductive lines is greater than a thickness of the first upper conductive lines.

14. 위 13에 있어서, 상기 기재층은 중앙부에 벤딩 영역을 포함하는, 디지타이저.14. The digitizer according to the above 13, wherein the base layer includes a bending region in the central portion.

15. 위 14에 있어서, 상기 벤딩 영역의 벤딩 축은 상기 제1 상부 도전 라인들과 교차하며, 상기 제1 하부 도전 라인들과 평행한, 디지타이저.15. The digitizer according to 14 above, wherein a bending axis of the bending region intersects the first upper conductive lines and is parallel to the first lower conductive lines.

16. 표시 패널; 및 상기 표시 패널 아래에 배치된 상술한 실시예들에 따른 디지타이저를 포함하는, 화상 표시 장치.16. Display panel; and a digitizer according to the above-described embodiments disposed under the display panel.

17. 위 16에 있어서, 상기 표시 패널 위에 배치된 터치 센서를 더 포함하는, 화상 표시 장치.17. The image display device according to 16 above, further comprising a touch sensor disposed on the display panel.

18. 위 17에 있어서, 리어 커버 및 윈도우 기판을 더 포함하고,18. The method of 17 above, further comprising a rear cover and a window substrate,

상기 터치 센서는 상기 윈도우 기판 및 상기 표시 패널 사이에 배치되며, 상기 디지타이저는 상기 표시 패널 및 상기 리어 커버 사이에 배치된, 화상 표시 장치.The touch sensor is disposed between the window substrate and the display panel, and the digitizer is disposed between the display panel and the rear cover.

본 발명의 실시예들에 따르면, 디지타이저의 활성 영역 내에 도전 코일로 입/출력 신호를 전달하는 트레이스들을 가변 폭을 갖도록 형성할 수 있다. 예를 들면, 트레이스들을 회로 연결 영역에서 멀어질수록 순차적으로 폭이 넓은 확장부를 포함하도록 형성할 수 있다.According to embodiments of the present invention, traces that transmit input/output signals to the conductive coil in the active region of the digitizer may be formed to have a variable width. For example, the traces may be sequentially formed to include an extension having a wider width as the distance from the circuit connection region increases.

따라서, 상기 회로 연결 영역에서 거리가 증가됨에 따른 저항 증가를 방지할 수 있으며, 도전 코일들에서의 저항 및 신호 감도의 균일성을 증진할 수 있다.Accordingly, it is possible to prevent an increase in resistance as the distance increases in the circuit connection region, and to improve the uniformity of resistance and signal sensitivity in the conductive coils.

일부 실시예들에 있어서, 상기 트레이스들 사이 또는 도전 코일들 사이의 공간에 더미 패턴이 배치될 수 있다. 상기 더미 패턴에 의해 도전 패턴이 배치되지 않은 빈 공간이 감소되어 디지타이저에 의한 단차 생성을 억제 또는 감소시킬 수 있다.In some embodiments, a dummy pattern may be disposed in a space between the traces or between the conductive coils. An empty space in which the conductive pattern is not disposed is reduced by the dummy pattern, thereby suppressing or reducing the generation of a step by the digitizer.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 디지타이저는 하부 도전층 및 상부 도전층의 복층 구조를 포함할 수 있다. 상기 상부 도전층은 벤딩 축과 교차하는 제1 상부 도전 라인을 포함하고, 상기 제1 도전층은 벤딩 축에 평행한 제1 하부 도전 라인을 포함할 수 있다, 상기 제1 상부 도전 라인의 두께를 상기 제1 하부 도전 라인보다 작게 형성하여 전극 크랙을 억제하며 벤딩 특성을 향상시킬 수 있다.In example embodiments, the digitizer may include a multilayer structure of a lower conductive layer and an upper conductive layer. The upper conductive layer may include a first upper conductive line intersecting a bending axis, and the first conductive layer may include a first lower conductive line parallel to the bending axis. By forming it smaller than the first lower conductive line, it is possible to suppress electrode cracks and improve bending characteristics.

상기 디지타이저는 복수의 제1 도전 코일들 및 제2 도전 코일들을 포함하며, 상기 제1 도전 코일 및 제2 도전 코일은 복수의 도전 루프들을 포함할 수 있다. 이에 따라, 전자기 유도 현상을 촉진하며 고해상도 및 향상된 플렉시블 특성을 갖는 디지타이저가 제공될 수 있다.The digitizer may include a plurality of first conductive coils and second conductive coils, and the first conductive coil and the second conductive coil may include a plurality of conductive loops. Accordingly, a digitizer that promotes the electromagnetic induction phenomenon and has high resolution and improved flexible characteristics can be provided.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 2 및 도 3은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저에 포함되는 도전 코일들을 나타내는 개략적인 평면도들이다.
도 4는 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저를 나타내는 개략적인 평면도이다.
도 5은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저의 트레이스들의 구조를 나타내는 개략적인 부분 확대 평면도이다.
도 6 및 도 7은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저의 더미 패턴의 배치를 나타내는 개략적인 부분 확대 평면도이다.
도 8은 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view illustrating a digitizer according to exemplary embodiments.
2 and 3 are schematic plan views illustrating conductive coils included in a digitizer according to example embodiments.
4 is a schematic plan view illustrating a digitizer according to exemplary embodiments.
5 is a schematic partially enlarged plan view showing the structure of traces of a digitizer according to exemplary embodiments.
6 and 7 are schematic partial enlarged plan views illustrating an arrangement of a dummy pattern of a digitizer according to example embodiments.
8 is a schematic cross-sectional view illustrating an image display apparatus according to example embodiments.

본 발명의 실시예들은 복층 구조의 도전 코일들 및 상기 도전 코일들에 연결된 트레이스들을 포함하며 향상된 전기적 특성 및 기계적 신뢰성을 갖는 디지타이저를 제공한다. 또한, 디지타이저를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.SUMMARY Embodiments of the present invention provide a digitizer including conductive coils having a multi-layer structure and traces connected to the conductive coils, and having improved electrical characteristics and mechanical reliability. Also provided is an image display device including a digitizer.

이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, with reference to the drawings, embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the above-described contents of the present invention, so the present invention is described in such drawings It should not be construed as being limited only to the matters.

이하 도면들에서, 디지타이저(100) 또는 기재층(105)의 상면에 평행하며 서로 교차하는 두 방향을 제1 방향 및 제2 방향으로 정의한다. 예를 들면, 상기 제1 방향 및 제2 방향은 서로 수직하게 교차할 수 있다. 도면들에서 화살표로 표시된 방향과 다른 방향도 동일한 방향으로 간주된다.In the following drawings, two directions parallel to and intersecting with the upper surface of the digitizer 100 or the base layer 105 are defined as a first direction and a second direction. For example, the first direction and the second direction may cross each other perpendicularly. A direction other than the direction indicated by the arrow in the drawings is also regarded as the same direction.

상기 제1 방향은 디지타이저(100)의 너비 방향, 행 방향 혹은 X-방향에 대응될 수 있다. 상기 제2 방향은 디지타이저(100)의 길이 방향, 열 방향 혹은 Y-방향에 대응될 수 있다.The first direction may correspond to a width direction, a row direction, or an X-direction of the digitizer 100 . The second direction may correspond to a longitudinal direction, a column direction, or a Y-direction of the digitizer 100 .

본 출원에 사용된 용어 "행 방향", "열 방향" 등은 절대적인 방향을 지칭하는 것이 아니며, 서로 다른 방향을 지정하는 상대적인 의미로 이해되어야 한다.The terms "row direction", "column direction", etc. used in the present application do not refer to absolute directions, and should be understood as relative meanings designating different directions.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저를 나타내는 개략적인 단면도이다. 도 2 및 도 3은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저에 포함되는 도전 코일들을 나타내는 개략적인 평면도들이다. 예를 들면, 도 1은 도 2에 표시된 I-I' 라인을 따라 두께 방향으로 절단한 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a digitizer according to exemplary embodiments. 2 and 3 are schematic plan views illustrating conductive coils included in a digitizer according to example embodiments. For example, FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line I-I' shown in FIG. 2 in the thickness direction.

설명의 편의를 위해 도 2 및 도 3에서는 트레이스들(60, 80)은 균일한 폭을 갖는 것으로 도시되었으며, 트레이스들(60, 80)의 배치 및 형태에 대해서는 도 4 및 도 5를 참조로 보다 상세히 후술한다.For convenience of explanation, the traces 60 and 80 are shown to have a uniform width in FIGS. 2 and 3, and for the arrangement and shape of the traces 60 and 80, refer to FIGS. 4 and 5. It will be described later in detail.

도 1을 참조하면, 디지타이저(100)는 기재층(100) 상에 형성된 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)을 포함할 수 있다. 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)은 층간 절연층(120)을 사이에 두고 서로 다른 층에 분리될 수 있다. Referring to FIG. 1 , the digitizer 100 may include a lower conductive layer 110 and an upper conductive layer 130 formed on a base layer 100 . The lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 may be separated in different layers with the interlayer insulating layer 120 interposed therebetween.

기재층(100)은 도전 층들(110, 130) 및 층간 절연층(120)의 형성을 위한 지지층 또는 필름 타입 기재를 포괄하는 의미로 사용된다. 예를 들면, 기재층(100)은 플레시블 디스플레이에 적용 가능한 고분자를 포함할 수 있다. 상기 고분자의 예로서, 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 들 수 있다. The substrate layer 100 is used to encompass a support layer or a film-type substrate for forming the conductive layers 110 and 130 and the interlayer insulating layer 120 . For example, the base layer 100 may include a polymer applicable to a flexible display. Examples of the polymer include cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), poly Allylate (polyallylate), polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC), poly Methyl methacrylate (PMMA), etc. are mentioned.

바람직하게는, 기재층(105)은 안정적인 벤딩 특성 확보를 위해 폴리이미드를 포함할 수 있다.Preferably, the base layer 105 may include polyimide to secure stable bending properties.

하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)은 각각 저저항 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 주석(Sn), 몰리브덴(Mo), 칼슘(Ca) 또는 이들 중 적어도 2 이상을 함유하는 합금을 포함할 수 있다. Each of the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 may include a low-resistance metal. For example, the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), chromium ( Cr), titanium (Ti), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc ( Zn), tin (Sn), molybdenum (Mo), calcium (Ca), or an alloy containing at least two of them.

바람직하게는, 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130) 저저항 구현을 위해 구리 혹은 구리 합금을 포함할 수 있다.Preferably, the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 may include copper or a copper alloy to realize low resistance.

층간 절연층(120)은 기재층(105) 상면 상에 형성되어 하부 도전층(110)을 덮을 수 있다. 층간 절연층(120)은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 실록산계 수지, 폴리이미드계 수지 등과 같은 유기 절연 물질, 또는 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 등과 같은 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 층간 절연층(120)은 플렉시블 특성 향상을 위해 유기 절연 물질을 사용하여 형성될 수 있다.The interlayer insulating layer 120 may be formed on the upper surface of the base layer 105 to cover the lower conductive layer 110 . The interlayer insulating layer 120 may include an organic insulating material such as an epoxy-based resin, an acrylic resin, a siloxane-based resin, or a polyimide-based resin, or an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride. Preferably, the interlayer insulating layer 120 may be formed using an organic insulating material to improve flexible properties.

상부 도전층(130)은 층간 절연층(120) 상에 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 층간 절연층(120) 상에 패시베이션 층(140)이 형성되어 상부 도전층(130)을 덮을 수 있다. 패시베이션 층(140)은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 실록산계 수지, 폴리이미드계 수지 등과 같은 유기 절연 물질, 또는 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 등과 같은 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. The upper conductive layer 130 may be formed on the interlayer insulating layer 120 . In some embodiments, the passivation layer 140 may be formed on the interlayer insulating layer 120 to cover the upper conductive layer 130 . The passivation layer 140 may include an organic insulating material such as an epoxy-based resin, an acrylic resin, a siloxane-based resin, or a polyimide-based resin, or an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride.

바람직하게는, 패시베이션 층(140)은 플렉시블 특성 향상을 위해 유기 절연 물질을 사용하여 형성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 층간 절연층(120) 및 패시베이션 층(140) 각각은 벤딩 특성 향상을 위해 약 1.5 내지 20㎛ 범위의 두께를 가지며, 상기 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.Preferably, the passivation layer 140 may be formed using an organic insulating material to improve flexible properties. In an embodiment, each of the interlayer insulating layer 120 and the passivation layer 140 may have a thickness in a range of about 1.5 to 20 μm to improve bending properties, and may include the organic insulating material.

일 실시예에 있어서, 층간 절연층(120) 및 패시베이션 층(140) 각각은 상기 무기 절연 물질을 포함할 수 있으며 약 100nm 내지 500nm의 두께를 가질 수 있다.In an embodiment, each of the interlayer insulating layer 120 and the passivation layer 140 may include the inorganic insulating material and may have a thickness of about 100 nm to 500 nm.

도 2 및 도 3을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저(100)는 제1 도전 코일(50) 및 제2 도전 코일(70)을 포함할 수 있다. 2 and 3 , the digitizer 100 according to example embodiments may include a first conductive coil 50 and a second conductive coil 70 .

제1 도전 코일(50) 및 제2 도전 코일(70)은 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)이 콘택들(135, 137)에 의해 조합되어 정의될 수 있다.The first conductive coil 50 and the second conductive coil 70 may be defined by combining the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 by the contacts 135 and 137 .

하부 도전층(110)은 제1 하부 도전 라인(112)(도 3 참조) 및 제2 하부 도전 라인(114)(도 2 참조)을 포함할 수 있다. 상부 도전층(130)은 제1 상부 도전 라인(132)(도 2 참조) 및 제2 상부 도전 라인(134)(도 3 참조)을 포함할 수 있다. The lower conductive layer 110 may include a first lower conductive line 112 (see FIG. 3 ) and a second lower conductive line 114 (see FIG. 2 ). The upper conductive layer 130 may include a first upper conductive line 132 (see FIG. 2 ) and a second upper conductive line 134 (see FIG. 3 ).

제1 하부 도전 라인(112) 및 제2 하부 도전 라인(114)은 제2 방향으로 연장할 수 있다. 제1 상부 도전 라인(132) 및 제2 상부 도전 라인(134)은 제1 방향으로 연장할 수 있다.The first lower conductive line 112 and the second lower conductive line 114 may extend in the second direction. The first upper conductive line 132 and the second upper conductive line 134 may extend in a first direction.

도 2에 도시된 바와 같이, 상부 도전층(130)의 제1 상부 도전 라인(132) 및 하부 도전층(110)의 제2 하부 도전 라인(114)이 서로 결합되어 제1 도전 코일(50)을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 2 , the first upper conductive line 132 of the upper conductive layer 130 and the second lower conductive line 114 of the lower conductive layer 110 are coupled to each other to form a first conductive coil 50 . can form.

제1 상부 도전 라인(132) 및 제2 하부 도전 라인(114)은 함께 제1 도전 코일(50)을 형성하여 전자기 유도를 통한 입력 펜에 대한 센싱 라인으로 함께 제공될 수 있다.The first upper conductive line 132 and the second lower conductive line 114 may together form a first conductive coil 50 to serve as a sensing line for an input pen through electromagnetic induction.

예를 들면, 제1 상부 도전 라인(132) 및 제2 하부 도전 라인(114)은 제1 콘택(135)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 복수의 제1 상부 도전 라인들(132) 및 복수의 제2 하부 도전 라인들(114)이 복수의 제1 콘택들(135)을 통해 서로 전기적으로 연결되어 하나의 제1 도전 코일(50) 내에 복수의 도전 루프가 포함될 수 있다. 예를 들면, 하나의 제1 도전 코일(50) 내에 4개의 제1 도전 루프들이 포함될 수 있다.For example, the first upper conductive line 132 and the second lower conductive line 114 may be electrically connected to each other through the first contact 135 . A plurality of first upper conductive lines 132 and a plurality of second lower conductive lines 114 are electrically connected to each other through a plurality of first contacts 135 to form a single first conductive coil 50 . A plurality of conductive loops may be included. For example, four first conductive loops may be included in one first conductive coil 50 .

일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 도전 루프들은 평면 방향에서 서로 다른 사이즈 혹은 면적을 가질 수 있다. 제1 콘택(135)은 층간 절연층(120)을 관통하여 제1 상부 도전 라인(132)과 실질적으로 일체로 형성될 수 있다.In some embodiments, the first conductive loops may have different sizes or areas in a planar direction. The first contact 135 may pass through the interlayer insulating layer 120 to be formed substantially integrally with the first upper conductive line 132 .

상기 제1 도전 루프들 중 어느 하나의 제1 도전 루프에는 제1 트레이스(60)가 연결될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 트레이스(60)는 제1 입력 라인(62) 및 제1 출력 라인(64)을 포함할 수 있다. A first trace 60 may be connected to any one of the first conductive loops. According to example embodiments, the first trace 60 may include a first input line 62 and a first output line 64 .

제1 입력 라인(62)은 상기 제1 도전 루프들 중 어느 하나의 제1 도전 루프에 연결되며, 제1 출력 라인(64)은 상기 제1 도전 루프들 중 다른 하나의 제1 도전 루프에 연결될 수 있다.A first input line 62 is connected to a first conductive loop of any one of the first conductive loops, and a first output line 64 is connected to a first conductive loop of the other of the first conductive loops. can

예를 들면, 제1 입력 라인(62)은 상기 제1 도전 루프들 중 최내측의 제1 도전 루프에 연결될 수 있다. 제1 출력 라인(64)은 상기 제1 도전 루프들 중 최외곽의 제1 도전 루프에 연결될 수 있다.For example, the first input line 62 may be connected to an innermost first conductive loop among the first conductive loops. The first output line 64 may be connected to an outermost first conductive loop among the first conductive loops.

제1 입력 라인(62)으로부터 입력된 전류는 상기 제1 도전 루프들을 통해 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)을 교대로 순환하며, 제1 출력 라인(64)을 통해 배출될 수 있다.The current input from the first input line 62 may alternately cycle through the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 through the first conductive loops, and may be discharged through the first output line 64 . there is.

일부 실시예들에 있어서, 제1 입력 라인(62) 및 제1 출력 라인(64)은 하부 도전층(110)에 포함될 수 있다. In some embodiments, the first input line 62 and the first output line 64 may be included in the lower conductive layer 110 .

일부 실시예들에 있어서, 하부 도전층(110)은 제1 내부 연결 라인(114a)을 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1 내부 연결 라인(114a) 이웃하는 제1 도전 루프들을 서로 연결 시킬 수 있다.In some embodiments, the lower conductive layer 110 may further include a first internal connection line 114a. For example, first conductive loops adjacent to the first internal connection line 114a may be connected to each other.

도 3에 도시된 바와 같이, 하부 도전층(110)의 제1 하부 도전 라인(112) 및 상부 도전층(130)의 제2 상부 도전 라인(134)이 서로 결합되어 제2 도전 코일(70)을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3 , the first lower conductive line 112 of the lower conductive layer 110 and the second upper conductive line 134 of the upper conductive layer 130 are coupled to each other to form a second conductive coil 70 . can form.

제1 하부 도전 라인(112) 및 제2 상부 도전 라인(134)은 함께 제2 도전 코일(70)을 형성하여 전자기 유도를 통한 입력 펜에 대한 센싱 라인으로 함께 제공될 수 있다.The first lower conductive line 112 and the second upper conductive line 134 may be provided together as a sensing line for an input pen through electromagnetic induction by forming a second conductive coil 70 together.

예를 들면, 제1 하부 도전 라인(112) 및 제2 상부 도전 라인(134)은 제2 콘택(137)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 복수의 제1 하부 도전 라인들(112) 및 복수의 제2 상부 도전 라인들(134)이 복수의 제2 콘택들(137)을 통해 서로 전기적으로 연결되어 하나의 제2 도전 코일(70) 내에 복수의 도전 루프가 포함될 수 있다. 예를 들면, 하나의 제2 도전 코일(70) 내에 4개의 제2 도전 루프들이 포함될 수 있다.For example, the first lower conductive line 112 and the second upper conductive line 134 may be electrically connected to each other through the second contact 137 . A plurality of first lower conductive lines 112 and a plurality of second upper conductive lines 134 are electrically connected to each other through a plurality of second contacts 137 to form a single second conductive coil 70 . A plurality of conductive loops may be included. For example, four second conductive loops may be included in one second conductive coil 70 .

일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 도전 루프들은 평면 방향에서 서로 다른 사이즈 혹은 면적을 가질 수 있다. 제2 콘택(137)은 층간 절연층(120)을 관통하여 제2 상부 도전 라인(134)과 실질적으로 일체로 형성될 수 있다.In some embodiments, the second conductive loops may have different sizes or areas in a planar direction. The second contact 137 may pass through the interlayer insulating layer 120 to be formed substantially integrally with the second upper conductive line 134 .

상기 제2 도전 루프들 중 어느 하나의 제2 도전 루프에는 제2 트레이스(80)가 연결될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제2 트레이스(80)는 제2 입력 라인(82) 및 제2 출력 라인(84)을 포함할 수 있다. A second trace 80 may be connected to any one of the second conductive loops. According to example embodiments, the second trace 80 may include a second input line 82 and a second output line 84 .

예를 들면, 제2 입력 라인(82)은 상기 제2 도전 루프들 중 최내측의 제2 도전 루프에 연결될 수 있다. 제2 출력 라인(84)은 상기 제2 도전 루프들 중 최외곽의 제2 도전 루프에 연결될 수 있다.For example, the second input line 82 may be connected to an innermost second conductive loop among the second conductive loops. The second output line 84 may be connected to an outermost second conductive loop among the second conductive loops.

제2 입력 라인(82)으로부터 입력된 전류는 상기 제2 도전 루프들을 통해 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)을 교대로 순환하며, 제2 출력 라인(84)을 통해 배출될 수 있다.The current input from the second input line 82 may alternately cycle through the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 through the second conductive loops, and may be discharged through the second output line 84 . there is.

일부 실시예들에 있어서, 제2 입력 라인(82) 및 제2 출력 라인(84)은 하부 도전층(110)에 포함될 수 있다.In some embodiments, the second input line 82 and the second output line 84 may be included in the lower conductive layer 110 .

일부 실시예들에 있어서, 상부 도전층(130)은 외부 연결 라인(134a)을 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 외부 연결 라인(134a)에 의해 제2 입력 라인(82) 및 제2 출력 라인(84)이 제2 도전 루프와 제2 콘택(137)을 통해 연결될 수 있다. In some embodiments, the upper conductive layer 130 may further include an external connection line 134a. For example, the second input line 82 and the second output line 84 may be connected to the second conductive loop and the second contact 137 by the external connection line 134a.

일 실시예에 있어서, 외부 연결 라인(134a)은 2개의 서로 다른 제2 도전 코일에 연결될 수도 있다. 예를 들면, 어느 하나의 제2 도전 코일(70)에 연결된 제2 출력 라인(84)은 외부 연결 라인(134a)을 통해 다른 제2 도전 코일(70)의 입력 라인(82)에 연결될 수도 있다.In an embodiment, the external connection line 134a may be connected to two different second conductive coils. For example, the second output line 84 connected to one of the second conductive coils 70 may be connected to the input line 82 of the other second conductive coil 70 through an external connection line 134a. .

일부 실시예들에 있어서, 상부 도전층(130)은 제2 내부 연결 라인(134b)을 더 포함할 수도 있다. 예를 들면, 제2 내부 연결 라인(134b)에 의해 제2 도전 코일(70) 내에서 이웃하는 제2 도전 루프들이 서로 연결될 수 있다.In some embodiments, the upper conductive layer 130 may further include a second internal connection line 134b. For example, adjacent second conductive loops in the second conductive coil 70 may be connected to each other by the second internal connection line 134b.

도 2 및 도 3에서는 하나의 도전 코일 내에 4개의 도전 루프가 포함되는 것으로 도시되었으나, 도전 코일 내의 도전 루프의 개수는 화상 표시 장치의 사이즈 및 해상도 등을 고려하여 조절될 수 있다.Although it is illustrated that four conductive loops are included in one conductive coil in FIGS. 2 and 3 , the number of conductive loops in the conductive coil may be adjusted in consideration of the size and resolution of the image display device.

도 2 및 도 3을 참조로 설명한 바와 같이, 제1 도전 코일(50) 및 제2 도전 코일(70)은 각각 복수의 서로 다른 사이즈의 도전 루프들을 포함할 수 있다. As described with reference to FIGS. 2 and 3 , the first conductive coil 50 and the second conductive coil 70 may each include a plurality of conductive loops having different sizes.

이에 따라, 디지타이저(100)를 통해 생성되는 자기장 세기를 충분히 증가시켜 예를 들면, 화상 표시 장치의 윈도우 면에 접촉하는 입력 펜으로의 에너지 전달을 효율적으로 증진시킬 수 있다.Accordingly, it is possible to sufficiently increase the magnetic field strength generated through the digitizer 100 , so that, for example, energy transfer to the input pen in contact with the window surface of the image display apparatus can be efficiently enhanced.

또한, 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)을 콘택(135, 137)을 통해 연결하여 도전 루프를 형성하므로, 제한된 공간 내에서의 도전 코일의 루프 개수를 효율적으로 증가시키며 전자기 유도 효율성을 향상시킬 수 있다.In addition, since the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 are connected through the contacts 135 and 137 to form a conductive loop, the number of loops of the conductive coil in a limited space is efficiently increased and electromagnetic induction efficiency is achieved. can improve

예시적인 실시예들에 따르면, 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)은 모두 기재층(105)의 상면 상에 배치될 수 있다. 따라서, 기재층(105)을 통한 벤딩 혹은 폴딩 시 제1 도전층(110) 및 제2 도전층(130)에 대한 스트레스 방향이 동일하게 조절될 수 있다.In example embodiments, both the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 may be disposed on the upper surface of the base layer 105 . Accordingly, when bending or folding through the base layer 105 , the stress direction for the first conductive layer 110 and the second conductive layer 130 may be adjusted to be the same.

예를 들면, 기재층(105)의 저면에 인장 스트레스가 인가되는 경우, 하부 도전층(110) 및 상부 도전층(130)에는 압축 스트레스가 인가될 수 있다. 이에 따라, 스트레스가 상쇄되는 중립면(Neutral Plane)이 도전층(110, 130)에 인접하도록 용이하게 생성될 수 있다. 따라서, 도전층들(110, 130)에 대한 인가되는 스트레스가 완화되어 벤딩에 의한 전극 크랙을 감소 또는 방지할 수 있다.For example, when tensile stress is applied to the bottom surface of the base layer 105 , compressive stress may be applied to the lower conductive layer 110 and the upper conductive layer 130 . Accordingly, a neutral plane in which stress is canceled may be easily generated to be adjacent to the conductive layers 110 and 130 . Accordingly, stress applied to the conductive layers 110 and 130 may be relieved, thereby reducing or preventing electrode cracking due to bending.

예시적인 실시예들에 따르면, 하부 도전층(110)의 두께는 상부 도전층(130)의 두께보다 클 수 있다. 예를 들면, 제1 하부 도전 라인(112)의 두께는 제1 상부 도전 라인(132)의 두께보다 클 수 있다.In example embodiments, the thickness of the lower conductive layer 110 may be greater than the thickness of the upper conductive layer 130 . For example, the thickness of the first lower conductive line 112 may be greater than the thickness of the first upper conductive line 132 .

도 4를 참조로 후술하는 바와 같이, 제1 상부 도전 라인(132)은 제1 방향(예를 들면, 행 방향 또는 너비 방향)으로 연장하며 벤딩 축과 교차할 수 있다. 예를 들면, 제1 상부 도전 라인(132)은 상기 벤딩 축과 수직할 수 있다. 제1 하부 도전 라인(112)은 제2 방향(열 방향 또는 길이 방향)으로 연장하며 실질적으로 상기 벤딩 축과 평행할 수 있다.As will be described later with reference to FIG. 4 , the first upper conductive line 132 may extend in a first direction (eg, a row direction or a width direction) and intersect a bending axis. For example, the first upper conductive line 132 may be perpendicular to the bending axis. The first lower conductive line 112 may extend in a second direction (a column direction or a length direction) and may be substantially parallel to the bending axis.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 벤딩 축과 교차함에 따라 벤딩 스트레스가 쉽게 전달되는 제1 상부 도전 라인(132)의 두께를 감소시켜 도전 라인 내부에서의 크랙 방지를 감소 또는 억제할 수 있다. 상기 벤딩 축과 평행하여 벤딩 스트레스로부터 상대적으로 자유로운 제1 하부 도전 라인(112)은 큰 두께로 형성함에 따라, 도전 코일을 통한 전류 통로를 확장시켜 충분한 전자기 유도 효과를 구현할 수 있다.According to example embodiments, by reducing the thickness of the first upper conductive line 132 through which bending stress is easily transmitted as it intersects the bending axis, prevention of cracks in the conductive line may be reduced or suppressed. The first lower conductive line 112 that is parallel to the bending axis and is relatively free from bending stress is formed to have a large thickness, so that a sufficient electromagnetic induction effect may be realized by expanding a current path through the conductive coil.

일 실시예에 있어서, 제2 하부 도전 라인(114) 역시 제2 상부 도전 라인(134) 보다 큰 두께를 가질 수 있다.In an embodiment, the second lower conductive line 114 may also have a greater thickness than the second upper conductive line 134 .

일부 실시예들에 있어서, 하부 도전층(110)(제1 하부 도전 라인 또는 제2 하부 도전 라인)의 두께는 약 5 내지 20㎛일 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 20㎛일 수 있다. 상부 도전층(130)(제1 상부 도전 라인 또는 제2 상부 도전 라인)의 두께는 6㎛ 이하일 수 있으며, 바람직하게는 약 1 내지 6㎛일 수 있다.In some embodiments, the thickness of the lower conductive layer 110 (the first lower conductive line or the second lower conductive line) may be about 5 to 20 μm, preferably 10 to 20 μm. The thickness of the upper conductive layer 130 (the first upper conductive line or the second upper conductive line) may be 6 μm or less, and preferably about 1 to 6 μm.

도 4는 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저를 나타내는 개략적인 평면도이다. 설명의 편의를 위해, 도 4에서는 도전 코일의 상세 구조/구성의 도시는 생략되었다.4 is a schematic plan view illustrating a digitizer according to exemplary embodiments. For convenience of description, the detailed structure/configuration of the conductive coil is omitted in FIG. 4 .

디지타이저(100) 또는 기재층(105)은 활성 영역(AA) 및 주변 영역(PA)을 포함할 수 있다. 주변 영역(PA)은 기재층(105)의 외곽부를 포함하며, 활성 영역(AA)은 주변 영역(PA)에 의해 둘러싸일 수 있다.The digitizer 100 or the base layer 105 may include an active area AA and a peripheral area PA. The peripheral area PA may include an outer portion of the base layer 105 , and the active area AA may be surrounded by the peripheral area PA.

활성 영역(AA)은 실질적으로 입력 펜으로 전달된 물리적 신호가 디지털 신호로 변환되는 센싱 영역에 해당될 수 있다. 주변 영역(PA)은 기재층(105)의 마진 영역으로 제공될 수 있다.The active area AA may substantially correspond to a sensing area in which a physical signal transmitted to the input pen is converted into a digital signal. The peripheral area PA may serve as a margin area of the base layer 105 .

일부 실시예들에 있어서, 주변 영역(PA)은 회로 연결 영역(CA)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 회로 연결 영역(CA)은 기재층(105)의 평면 방향에서 하단부에 배치될 수 있다.In some embodiments, the peripheral area PA may include the circuit connection area CA. For example, the circuit connection area CA may be disposed at the lower end of the base layer 105 in the planar direction.

회로 연결 영역(CA) 내에는 패드들(90)이 배열될 수 있다. 예를 들면 트레이스들(60, 80)의 말단부들이 주변 영역(CA)으로 집합되어 패드들(90)과 연결될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 트레이스들(60, 80)의 상기 말단부들이 패드들(90)로 제공될 수도 있다.Pads 90 may be arranged in the circuit connection area CA. For example, distal ends of the traces 60 and 80 may be collected in the peripheral area CA and connected to the pads 90 . In one embodiment, the distal ends of traces 60 , 80 may be provided as pads 90 .

패드들(90)을 통해 집적 회로 칩이 디지타이저(100)에 포함된 도전 코일들(50, 70)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 집적 회로 칩에서 도전 코일들(50, 70)로 급전 및 신호가 트레이스들(60, 80)을 통해 인가될 수 있다.The integrated circuit chip may be electrically connected to the conductive coils 50 and 70 included in the digitizer 100 through the pads 90 . Accordingly, power and signals may be applied from the integrated circuit chip to the conductive coils 50 and 70 through the traces 60 and 80 .

일부 실시예들에 있어서, 도전 코일(50, 70)의 단부들이 주변 영역(PA) 상에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 도전 코일(50)의 행 방향(또는 제1 방향)의 양 단부들 및 제2 도전 코일(70)의 열 방향(또는 제2 방향)의 양 단부들이 주변 영역(PA) 상에 배치될 수 있다. In some embodiments, ends of the conductive coils 50 and 70 may be disposed on the peripheral area PA. For example, both ends of the first conductive coil 50 in the row direction (or the first direction) and both ends of the second conductive coil 70 in the column direction (or the second direction) are in the peripheral area PA may be placed on the

제1 도전 코일(50)은 상기 제1 방향 혹은 행 방향으로 연장할 수 있다. 복수의 제1 도전 코일들(50)은 상기 제2 방향 또는 열 방향을 따라 배열될 수 있다.The first conductive coil 50 may extend in the first direction or the row direction. The plurality of first conductive coils 50 may be arranged along the second direction or the column direction.

예를 들면, n개의 제1 도전 코일들(50-1 내지 50-n)이 순차적으로 상기 제2 방향을 따라 배열될 수 있다(n은 자연수). For example, n first conductive coils 50 - 1 to 50 - n may be sequentially arranged in the second direction (n is a natural number).

제2 도전 코일(70)은 상기 제2 방향 혹은 열 방향으로 연장할 수 있다. 복수의 제2 도전 코일들(70)은 상기 제1 방향 또는 행 방향을 따라 배열될 수 있다.The second conductive coil 70 may extend in the second direction or in the column direction. The plurality of second conductive coils 70 may be arranged along the first direction or the row direction.

예를 들면, m개의 제2 도전 코일들(70-1 내지 70-m)이 순차적으로 상기 제1 방향을 따라 배열될 수 있다(m은 자연수).For example, m second conductive coils 70 - 1 to 70 - m may be sequentially arranged in the first direction (m is a natural number).

기재층(105)의 중앙부에는 벤딩 영역(BA)이 포함될 수 있다. 벤딩 영역(BA) 내에는 상기 제2 방향으로 연장하는 벤딩 축(BX)이 위치할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저(100)는 벤딩 축(BX) 주변으로 굴곡되거나 접힐 수 있다.A bending area BA may be included in the central portion of the base layer 105 . A bending axis BX extending in the second direction may be positioned in the bending area BA. The digitizer 100 according to example embodiments may be bent or folded around the bending axis BX.

상술한 바와 같이, 벤딩 축(BX)과 교차하는 제1 상부 도전 라인(132) 또는 제2 상부 도전 라인(134)의 두께는 상대적으로 작을 수 있다. 따라서, 벤딩 스트레스가 직접적으로 인가되는 상부 도전층(130)의 크랙을 방지하며 유연성을 증가시킬 수 있다. As described above, the thickness of the first upper conductive line 132 or the second upper conductive line 134 crossing the bending axis BX may be relatively small. Accordingly, it is possible to prevent cracking of the upper conductive layer 130 to which bending stress is directly applied and to increase flexibility.

벤딩 축(80)과 평행하며 벤딩 스트레스가 상대적으로 작은 제1 하부 도전 라인(112) 및 제2 하부 도전 라인(114)의 두께는 증가시켜, 저항을 감소시키고 도전 코일을 통한 자기장 생성 효율을 향상시킬 수 있다.The thickness of the first lower conductive line 112 and the second lower conductive line 114 parallel to the bending axis 80 and having relatively small bending stress is increased to reduce resistance and improve the efficiency of generating a magnetic field through the conductive coil can do it

예시적인 실시예들에 따르면, 활성 영역(AA)은 트레이스 영역(TA)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 활성 영역(AA) 내의 일 영역이 트레이스 영역(TA)으로 할당될 수 있다.In example embodiments, the active area AA may include a trace area TA. For example, an area within the active area AA may be allocated as the trace area TA.

도 2 및 도 3을 참조로 설명한 트레이스들(60, 80)은 기재층(105)의 트레이스 영역(TA) 상에 집합되어 회로 연결 영역(CA)으로 연장할 수 있다.The traces 60 and 80 described with reference to FIGS. 2 and 3 may be assembled on the trace area TA of the base layer 105 and extend to the circuit connection area CA.

상술한 바와 같이, 트레이스 영역(TA)이 활성 영역(AA) 내에 포함됨에 따라, 트레이스들(60, 80) 및 도전 코일들(50, 70) 사이의 연결 거리를 단축시킬 수 있다. 이에 따라, 도전 코일들(50, 70)로의 전류 전송 효율을 증가시켜 전자기 유도 세기를 추가적으로 향상시킬 수 있다.As described above, as the trace area TA is included in the active area AA, the connection distance between the traces 60 and 80 and the conductive coils 50 and 70 may be shortened. Accordingly, it is possible to further improve the electromagnetic induction strength by increasing the efficiency of current transmission to the conductive coils 50 and 70 .

또한, 트레이스들(60, 80)이 활성 영역(AA) 내에 배치됨에 따라, 주변 영역(PA)의 면적을 감소시킬 수 있으며, 도전 패턴/배선이 배치될 수 있는 공간을 추가적으로 확보할 수 있다.Also, as the traces 60 and 80 are disposed in the active area AA, the area of the peripheral area PA may be reduced, and a space in which a conductive pattern/wiring may be disposed may be additionally secured.

도 4에서 트레이스 영역(TA)은 활성 영역(AA)의 일 측부에 배치되는 것으로 도시되었으나, 트레이스 영역(TA)의 위치는 도전 코일들(50, 70)의 회로 설계를 고려하여 적절히 조절될 수 있다.Although the trace area TA is illustrated as being disposed on one side of the active area AA in FIG. 4 , the position of the trace area TA may be appropriately adjusted in consideration of the circuit design of the conductive coils 50 and 70 . there is.

도 5은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저의 트레이스들의 구조를 나타내는 개략적인 부분 확대 평면도이다.5 is a schematic partially enlarged plan view showing the structure of traces of a digitizer according to exemplary embodiments.

도 5를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저(100)의 트레이스들(60, 80)은 가변 폭을 가질 수 있다. 본 출원에 사용된 "가변 폭"은 전체적으로 일정한 폭을 갖는 것이 아니라, 영역에 따라 불균일한 폭을 갖는 것을 지칭할 수 있다.Referring to FIG. 5 , traces 60 and 80 of the digitizer 100 according to example embodiments may have a variable width. "Variable width" as used in the present application may refer to having a non-uniform width depending on an area, rather than having a constant width as a whole.

예를 들면, 제1 도전 코일들(50)에 연결되는 제1 트레이스들(60) 중 적어도 일부가 가변 폭을 가질 수 있다.For example, at least some of the first traces 60 connected to the first conductive coils 50 may have a variable width.

일부 실시예들에 있어서, 도 4에 도시된 회로 연결 영역(CA)에서 멀어지는 제1 도전 코일(50)에 연결되는 순서대로 제1 트레이스들(60)(60a, 60b, 60c, 60d, 60e)이 순차적으로 상기 제1 방향으로 인접하여 배열될 수 있다.In some embodiments, the first traces 60 ( 60a , 60b , 60c , 60d , 60e ) in the order connected to the first conductive coil 50 away from the circuit connection area CA shown in FIG. 4 . These may be sequentially arranged adjacent to each other in the first direction.

예를 들면, "60a"로 표시된 제1 트레이스가 회로 연결 영역(CA)에 가장 가까운 제1 도전 코일(50-1)에 연결되는 경우, "60b"로 표시된 제1 트레이스는 제1 도전 코일(50-2)에 연결되고, 순차적으로 회로 연결 영역(CA)으로부터 멀어지는 제1 도전 코일들(50)에 연결되는 제1 트레이스들(60c, 60d 60e)이 상기 제1 방향을 따라 배열될 수 있다.For example, when the first trace marked "60a" is connected to the first conductive coil 50-1 closest to the circuit connection area CA, the first trace marked "60b" is the first conductive coil ( 50-2) and sequentially connected to the first conductive coils 50 moving away from the circuit connection area CA, the first traces 60c and 60d 60e may be arranged in the first direction. .

소정의 개수의 제1 트레이스들(60)이 인접하게 배치되어 트레이스 그룹(TG)을 형성할 수 있다. 복수의 트레이스 그룹들(TG)이 상기 제2 방향을 따라 배열될 수 있다.A predetermined number of first traces 60 may be disposed adjacent to each other to form a trace group TG. A plurality of trace groups TG may be arranged along the second direction.

예를 들면, 트레이스 그룹(TG)에 포함된 제1 트레이스들(60) 중 회로 연결 영역(CA)에 가장 인접한 제1 도전 코일(50)에 연결된(예를 들면, 제1 콘택(135)을 통해) 제1 트레이스(60a)는 길이가 가장 짧을 수 있다. 이에 따라, 상기 제2 방향을 따라 다른 제1 트레이스들(60b, 60c, 60d, 60e)이 연장하면서 추가 공간이 생성될 수 있으며, 상기 추가 공간을 통해 다른 제1 트레이스들(60b, 60c, 60d, 60e)의 면적이 증가할 수 있다.For example, among the first traces 60 included in the trace group TG, connected to the first conductive coil 50 closest to the circuit connection area CA (eg, the first contact 135 ) through) the first trace 60a may have the shortest length. Accordingly, an additional space may be created while the other first traces 60b, 60c, 60d, and 60e extend along the second direction, and the other first traces 60b, 60c, 60d through the additional space. , 60e) may increase in area.

상술한 바와 동일한 방식으로, 회로 연결 영역(CA)으로부터 멀어지면서 트레이스 그룹(TG)에 해당되는 너비 내에 포함되는 제1 트레이스(60)의 개수가 감소할 수 있다.In the same manner as described above, the number of the first traces 60 included in the width corresponding to the trace group TG may decrease as it moves away from the circuit connection area CA.

따라서, 제1 트레이스들(60b, 60c, 60d, 60e)은 상기 제1 방향으로 폭이 증가된 확장부들(65)을 포함하며, 확장부들(65)은 도 5에 도시된 바와 같이, 회로 연결 영역(CA)으로부터 상기 제2 방향을 따라 멀어질수록 너비가 증가할 수 있다. 이에 따라, 제1 트레이스(60)는 계단형상을 가질 수 있다.Accordingly, the first traces 60b, 60c, 60d, and 60e include extension portions 65 having an increased width in the first direction, and the extension portions 65 are circuit-connected as shown in FIG. 5 . A width may increase as it moves away from the area CA in the second direction. Accordingly, the first trace 60 may have a stepped shape.

상술한 바와 같이, 제1 트레이스들(60) 중 적어도 하나의 제1 트레이스(60)는 확장부(65)를 포함할 수 있다.As described above, at least one of the first traces 60 may include an extension 65 .

예를 들면, 제1 트레이스(60)의 길이가 증가할수록 해당 제1 트레이스(60)에 포함된 확장부(65)의 개수가 증가할 수 있다. 또한, 확장부들(65)은 폭이 서로 다를 수 있으며, 회로 연결 영역(CA)으로부터 거리가 증가할수록 증가된 폭을 가질 수 있다.For example, as the length of the first trace 60 increases, the number of extension parts 65 included in the corresponding first trace 60 may increase. Also, the extensions 65 may have different widths, and may have an increased width as the distance from the circuit connection area CA increases.

이에 따라, 회로 연결 영역(CA)으로부터 상대적으로 멀리 떨어진 제1 도전 코일(50)에 넓은 확장부들(65)을 갖는 제1 트레이스(60)을 연결시켜 신호 전달 거리에 따른 저항 증가를 억제 또는 완충할 수 있다. 그러므로, 디지타이저(100)에 포함된 도전 코일들에서의 저항 및 전류 세기 분포가 실질적으로 균일화되며, 감도의 균일성 역시 증진될 수 있다. Accordingly, the first trace 60 having wide extensions 65 is connected to the first conductive coil 50 relatively far from the circuit connection area CA to suppress or buffer an increase in resistance according to a signal transmission distance. can do. Therefore, resistance and current intensity distribution in the conductive coils included in the digitizer 100 may be substantially uniformed, and uniformity of sensitivity may also be improved.

도 6 및 도 7은 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저의 더미 패턴의 배치를 나타내는 개략적인 부분 확대 평면도이다.6 and 7 are schematic partial enlarged plan views illustrating an arrangement of a dummy pattern of a digitizer according to example embodiments.

예시적인 실시예들에 따른 디지타이저는 더미 패턴을 포함하며, 더미 패턴은 상대적으로 큰 두께를 갖는 하부 도전층(110)에 포함될 수 있다. The digitizer according to example embodiments includes a dummy pattern, and the dummy pattern may be included in the lower conductive layer 110 having a relatively large thickness.

도 6을 참조하면, 상기 더미 패턴은 이웃하는 트레이스 그룹들(TG) 사이에 배치되는 제1 더미 패턴(150)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 6 , the dummy pattern may include a first dummy pattern 150 disposed between adjacent trace groups TG.

제1 더미 패턴(150)은 트레이스들(60, 80)과 물리적으로 이격되며 상기 제2 방향으로 연장하며 이웃하는 트레이스 그룹들(TG) 사이의 공간을 채울 수 있다. The first dummy pattern 150 may be physically spaced apart from the traces 60 and 80 , may extend in the second direction, and may fill a space between the adjacent trace groups TG.

제1 더미 패턴(150)은 도 6에 도시된 바와 같이 상기 제2 방향으로 연장하는 라인 형상을 가질 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제1 더미 패턴(150)은 소정의 길이로 절단된 바(bar) 패턴 형상을 가질 수도 있다. 이 경우, 복수의 제1 더미 패턴들(150)이 이웃하는 트레이스 그룹들(TG) 사이에서 상기 제2 방향을 따라 배열될 수 있다.The first dummy pattern 150 may have a line shape extending in the second direction as shown in FIG. 6 . In an embodiment, the first dummy pattern 150 may have a bar pattern shape cut to a predetermined length. In this case, the plurality of first dummy patterns 150 may be arranged in the second direction between the adjacent trace groups TG.

도 7을 참조하면, 상기 더미 패턴은 평면 방향에서 제1 하부 도전 라인들(112) 및 제1 상부 도전 라인들(132) 사이의 공간에 배치된 제2 더미 패턴(155)을 포함할 수도 있다.Referring to FIG. 7 , the dummy pattern may include a second dummy pattern 155 disposed in a space between the first lower conductive lines 112 and the first upper conductive lines 132 in a planar direction. .

도 4를 참조로 설명한 바와 같이, 평면 방향에서 도전 코일들(50, 70)이 서로 교차하며 배열될 수 있다. 이에 따라, 제1 도전 코일(50)에 포함된 제1 상부 도전 라인들(132) 및 제2 도전 코일(70)에 포함된 제1 하부 도전 라인들(112)이 평면 방향에서 서로 중첩되는 교차 영역(C)이 형성될 수 있다. 또한, 서로 교차하는 도전 코일들(50, 70) 사이에 격자 공간(LA)이 정의될 수 있다.As described with reference to FIG. 4 , the conductive coils 50 and 70 may be arranged to cross each other in a planar direction. Accordingly, the first upper conductive lines 132 included in the first conductive coil 50 and the first lower conductive lines 112 included in the second conductive coil 70 cross each other in a planar direction. A region C may be formed. Also, a lattice space LA may be defined between the conductive coils 50 and 70 crossing each other.

예를 들면, 교차부들(C)을 따라 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 연장하는 영역들 상에 제1 하부 도전 라인들(112) 및 제1 상부 도전 라인들(132)이 배치될 수 있다. For example, the first lower conductive lines 112 and the first upper conductive lines 132 may be disposed on regions extending in the first direction and the second direction along the intersections C. there is.

예를 들면, 소정의 개수의 제1 하부 도전 라인들(112)에 의해 제1 하부 도전 라인 그룹(113)이 정의되며, 소정의 개수의 제1 상부 도전 라인들(132)에 의해 제1 상부 도전 라인 그룹(133)이 정의될 수 있다.For example, a first lower conductive line group 113 is defined by a predetermined number of first lower conductive lines 112 , and a first upper conductive line group 113 is defined by a predetermined number of first upper conductive lines 132 . A conductive line group 133 may be defined.

제2 더미 패턴(155)은 평면 방향에서 이웃하는 한 쌍의 제1 하부 도전 라인 그룹들(113) 및 이웃하는 한 쌍의 제1 상부 도전 라인 그룹들(133) 사이의 격자 공간(LA)에 배치될 수 있다. 제2 더미 패턴(155)은 격자 형태로 배열되며, 예를 들면, 격자 공간(LA) 내에 제1 하부 도전 라인들(112)과 물리적으로, 전기적으로 이격된 섬(island) 패턴 형상을 가질 수 있다.The second dummy pattern 155 is formed in a lattice space LA between a pair of adjacent first lower conductive line groups 113 and a pair of adjacent first upper conductive line groups 133 in the planar direction. can be placed. The second dummy pattern 155 may be arranged in a grid shape, for example, may have an island pattern shape physically and electrically spaced apart from the first lower conductive lines 112 in the grid space LA. there is.

일 실시예에 있어서, 하나의 격자 공간(LA) 내에 복수의 제2 더미 패턴들(155)이 배치될 수도 있다. In an embodiment, a plurality of second dummy patterns 155 may be disposed in one grid space LA.

상술한 바와 같이, 상기 더미 패턴이 상대적으로 큰 두께를 갖는 하부 도전층(110)에 더미 패턴을 포함시켜 디지타이저의 단차를 감소시킬 수 있다. 예를 들면, 제1 하부 도전 라인들(112) 및 트레이스들(60, 80) 사이의 공간에 삽입되어 전체적으로 하부 도전층(110)의 두께 분포를 균일화할 수 있다.As described above, the step difference of the digitizer can be reduced by including the dummy pattern in the lower conductive layer 110 having the dummy pattern having a relatively large thickness. For example, it may be inserted into the space between the first lower conductive lines 112 and the traces 60 and 80 to uniformize the thickness distribution of the lower conductive layer 110 as a whole.

이에 따라, 하부 도전층(110)의 두께를 충분히 증가시켜 디지타이저(100)의 저항 감소, 전자기 유도를 촉진하면서 두께 편차에 따른 기계적, 광학적 불량을 방지할 수 있다.Accordingly, it is possible to sufficiently increase the thickness of the lower conductive layer 110 to reduce the resistance of the digitizer 100 and to promote electromagnetic induction, while preventing mechanical and optical defects due to thickness deviation.

도 8은 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도이다.8 is a schematic cross-sectional view illustrating an image display apparatus according to example embodiments.

도 8을 참조하면, 화상 표시 장치는 표시 패널(360), 터치 센서(200) 및 상술한 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저(100)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8 , the image display apparatus may include the display panel 360 , the touch sensor 200 , and the digitizer 100 according to the above-described exemplary embodiments.

디지타이저(100)는 표시 패널(360) 아래에 배치될 수 있다. 예를 들면, 디지타이저(100)는 표시 패널(360) 및 리어 커버(rear cover)(380) 사이에 배치될 수 있다.The digitizer 100 may be disposed under the display panel 360 . For example, the digitizer 100 may be disposed between the display panel 360 and the rear cover 380 .

디지타이저(100)는 전자기 유도 현상을 이용한 자기장 생성 효율을 위해 상대적으로 두꺼운 도전 라인들을 포함하며, 복수의 도전 코일들을 포함할 수 있다. 따라서, 디지타이저(100)는 화상 표시 장치의 사용자에게 시인되지 않도록 표시 패널(360) 아래에 배치될 수 있다.The digitizer 100 includes relatively thick conductive lines for efficiency in generating a magnetic field using electromagnetic induction, and may include a plurality of conductive coils. Accordingly, the digitizer 100 may be disposed under the display panel 360 so as not to be recognized by a user of the image display apparatus.

상술한 바와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 디지타이저(100) 구조를 활용하여 자기장 세기를 충분히 증가시켜 예를 들면, 화상 표시 장치의 윈도우 기판(230)에 접촉하는 입력 펜으로의 에너지 전달을 효율적으로 증진시킬 수 있다.As described above, by utilizing the structure of the digitizer 100 according to the exemplary embodiments to sufficiently increase the magnetic field strength, for example, energy transfer to the input pen in contact with the window substrate 230 of the image display device is efficiently transmitted. can be promoted to

표시 패널(360)은 패널 기판(300) 상에 배치된 화소 전극(310), 화소 정의막(320), 표시층(330), 대향 전극(340) 및 인캡슐레이션 층(350)을 포함할 수 있다.The display panel 360 may include a pixel electrode 310 , a pixel defining layer 320 , a display layer 330 , a counter electrode 340 , and an encapsulation layer 350 disposed on the panel substrate 300 . can

패널 기판(300) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 화소 회로가 형성되며, 상기 화소 회로를 덮는 절연막이 형성될 수 있다. 화소 전극(310)은 상기 절연막 상에서 예를 들면 TFT의 드레인 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.A pixel circuit including a thin film transistor (TFT) may be formed on the panel substrate 300 , and an insulating layer covering the pixel circuit may be formed. The pixel electrode 310 may be electrically connected to, for example, a drain electrode of a TFT on the insulating layer.

화소 정의막(320)은 상기 절연막 상에 형성되어 화소 전극(310)을 노출시켜 화소 영역을 정의할 수 있다. 화소 전극(310) 상에는 표시층(330)이 형성되며, 표시층(330)은 예를 들면, 액정층 또는 유기 발광층을 포함할 수 있다.The pixel defining layer 320 may be formed on the insulating layer to expose the pixel electrode 310 to define a pixel area. A display layer 330 is formed on the pixel electrode 310 , and the display layer 330 may include, for example, a liquid crystal layer or an organic light emitting layer.

화소 정의막(320) 및 표시층(330) 상에는 대향 전극(340)이 배치될 수 있다. 대향 전극(340)은 예를 들면, 화상 표시 장치의 공통 전극 또는 캐소드로 제공될 수 있다. 대향 전극(340) 상에 표시 패널(360) 보호를 위한 인캡슐레이션 층(350)이 적층될 수 있다.A counter electrode 340 may be disposed on the pixel defining layer 320 and the display layer 330 . The opposing electrode 340 may be provided as a common electrode or a cathode of the image display device, for example. An encapsulation layer 350 for protecting the display panel 360 may be stacked on the opposite electrode 340 .

터치 센서(200)는 표시 패널(360) 상에 적층되어 윈도우 기판(230)을 향해 배치될 수 있다. 터치 센서(200)는 윈도우 기판(230) 표면을 통해 입력된 사용자의 터치에 의해 정전 용량을 생성시킬 수 있다. 이에 따라, 터치 센서(200)는 사용자에게 시인되지 않도록 디지타이저(100)에 포함된 도전층보다 작은 두께의 센싱 전극 또는 센싱 채널들을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 센싱 전극 또는 센싱 채널의 두께는 1 ㎛ 미만, 또는 0.5㎛ 이하 일 수 있다.The touch sensor 200 may be stacked on the display panel 360 and disposed toward the window substrate 230 . The touch sensor 200 may generate capacitance by a user's touch input through the surface of the window substrate 230 . Accordingly, the touch sensor 200 may include a sensing electrode or sensing channels having a thickness smaller than that of the conductive layer included in the digitizer 100 so as not to be recognized by the user. For example, the thickness of the sensing electrode or the sensing channel may be less than 1 μm or less than 0.5 μm.

상기 센싱 전극 또는 상기 센싱 채널들은 각각 하나의 단일 층 내에 독립적으로 배치되어 인접하는 센싱 전극 또는 센싱 채널과 상호 작용하여 정전 용량을 생성시킬 수 있다. Each of the sensing electrodes or the sensing channels may be independently disposed in one single layer to interact with an adjacent sensing electrode or sensing channel to generate capacitance.

터치 센서(200)는 점접착층(260)을 통해 표시 패널(360)과 결합될 수 있다.The touch sensor 200 may be coupled to the display panel 360 through the adhesive layer 260 .

윈도우 기판(230)은 예를 들면 하드 코팅 필름, 박형 글래스를 포함하며, 일 실시예에 있어서, 윈도우 기판(230)의 일면의 주변부 상에 차광 패턴(235)이 형성될 수 있다. 차광 패턴(235)은 예를 들면 컬러 인쇄 패턴을 포함할 수 있다. 차광 패턴(235)에 의해 화상 표시 장치의 베젤부 혹은 비표시 영역이 정의될 수 있다.The window substrate 230 includes, for example, a hard coating film and thin glass, and in an embodiment, a light blocking pattern 235 may be formed on a peripheral portion of one surface of the window substrate 230 . The light blocking pattern 235 may include, for example, a color printing pattern. A bezel portion or a non-display area of the image display device may be defined by the light blocking pattern 235 .

윈도우 기판(230) 및 터치 센서(200) 사이에는 편광층(210) 배치될 수 있다. 편광층(210)은 코팅형 편광자 또는 편광판을 포함할 수 있다A polarization layer 210 may be disposed between the window substrate 230 and the touch sensor 200 . The polarizing layer 210 may include a coated polarizer or a polarizing plate.

편광층(210)은 윈도우 기판(230)의 상기 일면과 직접 접합되거나, 제1 점접착층(220)을 통해 부착될 수도 있다. 터치 센서(200)는 제2 점접착층(225)를 통해 편광층(210)과 결합될 수 있다.The polarization layer 210 may be directly bonded to the one surface of the window substrate 230 or may be attached through the first adhesive layer 220 . The touch sensor 200 may be coupled to the polarization layer 210 through the second adhesive layer 225 .

도 8에 도시된 바와 같이, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(230), 편광층(210) 및 터치 센서(200) 순으로 배치될 수 있다. 이 경우, 터치 센서(200)의 센싱 전극들이 편광층(210) 아래에 배치되므로 센싱 전극의 시인 현상을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. As shown in FIG. 8 , the window substrate 230 , the polarization layer 210 , and the touch sensor 200 may be sequentially disposed from the user's viewing side. In this case, since the sensing electrodes of the touch sensor 200 are disposed under the polarization layer 210 , it is possible to more effectively prevent the sensing electrode from being viewed.

일 실시예에 있어서, 터치 센서(200)는 윈도우 기판(230) 또는 편광층(210) 상에 직접 전사될 수도 있다. 일 실시예에 있어서, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(230), 터치 센서(200) 및 편광층(210) 순으로 배치될 수도 있다.In an embodiment, the touch sensor 200 may be directly transferred onto the window substrate 230 or the polarization layer 210 . In an embodiment, the window substrate 230 , the touch sensor 200 , and the polarization layer 210 may be disposed in the order from the user's viewing side.

50: 제1 도전 코일 60: 제1 트레이스
70: 제2 도전 코일 80: 제2 트레이스
100: 디지타이저 105: 기재층
110: 하부 도전층 112: 제1 하부 도전 라인
114: 제2 하부 도전 라인 120: 층간절연층
130: 상부 도전층 132: 제1 상부 도전 라인
134: 제2 상부 도전 라인 135: 제1 콘택
137: 제2 콘택 140: 패시베이션 층
150: 제1 더미 패턴 155: 제2 더미 패턴
50: first conductive coil 60: first trace
70: second conductive coil 80: second trace
100: digitizer 105: base layer
110: lower conductive layer 112: first lower conductive line
114: second lower conductive line 120: interlayer insulating layer
130: upper conductive layer 132: first upper conductive line
134: second upper conductive line 135: first contact
137: second contact 140: passivation layer
150: first dummy pattern 155: second dummy pattern

Claims (18)

활성 영역, 상기 활성 영역을 둘러싸는 주변 영역, 및 회로 연결 영역을 포함하는 기재층;
상기 기재층의 상기 활성 영역 상에 배치되며 행 방향으로 연장하는 제1 도전 코일 및 열 방향으로 연장하는 제2 도전 코일을 포함하는 도전 코일; 및
상기 기재층의 상기 활성 영역 상에 배치되어 상기 기재층의 일단부에 할당된 상기 회로 연결 영역으로 연장하며 상기 제1 도전 코일 및 상기 제2 도전 코일에 각각 연결되는 트레이스들을 포함하며,
상기 트레이스들 중 적어도 하나의 트레이스는 상기 회로 연결 영역으로부터 멀어지면서 폭이 증가하는 가변 폭을 갖는, 디지타이저.
a base layer including an active region, a peripheral region surrounding the active region, and a circuit connection region;
a conductive coil disposed on the active region of the base layer and including a first conductive coil extending in a row direction and a second conductive coil extending in a column direction; and
Traces disposed on the active region of the substrate layer, extending to the circuit connection region allocated to one end of the substrate layer, and respectively connected to the first conductive coil and the second conductive coil,
at least one of the traces has a variable width that increases in width away from the circuit connection area.
청구항 1에 있어서, 상기 적어도 하나의 트레이스는 상기 행 방향으로 폭이 증가하는 확장부를 포함하는, 디지타이저.The digitizer of claim 1 , wherein the at least one trace includes an extension that increases in width in the row direction. 청구항 2에 있어서, 상기 적어도 하나의 트레이스는 평면 방향에서 계단 형상을 갖는, 디지타이저.The digitizer of claim 2 , wherein the at least one trace has a stepped shape in a planar direction. 청구항 2에 있어서, 상기 적어도 하나의 트레이스는 복수의 확장부들을 포함하고, 상기 회로 연결 영역으로부터 멀어질수록 상기 확장부들의 폭이 증가하는, 디지타이저.The digitizer of claim 2 , wherein the at least one trace includes a plurality of extensions, and the width of the extensions increases as the distance from the circuit connection area increases. 청구항 2에 있어서, 상기 트레이스들 중 상기 행 방향으로 인접하게 배치된 트레이스들에 의해 트레이스 그룹이 정의되며,
상기 트레이스 그룹에 포함된 트레이스들은 상기 행 방향을 따라 순차적으로 길이가 증가하도록 배열된, 디지타이저.
The method according to claim 2, wherein a trace group is defined by the traces disposed adjacent to each other in the row direction among the traces,
The traces included in the trace group are arranged to sequentially increase in length along the row direction.
청구항 5에 있어서, 상기 트레이스 그룹에 포함된 상기 트레이스들은 길이가 증가할수록 확장부들의 개수가 증가하는, 디지타이저.The digitizer of claim 5 , wherein the number of extensions increases as the length of the traces included in the trace group increases. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 도전 코일은 상기 행 방향으로 연장하는 제1 상부 도전 라인들, 상기 열 방향으로 연장하는 제2 하부 도전 라인들, 및 상기 제2 하부 도전 라인들 및 상기 제1 상부 도전 라인들을 전기적으로 연결시키는 제1 콘택들을 포함하고,
상기 제2 도전 코일은 상기 열 방향으로 연장하는 제1 하부 도전 라인들, 상기 행 방향으로 연장하는 제2 상부 도전 라인들, 및 상기 제1 하부 도전 라인들 및 상기 제2 상부 도전 라인들을 전기적으로 연결시키는 제2 콘택들을 포함하는, 디지타이저.
The method according to claim 1, wherein the first conductive coil includes first upper conductive lines extending in the row direction, second lower conductive lines extending in the column direction, and the second lower conductive lines and the first upper part first contacts electrically connecting the conductive lines;
The second conductive coil electrically connects first lower conductive lines extending in the column direction, second upper conductive lines extending in the row direction, and the first lower conductive lines and the second upper conductive lines A digitizer comprising second contacts for coupling.
청구항 7에 있어서, 상기 기재층 상에 형성된 층간 절연층을 더 포함하고,
상기 제1 하부 도전 라인들 및 상기 제2 하부 도전 라인들은 상기 트레이스들과 함께 상기 기재층의 상면 상에 배치되고,
상기 층간 절연층은 상기 기재층의 상기 상면 상에 형성되어 상기 제1 하부 도전 라인들, 상기 제2 하부 도전 라인들 및 상기 트레이스들을 덮고,
상기 제1 상부 도전 라인들 및 상기 제2 상부 도전 라인들은 상기 층간 절연층의 상면 상에 배치된, 디지타이저.
The method according to claim 7, further comprising an interlayer insulating layer formed on the base layer,
The first lower conductive lines and the second lower conductive lines are disposed on the upper surface of the base layer together with the traces;
The interlayer insulating layer is formed on the upper surface of the base layer to cover the first lower conductive lines, the second lower conductive lines, and the traces;
and the first upper conductive lines and the second upper conductive lines are disposed on a top surface of the interlayer insulating layer.
청구항 8에 있어서, 상기 트레이스들 중 상기 행 방향으로 인접하게 배치된 트레이스들에 의해 트레이스 그룹이 정의되며,
복수의 상기 트레이스 그룹들이 상기 행 방향을 따라 이격되어 배열된, 디지타이저.
The method according to claim 8, wherein a trace group is defined by the traces arranged adjacently in the row direction among the traces,
and a plurality of the trace groups are arranged to be spaced apart along the row direction.
청구항 9에 있어서, 상기 기재층의 상면 상에서 상기 트레이스 그룹들 사이에 배치되며 상기 트레이스들과 분리된 제1 더미 패턴을 더 포함하는, 디지타이저.The digitizer of claim 9 , further comprising a first dummy pattern disposed between the trace groups on the upper surface of the base layer and separated from the traces. 청구항 8에 있어서, 상기 열 방향을 따라 복수의 상기 제1 도전 코일들이 배열되고, 상기 행 방향을 따라 복수의 상기 제2 도전 코일들이 배열되며,
평면 방향에서 서로 교차하는 상기 제1 도전 코일들 및 상기 제2 도전 코일들에 의해 격자 공간들이 정의되는, 디지타이저.
The method according to claim 8, wherein a plurality of the first conductive coils are arranged along the column direction, and a plurality of the second conductive coils are arranged along the row direction,
A digitizer, wherein lattice spaces are defined by the first conductive coils and the second conductive coils intersecting each other in a planar direction.
청구항 11에 있어서, 상기 기재층의 상기 상면 상에서 상기 격자 공간들 내에 배치된 제2 더미 패턴들을 더 포함하는, 디지타이저.The digitizer of claim 11 , further comprising second dummy patterns disposed in the lattice spaces on the upper surface of the base layer. 청구항 8에 있어서, 상기 제1 하부 도전 라인들의 두께는 상기 제1 상부 도전 라인들의 두께보다 큰, 디지타이저.The digitizer of claim 8 , wherein a thickness of the first lower conductive lines is greater than a thickness of the first upper conductive lines. 청구항 13에 있어서, 상기 기재층은 중앙부에 벤딩 영역을 포함하는, 디지타이저.The digitizer of claim 13 , wherein the base layer includes a bending region in a central portion. 청구항 14에 있어서, 상기 벤딩 영역의 벤딩 축은 상기 제1 상부 도전 라인들과 교차하며, 상기 제1 하부 도전 라인들과 평행한, 디지타이저.The digitizer of claim 14 , wherein a bending axis of the bending region intersects the first upper conductive lines and is parallel to the first lower conductive lines. 표시 패널; 및
상기 표시 패널 아래에 배치된 청구항 1에 따른 디지타이저를 포함하는, 화상 표시 장치.
display panel; and
An image display device comprising the digitizer according to claim 1 disposed below the display panel.
청구항 16에 있어서, 상기 표시 패널 위에 배치된 터치 센서를 더 포함하는, 화상 표시 장치.The image display device of claim 16 , further comprising a touch sensor disposed on the display panel. 청구항 17에 있어서, 리어 커버 및 윈도우 기판을 더 포함하고,
상기 터치 센서는 상기 윈도우 기판 및 상기 표시 패널 사이에 배치되며, 상기 디지타이저는 상기 표시 패널 및 상기 리어 커버 사이에 배치된, 화상 표시 장치.
The method according to claim 17, further comprising a rear cover and a window substrate,
The touch sensor is disposed between the window substrate and the display panel, and the digitizer is disposed between the display panel and the rear cover.
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