KR102324290B1 - 실크 스크린의 메쉬 패턴을 활용한 난반사 유리 기판 및 이의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 난반사 유리 기판 및 이의 제조방법에 대한 것으로, 유리 기판에 실크 스크린 마스크 등 기판을 관통하는 홀이 있는 미세 메쉬 패턴을 마스크로 사용하여 감광제 박막 패턴을 만든다. 이후 식각 공정을 통해 유리, 금속, 고분자 등 임의의 기판에 마스크 패턴을 전사하는 기술로 제조한 난반사 기판과 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의해 개발된 난반사 기판 표면에서는 원하는 다양한 규칙적인 패터닝에 의한 난반사 기능을 구현할 수 있다. 이는 매우 불규칙한 크기로 존재하는 소재 표면의 바운더리 식각 공정을 이용한 기술이나 미세 입자를 마스크로 사용하는 종래의 난반사 유리 제조 기법과는 확연히 구별되는 것으로 매우 창의적이며 진보적이다. 본 발명을 통해 앞으로 더욱 다양한 종류의 규칙적 패턴을 이용한 난반사 기판들을 편리하며, 보다 환경 친화적으로 만들 수 있을 것으로 판단한다. 또한, 대면적 자동화에 기반한 품질 제어에 더욱 효율적으로 대처할 수 있어 난반사 기판 제조 효율 향상에 크게 기여할 수 있을 것으로 예상한다.

Description

실크 스크린의 메쉬 패턴을 활용한 난반사 유리 기판 및 이의 제조방법{Anti-glare glass using silk screen mesh patterns and manufacturing method thereof}

본 발명은 난반사 유리 기판 및 이의 제조방법에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 실크 스크린 그 자체를 마스크 소재로 활용하여 유리 기판 위에 감광제 박막 패턴을 만들고, 이후 식각 공정을 통해 그 유리 기판에 마스크 패턴을 전사 하는 기술로 제작된 규칙적인 난반사 패턴을 가지는 난반사 유리기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

난반사 유리(Anti-Glare Glass) 기판은 전자 칠판, 전광판 디스플레이, 키오스크 등의 제품에서 입사하는 빛의 반사를 줄이는 창으로 사용되는 특수 유리이다. 불규칙 패턴의 습식 식각을 이용하여 난반사 유리를 제조하는 기술은 이미 미국 특허 US 4,944,986, US 5,120,605, US 6,929,861 등에 자세히 설명되어 있다.

그 기술을 설명하면 일반적으로 특수하게 제작된 소다 라임 유리를 표면 세척한 후에 불산 혼합물이 포함되어 있는 용액에 담그거나, 불산 혼합물 수용액을 스프레이로 뿌려서 비결정질인 유리 소재 표면에 다양한 크기로 존재하는 소재의 미세 경계면(바운더리)를 선택적으로 식각하게 된다. 그렇게 되면 선결함이 밀집되어 있는 경계면이 비정질 유리 표면보다 더 빨리 반응하여 결과적으로 더 깊이, 더 많이 식각된다.

그 결과로서 입사 광선이 경계면에 입사되면 매우 불규칙적인 경계면에서의 빛의 불규칙 반사, 또는 난반사가 이루어진다. 이 원리를 이용하여 입사광의 반사도를 줄이게 만든 유리를 정현 유리 또는 난반사 유리(anti-glare glass)라고 한다. 또 다른 난반사 유리 제조방법은 미세입자를 도포하여 마스크로 활용하여 습식식각을 하는 방법으로 미국 특허 출원 Pub.No.:US2007/0195419에 자세히 설명되어 있다.

그러나, 종래의 경우를 따르면, HF, NH₄F 등을 혼합하여 유리의 바운더리만을 선택적으로 식각하는 방법을 사용함으로써, 난반사 유리 특성은 해당 유리가 고유하게 가지고 있는 바운더리의 크기와 모양에 크게 의존하게 된다. 이에 따라 습식 공정 시간도 많이 필요할 수 있으며, 유리도 바운더리 특성에 맞는 특정 유리로 한정되어 비교적 가격이 높고 공정도 매우 예민하며 불편할 수 있다.

또한, 기존의 불산 혼합물로 식각된 유리의 바운더리는 매우 불규칙적이고 미세 결함의 밀도가 바운더리에 집중되어 행여 세척이 부족하여 약간의 오염물질이라도 잔류하게 되면 반응에 필요한 에너지가 매우 낮은 미세한 바운더리에 영향을 주어 난반사 유리 표면 상태의 화학적 반응에 의해 제품 불량의 주된 원인이 되어왔다.

또한, 이와 같은 미세 입자의 도포 후 습식식각 기술은 대면적 유리에 적용하기에는 쉽지 않은 기술로, 기판 식각의 균일도를 중요시하는 경우에는 많은 기술적 한계점을 가지고 있다.

미국 특허 US 4,944,986호

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 개발된 것으로, 불규칙한 바운더리 식각이나 미세 입자 마스크를 사용하는 기술로는 불가능했던 규칙적인 패턴 식각을 통한 난반사 유리 기판 및 이의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

또한, 불규칙한 크기의 경계면 식각 기술이 아닌, 제조자가 원하는 임의의 크기와 모양을 가진 규칙적인 미세 패터닝을 가지는 난반사 기판 및 이의 제조방법을 제공하고자 하는 것이다.

이와 같은 본 발명을 이용하면 당 업자는 여기서 예로서 설명하는 기판 뿐만 아니라, 단순히 기판을 바꾸어 고분자 기판, 금속 기판 등 입사광을 반사하는 어떤 기판도 난반사 기판으로 쉽게 만들 수 있다는 것을 밝혀둔다.

또한, 본 발명에 의해 개발된 난반사 유리 표면에서는 원하는 다양한 규칙적인 패터닝에 의한 난반사 기능을 구현할 수 있어 종래의 크기가 매우 불규칙적으로 존재하는 바운더리 식각 공정 기반의 난반사 유리 제조 기법과는 확연히 구별할 수 있으며, 본 발명을 통해 앞으로는 더욱 다양한 종류의 패턴을 가지는 난반사 유리 기판 뿐만 아니라 다양한 소재의 난반사 기판들을 편리하게 만들 수 있어 난반사 기판 제조 산업 발전에 크게 기여할 수 있을 것으로 예상한다.

앞에 언급한 불규칙적인 바운더리 식각이나 미세입자 도포에 의한 난반사 유리 제조방법의 문제들을 해결하기 위해서, 본 발명에서는 매우 독창적 관점에서 규칙적인 미세 패턴을 이용한 난반사 기판 및 이의 제조방법을 개발하였다.

본 발명에서는 외부로부터 입사하는 빛의 난반사를 위한 유리 기판에 있어서, 미세 메쉬 패턴이 형성된 실크 스크린 그 자체를 마스크로 사용하여 상기 기판의 일면 또는 양면에 모양, 크기 또는 배열이 규칙적으로 나타나는 난반사 패턴이 형성되며, 상기 난반사 패턴은 상기 마스크의 미세 메쉬 패턴의 모양이나 크기를 제어함으로써, 다양한 광학적 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 난반사 유리 기판이 제공된다.

상기 난반사 패턴은 상기 기판의 일면 또는 양면에 양각 또는 음각으로 형성될 수 있다.

여기서, 상기 난반사 패턴은 다각형의 조합으로 이루어지며, 단위 셀의 중앙부에 형성되는 중심패턴을 중심으로 그 주변에 일정한 형태의 다각형이 연속적으로 반복되게 형성되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 기판은 주로 입사하는 빛의 반사가 가능한 유리 기판을 중심으로 설명하지만 고분자 기판 또는 금속 기판 중 어느 하나로도 이루어질 수 있다.

한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에서는 부분적으로 빛이 통하는 미세 메쉬 패턴이 규칙적으로 형성되어 있는 마스크를 준비하는 마스크 준비단계와, 상기 마스크가 준비되면 난반사 기판을 만들고자 하는 기판에 감광제를 얇게 도포하여 감광제 박막을 형성하는 감광막 형성단계와, 상기 마스크를 감광제가 도포되어 있는 기판에 접촉한 후 자외선을 노광하는 노광단계와, 노광 후 현상액을 이용하여 기판 위에 있는 감광제를 선택적으로 제거함으로서 기판 위에 규칙적인 감광막 미세 패턴을 형성하는 현상단계와, 상기 감광막 미세 패턴이 있는 기판을 식각처리하여 기판 위에 규칙적인 미세 패턴을 전사하는 식각단계와, 상기 미세 패턴이 전사된 기판에 남아 있는 감광막을 제거하는 감광막 제거단계와, 감광막이 제거된 기판을 증류수로 세정하여 기판의 표면에 규칙적인 난반사 패턴이 형성되는 단계를 포함하는 난반사 유리 기판 제조방법이 제공된다.

여기서, 상기 마스크는 유리 마스크, 석영 마스크, 고분자 마스크, 금속 마스크, 세라믹 스크린, 실크 스크린 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.

여기서 상기 금속이나 실크 스크린 마스크의 미세 메쉬 패턴은 30 내지 600목의 크기를 가진 메쉬를 사용하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 식각단계에서는, 상기 감광막 미세 패턴이 있는 기판을 식각액에 일정 시간 담그는 딥 식각(Dip Etching), 스프레이 방식으로 화학약품을 사용하는 습식 식각 또는 식각 가스, 플라즈마, 이온빔을 사용하는 건식 식각 중 어느 하나의 방식을 이용할 수 있다.

한편, 상기 감광막 형성단계에서는 스핀 코팅, 롤 코팅, 바 코팅, 딥 코팅을 포함하는 감광제 도포 방식을 이용하거나, 감광제 박막을 기판에 접합하여 감광제 박막을 형성하는 감광제 접합 방식을 이용할 수 있다.

상기와 같은 본 발명에 의하면, 불규칙한 바운더리 식각이나 미세 입자 마스크를 사용하는 기술로는 불가능했던 규칙적인 난반사 패턴을 유리 기판에 형성할 수 있는 효과가 있다.

또한, 불규칙한 크기의 경계면 식각 기술이 아닌, 제조자가 원하는 임의의 크기와 모양을 가진 규칙적인 미세 패터닝을 가지는 난반사 유리 기판을 제조할 수 있다.

또한, 유리 기판 뿐 아니라 고분자 기판, 금속 기판 등 입사광을 반사하는 어떤 재질의 기판도 난반사 기판으로 쉽게 만들 수 있다.

또한, 본 발명에 의해 개발된 난반사 유리 표면에서는 원하는 다양한 규칙적인 패터닝에 의한 난반사 기능을 구현할 수 있어 종래의 크기가 매우 불규칙적으로 존재하는 바운더리 식각 공정 기반의 난반사 유리 제조 기법과는 확연히 구별할 수 있으며, 본 발명을 통해 앞으로는 더욱 다양한 종류의 패턴을 가지는 난반사 기판 뿐만 아니라 다양한 난반사 기판들을 편리하게 만들 수 있어 난반사 기판 제조 산업 발전에 크게 기여할 수 있을 것으로 예상한다.

본 발명의 관점은 임의의 유리 기판에 난반사 기능을 제공하는데 있어 1) 미세한 메쉬 패턴을 가진 실크 스크린을 패턴 마스크로 사용하고 2) 그 패턴이 전사되었을 때의 패턴의 깊이와 모양, 크기의 최적화 조합에 의해 난반사 기능을 부여한다는 특징이 있다. 따라서 종래의 일반적인 반도체 제조용 패터닝에 주로 사용하는 유리나 석영 마스크와도 소재나 응용적으로 사용하는 마스크 종류가 완전히 다른 실크 스크린 마스크를 사용한다는 특징을 가지고 있다. 또한 실크 스크린 그 자체에 어떤 추가적인 패턴을 제작하지 않고 사용한다는 측면에서 전자회로 기판 등의 패턴에 사용하는 실크 스크린 기반 감광제 마스크와도 그 활용 방법이 확연히 구별된다.

도 1은 본 발명에 따른 난반사 유리 기판 제조방법의 실시예를 나타내는 공정도이다.
도 2는 본 발명에 따른 난반사 기판의 제조방법을 나타내는 순서도이다.
도 3은 종래의 바운더리 식각 기술을 이용하여 제작한 난반사 유리 표면의 사진이다.
도 4는 본 발명에 의해 실크 스크린 마스크 미세 패턴의 식각 전사 기술을 이용하여 제조된 난반사 유리의 표면 사진이다 (250목 스크린 마스크 사용).

구체 예에 있어서, 본 발명의 제품 및 본 발명의 제조, 사용 방법은 이하 논의된 바와 같은 실시 예를 포함하는 하나 이상의 바람직한 특성 또는 관점을 제공한다. 청구항 중 어느 것에 인용된 특성 또는 관점은 본 발명의 모든 양상에 일반적으로 적용 가능하다. 어떤 한 청구항에서 인용된 단일 또는 다중 특성 또는 관점은 어떤 다른 청구항, 또는 청구항들에서 어떤 다른 인용된 특성 또는 관점과 조합으로 변경될 수 있다. 난반사 기판과 이를 제조하는 방법 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용은 실시 예를 들어 설명한다.

본 발명은 앞에 언급한 불규칙적인 바운더리 식각이나 미세입자 도포에 의한 난반사 유리 제조방법의 문제들을 해결하기 위해서, 매우 독창적 관점에서 규칙적인 미세 패턴을 이용한 난반사 유리 기판 제조방법을 제안한다.

도 1은 본 발명에 따른 난반사 유리 기판 제조방법의 실시예를 나타내는 공정도이고, 도 2는 본 발명에 따른 난반사 기판의 제조방법을 나타내는 순서도로서, 본 발명의 난반사 유리 기판 제조방법은 크게, 마스크 준비단계(S110), 감광막 형성단계(S120), 노광단계(S130), 현상단계(S140), 식각단계(S150), 감광막 제거단계(S160), 난반사 패턴 형성단계(S170)로 진행된다.

본 발명의 난반사용 미세 패턴 형성을 위해, 상기 마스크 준비단계(S110)에서는 부분적으로 빛이 통하는 미세 메쉬 패턴(12)이 규칙적으로 형성되어 있는 마스크(10)를 준비한다(도 1의 (a)).

여기서, 상기 마스크(10)는 반도체 제조에 사용되는 석영 마스크, 유리 마스크, 고분자 마스크, 금속 마스크, 세라믹 스크린, 실크 스크린 등이 사용될 수 있다.

구체적으로, 상기 마스크(10)의 미세 패턴(12)은 반도체 제조에 사용되는 석영 마스크, 유리 마스크, 필름 마스크에 패턴을 제작해서 사용할 수 있다. 그러나 본 발명에서는 석영 마스크 등 고가의 공정 비용이 필요없이, 이미 상용화되어 있으며 빛의 차폐가 가능한 미세 패턴을 가지고 있는 실크 스크린 메쉬를 사용하였다.

본 발명의 관점은 임의의 유리 기판에 난반사 기능을 제공하는데 있어 미세한 메쉬 패턴을 가진 실크 스크린을 패턴 마스크로 사용하고, 그 패턴이 전사되었을 때의 패턴의 깊이와 모양, 크기의 최적화 조합에 의해 난반사 기능을 부여한다는 특징이 있다.

따라서 종래의 일반적인 반도체 제조용 패터닝에 주로 사용하는 유리나 석영 마스크와 소재나 응용적으로 사용하는 마스크 종류가 완전히 다른 실크 스크린 마스크를 사용한다는 특징을 가지고 있으며, 실크 스크린 그 자체에 어떤 추가적인 패턴을 제작하지 않고 사용한다는 측면에서 전자회로 기판 등의 패턴에 사용하는 실크 스크린 기반 감광제 마스크와도 그 활용 방법이 확연히 구별된다.

여기서, 상기 마스크(10)의 미세 메쉬 패턴(12)은 30 내지 600목의 크기를 가진 메쉬를 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 세밀하게는 100 내지 400목의 크기를 가진 메쉬나 패턴을 사용한 마스크를 이용하는 것도 가능하다.

상기 마스크(10)가 준비되면 난반사 기판을 만들고자 하는 기판(20)에 감광제를 얇게 도포하여 감광제 박막(30)을 형성한다(도 1의 (c)).

본 발명에서 상기 기판(20)은 입사하는 빛의 반사가 가능한 유리 기판, 고분자 기판 또는 금속 기판 중 어느 하나로 이루어질 수 있으며, 본 발명의 실시예에서는 유리 기판을 예로 들어 설명하기로 한다.

상기 감광막(30)을 형성하는 단계에서는 스핀 코팅, 롤 코팅, 바 코팅, 딥 코팅을 포함하는 감광제 도포 방식을 이용하거나, 감광제 박막을 기판에 접합하여 감광제 박막을 형성하는 감광제 접합 방식을 이용할 수 있다.

이후, 상기 마스크(10)를 감광제가 도포되어 있는 기판에 접촉한 후 자외선을 조사하는 노광단계를 진행한다(도 1의 (d)).

상기 마스크(10)를 통해 자외선을 조사하면, 마스크(10)의 미세 스크린 메쉬 패턴(12)을 통과한 광이 감광막(30)에 닿아 선택적으로 노광한다.

노광 후 현상액을 이용하여 기판 위에 있는 감광제를 선택적으로 제거함으로서 기판(20) 위에 규칙적인 감광막 미세 패턴(32)을 형성한다(도 1의 (e)).

이와 같은 현상단계를 통해 노광단계에서 노광되거나 혹은 노광되지 않은 부분을 잔류시켜 유리 기판 위에 일정한 미세 패턴을 가지는 감광제 박막을 제작하는 것이다.

이후, 상기 감광막 미세 패턴(32)이 있는 기판(20)을 식각처리하여 기판 위에 규칙적인 미세 패턴(22)을 전사하는 식각단계를 진행한다(도 1의 (f)).

상기 식각단계에서는, 상기 감광막 미세 패턴(32)이 있는 기판(20)을 식각액(40)에 일정 시간 담그는 딥 식각(Dip Etching), 스프레이 방식으로 화학약품을 사용하는 습식 식각 또는 식각 가스, 플라즈마, 이온빔을 사용하는 건식 식각 중 어느 하나의 방식을 이용할 수 있다.

상기 식각액(40)은 예를 들어, Buffered Oxide Etching Solution 등의 유리 식각액이 사용될 수 있으며, 상기와 같은 유리 식각액에 일정 시간 담근 후에 증류수로 세척한다. 이와 같이 식각액에 담그는 식각단계를 통해 상기 기판(20)의 표면에 미세 패턴(22)을 규칙적으로 전사할 수 있는 것이다.

상기 미세 패턴이 전사된 기판(20)에 남아 있는 감광막을 아세톤을 이용하여 제거한 후, 감광막이 제거된 기판을 증류수로 세정한다.

이 각각의 공정을 순서대로 거치게 되면 최종적으로 스크린 메쉬가 가지고 있는 일정한 미세 패턴이 유리 기판 표면에 식각을 통해 만들어진다. 이때 만들어지는 패턴의 크기나 모양을 제어함으로서 다양한 광학적 특성을 가지는 난반사 유리를 편리하게 제조할 수 있다.

본 발명을 통해 개발된 공정 기술에서 사용하는 유리 식각액은 종래의 불규칙적인 바운더리 식각에 의한 난반사 유리 제조 기술에서 사용하는 혼합 식각액 보다 더욱 안전하며, 환경 친화적이다. 또한, 제조된 난반사 유리 기판도 매우 규칙적인 패턴을 가지고 있어, 난반사 불량 검사 장비의 자동화가 가능하며 품질 제어에 더욱 효율적으로 대처할 수 있다.

이와 같은 제조방법에 의해 제조된 난반사 기판은 도 4에 도시한 바와 같이, 기판(20)의 표면에 모양, 크기 또는 배열이 규칙적으로 나타나는 난반사 패턴(22)이 형성된다. 상기 패턴(22)은 상기 기판의 일면 또는 양면에 양각 또는 음각으로 형성될 수 있다.

여기서, 상기 난반사 패턴(22)은 다각형의 조합으로 이루어질 수 있다.

도 4에서 보는 바와 같이, 상기 유리 위의 난반사 패턴(22)은 단위 셀의 중앙부에 형성되는 중심패턴을 중심으로 그 주변에 일정한 형태의 다각형이 연속적으로 반복되게 형성될 수 있다.

상기 난반사 유리 패턴은 상기 마스크의 미세 메쉬 패턴의 모양이나 크기를 제어함으로써, 조절이 가능하다. 즉, 상기 마스크의 미세 메쉬 패턴의 모양을 정사각형으로 하는 경우, 상기 난반사 패턴의 중심패턴이 정사각형으로 형성되며, 그 주변으로 작은 형태의 다각형이 연속적이면서 규칙적으로 배열될 수 있다.

따라서, 본 발명에서는 상기 패턴의 모양이나 크기 등을 제어함으로써, 다양한 광학적 특성을 가지는 난반사 유리 기판을 제조할 수 있다.

[실시예]

본 발명에 의한 규칙적 마스크 패턴에 의한 난반사 유리 제조공정은 도 1에 도시한 바와 같이, 미세 메쉬 패턴(12)이 형성된 마스크(10)를 준비한다. 본 실시예에서는 250 또는 300 목의 실크 스크린을 100x100㎟의 크기로 재단하여 마스크로 준비하였다.

이후, 소다 라임 기판에 감광제(제품 명: QX601)을 스핀코팅을 통해 3,000 rpm에서 1㎛ 두께로 증착하였다. 이후 실크 스크린 마스크를 감광제가 도포된 기판에 올려, 접촉한 후 자외선을 5분간 수직으로 조사하였다. 이후, 처리된 기판을 감광제 현상액(제품 명: AZ 400)에 15초간 담그어 노광된 감광제 박막 부분을 제거하여 감광제 미세 패턴을 유리 위에 제작하였다.

이 기판을 식각 용액(Buffered Oxide Etching Solution)에 약 10초간 담그어 유리 표면 식각을 통해 미세 패턴을 제작하였다. 유리 식각 후에 증류수로 세정한 후 아세톤으로 남아 있는 감광제 박막을 제거하였다.

최종적으로 증류수로 마지막 세정을 하여 난반사 유리 기판 제작을 완료 하였다.

<결과 분석>

도 3은 종래의 바운더리 식각 기술을 이용하여 제작한 난반사 유리 표면의 사진이고, 도 4는 본 발명에 의해 실크 스크린 마스크 미세 패턴의 식각 전사 기술을 이용하여 제조된 난반사 유리의 표면 사진이다(250목 스크린 마스크 사용)

이를 비교하면, 두 개의 공정 결과 차이를 확실하게 이해할 수 있다.

본 발명을 통해 제작된 실크 스크린 미세 패턴 난반사 유리의 특성의 한 예를 표 1에 정리하였다.

[표 1] 본 발명을 통해 제작된 실크 스크린 미세 패턴 난반사 유리의 특성

샘플번호	스크린 크기(목)	틴트	투과율 (400-700 nm) (%)	Gloss (60도 기준)
1	110	89.5	86.68	149.0
2	180	78.8	80.07	91.2
3	250	77.7	72.60	71.7
4	300	93.5	85.69	33.4

본 발명에 의해 개발된 난반사 유리 표면에서는 원하는 다양한 규칙적인 패터닝에 의한 난반사 기능을 구현할 수 있어 종래의 크기가 매우 불규칙적으로 존재하는 바운더리 식각 공정 기반의 난반사 유리 제조 기법과는 확연히 구별할 수 있으며, 본 발명을 통해 앞으로는 더욱 다양한 종류의 패턴을 가지는 난반사 기판 뿐만 아니라 다양한 난반사 기판들을 편리하게 만들 수 있어 난반사 기판 제조 산업 발전에 크게 기여할 수 있을 것으로 예상한다.

10: 마스크 12: 미세 메쉬 패턴
20: 기판 22: 난반사 패턴
30: 감광제 박막 32: 감광막 미세 패턴
40: 식각액

Claims (7)

1. 삭제
2. 삭제
3. 삭제
4. 부분적으로 빛이 통하는 미세 메쉬 패턴이 규칙적으로 형성되어 있는 실크 스크린 마스크를 준비하는 마스크 준비단계;
   상기 마스크가 준비되면 난반사 유리 기판을 만들고자 하는 기판에 감광제를 얇게 도포하여 감광제 박막을 형성하는 감광막 형성단계;
   상기 마스크를 감광제가 도포되어 있는 기판에 접촉한 후 자외선을 5분 동안 노광하는 노광단계;
   노광 후 현상액을 이용하여 기판 위에 있는 감광제를 선택적으로 제거함으로서 기판 위에 규칙적인 감광막 미세 패턴을 형성하는 현상단계;
   상기 감광막 미세 패턴이 있는 기판을 식각액에 일정 시간 담그는 딥 식각(Dip Etching), 스프레이 방식으로 화학약품을 사용하는 습식 식각 또는 식각 가스, 플라즈마, 이온빔을 사용하는 건식 식각 중 어느 하나의 방식을 이용하여 상기 감광막 미세 패턴이 있는 기판을 식각처리하여 기판 위에 마스크의 규칙적인 미세 패턴을 전사하는 식각단계;
   상기 미세 패턴이 전사된 유리 기판에 남아 있는 감광막을 제거하는 감광막 제거단계; 및
   감광막이 제거된 기판을 증류수로 세정하여 기판의 표면에 규칙적인 난반사 패턴이 형성되는 단계;
   를 포함하며,
   상기 난반사 패턴은 다각형의 조합으로 이루어지며, 단위 셀의 중앙부에 형성되는 중심패턴과, 상기 중심패턴을 중심으로 그 주변에 일정한 형태의 다각형이 연속적으로 반복되게 형성되는 것을 특징으로 하고,
   상기 마스크의 미세 메쉬 패턴은 30 내지 600목의 크기를 가진 메쉬를 사용하는 것을 특징으로 하며,
   상기 감광막 형성단계에서는 스핀 코팅, 롤 코팅, 바 코팅, 딥 코팅을 포함하는 감광제 도포 방식을 이용하거나, 감광제 박막을 기판에 접합하여 감광제 박막을 형성하는 감광제 접합 방식을 이용하는 것을 특징으로 하며,
   상기 중심패턴은 가로와 세로가 각각 25.89㎛, 27.68㎛ 인 것을 특징으로 하고, 상기 다각형의 가로와 세로가 각각 14.64㎛, 5.24㎛ 인 것을 특징으로 하며,
   상기 식각단계에서 사용되는 식각액은 Buffered Oxide Etching Solution이 포함된 유리 식각액에 10초 동안 식각단계를 수행하는 것을 특징으로 하며,
   상기 감광제를 스핀코팅에 의해 3,000 rpm에서 1㎛ 두께로 증착하는 것을 특징으로 하고,
   상기 감광막 제거단계에서는 감광제 현상액에 15초 동안 담그어 노광된 감광제 박막 부분을 제거하는 것을 특징으로 하는, 난반사 유리 기판 제조방법.
5. 삭제
6. 삭제
7. 삭제

Images