KR102302588B1 - Probe card for calibrating contact position, probe test apparatus, method for setting the probe card and method aligning the probe test apparatus using the probe card for calibration contact position - Google Patents
Probe card for calibrating contact position, probe test apparatus, method for setting the probe card and method aligning the probe test apparatus using the probe card for calibration contact position Download PDFInfo
- Publication number
- KR102302588B1 KR102302588B1 KR1020140112343A KR20140112343A KR102302588B1 KR 102302588 B1 KR102302588 B1 KR 102302588B1 KR 1020140112343 A KR1020140112343 A KR 1020140112343A KR 20140112343 A KR20140112343 A KR 20140112343A KR 102302588 B1 KR102302588 B1 KR 102302588B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- needle
- probe card
- wafer
- needle pin
- probe
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06733—Geometry aspects
- G01R1/0675—Needle-like
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07342—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being at an angle other than perpendicular to test object, e.g. probe card
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07364—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch
- G01R1/07371—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch using an intermediate card or back card with apertures through which the probes pass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07364—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch
- G01R1/07378—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch using an intermediate adapter, e.g. space transformers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2891—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geometry (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
본 기술에 따른 보정용 프로브 카드는 프로브 카드 PCB와, 상기 프로브 카드 PCB에 설치되는 복수 개의 프로브 니들을 포함하고, 상기 복수 개의 프로브 니들은 위치 보정 가능하게 마련된 제1니들핀과, 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 제2니들핀 및 및 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되며, 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 제3니들핀을 포함할 수 있다.A probe card for calibration according to the present technology includes a probe card PCB and a plurality of probe needles installed on the probe card PCB, wherein the plurality of probe needles include a first needle pin provided to enable position correction, and the first needle pin A second needle pin is spaced apart from each other by a predetermined interval to be a reference point when the position of the first needle pin is corrected, and the first needle pin is spaced apart from the first needle pin by a predetermined interval, and when the position of the first needle pin is corrected, the second needle pin is the reference point. It may include a third needle pin aligned with the position correcting the first needle pin.
Description
본 발명은 반도체 기판에 형성된 각각의 다이에 대한 전기적 특성을 검사하는 프로브 테스트 공정 시 사용되는 프로브 테스트 장치 및 프로브 테스트 장치의 얼라인 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a probe test apparatus used in a probe test process for inspecting electrical characteristics of each die formed on a semiconductor substrate, and a method for aligning the probe test apparatus.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 기판으로 사용되는 실리콘 웨이퍼 상에 소정의 막을 형성하고, 상기 막을 전기적 특성을 갖는 패턴으로 형성하는 팹(Fab) 공정, 패턴이 형성된 각각의 다이(Die)를 전기적으로 검사하는 프로브 테스트(Probe test) 공정, 각각의 다이를 커팅하는 커팅 공정, 커팅 공정에 의해 분할된 반도체 기판에 금 또는 알루미늄 선을 용접하는 본딩(Bonding) 공정, 본딩 공정이 종료된 반도체 기판을 세라믹 또는 플라스틱으로 봉인하는 패키징 공정을 통해 제조된다.In general, a semiconductor device forms a predetermined film on a silicon wafer used as a semiconductor substrate, a Fab process for forming the film in a pattern having electrical characteristics, and electrically inspects each die on which the pattern is formed. A probe test process, a cutting process for cutting each die, a bonding process for welding gold or aluminum wires to the semiconductor substrate divided by the cutting process, and a ceramic or plastic substrate after the bonding process It is manufactured through a packaging process that is sealed with
상기의 공정 중 프로브 테스트 공정은 반도체 기판에 형성된 각각의 다이에 대한 전기적 특성을 검사하는 공정으로서, EDS(Electric Die Sorting) 공정이라고도 불린다. 다시 말하면, 프로브 테스트 공정은 반도체 기판에 형성된 각각의 다이들이 전기적으로 양호한 상태 또는 불량한 상태인가를 판별하는 공정이다. 이는 프로브 테스트 공정을 통하여 불량한 상태를 갖는 다이를 패키징 공정을 수행하기 이전에 제거함으로서 패키징 공정에서 소모되는 노력 및 비용을 절감하기 위함이고, 상기 불량한 상태를 갖는 다이를 조기에 발견하고 재생하기 위함이다.Among the above processes, the probe test process is a process of inspecting electrical characteristics of each die formed on the semiconductor substrate, and is also called an EDS (Electric Die Sorting) process. In other words, the probe test process is a process of determining whether each die formed on the semiconductor substrate is in an electrically good or bad state. This is to reduce the effort and cost consumed in the packaging process by removing the die having a bad state through the probe test process before performing the packaging process, and to find and regenerate the die having the bad state at an early stage. .
상기와 같은 프로브 테스트 공정이 수행되는 프로브 테스트 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 테스트 대상인 웨이퍼(W)의 각 다이(미도시)를 테스트하기 위한 소정 전기 신호(테스트 신호)를 발생시키고 발생된 신호를 각 다이로 전달하는 테스터(Tester)(10)와, 테스터(10)가 웨이퍼(W)의 각 다이를 테스트할 수 있도록 웨이퍼(W)를 고정하는 웨이퍼 척(21)과 이 웨이퍼 척(21)을 테스트 위치로 위치 정렬시키는 척 이송장치(22)를 포함하는 프로버(Prober)(20)와, 테스터(10)에서 발생된 신호가 웨이퍼(W)의 각 다이에 전달되도록 중간 매개체 역할을 하는 프로브 카드(Probe card)(30)를 포함할 수 있다. As shown in FIG. 1 , the probe test apparatus in which the probe test process is performed as described above generates a predetermined electrical signal (test signal) for testing each die (not shown) of the wafer W as a test target, and generates the generated
여기서, 프로버(20)는 프로브 카드(30)를 테스트 위치로 위치 정렬시키는 프로브 카드 얼라인장치(23)를 더 포함할 수 있다. 그리고 웨이퍼(W)의 각 다이에는 패드들(미도시)이 형성되고, 프로브 카드(30)는 테스트 시 각 다이의 패드들에 접촉되는 복수 개의 프로브 니들(Probe needle)(33)을 포함할 수 있다.
Here, the
한편, 상기와 같은 구성을 갖는 프로브 테스트 장치를 이용하여 프로브 테스트를 실행하기 위해서는 웨이퍼(W) 및 프로브 카드(30)를 테스트 위치에 정렬시키는 것이 중요하다.Meanwhile, it is important to align the wafer W and the
이는 웨이퍼(W) 및 프로브 카드(30)가 테스트 위치에 위치 정렬되지 않을 경우 프로브 카드(30)의 프로브 니들(33)이 웨이퍼(W)의 각 다이의 패드의 정위치에 접촉되지 않아 각 다이가 불량 상태로 판정되는 것을 미연에 방지하기 위함이다. 여기서, 프로브 니들(33)이 각 다이의 패드에 접촉되는 정위치는 각 패드의 센터일 수 있다.This is because when the wafer W and the
따라서, 프로브 테스트를 실행하기 위해서는 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 제대로 위치 정렬이 되었는지에 대해 판단하고, 판단결과를 토대로 프로브 카드(30) 또는 웨이퍼(W)가 안착된 웨이퍼 척(21)의 위치를 조정하는 과정이 필요하다.
Therefore, in order to perform the probe test, it is determined whether the
도 2 및 도 3을 참고하여 종래의 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 위치 정렬되었는지 판단하는 과정을 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 2 및 도 3에서는 웨이퍼의 각 패드의 크기를 이해의 편의를 위해 과장하여 도시하였다.A process of determining whether the
도 2를 참고하면, 웨이퍼(W)의 일측 가장자리 부근에 설치된 다이의 패드(P1)와 이에 대응되는 어느 하나의 프로브 카드(30)의 프로브 니들(33, 도 1 참조)을 접촉시킨다. Referring to FIG. 2 , the pad P1 of the die installed near the edge of one side of the wafer W is brought into contact with the probe needle 33 (refer to FIG. 1 ) of any one of the
이후 프로브 카드(30)가 고정된 상태에서 웨이퍼 척(21)을 일측 방향으로 소정 거리만큼 이동시킨 후 상기의 프로브 니들(33)과 앞선 과정에서 접촉된 패드로부터 소정 거리 이격되어 있는 패드를 접촉시키는 과정을 반복한다. 여기서 웨이퍼 척(21)의 이동은 프로브 니들(33)과 웨이퍼의 접촉을 해제한 상태에서 이루어진다.After moving the
상기의 과정에서 웨이퍼 척(21)의 이동은 A선을 따라 소정 거리만큼 반복이동될 수 있다. A선은 웨이퍼 척(21)의 일측 지점과, 웨이퍼 척(21)의 중심 및 웨이퍼 척의 중심을 기준으로 웨이퍼 척의 일측 지점과 대향되는 웨이퍼 척(21)의 타측 지점을 지나는 선이다.In the above process, the movement of the
다시 말하면, 어느 하나의 프로브 니들(33)은 웨이퍼 척(21)의 일측 지점에 위치된 패드(P1)와 접촉된 후 A선을 따라 웨이퍼 척(21)의 일측 지점과 대향되는 타측 지점의 패드(P2)에 접촉될 때까지 다수의 패드와 순차적으로 접촉될 수 있다. 다만, 도 2에서는 웨이퍼 척(21)의 일측 지점의 패드(P1)와 타측 지점의 패드(P2)에 접촉되는 상태의 프로브 카드(30)의 위치만을 도시하였다.In other words, any one of the
한편, 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 제대로 정렬되어 있다면, 도 3에 도시된 바와 같이 어느 하나의 프로브 니들(33, 도 1 참조)과 웨이퍼(W)의 패드들의 접촉 부분들을 연결한 선이 B선과 같이 형성될 수 있다. B선은 A선(도 2 참조)과 실질적으로 동일할 수 있다.On the other hand, if the
반면에 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 제대로 정렬되어 있지 않다면, 어느 하나의 프로브 니들(33)과 웨이퍼(W)의 패드들의 접촉 부분을 연결한 선이 C선과 같이 형성될 수 있다. C선은 B선으로부터 소정 각도로 이동된 선일 수 있다.On the other hand, if the
상기와 같이 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 제대로 정렬되어 있지 않다고 판단되면, 프로브 카드(30)를 B선과 C선 사이의 각도만큼 회전시켜 프로브 카드(30)의 위치를 정정한다. As described above, if it is determined that the
종래에는 상술한 바와 같이 프로브 카드(30)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다고 판단될 경우 프로브 카드(30)의 위치를 조정하는 과정을 통해 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)를 테스트 위치에 정렬시킨다. 이 경우 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W) 중 어느 부재가 테스트 위치에 정렬되지 않았는지 확인하는 것이 용이하지 않다.Conventionally, as described above, when it is determined that the
특히, 상기와 같이 위치 조정된 프로브 카드(30)를 다른 프로브 테스트 장치에 사용할 때 다시 프로브 카드(30) 및 웨이퍼(W)를 테스트 위치에 정렬시키는 과정을 반복해야 하는 번거로움이 있다.In particular, when the
본 발명의 실시예는 프로브 카드와 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않을 경우 어느 부재가 테스트 위치에 정렬되지 않았는지 확인이 용이한 보정용 프로브 카드, 보정용 프로브 카드를 구비하는 프로브 테스트 장치, 보정용 프로브 카드의 설정 방법 및 보정용 프로브 카드를 이용한 프로브 테스트 장치의 얼라인 방법을 제공한다. In an embodiment of the present invention, when the probe card and the wafer are not aligned in the test position, it is easy to check which member is not aligned in the test position. A method for setting and an alignment method of a probe test apparatus using a probe card for calibration are provided.
또, 본 발명의 실시예는 프로브 카드와 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬하는 것을 용이하게 할 수 있는 보정용 프로브 카드, 보정용 프로브 카드를 구비하는 프로브 테스트 장치, 보정용 프로브 카드의 설정 방법 및 보정용 프로브 카드를 이용한 프로브 테스트 장치의 얼라인 방법을 제공한다.In addition, an embodiment of the present invention provides a calibration probe card capable of facilitating alignment of a probe card and a wafer to a test position, a probe test apparatus having a probe card for calibration, a method of setting a probe card for calibration, and a calibration probe card using the calibration probe card. A method for aligning a probe test apparatus is provided.
본 발명의 실시예에 따른 보정용 프로브 카드는 프로브 카드 PCB와, 상기 프로브 카드 PCB에 설치되는 복수 개의 프로브 니들을 포함하고, 상기 복수 개의 프로브 니들은 위치 보정 가능하게 마련된 제1니들핀과, 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 제2니들핀 및 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되며, 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 제3니들핀을 포함할 수 있다. A probe card for calibration according to an embodiment of the present invention includes a probe card PCB and a plurality of probe needles installed on the probe card PCB, wherein the plurality of probe needles include a first needle pin provided to enable position correction, and The second needle pin is spaced apart from the first needle pin by a predetermined interval to be a reference point when the position of the first needle pin is corrected, and the second needle pin is spaced apart from the first needle pin by a predetermined interval, and when the position of the first needle pin is corrected, the second needle pin It may include a third needle pin aligned with the reference to correct the position of the first needle pin.
본 발명의 실시예에 따른 보정용 프로브 카드를 갖는 프로브 테스트 장치는 웨이퍼를 고정 및 이동시키는 프로버와, 상기 프로버에 고정된 웨이퍼를 테스트 하기 위한 신호를 발생하는 테스터와, 상기 테스터에서 발생된 테스트 신호를 상기 웨이퍼로 전달하는 프로브 카드를 포함하고, 상기 프로브 테스트 장치는 상기 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬시키기 위하여 상기 웨이퍼가 고정되는 프로버의 위치를 변경시킬 수 있게 하는 보정용 프로브 카드를 더 포함하고, 상기 보정용 프로브 카드는 프로브 카드 PCB와, 상기 프로브 카드 PCB에 설치되어 상기 웨이퍼의 패드와 접촉되는 복수 개의 프로브 니들을 포함하고, 상기 복수 개의 프로브 니들은 상기 웨이퍼와 접촉 시 형성되는 접촉점을 토대로 위치 보정되어 상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬 가능하게 하는 제1니들핀과, 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 제2니들핀 및 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되며, 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 제3니들핀을 포함할 수 있다.A probe test apparatus having a calibration probe card according to an embodiment of the present invention includes a prober for fixing and moving a wafer, a tester for generating a signal for testing a wafer fixed to the prober, and a test generated by the tester and a probe card for transmitting a signal to the wafer, wherein the probe test apparatus includes a calibration probe card for changing a position of a prober to which the wafer is fixed in order to align the probe card and the wafer to a test position. The calibration probe card further includes a probe card PCB, and a plurality of probe needles installed on the probe card PCB and in contact with the pad of the wafer, wherein the plurality of probe needles are contact points formed when in contact with the wafer. A first needle pin that is position-corrected based on to align the calibration probe card and the wafer at a test position, and a second needle pin spaced apart from the first needle pin at a predetermined distance to be a reference point when correcting the position of the first needle pin A needle pin and a third needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined distance, aligned with the second needle pin when the position of the first needle pin is corrected, and comprising a third needle pin for correcting the position of the first needle pin can
본 발명의 실시예에 따른 상기 보정용 프로브 카드의 설정 방법은, 상기 보정용 프로브 카드를 형성하기 위한 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 배치시키는 단계와, 상기 소정 프로브 카드의 복수 개의 프로브 니들과 상기 복수 개의 프로브 니들과 대응되는 상기 웨이퍼의 패드를 접촉시켜 상기 각 패드 상에 접촉점을 형성하는 단계와, 상기 각 패드 상의 설정 위치에 상기 접촉점이 형성되었는지 확인하는 과정을 통해 상기 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되었는지를 판단하는 단계 및 상기 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되지 않은 경우 상기 프로브 니들의 위치를 상기 설정 위치로 보정하는 단계를 포함할 수 있다. The method of setting the probe card for calibration according to an embodiment of the present invention includes the steps of: placing a predetermined probe card for forming the calibration probe card and the wafer in a test position; a plurality of probe needles of the predetermined probe card; The predetermined probe card and the wafer are formed through the steps of contacting a plurality of probe needles with the corresponding pads of the wafer to form contact points on the respective pads, and confirming whether the contact points are formed at a set position on the respective pads. It may include determining whether is aligned with the test position, and correcting the position of the probe needle to the set position when the predetermined probe card and the wafer are not aligned with the test position.
본 발명의 실시예에 따른 보정용 프로브 카드를 이용한 얼라인 방법은, 상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 배치하는 단계와, 상기 보정용 프로브 카드의 프로브 니들과 상기 웨이퍼의 패드를 접촉하여 접촉점을 형성하는 단계와, 상기 각 패드 상의 상기 설정 위치에 상기 접촉점이 형성되었는지 확인하는 과정을 통해 상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되었는지를 판단하는 단계 및 상기 접촉점이 상기 각 패드 상의 설정 위치에 형성되지 않은 경우 상기 웨이퍼가 고정되는 위치를 변경하는 단계를 포함할 수 있다.An alignment method using a calibration probe card according to an embodiment of the present invention comprises the steps of placing the calibration probe card and the wafer at a test position, and contacting a probe needle of the calibration probe card with a pad of the wafer to form a contact point. Determining whether the calibration probe card and the wafer are aligned at the test position through the forming step and the process of confirming whether the contact point is formed at the set position on each pad, and the contact point at the set position on each pad It may include changing the position at which the wafer is fixed when it is not formed on the .
본 기술에 의하면, 복수 개의 프로브 테스트 장치에서 공용으로 사용할 수 있는 보정용 프로브 카드를 형성한 후 이 보정용 프로브 카드와 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다면 보정용 프로브 카드를 이용하여 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경시킬 수 있다.According to the present technology, after forming a calibration probe card that can be used in common by a plurality of probe test devices, if the calibration probe card and the wafer are not aligned at the test position, the calibration probe card is used to remove the wafer chuck of each probe test device. location can be changed.
이를 통해 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경한 후 프로브 테스트 공정을 수행함에 따라 프로브 카드 및 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬시키는 과정이 용이하다.Through this, the process of aligning the probe card and the wafer to the test position is easy as the probe test process is performed after the position of the wafer chuck of each probe test apparatus is changed.
또, 본 발명의 실시예는 보정용 프로브 카드를 이용하여 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경시킴에 따라, 프로브 카드와 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다면 프로브 카드만을 정렬시키면 되므로 실제 프로브 카드를 이용한 웨이퍼의 프로브 테스트 공정 시 프로브 카드와 웨이퍼를 테스트 위치에 용이하게 정렬시킬 수 있다.In addition, in the embodiment of the present invention, since the position of the wafer chuck of each probe test apparatus is changed using the probe card for calibration, if the probe card and the wafer are not aligned at the test position, only the probe card needs to be aligned. During the probe test process of the used wafer, the probe card and the wafer can be easily aligned at the test position.
도 1은 종래의 프로브 테스트 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 종래의 프로브 테스트 장치에서 프로브 테스트 공정을 설명하기 위해 도시한 도면이다.
도 3은 종래의 프로브 테스트 공정 시 프로브 카드 및 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되었는지를 판단하는 과정을 설명하기 위해 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 프로브 테스트 장치를 개략적으로 도시한 측면도이다.
도 5는 통상의 웨이퍼를 도시한 평면도이다.
도 6은 도 4에 도시된 보정용 프로브 카드를 도시한 저면도이다.
도 7은 도 6에 도시된 보정용 프로브 카드의 니들부를 확대 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 보정용 프로브 카드의 설정 방법의 플로우 차트이다.
도 9는 도 8에 도시된 플로우 차트를 설명하기 위해 개략적으로 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명의 보정용 프로브 카드를 이용한 얼라인 방법의 플로우 차트이다.
도 11은 도 10에 도시된 플로우 차트를 설명하기 위해 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating a conventional probe test apparatus.
2 is a diagram illustrating a probe test process in a conventional probe test apparatus.
FIG. 3 is a diagram illustrating a process of determining whether a probe card and a wafer are aligned at a test position during a conventional probe test process.
4 is a side view schematically illustrating a probe test apparatus of the present invention.
5 is a plan view showing a conventional wafer.
FIG. 6 is a bottom view illustrating the calibration probe card shown in FIG. 4 .
FIG. 7 is an enlarged view of the needle part of the probe card for calibration shown in FIG. 6 .
8 is a flowchart of a method for setting a probe card for correction according to the present invention.
FIG. 9 is a diagram schematically illustrating the flowchart shown in FIG. 8 .
10 is a flowchart of an alignment method using the calibration probe card of the present invention.
FIG. 11 is a diagram schematically illustrating the flowchart shown in FIG. 10 .
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 통해 설명될 것이다. 그러나 본 발명은 여기에서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 본 실시 예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여 제공되는 것이다.Advantages and features of the present invention, and a method for achieving the same, will be described with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. However, these embodiments are provided to explain in detail enough to be able to easily implement the technical idea of the present invention to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains.
그리고 본 발명의 요지와 무관한 공지의 구성은 생략될 수 있다. 각 도면의 구성요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다.
In addition, well-known structures irrelevant to the gist of the present invention may be omitted. In adding reference numbers to the components of each drawing, it should be noted that only the same components are given the same number as possible even though they are indicated on different drawings.
도 4를 참고하면, 프로브 테스트 장치는 테스트 대상인 웨이퍼(W)를 테스트하기 위한 소정 전기 신호(테스트 신호)를 발생시키고 발생된 신호를 웨이퍼(W)에 형성된 각 다이(5, 도 5 참조)로 전달하는 테스터(110)와, 테스터(110)가 테스트를 수행할 수 있도록 웨이퍼(W)를 고정 및 이동시키는 프로버(120) 및 테스터(110)에서 발생된 신호가 웨이퍼(W)에 형성된 각 다이(5)에 전달되도록 중간 매개체 역할을 하는 프로브 카드(미도시)와, 다양한 프로브 테스트 장치에서 공용으로 사용되어 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼(W) 및 프로브 카드를 테스트 위치로 정렬시키는 것을 용이하게 하는 보정용 프로브 카드(130)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4 , the probe test apparatus generates a predetermined electrical signal (test signal) for testing the wafer W as a test target, and transmits the generated signal to each die 5 formed on the wafer W (refer to FIG. 5 ). The
테스터(110)는 테스트 본체(111)와, 테스트 본체(111)로부터 승강되는 테스트 헤드(113)로 구성될 수 있다. The
테스트 본체(111)는 프로브 테스트 공정을 전반적으로 제어하고, 각 다이(5)의 양호와 불량을 판별하는 역할을 한다. 예를 들면, 테스트 본체(111)는 각 다이(5)를 테스트하기 위한 테스트 신호를 발생하고 이 발생된 신호를 테스트 헤드(113)로 전달하는 역할 및 이 전달된 신호로부터 체크되는 신호를 감지하고 이 감지된 신호들에 의거하여 테스트 대상인 다이들(5)의 양호 및 불량을 판별하는 역할을 한다. The
테스트 헤드(113)는 테스트 본체(111)로부터 승강되며, 프로브 카드 또는보정용 프로브 카드(130)에 선택적으로 도킹될 수 있다. 따라서 테스트 본체(111)로부터 전달되는 테스트 신호는 테스트 헤드(113)를 경유하여 프로브 카드 또는 보정용 프로브 카드(130)로 전달된다. The
이 과정에서 테스트 헤드(113)에는 테스트될 웨이퍼(W) 다이(5)의 특성에 맞게 만들어진 테스트 보드(114)와, 테스트 보드(114)의 하부에 결합되는 포고 블록(Pogo block)(115)이 구비될 수 있다. 포고 블록(115)의 밑면에는 프로브 카드 또는 보정용 프로브 카드(130)에 형성된 신호선에 전기적으로 연결되는 다수의 포고핀(Pogo pin)(미도시)이 마련될 수 있다. In this process, the
그리고 테스트 보드(114)의 하부에는 포고 블록 대신에 집(ZIF,미도시)이 구비될 수 있고, 집의 밑면에는 프로브 카드 또는 보정용 프로브 카드(130)에 형성된 신호선에 전기적으로 연결되는 ZIF 핀(미도시)이 마련될 수도 있다.And a ZIF pin (not shown) may be provided on the lower part of the
이에 따라 테스트 본체(111)로부터 발생되어 테스트 헤드(113)로 전달된 테스트 신호는 테스트 헤드(113)의 테스트 보드(114)와 포고핀 또는 집핀을 순차적으로 경유하여 프로브 카드 또는 보정용 프로브 카드(130)로 전달된다. Accordingly, the test signal generated from the
프로버(120)는 테스터(110)로부터 테스트 신호를 전달받도록 테스트 헤드(113)의 하부에 배치될 수 있다. 이러한 프로버(120)는 웨이퍼(W)가 안착되는 웨이퍼 척(121)과, 웨이퍼 척(121)에 안착된 웨이퍼(W)를 테스트가 수행될 위치로 이송하는 척 이송장치(123)를 포함할 수 있다.The
웨이퍼 척(121)은 진공 흡착 등의 방법으로 웨이퍼(W)를 그 상면에 고정한다. 이러한 웨이퍼 척(121)의 일측에는 프로브 카드 또는 보정용 프로브 카드(130)의 프로브 니들(133)의 위치를 확인할 수 있는 카메라부(125)가 설치될 수 있다.The
이때, 웨이퍼(W)에는 복수 개의 다이들(5)이 형성되고, 각 다이(5)는 스크라이브 레인(SL)에 의해 분리될 수 있다. 각 다이(5)에는 가장자리를 따라 복수 개의 패드들(P)이 형성된다(도 5 참조).In this case, a plurality of dies 5 may be formed on the wafer W, and each die 5 may be separated by a scribe lane SL. A plurality of pads P are formed along edges of each die 5 (see FIG. 5 ).
척 이송장치(123)는 웨이퍼(W)가 안착된 웨이퍼 척(121)을 X축 방향으로 이동시키는 제1이송부(123a)와, 웨이퍼 척(121)을 Y축 방향으로 이동시키는 제2이송부(123b)와, 웨이퍼 척(121)을 Z축 방향으로 이동시키는 제3이송부(123c) 및 웨이퍼 척(121)을 θ축 방향으로 이동시키는 제4이송부(123d)를 포함할 수 있다. 상기의 척 이송장치(123)의 구성은 공지된 기술이므로 구체적인 설명을 생략한다.The
보정용 프로브 카드(130)는 프로브 카드 PCB(131)와, 프로브 니들(133)을 포함할 수 있다.The
프로브 카드 PCB(131)는 카드 안착부(131a)에 안착될 수 있는 형상, 예를 들면, 단차를 갖는 원판 형상으로 형성될 수 있다. The
프로브 니들(133)은 웨이퍼(W)에 형성된 각 다이(5)에 형성된 단자 즉, 패드(P)에 그 일단이 접촉되도록 얇은 두께를 갖는 니들 형상으로 형성될 수 있다. 이러한 프로브 니들(133)의 일단은 각 다이의 패드들(P)에 접촉되도록 소정각도로 굴절될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고 프로브 니들(133)의 타단은 프로브 카드 PCB(131)의 하단에 납땜 등의 방법으로 연결될 수 있다.The
프로브 카드 역시 프로브 카드 PCB와 프로브 니들을 포함할 수 있으며, 보정용 프로브 카드의 구성과 유사하므로 구체적인 설명을 생략한다.The probe card may also include the probe card PCB and the probe needle, and since it is similar to the configuration of the probe card for calibration, a detailed description thereof will be omitted.
한편, 상기의 보정용 프로브 카드(130)의 프로브 니들(133)은 도 6에 도시된 바와 같이, 프로브 카드 PCB(131)의 제1지점에 설치되는 제1니들부(1331)와, 제1지점에 대향되는 제2지점에 설치되는 제2니들부(1332)와, 제3지점에 설치되는 제3니들부(1333)와, 제3지점과 대향되는 제4지점에 설치되는 제4니들부(1334)를 포함할 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 6 , the
다시 말하면, 제1지점은 프로브 카드 PCB(131)의 일측 가장자리 영역일 수 있으며, 제2지점은 프로브 카드 PCB(131)의 중심을 기준으로 제1지점과 대향되는 프로브 카드 PCB(131)의 타측 가장자리 영역일 수 있다. In other words, the first point may be an edge region of one side of the
그리고 제3지점은 상기 제1,2지점과 상이한 가장자리 영역일 수 있다. 바람직하게 제3지점은 제1지점과 제2지점을 연결하는 선과 직교하되 프로브 카드 PCB(131)의 중심을 지나는 선과 만나는 프로브 카드 PCB의 가장자리 영역일 수 있다. 제4지점은 프로브 카드 PCB(131)의 중심을 기준으로 제3지점과 대향되는 프로브 카드 PCB(131)의 가장자리 영역일 수 있다.The third point may be an edge region different from the first and second points. Preferably, the third point may be an edge region of the probe card PCB that is perpendicular to a line connecting the first point and the second point but meets a line passing through the center of the
예를 들면, 제1니들부(1331)는 프로브 카드 PCB(131)의 좌측 가장자리 영역에 형성될 수 있고, 제2니들부(1332)는 프로브 카드 PCB(131)의 우측 가장자리 영역에 형성될 수 있고, 제3니들부(1333)는 프로브 카드 PCB(131)의 하측 가장자리 영역에 형성될 수 있고, 제4니들부(1334)는 프로브 카드 PCB(131)의 상측 가장자리 영역에 형성될 수 있다.For example, the
각 니들부(1331,1332,1333,1334)는 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a), 제2니들핀(1331b,1332b,1333b,1334b) 및 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)을 포함할 수 있다. 즉, 프로브 카드 PCB(131)의 제1,2,3,4지점에는 제1,2,3니들핀이 모듈화된 니들부(1331,1332,1333,1334)가 각각 배치될 수 있다. 여기서, 도 6 및 도 7에 도시된 프로브 카드 PCB(131)의 각 니들핀들은 이해의 편의를 위해 과장하여 도시하였음을 주의해야 한다.As shown in FIGS. 6 and 7, each of the
제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)은 보정핀(Calibration pin)일 수 있다. 이러한 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)은 대응되는 웨이퍼(W, 도 5 참조)의 각 패드(P, 도 5 참조)와 접촉 시 형성되는 접촉점을 확인하여 접촉점이 얼라인 위치에 있지 않다고 판단될 때 위치 보정되는 핀일 수 있다. 여기서 얼라인 위치에 대해서는 후술한다.The
제2니들핀(1331b,1332b,1333b,1334b)은 기준핀(Reference pin)일 수 있다. 이러한 제2니들핀(1331b,1332b,1333b,1334b)은 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)의 위치를 보정할 때 기준이 되는 핀일 수 있다. 다시 말하면, 제2니들핀(1331b,1332b,1333b,1334b)은 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)의 위치 보정 시 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)을 이동시키는 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)이 정확한 위치에 이동되었는지 판단할 수 있는 기준이 된다.The second needle pins 1331b, 1332b, 1333b, and 1334b may be reference pins. These second needle pins 1331b, 1332b, 1333b, and 1334b may be reference pins when correcting the positions of the
제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)은 니들 얼라인핀(Needle align pin)일 수 있다. 이러한 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)은 웨이퍼 척(121)의 일측에 설치되는 카메라부(125)를 통해 얼라인될 수 있다. The
다시 말하면, 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)은 카메라부(125)를 이용하여 제2니들핀(1331b,1332b,1333b,1334b)을 기준으로 얼라인될 수 있고, 이와 같이 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)이 얼라인되면 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)이 위치 보정될 수 있다.
In other words, the
한편, 도 4, 도 6, 도 8 및 도 9를 참고하여 본 발명의 실시예에 따른 보정용 프로브 카드의 설정 방법을 살펴보면 다음과 같다.Meanwhile, a method of setting a calibration probe card according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4, 6, 8 and 9 .
도 4, 도 6 및 도 8을 참고하면, 소정의 프로브 카드(130)를 카드 안착부(131a)에 안착시키고, 웨이퍼(W)가 안착된 웨이퍼 척(121)을 카드 안착부(131a)에 안착된 소정의 프로브 카드(130)에 대응되는 위치에 배치시킨다. 다시 말하면, 소정의 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)를 프로브 테스트 공정이 수행되는 테스트 위치에 배치시킨다(S110).4, 6, and 8, a
이때, 상기 소정의 프로브 카드(130)는 상술한 바와 같이 제1,2,3,4니들부(1331,1332,1333,1334)를 포함할 수 있으며, 각 니들부(1331,1332,1333,1334)는 컨택핀 역할을 하는 제1니들핀(1331a,1332a,1333a,1334a)과, 기준핀 역할을 하는 제2니들핀(1331b,1332b,1333b,1334b) 및 니들 얼라인핀 역할을 하는 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)을 포함할 수 있다. In this case, the
다음으로, 상기와 같이 배치된 웨이퍼 척(121)의 일측에 배치되는 카메라부(125)를 통해 소정의 프로브 카드(130)의 프로브 니들(133)이 얼라인 되었는지를 판단한다(S120). 프로브 니들(133)의 얼라인 여부는 각 니들부(1331,1332,1333,1334)의 제3니들핀(1331c,1332c,1333c,1334c)의 위치를 통해 판단할 수 있다. Next, it is determined whether the
이때, 프로브 니들(133)이 얼라인되어 있지 않다고 판단되면 프로브 카드 얼라인장치(127)를 이용하여 프로브 니들(133)을 얼라인시킨다(S130). 그리고 프로브 니들(133)이 얼라인되어 있다고 판단되면 다음 과정을 진행한다.At this time, if it is determined that the
다음으로, 웨이퍼 척(121)을 상승시켜 프로브 카드(130)의 프로브 니들(133)과 웨이퍼(W)에 형성된 각 다이(5)의 패드(P)를 접촉시킨다. 그 후 테스터(110)에서 테스트 신호를 발생시키면, 이 테스트 신호는 프로브 카드(130)를 경유하여 각 다이(5)의 패드(P)로 전달된다. 이와 같이 프로브 니들(133)과 이에 대응되는 각 다이(5)의 패드(P)를 접촉시킨 후 테스트 신호를 발생시키면, 패드(P) 상에 복수 개의 접촉점들이 형성될 수 있다(S140).Next, the
다음으로, 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 제대로 정렬되었는지를 판단한다(S150). 상기와 같이 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되었는지 판단하는 과정은 다음과 같다. Next, it is determined whether the
먼저, 도 9의 D선 상에 제1접촉점(CP1)과 제2접촉점(CP2)이 위치되었는지를 확인한다. First, it is checked whether the first contact point CP1 and the second contact point CP2 are positioned on the line D of FIG. 9 .
여기서, 제1접촉점(CP1)은 제1니들부(1331)의 제1니들핀(1331a)이 이 제1니들핀(1331a)과 대응되는 제1패드(P11)에 접촉되는 접촉점이고, 제2접촉점(CP2)은 제2니들부(1332)의 제1니들핀(1332a)이 이 제1니들핀(1332a)과 대응되는 제2패드(P12)에 접촉되는 접촉점이다. Here, the first contact point CP1 is a contact point at which the
그리고 D선은 제1패드(P11)의 센터와 제2패드(P12)의 센터를 지나도록 연결되는 선이다.And line D is a line connected to pass through the center of the first pad P11 and the center of the second pad P12.
이때, 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬된 경우에는 제1접촉점(CP1)이 제1패드(P11)의 센터에 형성될 수 있고, 제2접촉점(CP2)이 제2패드(P12)의 센터에 형성될 수 있다.At this time, when the
다만, 제1접촉점(CP1)이 제1패드(P11)의 센터 이외에 D선 상에 배치되어도 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되었다고 할 수 있다. 마찬가지로 제2접촉점(CP2)이 제2패드(P12)의 센터 이외에 D선 상에 배치되어도 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되었다고 할 수 있다.However, even if the first contact point CP1 is disposed on the line D other than the center of the first pad P11 , it can be said that the
이어서 E선 상에 제3접촉점(CP3)과 제4접촉점(CP4)이 위치되었는지를 확인한다. Then, it is checked whether the third contact point CP3 and the fourth contact point CP4 are positioned on the E line.
여기서, 제3접촉점(CP3)은 제3니들부(1333)의 제1니들핀(1333a)이 이 제1니들핀(1333a)과 대응되는 제3패드(P13)에 접촉되는 접촉점이고, 제4접촉점(CP4)은 제4니들부(1334)의 제1니들핀(1334a)이 이 제1니들핀(1334a)과 대응되는 제4패드(P14)에 접촉되는 접촉점이다. Here, the third contact point CP3 is a contact point at which the
그리고 E선은 제3패(P13)드의 센터와 제4패드(P14)의 센터를 지나도록 연결되는 선이다. 이러한 E선은 D선과 직교하되 웨이퍼(W)의 중심을 지나는 선일 수 있다. And line E is a line connected to pass through the center of the third pad P13 and the center of the fourth pad P14. The E line may be a line orthogonal to the D line but passing through the center of the wafer W.
이때, 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬된 경우에는 제3접촉점(CP3)이 제3패드(P13)의 센터에 형성될 수 있고, 제4접촉점(CP4)이 제4패드(P14)의 센터에 형성될 수 있다.At this time, when the
다만, 제3접촉점(CP3)이 제3패드(P13)의 센터 이외에 E선 상에 배치되어도 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되었다고 할 수 있다. 마찬가지로 제4접촉점(CP4)이 제4패드(P14)의 센터 이외에 E선 상에 배치되어도 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되었다고 할 수 있다.However, even if the third contact point CP3 is disposed on the line E other than the center of the third pad P13 , it can be said that the
다음으로, 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다고 판단되면, 프로브 니들(133)의 위치를 테스트 위치에 맞게 보정한다(S160). 다시 말하면, 상기의 과정에서 제1,2,3,4접촉점(CP1,CP2,CP3,CP4) 중 적어도 하나가 D선 또는 E선 상에 배치되지 않은 경우 해당되는 제1니들핀의 위치를 보정할 수 있다.Next, if it is determined that the
예를 들면, 도 9에 도시된 바와 같이 제2접촉점(CP12)이 D선 상에 배치되지 않을 수 있다. 이와 같은 경우 제2니들부(1332)의 제1니들핀(1332a)을 D 선상에 배치되도록 보정할 수 있다.For example, as shown in FIG. 9 , the second contact point CP12 may not be disposed on the D line. In this case, the
구체적으로, 카메라부(125)를 통해 제2니들부(1332)를 포함하는 영역을 관찰하는 상태에서 제2니들부(1332)의 제1니들핀(1332a)의 위치를 보정할 수 있다. 이때, 제1니들핀(1332a)의 위치 보정은 제2니들부(1332)의 제3니들핀(1332c)을 얼라인하여 제1니들핀(1332a)을 소정 거리 이동시킬 수 있다.Specifically, the position of the
만약, 상기의 과정에서 기준핀 역할을 하는 제2니들핀(1332b)이 배치되지 않는다면, 카메라부(125)의 관찰 영역에서 제3니들핀(1332c)을 이동시키는 것이 쉽지 않을 수 있다. 다시 말하면 카메라부(125)의 관찰 영역과 같은 작은 범위 내에서 이루어짐에 따라 제3니들핀(1332c)이 원하는 거리만큼 이동되었는지 확인하는 것이 쉽지 않다. If, in the above process, the
하지만 본 발명의 실시예는 카메라부(125)의 관찰 영역 내에서 제2니들핀(1332b)을 기준핀으로 하여 제1니들핀(1332a)의 좌표값을 구한다음 이 제3니들핀(1332c)을 원하는 거리만큼 이격된 좌표, 예를 들면, D선 상으로 이동시키는 것이 용이하다. 이로 인하여 카메라부(125)를 이용하여 제3니들핀(1332c)을 얼라인하여 제1니들핀(1332a)의 위치가 보정될 수 있다.
However, in the embodiment of the present invention, the coordinate value of the
한편, 현장에서 프로브 테스트 공정은 하나의 프로브 테스트 장치에 이루어지지 않고, 복수 개의 프로브 테스트 장치에서 이루어질 수 있다. 하지만 본 발명의 실시예에서는 상술한 방법을 통해 보정된 보정용 프로브 카드(130)를 이용하여 각 프로브 테스트 장치를 용이하게 정렬시킬 수 있다. Meanwhile, in the field, the probe test process may be performed in a plurality of probe test apparatuses, rather than in one probe test apparatus. However, in the embodiment of the present invention, each probe test apparatus can be easily aligned using the
다시 말하면, 종래에는 각 프로브 테스트 장치 마다 프로브 카드와 웨이퍼를 정렬시켜야 했지만, 본 발명의 실시예에서는 보정용 프로브 카드(130)를 이용하여 웨이퍼(W)만 정렬시키면 되므로 프로브 카드와 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬시키는 것이 용이하다. In other words, in the prior art, it was necessary to align the probe card and the wafer for each probe test device. However, in the embodiment of the present invention, only the wafer W needs to be aligned using the
도 4, 도 5, 도 10 및 도 11을 참고하여 상기와 같은 프로브 테스트 장치에서 보정용 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)를 테스트 위치에 정렬시키는 과정을 살펴보면 다음과 같다.A process of aligning the
먼저, 보정용 프로브 카드(130)를 카드 안착부(131a)에 안착시킨다. 이어서 프로브 테스트를 수행할 웨이퍼(W)를 웨이퍼 척(121)에 안착시키고, 이 웨이퍼 척(121)을 보정용 프로브 카드(130)에 대응되는 위치(테스트 위치)에 배치시킨다(S210).First, the
다음으로, 웨이퍼 척(121)을 상승시켜 보정용 프로브 카드(130)의 프로브 니들(133)과 웨이퍼(W)에 형성된 각 다이의 패드(P11,P12,P13,P14)를 접촉시키면, 패드(P11,P12,P13,P14) 상에 복수 개의 접촉점들(CP1,CP2,CP3,CP4)이 형성될 수 있다(S220).Next, when the
다음으로, 보정용 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 제대로 정렬되었는지를 판단한다(S230). 상기와 같이 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되었는지 판단하는 과정은 다음과 같다.Next, it is determined whether the
먼저, 제1선 즉, D선 상에 제1접촉점(CP1)과 제2접촉점(CP2)이 위치되었는지를 확인하고, 제2선 즉, E선 상에 제3접촉점(CP3)과 제4접촉점(CP4)이 위치되었는지를 확인한다.First, it is checked whether the first contact point CP1 and the second contact point CP2 are located on the first line, that is, the D line, and the third contact point CP3 and the fourth contact point are located on the second line, that is, the E line. Check that (CP4) is positioned.
여기서, 제1접촉점(CP1)은 제1니들부(1331)의 제1니들핀(1331a)이 이 제1니들핀(1331a)과 대응되는 제1패드(P11)에 접촉되는 접촉점이다. 제2접촉점(CP2)은 제2니들부(1332)의 제1니들핀(1332a)이 이 제1니들핀(1332a)과 대응되는 제2패드(P12)에 접촉되는 접촉점이다. 제3접촉점(CP3)은 제3니들부(1333)의 제1니들핀(1333a)이 이 제1니들핀(1333a)과 대응되는 제3패드(P13)에 접촉되는 접촉점이다. 제4접촉점(CP4)은 제4니들부(1334)의 제1니들핀(1334a)이 이 제1니들핀(1334a)과 대응되는 제4패드(P14)에 접촉되는 접촉점이다. Here, the first contact point CP1 is a contact point at which the
그리고 D선은 제1패드(P11)의 센터와 제2패드(P12)의 센터를 지나도록 연결하는 선이다. E선은 제3패드(P13)의 센터와 제4패드(P14)의 센터를 지나도록 연결하는 선이다. 이러한 E선은 D선과 직교하되 웨이퍼(W)의 중심을 지나는 선일 수 있다. And line D is a line connecting the center of the first pad P11 and the center of the second pad P12 to pass through. Line E is a line connecting the center of the third pad P13 and the center of the fourth pad P14 to pass through. The E line may be a line orthogonal to the D line but passing through the center of the wafer W.
이때, 보정용 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬된 경우에는 제1접촉점(CP1)과 제2접촉점(CP2)이 적어도 D선 상에 형성될 수 있고, 제3접촉점(CP3)과 제4접촉점(CP4)이 E선 상에 형성될 수 있다.At this time, when the
상기의 과정에서 보정용 프로브 카드(130)와 웨이퍼(W)가 테스트 위치에 정렬되지 않은 것으로 판단되면, 웨이퍼 척(121)의 위치를 테스트 위치에 맞게 변경시킨다. 즉, 보정용 프로브 카드(130)는 이미 테스트 위치에 정렬되어 있으므로 웨이퍼 척(121)만 테스트 위치에 맞게 변경시킨다.In the above process, if it is determined that the
예를 들면, 도 11에 도시된 바와 같이 제1,2,3,4접촉점(CP21,CP22,CP23,CP24)이 소정 각도로 회전된 상태로 배치될 수 있다. 이와 같은 경우 웨이퍼 척(121)을 회전시켜 각 접촉점(CP21,CP22,CP23,CP24)이 D선 또는 E선 상에 배치되도록 할 수 있다.For example, as shown in FIG. 11 , the first, second, third, and fourth contact points CP21, CP22, CP23, and CP24 may be disposed in a rotated state at a predetermined angle. In this case, each of the contact points CP21 , CP22 , CP23 , and CP24 may be disposed on the D line or the E line by rotating the
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 실시예에서는 복수 개의 프로브 테스트 장치에서 공용으로 사용할 수 있는 보정용 프로브 카드를 형성한 후 보정용 프로브 카드와 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다면 보정용 프로브 카드를 이용하여 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경시킬 수 있다.As described above, in the embodiment of the present invention, after a calibration probe card that can be commonly used in a plurality of probe test devices is formed, if the calibration probe card and the wafer are not aligned at the test position, each calibration probe card is used to The position of the wafer chuck of the probe test apparatus may be changed.
이를 통해 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경한 후 프로브 테스트 공정을 수행함에 따라 프로브 카드 및 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬시키는 과정이 용이하다.Through this, the process of aligning the probe card and the wafer to the test position is easy as the probe test process is performed after the position of the wafer chuck of each probe test apparatus is changed.
특히, 종래에는 하나의 프로브 테스트 장치에서 프로브 카드와 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬시켜도 프로브 카드와 웨이퍼 중 어느 부재가 틀린 위치에 배치되었는지 확인하는 것이 어려웠다. 하지만 본 발명의 실시예는 보정용 프로브 카드를 이용하여 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경시킴에 따라 프로브 카드와 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다면 프로브 카드가 틀린 위치에 있다는 것을 쉽게 알 수 있다.In particular, in the related art, it is difficult to determine which member of the probe card and the wafer is disposed at the wrong position even when the probe card and the wafer are aligned at the test position in one probe test apparatus. However, in the embodiment of the present invention, as the position of the wafer chuck of each probe test apparatus is changed using the probe card for calibration, if the probe card and the wafer are not aligned at the test position, it can be easily recognized that the probe card is in the wrong position. .
또, 본 발명의 실시예는 보정용 프로브 카드를 이용하여 각 프로브 테스트 장치의 웨이퍼 척의 위치를 변경시킴에 따라, 프로브 카드와 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되어 있지 않다면 프로브 카드만을 정렬시키면 되므로 실제 프로브 카드를 이용한 웨이퍼의 프로브 테스트 공정 시 프로브 카드와 웨이퍼를 테스트 위치에 용이하게 정렬시킬 수 있다.
In addition, in the embodiment of the present invention, since the position of the wafer chuck of each probe test apparatus is changed using the probe card for calibration, if the probe card and the wafer are not aligned at the test position, only the probe card needs to be aligned. During the probe test process of the used wafer, the probe card and the wafer can be easily aligned at the test position.
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있으므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those skilled in the art to which the present invention pertains should understand that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential characteristics thereof, so the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. only do The scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the above detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention. do.
W: 웨이퍼 P: 패드
5: 다이 110: 테스터
111: 테스터 본체 113: 테스터 헤드
120: 프로버 121: 웨이퍼 척
123: 척 이송장치 125: 카메라부재
127: 프로브 카드 얼라인장치 130: 프로브 카드
131: 프로브 카드 PCB 133: 프로브 니들
1331: 제1니들부 1332: 제2니들부
1333: 제3니들부 1334: 제4니들부
1331a,1332a,1333a,1334a: 제1니들핀
1331b,1332b,1333b,1334b: 제2니들핀
1331c,1332c,1333c,1334c: 제3니들핀W: Wafer P: Pad
5: die 110: tester
111: tester body 113: tester head
120: prober 121: wafer chuck
123: chuck transfer device 125: camera member
127: probe card alignment device 130: probe card
131: probe card PCB 133: probe needle
1331: first needle part 1332: second needle part
1333: third needle part 1334: fourth needle part
1331a, 1332a, 1333a, 1334a: first needle pin
1331b, 1332b, 1333b, 1334b: second needle pin
1331c, 1332c, 1333c, 1334c: 3rd needle pin
Claims (20)
상기 복수 개의 프로브 니들은,
위치 보정 가능하게 마련된 제1니들핀과,
상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 제2니들핀과,
상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되며, 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 제3니들핀을 포함하는 보정용 프로브 카드. A probe card PCB and a plurality of probe needles installed on the probe card PCB,
The plurality of probe needles,
A first needle pin provided so that the position can be corrected;
a second needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined distance to become a reference point when correcting the position of the first needle pin;
Compensation probe card including a third needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined interval and aligned with the second needle pin to correct the position of the first needle pin when the position of the first needle pin is corrected .
상기 복수 개의 프로브 니들은,
상기 프로브 카드 PCB의 일측 영역에 배치되는 제1지점에 설치되는 제1니들부와,
상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제1지점과 대향되는 영역인 제2지점에 설치되는 제2니들부와,
상기 제1,2지점과 상이한 영역인 제3지점에 설치되는 제3니들부와,
상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제3지점과 대향되는 영역인 제4지점에 설치되는 제4니들부를 포함하는 보정용 프로브 카드.According to claim 1,
The plurality of probe needles,
a first needle part installed at a first point disposed on one side area of the probe card PCB;
a second needle part installed at a second point in an area opposite to the first point with respect to the center of the probe card PCB;
and a third needle part installed at a third point that is a different area from the first and second points;
and a fourth needle part installed at a fourth point that is an area opposite to the third point with respect to the center of the probe card PCB.
상기 각 니들부는 상기 제1니들핀과 상기 제2니들핀 및 상기 제3니들핀을 포함하는 보정용 프로브 카드.3. The method of claim 2,
Each of the needle parts is a calibration probe card including the first needle pin, the second needle pin, and the third needle pin.
상기 제1니들부의 제1니들핀과 상기 제2니들부의 제1니들핀을 연결하는 선과 상기 제3니들부의 제1니들핀과 상기 제4니들부의 제1니들핀을 연결하는 선은 직교하는 보정용 프로브 카드.3. The method of claim 2,
The line connecting the first needle pin of the first needle part and the first needle pin of the second needle part and the line connecting the first needle pin of the third needle part and the first needle pin of the fourth needle part are orthogonal for correction probe card.
상기 프로브 테스트 장치는 상기 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬시키기 위하여 상기 웨이퍼가 고정되는 프로버의 위치를 변경시킬 수 있게 하는 보정용 프로브 카드를 더 포함하고,
상기 보정용 프로브 카드는 프로브 카드 PCB와, 상기 프로브 카드 PCB에 설치되어 상기 웨이퍼의 패드와 접촉되는 복수 개의 프로브 니들을 포함하고,
상기 복수 개의 프로브 니들은,
상기 웨이퍼와 접촉 시 형성되는 접촉점을 토대로 위치 보정되어 상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 정렬 가능하게 하는 제1니들핀과,
상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 제2니들핀과,
상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되며, 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 제3니들핀을 포함하는 프로브 테스트 장치.A probe test apparatus comprising: a prober for fixing and moving a wafer; a tester for generating a signal for testing the wafer fixed to the prober; and a probe card for transferring the test signal generated by the tester to the wafer in,
The probe test apparatus further includes a calibration probe card for changing a position of a prober to which the wafer is fixed in order to align the probe card and the wafer to a test position,
The calibration probe card includes a probe card PCB, and a plurality of probe needles installed on the probe card PCB and in contact with the pad of the wafer,
The plurality of probe needles,
a first needle pin that is position-corrected based on a contact point formed when it comes into contact with the wafer to align the calibration probe card and the wafer to a test position;
a second needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined distance to become a reference point when correcting the position of the first needle pin;
A probe test apparatus including a third needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined interval and aligned with the second needle pin to correct the position of the first needle pin when the position of the first needle pin is corrected .
상기 복수 개의 프로브 니들은,
상기 프로브 카드 PCB의 일측 영역에 배치되는 제1지점에 설치되는 제1니들부와,
상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제1지점과 대향되는 영역인 제2지점에 설치되는 제2니들부와,
상기 제1,2지점과 상이한 영역인 제3지점에 설치되는 제3니들부와,
상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제3지점과 대향되는 영역인 제4지점에 설치되는 제4니들부를 포함하는 프로브 테스트 장치.6. The method of claim 5,
The plurality of probe needles,
a first needle part installed at a first point disposed on one side area of the probe card PCB;
a second needle part installed at a second point in an area opposite to the first point with respect to the center of the probe card PCB;
and a third needle part installed at a third point that is a different area from the first and second points;
and a fourth needle part installed at a fourth point that is an area opposite to the third point based on the center of the probe card PCB.
상기 각 니들부는 상기 제1니들핀과 상기 제2니들핀 및 상기 제3니들핀을 각각 포함하는 프로브 테스트 장치.7. The method of claim 6,
Each of the needle parts includes the first needle pin, the second needle pin, and the third needle pin, respectively.
상기 제1니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제1패드에 형성되는 제1접촉점과, 상기 제2니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제2패드에 형성되는 제2접촉점은,
상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬될 경우 상기 제1패드의 센터와 상기 제2패드의 센터를 지나는 제1선 상에 배치되고,
상기 제3니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제3패드에 형성되는 제3접촉점과, 상기 제4니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제4패드에 형성되는 제4접촉점은,
상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬될 경우 상기 제3패드의 센터와 상기 제4패드의 센터를 지나는 제2선 상에 배치되는 프로브 테스트 장치.8. The method of claim 7,
A first contact point formed on the first pad of the wafer in contact with the first needle pin of the first needle portion, and a second contact point formed on the second pad of the wafer in contact with the first needle pin of the second needle portion silver,
When the calibration probe card and the wafer are aligned at the test position, they are disposed on a first line passing through the center of the first pad and the center of the second pad,
A third contact point formed on the third pad of the wafer in contact with the first needle pin of the third needle portion, and a fourth contact point formed on the fourth pad of the wafer in contact with the first needle pin of the fourth needle portion silver,
The probe test apparatus is disposed on a second line passing through the center of the third pad and the center of the fourth pad when the calibration probe card and the wafer are aligned at the test position.
상기 제1선과 상기 제2선은 상기 웨이퍼의 중심을 지나는 프로브 테스트 장치.9. The method of claim 8,
The first line and the second line pass through the center of the wafer.
상기 제1선과 상기 제2선은 상기 웨이퍼의 중심에서 직교하는 프로브 테스트 장치.10. The method of claim 9,
The first line and the second line are perpendicular to the center of the wafer.
상기 프로버는 상기 웨이퍼가 고정되는 웨이퍼 척과, 상기 웨이퍼 척을 이동시키는 척 이송장치를 포함하는 프로브 테스트 장치.6. The method of claim 5,
The prober includes a wafer chuck to which the wafer is fixed, and a chuck transfer device for moving the wafer chuck.
상기 보정용 프로브 카드를 형성하기 위한 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 배치시키는 단계;
상기 소정 프로브 카드의 상기 제1니들핀을 포함하는 상기 복수 개의 프로브 니들과 상기 복수 개의 프로브 니들과 대응되는 상기 웨이퍼의 패드를 접촉시켜 상기 각 패드 상에 접촉점을 형성하는 단계;
상기 각 패드 상의 설정 위치에 상기 접촉점이 형성되었는지 확인하는 과정을 통해 상기 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되었는지를 판단하는 단계; 및
상기 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되지 않은 경우, 위치 보정이 가능한 상기 제1니들핀과, 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 상기 제2니들핀 및 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 상기 제3니들핀을 포함하는 상기 프로브 니들의 위치를 상기 설정 위치로 보정하는 단계를 포함하는 보정용 프로브 카드의 설정방법.a prober for fixing and moving a wafer; a tester for generating a signal for testing the wafer fixed to the prober; a probe card for transferring a test signal generated from the tester to the wafer; A calibration probe card comprising a plurality of probe needles including a first needle pin, a second needle pin, and a third needle pin to change the position of the prober to which the wafer is fixed in order to align the wafer to the test position As a method of setting the probe card for calibration of a probe test apparatus comprising:
placing a predetermined probe card for forming the calibration probe card and the wafer in a test position;
forming contact points on the respective pads by contacting the plurality of probe needles including the first needle pin of the predetermined probe card and the pads of the wafer corresponding to the plurality of probe needles;
determining whether the predetermined probe card and the wafer are aligned at the test position through the process of confirming whether the contact point is formed at the set position on the respective pad; and
When the predetermined probe card and the wafer are not aligned in the test position, the first needle pin capable of position correction, and the first needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined distance to serve as a reference point when correcting the position of the first needle pin The second needle pin and the third needle pin spaced apart from the first needle pin by a predetermined interval and aligned with respect to the second needle pin to correct the position of the first needle pin when the position of the first needle pin is corrected. Compensating the position of the probe needle including the set position to the set position of the calibration probe card setting method.
상기 소정 프로브 카드의 프로브 니들은 프로브 카드 PCB의 일측 영역에 배치되는 제1지점에 설치되는 제1니들부와, 상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제1지점과 대향되는 영역인 제2지점에 설치되는 제2니들부와, 상기 제1,2지점과 상이한 영역인 제3지점에 설치되는 제3니들부와, 상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제3지점과 대향되는 영역인 제4지점에 설치되는 제4니들부를 포함하고,
상기 각 니들부는 상기 제1니들핀과 상기 제2니들핀 및 상기 제3니들핀을 포함하고,
상기 설정 위치는,
상기 제1니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제1패드의 센터와 상기 제2니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제2패드의 센터를 지나는 제1선 상과,
상기 제3니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제3패드의 센터와 상기 제4니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제4패드의 센터를 지나는 제2선 상에 위치되는 보정용 프로브 카드의 설정 방법.13. The method of claim 12,
The probe needle of the predetermined probe card includes a first needle part installed at a first point disposed on one area of the probe card PCB, and a second point that is an area opposite to the first point with respect to the center of the probe card PCB. A second needle part installed in the , a third needle part installed in a third point that is a different area from the first and second points, and a third needle part that is an area opposite to the third point with respect to the center of the probe card PCB Including a fourth needle part installed at 4 points,
Each of the needle parts includes the first needle pin, the second needle pin, and the third needle pin,
The setting position is
On a first line passing through the center of the first pad of the wafer in contact with the first needle pin of the first needle part and the center of the second pad of the wafer in contact with the first needle pin of the second needle part;
Located on a second line passing through the center of the third pad of the wafer in contact with the first needle pin of the third needle part and the center of the fourth pad of the wafer in contact with the first needle pin of the fourth needle part How to set the probe card for calibration.
상기 프로브 니들의 위치를 상기 설정 위치로 보정하는 단계는,
상기 각 니들부의 제1니들핀에 의해 형성되는 접촉점 중 적어도 하나가 상기 제1선 또는 제2선에 접촉되지 않을 경우 상기 제1니들핀을 상기 제1선 또는 제2선에 접촉점이 형성되도록 위치 보정하는 보정용 프로브 카드의 설정 방법.14. The method of claim 13,
Compensating the position of the probe needle to the set position comprises:
When at least one of the contact points formed by the first needle pin of each needle part does not come into contact with the first line or the second line, the first needle pin is positioned so that the contact point is formed on the first line or the second line How to set the probe card for compensation to be compensated.
상기 제1니들핀을 상기 제1선 또는 제2선에 접촉점이 형성되도록 위치 보정하는 것은,
상기 제2니들핀을 기준점으로 하여 상기 제1니들핀의 좌표값을 구한 다음 카메라부를 이용하여 상기 제3니들핀을 얼라인하여 상기 제3니들핀의 움직임에 의해 상기 제1니들핀을 소정 거리만큼 이동시키는 보정용 프로브 카드의 설정 방법.15. The method of claim 14,
Correcting the position of the first needle pin so that a contact point is formed on the first line or the second line,
Using the second needle pin as a reference point, the coordinate values of the first needle pin are obtained, and then the third needle pin is aligned using the camera unit, and the first needle pin is moved by a predetermined distance by the movement of the third needle pin. How to set the probe card for moving compensation.
상기 소정 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 배치하는 단계 이후에,
상기 소정 프로브 카드의 프로브 니들이 얼라인되었는지 판단하는 단계; 및
상기 프로브 니들이 얼라인되어 있지 않다고 판단되면 상기 프로브 카드를 얼라인시키는 단계를 더 포함하는 보정용 프로브 카드의 설정 방법.13. The method of claim 12,
After placing the predetermined probe card and the wafer in a test position,
determining whether the probe needles of the predetermined probe card are aligned; and
and aligning the probe card when it is determined that the probe needles are not aligned.
상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼를 테스트 위치에 배치하는 단계;
상기 보정용 프로브 카드의 프로브 니들과 상기 웨이퍼의 패드를 접촉하여 접촉점을 형성하는 단계;
상기 각 패드 상의 설정 위치에 상기 접촉점이 형성되었는지 확인하는 과정을 통해 상기 보정용 프로브 카드와 상기 웨이퍼가 테스트 위치에 정렬되었는지를 판단하는 단계; 및
상기 접촉점이 상기 각 패드 상의 설정 위치에 형성되지 않은 경우 상기 웨이퍼가 고정되는 위치를 변경하는 단계를 포함하는 보정용 프로브 카드를 이용한 얼라인 방법.In the alignment method using the calibration probe card set through the 12,
placing the calibration probe card and the wafer at a test position;
forming a contact point by contacting a probe needle of the calibration probe card with a pad of the wafer;
determining whether the calibration probe card and the wafer are aligned at the test position through the process of confirming whether the contact point is formed at the set position on each of the pads; and
and changing a position at which the wafer is fixed when the contact point is not formed at a set position on each of the pads.
상기 보정용 프로브 카드의 프로브 니들은 프로브 카드 PCB의 일측 영역에 배치되는 제1지점에 설치되는 제1니들부와, 상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제1지점과 대향되는 영역인 제2지점에 설치되는 제2니들부와, 상기 제1,2지점과 상이한 영역인 제3지점에 설치되는 제3니들부와, 상기 프로브 카드 PCB의 중심을 기준으로 상기 제3지점과 대향되는 영역인 제4지점에 설치되는 제4니들부를 포함하고,
상기 각 니들부는 위치 보정 가능하게 마련되는 제1니들핀과, 상기 제1니들핀과 이격 배치되어 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 기준점이 되는 제2니들핀 및 상기 제1니들핀과 일정 간격 이격되며, 상기 제1니들핀의 위치 보정 시 상기 제2니들핀을 기준으로 얼라인되어 상기 제1니들핀을 위치 보정시키는 제3니들핀을 포함하고,
상기 설정 위치는,
상기 제1니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제1패드의 센터와 상기 제2니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제2패드의 센터를 지나는 제1선과,
상기 제3니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제3패드의 센터와 상기 제4니들부의 제1니들핀과 접촉되는 상기 웨이퍼의 제4패드의 센터를 지나는 제2선인 보정용 프로브 카드를 이용한 얼라인 방법.18. The method of claim 17,
The probe needle of the probe card for calibration includes a first needle part installed at a first point disposed on one area of the probe card PCB, and a second point that is an area opposite to the first point with respect to the center of the probe card PCB. A second needle part installed in the , a third needle part installed in a third point that is a different area from the first and second points, and a third needle part that is an area opposite to the third point with respect to the center of the probe card PCB Including a fourth needle part installed at 4 points,
Each of the needle parts includes a first needle pin provided so as to be capable of position correction, a second needle pin spaced apart from the first needle pin, and a reference point when the position of the first needle pin is corrected, and a predetermined distance from the first needle pin. and a third needle pin spaced apart and aligned with respect to the second needle pin to correct the position of the first needle pin when the position of the first needle pin is corrected,
The setting position is
a first line passing through the center of the first pad of the wafer in contact with the first needle pin of the first needle part and the center of the second pad of the wafer in contact with the first needle pin of the second needle part;
A calibration probe card that is a second line passing through the center of the third pad of the wafer in contact with the first needle pin of the third needle part and the center of the fourth pad of the wafer in contact with the first needle pin of the fourth needle part alignment method used.
상기 웨이퍼가 고정되는 위치를 변경하는 단계는,
상기 각 니들부의 제1니들핀에 의해 형성되는 접촉점이 상기 제1선 및 상기 제2선에 접촉되지 않을 경우 상기 프로버의 위치를 상기 제1선 및 상기 제2선에 접촉점이 형성되도록 변경하는 보정용 프로브 카드를 이용한 얼라인 방법.19. The method of claim 18,
Changing the position at which the wafer is fixed comprises:
When the contact point formed by the first needle pin of each needle part does not contact the first line and the second line, the position of the prober is changed so that the contact point is formed on the first line and the second line Alignment method using a probe card for calibration.
상기 프로버의 위치를 변경하는 과정은, 상기 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 척을 척 이송장치를 이용하는 보정용 프로브 카드를 이용한 얼라인 방법.20. The method of claim 19,
The process of changing the position of the prober is an alignment method using a calibration probe card using a chuck transfer device for a wafer chuck on which the wafer is seated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140112343A KR102302588B1 (en) | 2014-08-27 | 2014-08-27 | Probe card for calibrating contact position, probe test apparatus, method for setting the probe card and method aligning the probe test apparatus using the probe card for calibration contact position |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140112343A KR102302588B1 (en) | 2014-08-27 | 2014-08-27 | Probe card for calibrating contact position, probe test apparatus, method for setting the probe card and method aligning the probe test apparatus using the probe card for calibration contact position |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160025291A KR20160025291A (en) | 2016-03-08 |
KR102302588B1 true KR102302588B1 (en) | 2021-09-16 |
Family
ID=55534325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140112343A KR102302588B1 (en) | 2014-08-27 | 2014-08-27 | Probe card for calibrating contact position, probe test apparatus, method for setting the probe card and method aligning the probe test apparatus using the probe card for calibration contact position |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102302588B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109270087A (en) * | 2018-09-18 | 2019-01-25 | 广州思林杰网络科技有限公司 | Blue film vision detection system and method |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0265150A (en) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Fujitsu Ltd | Automatic alignment method for probe card |
KR20090073223A (en) * | 2006-11-09 | 2009-07-02 | 가부시키가이샤 아드반테스트 | Tcp handling device, and method for positional alignment of connecting terminals in the device |
JP2013137224A (en) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Sharp Corp | Multichip prober, method for correcting contact position thereof, control program, and readable recording medium |
-
2014
- 2014-08-27 KR KR1020140112343A patent/KR102302588B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160025291A (en) | 2016-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20180059176A1 (en) | Offline vision assist method and apparatus for integrated circuit device vision alignment | |
JP2963603B2 (en) | Probe device alignment method | |
US4786867A (en) | Wafer prober | |
KR102479608B1 (en) | Contact accuracy assurance method, contact accuracy assurance mechanism, and inspection device | |
TW201350860A (en) | Method for aligning probe contacts with wafer contacts | |
JP2007178132A (en) | Semiconductor inspection system and semiconductor inspection method | |
US7977957B2 (en) | Method and apparatus for electrical testing of a unit under test, as well as a method for production of a contact-making apparatus which is used for testing | |
US8860456B2 (en) | Non-destructive tilt data measurement to detect defective bumps | |
KR20190016695A (en) | Wafer alignment method and wafer inspection method using the same | |
JP2007200934A (en) | Evaluation method of needle track of probe needle of probe card | |
US8624619B2 (en) | Semiconductor device and method of performing electrical test on same | |
KR102302588B1 (en) | Probe card for calibrating contact position, probe test apparatus, method for setting the probe card and method aligning the probe test apparatus using the probe card for calibration contact position | |
KR102480524B1 (en) | Control method for inspection device and inspection device | |
CN107490733B (en) | Method and apparatus for aligning probe pin with position of electronic device | |
KR20170000127A (en) | Method of aligning wafer in probe station | |
JP4965101B2 (en) | Method for aligning the probe tip and the electrode of the object to be inspected | |
KR20170049880A (en) | Method of aligning probe card | |
WO2013176537A1 (en) | A semiconductor components delivery system associated with a turret type testing apparatus | |
JP2648371B2 (en) | Inspection method for TAB device, carrier for TAB device used therefor, measuring module and insert device | |
JP2005123293A (en) | Method for inspecting probe | |
KR101325634B1 (en) | Method for inspecting pcb of semiconductor packages | |
JPS63170933A (en) | Wafer prober | |
CN117783607A (en) | Alignment method and alignment device thereof | |
KR101415276B1 (en) | Wafer prober system being capable of inspecting wafer surface | |
KR102538843B1 (en) | Method of testing semiconductor devices |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |