KR102167534B1 - Apparatus and vacuum system for carrier alignment in vacuum chamber, and method of alignment of carriers - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000000969 carrier Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 101
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 31
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 20
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims description 12
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 69
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 65
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- -1 or the like Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67709—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/682—Mask-wafer alignment
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
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Abstract
진공 챔버(101)에서 캐리어를 정렬시키기 위한 장치(100)가 설명된다. 이 장치는 제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 제1 캐리어(10)를 이송하도록 구성된 제1 캐리어 이송 시스템(120), 및 정렬 시스템(130)을 포함한다. 정렬 시스템은 제1 캐리어(10)를 정렬 시스템(130)에 장착하기 위한 제1 마운트(152), 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151), 및 제1 방향(X)을 횡단하는 제2 방향(Z)으로 정렬 디바이스(151)를 제1 마운트(152)와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141)를 포함한다. 또한, 캐리어를 정렬시키기 위한 방법 및 진공 시스템이 설명된다.An apparatus 100 for aligning carriers in a vacuum chamber 101 is described. The device comprises a first carrier conveying system 120 configured to convey the first carrier 10 in a first direction X along a first conveying path, and an alignment system 130. The alignment system includes a first mount 152 for mounting the first carrier 10 to the alignment system 130, an alignment device 151 configured to move the first mount 152 in at least one alignment direction, and And a first shifting device 141 configured to move the alignment device 151 together with the first mount 152 in a second direction Z crossing the first direction X. In addition, a method and vacuum system for aligning the carriers are described.
Description
[0001] 본 개시내용의 실시예는 진공 챔버에서 캐리어(carrier)를 정렬시키기 위한 장치 및 진공 시스템, 및 진공 챔버에서 캐리어를 정렬시키는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 진공 챔버에서 기판을 운반(carry)하는 기판 캐리어를 이송하고 포지셔닝(positioning)하며 정렬시키는 방법이 설명된다. 본 개시내용의 실시예들은 특히 캐리어에 의해 운반되는 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 증착 시스템에 관한 것으로서, 기판은 증착 전에 마스크에 대해 정렬된다. 본원에 설명된 방법들 및 장치들은 유기 발광 다이오드(organic light-emitting diode; OLED) 디바이스들의 제조에 사용될 수 있다.[0001] Embodiments of the present disclosure relate to an apparatus and a vacuum system for aligning a carrier in a vacuum chamber, and a method for aligning a carrier in a vacuum chamber. More specifically, a method of transferring, positioning and aligning a substrate carrier carrying a substrate in a vacuum chamber is described. Embodiments of the present disclosure particularly relate to a vacuum deposition system for depositing material on a substrate carried by a carrier, wherein the substrate is aligned with a mask prior to deposition. The methods and apparatuses described herein can be used in the manufacture of organic light-emitting diode (OLED) devices.
[0002] 기판 상에서의 층 증착을 위한 기술들은, 예를 들어 열 증발(thermal evaporation), 물리적 기상 증착(physical vapor deposition; PVD) 및 화학적 기상 증착(chemical vapor deposition; CVD)을 포함한다. 코팅된 기판들은 몇몇의 응용들 및 몇몇의 기술 분야들에서 사용될 수 있다. 예를 들어, 코팅된 기판들은 유기 발광 다이오드(OLED) 디바이스들의 분야에서 사용될 수 있다. OLED들은, 예를 들어 정보를 표시하기 위한, 텔레비전 스크린들(television screens), 컴퓨터 모니터들(computer monitors), 휴대폰들, 다른 핸드헬드형 디바이스들(hand-held devices) 등의 제조에 사용될 수 있다. OLED 디스플레이와 같은 OLED 디바이스는 기판 상에 모두 증착된 2 개의 전극들 사이에 위치된 유기 재료의 하나 이상의 층들을 포함할 수 있다.[0002] Techniques for layer deposition on a substrate include, for example, thermal evaporation, physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). Coated substrates can be used in several applications and in several technical fields. For example, coated substrates can be used in the field of organic light emitting diode (OLED) devices. OLEDs can be used in the manufacture of television screens, computer monitors, mobile phones, other hand-held devices, etc., for displaying information, for example. . An OLED device, such as an OLED display, can include one or more layers of organic material positioned between two electrodes both deposited on a substrate.
[0003] 기판 상에의 코팅 재료의 증착 동안, 기판은 기판 캐리어에 의해 유지될 수 있고, 마스크는 기판의 전방에서 마스크 캐리어(mask carrier)에 의해 유지될 수 있다. 마스크의 개구 패턴(opening pattern)에 대응하는 재료 패턴, 예를 들어 복수의 픽셀들(pixels)이, 예를 들어 증발에 의해, 기판 상에 증착될 수 있다.[0003] During deposition of the coating material on the substrate, the substrate may be held by a substrate carrier, and the mask may be held by a mask carrier in front of the substrate. A material pattern corresponding to the opening pattern of the mask, for example a plurality of pixels, may be deposited on the substrate, for example by evaporation.
[0004] OLED 디바이스의 기능은 전형적으로, 사전결정된 범위 내에 있어야 하는 유기 재료의 두께 및 코팅 패턴의 정확도에 의존한다. 고해상도의 OLED 디바이스들을 얻기 위해, 증발된 재료들의 증착에 대한 기술적 난제들이 극복될 필요가 있다. 특히, 기판을 운반하는 기판 캐리어 및/또는 마스크를 운반하는 마스크 캐리어를 진공 시스템을 통해 정확하고 원활하게 이송하는 것은 난제이다. 또한, 마스크에 대한 기판의 정확한 정렬은 고품질의 증착 결과들을 달성하는 데, 예를 들어 고해상도의 OLED 디바이스들을 제조하는 데 결정적이다. 더욱이, 코팅 재료의 효율적인 이용은 유익하며, 시스템의 유휴 시간들(idle times)은 가능한 한 짧게 유지되어야 한다.[0004] The function of an OLED device typically depends on the accuracy of the coating pattern and the thickness of the organic material that must be within a predetermined range. In order to obtain high-resolution OLED devices, technical challenges to the deposition of evaporated materials need to be overcome. In particular, it is a challenge to accurately and smoothly transfer a substrate carrier carrying a substrate and/or a mask carrier carrying a mask through a vacuum system. In addition, the correct alignment of the substrate to the mask is crucial for achieving high quality deposition results, for example manufacturing high resolution OLED devices. Moreover, efficient use of the coating material is beneficial, and the idle times of the system should be kept as short as possible.
[0005] 상기된 바를 고려하여, 진공 챔버에서 기판들 및/또는 마스크들을 운반하기 위한 캐리어들을 정확하고 신뢰성있게 이송하고 포지셔닝하며 그리고/또는 정렬시키기 위한 장치들, 시스템들 및 방법들을 제공하는 것이 유익할 것이다.[0005] In view of the above, it is beneficial to provide devices, systems and methods for accurately and reliably transporting, positioning and/or aligning carriers for transporting substrates and/or masks in a vacuum chamber. something to do.
[0006] 상기된 바를 고려하여, 진공 챔버에서의 캐리어 정렬을 위한 장치 및 진공 시스템, 및 진공 챔버에서 캐리어를 정렬시키는 방법이 제공된다. 본 개시내용의 다른 양상들, 이익들 및 특징들은 청구범위, 상세한 설명 및 첨부 도면들로부터 자명하다.[0006] In view of the above, an apparatus and a vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, and a method for aligning carriers in a vacuum chamber are provided. Other aspects, benefits, and features of the present disclosure are apparent from the claims, detailed description, and accompanying drawings.
[0007] 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 진공 챔버에서의 캐리어 정렬을 위한 장치가 제공된다. 장치는 제1 이송 경로를 따라 제1 방향으로 제1 캐리어를 이송하도록 구성된 제1 캐리어 이송 시스템, 및 정렬 시스템을 포함한다. 정렬 시스템은 제1 캐리어를 정렬 시스템에 장착하기 위한 제1 마운트(mount), 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스, 및 제1 방향을 횡단(transverse)하는 제2 방향으로 정렬 디바이스를 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(shifting device)를 포함한다.[0007] According to an aspect of the present disclosure, an apparatus for alignment of carriers in a vacuum chamber is provided. The apparatus includes a first carrier transport system configured to transport a first carrier in a first direction along a first transport path, and an alignment system. The alignment system comprises a first mount for mounting the first carrier to the alignment system, an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and a second direction transverse to the first direction. And a first shifting device configured to move the alignment device with the first mount.
[0008] 실시예들에서, 제1 캐리어는 기판을 운반하도록 구성된 기판 캐리어이다. 일부 실시예들에서, 정렬 시스템은 제1 캐리어에 의해 운반되는 기판 상에 재료를 증착하기 위해 제1 캐리어, 예를 들어 기판 캐리어를 제2 캐리어, 예를 들어 마스크 캐리어에 대해 정렬시키도록 구성된다.[0008] In embodiments, the first carrier is a substrate carrier configured to carry a substrate. In some embodiments, the alignment system is configured to align a first carrier, e.g., a substrate carrier, relative to a second carrier, e.g., a mask carrier, to deposit material on a substrate carried by the first carrier. .
[0009] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 진공 챔버에서의 캐리어 정렬을 위한 진공 시스템이 제공된다. 진공 시스템은 측벽을 갖는 진공 챔버, 및 정렬 시스템을 포함한다. 정렬 시스템은 제1 캐리어를 정렬 시스템에 장착하기 위한 제1 마운트, 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스, 및 제1 방향을 횡단하는 제2 방향으로 정렬 디바이스를 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스를 포함한다. 정렬 시스템은 측벽을 통해 연장되고, 예를 들어 적어도 하나의 진동 댐핑 엘리먼트(vibration damping element) 또는 진동 절연 엘리먼트(vibration isolation element)를 통해, 특히 측벽의 변형들의 정렬 시스템으로의 전달을 감소시키거나 방지할 수 있는 벨로우즈 엘리먼트(bellow element)와 같은 탄성 또는 가요성 밀봉 엘리먼트를 통해, 측벽에 가요성있게(flexibly) 연결된다.[0009] According to another aspect of the present disclosure, a vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber is provided. The vacuum system includes a vacuum chamber with side walls, and an alignment system. The alignment system includes a first mount for mounting the first carrier to the alignment system, an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and an alignment device in a second direction transverse to the first direction. And a first shifting device configured to move with the mount. The alignment system extends through the sidewall, for example via at least one vibration damping element or vibration isolation element, in particular reducing or preventing the transmission of deformations of the sidewall to the alignment system. It is flexibly connected to the sidewall through an elastic or flexible sealing element, such as a bellows element.
[0010] 일부 실시예들에서, 진공 시스템은 진공 챔버에서 제1 캐리어에 의해 운반된 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 소스를 포함하는 진공 증착 시스템이다.In some embodiments, the vacuum system is a vacuum deposition system that includes a deposition source for depositing a material on a substrate carried by a first carrier in a vacuum chamber.
[0011] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 진공 챔버에서 캐리어를 정렬시키는 방법이 제공된다. 방법은 제1 이송 경로를 따라 제1 방향으로 제1 캐리어를 이송하는 단계, 및 정렬 시스템의 제1 마운트에 제1 캐리어를 장착하는 단계를 포함하며, 정렬 시스템은 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스, 및 제1 방향을 횡단하는 제2 방향으로 정렬 디바이스를 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스를 포함한다. 방법은 제1 마운트에 장착된 제1 캐리어를 제1 시프팅 디바이스에 의해 제2 방향으로 이동시키는 단계, 및 정렬 디바이스에 의해 제1 캐리어를 적어도 하나의 정렬 방향으로 정렬시키는 단계를 더 포함한다.[0011] According to another aspect of the present disclosure, a method of aligning a carrier in a vacuum chamber is provided. The method includes transporting the first carrier in a first direction along a first transport path, and mounting the first carrier to a first mount of the alignment system, wherein the alignment system includes a first carrier in at least one alignment direction. An alignment device configured to move the mount, and a first shifting device configured to move the alignment device with the first mount in a second direction transverse to the first direction. The method further includes moving the first carrier mounted on the first mount in a second direction by the first shifting device, and aligning the first carrier in at least one alignment direction by the alignment device.
[0012] 일부 실시예들에서, 제1 캐리어는 기판을 유지(hold)하는 기판 캐리어이고, 제1 캐리어를 정렬시키는 단계는 마스크를 유지하는 제2 캐리어에 대해 기판 캐리어를 정렬시키는 단계를 포함한다.[0012] In some embodiments, the first carrier is a substrate carrier holding the substrate, and aligning the first carrier includes aligning the substrate carrier with a second carrier holding the mask. .
[0013] 일부 실시예들에서, 정렬 시스템은 진공 챔버의 측벽을 통해 연장되고, 예를 들어 적어도 하나의 진동 댐핑 엘리먼트 또는 진동 절연 엘리먼트를 통해, 측벽에 가요성있게 연결된다. 따라서, 측벽의 진동들 또는 다른 변형들은 정렬 시스템으로 직접 전달되지 않는다. 정렬 정확도가 향상될 수 있다.[0013] In some embodiments, the alignment system extends through the sidewall of the vacuum chamber and is flexibly connected to the sidewall, for example through at least one vibration damping element or vibration isolation element. Thus, vibrations or other deformations of the sidewall are not transmitted directly to the alignment system. Alignment accuracy can be improved.
[0014] 실시예들은 또한 개시된 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이며, 각각의 설명된 방법 양상을 수행하기 위한 장치 부분들을 포함한다. 이들 방법 양상들은 하드웨어 컴포넌트들, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터, 이들의 임의의 조합에 의해, 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 또한, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한 설명된 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 설명된 장치를 동작시키기 위한 방법들은 장치의 모든 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.[0014] Embodiments also relate to apparatuses for performing the disclosed methods, including apparatus portions for performing each described method aspect. These method aspects may be performed by hardware components, a computer programmed by suitable software, any combination thereof, or in any other manner. Moreover, embodiments according to the present disclosure also relate to methods for operating the described apparatus. Methods for operating the described apparatus include method aspects for performing all functions of the apparatus.
[0015] 본 개시내용의 상기 언급된 특징들이 상세하게 이해될 수 있는 방식으로, 상기에서 간략하게 요약된 본 개시내용의 보다 특정한 설명이 실시예들을 참조하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들과 관련되며, 하기에서 설명된다:
도 1은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 캐리어를 정렬시키기 위한 장치의 개략적인 단면도를 도시하고;
도 2는 본원에 설명된 실시예들에 따른, 캐리어를 정렬시키기 위한 진공 시스템의 개략적인 단면도를 도시하고;
도 3은 이송 위치에 있는, 본원에 설명된 실시예들에 따른, 캐리어를 정렬시키기 위한 장치의 개략적인 단면도를 도시하고;
도 4a는 제2 위치에 있는 도 3의 실시예를 도시하고;
도 4b는 제3 위치에 있는 도 3의 실시예를 도시하고;
도 5는 본원에 설명된 실시예들에 따른 장치의 정렬 시스템의 분해도를 도시하고;
도 6은 도 5의 정렬 시스템의 사시도를 도시하며;
도 7은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 진공 챔버에서 캐리어를 정렬시키는 방법을 나타내는 흐름도이다.[0015] In a way that the above-mentioned features of the present disclosure can be understood in detail, a more specific description of the present disclosure briefly summarized above may be made with reference to embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the present disclosure and are described below:
1 shows a schematic cross-sectional view of an apparatus for aligning a carrier, according to embodiments described herein;
2 shows a schematic cross-sectional view of a vacuum system for aligning a carrier, according to embodiments described herein;
3 shows a schematic cross-sectional view of an apparatus for aligning a carrier, according to embodiments described herein, in a transport position;
Figure 4a shows the embodiment of Figure 3 in a second position;
Figure 4b shows the embodiment of Figure 3 in a third position;
5 shows an exploded view of an alignment system of an apparatus according to embodiments described herein;
Figure 6 shows a perspective view of the alignment system of Figure 5;
7 is a flow diagram illustrating a method of aligning a carrier in a vacuum chamber, according to embodiments described herein.
[0016] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세하게 참조될 것이며, 이들 실시예들 중 하나 이상의 예들이 도면들에 예시된다. 도면들의 하기의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 일반적으로, 개별 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로 제공되며, 본 개시내용의 제한으로서 의미되지 않는다.[0016] Reference will now be made in detail to various embodiments of the present disclosure, and examples of one or more of these embodiments are illustrated in the drawings. Within the following description of the drawings, like reference numbers refer to like components. In general, only the differences for individual embodiments are described. Each example is provided as a description of the present disclosure and is not meant as a limitation of the present disclosure.
[0017] 또한, 일 실시예의 일부로서 예시되거나 설명된 특징들은 다른 실시예에 또는 다른 실시예와 함께 사용되어, 또 다른 실시예를 생성할 수 있다. 상세한 설명은 그러한 변형들 및 변경들을 포함하는 것으로 의도된다.In addition, features illustrated or described as part of one embodiment may be used in or in conjunction with another embodiment to create another embodiment. The detailed description is intended to include such modifications and variations.
[0018] 도 1은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 진공 챔버(101)에서 제1 캐리어(10)를 정렬시키기 위한 장치(100)의 개략적인 단면도이다. "정렬하는"이라는 용어는 진공 챔버 내의 사전결정된 위치, 특히 제2 캐리어에 대한 사전결정된 위치에 캐리어를 정확하게 포지셔닝하는 것을 지칭한다. 제1 캐리어는 적어도 하나의 정렬 방향, 특히 서로에 대해 본질적으로 수직일 수 있는 2 개 또는 3 개의 정렬 방향들로 정렬된다.1 is a schematic cross-sectional view of an
[0019] 하기의 설명에서, "제1 캐리어"라는 용어는 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 기판(11)을 운반하도록 구성된 기판 캐리어를 지시하는 데 사용된다. "제2 캐리어"라는 용어는 마스크(21)(도 3 참조)를 운반하도록 구성된 마스크 캐리어를 지시하는 데 사용된다. 그러나, 대안적으로, 제1 캐리어(10)가 상이한 물체, 예를 들어 마스크 또는 실드(shield)를 유지하도록 구성된 캐리어일 수 있다는 것이 이해될 것이다. In the following description, the term “first carrier” is used to designate a substrate carrier configured to carry the
[0020] "기판 캐리어"는 진공 챔버(101)에서 제1 이송 경로를 따라 기판(11)을 운반하도록 구성된 캐리어 디바이스와 관련된다. 기판 캐리어는 기판(11) 상에의 코팅 재료의 증착 동안에 기판(11)을 유지할 수 있다. 일부 실시예들에서, 기판(11)은, 예를 들어 이송, 정렬 및/또는 증착 동안, 비-수평 배향, 특히 본질적으로 수직 배향으로 기판 캐리어에 유지될 수 있다. 도 1에 도시된 실시예에서, 기판(11)은 본질적으로 수직 배향으로 제1 캐리어(10)에 유지된다. 예를 들어, 기판 표면과 중력 벡터(gravity vector) 사이의 각도는 10° 미만, 특히 5° 미만일 수 있다."Substrate carrier" relates to a carrier device configured to transport the
[0021] 예를 들어, 기판(11)은 진공 챔버(101)를 통한 이송 동안, 진공 챔버(101)에서의 정렬 동안, 및/또는 기판 상에의 코팅 재료의 증착 동안, 제1 캐리어(10)의 유지 표면에 유지될 수 있다. 특히, 기판(11)은 척킹 디바이스(chucking device)에 의해, 예를 들어 정전 척(electrostatic chuck; ESC) 또는 자기 척((magnetic chuck))에 의해 제1 캐리어(10)에 유지될 수 있다. 척킹 디바이스는 제1 캐리어(10), 예를 들어 제1 캐리어에 제공된 대기 밀폐체(atmospheric enclosure)에 통합될 수 있다.[0021] For example, the
[0022] 제1 캐리어(10)는 기판(11)을, 특히 비-수평 배향으로, 보다 특히 본질적으로 수직 배향으로 유지하도록 구성된 유지 표면을 갖는 캐리어 몸체(carrier body)를 포함할 수 있다. 제1 캐리어는 제1 캐리어 이송 시스템(120)에 의해 제1 이송 경로를 따라 이동 가능할 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 캐리어(10)는 이송 동안에, 예를 들어 자기 부상 시스템(magnetic levitation system)에 의해 비접촉식으로 유지될 수 있다. 특히, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은, 진공 챔버에서 제1 이송 경로를 따라 제1 캐리어(10)를 비접촉식으로 이송하도록 구성된 자기 부상 시스템일 수 있다. 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 정렬 시스템 및 증착 소스가 배열되는 진공 챔버의 증착 영역 내로 제1 캐리어를 이송하도록 구성될 수 있다.[0022] The
[0023] 본원에 사용된 바와 같은 "마스크 캐리어"는 진공 챔버에서 마스크 이송 경로를 따라 마스크를 이송하기 위한, 마스크를 운반하도록 구성된 캐리어 디바이스와 관련된다. 마스크 캐리어는 이송 동안, 정렬 동안 및/또는 마스크를 통한 기판 상에의 증착 동안 마스크를 운반할 수 있다. 일부 실시예들에서, 마스크는 이송 및/또는 정렬 동안에 비-수평 배향, 특히 본질적으로 수직 배향으로 마스크 캐리어에 유지될 수 있다. 마스크는 척킹 디바이스, 예를 들어, 클램프(clamp), 정전 척 또는 자기 척과 같은 기계적 척(mechanic chuck)에 의해 마스크 캐리어에 유지될 수 있다. 마스크 캐리어에 연결되거나 통합될 수 있는 다른 유형들의 척킹 디바이스들이 사용될 수 있다.[0023] A “mask carrier” as used herein relates to a carrier device configured to carry a mask, for transferring the mask along the mask transfer path in a vacuum chamber. The mask carrier may carry the mask during transport, during alignment, and/or during deposition on the substrate through the mask. In some embodiments, the mask may be held on the mask carrier in a non-horizontal orientation, particularly an essentially vertical orientation, during transport and/or alignment. The mask may be held on the mask carrier by a chucking device, for example a mechanical chuck such as a clamp, an electrostatic chuck or a magnetic chuck. Other types of chucking devices may be used that may be connected or integrated with the mask carrier.
[0024] 예를 들어, 마스크는 에지 제외 마스크(edge exclusion mask) 또는 섀도우 마스크(shadow mask)일 수 있다. 에지 제외 마스크는 기판의 하나 이상의 에지 영역들을 마스킹하도록 구성된 마스크여서, 기판의 코팅 동안에 하나 이상의 에지 영역들 상에 재료가 증착되지 않게 한다. 섀도우 마스크는 기판 상에 증착될 복수의 피쳐들(features)을 마스킹하도록 구성된 마스크이다. 예를 들어, 섀도우 마스크는 복수의 작은 개구들, 예를 들어 10,000 개 이상의 개구들, 특히 1,000,000 개 이상의 개구들을 갖는 개구 패턴을 포함할 수 있다.[0024] For example, the mask may be an edge exclusion mask or a shadow mask. The edge exclusion mask is a mask configured to mask one or more edge regions of the substrate such that no material is deposited on the one or more edge regions during coating of the substrate. The shadow mask is a mask configured to mask a plurality of features to be deposited on a substrate. For example, the shadow mask may comprise an opening pattern having a plurality of small openings, for example 10,000 or more openings, especially 1,000,000 or more openings.
[0025] 본원에 사용된 바와 같은 "본질적으로 수직 배향"은 수직 배향으로부터, 즉 중력 벡터로부터 10° 이하, 특히 5° 이하의 편차를 갖는 배향으로서 이해될 수 있다. 예를 들어, 기판(또는 마스크)의 메인 표면과 중력 벡터 사이의 각도는 +10° 내지 -10°, 특히 0° 내지 -5°일 수 있다. 일부 실시예들에서, 기판(또는 마스크)의 배향은 이송 동안 및/또는 증착 동안에 정확하게 수직은 아니지만, 수직 축에 대해, 예를 들어 0° 내지 -5°, 특히 -1° 내지 -5°의 경사각만큼 약간 경사져 있을 수 있다. 음의 각도는 기판(또는 마스크)이 하향으로 경사진 기판(또는 마스크)의 배향을 지칭한다. 증착 동안 중력 벡터로부터의 기판 배향의 편차는 유익할 수 있으며, 보다 안정적인 증착 프로세스를 야기할 수 있거나, 하향 배향은 증착 동안 기판 상의 입자들을 감소시키기에 적합할 수 있다. 그러나, 이송 동안 및/또는 증착 동안 정확한 수직 배향(±1°)도 또한 가능하다. 다른 실시예들에서, 기판들 및 마스크들은 비-수직 배향으로 이송될 수 있으며, 그리고/또는 기판들은 비-수직 배향, 예를 들어 본질적으로 수평 배향으로 코팅될 수 있다."Essentially vertical orientation" as used herein can be understood as an orientation with a deviation of 10° or less, in particular 5° or less, from the vertical orientation, ie from the gravity vector. For example, the angle between the main surface of the substrate (or mask) and the gravity vector may be +10° to -10°, in particular 0° to -5°. In some embodiments, the orientation of the substrate (or mask) is not exactly perpendicular during transfer and/or deposition, but with respect to the vertical axis, for example between 0° and -5°, in particular between -1° and -5°. It may be slightly inclined by the angle of inclination. The negative angle refers to the orientation of the substrate (or mask) with the substrate (or mask) inclined downward. Deviation of the substrate orientation from the gravity vector during deposition may be beneficial and may result in a more stable deposition process, or the downward orientation may be suitable to reduce particles on the substrate during deposition. However, precise vertical orientation (±1°) during transfer and/or during deposition is also possible. In other embodiments, the substrates and masks may be transferred in a non-vertical orientation, and/or the substrates may be coated in a non-vertical orientation, eg, an essentially horizontal orientation.
[0026] 본원에 설명된 실시예들에 따른 장치(100)는 제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 제1 캐리어(10)를 이송하도록 구성된 제1 캐리어 이송 시스템(120), 특히 자기 부상 시스템을 포함한다. 제1 방향(X)은 본질적으로 수평 방향일 수 있다. 도 1에서, 제1 방향(X)은 지면(paper plane)에 수직이다.[0026] The
[0027] 장치(100)는 진공 챔버(101)에서 제1 캐리어(10)를 정렬시키도록 구성된 정렬 시스템(130)을 더 포함한다. 정렬 시스템(130)은 진공 챔버에서 제1 캐리어(10)를 정확하게 포지셔닝하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 증착 소스(105)가 진공 챔버(101) 내에 제공된다. 증착 소스(105)는 제1 캐리어(10)에 의해 유지되는 기판(11) 상에 코팅 재료를 증착하도록 구성된다.The
[0028] 정렬 시스템(130)은 정렬 시스템(130)에 제1 캐리어(10)를 장착하기 위한 제1 마운트(152) 및 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151)를 포함한다. 정렬 시스템(130)은 제1 방향(X)을 횡단하는, 특히 본질적으로 제1 방향에 수직인 제2 방향(Z)으로 정렬 디바이스(151)를 제1 마운트(152)와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141)를 더 포함한다.[0028]
[0029] 따라서, 제1 마운트(152)는, 예를 들어 제1 마운트에 장착된 제1 캐리어의 개략 포지셔닝(coarse positioning)을 수행하기 위해, 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있으며, 제1 마운트(152)는, 예를 들어 제1 마운트에 장착된 제1 캐리어의 미세 포지셔닝(fine positioning)을 수행하기 위해, 정렬 디바이스(151)에 의해 추가로 이동될 수 있다.Thus, the
[0030] 제2 방향(Z)은 본질적으로 수평 방향일 수 있다. 제2 방향(Z)은 제1 캐리어가 제1 캐리어 이송 시스템(120)에 의해 이송되는 제1 방향(X)에 본질적으로 수직일 수 있다. 제1 방향(X)으로의 제1 캐리어의 이송 후에, 제1 캐리어는 제1 마운트(152)에 장착되고, 제2 방향(Z)으로 제1 이송 경로로부터 멀리, 예를 들어 증착 소스(105)를 향해 또는 마스크를 운반하는 제2 캐리어를 향해 시프팅될 수 있다.[0030] The second direction Z may be essentially a horizontal direction. The second direction Z may be essentially perpendicular to the first direction X in which the first carrier is conveyed by the first
[0031] 일부 실시예들에서, 적어도 하나의 정렬 방향은 본질적으로 제2 방향(Z)에 대응할 수 있다. 따라서, 제1 캐리어는 제1 시프팅 디바이스(141) 및 정렬 디바이스(151)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있다. 제1 시프팅 디바이스(141)는 제2 방향(Z)으로의 제1 캐리어의 변위를 수행하도록 구성될 수 있으며, 정렬 디바이스(151)는 본질적으로 수직 방향일 수 있는 제1 방향(X), 제2 방향(Z) 및 제3 방향(Y) 중 적어도 하나의 방향으로의 제1 캐리어의 미세 정렬을 수행하도록 구성될 수 있다.[0031] In some embodiments, the at least one alignment direction may essentially correspond to the second direction Z. Accordingly, the first carrier may be moved in the second direction Z by the
[0032] 일부 실시예들에서, 정렬 디바이스(151)는 제2 방향(Z)으로, 그리고 선택적으로 제1 방향(X), 및 제1 및 제2 방향을 횡단하는 제3 방향(Y) 중 적어도 하나의 방향으로 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성된다. 제3 방향(Y)은 본질적으로 수직 방향일 수 있다. 따라서, 제1 캐리어는 정렬 디바이스(151)에 의해 제1 방향(X), 제2 방향(Z) 및/또는 제3 방향(Y)으로 정확하게 포지셔닝될 수 있다. 다른 실시예들에서, 정렬 디바이스(151)는 2 개의 방향들, 예를 들어 제2 방향(Z) 및 제3 방향(Y)으로만 제1 마운트를 이동시킬 수 있다. 또 다른 실시예들에서, 정렬 디바이스(151)는 하나의 방향, 특히 제2 방향(Z)으로만 제1 마운트를 이동시킬 수 있다.[0032] In some embodiments, the
[0033] 정렬 디바이스(151) 및 제1 마운트(152)는 제1 시프팅 디바이스(141)의 피구동부(driven part)(143)에 고정될 수 있어, 정렬 디바이스(151) 및 제1 마운트(152)는 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있다. 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 제1 시프팅 디바이스(141)는 구동 유닛(driving unit)(142) 및 이 구동 유닛(142)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있는 피구동부(143)를 포함한다. 정렬 디바이스(151)는 제1 마운트(152)와 함께 피구동부(143), 예를 들어 피구동부(143)의 전방 단부에 제공되어, 피구동부(143)와 함께 제2 방향(Z)으로 이동 가능할 수 있다. 피구동부(143)는 진공 챔버 외부로부터 진공 챔버 내로 제2 방향(Z)으로 연장되는 선형 연장 바(bar) 또는 암(arm)을 포함할 수 있고, 구동 유닛(142)에 의해 이동될 수 있다.[0033] The
[0034] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 제1 시프팅 디바이스(141)의 구동 유닛(142)은 피구동부(143)를 제2 방향(Z)으로 10 ㎜ 이상, 특히 20 ㎜ 이상, 보다 특히 30 ㎜ 이상의 거리만큼 이동시키도록 구성된 선형 액추에이터(linear actuator)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 구동 유닛(142)은 피구동부(143)를 제2 방향(Z)으로 10 ㎜ 이상의 거리만큼 이동시키도록 구성된 기계적 액추에이터, 전기-기계적 액추에이터, 예컨대 스테퍼 모터(stepper motor), 전기 모터, 유압 액추에이터 및/또는 공압 액추에이터를 포함할 수 있다.[0034] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the driving
[0035] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 정렬 디바이스(151)는 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 적어도 하나의 정밀 액추에이터, 예를 들어 적어도 하나의 압전 액추에이터를 포함할 수 있다. 특히, 정렬 디바이스(151)는 제1 마운트를 2 개 또는 3 개의 정렬 방향들로 이동시키도록 구성된 2 개 또는 3 개의 압전 액추에이터들을 포함한다. 정렬 디바이스(151)의 압전 액추에이터는 제2 방향(Z)으로, 그리고 선택적으로 제1 방향(X) 및/또는 제3 방향(Y)으로 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성될 수 있다. 정렬 디바이스(151)는 제1 캐리어가 그 위에 장착된 제1 마운트(152)를 적어도 하나의 정렬 방향으로 미세 포지셔닝(또는 미세 정렬)하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 정렬 디바이스는 5 ㎛ 미만의 정확도로, 특히 ㎛ 미만의 정확도로 제1 캐리어를 포지셔닝하도록 구성될 수 있다. 따라서, 정렬 디바이스(151)가 제1 마운트(152)와 함께 제1 시프팅 디바이스의 피구동부(143)에 제공됨으로써, 제1 마운트의 개략 포지셔닝이 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 수행될 수 있고, 제1 마운트의 미세 포지셔닝이 정렬 디바이스(151)에 의해 제공될 수 있다.[0035] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0036] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 제1 마운트(152)는 제1 캐리어(10)를 제1 마운트(152)에 자기적으로 유지하도록 구성된 자기 척을 포함한다. 예를 들어, 제1 마운트(152)는 제1 캐리어를 제1 마운트에 자기적으로 유지하도록 구성된 전자영구 자석 디바이스(electropermanent magnet device)를 포함할 수 있다. 전자영구 자석 디바이스는 전자영구 자석 디바이스의 코일에 전기 펄스를 인가함으로써 유지 상태와 해제 상태 사이에서 전환될 수 있다. 특히, 전자영구 자석 디바이스의 적어도 하나의 자석의 자화가 전기 펄스를 인가함으로써 변화될 수 있다.[0036] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0037] 진공 챔버에서 제1 캐리어(10)를 정렬시키는 방법은 (ⅰ) 제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 진공 챔버(101)의 증착 영역 내로 제1 캐리어(10)를 이송하는 단계를 포함할 수 있다. 제1 캐리어(10)는 제1 캐리어 이송 시스템(120)에 의해, 특히 적어도 하나의 자석 유닛(magnet unit)(121)을 갖는 자기 부상 시스템에 의해 비접촉식으로 이송될 수 있다. 적어도 하나의 자석 유닛(121)은 제1 캐리어(10)를 안내 레일(guiding rail)에 비접촉식으로 유지하도록 구성된 능동 제어식 자석 유닛(actively controlled magnet unit)일 수 있다. (ⅱ) 제1 캐리어를 증착 영역 내의 정렬 시스템(130)의 제1 마운트(152)에 장착하는 단계. 정렬 시스템(130)은 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151), 및 제2 방향(Z)으로 정렬 디바이스를 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141)를 포함한다. 제1 캐리어를 제1 마운트(152)에 장착하는 단계는 제1 마운트(152)가 제1 캐리어에 접촉하고 제1 캐리어에 부착될 때까지 제1 이송 경로 상에 포지셔닝된 제1 캐리어(10)를 향해 제1 마운트(152)를 이동시키는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 마운트(152)는 제1 캐리어에 자기적으로 부착된다.[0037] The method of aligning the
[0038] (ⅲ) 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 제1 캐리어를 정렬 디바이스(151)와 함께 이동시키는 단계. 예를 들어, 제1 시프팅 디바이스(141)의 피구동부(143)는 제1 캐리어(10)를 제2 방향(Z)으로 증착 소스(105)를 향해 또는 제2 캐리어를 향해 10 ㎜ 이상의 거리만큼 이동시킬 수 있다. (ⅳ) 정렬 디바이스(151)에 의해 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 캐리어를 정렬시키는 단계. 제1 캐리어(10)를 정렬시키는 단계는 제2 방향(Z)으로, 그리고 선택적으로 제1 방향(X) 및 제3 방향(Y) 중 적어도 하나의 방향으로, 특히 진공 챔버(101) 내부의 제1 시프팅 디바이스(141)의 피구동부(143)에 제공된 적어도 하나의 압전 액추에이터를 통한, 제1 캐리어(10)의 미세 포지셔닝을 포함할 수 있다. 따라서, 제1 캐리어(10)의 정확한 정렬이 본원에 설명된 장치(100)에 의해 제공될 수 있다.(Iii) moving the first carrier together with the
[0039] 도 2는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른, 진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치(200)를 개략적인 단면도로 도시한다. 장치(200)는 도 1에 도시된 장치(100)와 유사하며, 그에 따라 상기의 설명들이 참조될 수 있으며, 이러한 설명들은 여기에서는 반복하지 않는다.FIG. 2 shows in a schematic cross-sectional view an
[0040] 장치(200)는 제1 방향(X)으로 제1 캐리어(10)를 이송하도록 구성된 제1 캐리어 이송 시스템(120)을 포함한다. 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 적어도 하나의 자석 유닛(121), 특히 제1 캐리어(10)를 안내 구조체에 비접촉식으로 유지하도록 구성된 적어도 하나의 능동 제어식 자석 유닛을 갖는 자기 부상 시스템을 포함할 수 있다.The
[0041] 장치(200)는 정렬 시스템(130)을 더 포함하며, 정렬 시스템(130)은 제1 캐리어(10)를 정렬 시스템(130)에 장착하도록 구성된 제1 마운트(152), 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151), 및 제1 방향(X)에 본질적으로 수직일 수 있는 제2 방향(Z)으로 정렬 디바이스를 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141)를 갖는다.[0041] The
[0042] 제1 시프팅 디바이스(141)는 구동 유닛(142), 및 구동 유닛(142)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있는 피구동부(143)를 포함한다. 정렬 디바이스(151) 및 제1 마운트(152)는 피구동부(143)와 함께 이동 가능하도록 제1 시프팅 디바이스(141)의 피구동부(143)에 제공된다.The
[0043] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 제1 시프팅 디바이스(141)의 구동 유닛(142)은 진공 챔버(101)의 외부에 배열되도록 제공되고, 그리고/또는 피구동부(143)는 구동 유닛(142)으로부터 진공 챔버(101) 내로, 특히 진공 챔버(101)의 측벽(102)의 개구를 통해 연장되도록 제공된다.[0043] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0044] 구동 유닛(142)이 진공 챔버 외부에, 즉 대기압하에 배열되는 경우, 전형적으로 진공 양립 가능한 구동 유닛보다 더 비용 효율적이고 취급하기 더 용이한 비-진공 양립 가능한 구동 유닛이 사용될 수 있다. 또한, 예를 들어 전기 모터 또는 스테퍼 모터를 포함하는 임의의 유형의 구동 유닛(142)이 제공될 수 있다. 기계적 베어링들(mechanical bearings)을 포함할 수 있는 구동 유닛에 의한 진공 챔버 내부의 입자들의 생성이 회피될 수 있다. 예를 들어, 선형 Z-액추에이터가 사용될 수 있다. 구동 유닛의 유지보수(maintenance)가 용이해질 수 있다.When the
[0045] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 장치(200)는 정렬 시스템과 진공 챔버(101)의 벽, 특히 측벽(102) 사이에 진동 댐핑 또는 진동 절연을 제공하기 위한 진동 댐핑 엘리먼트(103) 또는 진동 절연 엘리먼트를 더 포함한다. 예를 들어, 정렬 시스템(130)은 진공 챔버(101)의 벽을 통해 연장될 수 있고, 진동 댐핑 엘리먼트(103)를 통해 벽에 가요성있게 연결될 수 있다. 본원에 사용된 바와 같은 "가요성있게 연결되는(flexibly connected)"이라는 용어는 정렬 시스템(130)과 진공 챔버(101)의 측벽(102) 사이의 연결과 관련되고, 이 연결은 측벽(102)과 정렬 시스템(130) 사이의 상대적인 움직임, 예를 들어 변형 또는 진동을 허용한다. 다시 말해서, 전체 정렬 시스템(진공 챔버 외부에 배열된 구동 유닛을 포함함)은 측벽의 진동들 및 다른 변형들이 측벽으로부터 정렬 시스템으로 실질적으로 전달되지 않도록 측벽에 대해 움직일 수 있게 장착된다. 이것은 포지셔너(positioner)의 구동 유닛을 진공 챔버의 측벽에 고정시키면서 진공 챔버에서의 포지셔너의 움직임을 허용하는 종래의 벨로우즈-밀봉형 모션 피드스루들(bellow-sealed motion feedthroughs)과는 대조적이다. 따라서, 종래의 모션 피드스루들은 이들이 관통 연장되는 진공 챔버의 측벽에 견고하게 고정되며, 측벽에 대한 진동 댐핑이 없다.[0045] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0046] 진동 댐핑 엘리먼트(103)는 정렬 시스템(130)이 진공-기밀(vacuum-tight) 방식으로 관통 연장되는 진공 챔버의 측벽의 개구를 밀봉할 수 있다.[0046] The
[0047] 진동 댐핑 엘리먼트(103) 또는 진동 절연 엘리먼트는 적어도 하나의 가요성 또는 탄성 엘리먼트, 특히 적어도 하나의 팽창 가능한 엘리먼트, 예를 들어 벨로우즈 엘리먼트와 같은 축방향으로 팽창 가능한 엘리먼트를 포함할 수 있다. 예를 들어, 진동 댐핑 엘리먼트(103)는 진공 챔버의 측벽(102)과 정렬 시스템(130) 사이에 작용하는 탄성 및 진공-기밀 밀봉을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 축방향으로 팽창 가능한 엘리먼트의 종축은 제2 방향(Z)으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 벨로우즈 엘리먼트와 같은 탄성 및/또는 팽창 가능한 엘리먼트는 정렬 시스템(130)이 관통 연장되는 측벽(102)의 개구가 진공-기밀 방식으로 폐쇄되도록 정렬 시스템(130)을 진공 챔버의 측벽(102)과 연결시킬 수 있다. 따라서, 진동 댐핑 엘리먼트가 측벽(102)과 정렬 시스템(130) 사이의 상대적인 움직임을 허용하기 때문에, 측벽(102)의 진동들 및 다른 변형들은 정렬 시스템(130)으로 직접 전달되지 않는다. 특히, 정렬 시스템(130)의 (고정) 본체(131)는 측벽을 통해 연장되고, 진동 댐핑 엘리먼트(103)를 통해 측벽에 대해 움직일 수 있게 장착된다.[0047] The
[0048] 정렬 시스템(130)이 관통 연장되는 진공 챔버(101)의 측벽(102)은 진공 챔버(101)의 최상부 및 최하부 벽들과 상이한 벽, 예컨대, 본질적으로 수직으로 연장되는 측벽일 수 있다. 진공 챔버의 측벽(102)은 전형적으로 보강 비임들(reinforcing beams) 또는 보강 리브들(reinforcing ribs)과 같은 안정화 엘리먼트들에 의해 보강될 수 있는 최상부 벽보다 덜 안정적이다. 따라서, 예를 들어 진공 챔버 내부의 압력이 변화할 때에, 측벽(102)은 부분적으로 적어도 변형되거나 진동할 수 있다. 따라서, 정렬 시스템(130)을 측벽(102)으로부터 기계적으로 절연시켜서, 측벽의 변형들 및 다른 움직임들이 정렬 시스템 상에 (직접) 전달되지 않게 하는 것이 유리하다. 오히려, 정렬 시스템(130)은 진공 챔버의 최상부 벽에 고정될 수 있는 별도의 지지체(110)에 견고하게 고정될 수 있다. 따라서, 정렬 정확도가 향상될 수 있으며, 진공 챔버 내부의 압력 변화 동안에 측벽(102)이 움직이는 경우에도 정렬 시스템(130)의 위치가 유지될 수 있다.The
[0049] 일부 실시예들에서, 적어도 하나의 추가의 가요성 엘리먼트(104), 예를 들어 벨로우즈 엘리먼트와 같은 축방향으로 팽창 가능한 엘리먼트가 정렬 시스템(130)의 본체(131)를 제1 시프팅 디바이스(141)의 피구동부(143)와 가요성있게 연결시킬 수 있다. 추가의 가요성 엘리먼트(104)는 진공 챔버(101) 내에서 제2 방향(Z)으로의 피구동부(143)의 움직임을 허용할 수 있는 한편, 구동 유닛(142)이 진공 챔버(101) 외부에 배치될 수 있다. 예를 들어, 구동 유닛(142)은 진공 챔버 외부에서 정렬 시스템(130)의 본체(131)에 (견고하게) 고정될 수 있다. 추가의 가요성 엘리먼트(104)는 추가의 가요성 엘리먼트를 둘러싸는 진공 환경을 추가의 가요성 엘리먼트 내부의 대기 환경으로부터 분리시킬 수 있다. 피구동부(143)의 가동 바 또는 암은 추가의 가요성 엘리먼트를 통해 축방향으로 연장될 수 있다.[0049] In some embodiments, at least one additional
[0050] 본원에 설명된 실시예들에 따르면, 제1 마운트(152)는 정렬 디바이스(151)와 함께 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있다. 특히, 제1 마운트(152)는 제1 마운트(152)가 제1 캐리어(10)에 접촉하여 부착될 때까지 제1 이송 경로 상에 포지셔닝된 제1 캐리어(10)를 향해 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 이동될 수 있다. 다음에, 제1 마운트 ―제1 캐리어가 그 위에 장착됨― 는 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 증착 소스(105)를 향해 또는 제2 캐리어를 향해 이동될 수 있다. 그 후에, 정렬 디바이스(151)를 통한 제1 캐리어의 미세 정렬이 이어질 수 있다.According to the embodiments described herein, the
[0051] 제1 시프팅 디바이스(141)의 구동 유닛(142)(예를 들어, 선형 Z-액추에이터로서 제공됨)은 진공 챔버(101)의 외부에 배열될 수 있다. 정렬 디바이스(151) 및 제1 마운트(152)를 운반하는 제1 시프팅 디바이스(141)의 피구동부(143)의 전방 부분은 진공 챔버 내부에 배열될 수 있다. 정렬 시스템(130)이 진동 댐핑 엘리먼트(103)를 통해 측벽에 연결되기 때문에, 피구동부(143)가 관통 연장되는 진공 챔버(101)의 측벽(102)의 움직임들은 정렬 시스템(130)으로 전달되지 않는다. 진공 챔버 내의 압력이 변하는 경우, 또는 진공 챔버가 플러딩(flooding) 및/또는 배기되는 경우에도, 제1 캐리어의 정확하고 재현 가능한 정렬이 제공될 수 있다.[0051] The drive unit 142 (eg, provided as a linear Z-actuator) of the
[0052] 도 2는 본원에 설명된 실시예들에 따른, 진공 챔버에서의 캐리어 정렬을 위한 진공 시스템을 도시한다. 진공 시스템은 측벽(102)을 갖는 진공 챔버(101)를 포함하며, 측벽은 본질적으로 수직 방향(±20°)으로 연장될 수 있다. 본원에 설명된 바와 같은 정렬 시스템(130)은 측벽(102)을 통해 연장되고, 진동 댐핑 엘리먼트(103)를 통해, 특히 벨로우즈 엘리먼트와 같은 가요성 및/또는 팽창 가능한 엘리먼트를 통해 측벽(102)에 가요성있게 연결된다. 정렬 시스템(130)의 구동 유닛(142)은 진공 챔버 외부에 배열될 수 있고, 구동 유닛(142)에 의해 이동될 수 있는 정렬 시스템(130)의 정렬 디바이스(151)는 진공 챔버 내부에 배열될 수 있다. 정렬 시스템(130)의 제1 마운트(152)는 정렬 디바이스(151)에 의해 이동될 수 있고, 제1 캐리어(10)와 부착되도록 구성된다.[0052] Figure 2 shows a vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, according to embodiments described herein. The vacuum system includes a
[0053] 정렬 시스템(130)은 진공 챔버 내에 제공된, 예를 들어 진공 챔버의 최상부 벽에 부착된 지지체(110)에 (견고하게) 고정될 수 있다. 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 지지체(110)는 제1 방향(X)으로 연장되고, 제1 캐리어 이송 시스템(120)의 적어도 하나의 자석 유닛(121)을 운반 또는 지지한다. 따라서, 적어도 하나의 자석 유닛(121) 및 정렬 시스템(130) 둘 모두는 진공 챔버 내부의 동일한 기계적 지지체에 고정되어, 진공 챔버의 진동들 또는 다른 움직임들이 정렬 시스템(130) 및 자기 부상 시스템의 부상 자석들에 동일한 정도로 전달된다. 정렬 정확도가 더욱 향상될 수 있고, 캐리어 이송이 용이하게 될 수 있다.[0053] The
[0054] 진공 시스템은 제1 캐리어(10)에 의해 운반된 기판 상에 하나 이상의 재료들을 증착하도록 구성된 진공 증착 시스템일 수 있다. 증착 소스(105), 특히 유기 재료를 증발시키도록 구성된 증기 소스(vapor source)가 진공 챔버에 제공될 수 있다. 증착 소스(105)는 정렬 시스템의 제1 마운트(152)에 장착된 제1 캐리어를 향해 증착 소스(105)로부터 재료가 지향될 수 있도록 배열될 수 있다.[0054] The vacuum system may be a vacuum deposition system configured to deposit one or more materials on a substrate carried by the
[0055] 증착 소스(105)는 이동 가능한 증착 소스일 수 있다. 특히, 증착 소스(105)는 제1 캐리어에 의해 운반되는 기판을 지나서 제1 방향(X)으로 이동 가능할 수 있다. 제1 방향(X)으로의 증착 소스(105)의 병진 이동을 제공하기 위한 구동장치(drive)가 제공될 수 있다.[0055] The
[0056] 대안적으로 또는 추가적으로, 증착 소스는 증기 출구들이 제공된 회전 가능한 분배 파이프(rotatable distribution pipe)를 포함할 수 있다. 분배 파이프는 본질적으로 수직 방향으로 연장될 수 있고, 본질적으로 수직인 회전축 주위로 회전 가능할 수 있다. 증착 재료는 증발 소스의 도가니(crucible)에서 증발될 수 있고, 분배 파이프에 제공된 증기 출구들을 통해 기판을 향해 지향될 수 있다.[0056] Alternatively or additionally, the deposition source may comprise a rotatable distribution pipe provided with vapor outlets. The distribution pipe may extend in an essentially vertical direction and may be rotatable about an essentially vertical axis of rotation. The deposition material can be evaporated in a crucible of the evaporation source and can be directed towards the substrate through vapor outlets provided in the distribution pipe.
[0057] 특히, 증착 소스(105)는 본질적으로 수직 방향으로 연장되는 라인 소스(line source)로서 제공될 수 있다. 증착 소스(105)의 수직 방향의 높이는 수직으로 배향된 기판의 높이에 적합화될 수 있어, 증착 소스(105)를 기판을 지나서 제1 방향(X)으로 이동시킴으로써 기판이 코팅될 수 있게 한다.[0057] In particular, the
[0058] 일부 실시예들에서, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 기판(11)이 증착 소스(105)와 대면하는 진공 챔버(101) 내의 증착 영역 내로 제1 캐리어(10)를 이송하여 코팅 재료가 기판 상에 증착될 수 있게 하도록 구성될 수 있다. 기판 상에 코팅 재료를 증착한 후에, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은, 예를 들어 코팅된 기판을 진공 챔버로부터 언로딩(unloading)하거나, 다른 증착 영역에서 기판 상에 다른 코팅 재료를 증착하기 위해, 제1 캐리어(10)를 증착 영역 외부로 이송할 수 있다.[0058] In some embodiments, the first
[0059] 증착 소스(105)는 코팅 재료를 증착 영역 내로 지향시키기 위한 복수의 증기 개구들 또는 노즐들(nozzles)을 갖는 분배 파이프를 포함할 수 있다. 또한, 증착 소스는 코팅 재료를 가열 및 증발시키도록 구성된 도가니를 포함할 수 있다. 도가니는, 이를테면 분배 파이프와 유체 연통하도록 분배 파이프에 연결될 수 있다.[0059] The
[0060] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 증착 소스는 회전 가능할 수 있다. 예를 들어, 증착 소스는 증착 소스의 증기 개구들이 증착 영역을 향해 지향되는 제1 배향으로부터 증기 개구들이 제2 증착 영역을 향해 지향되는 제2 배향으로 회전 가능할 수 있다. 증착 영역 및 제2 증착 영역은 증착 소스의 대향 측면들 상에 위치될 수 있으며, 증착 소스는 증착 영역과 제2 증착 영역 사이에서 약 180°의 각도만큼 회전 가능할 수 있다.[0060] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the deposition source may be rotatable. For example, the deposition source may be rotatable from a first orientation in which the vapor openings of the deposition source are oriented toward the deposition region to a second orientation in which the vapor openings are oriented toward the second deposition region. The deposition area and the second deposition area may be located on opposite sides of the deposition source, and the deposition source may be rotatable by an angle of about 180° between the deposition area and the second deposition area.
[0061] 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 진공 챔버(101)에서 제1 캐리어(10)를 비접촉식으로 이송하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 자기력들에 의해 제1 캐리어(10)를 유지 및 이송할 수 있다. 특히, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 자기 부상 시스템을 포함할 수 있다.[0061] The first
[0062] 도 2의 예시적인 실시예에서, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 적어도 부분적으로 제1 캐리어(10) 위에 배열되고 제1 캐리어(10)의 중량의 적어도 일부를 운반하도록 구성된 적어도 하나의 자석 유닛(121)을 포함한다. 적어도 하나의 자석 유닛(121)은 제1 캐리어(10)를 비접촉식으로 유지하도록 구성된 능동 제어식 자석 유닛을 포함할 수 있다. 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 제1 방향(X)으로 제1 캐리어(10)를 비접촉식으로 이동시키도록 구성된 구동 디바이스를 더 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 구동 디바이스는 적어도 부분적으로 제1 캐리어(10) 아래에 배열될 수 있다. 구동 디바이스는 제1 캐리어(도시되지 않음) 상에 자기력을 인가함으로써 제1 캐리어를 이동시키도록 구성된 선형 모터(linear motor)와 같은 구동장치를 포함할 수 있다.[0062] In the exemplary embodiment of FIG. 2, the first
[0063] 도 3은 본원에 설명된 실시예들에 따른 진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치(300)를 도시한다. 장치(300)는 도 2에 도시된 장치(200)와 유사하며, 그에 따라 상기의 설명들이 참조될 수 있으며, 이러한 설명들은 여기에서는 반복하지 않는다.3 shows an
[0064] 장치(300)의 정렬 시스템(130)은 제1 캐리어(10)를 정렬 시스템에 장착하기 위한 제1 마운트(152), 제2 캐리어(20)를 정렬 시스템에 장착하기 위한 제2 마운트(153), 제2 방향(Z)으로 제1 마운트를 정렬 디바이스(151)와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141), 및 제2 방향(Z)으로 제2 마운트를 이동시키도록 구성된 제2 시프팅 디바이스(144)를 포함한다.The
[0065] 제1 캐리어(10)는 전형적으로 코팅될 기판(11)을 운반하는 기판 캐리어이고, 제2 캐리어(20)는 전형적으로 증착 동안에 기판(11)의 전방에 배열될 마스크(21)를 운반하는 마스크 캐리어이다. 제1 캐리어(10) 및 제2 캐리어(20)는 정렬 시스템(130)에 의해 서로에 대해 정렬될 수 있어, 증발된 재료가 마스크에 의해 한정된 바와 같은 사전결정된 패턴으로 기판 상에 정확하게 증착될 수 있다.The
[0066] 특히, 제2 마운트(153)에 장착된 제2 캐리어(20)는 제2 시프팅 디바이스(144)에 의해 제2 방향(Z)으로 사전결정된 위치로 이동될 수 있다. 제1 캐리어(10)는 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 제2 캐리어(20)에 인접한 사전결정된 위치로 이동될 수 있다. 다음에, 제1 캐리어(10)는 정렬 디바이스(151)에 의해 정렬 방향, 특히 제2 방향(Z)으로, 그리고/또는 선택적으로 하나 이상의 다른 정렬 방향들로 정렬될 수 있다.In particular, the
[0067] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 정렬 시스템(130)은 진공 챔버(101)의 측벽(102)을 통해 연장되고, 예를 들어 적어도 하나의 진동 댐핑 엘리먼트(103) 또는 진동 절연 엘리먼트를 통해, 측벽(102)에 가요성있게 연결된다. 진동 댐핑 엘리먼트는 벨로우즈 엘리먼트와 같은 축방향으로 팽창 가능한 엘리먼트일 수 있다. 진동 댐핑 엘리먼트는 측벽의 변형들의 정렬 시스템으로의 전달을 감소시키는 가요성 또는 탄성 밀봉 엘리먼트일 수 있다. 가요성 또는 탄성 밀봉 엘리먼트는 측벽과 정렬 시스템 사이의 진공-기밀 밀봉으로서 작용할 수 있다. 상기의 설명들이 참조되며, 이러한 설명들은 여기에서는 반복하지 않는다.[0067] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0068] 일부 실시예들에서, 제2 시프팅 디바이스(144)는 제2 구동 유닛(145), 예를 들어 선형 액추에이터 또는 모터, 및 제2 구동 유닛(145)에 의해 제2 방향(Z)으로 이동되는 제2 피구동부(146)를 포함한다. 제2 마운트(153)는 제2 피구동부(146)와 함께 이동 가능하도록 제2 피구동부(146)에 제공된다.[0068] In some embodiments, the
[0069] 제2 구동 유닛(145)은 진공 챔버(101) 외부에 배열될 수 있고, 제2 피구동부(146)는, 특히 진공 챔버의 측벽(102)에 제공된 개구를 통해, 진공 챔버(101) 내로 연장될 수 있다. 제2 마운트(153)는 제2 피구동부(146)의 전방 단부에서 진공 챔버(101) 내부에 제공된다. 따라서, 제2 캐리어(20)는 진공 챔버 내부에 제공된 제2 마운트(153)에 장착될 수 있다. 또한, 제2 캐리어(20)는 진공 챔버 외부에 배열된 제2 구동 유닛(145)을 갖는 제2 시프팅 디바이스(144)에 의해 진공 챔버(101) 내부에서 제2 방향(Z)으로 이동될 수 있다.[0069] The
[0070] 일부 실시예들에서, 정렬 시스템(130)은 진공 챔버 내부에 제공된 지지체(110)에 고정된 본체(131)를 포함한다. 제1 시프팅 디바이스(141)의 구동 유닛(142) 및 제2 시프팅 디바이스(144)의 제2 구동 유닛(145)은 정렬 시스템(130)의 본체(131)에 고정될 수 있다. 정렬 시스템(130)의 본체(131)는 제1 시프팅 디바이스의 피구동부(143) 및 제2 시프팅 디바이스의 제2 피구동부(146)를 위한 측벽(102)을 통한 피드스루를 제공할 수 있다. 정렬 시스템(130)의 본체(131)는 진동 댐핑 엘리먼트(103)를 통해 진공 챔버(101)의 측벽(102)에 가요성있게 연결될 수 있다.In some embodiments, the
[0071] 정렬 시스템(130)의 본체(131)는 지지체(110)에 고정될 수 있다. 지지체(110)는 진공 챔버의 최상부 벽에 (직접적으로 또는 간접적으로) 고정될 수 있고, 그리고/또는 제1 방향(X)으로 연장될 수 있는 지지 레일 또는 지지 거더(support girder)로서 제공될 수 있다. 진공 챔버의 최상부 벽은 전형적으로 수직으로 연장되는 측벽들보다 더 강하게 보강되고 덜 움직일 수 있다.The
[0072] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 제1 캐리어를 이송하도록 제공될 수 있고, 제2 캐리어 이송 시스템(122)은 제1 이송 경로와 평행한 제2 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 제2 캐리어(20)를 이송하도록 제공될 수 있다. 제1 캐리어 이송 시스템(120) 및/또는 제2 캐리어 이송 시스템(122)은 비접촉식 캐리어 이송을 위한 자기 부상 시스템들로 구성될 수 있다. 특히, 제1 캐리어 이송 시스템(120)은 제1 캐리어(10)를 비접촉식으로 유지하기 위한 적어도 하나의 자석 유닛(121), 특히 능동 제어식 자석 유닛을 포함할 수 있다. 제2 캐리어 이송 시스템(122)은 제2 캐리어(20)를 비접촉식으로 유지하기 위한 적어도 하나의 제2 자석 유닛(123), 특히 능동 제어식 자석 유닛을 포함할 수 있다. 전형적으로, 각각의 자기 부상 시스템은 본질적으로 동일한 간격으로 제1 방향(X)을 따라 배열될 수 있는 복수의 능동 제어식 자석 유닛들을 포함한다. 예를 들어, 능동 제어식 자석 유닛은 지지체(110)에 고정될 수 있다.[0072] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the first
[0073] 도 3의 개략적인 단면도에서, 제1 캐리어(10) 및 제2 캐리어(20)는 제1 캐리어 이송 시스템(120) 및 제2 캐리어 이송 시스템(122)의 능동 제어식 자석 유닛들에 의해 비접촉식으로 유지된다. 제1 마운트(152)는 제1 캐리어(10)로부터 제2 방향(Z)으로 소정 거리에 제공되고, 제2 마운트(153)는 제2 캐리어(20)로부터 제2 방향(Z)으로 소정 거리에 제공된다.[0073] In the schematic cross-sectional view of FIG. 3, the
[0074] 도 4a는 제2 위치에 있는 도 3의 장치(300)를 도시한다. 제2 캐리어(20)는, 제2 방향(Z)으로 제2 마운트를 제2 캐리어(20)로 이동시키고 제2 캐리어(20)를 제2 마운트(153)에 자기적으로 부착시킴으로써, 제2 마운트(153)에 장착된다. 다음에, 제2 캐리어(20)는 제2 시프팅 디바이스(144)에 의해 제2 방향(Z)으로 사전결정된 위치로, 예를 들어 20 ㎜ 이상의 거리만큼 이동된다. 특히, 제2 캐리어(20)에 의해 운반되는 마스크(21)는 증착 소스(105)와 대면하는 사전결정된 위치에 포지셔닝된다.4A shows the
[0075] 도 4a에 추가로 도시된 바와 같이, 기판(11)을 운반하는 제1 캐리어(10)는 제1 캐리어 이송 시스템(120)에 의해 증착 영역 내로 이송되고, 제1 마운트(152)는 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제1 마운트(152)를 제1 캐리어(10)로 이동시킴으로써 제1 캐리어에 장착된다.As further shown in FIG. 4A, the
[0076] 도 4b에 개략적으로 도시된 바와 같이, 다음에, 제1 캐리어(10)는 기판(11)이 마스크(21)에 근접하게 포지셔닝될 때까지 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 제2 방향(Z)으로 제2 캐리어(20)를 향해 이동된다. 이어서, 제1 캐리어(10)는 정렬 디바이스(151)에 의해 적어도 하나의 정렬 방향, 특히 제2 방향(Z)으로 정렬된다. 제1 캐리어(10)는 하나 이상의 압전 액추에이터들을 포함할 수 있는 정렬 디바이스(151)에 의해 사전결정된 위치에 정확하게 포지셔닝될 수 있다.As schematically shown in FIG. 4B, next, the
[0077] 하나 이상의 재료들이 마스크(21)의 개구들을 통해 증착 소스(105)에 의해 기판(11) 상에 증착될 수 있다. 정확한 재료 패턴이 기판 상에 증착될 수 있다.One or more materials may be deposited on the
[0078] 도 5는 본원에 설명된 실시예들에 따른 장치의 정렬 시스템(130)의 분해도이다. 정렬 시스템(130)은 도 3에 도시된 장치의 정렬 시스템과 유사하며, 그에 따라 상기의 설명들이 참조될 수 있으며, 이러한 설명들은 여기에서는 반복하지 않는다.[0078] Figure 5 is an exploded view of an
[0079] 정렬 시스템(130)은 진동 댐핑 엘리먼트(103)를 통해, 예를 들어 벨로우즈 엘리먼트를 통해 진공 챔버(101)(도 5에는 도시되지 않음)의 측벽(102)에 가요성있게 연결 가능한 본체(131)를 포함한다. 구동 유닛(142)(예를 들어, 제1 Z-액추에이터) 및 제2 구동 유닛(145)(예를 들어, 제2 Z-액추에이터)이 진공 챔버(101) 외부에서 본체(131)에 고정된다. 일부 실시예들에서, 본체(131)는, 예를 들어 스크루들(screws) 또는 볼트들(bolts)(108)을 통해, 진공 챔버(도 5에는 도시되지 않음) 내부에서 지지체에 견고하게 고정되고, 측벽(102)에 가요성있게 연결된다.[0079] The
[0080] 구동 유닛(142)은 제2 방향(Z)으로 본체(131)를 통해 진공 챔버 내로 연장되는 제1 피구동부(143)를 이동시키도록 구성되며, 제2 구동 유닛(145)은 제2 방향(Z)으로 본체(131)를 통해 진공 챔버 내로 연장되는 제2 피구동부(146)를 이동시키도록 구성된다. 제1 캐리어를 정렬 시스템에 장착하기 위한 제1 마운트(152)가 제1 피구동부(143)의 전방 단부에 제공되고, 제2 캐리어를 정렬 시스템에 장착하기 위한 제2 마운트(153)가 제2 피구동부(146)의 전방 단부에 제공된다. 따라서, 제1 마운트(152) 및 제2 마운트(153)는, 제1 및 제2 캐리어들을 제2 방향(Z)으로 각각의 사전결정된 위치들에 포지셔닝하기 위해, 각각의 시프팅 디바이스에 의해 제2 방향(Z)으로 서로 독립적으로 이동될 수 있다.The driving
[0081] 제2 피구동부(146)는 제1 피구동부(143)보다 진공 챔버 내로 더 돌출하여, 제1 캐리어 및 제2 캐리어가 피구동부들의 전방 단부들에 제공된 제2 마운트 및 제1 마운트에서 서로 인접하게 유지될 수 있게 한다.[0081] The second driven
[0082] 제1 마운트(152)는, 특히 적어도 하나의 압전 액추에이터를 포함하는 정렬 디바이스(151)를 통해 제1 피구동부(143)에 연결된다. 따라서, 정렬 디바이스(151)에 의해 제1 마운트(152)를 사전결정된 위치에 정확하게 포지셔닝함으로써, 제2 캐리어에 대한 제1 캐리어의 미세 포지셔닝(또는 미세 정렬)이 수행될 수 있다.[0082] The
[0083] 도 6은 도 5의 정렬 시스템(130)의 사시도를 도시한다. 정렬 시스템(130)의 본체(131)와 진공 챔버의 측벽(102) 사이에는 작은 갭(gap)이 제공되어, 예를 들어 진공 챔버 내부의 압력 변화로 인해 측벽이 진동할 때 또는 측벽이 움직일 때, 본체(131)가 측벽(102)과 함께 움직이지 않는다. 6 shows a perspective view of the
[0084] 일부 실시예들에서, 장치는, 제1 방향(X)으로 서로 이격되어 있는, 증착 영역 내에 2 개 이상의 정렬 시스템들을 포함한다. 각각의 정렬 시스템은 본원에 설명된 실시예들에 따른 정렬 시스템(130)에 따라 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 정렬 시스템의 제1 마운트는 제1 캐리어의 상부 전방 부분을 유지하도록 구성될 수 있고, 제2 정렬 시스템의 제1 마운트는 제1 캐리어의 상부 후방 부분을 유지하도록 구성될 수 있다. 각각의 정렬 시스템은, 각각의 시프팅 디바이스들의 각각의 구동 유닛들이 진공 챔버 외부에 포지셔닝되도록, 진공 챔버의 측벽(102)을 통해 연장될 수 있다. 또한, 각각의 정렬 시스템은 각각의 진동 절연 엘리먼트를 통해 진공 시스템의 측벽에 가요성있게 연결될 수 있다. 일부 실시예들에서, 각각의 정렬 시스템은 진공 챔버 내부에 제공된 동일한 지지체에 기계적으로 고정되고, 예를 들어 진공 챔버의 최상부 벽에 고정된다.[0084] In some embodiments, the apparatus includes two or more alignment systems within the deposition area, spaced apart from each other in a first direction (X). Each alignment system may be configured according to the
[0085] 제1 정렬 시스템의 정렬 디바이스는 제1 방향(X), 제2 방향(Z) 및 제3 방향(Y)으로 제1 캐리어를 정렬시키도록 구성될 수 있으며, 제2 정렬 시스템의 정렬 디바이스는 제1 방향(Z) 및 제3 방향(Y)으로 제1 캐리어를 정렬시키도록 구성될 수 있다. 추가의 정렬 디바이스들을 갖는 추가의 정렬 시스템들이 제공될 수 있다. 따라서, 3 차원 물체인 제1 캐리어는 제2 캐리어에 대해 증착 영역 내의 사전결정된 병진 및 회전 위치에 정확하게 포지셔닝 및 회전될 수 있다.[0085] The alignment device of the first alignment system may be configured to align the first carrier in a first direction (X), a second direction (Z) and a third direction (Y), and the alignment of the second alignment system The device may be configured to align the first carrier in a first direction (Z) and a third direction (Y). Additional alignment systems may be provided with additional alignment devices. Thus, the first carrier, which is a three-dimensional object, can be accurately positioned and rotated at a predetermined translation and rotation position within the deposition area relative to the second carrier.
[0086] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에서, 제1 시프팅 디바이스의 피구동부(143)는 케이블과 같은 공급 엘리먼트를 진공 챔버(101) 내부에 배열된 컴포넌트에 피딩(feed)하도록 구성된다. 특히, 피구동부(143)는 진공 챔버 외부로부터 진공 챔버(101) 내부에서 피구동부(143)의 전방 단부에 배열된 컴포넌트까지 연장되는 케이블을 위한 케이블 통로로 구성된 중공 튜브 엘리먼트(hollow tube element)를 포함한다. 예를 들어, 정렬 디바이스(151) 및 제1 마운트(152) 중 적어도 하나에 연결된 적어도 하나의 케이블은 피구동부(143)의 중공 튜브 엘리먼트를 통해 연장될 수 있다. 따라서, 진공 챔버 내부에서 제2 방향(Z)으로 이동 가능한 컴포넌트에 전력이 공급될 수 있다. 예를 들어, 정렬 디바이스(151)의 압전 액추에이터 및/또는 제1 마운트(152)의 자기 척에는, 피구동부(143)를 통해 진공 챔버 외부로부터 전력이 공급될 수 있다.[0086] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the driven
[0087] 일부 실시예들에서, 제2 시프팅 디바이스의 제2 피구동부(145)는 또한 케이블과 같은 공급 엘리먼트를 진공 챔버 내부에 배열된 컴포넌트, 예를 들어 진공 챔버 내부에서 제2 피구동부(145)의 전방 단부에 제공된 컴포넌트에 피딩하도록 구성된다. 예를 들어, 제2 마운트(153)에는, 진공 챔버 외부로부터 피구동부(145)를 통해 전력이 공급될 수 있다.[0087] In some embodiments, the second driven
[0088] 도 7은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 진공 챔버에서 제1 캐리어를 정렬시키는 방법을 나타내는 흐름도이다.7 is a flow chart illustrating a method of aligning a first carrier in a vacuum chamber, according to embodiments described herein.
[0089] 박스(830)에서, 코팅될 기판을 운반할 수 있는 제1 캐리어는 진공 챔버(101)에서 제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 이송된다. 제1 캐리어는 증착 소스(105) 및 정렬 시스템(130)이 배열되는 증착 영역 내로 이송될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 캐리어(10)는 복수의 능동 제어식 자석 유닛들을 포함하는 자기 부상 시스템에 의해 비접촉식으로 이송된다.In the
[0090] 박스(840)에서, 제1 캐리어는 정렬 시스템(130)의 제1 마운트에 장착된다. 정렬 시스템은 적어도 하나의 정렬 방향으로 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스, 및 제1 방향을 횡단하는 제2 방향으로 정렬 디바이스를 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스를 포함한다. 제2 방향은 제1 방향에 본질적으로 수직인 수평 방향일 수 있다.In
[0091] 박스(850)에서, 제1 캐리어는 제1 시프팅 디바이스에 의해 제2 방향으로, 특히 제2 캐리어에 의해 운반되는 이전에 포지셔닝된 마스크를 향해 (정렬 디바이스와 함께) 이동된다.[0091] In
[0092] 박스(860)에서, 제1 캐리어는 정렬 디바이스에 의해 적어도 하나의 정렬 방향으로, 특히 제2 방향으로, 그리고 선택적으로 제1 방향 및 제3 방향 중 적어도 하나의 방향으로 정렬된다. 특히, 제1 캐리어(10)에 의해 운반되는 기판은 제2 캐리어에 의해 운반되는 마스크와 접촉하도록 이동된다.[0092] In
[0093] 선택적인 박스(870)에서, 재료는 제1 캐리어에 의해 운반되는 기판 상에 증착된다. 특히, 증발된 유기 재료는 기판을 지나 이동 가능할 수 있는 증기 소스에 의해 기판 상에 증착된다.[0093] In
[0094] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에서, 제1 캐리어는 기판을 운반하는 기판 캐리어이고, 제1 캐리어를 정렬시키는 것은 정렬 시스템의 제2 마운트에 장착된 제2 캐리어에 대해 제1 캐리어를 정렬시키는 것을 포함한다. 특히, 제2 캐리어는 마스크를 운반하는 마스크 캐리어이다.[0094] In embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the first carrier is a substrate carrier carrying a substrate, and aligning the first carrier is a first mounted to a second mount of the alignment system. Aligning the first carrier with respect to the two carriers. In particular, the second carrier is a mask carrier that carries the mask.
[0095] 선택적인 박스(810)에서, 마스크(21)를 운반하는 제2 캐리어(20)는 제1 이송 경로에 평행하게 연장되는 제2 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 증착 영역 내로 이송된다. 제2 캐리어(20)는 복수의 능동 제어식 자석 유닛들을 포함하는 자기 부상 시스템에 의해 비접촉식으로 이송될 수 있다.[0095] In the
[0096] 선택적인 박스(820)에서, 제2 캐리어(20)는 정렬 시스템(130)의 제2 마운트에 장착되고, 제2 캐리어는 정렬 시스템(130)의 제2 시프팅 디바이스에 의해 제2 방향(Z)으로, 특히 증착 소스를 향해 이동된다. 다음에, 방법은 박스(830)로 진행할 수 있다.[0096] In
[0097] 본원에 설명된 장치는, 예를 들어 OLED 디바이스들의 제조를 위한 유기 재료를 증발시키도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 증착 소스는 증발 소스, 특히 OLED 디바이스의 층을 형성하기 위해 기판 상에 하나 이상의 유기 재료들을 증착하기 위한 증발 소스일 수 있다.[0097] The apparatus described herein may be configured to evaporate an organic material, for example for the manufacture of OLED devices. For example, the deposition source can be an evaporation source, in particular an evaporation source for depositing one or more organic materials on a substrate to form a layer of an OLED device.
[0098] 본원에 설명된 실시예들은, 예를 들어 OLED 디스플레이 제조를 위한 대면적 기판들 상에의 증발에 이용될 수 있다. 구체적으로, 본원에 설명된 실시예들에 따른 구조들 및 방법들이 제공되는 기판들은, 예를 들어 0.5 ㎡ 이상, 특히 1 ㎡ 이상의 표면적을 갖는 대면적 기판들이다. 예를 들어, 대면적 기판 또는 캐리어는 약 0.67 ㎡(0.73 m × 0.92 m)의 표면적에 대응하는 GEN 4.5, 약 1.4 ㎡(1.1 m × 1.3 m)의 표면적에 대응하는 GEN 5, 약 4.29 ㎡(1.95 m × 2.2 m)의 표면적에 대응하는 GEN 7.5, 약 5.7 ㎡(2.2 m × 2.5 m)의 표면적에 대응하는 GEN 8.5, 또는 심지어 약 8.7 ㎡(2.85 m × 3.05 m)의 표면적에 대응하는 GEN 10일 수 있다. GEN 11 및 GEN 12와 같은 보다 큰 세대들 및 대응하는 표면적들도 유사하게 구현될 수 있다. GEN 세대들의 절반 크기들이 또한 OLED 디스플레이 제조에 제공될 수 있다.[0098] The embodiments described herein can be used for evaporation onto large area substrates for manufacturing an OLED display, for example. Specifically, substrates on which structures and methods according to embodiments described herein are provided are, for example, large area substrates having a surface area of 0.5 m 2 or more, in particular 1 m 2 or more. For example, a large area substrate or carrier is GEN 4.5 corresponding to a surface area of about 0.67 m 2 (0.73 m × 0.92 m), GEN 5 corresponding to a surface area of about 1.4 m 2 (1.1 m × 1.3 m), about 4.29 m 2 ( GEN 7.5, corresponding to a surface area of 1.95 m × 2.2 m), GEN 8.5 corresponding to a surface area of about 5.7 m (2.2 m × 2.5 m), or even GEN corresponding to a surface area of about 8.7 m (2.85 m × 3.05 m) May be 10. Larger generations such as
[0099] 본원에 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 기판 두께는 0.1 내지 1.8 ㎜일 수 있다. 기판 두께는 약 0.9 ㎜ 이하, 예컨대 0.5 ㎜일 수 있다. 본원에 사용된 바와 같은 "기판"이라는 용어는, 특히 실질적으로 비가요성인 기판들, 예를 들어 웨이퍼, 사파이어 등과 같은 투명한 결정의 슬라이스들(slices), 또는 유리판을 포괄할 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 이에 제한되지 않으며, "기판"이라는 용어는 또한 웨브(web) 또는 포일(foil)과 같은 가요성 기판들을 포괄할 수 있다. "실질적으로 비가요성"이라는 용어는 "가요성"에 대해 구별되는 것으로 이해된다. 구체적으로, 실질적으로 비가요성인 기판은 특정 정도의 가요성, 예를 들어 0.9 ㎜ 이하, 예컨대 0.5 mm 이하의 두께를 갖는 유리판을 가질 수 있으며, 실질적으로 비가요성인 기판의 가요성은 가요성 기판들에 비하여 작다.[0099] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the substrate thickness may be 0.1 to 1.8 mm. The substrate thickness can be about 0.9 mm or less, such as 0.5 mm. The term "substrate" as used herein may encompass, in particular, substantially inflexible substrates, for example slices of transparent crystals such as wafers, sapphire, or the like, or a glass plate. However, the present disclosure is not limited thereto, and the term “substrate” may also encompass flexible substrates such as a web or foil. The term “substantially inflexible” is understood to be distinct for “flexible”. Specifically, a substantially non-flexible substrate may have a glass plate having a certain degree of flexibility, for example a thickness of 0.9 mm or less, such as 0.5 mm or less, and the flexibility of the substantially non-flexible substrate is the flexible substrates. It is small compared to
[00100] 본원에 설명된 실시예들에 따르면, 기판은 재료 증착에 적합한 임의의 재료로 제조될 수 있다. 예를 들어, 기판은 유리(예를 들어, 소다-석회 유리, 붕규산 유리 등), 금속, 중합체, 세라믹, 화합물 재료들, 탄소 섬유 재료들 또는 임의의 다른 재료들, 또는 증착 프로세스에 의해 코팅될 수 있는 재료들의 조합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 제조될 수 있다.[00100] According to the embodiments described herein, the substrate can be made of any material suitable for material deposition. For example, the substrate may be coated by glass (e.g., soda-lime glass, borosilicate glass, etc.), metal, polymer, ceramic, compound materials, carbon fiber materials or any other materials, or a deposition process. It can be made of a material selected from the group consisting of possible combinations of materials.
[00101] 본원에 설명된 실시예들에 따르면, 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어를 이송 및 정렬시키기 위한 방법은 컴퓨터 프로그램들, 소프트웨어, 컴퓨터 소프트웨어 제품들, 및 장치의 대응하는 컴포넌트들과 통신하는 CPU, 메모리, 사용자 인터페이스, 및 입력 및 출력 디바이스들을 가질 수 있는 상호연관된 제어기들을 사용하여 수행될 수 있다.[00101] According to embodiments described herein, a method for transferring and aligning a substrate carrier and a mask carrier in a vacuum chamber communicates with computer programs, software, computer software products, and corresponding components of the apparatus. This can be accomplished using interrelated controllers that can have CPU, memory, user interface, and input and output devices.
[00102] 본 개시내용은 적어도 하나의 치수로 동일하게 크기설정될 수 있는, 제1 캐리어를 위한 제1 캐리어 이송 시스템 및 제2 캐리어를 위한 제2 캐리어 이송 시스템을 제공한다. 다시 말해서, 제2 캐리어는 제1 캐리어 이송 시스템 내에 끼워맞춰질 수 있고, 제1 캐리어는 제2 캐리어 이송 시스템 내에 끼워맞춰질 수 있다. 제1 캐리어 이송 시스템 및 제2 캐리어 이송 시스템은 진공 시스템을 통한 캐리어들의 정확하고 원활한 이송을 제공하면서 가요성있게 사용될 수 있다. 정렬 시스템은 마스크에 대한 기판의 정확한 정렬을 허용하거나, 그 반대로도 마찬가지이다. 예를 들어 고해상도 OLED 디바이스들의 생산을 위한, 고품질 프로세싱 결과들이 달성될 수 있다.[00102] The present disclosure provides a first carrier transport system for a first carrier and a second carrier transport system for a second carrier, which may be equally sized to at least one dimension. In other words, the second carrier can fit within the first carrier transfer system, and the first carrier can fit within the second carrier transfer system. The first carrier transport system and the second carrier transport system can be used flexibly while providing accurate and smooth transport of carriers through the vacuum system. The alignment system allows precise alignment of the substrate to the mask, and vice versa. High quality processing results can be achieved, for example for the production of high-resolution OLED devices.
[00103] 다른 실시예들에서, 마스크 캐리어들 및 기판 캐리어들은 상이하게 크기설정될 수 있다. 예를 들어, 마스크 캐리어들은 도 3에 개략적으로 도시된 바와 같이, 특히 수직 방향으로 기판 캐리어들보다 클 수 있다.[00103] In other embodiments, the mask carriers and the substrate carriers may be sized differently. For example, the mask carriers can be larger than the substrate carriers, especially in the vertical direction, as schematically shown in FIG. 3.
[00104] 전술한 내용은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 실시예들 및 추가 실시예들이 본 개시내용의 기본 범위로부터 벗어남이 없이 고안될 수 있으며, 그 범위는 하기의 청구범위에 의해 결정된다.[00104] The above description relates to embodiments of the present disclosure, but other embodiments and additional embodiments of the present disclosure may be devised without departing from the basic scope of the present disclosure, and the scope thereof is as follows. Is determined by the claims of.
Claims (16)
제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 제1 캐리어(carrier)(10)를 이송하도록 구성된 제1 캐리어 이송 시스템(120); 및
정렬 시스템(130)을 포함하며,
상기 정렬 시스템(130)은,
상기 제1 캐리어(10)를 상기 정렬 시스템(130)에 장착하기 위한 제1 마운트(mount)(152);
적어도 하나의 정렬 방향으로 상기 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151); 및
상기 제1 방향(X)을 횡단(transverse)하는 제2 방향(Z)으로 상기 정렬 디바이스(151)를 상기 제1 마운트(152)와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(shifting device)(141)를 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.As an apparatus for carrier alignment in the vacuum chamber 101,
A first carrier transport system 120 configured to transport a first carrier 10 along a first transport path in a first direction X; And
Including an alignment system 130,
The alignment system 130,
A first mount (152) for mounting the first carrier (10) to the alignment system (130);
An alignment device 151 configured to move the first mount 152 in at least one alignment direction; And
A first shifting device configured to move the alignment device 151 together with the first mount 152 in a second direction Z transverse to the first direction X ( 141), including,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 제1 시프팅 디바이스(141)는 구동 유닛(driving unit)(142) 및 피구동부(driven part)(143)를 포함하며, 상기 정렬 디바이스(151) 및 상기 제1 마운트(152)는 상기 피구동부(143)와 함께 이동 가능하도록 상기 피구동부에 제공되는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method of claim 1,
The first shifting device 141 includes a driving unit 142 and a driven part 143, and the alignment device 151 and the first mount 152 are Provided to the driven part to be movable together with the eastern part 143,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 구동 유닛(142)은 상기 피구동부(143)를 상기 제2 방향(Z)으로 10 ㎜ 이상의 거리만큼 이동시키도록 구성된 선형 액추에이터(linear actuator)를 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method of claim 2,
The drive unit 142 includes a linear actuator configured to move the driven part 143 in the second direction Z by a distance of 10 mm or more,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 구동 유닛(142)은 상기 진공 챔버(101) 외부에 배열되고, 상기 피구동부(143)는 상기 진공 챔버 외부로부터 상기 진공 챔버 내로 연장되는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method of claim 2,
The driving unit 142 is arranged outside the vacuum chamber 101, and the driven part 143 extends from outside the vacuum chamber into the vacuum chamber,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 피구동부(143)는 상기 진공 챔버(101) 내부에 배열된 컴포넌트에 케이블(cable)을 피딩(feed)하도록 구성된 중공 튜브 엘리먼트(hollow tube element)를 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method of claim 2,
The driven part 143 includes a hollow tube element configured to feed a cable to a component arranged inside the vacuum chamber 101,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 정렬 시스템(130)은 상기 진공 챔버의 벽을 통해 연장되며, 그리고 적어도 하나의 진동 댐핑 엘리먼트(vibration damping element)(103)를 통해 상기 벽에 가요성있게(flexibly) 연결되는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The alignment system 130 extends through the wall of the vacuum chamber, and is flexibly connected to the wall via at least one vibration damping element 103,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 진동 댐핑 엘리먼트(103)는 가요성 또는 탄성 중 적어도 하나 이상을 갖는 적어도 하나의 밀봉 엘리먼트를 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method of claim 6,
The vibration damping element 103 includes at least one sealing element having at least one of flexibility or elasticity,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 정렬 디바이스(151)는 적어도 하나의 압전 액추에이터(piezo actuator)를 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The alignment device 151 comprises at least one piezo actuator,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 정렬 디바이스(151)는 상기 제2 방향(Z)으로, 그리고 상기 제1 방향(X) 및 제3 방향(Y) 중 적어도 하나의 방향으로 상기 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성되고, 상기 제3 방향(Y)은 상기 제1 방향 및 제2 방향을 횡단하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The alignment device 151 is configured to move the first mount 152 in the second direction (Z) and in at least one of the first direction (X) and the third direction (Y), , The third direction (Y) crosses the first and second directions,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 제1 마운트(152)는 상기 제1 마운트에 상기 제1 캐리어를 자기적으로 유지(hold)하도록 구성된 자기 척(magnetic chuck)을 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The first mount 152 comprises a magnetic chuck configured to magnetically hold the first carrier to the first mount,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 정렬 시스템(130)은,
제2 캐리어를 상기 정렬 시스템(130)에 장착하기 위한 제2 마운트(153); 및
상기 제2 방향(Z)으로 상기 제2 마운트(153)를 이동시키도록 구성된 제2 시프팅 디바이스(144)를 더 포함하는,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The alignment system 130,
A second mount (153) for mounting a second carrier to the alignment system (130); And
Further comprising a second shifting device (144) configured to move the second mount (153) in the second direction (Z),
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
상기 제1 캐리어 이송 시스템(120)은, 상기 제1 방향(X)으로 상기 제1 캐리어(10)를 비접촉식으로 이송하도록 구성되고 그리고 복수의 능동 제어식 자석 유닛(actively controlled magnet unit)들을 포함하는 자기 부상 시스템(magnetic levitation system)인,
진공 챔버(101)에서의 캐리어 정렬을 위한 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The first carrier transfer system 120 is configured to non-contactly transfer the first carrier 10 in the first direction X and includes a plurality of actively controlled magnet units. A magnetic levitation system,
Device for alignment of carriers in the vacuum chamber 101.
측벽(102)을 갖는 진공 챔버(101); 및
정렬 시스템(130)을 포함하며,
상기 정렬 시스템(130)은,
제1 캐리어(10)를 상기 정렬 시스템(130)에 장착하기 위한 제1 마운트(152);
적어도 하나의 정렬 방향으로 상기 제1 마운트(152)를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151); 및
제1 방향(X)을 횡단하는 제2 방향(Z)으로 상기 정렬 디바이스(151)를 상기 제1 마운트(152)와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141)를 포함하며,
상기 정렬 시스템(130)은 상기 측벽(102)을 통해 연장되고, 상기 측벽(102)에 가요성있게 연결되는,
진공 챔버에서의 캐리어 정렬을 위한 진공 시스템.A vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, comprising:
A vacuum chamber 101 having a side wall 102; And
Including an alignment system 130,
The alignment system 130,
A first mount (152) for mounting a first carrier (10) to the alignment system (130);
An alignment device 151 configured to move the first mount 152 in at least one alignment direction; And
A first shifting device 141 configured to move the alignment device 151 together with the first mount 152 in a second direction Z transverse to the first direction X,
The alignment system 130 extends through the sidewall 102 and is flexibly connected to the sidewall 102,
Vacuum system for carrier alignment in vacuum chambers.
제1 이송 경로를 따라 제1 방향(X)으로 제1 캐리어(10)를 이송하는 단계;
상기 제1 캐리어를 정렬 시스템(130)의 제1 마운트(152)에 장착하는 단계 ―상기 정렬 시스템은 적어도 하나의 정렬 방향으로 상기 제1 마운트를 이동시키도록 구성된 정렬 디바이스(151), 및 상기 제1 방향을 횡단하는 제2 방향(Z)으로 상기 정렬 디바이스를 상기 제1 마운트와 함께 이동시키도록 구성된 제1 시프팅 디바이스(141)를 포함함―;
상기 제1 시프팅 디바이스(141)에 의해 상기 제2 방향(Z)으로 상기 제1 캐리어를 이동시키는 단계; 및
상기 정렬 디바이스(151)에 의해 적어도 하나의 정렬 방향으로 상기 제1 캐리어를 정렬시키는 단계를 포함하는,
진공 챔버에서 캐리어를 정렬시키는 방법.A method of aligning carriers in a vacuum chamber, comprising:
Conveying the first carrier 10 in the first direction X along the first conveying path;
Mounting the first carrier to the first mount 152 of the alignment system 130-the alignment system is an alignment device 151 configured to move the first mount in at least one alignment direction, and the first Comprising a first shifting device (141) configured to move the alignment device with the first mount in a second direction (Z) transverse to one direction;
Moving the first carrier in the second direction (Z) by the first shifting device (141); And
Aligning the first carrier in at least one alignment direction by means of the alignment device (151),
How to align the carrier in a vacuum chamber.
상기 제1 캐리어(10)는 기판(11)을 운반(carry)하는 기판 캐리어이고,
상기 제1 캐리어를 정렬시키는 단계는 상기 정렬 시스템의 제2 마운트에 장착된 제2 캐리어(20)에 대해 상기 제1 캐리어를 정렬시키는 단계를 포함하는,
진공 챔버에서 캐리어를 정렬시키는 방법.The method of claim 14,
The first carrier 10 is a substrate carrier carrying the substrate 11,
Aligning the first carrier comprises aligning the first carrier with respect to a second carrier (20) mounted to a second mount of the alignment system.
How to align the carrier in a vacuum chamber.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2018/058469 WO2019192678A1 (en) | 2018-04-03 | 2018-04-03 | Apparatus and vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, and method of aligning a carrier |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190116970A KR20190116970A (en) | 2019-10-15 |
KR102167534B1 true KR102167534B1 (en) | 2020-10-19 |
Family
ID=61911582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197012948A KR102167534B1 (en) | 2018-04-03 | 2018-04-03 | Apparatus and vacuum system for carrier alignment in vacuum chamber, and method of alignment of carriers |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020518123A (en) |
KR (1) | KR102167534B1 (en) |
CN (1) | CN110557953B (en) |
WO (1) | WO2019192678A1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115874148B (en) * | 2022-09-19 | 2024-11-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | A finishing device and evaporation equipment |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006299358A (en) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Vacuum film deposition apparatus, and vacuum film deposition method |
JP2012140671A (en) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Canon Tokki Corp | Film-forming apparatus |
WO2017125123A1 (en) * | 2016-01-18 | 2017-07-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber, system for vacuum processing of a substrate, and method for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100044213A1 (en) * | 2008-08-25 | 2010-02-25 | Applied Materials, Inc. | Coating chamber with a moveable shield |
JP5231917B2 (en) * | 2008-09-25 | 2013-07-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Deposition equipment |
JP5167103B2 (en) * | 2008-12-15 | 2013-03-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Deposition equipment |
KR101569796B1 (en) * | 2009-06-23 | 2015-11-20 | 주성엔지니어링(주) | Substrate alignment apparatus, substrate processing apparatus including same, and substrate alignment method |
JP5639431B2 (en) * | 2010-09-30 | 2014-12-10 | キヤノントッキ株式会社 | Deposition equipment |
KR102123335B1 (en) * | 2015-01-12 | 2020-06-17 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | A holding arrangement for supporting a substrate carrier and a mask carrier during layer deposition in a processing chamber, an apparatus for depositing a layer on a substrate, and a method for aligning a mask carrier with a substrate carrier supporting a substrate |
WO2016159705A1 (en) * | 2015-04-01 | 2016-10-06 | (주)브이앤아이솔루션 | Aligner structure and alignment method |
KR101965370B1 (en) * | 2016-05-18 | 2019-04-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Apparatus and method for transporting a carrier or substrate |
-
2018
- 2018-04-03 CN CN201880004216.1A patent/CN110557953B/en active Active
- 2018-04-03 KR KR1020197012948A patent/KR102167534B1/en active IP Right Grant
- 2018-04-03 WO PCT/EP2018/058469 patent/WO2019192678A1/en active Application Filing
- 2018-04-03 JP JP2019519239A patent/JP2020518123A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006299358A (en) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Vacuum film deposition apparatus, and vacuum film deposition method |
JP2012140671A (en) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Canon Tokki Corp | Film-forming apparatus |
WO2017125123A1 (en) * | 2016-01-18 | 2017-07-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber, system for vacuum processing of a substrate, and method for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020518123A (en) | 2020-06-18 |
CN110557953A (en) | 2019-12-10 |
KR20190116970A (en) | 2019-10-15 |
CN110557953B (en) | 2021-10-29 |
WO2019192678A1 (en) | 2019-10-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20190503 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20190507 Comment text: Request for Examination of Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20200708 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20200909 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
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|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20201013 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |