Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR102167337B1 - Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion - Google Patents

Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion Download PDF

Info

Publication number
KR102167337B1
KR102167337B1 KR1020180159836A KR20180159836A KR102167337B1 KR 102167337 B1 KR102167337 B1 KR 102167337B1 KR 1020180159836 A KR1020180159836 A KR 1020180159836A KR 20180159836 A KR20180159836 A KR 20180159836A KR 102167337 B1 KR102167337 B1 KR 102167337B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photoreactive
coating layer
adhesion
weight
primer
Prior art date
Application number
KR1020180159836A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200073301A (en
Inventor
이성모
조용주
유진화
Original Assignee
유림특수화학 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 유림특수화학 주식회사 filed Critical 유림특수화학 주식회사
Priority to KR1020180159836A priority Critical patent/KR102167337B1/en
Publication of KR20200073301A publication Critical patent/KR20200073301A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102167337B1 publication Critical patent/KR102167337B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • H05K3/0023Etching of the substrate by chemical or physical means by exposure and development of a photosensitive insulating layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • H05K3/182Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
    • H05K3/185Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method by making a catalytic pattern by photo-imaging

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

금속기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층을 배치시켜 밀착력 및 부착력을 향상시킨 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법은 (a) 금속기재 상에 프라이머 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 형성하는 단계; (b) 상기 프라이머 도료 코팅층의 표면을 열부식 처리로 표면을 개질하는 단계; (c) 상기 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층 상에 광반응성 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 광반응성 도료 코팅층에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 상기 광반응성 도료 코팅층 내부의 광반응성 필러를 용출시키고, 상기 용출된 광반응성 필러에 도금을 실시하여 회로패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Disclosed is an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion, and a method of manufacturing the same, which improves adhesion and adhesion by arranging a primer paint coating layer surface-modified by heat corrosion treatment between a metal substrate and a photoreactive paint coating layer.
The method of manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to the present invention includes the steps of: (a) applying a primer coating composition on a metal substrate and drying to form a primer coating layer; (b) modifying the surface of the primer coating layer by thermal corrosion treatment; (c) applying a photoreactive paint composition on the surface-modified primer paint coating layer and drying to form a photoreactive paint coating layer; And (d) performing selective laser irradiation on the photoreactive paint coating layer to elute the photoreactive filler inside the photoreactive paint coating layer, and plating the eluted photoreactive filler to form a circuit pattern. It characterized in that it includes.

Description

밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법{MANUFACTURING METHOD OF LASER DIRECT STRUCTURING TYPE CIRCUIT SUBSTRATE WITH COHERENCE AND ADHESION}LDS type circuit board manufacturing method with excellent adhesion and adhesion {MANUFACTURING METHOD OF LASER DIRECT STRUCTURING TYPE CIRCUIT SUBSTRATE WITH COHERENCE AND ADHESION}

본 발명은 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층을 배치시켜 밀착력 및 부착력을 향상시킨 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion, and to a method for manufacturing the same, and more particularly, by disposing a surface-modified primer paint coating layer between a metal substrate and a photoreactive paint coating layer by means of a thermal corrosion treatment. It relates to an LDS type circuit board having improved adhesion and adhesion, and a manufacturing method thereof.

최근, 레이저 처리와 도금으로 정확한 패턴과 회로를 형성하는 레이저 직접 구조화(Laser Direct Structuring, LDS)가 사용되고 있다. LDS는 사출물에 레이저 활성화(Laser Activation) 및 무전해 도금 처리를 하는 공정을 포함하는 간단한 공정으로 패턴과 회로를 형성할 수 있다. 구체적으로, 레이저 빔이 사출 성형 소자(MID) 상에서 이동하여 전도성 경로를 배치하고자 하는 위치에서 플라스틱 표면을 활성화한 후, 레이저 직접 구조화용 조성물을 사용하면 작은 전도성 경로 폭(예: 150㎛ 이하)을 얻을 수 있어, 세밀한 패턴을 표현하는 것이 가능하다는 장점이 있다.Recently, Laser Direct Structuring (LDS), which forms accurate patterns and circuits by laser processing and plating, has been used. LDS can form patterns and circuits with a simple process including laser activation and electroless plating treatment on an injection product. Specifically, after the laser beam moves on the injection molding device (MID) to activate the plastic surface at the position where the conductive path is to be arranged, a small conductive path width (eg, 150 μm or less) is reduced by using the composition for direct laser structuring. It can be obtained, and there is an advantage that it is possible to express a detailed pattern.

그러나, 이러한 방법은 사출물을 이용하여 미세 패턴을 형성하는 점에서 별도의 사출물을 필요로 한다. 또한, 조성물의 내열성 및 부착 안정성이 우수하지 못해, 기판 상에 조성물을 도장한 후 레이저 가공 시, 기판과 도막이 박리되거나 들뜨는 현상이 발생한다는 문제점이 있다.However, this method requires a separate injection product in that a fine pattern is formed using the injection product. In addition, since the composition is not excellent in heat resistance and adhesion stability, there is a problem in that the substrate and the coating film are peeled off or lifted during laser processing after coating the composition on the substrate.

관련 선행문헌으로는 대한민국 공개특허공보 10-2014-0091029호(2014.07.18. 공개)가 있으며, 상기 문헌에는 레이저 직접 구조체 기판의 형성에 사용하기 위한 열가소성 조성물이 기재되어 있다.As a related prior document, there is Korean Laid-Open Patent Publication No. 10-2014-0091029 (published on July 18, 2014), which describes a thermoplastic composition for use in the formation of a laser direct structure substrate.

본 발명의 목적은 금속 기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층을 배치시켜 밀착력 및 부착력을 향상시킨 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion, and a method for manufacturing the same, which improves adhesion and adhesion by disposing a primer paint coating layer surface-modified by thermal corrosion treatment between a metal substrate and a photoreactive paint coating layer. will be.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판은 금속기재; 상기 금속기재 상에 배치되며, 상측 표면에 미세돌기가 형성된 프라이머 도료 코팅층; 상기 프라이머 도료 코팅층 상에 배치되어, 상기 미세돌기가 형성된 프라이머 도료 코팅층에 부착되며, 내부에 광반응성 필러가 함침된 광반응성 도료 코팅층; 및 상기 광반응성 도료 코팅층에 선택적인 레이저 조사가 실시되어, 상기 광반응성 도료 코팅층 내부에서 용출되는 상기 광반응성 필러에 도금되어 형성된 회로패턴;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a metal substrate; A primer coating layer disposed on the metal substrate and having fine projections formed on an upper surface thereof; A photoreactive paint coating layer disposed on the primer paint coating layer, attached to the primer paint coating layer having the fine protrusions formed therein, and impregnated with a photoreactive filler therein; And a circuit pattern formed by selective laser irradiation on the photoreactive paint coating layer, and plating on the photoreactive filler eluting from the inside of the photoreactive paint coating layer.

이때, 상기 프라이머 도료 코팅층은 20 ~ 40㎛의 두께를 갖는다.At this time, the primer coating layer has a thickness of 20 ~ 40㎛.

또한, 상기 미세돌기는 0.5 ~ 3㎛의 평균 두께를 갖는다.In addition, the microprotrusions have an average thickness of 0.5 ~ 3㎛.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법은 (a) 금속기재 상에 프라이머 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 형성하는 단계; (b) 상기 프라이머 도료 코팅층의 표면을 열부식 처리로 표면을 개질하는 단계; (c) 상기 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층 상에 광반응성 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 광반응성 도료 코팅층에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 상기 광반응성 도료 코팅층 내부의 광반응성 필러를 용출시키고, 상기 용출된 광반응성 필러에 도금을 실시하여 회로패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method for manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention for achieving the above object comprises the steps of: (a) applying a primer coating composition on a metal substrate and drying to form a primer coating layer; (b) modifying the surface of the primer coating layer by thermal corrosion treatment; (c) applying a photoreactive paint composition on the surface-modified primer paint coating layer and drying to form a photoreactive paint coating layer; And (d) performing selective laser irradiation on the photoreactive paint coating layer to elute the photoreactive filler inside the photoreactive paint coating layer, and plating the eluted photoreactive filler to form a circuit pattern. It characterized in that it includes.

상기 (a) 단계에서, 상기 프라이머 도료 조성물은 무기필러 5 ~ 10 중량%, 안료 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 30 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함한다.In the step (a), the primer coating composition includes 5 to 10% by weight of an inorganic filler, 10 to 20% by weight of a pigment, 10 to 30% by weight of an organic solvent, 0.1 to 1.0% by weight of a surface control agent, 0.05 to 1.0% by weight of a dispersant, 0.01 to 0.5% by weight of an anti-settling agent, 0.1 to 3.0% by weight of an adhesion reinforcing agent, and the rest of the binder resin are included.

또한, 상기 (b) 단계에서, 상기 열부식 처리는 200 ~ 300℃에서 1 ~ 10sec 동안 실시한다.In addition, in step (b), the heat corrosion treatment is performed at 200 to 300° C. for 1 to 10 sec.

상기 (c) 단계에서, 상기 광반응성 도료 조성물은 광반응성 필러 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 40 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함한다.In the step (c), the photoreactive paint composition includes 10 to 20% by weight of a photoreactive filler, 10 to 40% by weight of an organic solvent, 0.1 to 1.0% by weight of a surface control agent, 0.05 to 1.0% by weight of a dispersant, and 0.01 to 0.5 of an anti-settling agent. % By weight, 0.1 to 3.0% by weight of the adhesion reinforcing agent, and the remaining binder resin.

상기 (d) 단계는, (d-1) 상기 광반응성 도료 코팅층에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 상기 광반응성 도료 코팅층 내부에 함침된 광반응성 필러를 용출시키는 단계; 및 (d-2) 상기 용출된 광반응성 필러를 씨드로 이용한 도금을 실시하여, 상기 용출된 광반응성 필러와 동일한 형태를 갖는 회로패턴을 형성하는 단계;를 포함한다.The step (d) includes: (d-1) performing selective laser irradiation on the photoreactive paint coating layer to elute the photoreactive filler impregnated into the photoreactive paint coating layer; And (d-2) performing plating using the eluted photoreactive filler as a seed, thereby forming a circuit pattern having the same shape as the eluted photoreactive filler.

본 발명에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법은 금속기재 상에 코팅 방식으로 프라이머 도료 코팅층 및 광반응성 도료 코팅층을 형성하고, 광반응성 도료 코팅층에 직접 레이저를 조사하여 광반응성 도료 코팅층의 표면으로 레이저 조사에 의해 활성화되어 용출되는 광반응성 필러를 씨드로 이용하여 회로패턴이 형성되므로, 회로패턴 형성이 어려운 기재의 측면 부분에도 회로패턴을 형성하는 것이 가능해질 수 있다.The LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to the present invention and its manufacturing method are to form a primer paint coating layer and a photoreactive paint coating layer on a metal substrate by a coating method, and direct laser irradiation on the photoreactive paint coating layer to provide a photoreactive paint. Since a circuit pattern is formed by using a photoreactive filler that is activated and eluted by laser irradiation on the surface of the coating layer as a seed, it may be possible to form a circuit pattern on a side portion of a substrate where it is difficult to form a circuit pattern.

또한, 본 발명에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법은 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층을 배치시킴으로써, 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 간의 밀착력 및 부착력을 강화시키는 것에 의해 도금 밀착력 평가시 밀착력 불량 발생과 더불어, LED 모듈 제작 후 점등 시험에서의 쇼트 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to the present invention and its manufacturing method are provided by arranging a surface-modified primer paint coating layer between the metal substrate and the photoreactive paint coating layer, so that the metal substrate and the photoreactive paint By strengthening the adhesion and adhesion between the coating layers, there is an effect of preventing the occurrence of adhesion defects when evaluating the plating adhesion, and preventing short defects in the lighting test after manufacturing the LED module.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판을 나타낸 단면도.
도 2는 도 1의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법을 나타낸 공정 순서도.
도 4 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.
1 is a cross-sectional view showing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing an enlarged portion A of FIG.
3 is a process flow chart showing a method of manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention.
4 to 8 are process cross-sectional views showing a method of manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, only this embodiment is to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to those who have it, and the invention is only defined by the scope of the claims. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 및 그 제조 방법에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, referring to the accompanying drawings, a detailed description will be given of an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion and a method of manufacturing the same according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판을 나타낸 단면도이고, 도 2는 도 1의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an enlarged portion A of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판은 금속기재(120), 프라이머 도료 코팅층(140), 광반응성 도료 코팅층(160) 및 회로패턴(180)을 포함한다.1 and 2, the LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention includes a metal substrate 120, a primer coating layer 140, a photoreactive coating layer 160, and a circuit pattern ( 180).

금속기재(120)는 강성 및 강도가 우수한 금속 재질이 이용된다. 이러한 금속기재(120)로는 Al, Cr, Ni, Cu 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.The metal substrate 120 is made of a metal material having excellent rigidity and strength. One or more selected from Al, Cr, Ni, and Cu may be used as the metal substrate 120.

프라이머 도료 코팅층(140)은 금속기재(120) 상에 배치되며, 상측 표면에 미세돌기(145)가 형성된다. 이때, 프라이머 도료 코팅층(140)은 금속기재(120)와 광반응성 도료 코팅층(160)의 사이에 배치되어, 금속기재(120)와 광반응성 도료 코팅층(160) 간의 밀착력 및 부착력을 향상시키는 역할을 한다.The primer coating layer 140 is disposed on the metal substrate 120, and fine protrusions 145 are formed on the upper surface. At this time, the primer paint coating layer 140 is disposed between the metal substrate 120 and the photoreactive paint coating layer 160, and serves to improve adhesion and adhesion between the metal substrate 120 and the photoreactive paint coating layer 160. do.

만일, 금속기재(120) 상에 프라이머 도료 코팅층(140)을 형성하는 것 없이 직접 광반응성 도료 코팅층(160)을 배치시키게 되면, 금속기재(120)와 광반응성 도료 코팅층(160)이 도금 용액에 대한 내성 부족으로 인한 밀착력 저하로 부착력이 저하될 수 있다.If the photoreactive paint coating layer 160 is directly disposed on the metal substrate 120 without forming the primer paint coating layer 140, the metal substrate 120 and the photoreactive paint coating layer 160 Adhesion may decrease due to poor adhesion due to lack of resistance to resistance.

특히, 본 발명의 프라이머 도료 코팅층(140)은 열부식 처리에 의한 표면 개질에 의하여, 광반응성 도료 코팅층160()과의 부착면에 해당하는 상측 표면에 미세돌기(145)가 형성된다.Particularly, the primer coating layer 140 of the present invention has microprotrusions 145 formed on the upper surface corresponding to the adhesion surface to the photoreactive coating layer 160 () by surface modification by thermal corrosion treatment.

이와 같이, 프라이머 도료 코팅층(140)을 열부식 처리로 표면 일부를 식각하여 표면개질 처리하는 것에 의해, 프라이머 도료 코팅층(140)의 표면 일부가 제거되어 불규칙한 형태의 미세돌기(145)가 형성된다. 이 결과, 불규칙한 형태의 미세돌기(145)에 의해 프라이머 도료 코팅층(140)의 표면적 확장으로 프라이머 도료 코팅층(140) 상에 부착되는 광반응성 도료 코팅층(160)과의 밀착력 및 부착력을 향상시킬 수 있게 된다. As described above, a part of the surface of the primer coating layer 140 is removed by etching a part of the surface of the primer coating layer 140 by heat corrosion treatment, thereby forming an irregularly shaped fine protrusion 145. As a result, it is possible to improve adhesion and adhesion with the photoreactive paint coating layer 160 attached to the primer paint coating layer 140 by expanding the surface area of the primer paint coating layer 140 by the irregularly shaped microprotrusions 145. do.

이때, 미세돌기(145)는 0.5 ~ 3㎛의 평균 두께를 갖는 것이 바람직하다. 만일, 미세돌기(145)의 평균 두께가 0.5㎛ 미만일 경우에는 표면적 확장 효과가 미미하여 상기의 효과를 제대로 발휘하기 어렵다. 반대로, 미세돌기(145)의 평균 두께가 3㎛를 초과할 경우에는 국부적으로 미세돌기(145)의 편차가 심하여 오히려 밀착력 및 부착력을 감소시킬 우려가 있다.At this time, it is preferable that the microprotrusions 145 have an average thickness of 0.5 to 3 μm. If the average thickness of the fine protrusions 145 is less than 0.5 μm, the surface area expansion effect is insignificant, and it is difficult to properly exhibit the above effect. On the contrary, when the average thickness of the fine protrusions 145 exceeds 3 μm, there is a concern that the localized fine protrusions 145 have severe deviations, thereby reducing adhesion and adhesion.

이러한 프라이머 도료 코팅층(140)은 금속기재(120) 상에 프라이머 도료 조성물을 도포하고, 130 ~ 170℃에서 10 ~ 60분 동안 건조하는 것에 의해 형성될 수 있다.The primer coating layer 140 may be formed by applying a primer coating composition on the metal substrate 120 and drying at 130 to 170° C. for 10 to 60 minutes.

이때, 프라이머 도료 조성물은 무기필러 5 ~ 10 중량%, 안료 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 30 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함한다.At this time, the primer coating composition is 5 to 10% by weight of inorganic filler, 10 to 20% by weight of pigment, 10 to 30% by weight of organic solvent, 0.1 to 1.0% by weight of surface control agent, 0.05 to 1.0% by weight of dispersant, 0.01 to 0.5% by weight of anti-settling agent %, 0.1 to 3.0% by weight of the adhesion reinforcing agent, and the rest of the binder resin.

무기필러는 밀착력 및 접착력을 향상시키기 위해 첨가된다. 이때, 무기필러로는 탈크(Talc), 탄산칼슘 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다. 이러한 무기필러로는 분산성 확보를 위해, 1㎛ 이하의 평균 직경을 갖는 것을 이용하는 것이 보다 바람직하다.Inorganic fillers are added to improve adhesion and adhesion. At this time, as the inorganic filler, at least one selected from talc and calcium carbonate may be used. It is more preferable to use one having an average diameter of 1 μm or less as such an inorganic filler in order to secure dispersibility.

무기필러의 첨가량이 프라이머 도료 조성물 전체 중량의 5 중량% 미만일 경우에는 밀착력 및 접착력 확보에 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 무기필러의 첨가량이 프라이머 도료 조성물 전체 중량의 10 중량%를 초과할 경우에는 무기필러의 과도한 첨가로 인하여 분산성이 좋지 않을 수 있다.When the amount of the inorganic filler added is less than 5% by weight of the total weight of the primer coating composition, it may be difficult to secure adhesion and adhesion. Conversely, when the amount of the inorganic filler exceeds 10% by weight of the total weight of the primer coating composition, dispersibility may be poor due to excessive addition of the inorganic filler.

안료는 무기필러와 마찬가지로 밀착력 및 접착력을 향상시키기 위해 첨가된다. 이때, 안료로는 TiO2가 이용될 수 있다.Pigments are added to improve adhesion and adhesion, like inorganic fillers. At this time, TiO 2 may be used as the pigment.

유기 용매는 프라이머 도료 조성물의 점도를 조절하기 위해 첨가된다. 이러한 유기 용매로는 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone), 메틸 아이소부틸 케톤(methyl isobutyl ketone), 다이메틸 케톤(dimethyl ketone), 아이소프로필 알콜(isopropyl alcohol), 아이소부틸 알콜(isobutyl alcohol), 노르말 부틸 알콜(normal butyl alcohol), 에틸 아세테이트(ethyl acetate), 에틸 셀루솔브(ethyl cellusolve), 부틸 셀루솔브(butyl cellusolve) 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.An organic solvent is added to control the viscosity of the primer coating composition. These organic solvents include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethyl ketone, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, and normal butyl. At least one selected from alcohol (normal butyl alcohol), ethyl acetate, ethyl cellusolve, butyl cellusolve, and the like may be used.

이러한 유기 용매의 첨가량이 프라이머 도료 조성물 전체 중량의 10 중량% 미만일 경우에는 프라이머 도료 조성물의 점도가 낮아져 분산성이 좋지 못하여 페이스트 상태로 제조하는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 유기 용매의 첨가량이 프라이머 도료 조성물 전체 중량의 30 중량%를 초과할 경우에는 노즐을 이용한 스프레이 코팅 시 유기 용매의 과도한 첨가로 인하여 프라이머 도료 조성물이 흘러내려 도막의 적정 두께를 확보하는데 어려움이 따를 수 있다.When the amount of the organic solvent added is less than 10% by weight of the total weight of the primer coating composition, the viscosity of the primer coating composition is lowered and thus dispersibility is poor, and thus it may be difficult to prepare a paste. On the contrary, when the amount of the organic solvent added exceeds 30% by weight of the total weight of the primer coating composition, it may be difficult to secure the proper thickness of the coating film due to the excessive addition of the organic solvent during spray coating using a nozzle. I can.

이를 위해, 프라이머 도료 코팅층(140)은 20 ~ 40㎛의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 프라이머 도료 코팅층(140)의 두께가 20㎛ 미만일 경우에는 밀착력 및 부착력 향상 효과를 제대로 발휘하는데 어려움이 따를 수 있으며, 그 두께가 너무 얇아 금속기재(120) 상에 LED 모듈을 제작한 후 점등 시험시 쇼트 불량을 유발할 수 있다. 반대로, 프라이머 도료 코팅층(140)의 두께가 40㎛를 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 도막 두께만을 증가시키는 요인으로 작용할 수 있으므로, 바람직하지 못하다.To this end, it is preferable that the primer coating layer 140 has a thickness of 20 to 40 μm. If the thickness of the primer paint coating layer 140 is less than 20㎛, it may be difficult to properly exhibit the effect of improving adhesion and adhesion, and the thickness is too thin, so when the LED module is manufactured on the metal substrate 120 and the light is tested It may cause short circuit failure. On the contrary, when the thickness of the primer coating layer 140 exceeds 40 μm, it is not preferable because it can act as a factor of increasing only the coating film thickness without further increasing the effect.

표면 조절제는 도막의 표면 개질 특성을 향상시키기 위해 첨가된다. 이를 위해, 표면 조절제로는 고분자 탄성 중합체인 PDMS(Polydimethyl siloxane)가 이용될 수 있다. PDMS는 실리콘으로 이루어진 고분자 중합체로, 내구성과 유연성이 우수하고 투명한 성질을 지닌다.The surface modifier is added to improve the surface modification properties of the coating film. To this end, as a surface modifier, a polymer elastomer, Polydimethyl siloxane (PDMS) may be used. PDMS is a high-molecular polymer made of silicone, has excellent durability and flexibility, and has transparent properties.

표면 조절제의 첨가량이 프라이머 도료 조성물 전체 중량의 0.1 중량% 미만일 경우에는 표면 개질 효과를 제대로 발휘하는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 표면 조절제의 첨가량이 프라이머 도료 조성물 전체 중량의 1.0 중량%를 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 제조 비용만을 상승시킬 우려가 크므로, 바람직하지 못하다.When the amount of the surface modifier added is less than 0.1% by weight of the total weight of the primer coating composition, it may be difficult to properly exhibit the surface modification effect. On the contrary, when the amount of the surface modifier added exceeds 1.0% by weight of the total weight of the primer coating composition, there is a high possibility that only the manufacturing cost is increased without further increase in effect, and thus it is not preferable.

분산제는 베이스 수지와 무기필러 및 안료의 분산성을 향상시키기 위해 첨가되는 것으로, 아크릴계 공중합체(copolymer)가 이용될 수 있다. 아크릴계 공중합체는 고분자 폴리머로 도료를 고르게 분산시키고, 점도를 조절할 수 있으며, 열분해성, 무변색성, 투명성, 내후성이 우수하고 다른 성분과의 공중합이 용이한 특징이 있다.The dispersant is added to improve the dispersibility of the base resin, the inorganic filler, and the pigment, and an acrylic copolymer may be used. The acrylic copolymer is a high-molecular polymer that evenly distributes paint, can adjust viscosity, has excellent thermal decomposition, colorlessness, transparency, weather resistance, and easy copolymerization with other components.

침강방지제는 침강 방지 효과를 발휘하기 위해 첨가된다. 이러한 침강방지제는 층상 분리를 방지하기 위해 아미드왁스(amidewax)가 이용될 수 있다. 아미드 왁스는 수용성으로 용제인 물에 폴리아미드가 분산된 상태의 왁스를 의미한다.Anti-settling agents are added to exert an anti-settling effect. The anti-settling agent may be amidewax to prevent layer separation. The amide wax refers to a wax in which polyamide is dispersed in water, which is a water-soluble solvent.

부착보강제는 친수성 작용기를 갖는 공중합체(copolymer)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 부착보강제는 -COOH인 산성 작용기를 갖는 공중합체가 사용될 수 있다. 이러한 작용기를 갖는 부착보강제는 전기적 결합, 반데르 발스 힘, 산성 작용기에 의한 상호 작용으로 부착성이 향상되는 효과가 있다.The adhesion reinforcing agent may include a copolymer having a hydrophilic functional group. For example, the adhesion modifier may be a copolymer having an acidic functional group -COOH. The adhesion reinforcing agent having such a functional group has the effect of improving the adhesion through electrical bonding, van der Waals force, and interaction with acidic functional groups.

바인더 수지는 아크릴계 폴리올, 에스테르계 폴리올, 멜라민 수지 및 에폭시 수지 중 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다. 아크릴계 폴리올은 예를 들어, 아크릴릭 폴리올(acrylic polyol) 등이 사용될 수 있으며, 아크릴계 폴리올의 중량평균분자량은 5000 ~ 100,000일 수 있다.As the binder resin, at least one selected from acrylic polyol, ester polyol, melamine resin, and epoxy resin may be used. Acrylic polyol may be, for example, acrylic polyol (acrylic polyol) may be used, the weight average molecular weight of the acrylic polyol may be 5000 ~ 100,000.

에스테르계 폴리올은 다염기산과 다가알코올의 축합반응에 의해 생성된다. 예를 들어, 이소프탈산, 무수프탈산 등의 다염기산과 에틸렌글리콜, 부탄을 포함한다. 디올, 펜탄디올 등의 다가알코올을 반응시켜 에스테르계 폴리올을 생성한다. 에스테르계 폴리올은 가격이 저렴하고 제조 공정이 간단하다.Ester polyols are produced by the condensation reaction of polybasic acids and polyhydric alcohols. For example, polybasic acids such as isophthalic acid and phthalic anhydride, ethylene glycol, and butane are included. Polyhydric alcohols such as diol and pentanediol are reacted to produce ester-based polyols. Ester-based polyols are inexpensive and have a simple manufacturing process.

멜라민 수지는 우수한 내수성, 내열성을 가지며, 멜라민과 포르말린을 혼합하여 가열하여 메티놀 멜라민을 형성한 후, 탈수축합 과정을 통해 제조되는 상의 열경화성 수지이다.Melamine resin has excellent water resistance and heat resistance, is a thermosetting resin of a phase prepared through a dehydration condensation process after forming methylol melamine by mixing and heating melamine and formalin.

에폭시 수지는 에피크로로히드린과 비스페놀 A를 중합하여 조되며, 경화 시 기계적 성질, 내마모성, 내수성 등이 우수한 특징이 있다. 예를 들어, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락 타입의 에폭시 수지 등이 있다.Epoxy resin is prepared by polymerizing epichlorohydrin and bisphenol A, and has excellent mechanical properties, abrasion resistance, and water resistance during curing. For example, there are bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and novolac type epoxy resin.

광반응성 도료 코팅층(160)은 프라이머 도료 코팅층(140) 상에 배치되어, 미세돌기(145)가 형성된 프라이머 도료 코팅층(140)에 부착되며, 내부에 광반응성 필러(165)가 함침된다.The photoreactive paint coating layer 160 is disposed on the primer paint coating layer 140 and is attached to the primer paint coating layer 140 on which the microprotrusions 145 are formed, and a photoreactive filler 165 is impregnated therein.

이러한 광반응성 도료 코팅층(160)은 미세돌기(145)가 형성된 프라이머 도료 코팅층(140) 상에 광반응성 도료 조성물을 도포하고, 130 ~ 170℃에서 100 ~ 200분 동안 건조하는 것에 의해 형성될 수 있다.The photoreactive paint coating layer 160 may be formed by applying a photoreactive paint composition on the primer paint coating layer 140 on which the fine protrusions 145 are formed, and drying at 130 to 170° C. for 100 to 200 minutes. .

이때, 광반응성 도료 조성물은 광반응성 필러 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 40 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함한다.At this time, the photoreactive paint composition is a photoreactive filler 10 to 20% by weight, organic solvent 10 to 40% by weight, surface control agent 0.1 to 1.0% by weight, dispersant 0.05 to 1.0% by weight, anti-settling agent 0.01 to 0.5% by weight, adhesion reinforcing agent 0.1 ~ 3.0% by weight and the rest of the binder resin.

광반응성 필러(165)는 LDS 방식을 이용하여 회로패턴(180)을 형성할 시, 금속기재(120) 상의 광반응성 도료 코팅층(160)에 선택적으로 레이저를 조사하여 조사시킨 부분만을 국부적으로 활성화시켜 활성화된 광반응성 필러(165)가 광반응성 도료 코팅층(160)의 표면으로 용출되어, 용출된 광반응성 필러(165a)가 배치된 부분만을 도금 처리하는 방식으로 회로패턴(180)을 형성하게 된다.When forming the circuit pattern 180 using the LDS method, the photoreactive filler 165 selectively irradiates the photoreactive paint coating layer 160 on the metal substrate 120 to locally activate only the irradiated portion. The activated photoreactive filler 165 is eluted onto the surface of the photoreactive paint coating layer 160, and the circuit pattern 180 is formed by plating only the portion where the eluted photoreactive filler 165a is disposed.

이를 위해, 광반응성 필러(165)로는 레이저에 의해 활성화될 수 있는 금속 화합물을 포함할 수 있다. 이러한 광반응성 필로(165)로는, 예를 들어, 질산구리(copper nitrate, Cu(NO3)2), 구리질화물(cupper nitrite Cu3N), 산화티타늄(titanium dioxide, TiO2), 산화안티모니(antimony oxide, Sb2O3), 구리 인산염(copper(II) phosphate, Cu3(PO4)2) 등에서 선택될 수 있다. 광반응성 필러(165)로는 대략 1㎛ 이하의 평균 직경을 갖는 것이 이용될 수 있다.To this end, the photoreactive filler 165 may include a metal compound that can be activated by a laser. As such photoreactive pillow 165, for example, copper nitrate (Cu (NO 3 ) 2 ), copper nitride (cupper nitrite Cu 3 N), titanium dioxide (TiO 2 ), antimony oxide (antimony oxide, Sb 2 O 3 ), copper phosphate (copper(II) phosphate, Cu 3 (PO 4 ) 2 ) can be selected from. As the photoreactive filler 165, one having an average diameter of approximately 1 μm or less may be used.

이러한 광반응성 필러(165)의 첨가량이 광반응성 도료 조성물 전체 중량의 10 중량% 미만일 경우에는 레이저 조사시 도금 시드 형성량이 부족하여 도금 불량을 유발할 수 있다. 반대로, 광반응성 필러(165)의 첨가량이 광반응성 도료 조성물 전체 중량의 20 중량%를 초과할 경우에는 도막의 물성을 저하시키는 요인으로 작용할 수 있다.When the amount of the photoreactive filler 165 added is less than 10% by weight of the total weight of the photoreactive paint composition, the amount of plating seeds formed during laser irradiation may be insufficient, resulting in poor plating. Conversely, when the amount of the photoreactive filler 165 added exceeds 20% by weight of the total weight of the photoreactive paint composition, it may act as a factor to lower the physical properties of the coating film.

유기 용매는 광반응성 도료 조성물의 점도를 조절하기 위해 첨가된다. 이러한 유기 용매로는 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone), 메틸 아이소부틸 케톤(methyl isobutyl ketone), 다이메틸 케톤(dimethyl ketone), 아이소프로필 알콜(isopropyl alcohol), 아이소부틸 알콜(isobutyl alcohol), 노르말 부틸 알콜(normal butyl alcohol), 에틸 아세테이트(ethyl acetate), 에틸 셀루솔브(ethyl cellusolve), 부틸 셀루솔브(butyl cellusolve) 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.An organic solvent is added to adjust the viscosity of the photoreactive paint composition. These organic solvents include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethyl ketone, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, and normal butyl. At least one selected from alcohol (normal butyl alcohol), ethyl acetate, ethyl cellusolve, butyl cellusolve, and the like may be used.

이러한 유기 용매의 첨가량이 광반응성 도료 조성물 전체 중량의 10 중량% 미만일 경우에는 광반응성 도료 조성물의 점도가 낮아져 분산성이 좋지 못하여 페이스트 상태로 제조하는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 유기 용매의 첨가량이 광반응성 도료 조성물 전체 중량의 40 중량%를 초과할 경우에는 노즐을 이용한 스프레이 코팅 시 유기 용매의 과도한 첨가로 인하여 광반응성 도료 조성물이 흘러내려 도막의 적정 두께를 확보하는데 어려움이 따를 수 있다.When the amount of the organic solvent added is less than 10% by weight of the total weight of the photoreactive coating composition, the viscosity of the photoreactive coating composition is lowered and thus dispersibility is poor, making it difficult to prepare a paste. Conversely, when the amount of the organic solvent added exceeds 40% by weight of the total weight of the photoreactive coating composition, it is difficult to secure the proper thickness of the coating film due to the excessive addition of the organic solvent during spray coating using a nozzle. You can follow this.

이 밖에, 광반응성 도료 조성물에 첨가되는 표면조절제, 분산제, 침강방지제, 부착보강제 및 바인더 수지는 프라이머 도료 조성물에 첨가되는 표면조절제, 분산제, 침강방지제, 부착보강제 및 바인더 수지와 실질적으로 동일한 것이 이용될 수 있으므로, 중복 설명은 생략하도록 한다.In addition, the surface control agent, dispersant, anti-settling agent, adhesion reinforcing agent and binder resin added to the photoreactive paint composition may be substantially the same as the surface control agent, dispersant, anti-settling agent, adhesion reinforcing agent and binder resin added to the primer paint composition. Therefore, the redundant description will be omitted.

회로패턴(180)은 광반응성 도료 코팅층(160)에 선택적인 레이저 조사가 실시되어, 광반응성 도료 코팅층(160) 내부에서 용출되는 광반응성 필러(165a)에 도금되어 형성된다.The circuit pattern 180 is formed by selective laser irradiation on the photoreactive paint coating layer 160 and plating on the photoreactive filler 165a eluting from the inside of the photoreactive paint coating layer 160.

즉, 광반응성 도료 코팅층(160)에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 광반응성 도료 코팅층(160) 내부에 함침된 광반응성 필러(165)를 표면으로 용출시키게 된다. 이후, 용출된 광반응성 필러(165a)를 씨드로 이용한 도금을 실시하여, 용출된 광반응성 필러(165a)와 실질적으로 동일한 형태를 갖는 회로패턴(180)을 형성할 수 있게 되는 것이다.That is, by selectively irradiating the photoreactive paint coating layer 160 with a laser, the photoreactive filler 165 impregnated in the photoreactive paint coating layer 160 is eluted to the surface. Thereafter, plating is performed using the eluted photoreactive filler 165a as a seed, so that the circuit pattern 180 having substantially the same shape as the eluted photoreactive filler 165a can be formed.

전술한 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판은 금속기재 상에 코팅 방식으로 프라이머 도료 코팅층 및 광반응성 도료 코팅층을 형성하고, 광반응성 도료 코팅층에 직접 레이저를 조사하여 광반응성 도료 코팅층의 표면으로 레이저 조사에 의해 활성화되어 용출되는 광반응성 필러를 씨드로 이용하여 회로패턴이 형성되므로, 회로패턴 형성이 어려운 기재의 측면 부분에도 회로패턴을 형성하는 것이 가능해질 수 있다.In the LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to the above-described embodiment of the present invention, a primer coating layer and a photoreactive coating layer are formed by a coating method on a metal substrate, and the photoreactive coating layer is directly irradiated with a laser to provide photoreactivity. Since a circuit pattern is formed using a photoreactive filler that is activated and eluted by laser irradiation on the surface of the paint coating layer as a seed, it may be possible to form a circuit pattern on a side portion of a substrate where it is difficult to form a circuit pattern.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판은 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층을 배치시킴으로써, 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 간의 밀착력 및 부착력을 강화시키는 것에 의해 도금 밀착력 평가시 밀착력 불량 발생과 더불어, LED 모듈 제작 후 점등 시험에서의 쇼트 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention has a surface-modified primer paint coating layer disposed between the metal substrate and the photoreactive paint coating layer, thereby disposing the metal substrate and the photoreactive paint coating layer. By reinforcing the adhesion and adhesion between the liver, there is an effect of preventing the occurrence of adhesion defects when evaluating the plating adhesion, and preventing short defects in the lighting test after manufacturing the LED module.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법에 대하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이고, 도 4 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다.3 is a process flow chart showing a method of manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 4 to 8 are LDS type circuit board manufacturing having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention. It is a process cross-sectional view showing the method.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법은 프라이머 도료 코팅층 형성 단계(S110), 표면개질 처리 단계(S120), 광반응성 도료 코팅층 형성 단계(S130) 및 회로패턴 형성 단계(S140)를 포함한다.As shown in Figure 3, the LDS type circuit board manufacturing method having excellent adhesion and adhesion according to an embodiment of the present invention includes a primer paint coating layer forming step (S110), a surface modification treatment step (S120), a photoreactive paint coating layer forming step (S130) and a circuit pattern forming step (S140).

프라이머primer 도료 코팅층 형성 Paint coating layer formation

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 프라이머 도료 코팅층 형성 단계(S110)에서는 금속기재(120) 상에 프라이머 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 프라이머 도료 코팅층(140)을 형성한다.3 and 4, in the step of forming a primer coating layer (S110), a primer coating composition is applied on the metal substrate 120 and dried to form the primer coating layer 140.

금속기재(120)는 강성 및 강도가 우수한 금속 재질이 이용된다. 이러한 금속기재(120)로는 Al, Cr, Ni, Cu 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.The metal substrate 120 is made of a metal material having excellent rigidity and strength. One or more selected from Al, Cr, Ni, and Cu may be used as the metal substrate 120.

프라이머 도료 조성물은 무기필러 5 ~ 10 중량%, 안료 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 30 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함한다.Primer paint composition is inorganic filler 5 ~ 10% by weight, pigment 10 ~ 20% by weight, organic solvent 10 ~ 30% by weight, surface control agent 0.1 ~ 1.0% by weight, dispersant 0.05 ~ 1.0% by weight, anti-settling agent 0.01 ~ 0.5% by weight, It contains 0.1 to 3.0% by weight of the adhesion reinforcing agent and the remaining binder resin.

본 단계에서, 건조는 130 ~ 170℃에서 10 ~ 60분 동안 실시하는 것이 바람직하다. 이때, 건조 온도가 130℃ 미만이거나, 건조 시간이 10분 미만일 경우에는 프라이머 도료 조성물이 충분히 건조되지 못하여 금속기재에 균일하게 부착되지 못할 우려가 있다. 반대로, 건조 온도가 170℃를 초과하거나, 건조 시간이 60분을 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 제조 비용만을 상승시키는 요인으로 작용할 수 있으므로, 바람직하지 못하다.In this step, drying is preferably performed at 130 to 170° C. for 10 to 60 minutes. At this time, when the drying temperature is less than 130°C or the drying time is less than 10 minutes, there is a fear that the primer coating composition may not be sufficiently dried and thus may not be uniformly attached to the metal substrate. Conversely, when the drying temperature exceeds 170° C. or the drying time exceeds 60 minutes, it is not preferable because it can act as a factor that increases only the manufacturing cost without further increasing the effect.

이러한 프라이머 도료 코팅층(140)은 20 ~ 40㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다. 프라이머 도료 코팅층(140)의 두께가 20㎛ 미만일 경우에는 밀착력 향상 효과를 제대로 발휘하는데 어려움이 따를 수 있으며, 그 두께가 너무 얇아 금속기재(120) 상에 LED 모듈을 제작한 후 점등 시험시 쇼트 불량을 유발할 수 있다. 반대로, 프라이머 도료 코팅층(140)의 두께가 40㎛를 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 도막 두께만을 증가시키는 요인으로 작용할 수 있으므로, 바람직하지 못하다.The primer coating layer 140 is preferably formed to a thickness of 20 ~ 40㎛. If the thickness of the primer coating layer 140 is less than 20㎛, it may be difficult to properly exhibit the effect of improving adhesion, and the thickness is too thin to produce an LED module on the metal substrate 120 and then a short circuit is defective during the lighting test. Can cause. On the contrary, when the thickness of the primer coating layer 140 exceeds 40 μm, it is not preferable because it can act as a factor of increasing only the coating film thickness without further increasing the effect.

표면개질Surface modification 처리 process

도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이, 표면개질 처리 단계(S120)에서는 프라이머 도료 코팅층(140)의 표면을 열부식 처리로 표면을 개질한다.3 and 5, in the surface modification treatment step (S120), the surface of the primer coating layer 140 is modified by thermal corrosion treatment.

본 단계에서, 열부식 처리는 200 ~ 300℃에서 1 ~ 10sec 동안 실시하는 것이 바람직하다. 열부식 처리 온도가 200℃ 미만이거나, 열부식 처리 시간이 1sec 미만일 경우에는 열부식이 원활이 이루어지지 못하는 관계로 비표면적을 증가시키는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 열부식 처리 온도가 300℃를 초과하거나, 열부식 처리 시간이 10sec를 초과할 경우에는 과도한 열부식 처리로 인하여 프라이머 도료 코팅층(140)이 과도하게 식각되어 오히려 밀착력 및 부착력을 감소시킬 우려가 있다.In this step, the heat corrosion treatment is preferably carried out at 200 ~ 300 ℃ for 1 ~ 10sec. When the heat corrosion treatment temperature is less than 200°C or the heat corrosion treatment time is less than 1 sec, it may be difficult to increase the specific surface area because heat corrosion is not smoothly performed. On the contrary, when the heat corrosion treatment temperature exceeds 300°C or the heat corrosion treatment time exceeds 10 sec, the primer paint coating layer 140 is excessively etched due to excessive heat corrosion treatment, and there is a concern that adhesion and adhesion may be reduced. have.

이와 같이, 프라이머 도료 코팅층(140)을 열부식 처리로 표면 일부를 식각하여 표면개질 처리하는 것에 의해, 프라이머 도료 코팅층(140)의 표면 일부가 제거되어 불규칙한 형태의 미세돌기(도 2의 145)가 형성된다. 이 결과, 불규칙한 형태의 미세돌기에 의해 프라이머 도료 코팅층(140)의 표면적 확장으로 프라이머 도료 코팅층(140) 상에 부착되는 광반응성 도료 코팅층(도 6의 160)과의 밀착력 및 부착력을 향상시킬 수 있게 된다. In this way, a part of the surface of the primer coating layer 140 is removed by etching a part of the surface of the primer coating layer 140 by heat corrosion treatment, thereby forming irregularly shaped fine protrusions (145 in FIG. 2). Is formed. As a result, it is possible to improve adhesion and adhesion with the photoreactive paint coating layer (160 in FIG. 6) attached to the primer paint coating layer 140 by expanding the surface area of the primer paint coating layer 140 by irregular shaped fine projections. do.

광반응성Photoreactivity 도료 코팅층 형성 Paint coating layer formation

도 3 및 도 6에 도시된 바와 같이, 광반응성 도료 코팅층 형성 단계(S130)에서는 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층(140) 상에 광반응성 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 광반응성 도료 코팅층(160)을 형성한다.3 and 6, in the step of forming a photoreactive paint coating layer (S130), a photoreactive paint composition is applied on the surface-modified primer paint coating layer 140 and dried to form the photoreactive paint coating layer 160 To form.

광반응성 도료 조성물은 광반응성 필러 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 40 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함한다.The photoreactive paint composition contains 10 to 20% by weight of a photoreactive filler, 10 to 40% by weight of an organic solvent, 0.1 to 1.0% by weight of a surface control agent, 0.05 to 1.0% by weight of a dispersant, 0.01 to 0.5% by weight of an anti-settling agent, and 0.1 to 3.0 of an adhesion reinforcing agent. % By weight and the rest of the binder resin.

이때, 건조는 130 ~ 170℃에서 100 ~ 200분 동안 실시하는 것이 바람직하다.At this time, the drying is preferably carried out at 130 ~ 170 ℃ for 100 ~ 200 minutes.

본 단계시, 건조 온도가 130℃ 미만이거나, 건조 시간이 100분 미만일 경우에는 광반응성 도료 조성물이 충분히 건조되지 못하여 프라이머 도료 코팅층(140)에 균일하게 부착되지 못하여 밀착력 및 부착력이 저하될 우려가 크다. 반대로, 건조 온도가 170℃를 초과하거나, 건조 시간이 200분을 초과할 경우에는 과도한 건조로 인하여 막질 특성이 좋지 않을 우려가 있다.In this step, if the drying temperature is less than 130°C or the drying time is less than 100 minutes, the photoreactive paint composition may not be sufficiently dried and thus may not be uniformly adhered to the primer paint coating layer 140, thereby deteriorating adhesion and adhesion. . Conversely, when the drying temperature exceeds 170° C. or the drying time exceeds 200 minutes, there is a concern that the film quality properties are not good due to excessive drying.

회로패턴 형성Circuit pattern formation

도 3, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 회로패턴 형성 단계(S140)에서는 광반응성 도료 코팅층(160)에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 광반응성 도료 코팅층(160) 내부의 광반응성 필러(165)를 용출시키고, 용출된 광반응성 필러(165a)에 도금을 실시하여 회로패턴(180)을 형성한다.3, 7 and 8, in the circuit pattern formation step (S140), the photoreactive filler inside the photoreactive paint coating layer 160 is selectively irradiated to the photoreactive paint coating layer 160 The circuit pattern 180 is formed by eluting 165 and plating the eluted photoreactive filler 165a.

즉, 도 7에 도시된 바와 같이, 광반응성 도료 코팅층(160)에 레이저 빔(200)으로부터 선택적인 레이저(L)를 조사하여 광반응성 도료 코팅층(160) 내부에 함침된 광반응성 필러(165)를 표면으로 용출시키게 된다. 이에 따라, 광반응성 도료 코팅층(160)의 표면에는 레이저 빔(200)에 의해 레이저 조사가 이루어진 부분에만 선택적으로 용출된 광반응성 필러(165a)가 배치되게 된다.That is, as shown in FIG. 7, the photoreactive filler 165 impregnated into the photoreactive paint coating layer 160 by irradiating a selective laser L from the laser beam 200 on the photoreactive paint coating layer 160 Elutes to the surface. Accordingly, on the surface of the photoreactive paint coating layer 160, the photoreactive filler 165a selectively eluted only at the portion where laser irradiation is performed by the laser beam 200 is disposed.

다음으로, 도 8에 도시된 바와 같이, 용출된 광반응성 필러(165a)를 씨드로 이용한 도금을 실시하여, 용출된 광반응성 필러(165a)와 동일한 형태를 갖는 회로패턴(180)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8, plating is performed using the eluted photoreactive filler 165a as a seed to form a circuit pattern 180 having the same shape as the eluted photoreactive filler 165a.

상기의 과정(S110 ~ S140)에 의해 제조되는 본 발명의 실시예에 따른 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판은 금속기재 상에 코팅 방식으로 프라이머 도료 코팅층 및 광반응성 도료 코팅층을 형성하고, 광반응성 도료 코팅층에 직접 레이저를 조사하여 광반응성 도료 코팅층의 표면으로 레이저 조사에 의해 활성화되어 용출되는 광반응성 필러를 씨드로 이용하여 회로패턴이 형성되므로, 회로패턴 형성이 어려운 기재의 측면 부분에도 회로패턴을 형성하는 것이 가능해질 수 있다.The LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion according to the embodiment of the present invention manufactured by the above process (S110 to S140) forms a primer coating layer and a photoreactive coating layer in a coating method on a metal substrate, and photoreactive Since a circuit pattern is formed using a photoreactive filler that is activated and eluted by laser irradiation on the surface of the photoreactive paint coating layer by irradiating a laser directly onto the paint coating layer, a circuit pattern is formed on the side of the substrate where it is difficult to form a circuit pattern. It may become possible to form.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 방법으로 제조되는 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판은 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층을 배치시킴으로써, 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 간의 밀착력 및 부착력을 강화시키는 것에 의해 도금 밀착력 평가시 밀착력 불량 발생과 더불어, LED 모듈 제작 후 점등 시험에서의 쇼트 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the LDS type circuit board manufactured by the method according to the embodiment of the present invention has excellent adhesion and adhesion, by disposing a surface-modified primer paint coating layer between the metal substrate and the photoreactive paint coating layer. By reinforcing the adhesion and adhesion between the photoreactive paint coating layers, there is an effect of preventing the occurrence of adhesion defects when evaluating the plating adhesion, and preventing short defects in the lighting test after manufacturing the LED module.

실시예Example

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 설명한다. 하지만 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허 청구 범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, preferred embodiments will be described to aid in understanding of the present invention. However, it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the present invention and the scope of the technical idea only to illustrate the present invention, and it is natural that such modifications and modifications belong to the appended claims.

1. 회로기판 제조1. Circuit board manufacturing

실시예Example 1 One

Al 기재 상에 탈크(Talc) 8wt%, TiO2 12wt%, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone) 20wt%, PDMS(Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, 분산제 0.5wt%, 아미드왁스(amidewax) 0.5wt%, 부착보강제 1.5wt% 및 나머지 아크릴릭 폴리올(acrylic polyol)로 조성되는 프라이머 도료 조성물을 30㎛의 두께로 도포하고, 140℃에서 40분 동안 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 형성하였다.On the Al substrate, Talc 8wt%, TiO 2 12wt%, methyl ethyl ketone 20wt%, PDMS (Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, dispersant 0.5wt%, amidewax 0.5wt%, A primer coating composition composed of 1.5 wt% of an adhesion reinforcing agent and the rest of acrylic polyol was applied to a thickness of 30 μm, and dried at 140° C. for 40 minutes to form a primer coating layer.

다음으로, 프라이머 도료 코팅층 표면을 250℃에서 3sec 동안 열부식 처리로 표면을 개질하였다.Next, the surface of the primer coating layer was modified by heat corrosion treatment at 250° C. for 3 sec.

다음으로, 표면개질 처리된 프라이머 도료 코팅층 상에 구리질화물(cupper nitrite Cu3N) 12wt%, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone) 25wt%, PDMS(Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, 분산제 0.5wt%, 아미드왁스(amidewax) 0.4wt%, 부착보강제 2.5wt% 및 나머지 아크릴릭 폴리올(acrylic polyol)로 조성되는 광반응성 도료 조성물을 50㎛의 두께로 도포하고, 160℃에서 140분 동안 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 제조하였다.Next, copper nitride (cupper nitrite Cu 3 N) 12wt%, methyl ethyl ketone 25wt%, PDMS (polydimethyl siloxane) 0.5wt%, dispersant 0.5wt%, amide on the surface-modified primer coating layer. A photoreactive paint composition composed of 0.4wt% of wax (amidewax), 2.5wt% of adhesion modifier, and the rest of acrylic polyol was applied to a thickness of 50㎛, and dried at 160℃ for 140 minutes to form a photoreactive paint coating layer. Was prepared.

다음으로, 광반응성 도료 코팅층에 선택적으로 3W 전원의 레이저 조사하여 광반응성 도료 코팅층 내부에 함침된 광반응성 필러를 용출시킨 후, 용출된 광반응성 필러에 전해 도금을 실시하여 회로패턴을 형성하여 회로기판을 제조하였다.Next, the photoreactive paint coating layer is selectively irradiated with a laser of 3W power to elute the photoreactive filler impregnated inside the photoreactive paint coating layer, and then electrolytic plating is performed on the eluted photoreactive filler to form a circuit pattern. Was prepared.

실시예Example 2 2

프라이머 도료 조성물을 25㎛의 두께로 도포하고, 150℃에서 25분 동안 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 제조한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 회로 기판을 제조하였다.A circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the primer coating composition was applied to a thickness of 25 μm and dried at 150° C. for 25 minutes to prepare a primer coating layer.

실시예Example 3 3

프라이머 도료 조성물을 35㎛의 두께로 도포하고, 160℃에서 20분 동안 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 제조한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 회로 기판을 제조하였다.A circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the primer coating composition was applied to a thickness of 35 μm and dried at 160° C. for 20 minutes to prepare a primer coating layer.

실시예Example 4 4

광반응성 도료 조성물을 60㎛의 두께로 도포하고, 150℃에서 160분 동안 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 제조한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 회로 기판을 제조하였다.A circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the photoreactive paint composition was applied to a thickness of 60 μm and dried at 150° C. for 160 minutes to prepare a photoreactive paint coating layer.

실시예Example 5 5

250℃에서 5sec 동안 열부식 처리하여 표면을 개질한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 회로기판을 제조하였다.A circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the surface was modified by heat corrosion treatment at 250° C. for 5 sec.

실시예Example 6 6

220℃에서 2sec 동안 열부식 처리하여 표면을 개질한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 회로기판을 제조하였다.A circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the surface was modified by heat corrosion treatment at 220° C. for 2 sec.

실시예Example 7 7

240℃에서 8sec 동안 열부식 처리하여 표면을 개질한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 회로기판을 제조하였다.A circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the surface was modified by heat corrosion treatment at 240°C for 8 sec.

비교예Comparative example 1 One

Al 기재 상에 구리질화물(cupper nitrite Cu3N) 15wt%, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone) 30wt%, PDMS(Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, 분산제 0.5wt%, 아미드왁스(amidewax) 0.3wt%, 부착보강제 2.0wt% 및 나머지 아크릴릭 폴리올(acrylic polyol)로 조성되는 광반응성 도료 조성물을 50㎛의 두께로 도포하고, 150℃에서 120분 동안 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 제조하였다.Copper nitride (cupper nitrite Cu 3 N) 15wt%, methyl ethyl ketone 30wt%, PDMS (Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, dispersant 0.5wt%, amidewax 0.3wt%, A photoreactive paint composition composed of 2.0wt% of adhesion reinforcing agent and remaining acrylic polyol was applied to a thickness of 50㎛, and dried at 150°C for 120 minutes to prepare a photoreactive paint coating layer.

다음으로, 광반응성 도료 코팅층에 선택적으로 3W 전원의 레이저 조사하여 광반응성 도료 코팅층 내부에 함침된 광반응성 필러를 용출시킨 후, 용출된 광반응성 필러에 전해 도금을 실시하여 회로패턴을 형성하여 회로기판을 제조하였다.Next, the photoreactive paint coating layer is selectively irradiated with a laser of 3W power to elute the photoreactive filler impregnated inside the photoreactive paint coating layer, and then electrolytic plating is performed on the eluted photoreactive filler to form a circuit pattern. Was prepared.

비교예Comparative example 2 2

Al 기재 상에 탈크(Talc) 9wt%, TiO2 14wt%, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone) 20wt%, PDMS(Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, 분산제 0.5wt%, 아미드왁스(amidewax) 0.5wt%, 부착보강제 1.5wt% 및 나머지 아크릴릭 폴리올(acrylic polyol)로 조성되는 프라이머 도료 조성물을 30㎛의 두께로 도포하고, 140℃에서 40분 동안 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 형성하였다.On the Al substrate, talc 9wt%, TiO 2 14wt%, methyl ethyl ketone 20wt%, PDMS (polydimethyl siloxane) 0.5wt%, dispersant 0.5wt%, amidewax 0.5wt%, A primer coating composition composed of 1.5 wt% of an adhesion reinforcing agent and the rest of acrylic polyol was applied to a thickness of 30 μm, and dried at 140° C. for 40 minutes to form a primer coating layer.

다음으로, 프라이머 도료 코팅층 상에 구리질화물(cupper nitrite Cu3N) 12wt%, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone) 25wt%, PDMS(Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, 분산제 0.5wt%, 아미드왁스(amidewax) 0.4wt%, 부착보강제 2.5wt% 및 나머지 아크릴릭 폴리올(acrylic polyol)로 조성되는 광반응성 도료 조성물을 50㎛의 두께로 도포하고, 160℃에서 140분 동안 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 제조하였다.Next, copper nitride (cupper nitrite Cu 3 N) 12wt%, methyl ethyl ketone 25wt%, PDMS (Polydimethyl siloxane) 0.5wt%, dispersant 0.5wt%, amidewax on the primer coating layer. A photoreactive coating composition composed of 0.4 wt%, an adhesion reinforcing agent 2.5 wt% and the remaining acrylic polyol was applied to a thickness of 50 μm and dried at 160° C. for 140 minutes to prepare a photo-reactive coating layer.

다음으로, 광반응성 도료 코팅층에 선택적으로 3W 전원의 레이저 조사하여 광반응성 도료 코팅층 내부에 함침된 광반응성 필러를 용출시킨 후, 용출된 광반응성 필러에 전해 도금을 실시하여 회로패턴을 형성하여 회로기판을 제조하였다.Next, the photoreactive paint coating layer is selectively irradiated with a laser of 3W power to elute the photoreactive filler impregnated inside the photoreactive paint coating layer, and then electrolytic plating is performed on the eluted photoreactive filler to form a circuit pattern. Was prepared.

2. 물성 평가2. Property evaluation

표 1은 실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 2에 따라 제조된 시편에 대한 물성 평가 결과를 나타낸 것이다.Table 1 shows the results of evaluation of physical properties for specimens prepared according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2.

1) 밀착성 시험1) Adhesion test

JIS K 5400 의 규정에 기초하여 밀착성을 평가하였다. 40℃×92%RH에서 12시간 동안 가습 처리한 후, 80℃×90%RH 에서 12시간 동안 가습 처리하여, 그 결과를, 「박리수/100」로 나타내었다.The adhesion was evaluated based on the regulations of JIS K 5400. After the humidification treatment at 40° C.×92%RH for 12 hours, the humidification treatment was performed at 80°C×90%RH for 12 hours, and the result is expressed as “number of peels/100”.

박리수/100 평가 : 0/100 "우수", 1/100~50/100 "보통", 51/100~100/100 "나쁨"Number of peels/100 evaluation: 0/100 "Excellent", 1/100~50/100 "Normal", 51/100~100/100 "Poor"

2) 내알칼리성 시험2) Alkali resistance test

상온에서 5% 수산화나트륨 수용액을 96시간 동안 침지시킨 후 측정하였다. 초기 상태와 동일하면 "우수", 균열 및 변색이 50% 이하로 발생한 경우 "보통", 균열 및 변색이 50% 이상 발생한 경우 "나쁨"으로 표시하였다.It was measured after immersing a 5% aqueous sodium hydroxide solution at room temperature for 96 hours. If it is the same as the initial state, it was marked as "excellent", "normal" when cracks and discoloration occurred at 50% or less, and "bad" when cracking and discoloration occurred at 50% or more.

3) 내산성 시험3) Acid resistance test

상온에서 5% 염산 수용액을 96시간 동안 침지시킨 후 측정하였다.It was measured after immersing a 5% aqueous hydrochloric acid solution at room temperature for 96 hours.

초기 상태와 동일하면 "우수", 균열 및 변색이 50% 이하로 발생한 경우 "보통", 균열 및 변색이 50% 이상 발생한 경우 "나쁨"으로 표시하였다.If it is the same as the initial state, it was marked as "excellent", "normal" when cracks and discoloration occurred at 50% or less, and "bad" when cracking and discoloration occurred at 50% or more.

4) 도막 전단력4) Coating shear force

ASTM F1044-5를 기준으로 하여 도막의 shear test를 실시하여 전단력 특성을 평가하였다. 70N 이상은 "우수", 30~69N은 "보통", 0~29N은 "나쁨"으로 표시하였다.Shear force characteristics were evaluated by conducting a shear test of the coating film based on ASTM F1044-5. More than 70N was marked as "excellent", 30~69N as "normal", and 0~29N as "bad".

[표 1][Table 1]

Figure 112018124624484-pat00001
Figure 112018124624484-pat00001

표 1을 참조하면, 실시예 1 ~ 7의 경우, 밀착력, 내알칼리성 및 내산성 면에서 우수한 특성을 나타내었으며, 특히 도막 전단력이 90N 이상으로 측정되어 우수한 접착력을 갖는 것을 확인하였다.Referring to Table 1, in the case of Examples 1 to 7, excellent properties were exhibited in terms of adhesion, alkali resistance, and acid resistance, and in particular, the coating film shear force was measured to be 90N or more, confirming that it had excellent adhesion.

반면, 비교예 1의 경우, 내알칼리성, 내산성 면에서는 우수한 특성을 나타내었으나, 밀착력이 보통 수준이었고, 도막 전단력이 53N에 불과하였다.On the other hand, Comparative Example 1 exhibited excellent properties in terms of alkali resistance and acid resistance, but the adhesion was at a normal level, and the coating film shear force was only 53N.

또한, 열부식 처리를 실시하지 않은 비교예 2의 경우, 밀착력, 내알칼리성 및 내산성 면에서는 우수한 특성을 나타내었으나, 도막 전단력이 82N로 비교예 1 보다는 향상되었으나, 실시예 1 ~ 7에 비해서는 현저히 낮은 값을 나타내는 것을 확인하였다.In addition, in the case of Comparative Example 2 not subjected to the thermal corrosion treatment, it exhibited excellent properties in terms of adhesion, alkali resistance, and acid resistance, but the coating film shear force was 82N, which was improved compared to Comparative Example 1, but significantly compared to Examples 1 to 7. It was confirmed that it showed a low value.

위의 실험 결과에서 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 ~ 7에 따라 제조된 회로기판과 같이 금속기재와 광반응성 도료 코팅층 사이에 열부식 처리에 의해 미세돌기가 형성된 프라이머 도료 코팅층을 배시키게 되면, 밀착력 및 부착력이 확연하게 향상된다는 것을 확인하였다.As can be seen from the above experimental results, when a primer coating layer having fine protrusions formed by thermal corrosion treatment is placed between a metal substrate and a photoreactive paint coating layer, like the circuit board manufactured according to Examples 1 to 7, It was confirmed that adhesion and adhesion were significantly improved.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.Although the above has been described based on the embodiments of the present invention, various changes or modifications can be made at the level of a person skilled in the art to which the present invention pertains. Such changes and modifications can be said to belong to the present invention as long as it does not depart from the scope of the technical idea provided by the present invention. Therefore, the scope of the present invention should be determined by the claims set forth below.

100 : LDS 방식 회로기판 120 : 금속기재
140 : 프라이머 도료 코팅층 145 : 미세돌기
160 : 광반응성 도료 코팅층 165 : 광반응성 필러
180 : 회로패턴
S110 : 프라이머 도료 코팅층 형성 단계
S120 : 표면개질 처리 단계
S130 : 광반응성 도료 코팅층 형성 단계
S140 : 회로패턴 형성 단계
100: LDS type circuit board 120: metal substrate
140: primer coating layer 145: fine protrusions
160: photoreactive paint coating layer 165: photoreactive filler
180: circuit pattern
S110: Primer paint coating layer formation step
S120: Surface modification treatment step
S130: Photoreactive paint coating layer formation step
S140: circuit pattern formation step

Claims (8)

삭제delete 삭제delete 삭제delete (a) 금속기재 상에 프라이머 도료 조성물을 도포하고, 건조하여 프라이머 도료 코팅층을 형성하는 단계;
(b) 상기 프라이머 도료 코팅층의 표면을 열부식 처리로 표면을 개질하는 단계;
(c) 상기 표면 개질된 프라이머 도료 코팅층 상에 광반응성 도료 조성물을 도포하고, 130 ~ 170℃에서 100 ~ 200분 동안 건조하여 광반응성 도료 코팅층을 형성하는 단계; 및
(d) 상기 광반응성 도료 코팅층에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 상기 광반응성 도료 코팅층 내부의 광반응성 필러를 용출시키고, 상기 용출된 광반응성 필러에 도금을 실시하여 회로패턴을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 (b) 단계에서, 상기 열부식 처리는 220 ~ 250℃에서 2 ~ 8sec 동안 실시하며,
상기 (b) 단계에서, 상기 프라이머 도료 코팅층의 표면 일부를 열부식 처리로 식각하여 표면개질 처리하는 것에 의해, 불규칙한 형태의 미세돌기가 형성되며, 상기 미세돌기는 0.974 ~ 2.781㎛의 평균 두께를 갖고,
상기 (a) 단계에서, 상기 프라이머 도료 조성물은 무기필러 5 ~ 10 중량%, 안료 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 30 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함하고,
상기 (c) 단계에서, 상기 광반응성 도료 조성물은 광반응성 필러 10 ~ 20 중량%, 유기 용매 10 ~ 40 중량%, 표면 조절제 0.1 ~ 1.0 중량%, 분산제 0.05 ~ 1.0 중량%, 침강방지제 0.01 ~ 0.5 중량%, 부착보강제 0.1 ~ 3.0 중량% 및 나머지 바인더 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법.
(a) applying a primer coating composition on a metal substrate and drying to form a primer coating layer;
(b) modifying the surface of the primer coating layer by thermal corrosion treatment;
(c) applying a photoreactive paint composition on the surface-modified primer paint coating layer, and drying at 130 to 170°C for 100 to 200 minutes to form a photoreactive paint coating layer; And
(d) performing selective laser irradiation on the photoreactive paint coating layer to elute the photoreactive filler inside the photoreactive paint coating layer, and plating the eluted photoreactive filler to form a circuit pattern; including; And
In the step (b), the heat corrosion treatment is performed at 220 to 250° C. for 2 to 8 sec,
In the step (b), by performing a surface modification treatment by etching a part of the surface of the primer coating layer by thermal corrosion treatment, irregularly shaped fine protrusions are formed, and the fine protrusions have an average thickness of 0.974 to 2.781 μm. ,
In the step (a), the primer coating composition includes 5 to 10% by weight of an inorganic filler, 10 to 20% by weight of a pigment, 10 to 30% by weight of an organic solvent, 0.1 to 1.0% by weight of a surface control agent, 0.05 to 1.0% by weight of a dispersant, 0.01 to 0.5% by weight of the anti-settling agent, 0.1 to 3.0% by weight of the adhesion reinforcing agent, and the remaining binder resin,
In the step (c), the photoreactive paint composition includes 10 to 20% by weight of a photoreactive filler, 10 to 40% by weight of an organic solvent, 0.1 to 1.0% by weight of a surface control agent, 0.05 to 1.0% by weight of a dispersant, and 0.01 to 0.5 of an anti-settling agent A method for manufacturing an LDS type circuit board having excellent adhesion and adhesion, characterized in that it comprises a weight%, an adhesion reinforcing agent 0.1 to 3.0% by weight, and the remaining binder resin.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제4항에 있어서,
상기 (d) 단계는,
(d-1) 상기 광반응성 도료 코팅층에 선택적인 레이저 조사를 실시하여 상기 광반응성 도료 코팅층 내부에 함침된 광반응성 필러를 용출시키는 단계; 및
(d-2) 상기 용출된 광반응성 필러를 씨드로 이용한 도금을 실시하여, 상기 용출된 광반응성 필러와 동일한 형태를 갖는 회로패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 밀착력 및 부착력이 우수한 LDS 방식 회로기판 제조 방법.
The method of claim 4,
The step (d),
(d-1) subjecting the photoreactive paint coating layer to selective laser irradiation to elute the photoreactive filler impregnated in the photoreactive paint coating layer; And
(d-2) performing plating using the eluted photoreactive filler as a seed to form a circuit pattern having the same shape as the eluted photoreactive filler;
LDS method circuit board manufacturing method having excellent adhesion and adhesion, characterized in that it comprises a.
KR1020180159836A 2018-12-12 2018-12-12 Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion KR102167337B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180159836A KR102167337B1 (en) 2018-12-12 2018-12-12 Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180159836A KR102167337B1 (en) 2018-12-12 2018-12-12 Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200073301A KR20200073301A (en) 2020-06-24
KR102167337B1 true KR102167337B1 (en) 2020-10-20

Family

ID=71407504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180159836A KR102167337B1 (en) 2018-12-12 2018-12-12 Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102167337B1 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11258184B2 (en) 2019-08-21 2022-02-22 Ticona Llc Antenna system including a polymer composition having a low dissipation factor
US11555113B2 (en) 2019-09-10 2023-01-17 Ticona Llc Liquid crystalline polymer composition
US11637365B2 (en) 2019-08-21 2023-04-25 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US11646760B2 (en) 2019-09-23 2023-05-09 Ticona Llc RF filter for use at 5G frequencies
US11721888B2 (en) 2019-11-11 2023-08-08 Ticona Llc Antenna cover including a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor
US11729908B2 (en) 2020-02-26 2023-08-15 Ticona Llc Circuit structure
US11728559B2 (en) 2021-02-18 2023-08-15 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US11912817B2 (en) 2019-09-10 2024-02-27 Ticona Llc Polymer composition for laser direct structuring
US11917753B2 (en) 2019-09-23 2024-02-27 Ticona Llc Circuit board for use at 5G frequencies
US12142820B2 (en) 2020-08-18 2024-11-12 Ticona Llc 5G system containing a polymer composition

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102643815B1 (en) * 2023-08-22 2024-03-05 임형준 Server preventive maintenance method
KR102643813B1 (en) * 2023-08-22 2024-03-05 임형준 Server maintenance method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07145355A (en) * 1993-06-10 1995-06-06 Bando Chem Ind Ltd Pressure-sensitive adhesive sheet and its production
KR100906857B1 (en) * 2003-12-16 2009-07-08 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 Multilayer printed wiring board
KR101991760B1 (en) * 2016-11-23 2019-10-01 (주)드림텍 Method for forming electric circuit pattern and system for forming electric circuit pattern
KR101970510B1 (en) * 2016-11-30 2019-04-22 유림특수화학 주식회사 Coating paint using photo reactive filler

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11637365B2 (en) 2019-08-21 2023-04-25 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US12136762B2 (en) 2019-08-21 2024-11-05 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US11705641B2 (en) 2019-08-21 2023-07-18 Ticoan Llc Antenna system including a polymer composition having a low dissipation factor
US11258184B2 (en) 2019-08-21 2022-02-22 Ticona Llc Antenna system including a polymer composition having a low dissipation factor
US11912817B2 (en) 2019-09-10 2024-02-27 Ticona Llc Polymer composition for laser direct structuring
US11555113B2 (en) 2019-09-10 2023-01-17 Ticona Llc Liquid crystalline polymer composition
US11917753B2 (en) 2019-09-23 2024-02-27 Ticona Llc Circuit board for use at 5G frequencies
US12107617B2 (en) 2019-09-23 2024-10-01 Ticona Llc RF filter for use at 5G frequencies
US11646760B2 (en) 2019-09-23 2023-05-09 Ticona Llc RF filter for use at 5G frequencies
US11721888B2 (en) 2019-11-11 2023-08-08 Ticona Llc Antenna cover including a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor
US11729908B2 (en) 2020-02-26 2023-08-15 Ticona Llc Circuit structure
US12035467B2 (en) 2020-02-26 2024-07-09 Ticona Llc Circuit structure
US12142820B2 (en) 2020-08-18 2024-11-12 Ticona Llc 5G system containing a polymer composition
US11728559B2 (en) 2021-02-18 2023-08-15 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200073301A (en) 2020-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102167337B1 (en) Manufacturing method of laser direct structuring type circuit substrate with coherence and adhesion
CN100358398C (en) Copper foil with extremely thin adhesive layer and method for producing the copper foil with extremely thin adhesive layer
JP5386248B2 (en) Two-layer moisture-proof coating electronic component mounting structure and manufacturing method thereof
JP5870917B2 (en) Resin composition
US20100101843A1 (en) Insulating resin sheet laminate and multi-layer printed circuit board including insulating resin sheet laminate
EP3315302B1 (en) Laminated body, molded article, electroconductive pattern, electronic circuit, and electromagnetic shield
JP6182534B2 (en) Multilayer substrate manufacturing method, multilayer insulating film, and multilayer substrate
JPH0974273A (en) Copper plated laminated board for printed circuit board and adhesive agent used therefor
KR20220124663A (en) Roughened cured body
US5863405A (en) Process for forming conductive circuit on the surface of molded article
JP5432672B2 (en) Circuit board
KR101985795B1 (en) Circuit substrate using laser direct structuring and method of manufacturing the same
US20090277674A1 (en) Printed circuit board and manufacturing method thereof
WO2017139658A1 (en) Method of enhancing adhesion of silver nanoparticle inks on plastic substrates using a crosslinked poly (vinyl butyral) primer layer
KR100999921B1 (en) Method for dual surface-treatment of substrate and dual surface-treated substrate thereby
JP4259510B2 (en) Epoxy resin inorganic composite sheet, circuit board, 3D circuit board
KR101970510B1 (en) Coating paint using photo reactive filler
JP2006290997A (en) Thermosetting resin composition, adhesive sheet using the composition and adhesive sheet with copper foil
JP5448414B2 (en) Resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
WO1995031884A1 (en) Method for forming conductive circuit on surface of molded product, and component having conduction circuit
TWI855376B (en) Release film
JP2024089575A (en) Circuit board and method for manufacturing the same
JP4803420B2 (en) Injection molded circuit components and manufacturing method thereof
KR101976558B1 (en) Buried wiring and method of thereof
KR20090118409A (en) Method of forming printed circuit board pattern with bond strength and high resolution

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant